JP2570357B2 - 半導体発光装置 - Google Patents
半導体発光装置Info
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- H01S5/22—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure
- H01S5/2205—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure comprising special burying or current confinement layers
- H01S5/2222—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure comprising special burying or current confinement layers having special electric properties
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体反抗装置に係り,特に面発光型の半導体レーザ
に関し, レーザ光の偏波面を安定ならしめることを目的とし, (1)面発光型の半導体レーザであって,楕円形の活性
層を有することを特徴とする半導体発光装置,または (2)面発光型の半導体レーザであって,円形の活性層
と該活性層の両側に形成された溝とを有することを特徴
とする半導体発光装置,をもって構成とする。
に関し, レーザ光の偏波面を安定ならしめることを目的とし, (1)面発光型の半導体レーザであって,楕円形の活性
層を有することを特徴とする半導体発光装置,または (2)面発光型の半導体レーザであって,円形の活性層
と該活性層の両側に形成された溝とを有することを特徴
とする半導体発光装置,をもって構成とする。
本発明は半導体発光装置に係り,特に面発光型の半導
体レーザに関する。
体レーザに関する。
コヒーレント光通信方式では,レーザ光の偏波面の安
定なレーザが要求されている。このため,かかるレーザ
を開発する必要がある。
定なレーザが要求されている。このため,かかるレーザ
を開発する必要がある。
コヒーレント光通信方式では高速変調時において単一
波長発振するレーザが望まれており,かかるレーザの一
つとして短共振器レーザがある。短共振器レーザの一つ
の構造として面発光型の半導体レーザがあり,第3図に
その構造を示す。
波長発振するレーザが望まれており,かかるレーザの一
つとして短共振器レーザがある。短共振器レーザの一つ
の構造として面発光型の半導体レーザがあり,第3図に
その構造を示す。
基板1の上に活性層2,埋込層3,電流阻止層4,クラッド
層5が形成されている。従来構造では活性層が円形であ
る。
層5が形成されている。従来構造では活性層が円形であ
る。
かかる構造では屈折率分布が円対称で,レーザ光の偏
波面を安定に保つことができなかった。そのため送信側
のレーザ光の偏波面が安定せず,受信側では信号の検波
が不可能であった。
波面を安定に保つことができなかった。そのため送信側
のレーザ光の偏波面が安定せず,受信側では信号の検波
が不可能であった。
従って,レーザ光の偏波面を安定化させ,受信側での
検波を可能ならしめるという課題があり,本発明はかか
る課題に応えるものである。
検波を可能ならしめるという課題があり,本発明はかか
る課題に応えるものである。
(1)面発光型の半導体レーザであって,楕円形の活性
層を有することを特徴とする半導体発光装置,または (2)面発光型の半導体レーザであって,円形の活性層
と該活性層の両側に形成された溝とを有することを特徴
とする半導体発光装置 により,上記課題に応えることができる。
層を有することを特徴とする半導体発光装置,または (2)面発光型の半導体レーザであって,円形の活性層
と該活性層の両側に形成された溝とを有することを特徴
とする半導体発光装置 により,上記課題に応えることができる。
面発光型の半導体レーザの活性層は埋込構造となって
おり,活性層に垂直にレーザ光が出て来るのであるが,
活性層を楕円形にすると活性層を含む面上において楕円
の長軸方向と短軸方向で屈折率分布が異なることから,
一度安定した偏波が生じるとその偏波面は安定に保たれ
る。
おり,活性層に垂直にレーザ光が出て来るのであるが,
活性層を楕円形にすると活性層を含む面上において楕円
の長軸方向と短軸方向で屈折率分布が異なることから,
一度安定した偏波が生じるとその偏波面は安定に保たれ
る。
活性層の近くの両側に溝を形成しても同様の効果が得
られる。即ち光は活性層だけにとどまらず,その周囲に
いくらか染み出るので,その領域に溝を形成すると活性
層を含む面上において溝を結ぶ方向とそれに垂直な方向
で屈折率分布が異なり,一度安定した偏波を生じるとそ
の偏波面は安定に保たれる。
られる。即ち光は活性層だけにとどまらず,その周囲に
いくらか染み出るので,その領域に溝を形成すると活性
層を含む面上において溝を結ぶ方向とそれに垂直な方向
で屈折率分布が異なり,一度安定した偏波を生じるとそ
の偏波面は安定に保たれる。
以下本発明の実施例について説明する。
第1図に実施例(1)を示す。n−Inp基板1上にInG
aAsPの活性層2,p−InPの埋込層3,n−InPの電流阻止層4,
p−InPのクラッド層5を形成する。活性層2は楕円形に
パターニングする。基板とクラッド層に電極6,7を取り
つける。発光領域(活性層)上の基板をほとんど発光領
域近くまで掘削する。
aAsPの活性層2,p−InPの埋込層3,n−InPの電流阻止層4,
