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JP2705458B2 - Mounting board appearance inspection device - Google Patents

Mounting board appearance inspection device

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Publication number
JP2705458B2
JP2705458B2 JP4133238A JP13323892A JP2705458B2 JP 2705458 B2 JP2705458 B2 JP 2705458B2 JP 4133238 A JP4133238 A JP 4133238A JP 13323892 A JP13323892 A JP 13323892A JP 2705458 B2 JP2705458 B2 JP 2705458B2
Authority
JP
Japan
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mask
sub
data
lead
luminance
Prior art date
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JP4133238A
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知晃 児玉
広門 鳥羽
卓美 脊戸
栄一 林
邦夫 三宮
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Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プリント回路基板上に
実装された部品リード間のブリッジ、異物付着等の実装
不良の検査を行う実装基板外観検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mounting board appearance inspection apparatus for inspecting a mounting defect such as a bridge between component leads mounted on a printed circuit board and adhesion of foreign matter.

【0002】[0002]

【従来の技術】図8は従来の実装基板外観検査装置の構
成を示している。図8において、11はプリント回路基
板、12はプリント回路基板11上に実装された部品、
803はプリント回路基板11及び部品12の高さを測
定する三次元座標計測部であり、距離センサ804及び
高さ計算回路805からなる。806は部品12の基準
の高さデータが格納される基準高さデータ格納メモリ、
807は二乗誤差計算回路であり、減算回路808及び
二乗計算回路809からなる。810はプリント回路基
板11の処理データに相当するデータを格納し、部品1
2ごとにマスクが設定されるマスクデータ格納メモリ、
811は累積加算回路、812は平均計算回路、813
はマスクごとの基準しきい値が格納される基準しきい値
格納メモリ、814は部品実装状態の良否を判定する比
較判定回路である。
2. Description of the Related Art FIG. 8 shows the configuration of a conventional mounting board appearance inspection apparatus. 8, 11 is a printed circuit board, 12 is a component mounted on the printed circuit board 11,
Reference numeral 803 denotes a three-dimensional coordinate measuring unit for measuring the heights of the printed circuit board 11 and the component 12, and includes a distance sensor 804 and a height calculating circuit 805. 806, a reference height data storage memory for storing reference height data of the component 12;
A square error calculation circuit 807 includes a subtraction circuit 808 and a square calculation circuit 809. 810 stores data corresponding to the processing data of the printed circuit board 11 and
A mask data storage memory in which a mask is set for each two,
811 is a cumulative addition circuit, 812 is an average calculation circuit, 813
Is a reference threshold value storage memory for storing a reference threshold value for each mask, and 814 is a comparison / judgment circuit for judging the quality of the component mounting state.

【0003】次に、この従来の構成の動作について説明
する。プリント回路基板11上に実装されている部品1
2の高さとプリント回路基板11の表面の高さとを三次
元座標計測部803で計測する。この三次元座標計測部
803は、距離センサ部804と、この距離センサ部8
04からの情報を用いて高さを計算する高さ計算回路8
05とから構成されており、三次元座標の計測原理とし
ては、レーザーおよび受光素子を使った三次元計量法の
原理を用いて測定し、二乗誤差計算回路807に出力さ
れる。
Next, the operation of the conventional configuration will be described. Component 1 mounted on printed circuit board 11
2 and the height of the surface of the printed circuit board 11 are measured by the three-dimensional coordinate measuring unit 803. The three-dimensional coordinate measuring unit 803 includes a distance sensor unit 804 and the distance sensor unit 8.
Height calculation circuit 8 for calculating height using information from 04
The measurement is performed using the principle of a three-dimensional measurement method using a laser and a light receiving element as a principle of measuring three-dimensional coordinates, and is output to a square error calculation circuit 807.

【0004】二乗誤差計算回路807では、基準となる
部品12の高さデータが格納されている基準高さデータ
格納メモリ806からの値と、三次元座標計測部803
で計測された高さデータとの二乗誤差を計算する。すな
わち、両データの差を減算回路808で求め、その差の
二乗を二乗計算回路809で計算する。そして、計算さ
れた二乗誤差は、マスクデータ格納メモリ810に格納
されているマスクデータを参照して、累積加算回路81
1でマスクごとに累積加算され、平均計算回路812で
その累積加算値を累積加算数を用いて割り算し、マスク
内の二乗誤差の平均値を計算する。最後に比較判定回路
814で平均計算回路812の出力であるマスクごとの
平均二乗誤差と、基準しきい値格納メモリ813に格納
されている良不良判定用のマスク毎の基準しきい値とを
比較し、平均二乗誤差を基準しきい値と、その大小を判
定することにより、部品実装の良、不良を判定すること
ができる。
In a square error calculating circuit 807, a value from a reference height data storage memory 806 in which height data of a reference component 12 is stored, and a three-dimensional coordinate measuring unit 803.
Calculate the square error with the height data measured in. That is, the difference between the two data is obtained by the subtraction circuit 808, and the square of the difference is calculated by the square calculation circuit 809. Then, the calculated square error is referred to the mask data stored in the mask data storage memory 810, and the cumulative addition circuit 81
At 1, the cumulative addition is performed for each mask, and the average calculation circuit 812 divides the cumulative addition value using the cumulative addition number to calculate the average value of the square errors in the mask. Finally, the comparison and determination circuit 814 compares the mean square error of each mask, which is the output of the average calculation circuit 812, with the reference threshold for each good / bad determination mask stored in the reference threshold storage memory 813. By determining the mean square error as the reference threshold value and the magnitude thereof, it is possible to determine whether the component mounting is good or bad.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の実装基板外観検査装置では、二乗誤差計算回路80
7において、基準高さデータ格納メモリ806に格納さ
れている基準高さデータと、三次元座標計測部803か
ら得た高さデータとを比較して平均二乗誤差を計算して
いるが、プリント回路基板11が反っている場合、測定
された高さ情報を補正できず、検査精度が向上しないと
いう問題があった。
However, in the conventional mounting board appearance inspection apparatus described above, the square error calculating circuit 80 is required.
7, the mean square error is calculated by comparing the reference height data stored in the reference height data storage memory 806 with the height data obtained from the three-dimensional coordinate measuring unit 803. When the substrate 11 is warped, there is a problem that the measured height information cannot be corrected and the inspection accuracy does not improve.

【0006】また、上記従来の実装基板外観検査装置で
は、図9に示すように部品12のリード603とリード
603の間にのみマスク901を設定するため破線で示
すように部品12のリード603が許容範囲内で正常な
実装位置からずれを生じていると、マスク901の位置
合わせが正しく行われず、良品を不良品と判定してしま
うという問題もあった。
In the conventional mounting board appearance inspection apparatus described above, the mask 901 is set only between the leads 603 of the component 12 as shown in FIG. If the mounting position deviates from the normal mounting position within the allowable range, the mask 901 is not correctly aligned, and a non-defective product is determined as a defective product.

