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JP2564080B2 - 排水処理方法および排水処理装置 - Google Patents

排水処理方法および排水処理装置

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JP2564080B2
JP2564080B2 JP255493A JP255493A JP2564080B2 JP 2564080 B2 JP2564080 B2 JP 2564080B2 JP 255493 A JP255493 A JP 255493A JP 255493 A JP255493 A JP 255493A JP 2564080 B2 JP2564080 B2 JP 2564080B2
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sludge
aeration tank
tank
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bacillus subtilis
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和幸 山嵜
喜弘 浜口
俊二 細田
和之 坂田
聡 西尾
貴雅 内山
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Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体工場、液晶工
場および各種の産業施設等で多量に使用されている毒性
の高い現像液や界面活性剤を含有する排水を希釈するこ
となく生物処理(バイオリアクター)で合理的かつ経済的
に処理することができる排水処理方法および排水処理装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体工場、液晶工場および各
種の産業施設などから排出される現像液含有排水は、そ
の主成分がテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ド(以下、「ＴＭＡＨ」という。)の場合、その毒性が高
く、さらにＴＭＡＨのほか多量の界面活性剤を含有して
いるので、微生物による生物学的処理が難しい。
【０００３】このため、その排水を業者に依頼して他の
所定場所に設置している焼却設備まで輸送し、そこで焼
却処分しているか、または、その現像液含有排水を生物
処理可能な濃度まで希釈して自社内で生物処理してい
た。
【０００４】従来、上記ＴＭＡＨを含む現像液含有排水
を生物処理可能な程度に希釈して生物処理法で排水処理
する排水処理装置としては、例えば図３に示したような
ものがある。図３に示す排水処理装置において、現像液
含有排水は調整槽１に流入する。調整槽１には散気管１
０が設置されている。そして、ブロワー８からの曝気用
空気を、調整槽１に設置した散気管１０から吹き出させ
て、調整槽１に流入した現像液含有排水の水質および水
量を調整する。水量および水質が調整された現像液含有
排水は調整槽ポンプ７によって活性炭吸着塔２に移送さ
れ、主として現像液含有排水中の界面活性剤が活性炭に
より吸着される。活性炭により吸着処理された現像液含
有排水は希釈槽３に導入され、あらかじめ希釈水貯留槽
１３に貯留されていた希釈水が希釈水貯留槽ポンプ１２
によって希釈槽３に注入され、上記現像液含有排水が希
釈される。その際の希釈倍率は現像液含有排水中のＴＭ
ＡＨ濃度によって決定されるが、一般的に１０倍程度に
設定している工場が多い。もちろん、基本的には希釈倍
率はＴＭＡＨが生物処理可能な濃度まで希釈されるよう
に決定されている。希釈槽３で生物処理可能な濃度まで
希釈された現像液含有排水は、中和槽４において中和剤
としての酸が添加されて中和される。現像液含有排水に
酸が添加される理由は、現像液そのものがアルカリ性で
あるので、希釈槽３において現像液含有排水が希釈され
