JP2789681B2 - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は電界又は熱応答性のある大面積になし得る液
晶デバイスの製造方法に関するものであり特に液晶中に
３次元網目状重合体を形成させることにより時分割駆動
による表示を可能ならしめる液晶デバイスの製造方法に
関するものである。

（従来の技術） パターニングされた電極層を有している少なくとも一
方が透明な２枚の基板の間に支持された調光層を有し、
前記調光層が液晶材料及び透明性固体成分から成り、前
記液晶材料が連続層を形成し、前記透明性固体物質が前
記液晶材料中に３次元ネットワーク状に存在している液
晶デバイスの製造方法に於いて、２枚の基板を貼り合わ
せし、位置合わせをした後に、次の圧着工程への移動中
または次の圧着工程で上下基板間でズレが生じ、位置合
わせが不正確となって歩留まりが悪くなる欠点があっ
た。

（発明が解決しようとする課題） 本発明者等は、２枚の基板を貼り合わせ、位置合わせ
した後に、２枚の基板間でズレが生じることのない液晶
デバイスの製造方法について研究を進めた結果、本発明
に到達した。

（課題を解決するための手段） 本発明は、パターニングされた電極層を有する少なく
とも一方が透明な２枚の基板の一方の基板に、 （ａ）液晶材料、 （ｂ）重合性組成物及び （ｃ）重合開始剤 を含有する調光層構成材料を塗布する第１工程と、調光
層構成材料から成る塗布面の上方からもう一方の基板を
重ね合わせて位置合わせを行ない、重合性組成物をスポ
ット状に硬化させ、２枚の基板間を仮固定させる第２工
程と、２枚の基板の両側から圧力をかけながら重合性組
成物を全体的に硬化させる第３工程とから成る、前記２
枚の基板の間に支持された調光層を有し、前記調光層が
液晶材料及び透明性固体成分から成り、前記液晶材料が
連続層を形成し、前記透明性固体物質が前記液晶材料中
に３次元ネットワーク状に存在している液晶デバイスの
製造方法に関するものである。

基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等であっ
ても良く、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチック
フィルムの如きものであっても良い。そして基板は、２
枚が対向して適当な間隔を隔て得るものである。また、
その少なくとも一方は、透明性を有し、その２枚の間に
挾持される調光層を外界から視覚させるものでなければ
ならない。但し、完全な透明性を必須とするものではな
い。もし、この液晶デバイスが、デバイスの一方の側か
ら他方の側へ通過する光に対して作用させるために使用
される場合は、２枚の基板は共に適宜な透明性が与えら
れる。この基板には、透明，不透明の適宜なパターニン
グ電極が、その全面または部分的に配置されている。

但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性を有する材
料の場合は堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定
して、本発明の製造方法を用いることが出来る。

２枚の基板間には液晶材料及び透明性固体成分から成
る調光層が介在される。尚、２枚の基板間には、通常、
周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを
介在させるのが望ましい。

スペーサーとしては、例えばマイラー，アルミナ等種
々の液晶セル用のものを用いることが出来るが、ロッド
タイプのガラスファイバーが好適である。

基板間隔の均一性を得るためにはスペーサーが基板面
に均一に分布させることが重要であり、その為にスペ
ーサーを前記調光層構成材料に懸濁、分散させ、スペー
サーが分離又は沈降しない間に、その懸濁又は分散液を
基板の全面に押し広げる方法、又はあらかじめスペー
サーを基板上に均一に散布又は基板上にスペーサー用突
起物を設けておく方法がある。あらかじめ散布しておく
方法としては、例えば、スペーサーを低沸点で比較的粘
性の高いエタノール等の低沸点溶媒に懸濁させ、その懸
濁液を基板上に塗布した後、溶媒を乾燥させる方法があ
り、印刷等の方法で基板面にスペーサー用突起物を設け
る方法も効果的である。

液晶材料は、単一の液晶性化合物であることを要しな
いのは勿論で、２種以上の液晶化合物や液晶化合物以外
の物質も含んだ混合物であっても良く、通常この技術分
野で液晶材料として認識されるものであれば良く、その
うちの正の誘電率異方性を有するものが好ましい。用い
られる液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液
晶、コレステリック液晶が好ましい。

液晶材料としては、例えば、４−置換安息香酸４′−
置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボ
ン酸４′−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキ
サンカルボン酸４′−置換ビフェニルエステル、４−
（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸
４′−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘ
キシル）安息香酸４′−置換フェニルエステル、４−
（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４′−置換シクロ
ヘキシルエステル、４−置換４′−置換ビフェニル、４
−置換フェニル−４′−置換シクロヘキサン、４−４″
−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル４′−置換シ
クロヘキサン、２−（４−置換フェニル）−５−置換ピ
リミジンなどを挙げることができる。