【0007】本発明は、このような従来の問題を解決す
るものであり、部品の実装状態の良否を高い検査精度で
正確に判定でき優れた実装基板外観検査装置の提供を目
的とする。
An object of the present invention is to solve such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide an excellent mounting board appearance inspection apparatus capable of accurately determining the quality of a component mounting state with high inspection accuracy.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の実装基板外観検査装置は、部品が実装され
たプリント回路基板を移動させる搬送手段と、レーザ光
源からのレーザ光をプリント回路基板上に走査させるレ
ーザ光走査手段と、レーザ光の走査によりプリント回路
基板上から反射して得られる散乱光を反射させて集光す
る散乱光反射集光手段と、散乱光反射集光手段の集光位
置に設けられ集光位置に対応する位置信号を出力する位
置検出手段と、位置検出手段からの位置信号によりプリ
ント回路基板およびプリント回路基板上に実装された部
品の高さおよび輝度データを演算する画像演算処理手段
と、部品の実装位置にあらかじめ定めた任意サイズの複
数の第1のマスクのデータを格納する第1のマスクデー
タ記憶手段と、第1のマスク内において、部品のリード
上面をリードの長手方向と垂直な方向に移動する第1の
サブマスクのデータを格納する第1のサブマスクデータ
記憶手段と、第1のマスク内を移動する第1のサブマス
ク内の平均輝度の最大値よりリード位置を求めるリード
位置決定手段と、求められたリード位置に設定する第2
のマスクのデータを格納する第2のマスクデータ記憶手
段と、第2のマスク内において、部品のリード上面をリ
ードの長手方向と水平な方向に移動する第2のサブマス
クのデータを格納する第2のサブマスクデータ記憶手段
と、第2のマスク内を移動する第2のサブマスク内の平
均輝度の最小値よりリード先端を求めるリード先端位置
決定手段と、第1と第2のサブマスクから求められたリ
ード間位置に設定する第3のマスクデータ記憶手段と、
良部品と不良部品のサンプルデータを格納するサンプル
データ記憶手段と、良否判定用の準備しきい値を格納す
る判定用しきい値記憶手段と、第3のマスク内の輝度デ
ータとサンプルデータとの相関係数を計算して判定用し
きい値と比較し、プリント回路基板上の部品の実装状態
の良否を判定する判定処理手段とを備える構成である。
In order to achieve the above object, a mounting board appearance inspection apparatus according to the present invention comprises a conveying means for moving a printed circuit board on which components are mounted, and a laser light from a laser light source. Laser light scanning means for scanning on a circuit board, scattered light reflection / condensing means for reflecting and collecting scattered light obtained by reflecting from a printed circuit board by scanning of laser light, and scattered light reflection / condensing means Position detecting means provided at the light condensing position and outputting a position signal corresponding to the light condensing position; height and luminance data of the printed circuit board and the components mounted on the printed circuit board based on the position signal from the position detecting means Image processing means for calculating the first mask data, first mask data storage means for storing data of a plurality of first masks of a predetermined arbitrary size at a component mounting position, A first sub-mask data storage means for storing data of a first sub-mask for moving the upper surface of the lead of the component in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the lead in the first mask; Read position determining means for determining the read position from the maximum value of the average luminance in the sub-mask, and a second method for setting the read position to the determined read position.
A second mask data storing means for storing the data of the second mask, and a second mask data storing means for moving the upper surface of the lead of the component in the second mask in a direction parallel to the longitudinal direction of the lead. Sub-mask data storage means, read-lead position determining means for obtaining the lead tip from the minimum value of the average brightness in the second sub-mask moving in the second mask, and the first and second sub-masks. Third mask data storage means for setting a position between leads;
Sample data storage means for storing sample data of good parts and defective parts, determination threshold value storage means for storing a preparation threshold value for quality determination, and brightness data and sample data in the third mask. A determination processing unit that calculates a correlation coefficient, compares the calculated correlation coefficient with a determination threshold value, and determines whether the component mounted on the printed circuit board is good or bad.

【0009】また、レーザ光走査手段がポリゴンミラー
とfθレンズを備え、散乱光反射集光手段がプリント回
路基板上から反射して得られる散乱光を反射させる反射
ミラーと、反射ミラーにより反射され、fθレンズを介
してポリゴンミラーで反射された光を位置検出手段に集
光する集光レンズとを備える構成である。
The laser beam scanning means includes a polygon mirror and an fθ lens, and the scattered light reflecting and condensing means reflects a scattered light obtained by reflecting from the printed circuit board; and a condenser lens for condensing the light reflected by the polygon mirror via the fθ lens on the position detecting means.

【0010】さらに、リード位置決定手段が、第1のマ
スク内を移動する第1のサブマスクの位置を決定する第
1のサブマスク位置決定手段と、第1のサブマスク内に
おいて、画像演算処理手段により演算された輝度データ
を累積加算する第1の累積加算回路と、その累積加算数
値を累積加算数で割り算する第1の平均計算回路と、平
均計算回路で求めた第1のマスク内を移動する第1のサ
ブマスク内の輝度の平均値から最大値となる位置を検出
する最大値検出回路を備える構成である。
[0010] Further, the lead position determining means determines the position of the first sub-mask moving in the first mask, and the first sub-mask determines the position of the first sub-mask. A first cumulative addition circuit that cumulatively adds the obtained luminance data, a first average calculation circuit that divides the cumulative addition value by the cumulative addition number, and a first average calculation circuit that moves within the first mask obtained by the average calculation circuit. The configuration includes a maximum value detection circuit that detects a position where the maximum value is obtained from the average value of the luminance in one sub-mask.

【0011】また、リード先端位置検出手段が、第2の
マスク内を移動する第2のサブマスク位置を決定する第
2のサブマスク位置決定手段と、第2のサブマスク内に
おいて、画像演算処置により演算された輝度データを累
積加算する第2の累積加算回路と、その累積加算数値を
累積加算数で割り算する第2の平均計算回路と、平均計
算回路で求めた第2のマスク内を移動する第2のサブマ
スク内の輝度の平均値から最小値となる位置を検出する
最小値検出回路を備える構成である。
The lead tip position detecting means determines a second sub-mask position for moving in the second mask, and a second sub-mask position determining means for calculating the position of the second sub-mask. A second cumulative addition circuit for cumulatively adding the obtained luminance data, a second average calculation circuit for dividing the cumulative addition value by the cumulative addition number, and a second average movement circuit for moving in the second mask obtained by the average calculation circuit. Is provided with a minimum value detecting circuit for detecting a position where the luminance becomes the minimum value from the average value of the luminance in the sub-mask.

【0012】さらに、判定処理手段が、同一グループ内
輝度データの平均値を計算するグループ平均計算回路
と、第3のマスク内において画像演算処理手段により演
算された輝度データと、サンプルデータ記憶手段からの
良品及び不良品サンプルデータ、グループ平均計算回路
からの平均値との相関係数を計算する相関係数計算回路
と、その相関係数と判定用しきい値とを比較し、プリン
ト回路基板上の部品の実装状態の良否を判定する判定回
路を備える構成である。
Further, the judgment processing means calculates the average value of the luminance data in the same group, the group average calculation circuit, the luminance data calculated by the image calculation processing means in the third mask, and the sample data storage means. A non-defective / defective sample data, a correlation coefficient calculating circuit for calculating a correlation coefficient with the average value from the group average calculating circuit, and comparing the correlation coefficient with a judgment threshold value, on a printed circuit board. And a judgment circuit for judging whether the mounting state of the component is good or not.