p−InPのクラッド層5を形成する。活性層2は楕円形に
パターニングする。基板とクラッド層に電極6,7を取り
つける。発光領域(活性層)上の基板をほとんど発光領
域近くまで掘削する。
楕円形の発光領域から出て来るレーザ光は偏波面が安
定に保たれる。
定に保たれる。
第2図に実施例(2)を示す。n−InP基板1上にInG
aAsPの活性層2,p−InPの埋込層3,n−InPの電流阻止層4,
p−InPのクラッド層5を形成する。活性層2は円形にパ
ターニングする。基板とクラッド層に電極6,7を取りつ
ける。発光領域(活性層)上の基板をほとんど発光領域
近くまで掘削する。
aAsPの活性層2,p−InPの埋込層3,n−InPの電流阻止層4,
p−InPのクラッド層5を形成する。活性層2は円形にパ
ターニングする。基板とクラッド層に電極6,7を取りつ
ける。発光領域(活性層)上の基板をほとんど発光領域
近くまで掘削する。
クラッド層側から活性層の両側に溝を堀り,二つの溝
が活性層を挟む深さまで堀り下げる。
が活性層を挟む深さまで堀り下げる。
レーザ光は活性層から周囲に染み出して溝の影響を受
け,屈折率分布が円対称からずれて,偏波面が安定に保
たれる。
け,屈折率分布が円対称からずれて,偏波面が安定に保
たれる。
以上説明した様に,本発明によれば,偏波面を安定に
保つ面発光レーザが実現でき,コヒーレント光通信方式
の発展に寄与する。
保つ面発光レーザが実現でき,コヒーレント光通信方式
の発展に寄与する。
第1図は実施例(1), 第2図は実施例(2), 第3図は従来の面発光レーザ である。図において, 1は基板, 2は活性層, 3は埋込層, 4は電流阻止層, 5はクラッド層, 6,7は電極, 8は溝 を表す。
Claims (2)
- 【請求項1】面発光型の半導体レーザであって,楕円形
の活性層(2)を有することを特徴とする半導体発光装
置。 - 【請求項2】面発光型の半導体レーザであって,円形の
活性層(2)と該活性層の両側に形成された溝(8)と
を有することを特徴とする半導体発光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2227188A JP2570357B2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 半導体発光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2227188A JP2570357B2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 半導体発光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01196884A JPH01196884A (ja) | 1989-08-08 |
JP2570357B2 true JP2570357B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=12078100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2227188A Expired - Lifetime JP2570357B2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 半導体発光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2570357B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2783086B2 (ja) * | 1992-09-25 | 1998-08-06 | 日本電気株式会社 | 半導体レーザ装置および光接続装置 |
US5345462A (en) * | 1993-03-29 | 1994-09-06 | At&T Bell Laboratories | Semiconductor surface emitting laser having enhanced polarization control and transverse mode selectivity |
US5778018A (en) * | 1994-10-13 | 1998-07-07 | Nec Corporation | VCSELs (vertical-cavity surface emitting lasers) and VCSEL-based devices |
US6967985B2 (en) | 2002-02-12 | 2005-11-22 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Surface emission semiconductor laser device |
JP4687064B2 (ja) * | 2004-10-22 | 2011-05-25 | ソニー株式会社 | 面発光型半導体レーザ素子 |
JP2014017448A (ja) * | 2012-07-11 | 2014-01-30 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
-
1988
- 1988-02-02 JP JP2227188A patent/JP2570357B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01196884A (ja) | 1989-08-08 |
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