JP2723359B2 - 洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、フロン113のようなフロン系溶剤、塩素系
溶剤、低級アルコール類に代る非水系洗浄剤を用いた洗
浄方法および洗浄装置に関する。

【従来の技術】

金属部品、メッキ部品、塗装部品、電子部品、半導体
部品等の水洗後の乾燥方法としては、フロン113に代表
されるフロン系溶剤を水切り洗浄剤として用いる方法が
一般的である。また、上記したフロン系溶剤や、トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、四塩化炭素等の有機溶剤は、油汚れ等を除去するた
めの洗浄剤としても幅広く使用されている。 しかし、最近、フロンの放出がオゾン層の破壊に繋が
り、人体や生物系に深刻な影響を与えることが明らかと
なってきたことから、オゾン破壊係数の高いフロン12や
フロン113等は、世界的な規模で段階的に使用を削減
し、将来的には全廃する方向に進んでいる。また、トリ
クロロエチレンやテトラクロロエチレン等の塩素系有機
溶剤も、土壌や地下水等の汚染を引起こす等の環境問題
にからんで、使用規制が強化される方向に進んでいる。
このような状況下にあって、現状のフロン系溶剤よりオ
ゾン破壊係数の低いフロン系物質が開発されつつあり、
既に工業的生産が一部で進められているが、これらとて
もオゾン層の破壊が皆無ではないことから、好ましい代
替洗浄剤とは目されていない。 そこで、上述したような有機溶剤系による脱脂洗浄剤
の代替品として、環境破壊や環境汚染を引起こすことが
ない、界面活性剤や親水性溶剤等を用いた水系の洗浄剤
が見直され始めている。しかし、このような洗浄剤は浸
透力が弱く、例えば部品細部へ侵入した汚れや中粘度か
ら高粘度のこびりついた油汚れに対しては充分な洗浄力
を発揮することができないという問題がある。 また、有機溶剤系による水切り洗浄剤の代替品とし
て、各種界面活性剤を用いた洗浄剤等が検討されている
が、フロン系溶剤に匹敵するような水切り効果は得られ
ていないのが現状である。また、上述した有機溶剤系洗
浄剤を水切り洗浄剤として使用した場合、洗浄剤の比重
が大きくなり、油脂はもちろんのこと水も洗浄剤の上に
浮上してしまい、油と水とは互いに接触した形で洗浄剤
から分離される。このように互いに接触している油と水
については、これらを別々に取り出すことが困難であ
り、また油と水それぞれの廃棄方法が異なることから、
廃液処理の点で問題が生じている。また、界面活性剤等
を用いた洗浄剤は、水との相溶性が高いために、これら
洗浄剤を分離精製して、再使用することは非常に困難で
ある。 一方、従来の洗浄剤を使用した洗浄装置においては、
浸漬洗浄、気化洗浄、シャワー洗浄等の各種洗浄工程を
一括する機構を採用し、洗浄効率を高めることも行われ
ているが、あくまでも単一種類の洗浄剤を使用すること
が前提となっている。これは、複数の洗浄剤を一連の洗
浄工程内で使用すると、洗浄剤の回収・再使用が困難と
なることによる。このことは、例えば単独では発揮し得
ない洗浄効果を、複数の洗浄剤を用いることによって実
現しようとした場合に大きな障害となる。

【発明が解決しようとする課題】

上述したように、水切り洗浄剤を含む従来の洗浄剤の
うち、フロン系溶剤等の有機溶剤系洗浄剤は、環境破壊
を引き起こすという重大な欠点を有していた。また、こ
れら有機溶剤系の代替品として検討されている現状の洗
浄剤は、十分な効果が得られないという問題を有してい
た。一方、従来の洗浄方法や洗浄装置では、洗浄剤の再
利用や、除去した水や汚れ物質の廃棄の点で難点があっ
た。さらに、洗浄剤を効率よく再利用しようとすると、
異なる複数の洗浄剤を使用することが困難となるという
難点を有していた。 本発明は、上述したような従来の洗浄方法および洗浄
装置が抱えている課題に対処するためになされたもので
あり、本発明の目的は、複数の洗浄剤を使用するにあた
って、洗浄剤の再利用を可能とした洗浄方法および洗浄
装置を提供することにある。また、本発明の他の目的
は、被洗浄物から除去した水や汚れ物質を効率よく廃棄
することを可能にした洗浄方法および洗浄装置を提供す
ることにある。さらに、本発明の他の目的は、フロン系
溶剤等を使用した洗浄に匹敵する、洗浄性、水置換性、
乾燥性等が得られる洗浄方法および洗浄装置を提供する
ことにある。

【課題を解決するための手段と作用】

すなわち、本発明の洗浄方法は、 （式中、Ｒは同一または相異なる置換または非置換の１
価の炭化水素基、１は０〜５の整数を示す） で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサン、および （式中、Ｒは同一または相異なる置換または非置換の１
価の炭化水素基、ｍは３〜７の整数を示す） で表される環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれる
少なくとも１種の低分子量ポリオルガノシロキサンから
実質的になる有機ケイ素系洗浄剤、および炭素数４〜30
の脂肪族炭化水素系洗浄剤から選ばれる少なくとも１種
の非水系基礎洗浄剤に、洗浄性能向上剤を添加した洗浄
剤で被洗浄物を洗浄する第１の洗浄工程と、前記第１の
洗浄工程を経た前記被洗浄物を、前記非水系基礎洗浄剤
単独ですすぎ洗浄する第２の洗浄工程と、前記第２の洗
浄工程を経た前記被洗浄物に、前記非水系基礎洗浄剤と
の溶解度因子（SP値）の差が４以下であると共に、蒸発
潜熱の差が５倍以下であり、かつ蒸発潜熱が200cal/g以
下である、前記第２の洗浄工程で用いた非水系基礎洗浄
剤とは異種の蒸気洗浄剤を用いて蒸気乾燥処理を施す乾
燥工程とを有することを特徴としている。 また、本発明の洗浄装置は、上記（Ｉ）式や（II）式
で表される低分子量ポリオルガノシロキサンから実質的
になる有機ケイ素系洗浄剤、および炭素数４〜30の脂肪
族炭化水素系洗浄剤から選ばれる少なくとも１種の非水
系基礎洗浄剤に洗浄性能向上剤を添加した洗浄剤を用い
た洗浄槽を有し、被洗浄物を前記洗浄槽で洗浄する第１
の洗浄手段と、前記非水系基礎洗浄剤を単独で用いた洗
浄槽を有し、前記第１の洗浄手段を経た前記被洗浄物を
前記洗浄槽ですすぎ洗浄する第２の洗浄手段と、蒸発潜
熱が200cal/g以下であり、かつ前記非水系基礎洗浄剤と
の溶解度因子（SP値）の差が４以下であると共に、蒸発
潜熱の差が５倍以下である、前記第２の洗浄手段の非水
系基礎洗浄剤とは異種の蒸気洗浄剤により、前記第２の
洗浄工程を経た前記被洗浄物に蒸気乾燥処理を施す乾燥
手段とを具備することを特徴としている。 本発明の第１の洗浄工程に使用される洗浄剤として
は、例えば水分の分離を可能とするような水切り洗浄剤
や、油脂汚れの除去に使用される脱脂洗浄剤等が例示さ
れる。ここで用いられる基礎洗浄剤は、上述したように
（Ｉ）式や（II）式で表される低分子量ポリオルガノシ
ロキサンから実質的になる有機ケイ素系洗浄剤、および
炭素数４〜30の脂肪族炭化水素系洗浄剤から選ばれる少
なくとも１種の非水系洗浄剤である。洗浄性能向上剤と
しては、例えば上記非水系基礎洗浄剤に添加することに
よって、洗浄性能や水切り性能を付与・向上させる界面
活性剤や親水性溶剤等が例示される。また、本発明の第
２の洗浄工程は、基本的には上記非水系基礎洗浄剤を用
いたすすぎ洗浄工程となる。 上述した低分子量ポリオルガノシロキサンは、これら
単独で、金属部品、電子部品、半導体部品、塗装部品等
の各種被洗浄物の細部に対する優れた浸透力や揮発性を