【0013】[0013]

【作用】このような構成により、本発明の実装基板外観
検査装置は、プリント回路基板及び実装部品の輝度デー
タを測定し、実装部品に設定された第1のマスク内で、
リード上面をスキャンする第1のサブマスク内の平均輝
度の最大値よりリード位置を求め、さらに第2のマスク
内で、リード上面をスキャンする第2のサブマスク内の
平均輝度の最小値よりリード先端位置を求め、リード間
位置に設定された第3のマスク内の輝度データと同一グ
ループ平均データ及び良品、不良品サンプルデータとの
相関関係を計算により求める。この相関関係と判定用し
きい値とを比較する。これによって、プリント回路基板
の反り、部品位置ずれ、リード曲がり等に影響されるこ
となく、実装部品のリード間ブリッジ、異物の付着等を
検査できる。
With such a configuration, the mounting board appearance inspection apparatus of the present invention measures the luminance data of the printed circuit board and the mounted component, and detects the brightness data in the first mask set on the mounted component.
The lead position is obtained from the maximum value of the average luminance in the first sub-mask for scanning the upper surface of the lead, and the lead position is obtained from the minimum value of the average luminance in the second sub-mask for scanning the upper surface of the lead in the second mask. And the correlation between the luminance data in the third mask set at the inter-lead position, the same group average data, and the non-defective and defective sample data is calculated. This correlation is compared with the determination threshold. As a result, it is possible to inspect a bridge between leads of a mounted component, adhesion of a foreign substance, and the like without being affected by warpage of the printed circuit board, component displacement, lead bending, and the like.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の実装基板外観検査装置の実施
例を図面に基づいて詳細に説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a mounting board appearance inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【0015】図1は実施例の構成を示している。図1
中、検出部にあって、11はプリント回路基板、12は
プリント回路基板11上に実装されたIC等の部品、1
3はプリント回路基板11を矢印14方向に移動させる
搬送機構、15はレーザ光源、16はレーザ光源15か
ら出射されるレーザ光、17はポリゴンミラー、18
a,18b,18cはそれぞれレーザ光16をポリゴン
ミラー17に導くための反射鏡、19はfθレンズであ
り、ポリゴンミラー17により反射されるレーザ光16
を部品12が実装されたプリント回路基板11に照射さ
せる。20は反射ミラーであり、部品12が実装された
プリント回路基板11から反射する散乱光をfθレンズ
19へ導く。21は集光レンズであり、fθレンズ19
を通り、ポリゴンミラー17で反射された光を集光す
る。22は位置検出素子であり、集光レンズ21の集光
位置に設けられ、集光位置に対応する位置信号S23を
出力する。信号処理部にあって、24は位置信号S23
から部品12の高さおよび輝度データを演算するための
画像演算処理部、25は部品12の実装位置にあらかじ
め定めた第1のマスク601(図6(a)参照)のデー
タを格納する第1のマスクデータ記憶部、26は第1の
マスク601内において、部品12のリード603(図
6(a)参照)の上面を移動する第1のサブマスク60
2(図6(a)参照)のデータを格納する第1のサブマ
スクデータ記憶部、27はリード位置決定部であり、第
1のサブマスクデータ記憶部26からの第1のサブマス
ク603を部品12のリード603の上面を移動させた
とき第1のサブマスク603内のデータの平均値が最大
となる点をリード位置として求める。28はリード位置
決定部27で求めたリード位置に設定する第2のマスク
701(図7(a)参照)のデータを格納する第2のマ
スクデータ記憶部、29は第2のマスク701内におい
て部品12のリード603の上面を移動する第2のサブ
マスク702(図7(a)参照)のデータを格納する第
2のサブマスクデータ記憶部、30はリード先端位置決
定部であり、第2のサブマスクデータ記憶部29からの
第2のサブマスク702を部品12のリード603の上
面を移動させたとき第2のサブマスク702内のデータ
の平均値が最小となる点をリード先端位置として求め
る。31はリード位置決定部27とリード先端位置決定
部30で求めたリード間位置に設定する第3のマスク7
03(図7(a)参照)のデータを格納する第3のマス
クデータ記憶部、33は第3のマスク703内の良品お
よび不良品サンプルデータを格納するサンプルデータ記
憶部、32はプリント回路基板11上の部品12の実装
状態の良否判定用の基準しきい値を格納する判定用しき
い値記憶部、34は判定処理部であり、第3のマスクデ
ータ、良品および不良品サンプルデータ、判定用しきい
値等を用いてプリント回路基板11上の部品12の実装
状態を判定する。
FIG. 1 shows the configuration of the embodiment. FIG.
In the detection section, 11 is a printed circuit board, 12 is a component such as an IC mounted on the printed circuit board 11, 1
3 is a transport mechanism for moving the printed circuit board 11 in the direction of arrow 14, 15 is a laser light source, 16 is a laser beam emitted from the laser light source 15, 17 is a polygon mirror, 18
Reference numerals a, 18b, and 18c denote reflecting mirrors for guiding the laser light 16 to the polygon mirror 17, respectively. Reference numeral 19 denotes an fθ lens, and the laser light 16 reflected by the polygon mirror 17.
To the printed circuit board 11 on which the components 12 are mounted. A reflection mirror 20 guides scattered light reflected from the printed circuit board 11 on which the component 12 is mounted to the fθ lens 19. Reference numeral 21 denotes a condenser lens, and an fθ lens 19
, And the light reflected by the polygon mirror 17 is collected. Reference numeral 22 denotes a position detecting element, which is provided at a light condensing position of the light condensing lens 21 and outputs a position signal S23 corresponding to the light condensing position. In the signal processing unit, reference numeral 24 denotes a position signal S23.
An image calculation processing unit 25 for calculating the height and luminance data of the component 12 from a first mask 601 (refer to FIG. 6A) which stores data of a predetermined first mask 601 at the mounting position of the component 12 The first sub-mask 60 moves on the upper surface of the lead 603 (see FIG. 6A) of the component 12 in the first mask 601.
2 (see FIG. 6A), a first sub-mask data storage unit 27 for storing data, and a read position determination unit 27, which stores the first sub-mask 603 from the first sub-mask data storage unit 26 as a component. The point at which the average value of the data in the first sub-mask 603 when the upper surface of the twelve leads 603 is moved is determined as the lead position. Reference numeral 28 denotes a second mask data storage unit for storing data of a second mask 701 (see FIG. 7A) set at the read position determined by the lead position determination unit 27, and 29 denotes a second mask data in the second mask 701. A second sub-mask data storage unit that stores data of a second sub-mask 702 (see FIG. 7A) that moves on the upper surface of the lead 603 of the component 12, and 30 is a lead tip position determination unit, The point at which the average value of the data in the second sub-mask 702 when the second sub-mask 702 from the sub-mask data storage unit 29 is moved over the upper surface of the lead 603 of the component 12 is determined as the lead end position. Reference numeral 31 denotes a third mask 7 to be set at the inter-lead position determined by the lead position determination unit 27 and the lead tip position determination unit 30.
A third mask data storage unit for storing data 03 (see FIG. 7A), a sample data storage unit 33 for storing non-defective and defective sample data in the third mask 703, and a printed circuit board 32 A judgment threshold value storage unit 34 for storing a reference threshold value for judging the quality of the mounted state of the component 12 on the reference numeral 11, a judgment processing unit 34, and third mask data, non-defective and defective sample data, judgment The mounting state of the component 12 on the printed circuit board 11 is determined using a threshold value for use.