液晶材料は、２枚の基板間で連続相を形成することを
要する。液晶材料成分の比率が低いと連続層を形成しに
くい。調光層成分に占める液晶材料の比率は、好ましく
は60重量％以上であり、より一層好ましくは70〜90重量
％である（以下、％は重量％を意味する。）。

重合性組成物としては、高分子形成性モノマー若しく
はオリゴマーが挙げられ、硬化によって液晶材料の連続
相中に３次元ネットワークを形成するものであれば良
い。

そのような高分子形成性モノマーとしては、例えば、
スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビ
ニルベンゼン：置換基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチ
ル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、
シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシ
エチル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリ
シジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピ
ル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルア
ミノエチル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有す
るアクリレート、メタクリレート又はフマレート；エチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブチレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチ
レングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロ
ールプロパン、グリセリン及びペンタエリスリトール等
のモノ（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリレ
ート；酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニル、ア
クリロニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シ
クロヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタ
レート、２−、３−又は４−ビニルピリジン、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒド
ロキシエチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエ
ーテル化合物、ネオペンチルグリコール１モルに２モル
以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイ
ドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレン
オキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得
たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビス
フェノールA1モルに２モル以上のエチレンオキサイド若
しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールの
ジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート１モルとフェニルイソシアネート若し
くはｎ−ブチルイソシアネート１モルとの反応生成物、
ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等
を挙げることができるが、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリ
プロピレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、トリス（アクリルオキシエチル）イソシアネヌレ
ートが特に好ましい。

同様に、高分子形成性オリゴマーとしては、例えば、 （Ｉ）ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に（メタ）アク
リル酸、更に場合によりヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪酸を
エステル化させて得たエポキシ（メタ）アクリレートあ
るいはその長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポキシ
（メタ）アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸ジ無
水物、無水トリメリット酸を付加して得たカルボキシル
基を有するエポキシ（メタ）アクリレートの如きエポキ
シ（メタ）アクリレート及びその変性物。

（２）英国特許第1,147,732号明細書（特開昭51−37193
号公報及び特開昭51−138797号公報）に記載されている
ようなジイソシアナート化合物とポリオールとを予め反
応させて得られる末端イソシアナート化合物に更にβ−
ヒドロキシアルキルアクリレート及び／又はメタクリレ
ートを反応せしめることによって得られる分子内に２個
以上のアクリロイロキシ基及び／又はメタクリロイロキ
シ基をもった付加重合性化合物。

（３）特公昭47−3262号公報に記載されているような無
水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、あるいは無
水ヘット酸のような二塩基酸無水物とグリシジルアクリ
レート及び／又はグリシジルメタクリレートとを開環重
合して得られるアクリロイロキシ基及び／又はメタクリ
ロイロキシ基を多数ペンダントにもった直線状ポリエス
テル化合物。

（４）特公昭47−23661号公報に記載されているような
隣接炭素原子に少くとも３個のエステル化可能なヒドロ
キシル基を有する多価アルコールと、アクリル酸及び／
又はメタクリル酸と、ジカルボン酸およびその無水物か
らなる群から選択されたジカルボン酸類との共エステル
化によって製造された重合可能なエステル類。

（５）英国特許第628,150号明細書、米国特許第3,020,2
55号明細書および月刊誌「マクロモレキュールズ」第４
巻、第５号、第630〜632頁（1971年）に記載されている
ごときメラミンまたはベンゾグアナミンにホルムアルデ
ヒド、メチルアルコールおよびβ−ヒドロキシアルキル
アクリレート（またはメタクリレート）等を反応せしめ
て得られるポリアクリル（またはポリメタクリル）変性
トリアジン系樹脂。

（6a）米国特許第3,377,406号明細書に記載されている
ようなポリヒドロキシ化合物のグリシジルエーテル化物
にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られる
不飽和ポリエステル樹脂。

（７）米国特許第3,455,801号明細書及び米国第3,455,8
02号明細書に記載されている一般式 （ここにおいてＲは炭素原子数２〜10個の２価の飽和又
は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ′は炭素原子数２
〜10個の２個の飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ″は水
素原子又はメチル基を示し、ｎは１〜14の整数であ
る。） で示される両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリロ
リロキシ基を有するポリエステル化合物。