有し、かつ防錆性を付与すると共に、水との良好な置換
性を示し、かつ60℃以下の温風での揮散、乾燥性を有す
るものである。なお、上記（Ｉ）式で表される直鎖状構
造を有するポリジオルガノシロキサンと、上記（II）式
で表される環状構造を有するポリジオルガノシロキサン
とは、共用することも可能である。 上記（Ｉ）式および（II）式中のＲは、置換または非
置換の１価の炭化水素基であり、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、フェニル
基等の１価の非置換炭化水素基や、トリフルオロメチル
基等の１価の置換炭化水素基等が例示されるが、系の安
定性、揮発性の維持等からメチル基が最も好ましい。上
記低分子量ポリオルガノシロキサンとしては、環状構造
を有するものが好ましく、さらにオクタメチルシクロテ
トラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンお
よびこれらの混合物が好適である。 また、上記した低分子量ポリオルガノシロキサンは、
分子構造を適当に選択することによって、その洗浄剤の
比重Ddgを下記の（Ａ）式もしくは（Ｂ）式を満足させ
ることができる。 Wdg＞Ddg ……（Ａ） Wdg＞Ddg＞Odg ……（Ｂ） （式中、Ddgは基礎洗浄剤の比重を、Wdgは水の比重を、
Odgは対象とする油脂系汚れの比重を示す） 例えば、（Ｂ）式を満足させることによって、水と油
脂系汚れとを分離することが可能となり、洗浄剤の浄化
および廃液処理が容易となる。 上記した脂肪族炭化水素系洗浄剤は、炭素数が４〜30
の範囲の分枝状や直鎖状の脂肪族炭化水素（以下に、単
に脂肪族炭化水素系洗浄剤と記す）からなり、例えば炭
素数が４〜30のイソパラフィン系洗浄剤が挙げられる。
このイソパラフィン系洗浄剤としては、揮発性イソパラ
フィンから実質的になるものが挙げられ、特にC₄〜C₁₅
の留分を主体とするイソパラフィンが洗浄性能の点から
好ましい。このようなイソパラフィン系洗浄剤は、上記
揮発性イソパラフィンの１種または２種以上の混合物と
して使用される。このような脂肪族炭化水素系洗浄剤
は、揮発性を有すると共に、無害、無臭であり、上記し
た有機ケイ素系洗浄剤と同様な効果を示すものである。 なお、上記非水系基礎洗浄剤として掲げた有機ケイ素
系洗浄剤と脂肪族炭化水素系洗浄剤とは、それぞれ単独
で使用可能であることはもちろんのこと、これらを混合
して非水系基礎洗浄剤として用いることも可能である。
例えば、有機ケイ素系洗浄剤にイソパラフィン系洗浄剤
を配合すると、凝固点を大幅に低下させるという効果が
得られ、寒冷地での使用を容易にすると共に、洗浄性能
の向上も図れる。 上記したような非水系基礎洗浄剤に添加配合する洗浄
性能向上剤としては、前述したように界面活性剤や親水
性溶剤等が例示される。界面活性剤は、活性を発揮する
化学構造により、カチオン系、アニオン系、ノニオン
系、両性系およびこれらの複合系に分類されるが、本発
明においてはそれらのいずれをも使用することが可能で
ある。これら界面活性剤は、特に洗浄性の向上に寄与す
るものである。 これら界面活性剤のうち、本発明において好ましく用
いられるものとしては、ポリオキシアルキレンアルキル
エーテルスルホン酸塩、リン酸エステル等のアニオン系
界面活性剤、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキ
シアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンア
ルキルエーテル等のノニオン系界面活性剤、イミダゾリ
ン誘導体等の両性界面活性剤、アルキルアミン塩、アル
キル第４級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤等
が例示され、その他には単一物質で存在することは少な
いが、天然物から抽出されるテルペン系化合物や高級脂
肪酸エステル等が挙げられる。また、上述したような各
種化合物の化学構造の一部をフッ素原子やケイ素原子で
置き換えた合成化合物を用いることも可能である。 また、親水性溶剤としては、上記非水系基礎洗浄剤に
対して相溶性を有するものが用いられ、特に引火点が40
℃以上のものが実用上好適である。このような親水性溶
剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル等の多価アルコールとその誘導体等が例示され、非水
系基礎洗浄剤との相溶性、人体への安全性等の点からジ
エチルグリコールモノブチルエーテルが特に好ましい。
これら化合物は、低分子量ポリオルガノシロキサン等と
の共存下で揮発性が向上するために、この配合品のみで
の水置換、乾燥も可能である。また、非水系基礎洗浄剤
の種類や用途によっては、エチルアルコールのような低
級アルコールやアセトン等を使用することも可能であ
る。さらに、 （式中、Ｒは炭素数１〜12の１価の炭化水素基を示し、
ｎおよびｐはそれぞれ０〜10の整数で、かつｎ＋ｐ≧１
を満足する） で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、
非水系基礎洗浄剤としてイソパラフィン系洗浄剤を使用
する際に好適である。 上述した非水系基礎洗浄剤および洗浄性能向上剤は、
基本的には第１の洗浄工程では非水系基礎洗浄剤に洗浄
性能向上剤を添加したものとして、また第２の洗浄工程
では非水系基礎洗浄剤単独で使用するものとする。上記
非水系基礎洗浄剤と洗浄性能向上剤とは、用途に応じて
各種の組み合せによって使用することが可能であり、例
えば脱脂洗浄剤として使用する際には、非水系基礎洗浄
剤に界面活性剤または親水性溶剤、あるいはこれら両者
を配合したものが好適である。また、有機ケイ素系洗浄
剤とイソパラフィン系洗浄剤等の脂肪族炭化水素系洗浄
剤との混合物を非水系基礎洗浄剤として用い、これに上
記したような洗浄性能向上剤を配合して用いることも可
能である。水切り洗浄剤として使用する際には、特に非
水系基礎洗浄剤に親水性溶剤を添加したものが好適であ
る。なお、第１の洗浄工程における非水系基礎洗浄剤
と、第２の洗浄工程における非水系基礎洗浄剤とは、必
ずしも一致させる必要はなく、例えば第１の洗浄工程で
有機ケイ素系洗浄剤を使用し、第２の洗浄工程で脂肪族
炭化水素系洗浄剤を使用するようなことも可能である。 また、非水系基礎洗浄剤と洗浄性能向上剤とは、上述
したような各種の組み合せによって使用することが可能
であるが、それぞれの溶解性を考慮して混合することが
好ましい。例えば、溶解度因子（以下、SP値と称する）
の差が４以下となるように組み合せることが好ましい。
また、SP値の差が大きい液体どおしを混合する際には、
中間的なSP値を有する液体を混合媒体として配合しても
よい。 上述した界面活性剤の配合比は、特に限定されるもの
ではないが、脱脂洗浄剤として使用する際には、非水系
基礎洗浄剤100重量部に対して50重量部以下が好まし
く、さらに好ましくは20重量部以下である。また、水切
り洗浄剤として使用する際には、非水系基礎洗浄剤100
重量部に対して20重量部以下が好ましく、さらに好まし
くは３重量部以下である。一方、親水性溶剤の配合比も
特に限定されるものではないが、脱脂洗浄剤として使用
する際には、非水系基礎洗浄剤100重量部に対して50000
重量部以下が好ましく、さらに好ましくは10000重量部
以下である。また、水切り洗浄剤として使用する際に
は、非水系基礎洗浄剤100重量部に対して100重量部以下
が好ましく、さらに好ましくは50重量部以下である。 本発明の洗浄方法においては、上述したような洗浄工