【0016】次に、この実施例の構成における動作につ
いて説明する。図6(a)は部品12を上方からみたと
きの第1のマスクの具体的な設定例を示す二次元的な配
置説明図、図6(b)は第1のマスク内を第1のサブマ
スクでスキャンしたときの第1のサブマスク内の輝度デ
ータの平均の変化を示すグラフである。図7(a)は部
品12を上方から見たときの第2のマスクの具体的な設
定例を示す二次元的な配置説明図、図7(b)は第2の
マスク内を第2のサブマスクでスキャンしたときの第2
のサブマスク内の輝度データの平均の変化を示すグラフ
である。
Next, the operation of the configuration of this embodiment will be described. FIG. 6A is a two-dimensional layout explanatory view showing a specific setting example of the first mask when the component 12 is viewed from above, and FIG. 6B is a first sub-mask showing the inside of the first mask. 6 is a graph showing a change in average of luminance data in a first sub-mask when scanning is performed in the first sub-mask. FIG. 7A is a two-dimensional layout explanatory view showing a specific setting example of the second mask when the component 12 is viewed from above, and FIG. Second when scanning with sub-mask
7 is a graph showing a change in average of luminance data in the sub-mask of FIG.

【0017】部品12が実装されたプリント回路基板1
1を搬送機構13により固定状態に保持して矢印14方
向に移動させる。この間、レーザ光源15からのレーザ
光16を3個の反射鏡18a,18b,18cを用い、
回転しているポリゴンミラー17に導き、ポリゴンミラ
ー17とfθレンズ19とによりレーザ光16を部品1
2が実装されたプリント回路基板11上に垂直に照射す
る。これにより部品12が実装されたプリント回路基板
11は、レーザ光16により上下方向に二次元的に全面
が走査される。
Printed circuit board 1 on which components 12 are mounted
1 is held in a fixed state by the transport mechanism 13 and moved in the arrow 14 direction. During this time, the laser light 16 from the laser light source 15 is reflected by three reflecting mirrors 18a, 18b and 18c,
The laser light 16 is guided to the rotating polygon mirror 17, and the laser light 16 is applied to the component 1 by the polygon mirror 17 and the fθ lens 19.
2 is irradiated vertically on the printed circuit board 11 on which the circuit board 2 is mounted. Thus, the entire surface of the printed circuit board 11 on which the components 12 are mounted is two-dimensionally scanned by the laser light 16 in the up-down direction.

【0018】レーザ光16の上下方向の二次元走査によ
り部品12が実装されたプリント回路基板11上から反
射してくる散乱光をプリント回路基板11とfθレンズ
19との間に設けた反射ミラー20により反射させ、f
θレンズ19とポリゴンミラー17を介し、さらに集光
レンズ21を通して位置検出素子22上に集光する。位
置検出素子22から出力された位置信号S23は画像演
算処理部24に入力される。画像演算処理部24では、
動機信号のタイミングで入力された位置信号S23をプ
リント回路基板11およびプリント回路基板11上に実
装された部品12の高さおよび輝度データに変換する演
算を行い、実測輝度データをリード位置決定部27へ出
力する。
A reflection mirror 20 is provided between the printed circuit board 11 and the fθ lens 19 to provide scattered light reflected from the printed circuit board 11 on which the component 12 is mounted by two-dimensional vertical scanning of the laser light 16. And f
The light is condensed on the position detecting element 22 through the condensing lens 21 via the θ lens 19 and the polygon mirror 17. The position signal S23 output from the position detection element 22 is input to the image calculation processing unit 24. In the image calculation processing unit 24,
The position signal S23 input at the timing of the motivation signal is converted into height and luminance data of the printed circuit board 11 and the components 12 mounted on the printed circuit board 11, and the measured luminance data is converted into the lead position determining unit 27. Output to

【0019】リード位置決定部27では、部品(IC)
12の同一方向の全リード603にかかるように設定さ
れた第1のマスクデータ記憶部25からの第1のマスク
601内を移動する第1のサブマスクデータ記憶部26
からの第1のサブマスク602内の輝度の平均値の最大
となるところを見つけリードの位置と決定する。
In the lead position determining section 27, a component (IC)
The first sub-mask data storage unit 26 that moves within the first mask 601 from the first mask data storage unit 25 set so as to cover all 12 leads 603 in the same direction.
From the first sub-mask 602, and the position of the lead is determined.

【0020】リード先端位置決定部30では、リード位
置決定部27で決定したリード位置に第2のマスクデー
タ記憶部28からの第2のマスク701を設定し、この
第2のマスク701内を移動する第2のサブマスクデー
タ記憶部29からの第2のサブマスク702内の輝度の
平均値の最小となるところを見つけリード先端位置と決
定する。
The lead tip position determining unit 30 sets the second mask 701 from the second mask data storage unit 28 at the lead position determined by the lead position determining unit 27, and moves within the second mask 701. Then, a position where the average value of the luminance in the second sub-mask 702 from the second sub-mask data storage unit 29 is minimized is found and determined as the lead end position.

【0021】判定処理部34では、リード位置決定部2
7およびリード先端位置決定部30で決定したリード間
位置に第3のマスクデータ記憶部31からの第3のマス
ク703を設定し、この第3のマスク703内の輝度デ
ータと、同一グループ内の輝度データ平均値、サンプル
データ記憶部33からの良品および不良品サンブルデー
タとの相関係数を計算し、判定用しきい値記憶部32か
らの判定用しきい値と比較することにより、リード60
3間のブリッジ等を判定することができる。
In the determination processing section 34, the lead position determination section 2
7 and the third mask 703 from the third mask data storage unit 31 are set at the inter-lead position determined by the lead tip position determination unit 30, and the luminance data in the third mask 703 and the luminance data in the same group are set. By calculating a correlation coefficient between the average value of the luminance data and the sample and non-defective sample data from the sample data storage unit 33 and comparing with the judgment threshold value from the judgment threshold value storage unit 32, the lead 60 is calculated.
A bridge or the like between the three can be determined.

【0022】次に、画像演算処理部24、リード位置決
定部27、リード先端位置決定部30、判定処理部34
の動作について詳細に説明する。
Next, the image calculation processing section 24, the lead position determination section 27, the lead tip position determination section 30, and the determination processing section 34
Will be described in detail.