た後も中和剤としての酸が必要であるからである。中和
槽４における撹拌は散気管１０から吹き出した空気によ
って行われる。
【０００５】図３において、５は曝気槽である。現像液
含有排水中のＴＭＡＨは主としてこの曝気槽５で処理さ
れる。ブロワー８からの空気が散気管１０から吹き出る
ことによって、曝気槽５内が好気性に維持される。曝気
槽５内には、好気性微生物が生息し繁殖している。
【０００６】また、図３において、１３５は尿素の貯槽
である尿素貯槽であり、１３７はリン酸の貯槽であるリ
ン酸貯槽である。上記尿素貯槽１３５には、尿素貯槽ポ
ンプ１３６が設置されており、上記リン酸貯槽１３７に
は、リン酸貯槽ポンプ１３８が設置されている。上記尿
素貯槽１３５から上記曝気槽５に尿素が供給され、上記
リン酸貯槽１３７から上記曝気槽５にリン酸が供給され
る。
【０００７】ＴＭＡＨは、毒性があり生物処理しにくい
ので、曝気槽５の単位容積当たりに対するＴＭＡＨ容積
負荷は小さな値に制限される。このため、曝気槽５の容
積を比較的大きくする必要がある。
【０００８】前記したように、ＴＭＡＨは微生物にとっ
ては毒性がある物質であるので、尿素やリン酸等の栄養
剤を、無害な有機物などの処理に比べて多目に添加しな
がら生物処理する必要がある。また、ＴＭＡＨは毒性が
ある物質であるので、曝気槽５にかける１日当たりＴＭ
ＡＨ容積負荷は、具体的には、曝気槽１Ｍ3(立方メート
ル)当たりＴＭＡＨ１キログラム以下程度にする必要が
ある。一般的には、流入曝気槽負荷が１キログラム／立
方メートル以下の場合、排水量に比較して大きな排水処
理設備と言える。
【０００９】図３において、６は沈澱槽であり、好気性
微生物と上澄み液を分離するための槽である。沈澱槽６
には汚泥返送ポンプ９が隣接して設置されており、沈澱
槽６に沈澱した好気性微生物を曝気槽５に返送してい
る。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の現像液含有排水の排水処理方法および排水処理装置
は、以下のような種々の問題点がある。
【００１１】まず、現像液含有排水を焼却処分する方法
については、排水の処分としては確実であるが、焼却設
備までの輸送費および輸送上の交通事故等の危険性と焼
却のための燃料などの焼却費用がかかり、結果として処
理費が高くつくという問題がある。
【００１２】また、焼却処理の場合、半導体工場や液晶
工場からの排水量が少ない規模の時期にはさほど問題に
ならなかったが、今日の半導体工場や液晶工場のように
規模が大きくなり、１日当たりの現像液含有排水の排水
量が多量になると、焼却設備の建設費が高くつくという
問題が生じる。しかも、別の場所に設置されている焼却
設備まで輸送する費用が格段に増大するという問題も生
じる。そして、排水そのものを重油などの燃料を使用し
て焼却する場合には、焼却設備から発生する大気汚染の
対策や焼却設備の管理および燃料代等のコストが高くな
るという問題が発生する。その上に、焼却処理自体がエ
ネルギー浪費するものであり、今日の地球環境を守る時
代にあって合理的な処理方法ではなくなっている。
【００１３】一方、現像液含有排水を生物処理可能な濃
度まで希釈して処理する方法については、一般に半導体
工場からの現像液含有排水中のＴＭＡＨ濃度が変動する
ものの約２０００ppm〜１００００ppmと高濃度であるた
め平均して１０倍程度まで希釈し、かつＴＭＡＨに毒性
があるため微生物にとって有効な尿素やリン酸等の栄養
剤を添加して生物処理する必要がある。なぜならば、希
釈水なしで現像液含有排水を微生物処理しようとした場
合には、現像液含有排水中の現像液そのものの濃度が高
いため曝気槽において微生物を円滑に維持することが困
難になるからである。
【００１４】このように、現像液含有排水を希釈するの
で、希釈水を含めたトータルの排水量が増加して排水処
理設備が格段に大きくなり、希釈水量が多量であるため
曝気槽５や沈澱槽６等の生物処理設備の規模が排水量と
比較して大きくなるので、排水処理設備のイニシアルコ