程の後に、乾燥処理を施すことによって洗浄工程が終了
する。この乾燥工程は、イソプロピルアルコール（以
下、IPAと記す）等の蒸気洗浄剤を用いた蒸気乾燥工程
である。蒸気乾燥によれば、乾燥仕上げをより良好にす
ることができ、精密洗浄等に好適である。また、本発明
の対象となる被洗浄物としては、金属、セラミックス、
プラスチック等であり、さらに具体的には金属部品、表
面処理部品、電子部品、半導体部品、電気部品、精密機
械部品、光学部品、ガラス部品、セラミックス部品等で
ある。 また、本発明の洗浄装置においては、第１および第２
の洗浄手段から回収した非水系基礎洗浄剤と洗浄性能向
上剤との混合物から、非水系基礎洗浄剤のみを分離回収
する手段を設けることにより、複数の洗浄剤を使用して
いるにも拘らず、洗浄剤を効率よく回収・再利用するこ
とが可能となる。また、分離回収された非水系基礎洗浄
剤は、再供給手段によって第１の洗浄手段または第２の
洗浄手段に再供給される。さらに、第１の洗浄手段また
は第２の洗浄手段に用いられた洗浄剤中に混入した水分
および油脂系汚れをそれぞれ個別に除去する手段、例え
ば洗浄剤の下方に沈降分離された水分を除去する手段、
および洗浄剤の上方に浮上分離された油脂系汚れを除去
する手段を設けることによって、被洗浄物から分離した
水や油脂系汚れを効率よく、かつ個々に廃棄することが
できる。なお、洗浄手段としては、浸漬槽や吹付け槽等
が例示され、また超音波、揺動、機械的撹拌等を併用す
ることが可能である。

【実施例】

以下、本発明を実施例によってより詳細に説明する。 第１図は、本発明の一実施例の洗浄装置の構成を示す
図である。同図に示す洗浄装置は、大別して洗浄・水置
換工程Ａと、清浄化・水切り工程Ｂと、洗浄剤再生機構
Ｃとから構成されている。第１の工程となる洗浄・水置
換工程Ａには、沈降分離機能とオーバーフロー分離機能
とを合せ持つ第１の洗浄槽１および第２の洗浄槽２と液
切り槽３とが設けられている。 上記第１の洗浄槽１および第２の洗浄槽２は、沈降分
離機能とオーバーフロー分離機能とを合せ持つものであ
るが、これは被洗浄物Ｘに付着しているものの種類によ
って選択すればよく、沈降分離機能単独、オーバーフロ
ー分離機能単独でも被洗浄物によっては十分に機能す
る。また、第１の工程における洗浄槽は、洗浄時間や洗
浄品質等によって、単槽や多槽連結槽から選択すればよ
く、多槽連結槽における槽数等も同様である。 この実施例においては、２槽の多槽連結槽を使用して
おり、第１の洗浄槽１および第２の洗浄槽２間は、ドレ
ン配管2aとオーバーフロー管2bとにより連結されてい
る。また、第１の洗浄槽１や第２の洗浄槽２には、必要
に応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラ
ッシング等が併用され、これらにより洗浄性能がより向
上される。 上記第１および第２の洗浄槽１、２には、前述した有
機ケイ素系洗浄剤や脂肪族炭化水素系洗浄剤（炭素数:4
〜30）、およびこれらの混合物等からなる非水系基礎洗
浄剤に、界面活性剤を添加した水切り洗浄剤D₁がそれぞ
れ収容されている。この界面活性剤を含む水切り洗浄剤
D₁は、その比重が水より小さく、かつ油脂系汚れより大
きく設定されている。したがって、被洗浄物Ｘにより持
ち込まれた水Ｙは、第１および第２の洗浄槽１、２に収
容された洗浄剤D₁の下方にそれぞれ沈降分離される。ま
た、油脂系汚れＺは、第１および第２の洗浄槽１、２に
収容された洗浄剤D₁の上方にそれぞれ浮上分離される。 第２の洗浄槽２で沈降分離された水Ｙは、ドレン配管
2aによって間欠的に第１の洗浄槽１側に排出される。ま
た、第１の洗浄槽１で沈降分離された水Ｙは、ドレン配
管４によって間欠的に後述する洗浄剤再生機構Ｃへと排
出される。また、液切り槽３に設けられたドレン配管3a
も、洗浄剤再生機構Ｃと接続されている。また、第１の
洗浄槽１および第２の洗浄槽２で浮上分離された油脂系
の汚れＺは、順次オーバーフローし、第１の洗浄槽１に
設けられたオーバーフロー管５から系外に排出される。 第１の洗浄槽１および第２の洗浄槽２に収容された水
切り洗浄剤D₁は、循環用配管6aによって第１の洗浄槽１
から抜き取られ、フィルタ６によって洗浄剤D₁中の固体
物、水粒子、未溶解物質等が除去された後、第２の洗浄
槽２内に還流される。このフィルタ６を介した循環によ
って、洗浄剤D₁は常時浄化されており、洗浄工程上での
下流側となる洗浄槽２の洗浄剤D₁がより清浄な状態を維
持することが可能とされている。 例えば、洗浄剤D₁中に水滴として混入している水分
は、上記フィルタ６によって容易に分離除去される。上
記フィルタ６は、洗浄・水切り対象の材料や内容によっ
て種々選択されるが、例えば0.1〜20μｍ程度のポアサ
イズを有するミクロポーラスなセラミックスフィルタ、
ガラスフィルタ、有機高分子系のフィルタ、さらにはこ
れらの複合系フィルタ等が好ましく使用される。 また、第２の工程となる清浄化・水切り工程Ｂには、
第３の洗浄槽７とシャワーリンス槽８とが設けられてい
る。シャワーリンス槽８の下方には、バッファタンク９
が設けられており、このバッファタンク９および第３の
洗浄槽７間は、ドレン配管9aとオーバーフロー管9bとに
より連結されている。この第３の洗浄槽７にも、必要に
応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラッ
シング等が併用される。 上記第３の洗浄槽７には、上記第１の工程Ａで使用し
た非水系基礎洗浄剤のみの洗浄剤D₂が収容されている。
なお、非水系基礎洗浄剤の具体的な種類は、上記第１の
工程Ａで使用した非水系洗浄剤と同一とされている。こ
の洗浄剤D₂は、その比重が水より小さく、かつ油脂系の
汚れより大きく設定されている。したがって、第１の工
程Ａにおける洗浄槽と同様に、水Ｙは洗浄剤D₂の下方に
沈降分離され、また油脂系の汚れＺは洗浄剤D₂の上方に
浮上分離される。第３の洗浄槽７で沈降分離された水Ｙ
は、ドレン配管10によって間欠的に洗浄剤再生機構Ｃへ
と排出される。また、第３の洗浄槽７で浮上分離された
油脂系の汚れＺは、オーバーフロー管11から系外に排出
される。 また、第３の洗浄槽７内に収容された洗浄剤D₂は、常
時フィルタ12を介して循環されており、このフィルタ12
によって洗浄剤D₂中の固体物、水粒子、未溶解物質等が
除去される。 次に、上記洗浄装置における洗浄剤の回収・再使用に
ついて説明する。 上述したように、第１、第２、第３の洗浄槽１、２、
７および液切り槽３に設けられた各ドレン配管４、3a、
10は、洗浄剤再生機構Ｃに接続されている。各洗浄槽に
収容された洗浄剤D₁またはD₂は、フィルタ６、12によっ
て常時浄化されているが、洗浄剤の汚れがひどくなった
際には、各ドレン配管４、10によって洗浄剤再生機構Ｃ
に送水ポンプ13によって送られて分溜精製される。ま
た、液切り槽３に溜まった洗浄剤D₁も間欠的に洗浄剤再
生機構Ｃに送られる。 洗浄剤再生機構Ｃでは、まず濾過器14により液体と固
体との分離が行われ、固体分は廃棄され、液体のみ蒸留
器15へ送られる。この蒸留器15では洗浄剤中の各成分、
水、油脂系汚れ等の沸点の差を利用して分離が行われ
る。また、蒸留器15にて残留した水分等は、デカンタ16
によってさらに分離される。なお、蒸留器15に導入する
前に、予めコアレッサ等で水分の分離除去を行ってもよ
い。 ここで、上記洗浄装置で使用している洗浄剤におい
て、水切り洗浄剤D₁は、非水系基礎洗浄剤のみの洗浄剤