【0023】図2は画像演算処理部24の詳細な構成を
示し、図3はリード位置決定部27の詳細な構成を示し
ている。さらに、図4はリード先端位置決定部30の詳
細な構成を示し、図5は判定処理部34の詳細な構成を
示している。
FIG. 2 shows a detailed configuration of the image calculation processing section 24, and FIG. 3 shows a detailed configuration of the lead position determination section 27. FIG. 4 shows a detailed configuration of the lead tip position determination unit 30, and FIG. 5 shows a detailed configuration of the determination processing unit 34.

【0024】まず、画像演算処理部24について説明す
る。図2に示すように位置検出素子22からの位置信号
S23をA/Dコンバータ201でディジタル信号に変
換し高さ演算回路202、輝度演算回路203に入力す
る。本実施例では、位置検出素子22としてPSD(P
osilionーSensitive Dotecto
rs;半導体位置検出素子)を用いており、PSDに入
射する反射光の入射位置は、素子の両端電極に流れる電
流が各電極間との距離に反比例するものを用いている。
高さ演算回路202では、高さデータを求め、輝度演算
回路203では輝度データを求めて、デイジタル信号に
変換された両電極からの電流I1およびI2を演算して
求める。
First, the image operation processing section 24 will be described. As shown in FIG. 2, the position signal S23 from the position detecting element 22 is converted into a digital signal by the A / D converter 201 and input to the height calculation circuit 202 and the luminance calculation circuit 203. In the present embodiment, PSD (P
osilion-Sensitive Detecto
rs (semiconductor position detecting element), and the incident position of the reflected light incident on the PSD is such that the current flowing through the electrodes at both ends of the element is inversely proportional to the distance between the electrodes.
The height calculation circuit 202 obtains height data, and the brightness calculation circuit 203 obtains brightness data, and calculates the currents I1 and I2 from both electrodes converted into digital signals.

【0025】[0025]

【数1】 (Equation 1)

【0026】[0026]

【数2】 (Equation 2)

【0027】この(数1)によって、高さ演算回路20
2で高さデータを求める。(数2)によって、輝度演算
回路203で輝度データを求めてデイジタル信号に変換
された両電極からの電流I1およびI2を演算して求め
る。
The height calculation circuit 20
Step 2 obtains height data. According to (Equation 2), the luminance data is calculated by the luminance calculation circuit 203, and the currents I1 and I2 from both electrodes converted into digital signals are calculated.

【0028】これらの(数1)(数2)で得られた高さ
データは、一旦、測定高さデータ格納メモリ204に格
納される。輝度データは測定輝度データ格納メモリ20
5に格納され、リード位置決定部27に出力される。
The height data obtained by (Equation 1) and (Equation 2) are temporarily stored in the measured height data storage memory 204. The luminance data is stored in the measured luminance data storage memory 20.
5 and output to the lead position determination unit 27.

【0029】次にリード位置決定部27について説明す
る。本実施例では、第1のマスク601のデータとし
て、その領域を示す直方体の左上と右したのXY座標が
格納されており、第1のサブマスク602のデータとし
てはその大きさ(X方向、Y方向)、第2のマスク70
1のデータとしてはその大きさ(X方向、Y方向)、第
2のサブマスク702のデータとしてはその大きさ(X
方向、Y方向)、第3のマスク703のデータとしては
その大きさ(X方向、Y方向)が格納されている。そし
て、図3、図6(a)に示すように、部品12の同一方
向の全リード603にかかるように設定された第1のマ
スクデータ記憶部25からの第1のマスク601内、す
なわち、同一方向の全リード603にかかっている部分
において、第1のサブマスクデータ記憶部26からの第
1のサブマスク602を第1のサブマスク位置決定部3
01により部品12のリード603の長手方向と垂直な
矢印方向にスキャンニングし、第1のサブマスク602
に対応する測定輝度データ格納メモリ205からの測定
輝度データの和を第1の累積加算回路302で求め、第
1の平均計算回路303において、その累積加算数値を
累積加算数で割り算することにより第1のサブマスク6
02内の平均値を求める。最大値検出回路304におい
ては、第1の平均計算回路303で求めた平均値の最大
値を持つ箇所を求める。
Next, the lead position determining section 27 will be described. In the present embodiment, the XY coordinates of the upper left and right sides of the rectangular parallelepiped indicating the area are stored as the data of the first mask 601, and the size (X direction, Y direction) of the first sub mask 602 is stored. Direction), the second mask 70
1 data (X direction, Y direction), and data of the second submask 702 have the size (X
(Direction, Y direction) and the size (X direction, Y direction) of the third mask 703 are stored. Then, as shown in FIG. 3 and FIG. 6A, the inside of the first mask 601 from the first mask data storage unit 25 set so as to cover all leads 603 of the component 12 in the same direction, that is, In the portion corresponding to all leads 603 in the same direction, the first sub-mask 602 from the first sub-mask data storage unit 26 is replaced with the first sub-mask position determination unit 3
01, the component 12 is scanned in the direction of the arrow perpendicular to the longitudinal direction of the lead 603, and the first sub-mask 602 is scanned.
The first cumulative addition circuit 302 obtains the sum of the measured luminance data from the measured luminance data storage memory 205 corresponding to, and the first average calculation circuit 303 divides the cumulative addition value by the cumulative addition number. Submask of 1 6
An average value in 02 is obtained. In the maximum value detection circuit 304, a portion having the maximum value of the average value obtained by the first average calculation circuit 303 is obtained.

【0030】上記のようなマスクデータに基づいて、リ
ード603にかかるように設定した第1のサブマスク6
02をスキャンさせたときの第1のサブマスク602内
の平均値を計算してプロットすると、図6(b)のよう
になる。すなわち、第1のサブマスク602をXの正の
方向にスキャンさせると、第1のサブマスク602がリ
ード上面にかかったとき輝度が高くなり、最大値を持つ
ことになることから、リード位置を求めることができ
る。
Based on the mask data as described above, the first sub-mask 6 set to cover the lead 603
FIG. 6B shows the calculated and plotted average value in the first submask 602 when 02 is scanned. That is, when the first sub-mask 602 is scanned in the positive direction of X, the luminance increases when the first sub-mask 602 is applied to the upper surface of the lead and has a maximum value. Can be.

【0031】次に、リード先端位置決定部30について
説明する。図4、図7(a)に示すように、リード位置
決定部27からのリード位置に設定された第2のマスク
データ記憶部28からの第2のマスク701内におい
て、第2のサブマスクデータ記憶部29からの第2のサ
ブマスク702を第2のサブマスク位置決定部401に
より部品12のリード603の長手方向と平行な矢印方
向にスキャンニングし、第2のサブマスク702に対応
する測定輝度データ格納メモリ205からの測定輝度デ
ータの和を第2の累積加算回路402で求め、第2の平
均計算回路403において、その累積加算数値を累積加
算数で割り算することにより第2のサブマスク702内
の平均値を求める。最小値検出回路404においては、
第2の平均計算回路403で求めた平均値の最小値を持
つ箇所を求める。
Next, the lead tip position determining unit 30 will be described. As shown in FIGS. 4 and 7A, in the second mask 701 from the second mask data storage unit 28 set at the read position from the read position determination unit 27, the second sub-mask data The second sub-mask 702 from the storage unit 29 is scanned by the second sub-mask position determining unit 401 in the direction of the arrow parallel to the longitudinal direction of the lead 603 of the component 12, and the measured luminance data corresponding to the second sub-mask 702 is stored. The sum of the measured luminance data from the memory 205 is obtained by the second cumulative addition circuit 402, and the second average calculation circuit 403 divides the cumulative addition value by the cumulative addition number, thereby obtaining the average in the second sub-mask 702. Find the value. In the minimum value detection circuit 404,
A portion having a minimum value of the average value obtained by the second average calculation circuit 403 is obtained.