ストが高くなるという問題がある。
【００１５】そして、設備規模が大きくなることによっ
て、特に曝気槽５の撹拌と好気性微生物維持のためにブ
ロワー８から多量の空気を導入することが必要になり、
その空気を供給するためのブロワー８の設備費が増大
し、電気代および栄養剤費等のランニングコストが高く
なるという問題もある。
【００１６】また、従来の生物学的処理方法はバルキン
グ等の微生物の状態が悪化した時の緊急処理として曝気
槽５や沈澱槽６等の排水処理設備内の排水そのものを業
者引き取りすることもあるが、トータルの曝気槽５や沈
澱槽６における排水貯留量が大きいため、その引き取り
コストが高くつくことも問題であった。
【００１７】また、現像液含有排水には前記ＴＭＡＨの
他、各種の界面活性剤が多量に含まれており、現像液含
有排水に含まれる界面活性剤は、半導体および液晶製造
プロセスの現像工程において必要な化学物質である。し
かし、界面活性剤は、その殺菌性が微生物の繁殖に影響
を与えることによって、曝気槽５においてＴＭＡＨを含
んだ現像液含有排水を生物処理する際に、好気性の微生
物がＴＭＡＨを分解処理することを妨げたり、界面活性
剤の持つ発泡性が処理水の発泡を激しくさせるという新
たな問題点を生じさせる。このため、上記従来例では、
生物処理の前処理として、活性炭吸着塔２による界面活
性剤の吸着処理が必要であった。しかしながら、現像液
含有排水中の界面活性剤が高濃度であり、かつ、一般に
活性炭の吸着能力に限界があるので、活性炭を短時間で
取り替え、再生する必要がある。すなわち、具体的には
活性炭吸着塔２から活性炭を取り出し、再生する作業に
よって、かなりの人件費と再生費用が発生する。しか
も、再生後の活性炭を、もとの活性炭吸着塔２に充填す
るにも大変な手間がかかる結果として排水処理設備の運
転費用と維持費用が格段に高コスト化するという問題が
ある。
【００１８】さらに、現像液が含む界面活性剤は、アル
キルアンモニウム系やポリオキシエチレン系のタイプの
ものであるが、半導体や液晶そのものの微細化が進むに
つれて、その現像における性能向上つまり歩留まりの向
上のために、現像液を含む各種の薬品に界面活性剤が含
まれるようになることが予想されている。
【００１９】これに加えて、今日、特定フロンの規制は
各種産業から一般消費者までをふくむ広範な分野まで大
きな影響をあたえているが、中でもエレクトロニクス産
業への影響は極めて大きい。このため、フロン系洗浄剤
の代替洗浄剤として各種の洗浄剤が検討されており、と
りわけ部品へのダメージ性および洗浄性を考慮して、超
純水と界面活性剤を組み合わせた洗浄剤や、リモネンと
界面活性剤を組み合わせた洗浄剤や、シリコーン系溶剤
と界面活性剤とを組み合わせた洗浄剤などが比較検討さ
れている。
【００２０】フロン系洗浄剤の代替洗浄剤の中に含まれ
る界面活性剤にしろ、現像液などの薬品に含まれる界面
活性剤にしろ、今後エレクトロニクス産業における各種
の界面活性剤の使用量は急激に増加する方向にある。そ
して、界面活性剤の種類および使用量が増加することに
よって、半導体および液晶製造工程上、微生物処理しに
くい界面活性剤に変更させられたり、またその使用量が
微生物処理しにくい量まで増加しつつあるという問題も
ある。
【００２１】また、上述のように、半導体工場や液晶工
場において界面活性剤を含む排水が増加しつつあるので
あるが、とりわけ、毒性があるＴＭＡＨを含み、かつ界
面活性剤を含む排水の処理は技術的に困難な課題であっ
た。
【００２２】加えて、工場付近の地元住民の放流排水に
ついての安全性に対する意識が高まると共に、環境保全
に関する規制も年々厳しくなってきている。
【００２３】更に、今日、排水処理設備に課せられてい
る必要条件は、その処理水を河川や海域に直接放流して
もそこに生息する魚類などの生物に影響しないことであ
り、確実な環境保全の観点からも生物に的を絞った排水
処理システムが求められている。ところが、ＴＭＡＨは
窒素の化合物であるため、単に微生物処理した場合、Ｔ