D₂に界面活性剤を添加したものであるため、洗浄剤D₁お
よび洗浄剤D₂それぞれから非水系基礎洗浄剤、すなわち
洗浄剤D₂を分離抽出することができ、洗浄剤D₂が再生さ
れる。また、この再生された洗浄剤D₂以外の成分、すな
わち界面活性剤や水分等は廃棄される。この再生された
洗浄剤D₂は、配管17によりシャワーリンス槽８、第３の
洗浄槽７、もしくは第２の洗浄槽２に洗浄剤D₁を供給す
る配合器18へと送られる。 シャワーリンス槽８では、上記再生洗浄剤D₂もしくは
洗浄剤供給配管19から送られてきた新規な洗浄剤D₂によ
って、不純物を含まない洗浄剤D₂のみでシャワー洗浄が
行われる。また、配合器18では、再生もしくは新規の洗
浄剤D₂と、界面活性剤供給配管20から送られてきた新規
な界面活性剤、もしくは界面活性剤が事前に濃厚に配合
された洗浄剤とが混合され、新たに洗浄剤D₁が調合され
る。この洗浄剤D₁は、必要に応じて第２の洗浄槽２に供
給される。 上記構成を有する洗浄装置における洗浄工程は、例え
ば以下に示す通りである。 被洗浄物Ｘに水分Ｙおよび油脂系汚れＺが付着してい
る場合、まず第１の工程Ａの第１の洗浄槽１および第２
の洗浄槽２に順に浸漬され、油脂系汚れＺの除去と水分
Ｙと水切り洗浄剤との置換が行われる。この後、液切り
槽３上で被洗浄物Ｘ表面に付着している洗浄剤D₁が除去
される。 次に、第２の工程Ｂへと送られて、第３の洗浄槽７で
被洗浄物Ｘ表面に残存している界面活性剤が除去される
と共に、水切りが行われた後、シャワーリンス槽８によ
り不純物を含まない洗浄剤D₂のみでシャワー洗浄が行わ
れて、表面の最終的な浄化と水切りが行われる。 この後、図示を省略したIPA等による蒸気乾燥（洗
浄）器により乾燥処理が施されて洗浄工程が終了する。 ところで、本発明者らは、蒸気乾燥（洗浄）を行う場
合、この系において次の点が特に有効であることにきづ
いた。すなわち、蒸気洗浄剤と前工程から持ち込まれ
る液との相溶性、蒸気洗浄剤の蒸発潜熱および蒸気洗
浄剤と前工程から持ち込まれる液との蒸発潜熱の差、
沸点を考慮しなければならない点である。 上記については、分子どうしの水素結合や極性基の
相互作用をさらに考慮しなければならない場合もある
が、しかしながら前工程から持ち込まれる液とのSP値の
差が４以下の蒸気洗浄剤を用いることが特に有効な要因
となることが分かった。蒸気洗浄は、被洗浄物表面で結
露した蒸気洗浄剤中に、被洗浄物に付着している液体を
溶かし、洗い流すことによって行われるためであり、蒸
気洗浄剤と前工程から持ち込まれる液とのSP値の差が４
を超えると、十分な置換性が得られなくなる。より好ま
しいSP値の差は３以下であり、さらに好ましくは２以下
である。また、については、前工程から持ち込まれる
液との蒸発潜熱の差が５倍以下の蒸気洗浄剤を用いるこ
とが好ましい。つまり、蒸発潜熱の差が５倍を超える
と、蒸発速度が大きく異なることから、蒸発潜熱の大き
い液体が被洗浄物上に残り、シミ等として残存する可能
性が大きくなる。より好ましい蒸発潜熱の差は３倍以下
であり、さらに好ましくは２倍以下である。なお、上記
蒸発潜熱の差を満足する際には、蒸気洗浄剤の蒸発潜熱
はより小さいことが好ましい。この蒸発潜熱の値自体と
しては、200cal/g以下が好ましく、より好ましくは100c
al/g以下であり、さらに好ましくは50cal/g以下であ
る。本発明の系においては、上記およびを満足させ
ることが特に重要である。 また、については、蒸気洗浄剤の沸点は、蒸気洗浄
時の被洗浄物表面の温度より高いことが必要ある。好ま
しい沸点の値としては、被洗浄物表面の温度より20℃以
上高い値であり、より好ましくは被洗浄物表面の温度よ
り30℃以上高い値であり、さらに好ましくは50℃以上高
い値である。ただし、この沸点と被洗浄物表面の温度と
の差は、被洗浄物表面の温度によって制御することも可
能である。すなわち、蒸気洗浄工程の前に被洗浄物表面
の温度を低下させればよい。このの条件を満足させる
ことにより、より良好な状態が得られる。 ここで、本発明におけるすすぎ洗浄工程においては、
有機ケイ素系洗浄剤やイソパラフィン系洗浄剤等の脂肪
族炭化水素系洗浄剤が用いられる。有機ケイ素系洗浄剤
は、SP値が約７、蒸発潜熱が約35cal/g程度である。イ
ソパラフィン系洗浄剤は、SP値が約６〜８、蒸発潜熱が
約50〜90cal/g程度である。これらの値を考慮すると、
上述したIPA（SP値＝11、蒸発潜熱＝161cal/g、沸点＝8
2℃）は、上記〜の条件を全て満足しており、本発
明の洗浄工程後における蒸気洗浄剤として適しているこ
とが分かる。 なお、本発明で用いられる蒸気洗浄剤としては、基本
的には上記およびの条件を満足するものであればよ
く、より好ましくはの条件をも満足するものである。
このような条件を満足するものであれば、上記IPA以外
にも使用することが可能であり、例えば 一般式:C_nF_2n+2 （式中、ｎは４〜12の整数を示す） で表されるようなペルフルオロ化合物や、さらに 等で表されるペルフルオロ化合物を用いることも可能で
ある。これらペルフルオロ化合物は、SP値が５〜６程
度、蒸発潜熱が20cal/g程度であり、また沸点は50℃〜2
00℃程度まで各種のものがあり、上記〜の条件を全
て満足するものである。実際の洗浄にあたっては、50℃
〜150℃程度の沸点を有するものが好ましい。なお、ペ
ルフルオロ化合物は、ほとんどの有機溶剤と相溶性を示
さないため、従来はパーティクルを除去するため以外の
蒸気洗浄剤として使用することができなかったが、本発
明においては、有機ケイ素系洗浄剤やイソパラフィン系
洗浄剤等の脂肪族炭化水素系洗浄剤をすすぎ洗浄剤とし
て使用しており、これらと相溶性を示す（SP値の差が４
以下）ため、蒸気洗浄剤として使用することができる。 また、上述したIPAやペルフルオロ化合物等の蒸気洗
浄剤は、それ単独で用いなければならないものではな
く、例えばこれらの混合物として、あるいは前述した有
機ケイ素系洗浄剤やイソパラフィン系洗浄剤等の脂肪族
炭化水素系洗浄剤、さらにはアセトン等の他の有機溶剤
を配合した組成物として用いることも可能である。な
お、配合する有機溶剤として、フロン系溶剤や塩素系溶
剤等を必ずしも除去するものでない。これは、もちろん
環境汚染の点からいえば用いない方がよいが、その全廃
の途中過程としては有用である。このように、混合物を
蒸気洗浄剤として使用する際には、混合するものどうし
のSP値や蒸発潜熱を、上記およびの条件を満足させ
ることが好ましい。それぞれの数値は、上述した値と同
様である。また、中間的なSP値や蒸発潜熱を有する有機
溶剤を介在させることも有効である。 さらに、上記ペルフルオロ化合物に、前述した有機ケ
イ素洗浄剤および／または炭素数４〜30の脂肪族炭化水
素系洗浄剤（特にイソパラフィン系洗浄剤）と、IPA、
エタノール、メタノール、アセトン、ジオキサン等の有
機溶剤とを配合した組成物は、例えば一液にて脱脂洗浄
から乾燥まで行うことが可能な、非常に有用な洗浄組成
物である。この洗浄組成物の配合比としては、上記ペル
フルオロ化合物100重量部に対して、有機ケイ素系洗浄
剤および／または炭素数４〜30の脂肪族炭化水素系洗浄
剤を0.01〜1000重量部、他の有機溶剤を0.01〜1000重量
部とすることが好ましい。これらのより好ましい配合比
は、それぞれ0.1〜100重量部の範囲である。この洗浄組
成物は、脱脂洗浄力および水切り性を示し、かつ同一組
成で蒸気洗浄も可能であるため、一液にて脱脂洗浄から
乾燥まで行うことができる。 なお、上記洗浄装置では、水切り洗浄を対象として説