【0032】上記のようなマスクデータに基づいて、リ
ード603上にかかるように設定した第2のサブマスク
702をスキャンさせたときの第2のサブマスク702
内の平均値を計算してプロットすると、図7(b)のよ
うになる。すなわち、第2のサブマスク702をYの負
の方向にスキャンさせると、第2のサブマスク702が
リード先端にかかったとき輝度が低くなり、最小値を持
つことになることから、リード先端位置を求めることが
できる。
The second sub-mask 702 when the second sub-mask 702 set so as to cover the lead 603 is scanned based on the above mask data.
FIG. 7 (b) is a graph when the average value is calculated and plotted. That is, when the second sub-mask 702 is scanned in the negative direction of Y, when the second sub-mask 702 is applied to the leading end of the lead, the luminance becomes low and has a minimum value. be able to.

【0033】次に、判定処理部34について説明する。
図5、図6(a)、図7(a)に示すように、リード位
置決定部27からのリード位置と、リード先端位置決定
部30からのリード先端位置から求めたリード間位置に
第3のマスクデータ記憶部31からの第3のマスク70
3を設定する。この第3のマスク703に対応する測定
輝度データ格納メモリ205からの測定輝度データの同
一グループ内の平均値をグループ平均計算回路501で
求める。相関係数計算回路502において、第3のマス
ク703に対応する測定輝度格納メモリ205からの測
定輝度データと、グループ平均計算回路501からのグ
ループ内平均値、サンプルデータ記憶部33からの良品
および不良品サンプルデータとの相関係数を、
Next, the judgment processing section 34 will be described.
As shown in FIGS. 5, 6A, and 7A, the third lead position is determined from the lead position from the lead position determination unit 27 and the lead position determined from the lead position from the lead position determination unit 30. Of the third mask 70 from the mask data storage unit 31
Set 3. An average value of the measured luminance data from the measured luminance data storage memory 205 corresponding to the third mask 703 in the same group is obtained by the group average calculation circuit 501. In the correlation coefficient calculation circuit 502, the measured brightness data from the measured brightness storage memory 205 corresponding to the third mask 703, the average value within the group from the group average calculation circuit 501, and the non-defective and non-defective data from the sample data storage unit 33. The correlation coefficient with good sample data is

【0034】[0034]

【数3】 (Equation 3)

【0035】で求める。判定回路503では、相関係数
計算回路502からの相関係数と、判定用しきい値記憶
部32に記憶してあるしきい値とを比較する。相関係数
がしきい値の範囲内か否かにより部品12の実装状態を
判定する。すなわち、(数3)より計算した良品サンプ
ルデータとの相関係数、不良品サンプルデータとの相関
係数、グループ平均データとの相関係数が判定用しきい
値の範囲内ならば部品12が正しく実装され、リード6
03間位置にブリッジ、異物等がないと判定し、(数
3)より計算した良品サンプルデータとの相関係数、不
良品サンプルデータとの相関係数、グループ平均データ
との相関係数が判定用しきい値の範囲外ならばリード6
03間位置にブリッジ、異物等があると判定する。
[0035] The determination circuit 503 compares the correlation coefficient from the correlation coefficient calculation circuit 502 with the threshold stored in the threshold storage unit 32 for determination. The mounting state of the component 12 is determined based on whether the correlation coefficient is within a threshold range. That is, if the correlation coefficient with the non-defective sample data, the correlation coefficient with the defective sample data, and the correlation coefficient with the group average data calculated from (Equation 3) are within the range of the determination threshold, the component 12 is Properly implemented, lead 6
It is determined that there is no bridge, foreign matter, etc. at the position between 03, and the correlation coefficient with the non-defective sample data, the correlation coefficient with the defective sample data, and the correlation coefficient with the group average data calculated from (Equation 3) Lead 6 if outside the threshold range
It is determined that there is a bridge, foreign matter, etc. at the position between 03.

【0036】このように、上記実施例によれば部品12
が実装されたプリント回路基板11をレーザ光16で全
面走査し、プリント回路基板11から反射して得られる
散乱光を反射ミラー20、fθレンズ19、ポリゴンミ
ラー17及び集光レンズ21を通して位置検出素子22
に導き、プリント回路基板11上の高さの凹凸に従って
変化する位置検出素子22上の散乱光の集光位置を検出
する。その位置信号S23から画像演算処理部24によ
りプリント回路基板11及びその上に実装された部品1
2の高さおよび輝度データを演算する。そして、リード
位置決定部27により部品12の実装位置に設定された
第1のマスク601内において、リード上面のスキャン
する第1のサブマスク602内の平均輝度の最大値より
リード603の位置を求め、リード先端位置決定部30
により、リード位置決定部27からのリード603上に
設定された第2のマスク701内において、リード上面
をスキャンする第2のサブマスク702内の平均輝度の
最小値よりリード603の先端位置を求め、判定処理部
34によりリード間位置に設定された第3のマスク70
3内の輝度データと、同一グループの平均輝度データ、
良品および不良品サンプルデータとの相関係数を計算す
ることにより、基板11の反り、部品12のずれ、リー
ド603の曲がりに影響されることなく、部品12のリ
ード603間のブリッジ、異物などを検査することがで
きる。
As described above, according to the above embodiment, the component 12
The entire surface of the printed circuit board 11 on which is mounted is scanned by the laser light 16, and the scattered light obtained by reflecting from the printed circuit board 11 is passed through the reflection mirror 20, the fθ lens 19, the polygon mirror 17, and the condenser lens 21 to detect the position 22
To detect the condensing position of the scattered light on the position detecting element 22 that changes according to the height irregularity on the printed circuit board 11. From the position signal S23, the printed circuit board 11 and the component 1 mounted thereon are processed by the image arithmetic processing unit 24.
The height and luminance data of 2 are calculated. Then, in the first mask 601 set at the mounting position of the component 12 by the lead position determining unit 27, the position of the lead 603 is obtained from the maximum value of the average luminance in the first sub-mask 602 for scanning the upper surface of the lead. Lead tip position determination unit 30
Thus, in the second mask 701 set on the lead 603 from the lead position determination unit 27, the tip position of the lead 603 is obtained from the minimum value of the average luminance in the second sub-mask 702 that scans the upper surface of the lead. Third mask 70 set at the position between leads by determination processing unit 34
3 and the average luminance data of the same group,
By calculating the correlation coefficient with the sample data of the good and defective products, the bridge between the leads 603 of the component 12 and the foreign matter are not affected by the warpage of the substrate 11, the displacement of the component 12, and the bending of the lead 603. Can be inspected.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の実装基板外観検査装置は、プリント回路基板及び実装
部品の輝度データを測定し、実装部品に設定された第1
のマスク内で、リード上面をスキャンする第1のサブマ
スク内の平均輝度の最大値よりリード位置を求め、さら
に第2のマスク内で、リード上面をスキャンする第2の
サブマスク内の平均輝度の最小値よりリード先端位置を
求め、リード間位置に設定された第3のマスク内の輝度
データと同一グループ平均データ及び良品、不良品サン
プルデータとの相関関係を計算により求め、この相関関
係と判定用しきい値とを比較しているため、プリント回
路基板の反り、部品位置ずれ、リード曲がり等に影響さ
れることなく、実装部品のリード間ブリッジ、異物の付
着等を検査できるという効果を有する。
As is apparent from the above description, the mounting board appearance inspection apparatus of the present invention measures the luminance data of the printed circuit board and the mounted components, and determines the first data set on the mounted components.
In the second mask, the lead position is determined from the maximum value of the average luminance in the first sub-mask that scans the upper surface of the lead, and the minimum value of the average luminance in the second sub-mask that scans the upper surface of the lead in the second mask The leading end position of the lead is obtained from the value, and the correlation between the luminance data in the third mask set at the position between the leads and the average data of the same group and the sample data of the good and defective products is obtained by calculation. Since the threshold value is compared with the threshold value, it is possible to inspect a bridge between leads of a mounted component, adhesion of a foreign substance, and the like without being affected by warpage of the printed circuit board, component displacement, lead bending, and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実装基板外観検査装置の実施例におけ
る検出部及び信号処理部の全体構成を示す図
FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a detection unit and a signal processing unit in an embodiment of a mounting board appearance inspection apparatus of the present invention.