（８）米国特許第3,483,104号明細書及び米国特許第3,4
70,079号明細書に記載されている一般式 （ここにおいてＡは−Ｏ−又は−NH−を示し、１分子中
で少なくとも２個は−NH−であるものとし、Ｒは二価の
飽和脂肪族または不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ′
は二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素
を示し、Ｒ″は水素原子又はアルキル基を示し、ｎは１
〜14の整数であるものとする。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（９）特公昭48−37246号明細書に記載されている一般
式 （ここにおいてＸは水素原子又はアシル基を示し、Ｒは
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素基
を示し、Ｒ′は二価の脂肪族炭化水素基を示し、R²は水
素原子又はアルキル基を示すものとし、Ａは−Ｏ−又
は、−NH−を示し、１分子中で少なくとも２個は−NH−
であるものとし、ｎは１〜14の整数である。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（10）米国特許第3,485,732号明細書に記載されている
ような飽和又は不飽和の二塩基酸又はその無水物、ある
いは必要に応じてそれらとジオールとを反応させて得ら
れる両末端にカルボキシル基を有する化合物に更にグリ
シジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートを
反応せしめることにより得られるジアクリル変性（又は
ジメタクリル変性）ポリエステル化合物。

（11）特公昭48−12075号明細書に記載されているごと
き分子中に一般式、 （ここにおいてＸはアシル基又はウレタン基を示し、Ｒ
は、H,CH₃,Cl又はCNであるものとする。） で示されるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エステ
ル結合を有する（メタ）アクリル共重合体に基づく化合
物。

等を挙げることができるが、カプロラクトン変性ヒドロ
キシピパリン酸エステルネオペンチルグリコールジアク
リレートが特に好ましい。

重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製
「ダロキュア1173」）、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン（チバ・ガイギー社製「イルガキュア18
4」）、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製
「ダロキュア1116」）、ベンジルジメチルケタール（チ
バ・ガイギー社製「イルガキュア651」）、２−メチル
−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリ
ノプロパノン−１（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
907」）、2,4−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製
「カヤキュアDETX」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル（日本化薬社製「カヤキュアEPA」）との混合物、
イソプロピルチオキサントン（ワードブレキンソップ社
製「カンタキュア−ITX」）とｐ−ジメチルアミノ安息
香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状である２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オンが液晶材料、高分子形成性モノマー若しくはオリ
ゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。

調光層構成材料に、任意成分として、連鎖移動剤、光
増感剤、染料、架橋剤等を、前記モノマー、オリゴマー
等の種類や、所望の液晶デバイスの性能に合わせて適宜
併用することができる。

特に連鎖移動剤の併用は、モノマー又はオリゴマーの
種類によっては極めて効果的で、樹脂の架橋度が高くな
り過ぎるのを防止し、それによって、液晶材料が電界に
応じて応答し易くされ、低電圧駆動性が発揮される。連
鎖移動剤の好例は、プタンジオールジチオプロピオネー
ト、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピ
オネート）、トリエチレングリコールジメルカプタン等
々である。連鎖移動剤の添加量は、使用するモノマー又
はオリゴマーの種類によっても異なるが、あまりに少な
いと効果が薄く、多過ぎるとデバイスの不透明度が低下
して表示のコントラストが悪くなる傾向にあるので好ま
しくない。その有効量は、モノマー又はオリゴマーに対
して0.05〜30重量％と考えられるが、0.1〜20重量％が
好適である。

調光層構成材料を塗布した一方の基板に他方の基板を
重ね合せ、位置合せを行う為には一般に液晶空セル製作
用の重ね合せ位置合せ装置を用いることが出来る。

しかし調光層構成材料が基板間全面にわたって介在し
ている為重ね合せ・位置合せ後に応々にして上下基板が
ずれる事が多い。

本発明者等は、重ね合せ・位置合せした後、その状態
で調光層構成材料中の重合性組成物をスポット状に硬化
させることにより上下基板のずれを防止できる事を見出
し、本発明に到達した。

スポットの大きさ及び数をコントロールすることによ
り仮固定するとともにスポット部分は次工程の圧着時に
所望の基板間隔まで圧縮することが可能である。

又本発明によるスポット状硬化部分と次工程での硬化
部分では同じ調光層構成材料を使用しているためスポッ
ト状硬化条件と次工程の硬化条件を同じくすることによ
りスポット状硬化部分と他の硬化部分との境界での視差
が見えなくすることが出来る。