明したが、使用する洗浄剤の種類を変更することによっ
て、脱脂洗浄に使用することも可能である。 上記した洗浄装置によれば、乾燥後のワーク冷却用ス
ペースおよび冷却時間が不必要となり、大幅な生産性の
向上が達成される。また、乾燥時間を短縮できるだけで
はなく、一度に洗浄処理するロット内の水切り乾燥ムラ
もなくなり、品質も大幅に向上する。さらに、被洗浄物
の洗浄ムラに起因するクラック発生による不良も皆無と
なり、品質水準を大幅に向上することができる。 また、上記構成の洗浄装置においては、洗浄剤とし
て、その比重が水より小さくかつ油脂系汚れより大きい
ものを使用していることから、油脂層と水層の間に比重
差により洗浄剤の層が入り、油脂層と水層とが直接接触
することが避けられ、油脂と水とを完全に分離すること
が可能となり、それぞれに応じた廃棄処理を効率よく行
うことが可能となる。なお、油水完全分離後、油と水を
それぞれ洗浄剤より除去するが、除去された油脂および
水中に微量の洗浄剤が混入する可能性が残る。しかし、
油脂中に混入した洗浄剤は、廃油焼却時に洗浄剤も容易
に燃焼し、焼却することに問題は生じない。また、水中
に混入した洗浄剤については、フィルタや蒸溜器等によ
り容易に水と分離するので問題とならない。 そして、上記構成を有する洗浄装置を用いることによ
り、洗浄剤を効率よく、かつ有効に使用することができ
ると共に、複数の洗浄剤の使用も可能となる。これは、
洗浄剤の使用量を大幅に削減することに繋がり、ランニ
ングコストの大幅な低減に寄与する。また、IPA蒸気乾
燥を行う場合、再生IPA内に水分が混入することが防止
され、またIPAと上記水切り洗浄剤との沸点の差が大き
いことから、IPAのみの蒸気洗浄が可能となる。なお、
水とIPAとは沸点が近いために、水分を除去することが
困難であり、ウォーターマーク等の原因となっている。 次に、本発明の他の実施例について説明する。第２図
は、本発明の他の実施例の洗浄装置の構成を示す図であ
る。同図に示す洗浄装置は、大別して洗浄工程Ｄと、す
すぎ洗浄工程Ｅと、乾燥工程Ｆと、洗浄剤再生機構Ｇと
から構成されている。第１の工程となる洗浄工程Ｄに
は、第１の洗浄槽21および第２の洗浄槽22と、液切り槽
23とが設けられている。なお、洗浄工程Ｄにおける洗浄
槽は、洗浄時間や洗浄品質等によって、単槽や多槽連結
槽から選択すればよく、多槽連結槽における槽数等も同
様である。また、第１の洗浄槽21や第２の洗浄槽22に
は、必要に応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加
温、ブラッシング等が併用され、これらにより洗浄性能
がより向上される。 上記第１および第２の洗浄槽21、22には、前述した有
機ケイ素系洗浄剤やイソパラフィン系洗浄剤等の脂肪族
炭化水素系洗浄剤、およびこれらの混合物等からなる非
水系基礎洗浄剤に、親水性溶剤を添加した脱脂洗浄剤D₃
がそれぞれ収容されている。この親水性溶剤を含む洗浄
剤D₃は、親水性溶剤により付与された洗浄能力によっ
て、被洗浄物Ｘにより持ち込まれた油脂系汚れを洗浄剤
D₃中に溶解するものである。なお、第１の洗浄槽21だけ
では、被洗浄物Ｘに付着した汚れの溶解除去が不十分な
場合に、第２の洗浄槽22でさらに洗浄を行うようにして
もよい。 また、第１の洗浄槽21と第２の洗浄槽22に収容された
洗浄剤D₃、および液切り槽23に持ち込まれた洗浄剤D
₃は、それぞれの槽に接続されたドレン配管21a、22a、2
3aによって、洗浄剤再生機構Ｇに送られる。また、第１
の洗浄槽21および第２の洗浄槽22には、それぞれフィル
タ24、25が接続されており、洗浄剤D₃中の固体物、未溶
解物質等が除去された後、それぞれの槽内に還流され
る。上記フィルタ24、25は、洗浄対象の材料や内容によ
って種々選択されるが、例えば0.1〜20μｍ程度のポア
サイズを有するミクロポーラスなセラミックスフィル
タ、ガラスフィルタ、有機高分子系のフィルタ、さらに
はこれらの複合系フィルタ等が好ましく使用される。 また、第２の工程となるすすぎ洗浄工程Ｅには、第３
の洗浄槽26とシャワーリンス槽27とが設けられている。
第３の洗浄槽26には、上記第１の工程Ｄで使用した非水
系基礎洗浄剤のみの洗浄剤D₄が収容されている。シャワ
ーリンス槽27の下方には、バッファタンク28が設けられ
ており、これらバッファタンク28および第３の洗浄槽26
は、それぞれドレン配管28a、26aにより洗浄剤再生機構
Ｇと接続されている。この第３の洗浄槽26にも、必要に
応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラッ
シング等が併用される。第３の洗浄槽26内に収容された
洗浄剤D₄は、常時フィルタ29を介して循環されており、
このフィルタ29によって洗浄剤D₄中の固体物、未溶解物
質等が除去される。 さらに、第３の工程となる乾燥工程Ｆには、蒸気洗浄
（乾燥）槽30が設けられている。この蒸気洗浄槽30内に
は、蒸気洗浄剤31例えば前述したIPAやペルフルオロ化
合物、さらにはこれらの混合物等の液体が収容されてお
り、これらがヒータ32によって加熱されて蒸気33とな
る。このような蒸気洗浄槽30においては、被洗浄物Ｘの
表面で蒸気33が結露し、液化した蒸気洗浄剤31中に、す
すぎ洗浄工程Ｅから持ち込まれた洗浄剤D₄が溶け込んで
洗い流される。さらに、被洗浄物Ｘは、上部の冷却チラ
ー34の近傍にて必要時間保持され、表面に残留付着した
蒸気洗浄剤31を揮散させ、被洗浄物Ｘの乾燥が終了す
る。 なお、上記洗浄装置における洗浄剤の回収・再使用の
機構については、前述した実施例と同様である。 次に、前述したような洗浄装置を用いた具体的な洗浄
例およびその評価結果について説明する。 実施例１〜６、参考例１、比較例１〜２ まず、脱脂洗浄の例について述べる。第１の洗浄工程
における洗浄剤として、オクタメチルシクロテトラシロ
キサン（SP値＝７）50重量部とジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル（SP値＝８）50重量部との混合物、お
よび揮発性イソパラフィン（SP値＝７）50重量部とジエ
チレングリコールモノブチルエーテル50重量部との混合
物を、また第２の洗浄工程におけるすすぎ洗浄剤とし
て、オクタメチルシクロテトラシロキサンを用意した。
また、蒸気洗浄剤としては、第１表に示す各種のものを
それぞれ用意した。なお、第１表に示した蒸気洗浄剤
（比較例を含む）中の組成分のSP値、蒸発潜熱および沸
点は、以下の通りである。実施例による蒸気洗浄剤は、
オクタメチルシクロテトラシロキサンのSP値および蒸発
潜熱を考慮して選択したものである。 これらの洗浄剤を使用して、ロジン系フラックス・ス
パークルフラックスPO−Ｆ−4600（商品名、千住金属工
業（株）製：チップ混載基板用、SP値＝約10）を用いた
プリント基板の洗浄を行った。洗浄条件は、第１の洗浄
工程では45℃、３分間超音波洗浄とし、すすぎ洗浄は２
分間とした。そして、このようにして洗浄した後のプリ
ント基板を各蒸気洗浄剤によって蒸気洗浄し、乾燥に要
した時間を測定した。同様に50℃による温風乾燥につい
ても、乾燥時間を測定した。また、乾燥後のプリント基
板表面のイオン残渣量（μg NaCl/inch²）を、MIL−Ｐ
−55110CおよびMIL−Ｐ−28809Aに準拠して、オメガメ
ーター（日本アルファメタルズ（株）製）を用いて測定
した。さらに、フラックスの残渣を肉眼および顕微鏡下
で観察し、長径0.05mm以上の汚れの有無を確認した。ま