【図2】実施例における画像演算処理部の詳細な構成を
示すブロック図
FIG. 2 is a block diagram illustrating a detailed configuration of an image calculation processing unit according to the embodiment.

【図3】実施例におけるリード位置決定部の詳細な構成
を示すブロック図
FIG. 3 is a block diagram showing a detailed configuration of a lead position determining unit in the embodiment.

【図4】実施例におけるリード先端位置決定部の詳細な
構成を示すブロック図
FIG. 4 is a block diagram showing a detailed configuration of a lead tip position determining unit in the embodiment.

【図5】実施例における判定処理部の詳細な構成を示す
ブロック図
FIG. 5 is a block diagram illustrating a detailed configuration of a determination processing unit according to the embodiment.

【図6】実施例における第1のマスクデータ記憶部、第
1のサブマスクデータ記憶部に記憶された第1のマス
ク、第1のサブマスクを説明するための説明図
FIG. 6 is an explanatory diagram for describing a first mask and a first sub-mask stored in a first mask data storage unit, a first sub-mask data storage unit according to the embodiment;

【図7】実施例における第2のマスクデータ記憶部、第
2のサブマスクデータ記憶部に記憶された第2のマス
ク、第2のサブマスクを説明するための説明図
FIG. 7 is an explanatory diagram for describing a second mask data storage unit, a second mask stored in a second sub-mask data storage unit, and a second sub-mask in the embodiment.

【図8】従来の実装基板外観検査装置の構成を示すブロ
ック図
FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of a conventional mounting board appearance inspection apparatus.

【図9】従来例におけるマスクの説明のための図FIG. 9 is a view for explaining a mask in a conventional example.

【符号の説明】 11 プリント回路基板 12 部品 13 搬送機構 15 レーザ光源 16 レーザ光 17 ポリゴンミラー 18a,18b,18c 反射鏡 19 fθレンズ 20 反射ミラー 21 集光レンズ 22 位置検出素子 24 画像演算処理部 25 第1のマスクデータ記憶部 26 第1のサブマスクデータ記憶部 27 リード位置決定部 28 第2のマスクデータ記憶部 29 第2のサブマスクデータ記憶部 30 リード先端位置決定部 31 第3のマスクデータ記憶部 32 判定用しきい値記憶部 33 サンプルデータ記憶部 34 判定処理部DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Printed circuit board 12 Parts 13 Transport mechanism 15 Laser light source 16 Laser light 17 Polygon mirror 18a, 18b, 18c Reflecting mirror 19 fθ lens 20 Reflecting mirror 21 Condensing lens 22 Position detecting element 24 Image processing unit 25 First mask data storage unit 26 First sub-mask data storage unit 27 Read position determination unit 28 Second mask data storage unit 29 Second sub-mask data storage unit 30 Lead end position determination unit 31 Third mask data Storage unit 32 Determination threshold storage unit 33 Sample data storage unit 34 Judgment processing unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林 栄一 神奈川県横浜市港北区綱島東四丁目3番 1号 松下通信工業株式会社内 (72)発明者 三宮 邦夫 神奈川県川崎市多摩区東三田3丁目10番 1号 松下技研株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−86548(JP,A) 特開 平3−245046(JP,A) 特開 平3−148051(JP,A) 特開 平3−148050(JP,A) 特開 平2−212705(JP,A) 特開 平2−110306(JP,A) 特開 平2−203258(JP,A) 特開 平1−219656(JP,A) 特開 平3−189772(JP,A) 特開 平3−229107(JP,A) 特開 平4−178508(JP,A) 特開 平4−268445(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Eiichi Hayashi 3-1, Tsunashimahigashi 4-chome, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Matsushita Communication Industrial Co., Ltd. (72) Kunio Sannomiya 3 Higashi-Mita, Tama-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture No. 10-1 Matsushita Giken Co., Ltd. (56) References JP-A-4-86548 (JP, A) JP-A-3-245046 (JP, A) JP-A-3-14851 (JP, A) JP-A-3-148050 (JP, A) JP-A-2-212705 (JP, A) JP-A-2-110306 (JP, A) JP-A-2-203258 (JP, A) JP-A-1-219656 (JP JP-A-3-189772 (JP, A) JP-A-3-229107 (JP, A) JP-A-4-178508 (JP, A) JP-A-4-268445 (JP, A)