スポットの大きさは重合体の濃度，硬度や基板との接
着性、基板間隔の厚みによって適宜決めることが出来
る。重合体が基板と接着性がよく、硬度が硬い場合はス
ポットの大きさは小さくて良く逆の場合は大きくする必
要がある。

概略0.2〜20mmの径のスポットが適切である。又スポ
ットの数は基板の大きさや基板間隔の厚さによって適宜
決めることが出来、一般に100cm²あたり１〜２個設ける
ことが好ましい。

スポット状に硬化させる手段としては、熱重合の場合
熱線ビームやレーザー等の方法が可能であるが硬化時間
を考慮すると電子線や紫外線による方法が好適である。
特に紫外線による方法がより好ましい。

紫外線によりスポット状に硬化するためには基板面の
スポット部分以外を遮蔽し、通常の紫外線照射装置を用
いることが出来るが、光ファイバー等を用いた紫外線ス
ポット照射装置を用いることが好適である。即ち、紫外
線スポット照射装置に多分岐ライトガイドを取り付けて
複数ケ所のスポット部分に紫外線を同時に照射してもよ
いし、或は紫外線スポット照射装置から一ケ所のスポッ
ト部分に紫外線を照射した後に、順次に別のスポット部
分に紫外線を照射してもよい。

基板にかける圧力は、基板間に介在する調光層構成材
料の性状によって決められる。特に前記調光層構成材料
の粘度により、圧力の大きさが左右される。高粘度なも
のほど必要とする圧力は大きい。

操作上、圧力が低い方が有利であるが、そのような目
的のために種々の減粘化方法をとることが出来る。例え
ば、温度を上げること、又、液晶デバイスの性能を阻わ
ない範囲で調光層構成材料に極性の小さい低分子量のモ
ノアクリレート等を添加することが有効である。

圧力のかけ方は、基板面全体に均等にかかるようにす
ることが重要であり、そのように工夫された種々の機械
を使うことが出来る。

また、本発明の液晶デバイスの製造方法において、調
光層構成材料から成る塗布面の上方から重ね合わせる基
板が、該塗布面に一部接触した時点から該塗布面に該基
板の全面が接触するまでの間に、間欠的に該基板を該塗
布面に接近させることにより、調光層中に気泡が混入す
ることを有効に防止することができる。更に調光層構成
材料から成る塗布面に重ね合わせる基板を、１〜10秒毎
に１〜50μm/秒で１〜５秒間、該塗布面に接近させる方
法が、特に有効である。

これらの時間間隔及び速度の設定にあたっては、作業
効率を考慮し、可能な限り短かく又は速いことが望まし
い。

重合性組成物を重合硬化させる方法は通常知られてい
る硬化方法であればよく、例えば熱重合放射線重合電子
線重合等があげられるが、紫外線照射による重合硬化方
法が好適である。

紫外線重合硬化方法において、硬化温度を前記混合
溶液の液晶相−等方性液体相の相転移温度より高温に設
定し、前記混合溶液のUV吸収波長や重合性組成物に応
じて、又、基板間隔の厚みにより、重合性に差が生じな
い程度の強い紫外線をパルス状に照射することにより、
基板間に介在し液晶材料の連続層中に生成する透明性固
体成分の３次元ネットワークの網目の大きさを均一化及
び大きさのコントロールをし、もって明瞭なしきい値電
圧と急峻性をもった液晶表示素子即ち、時分割駆動表示
できる液晶デバイスを製造することが出来る。

（作用） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、一方の基
板に調光層構成材料を塗布し、他方を重ね合せ・位置合
せを行なった時点で重合性組成物をスポット部分硬化
し、仮固定することにより次工程の圧着・硬化時迄の間
における位置ずれを防止し、高精度な位置合せ状態を保
ったまま圧着，硬化が可能となる。即ち、パターニング
電極の上下基板間でずれのない高性能な、液晶中に重合
体を３次元網目状に分散させた液晶デバイスを提供でき
る。さらにマトリックス電極を有する基板を用いる事に
よって時分割駆動が正確に出来る高性能な液晶デバイス
を提供できる。

（実施例） グラスファイバー製のスペーサー（平均ファイバー径
12.0μ）0.2gをエタノール100ccに懸濁させた溶液を20
×20cm角のITOのマトリックス電極を有するガラス基板
上に散布する。散布後エタノールを蒸発乾固させる。