た、実用性能を総合的に判断し、極めて良好なものに
◎、良好なものに○、やや甘いものに△、不良なものに
×を付した。これらの結果を第１表に各洗浄剤の組成比
と併せて示す。 第１表の結果から明らかなように、実施例１〜６では
十分な脱脂洗浄力が得られていると共に、蒸気洗浄（乾
燥）においても極めて良好な結果が得られている。これ
は、すすぎ洗浄剤と蒸気洗浄剤のSP値の差を４〜２とし
たためである。これに対して、SP値の差が５以上ある各
比較例では、満足な洗浄力が得られないことが分かる。 参考例２〜６ 次に、本発明における非水系基礎洗浄剤に微量の洗浄
性能向上剤を添加した水切り洗浄剤を用いた洗浄工程と
蒸気乾燥工程のみによる水切り洗浄の例を参考例として
述べる。 まず、水切り洗浄剤として、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン99.5重量部とポリオキシエチレンオレイル
エーテル（SP値＝８）0.5重量部との混合物、および揮
発性イソパラフィン（SP値＝７）99.0重量部とステアリ
ン酸ナトリウム1.0重量部との混合物を用意した。ま
た、蒸気洗浄剤としては、第２表に示す各種のものをそ
れぞれ用意した。 これらの洗浄剤を使用して、ミニチュアベアリング
（ステンレス製）の水切り洗浄を行った。洗浄試験は、
２個のミニチュアベアリングを水に浸漬した後、常温の
水切り洗浄剤中に１分間浸漬（含む揺動）し、次いで蒸
気洗浄を行うことにより実施した。この後、所定量の脱
水エタノール中にベアリングを移し、残留水分を吸収さ
せ、カールフィッシャー法により定量した。そして、水
分除去率を以下の式から算出した。 水分除去率＝（Ｂ−Ａ）/B×100 （式中、Ａは上記カールフィッシャー法により定量した
値（ｇ）、Ｂはブランク試験（水中への投入工程を除
く）後の定量値（ｇ）である） また、乾燥後の外観を以下の基準により評価した。 ×：目視で乾燥ジミが観察された場合。 ○：目視で乾燥ジミが観察されなかった場合。 ◎：さらに、走査型電子顕微鏡により50μｍ以上のシミ
が観察されなかった場合。 以上の測定結果を第２表に示す。 第２表に示す測定結果から明らかなように、本発明に
おける非水系基礎洗浄剤に微量の洗浄性能向上剤を添加
した水切り洗浄剤（参考例２〜５）によれば、特にすす
ぎ洗浄を行わなくとも水切り性が得られている。 参考例７〜11 次に、本発明における非水系基礎洗浄剤を仕上げ洗浄
剤として用いた洗浄工程と蒸気乾燥工程とによる洗浄の
例を参考例として述べる。仕上げ洗浄剤として、オクタ
メチルシクロテトラシロキサンおよび揮発性イソパラフ
ィンを用意した。また、蒸気洗浄剤としては、第３表に
示す各種のものをそれぞれ用意した。 これらの洗浄剤を使用して、CCDカバーガラスの仕上
げ洗浄を行った。洗浄試験は、45℃の仕上げ洗浄剤中で
CCDカバーガラスを超音波洗浄した後、蒸気洗浄によっ
て乾燥仕上げを行うことにより実施した。そして、乾燥
後の外観評価および表面ダスト量の測定を行った。乾燥
後の外観は、上記実施例９と同様にして評価した。ま
た、表面のダスト量（0.5μｍ以上）は、レーザー法に
よるパーティクルチェッカ・WM−1000（東京光学機械
（株）製）を用いて測定した。 以上の測定結果を第３表に示す。 第３表に示す測定結果から明らかなように、本発明に
おける非水系基礎洗浄剤を仕上げ洗浄剤として用いた例
（参考例７〜９）においては十分なパーティクルコント
ロールが成されていることが分かる。 参考例11〜19 次に、本発明における非水系基礎洗浄剤としての脂肪
族炭化水素系洗浄剤を用いた洗浄工程（第１および第２
の洗浄工程）の後に、温風乾燥を行った参考例について
述べる。 第４表に示すように、炭素数４〜30の脂肪族炭化水素
に各種の有機溶剤を添加して脱脂洗浄剤を調製した。ま
た、すすぎ洗浄剤として揮発性イソパラフィンを用意し
た。これらの洗浄剤を用いて、実施例１と同様にしてフ
ラックス付きプリント基板の洗浄を行い、50℃の温風乾
燥による乾燥評価を実施例１と同様にして行った。ま
た、鋼板上にスピンドル油を塗布し、150℃の加熱炉で4
8時間の焼き付けを行って、試験片を作製した。この試
験片に付着した油脂の洗浄（超音波洗浄）を、上記脱脂
洗浄剤を用いて行い、その洗浄に要した時間を測定し
た。数値が小さいほど、洗浄力が高いことを示す。それ
らの結果を第４表に示す。 第４表から明らかなように、イソパラフィンを主成分
とする洗浄剤で洗浄した後、揮発性イソパラフィンによ
りリンスした場合（参考例12〜15）には、温風により短
時間で乾燥を行うことができた。また、イオン残渣も低
く、白色残渣も見られなかった。さらに、油脂洗浄速度
も速く、洗浄性能の点ではフロン113/エタン共沸系と同
等以上の性能を示した。ｎ−デカン、ケロシン等の直鎖
状パラフィンを用いて洗浄、リンスを行った場合（参考
例16,17）は、温風による乾燥性はアルキルベンゼンを
用いた例より良好であった。これらに対し、イソプロピ
ルベンゼン、ジアミルベンゼン等のアルキルベンゼンを
用いて、洗浄、リンスを行った場合（参考例18,19）で
は、温風による乾燥性が悪く、このためにイオン残渣も
多く、洗浄しきれずに残留したフラックス成分（白色残
渣）も多く見られた。 参考例21〜25 次に、本発明における非水系基礎洗浄剤としての脂肪
族炭化水素系洗浄剤を仕上げ洗浄剤として用いた洗浄工
程と蒸気乾燥工程とによる洗浄の例を参考例として述べ
る。仕上げ洗浄剤として揮発性イソパラフィンやｎ−デ
カンを用いて、参考例７と同様にしてCCDカバーガラス
の仕上げ洗浄を行い、参考例６と同様にして洗浄特性お
よび乾燥特性を評価した。なお、乾燥は50℃の温風乾燥
とした。その結果を第５表に示す。 第５表から明らかなように、揮発性イソパラフィンや
ｎ−デカンを用いた仕上げ洗浄（参考例21,22）では、
洗浄後に乾燥ジミもなく、ダストに関してもフロン113
と同等以上の十分な洗浄性を示した。これに対し、それ
以外では乾燥性が低いため、乾燥ジミが多く見られ、ま
た乾燥中に付着したダスト量も非常に多くなっていた。 実施例７〜11、参考例26、比較例３〜５ 第６表に示す脱脂洗浄剤、すすぎ洗浄剤、蒸気洗浄剤
をそれぞれ用いて、実施例１と同様にしてフラックス付
きプリント基板の洗浄を行い、実施例１と同様にして洗
浄特性および乾燥特性を評価した。なお、脱脂洗浄およ
びすすぎ洗浄の条件は、45℃、５分間超音波洗浄とし
た。その結果を第６表に示す。 第６表から明らかなように、イソパラフィンを主成分
とする洗浄剤および蒸気洗浄剤を用い、基板洗浄を行っ
た結果、15秒〜20秒で乾燥可能で、イオン残渣も少な
く、残留フラックス（白色残渣）も見られなかった。そ
して、フロン113/エタノール共沸系と同等以上の性能を
示した。また、ケロシンを用いた場合には、イソパラフ
ィンよりは多少劣るものの、芳香族系炭化水素を用いた
比較例に比べて良好な結果が得られた。 参考例27〜33 次に、本発明における非水系基礎洗浄剤を水切り洗浄
剤として用いた洗浄工程と蒸気乾燥工程とによる洗浄の
例を参考例として述べる。第７表に示す水切り洗浄剤お
よび蒸気洗浄剤を用いて、参考例２と同様にしてミニチ
ュアベアリングの水切り洗浄を行い、参考例２と同様に
して洗浄特性および乾燥特性を評価した。なお、水切り
洗浄は、45℃での浸漬揺動を１分間行った。その結果を
第７表に示す。 第７表から明らかなように、揮発性イソパラフィンを
主成分とする水切り洗浄剤を用いた水切りでは、蒸気乾
燥後の外観に問題はなく、水分除去率もフロン113/界面