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 部品が実装されたプリント回路基板を移
動させる搬送手段と、レーザ光源からのレーザ光を上記
プリント回路基板上に走査させるレーザ光走査手段と、
上記レーザ光の走査により上記プリント回路基板上から
反射して得られる散乱光を反射させて集光する散乱光反
射集光手段と、上記散乱光反射集光手段の集光位置に設
けられ集光位置に対応する位置信号を出力する位置検出
手段と、上記位置検出手段からの位置信号により上記プ
リント回路基板およびプリント回路基板上に実装された
部品の高さおよび輝度データを演算する画像演算処理手
段と、上記部品の実装位置にあらかじめ定めた任意サイ
ズの複数の第1のマスクのデータを格納する第1のマス
クデータ記憶手段と、上記第1のマスク内において、上
記部品のリード上面をリードの長手方向と垂直な方向に
移動する第1のサブマスクのデータを格納する第1のサ
ブマスクデータ記憶手段と、上記第1のマスク内を移動
する上記第1のサブマスク内の平均輝度の最大値よりリ
ード位置を求めるリード位置決定手段と、求められたリ
ード位置に設定する第2のマスクのデータを格納する第
2のマスクデータ記憶手段と、上記第2のマスク内にお
いて、上記部品のリード上面をリードの長手方向と水平
な方向に移動する第2のサブマスクのデータを格納する
第2のサブマスクデータ記憶手段と、上記第2のマスク
内を移動する上記第2のサブマスク内の平均輝度の最小
値よりリード先端を求めるリード先端位置決定手段と、
上記第1と第2のサブマスクから求められたリード間位
置に設定する第3のマスクデータ記憶手段と、良部品と
不良部品のサンプルデータを格納するサンプルデータ記
憶手段と、良否判定用の準備しきい値を格納する判定用
しきい値記憶手段と、上記第3のマスク内の輝度データ
と上記サンプルデータとの相関係数を計算して上記判定
用しきい値と比較し、上記プリント回路基板上の部品の
実装状態の良否を判定する判定処理手段とを備える実装
基板外観検査装置。
1. A conveying means for moving a printed circuit board on which components are mounted, a laser light scanning means for scanning a laser light from a laser light source on the printed circuit board,
Scattered light condensing means for reflecting and condensing scattered light obtained by being reflected from the printed circuit board by scanning of the laser light, and condensing provided at a condensing position of the scattered light condensing means Position detecting means for outputting a position signal corresponding to a position, and image calculation processing means for calculating height and luminance data of the printed circuit board and components mounted on the printed circuit board based on the position signal from the position detecting means First mask data storage means for storing data of a plurality of first masks of a predetermined size in a mounting position of the component; and, in the first mask, a lead upper surface of the component is connected to a lead upper surface. First sub-mask data storage means for storing data of a first sub-mask moving in a direction perpendicular to the longitudinal direction, and the first sub-mask moving in the first mask; Read position determining means for determining a read position from the maximum value of the average luminance in the mask, second mask data storing means for storing data of a second mask to be set at the determined read position, and the second mask And a second sub-mask data storage means for storing data of a second sub-mask for moving the upper surface of the lead of the component in a direction parallel to the longitudinal direction of the lead, and the second sub-mask for moving in the second mask. Lead tip position determining means for finding the lead tip from the minimum value of the average luminance in the sub-mask 2;
Third mask data storage means for setting the inter-lead position determined from the first and second submasks, sample data storage means for storing sample data of good parts and bad parts, and preparation for good / bad judgment A threshold value storing means for storing a threshold value; a correlation coefficient between the luminance data in the third mask and the sample data is calculated and compared with the threshold value for determination; A mounting board appearance inspection apparatus comprising: a determination processing unit configured to determine whether or not a mounting state of the upper component is good.
【請求項2】 レーザ光走査手段がポリゴンミラーとf
θレンズを備え、散乱光反射集光手段がプリント回路基
板上から反射して得られる散乱光を反射させる反射ミラ
ーと、上記反射ミラーにより反射され、上記fθレンズ
を介して上記ポリゴンミラーで反射された光を位置検出
手段に集光する集光レンズとを備える請求項1記載の実
装基板外観検査装置。
2. A laser beam scanning means comprising: a polygon mirror;
a reflecting mirror for reflecting the scattered light obtained by reflecting the scattered light from the printed circuit board on the printed circuit board, and reflected by the reflecting mirror, and reflected by the polygon mirror via the fθ lens. The mounting board appearance inspection device according to claim 1, further comprising: a condensing lens that condenses the emitted light on the position detection unit.
【請求項3】 リード位置決定手段が、第1のマスク内
を移動する第1のサブマスクの位置を決定する第1のサ
ブマスク位置決定手段と、上記第1のサブマスク内にお
いて、画像演算処理手段により演算された輝度データを
累積加算する第1の累積加算回路と、その累積加算数値
を累積加算数で割り算する第1の平均計算回路と、上記
平均計算回路で求めた第1のマスク内を移動する上記第
1のサブマスク内の輝度の平均値から最大値となる位置
を検出する最大値検出回路を備える請求項1又は請求項
2記載の実装基板外観検査装置。
3. A lead position determining means for determining a position of a first sub-mask moving within a first mask, and a first sub-mask position determining means for determining a position of the first sub-mask moving within the first mask; A first cumulative addition circuit for cumulatively adding the calculated luminance data, a first average calculation circuit for dividing the cumulative addition value by the cumulative addition number, and moving within the first mask obtained by the average calculation circuit The mounting board appearance inspection device according to claim 1, further comprising a maximum value detection circuit that detects a position at which a maximum value is obtained from an average value of luminance in the first sub-mask.
【請求項4】 リード先端位置検出手段が、第2のマス
ク内を移動する第2のサブマスク位置を決定する第2の
サブマスク位置決定手段と、上記第2のサブマスク内に
おいて、画像演算処置により演算された輝度データを累
積加算する第2の累積加算回路と、その累積加算数値を
累積加算数で割り算する第2の平均計算回路と、上記平
均計算回路で求めた第2のマスク内を移動する上記第2
のサブマスク内の輝度の平均値から最小値となる位置を
検出する最小値検出回路を備える請求項3記載の実装基
板外観検査装置。
4. A lead tip position detecting means for determining a second sub-mask position for moving in a second mask, and a second sub-mask position determining means for calculating the position of the second sub-mask by image processing. A second cumulative addition circuit for cumulatively adding the obtained luminance data, a second average calculation circuit for dividing the cumulative addition value by the cumulative addition number, and moving in the second mask obtained by the average calculation circuit. The second
4. The mounting board appearance inspection apparatus according to claim 3, further comprising a minimum value detection circuit that detects a position where the luminance becomes a minimum value from the average value of the luminance in the sub-mask.
【請求項5】 判定処理手段が、同一グループ内輝度デ
ータの平均値を計算するグループ平均計算回路と、第3
のマスク内において画像演算処理手段により演算された
輝度データと、サンプルデータ記憶手段からの良品及び
不良品サンプルデータ、上記グループ平均計算回路から
の平均値との相関係数を計算する相関係数計算回路と、
その相関係数と判定用しきい値とを比較し、プリント回
路基板上の部品の実装状態の良否を判定する判定回路を
備える請求項4記載の実装基板外観検査装置。
5. A group average calculation circuit for calculating an average value of luminance data in the same group, the determination processing means comprising:
Coefficient calculation for calculating a correlation coefficient between the luminance data calculated by the image calculation processing means within the mask, the non-defective and defective sample data from the sample data storage means, and the average value from the group average calculation circuit Circuit and
5. The mounting board appearance inspection apparatus according to claim 4, further comprising a determination circuit that compares the correlation coefficient with a determination threshold value and determines whether the components on the printed circuit board are mounted properly.
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