液晶組成物（Ａ） 転移温度 68.5℃（Ｎ−Ｉ） ＞−25℃（Ｃ−Ｎ） 屈折率 n_e＝1.787 しきい値電圧 1.15V n_o＝1.533 20℃の粘度 59c.p. Δ_n＝0.254 誘電率異方性 Δ_ε＝26.9 次いで、液晶材料として液晶組成物（Ａ）80重量％、
重合性化合物としてポリプロピレングリコール変性ペン
チルグリコールジアクリレート（サトマー社製Ｃ−900
3）19.6重量％及重合開始剤として２−ヒドロキシ−２
−メチル１−フェニル−プロパン−１−オン0.4重量％
からなる調光層構成材料をその基板面に、調光層構成材
料の液晶相から等方性液体相への相転移温度より２℃高
い35℃の等方性液体状態で塗布する。次いで他方のマト
リックス電極を有するガラス基板を気泡巻き込みのない
ようゆっくりと貼り合せ、位置合せ装置を用い位置合せ
を行う。位置合せ終了状態において基板の周端近い部分
に各スポットの大きさが8mmの径を有するように紫外線
スポット照射装置を用いて紫外線照射しスポット部分硬
化を行なった。この時の紫外線照射は強度60mW/cm²で15
秒間であった。４点でスポット状に硬化を行ったところ
上下基板間は、力を加えてもズリが生じなかった。次い
で圧着治具を用い35℃で圧力を加えながら上，下基板の
圧着を行なった。加えた圧力及び時間は0.26kg/cm²,3分
間であった。その状態で加圧した側の反対側の透明ガラ
ス面を通して60mW/cm²強度の紫外線を15秒間照射したと
ころ、充分均一な白濁したデバイスが得られた。

得られた液晶デバイスの上下電極基板の位置ずれは10
μｍであり調光層の厚みは12.3±0.5μｍと均一であり
スポット状に固定した所も同じ厚み範囲に入っていた。

同様にくり返し作成したデバイスでの位置ずれはいず
れも25μ以下であり、調光層の厚みも、所望のものを得
ることが出来た。

（比較例） 上記実施例においてスポット状硬化しないこと以外は
上記実施例と同様に液晶デバイスを作成した。この場合
上下基板の位置ずれは108μｍとなった。

（発明の効果） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば調光層の厚
みの均一性を保ちながらパターニング電極の上下基板間
の位置合せが実用上充分な精度をもった液晶デバイスを
効率よく提供することが出来る。

従って本発明の液晶デバイスの製造方法を用いること
によって、視野遮断のスクリーン、採光調節のカーテン
以外に文字，図形の大型表示板等に用いる時分割駆動等
の高度な表示を可能とする液晶デバイスを効率的に製造
することが出来る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−198725（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−272689（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−65723（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−54918（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−267721（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G02F 1/1333 G02F 1/13 101

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】パターニングされた電極層を有する少なく
   とも一方が透明な２枚の基板の一方の基板に、 （ａ）液晶材料、 （ｂ）重合性組成物及び （ｃ）重合開始剤 を含有する調光層構成材料を塗布する第１工程と、 調光層構成材料から成る塗布面の上方からもう一方の基
   板を重ね合わせて位置合わせを行ない、重合性組成物を
   スポット状に硬化させ、２枚の基板間を仮固定させる第
   ２工程と、 ２枚の基板の両側から圧力をかけながら重合性組成物を
   全面的に硬化させる第３工程と から成る、前記２枚の基板の間に支持された調光層を有
   し、前記調光層が液晶材料及び透明性固体成分から成
   り、前記液晶材料が連続層を形成し、前記透明性固体物
   質が前記液晶材料中に３次元ネットワーク状に存在して
   いる液晶デバイスの製造方法。
2. 【請求項２】重合性組成物が紫外線硬化型樹脂組成物で
   ある請求項１記載の液晶デバイスの製造方法。
3. 【請求項３】スポット状の硬化を紫外線照射手段によっ
   て行なう請求項１または２記載の液晶デバイスの製造方
   法。
4. 【請求項４】スポット部分硬化に紫外線スポット照射装
   置を用いる請求項１、２または３記載の液晶デバイスの
   製造方法。
5. 【請求項５】正の誘電率異方性を示す液晶材料を用いる
   請求項１、２、３または４記載の液晶デバイスの製造方
   法。
6. 【請求項６】液晶材料が調光層構成材料の60重量％以上
   を占める請求項１、２、３、４または５記載の液晶デバ
   イスの製造方法。
7. 【請求項７】重合性組成物の硬化温度条件が、調光層構
   成材料の液晶相から等方性液体相への相転移温度よりも
   高い温度である請求項１、２、３、４、５または６記載
   の液晶デバイスの製造方法。