活性剤系と同等以上の値を示した。また、ｎ−デカンを
主成分とする水切り洗浄剤を用いた水切りでは、乾燥ジ
ミ等による外観は揮発性イソパラフィンよりは劣るもの
の、比較的良好な水分除去率が得られた。これに対し
て、アルキルベンゼンを用いた場合には、十分に水分を
除去することができず、このため水分残留、乾燥ジミが
多く見られた。 参考例34〜40 次に、本発明における非水系基礎洗浄剤としての脂肪
族炭化水素系洗浄剤を仕上げ洗浄剤として用いた洗浄工
程と蒸気乾燥工程とによる洗浄の例を参考例として述べ
る。仕上げ洗浄剤として揮発性イソパラフィンやケロシ
ン、ｎ−デカン等を用いて、参考例７と同様にしてCCD
カバーガラスの仕上げ洗浄を行い、参考例７と同様にし
て洗浄特性および乾燥特性を評価した。その結果を第８
表に示す。 実施例12 第１の洗浄工程における洗浄剤として、ヘキサメチル
ジシロキサン（SP値＝７）50重量部とエタノール（SP値
＝13）50重量部との混合物を、また第２の洗浄工程にお
けるすすぎ洗浄剤として、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサンを用意した。また、蒸気洗浄剤としては、C₈F
₁₈を用意した。これらを用いて、実施例１と同様にして
洗浄特性および乾燥特性を評価したところ、実施例１と
同様な良好な結果が得られた。 この実施例における洗浄剤、すなわちヘキサメチルジ
シロキサンとエタノールとは、SP値の差が５以上である
が、極性基の相互作用によって相溶性を示すために、上
記したような結果が得られたものである。 実施例13 ペルフルオロ化合物としてC₆F₁₄100重量部に、有機ケ
イ素系洗浄剤としてヘキサメチルジシロキサンを25重量
部、および有機溶剤としてアセトンを３重量部配合し、
一液型洗浄剤を調製した。一方、鋼板にシリコーン系プ
レス油YF33（商品名、東芝シリコーン（株）製）を塗布
し、100℃で焼き付けたものを試料片として用意した。
そして、この試料片を上記一液型洗浄剤を用いて洗浄し
た。洗浄条件は、40℃、３分間超音波洗浄とし、この
後、同一洗浄剤で蒸気洗浄を施した。 このようにして洗浄した鋼板表面をATIRで分析したと
ころ、シリコーンに相当するピークは出現せず、シリコ
ーン残渣は存在しないことを確認した。

【発明の効果】

本発明の洗浄方法によれば、従来から使用されている
フロン系に匹敵する脱脂洗浄性や水置換性、さらには乾
燥性が得られると共に、環境破壊や環境汚染の心配がな
いことから、各種の問題を抱えるフロン系溶剤等を用い
た洗浄方法の代替洗浄法として有用である。また、複数
の洗浄剤を使用しても洗浄剤の再利用が可能となると共
に、被洗浄物から除去した水や汚れ物質を効率よく廃棄
することが可能となるため、洗浄の省資源化等にも大き
く寄与する。 図面の簡単な説明 第１図は本発明の一実施例の洗浄装置の構成を示す図
であり、第２図は本発明の他の洗浄装置の構成を示す図
である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１Ｌ //(Ｃ１１Ｄ 10/02 7:26） (72)発明者 八木 典章 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町2121―Ｄ 103 (72)発明者 斎藤 信宏 群馬県太田市烏山908―10 (56)参考文献 特開 昭53−56203（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−315183（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−101676（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−118404（ＪＰ，Ａ) 特開 昭47−44957（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−286915（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−119765（ＪＰ，Ａ) 特公 昭48−28763（ＪＰ，Ｂ１) 特公 平６−31404（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭63−48597（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭63−63884（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭60−28880（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭59−17160（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭57−47960（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭58−34515（ＪＰ，Ｂ２) 英国特許2173508（ＧＢ，Ａ) 国際公開91／6621（ＷＯ，Ａ) ソフト技研出版部編 「ガラス洗浄剤 の選定・開発と最適洗浄技術・洗浄設計 の実際」 （昭56−３−15） Ｐ．149 −151，Ｐ．153 Ｓｏａｐ／Ｃｏｓｍｅｔｉｃｓ／Ｃｈ ｅｍｉｃａｌ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｉｅ ｓ 62〔12〕 （1986） （米） Ｐ. 40−43

Claims (26)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （式中、Ｒは同一または相異なる置換または非置換の１
   価の炭化水素基、１は０〜５の整数を示す） で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサン、および （式中、Ｒは同一または相異なる置換または非置換の１
   価の炭化水素基、ｍは３〜７の整数を示す） で表される環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれる
   少なくとも１種の低分子量ポリオルガノシロキサンから
   実質的になる有機ケイ素系洗浄剤 および炭素数４〜30の脂肪族炭化水素系洗浄剤から選ば
   れる少なくとも１種の非水系基礎洗浄剤に、洗浄性能向
   上剤を添加した洗浄剤で被洗浄物を洗浄する第１の洗浄
   工程と、 前記第１の洗浄工程を経た前記被洗浄物を、前記非水系
   基礎洗浄剤単独ですすぎ洗浄する第２の洗浄工程と、 前記第２の洗浄工程を経た前記被洗浄物に、蒸発潜熱が
   200cal/g以下であり、かつ前記非水系基礎洗浄剤との溶
   解度因子（SP値）の差が４以下であると共に、蒸発潜熱
   が５倍以下である、前記第２の洗浄工程で用いた非水系
   基礎洗浄剤とは異種の化合物より選ばれる蒸気洗浄剤を
   用いて蒸気乾燥処理を施す乾燥工程と を有することを特徴とする洗浄方法。
2. 【請求項２】請求項１記載の洗浄方法において、 前記洗浄性能向上剤は、前記非水系基礎洗浄剤に対して
   相溶性を有する界面活性剤および／または親水性溶剤で
   あることを特徴とする洗浄方法。
3. 【請求項３】請求項１記載の洗浄方法において、 前記脂肪族炭化水素系洗浄剤がイソパラフィン系洗浄剤
   であることを特徴とする洗浄方法。
4. 【請求項４】請求項１記載の洗浄方法において、 前記非水系基礎洗浄剤は、その比重Ddgが、水の比重をW
   dg、油脂系汚れの比重を0dgとした場合に、Wdg＞Ddg＞0
   dgを満足することを特徴とする洗浄方法。
5. 【請求項５】請求項３記載の洗浄方法において、 前記イソパラフィン系洗浄剤は、炭素数４〜30の揮発性
   イソパラフィンから実質的になることを特徴とする洗浄
   方法。
6. 【請求項６】請求項１記載の洗浄方法において、 前記第１の洗浄工程は、脱脂洗浄工程であることを特徴
   とする洗浄方法。
7. 【請求項７】請求項１記載の洗浄方法において、 前記第１の洗浄工程は、水切り洗浄工程であることを特
   徴とする洗浄方法。
8. 【請求項８】請求項１記載の洗浄方法において、 前記蒸気洗浄剤は、沸点が前記被洗浄物表面の温度より
   20℃以上高いことを特徴とする洗浄方法。
9. 【請求項９】 （式中、Ｒは同一または相異なる置換または非置換の１
   価の炭化水素基、１は０〜５の整数を示す） で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサン、および （式中、Ｒは同一または相異なる置換または非置換の１
   価の炭化水素基、ｍは３〜７の整数を示す） で表される環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれる
   少なくとも１種の低分子量ポリオルガノシロキサンから
   実質的になる有機ケイ素系洗浄剤 および炭素数４〜30の脂肪族炭化水素系洗浄剤から選ば
   れる少なくとも１種の非水系基礎洗浄剤に、洗浄性能向
   上剤を添加した洗浄剤を用いた洗浄槽を有し、被洗浄物
   を前記洗浄槽で洗浄する第１の洗浄手段と、 前記非水系基礎洗浄剤を単独で用いた洗浄槽を有し、前
   記第１の洗浄手段を経た前記被洗浄物を前記洗浄槽です
   すぎ洗浄する第２の洗浄手段と、 蒸発潜熱が200cal/g以下であり、かつ前記非水系基礎洗
   浄剤との溶解度因子（SP値）の差が４以下であると共
   に、蒸発潜熱が５倍以下である、前記第２の洗浄手段の
   非水系基礎洗浄剤とは異種の化合物より選ばれる蒸気洗
   浄剤により、前記第２の洗浄手段を経た前記被洗浄物に
   蒸気乾燥処理を施す乾燥手段と を具備することを特徴とする洗浄装置。
10. 【請求項１０】請求項９記載の洗浄装置において、 前記第１の洗浄手段および前記第２の洗浄手段の少なく
    とも一方から洗浄排液が導入され、この洗浄排液を蒸留
    して前記非水系基礎洗浄剤のみを分離回収する洗浄剤再
    生手段と、 この分離回収された非水系基礎洗浄剤を、前記第１の洗
    浄手段および前記第２の洗浄手段の少なくとも一方に供
    給する手段と を、さらに具備することを特徴とする洗浄装置。
11. 【請求項１１】請求項10記載の洗浄装置において、 前記洗浄剤再生手段は、前記蒸留の前処理として、濾過
    器を有することを特徴とする洗浄装置。
12. 【請求項１２】請求項10記載の洗浄装置において、 前記第２の洗浄手段は、被洗浄物の移送方向と逆方向
    に、前記非水系基礎洗浄剤が送られるように連結された
    複数の前記洗浄槽を有し、 これら複数の洗浄槽のうち、最下流側の洗浄槽から前記
    洗浄排液が前記洗浄剤再生手段に送出され、かつ、前記
    分離回収された非水系基礎洗浄剤が最上流側の洗浄槽に
    再供給されるよう構成されていることを特徴とする洗浄
    装置。
13. 【請求項１３】請求項12記載の洗浄装置において、 前記第２の洗浄手段が有する前記複数の洗浄槽は、オー
    バーフロー機構およびドレン機構の少なくとも一方によ
    り、前記非水系基礎洗浄剤が送られるように連結されて
    いることを特徴とする洗浄装置。
14. 【請求項１４】請求項10記載の洗浄装置において、 前記第１の洗浄手段は、被洗浄物の移送方向と逆方向
    に、前記洗浄剤が送られるように連結された複数の前記
    洗浄槽を有し、 これら複数の洗浄槽のうち、最下流側の洗浄槽から前記
    洗浄排液が前記洗浄剤再生手段に送出されるよう構成さ
    れていることを特徴とする洗浄装置。
15. 【請求項１５】請求項14記載の洗浄装置において、 前記第１の洗浄手段が有する前記複数の洗浄槽のうち、
    最上流側の洗浄槽に新規の洗浄剤が供給されるよう構成
    されていることを特徴とする洗浄装置。
16. 【請求項１６】請求項９記載の洗浄装置において、 前記非水系基礎洗浄剤は、その比重Ddgが、水の比重をW
    dg、油脂系汚れの比重を0dgとした場合に、Wdg＞Ddg＞0
    dgを満足し、 かつ、前記第１の洗浄手段および第２の洗浄手段は、前
    記洗浄剤中に混入した水および油脂系汚れをそれぞれ個
    別に除去する手段を、さらに具備することを特徴とする
    洗浄装置。
17. 【請求項１７】請求項16記載の洗浄装置において、 前記第１の洗浄手段および第２の洗浄手段は、前記洗浄
    剤の下方に沈降分離された水を除去する手段と、前記洗
    浄剤の上方に浮上分離された油脂系汚れを除去する手段
    とを具備することを特徴とする洗浄装置。
18. 【請求項１８】ペルフルオロ化合物100重量部と、 （式中、Ｒは同一または相異なる置換または非置換の１
    価の炭化水素基、１は０〜５の整数を示す） で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサン、および （式中、Ｒは同一または相異なる置換または非置換の１
    価の炭化水素基、ｍは３〜７の整数を示す） で表される環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれる
    少なくとも１種の低分子量ポリオルガノシロキサンから
    実質的になる有機ケイ素系洗浄剤、 および／または炭素数４〜30の脂肪族炭化水素系洗浄剤
    0.01〜1000重量部と、 有機溶剤0.01〜1000重量部と を含有することを特徴とする洗浄組成物。
19. 【請求項１９】請求項１記載の洗浄方法において、 前記非水系基礎洗浄剤が前記有機ケイ素系洗浄剤である
    ことを特徴とする洗浄方法。
20. 【請求項２０】請求項19記載の洗浄方法において、 前記有機ケイ素系洗浄剤が前記低分子量ポリオルガノシ
    ロキサンであることを特徴とする洗浄方法。
21. 【請求項２１】請求項20記載の洗浄方法において、 前記低分子量ポリオルガノシロキサンが前記直鎖状ポリ
    ジオルガノシロキサンであることを特徴とする洗浄方
    法。
22. 【請求項２２】請求項20記載の洗浄方法において、 前記低分子量ポリオルガノシロキサンが前記環状ポリジ
    オルガノキロキサンであることを特徴とする洗浄方法。
23. 【請求項２３】請求項21記載の洗浄方法において、 前記直鎖状ポリジオルガノシロキサンがヘキサメチルジ
    シロキサンであることを特徴とする洗浄方法。
24. 【請求項２４】請求項１記載の洗浄方法において、 前記一般式（Ｉ）式中の置換基Ｒがメチル基であり、か
    つｌが１であることを特徴とする洗浄方法。
25. 【請求項２５】請求項22記載の洗浄方法において、 前記環状ポリジオルガノシロキサンがオクタメチルシク
    ロテトラシロキサンであることを特徴とする洗浄方法。
26. 【請求項２６】請求項22記載の洗浄方法において、 前記環状ポリジオルガノシロキサンがデカメチルシクロ
    ペンタシロキサンであることを特徴とする洗浄方法。