ＭＡＨが分解されて、魚類に対して毒性を示す多量のア
ンモニア性窒素や亜硝酸性窒素が処理水中に増加し、こ
の処理水で魚類を飼育した場合に魚類が生息できないと
いう大きな問題がある。魚類が生息できる処理水の条件
とは、即ち、処理水のpＨが中性でかつ処理水中のアン
モニア性窒素や亜硝酸性窒素が１ppm以下で同時にＴＭ
ＡＨに由来する窒素化合物は硝酸性窒素まで完全に酸化
処理されていることである。ＴＭＡＨの排水処理設備を
魚類が生息できる処理水の条件を考慮して設計した場
合、処理水の水質は単にＴＭＡＨだけが処理されている
だけでは十分ではない。つまり、ＴＭＡＨから派生した
窒素化合物を確実に硝酸性窒素まで処理し、かつ、その
処理水のpＨが中性に維持されていることが必要であ
る。しかしながら、従来、そのような条件を満たす合理
的,経済的で、かつコンパクトな排水処理装置はなかっ
た。
【００２４】つまり、従来、界面活性剤を含む現像液含
有排水は微生物処理し難く、活性汚泥法などの微生物処
理をしたとしても、その処理水中のアンモニア性窒素お
よび亜硝酸性窒素濃度が高く、また、処理水の透視度が
悪くて、ＳＳ濃度が１０ppm以上であった。
【００２５】ところで、半導体工場や液晶工場等におけ
る廃棄物に関する課題としては、現像液含有排水の１Ｍ
3当たりの処理費用を抑えるという課題に加えて、工場
の生活排水処理設備から常に発生する処分費用のかかる
生活系余剰汚泥を有効に利用するという課題がある。
【００２６】すなわち、大規模な半導体工場や液晶工場
等においては、従業員が利用する食堂、風呂、トイレ等
からの生活排水が必ず存在し、それら生活排水を処理す
るための生活排水処理設備がある。そして、上記生活排
水処理設備から栄養バランスの良い余剰汚泥が発生して
いた。生活排水処理設備からの余剰汚泥は半導体工場や
液晶工場では特に有効に再利用する方法はなく、費用を
払って処分していたのである。
【００２７】このように、今日、半導体工場や液晶工場
等から発生する廃棄物に関する合理的な処理方法を検討
することは重要なテーマになっている。
【００２８】そこで、本発明の目的は、現像液含有排水
と生活系余剰汚泥とを巧みに組み合わせて、それらを省
スペースかつ省コストに経済的に処理することができる
排水処理方法および排水処理装置を提供することにあ
る。
【００２９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の排水処理方法は、調整槽と、曝気槽と、第
一沈澱槽と、曝気手段を有する第一返送汚泥混合曝気槽
と、炭酸カルシウム充填物を充填した接触曝気槽と、第
二沈澱槽と、第二返送汚泥混合曝気槽を備えた排水処理
装置によって現像液含有排水の排水処理を行う排水処理
方法であって、上記第一沈澱槽から、上記第一返送汚泥
混合曝気槽へ汚泥を返送し、上記第一返送汚泥混合曝気
槽に枯草菌と生活系余剰汚泥を注入し、上記返送した汚
泥と枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、この
混合して曝気した上記返送汚泥と枯草菌と生活系余剰汚
泥を上記調整槽または上記曝気槽の少なくとも一方へ返
送し、上記第二沈澱槽から、曝気手段を有する第二返送
汚泥混合曝気槽へ汚泥を返送し、上記第二返送汚泥混合
曝気槽に枯草菌と生活系余剰汚泥を注入し、上記返送し
た汚泥と枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、
この混合して曝気した返送汚泥と枯草菌と生活系余剰汚
泥を上記接触曝気槽へ返送することを特徴としている。
【００３０】また、上記曝気槽として、塩化ビニリデン
充填物が充填されたものを用い、かつ、上記接触曝気槽
として、塩化ビニリデン充填物と炭酸カルシウム充填物
の両方が充填されたものを用いることが望ましい。
【００３１】また、上記目的を達成するため、本発明の
排水処理装置は、主要装置として調整槽と、曝気槽と、
第一沈澱槽と、接触曝気槽と、第二沈澱槽とを備えた排
水処理装置において、枯草菌と生活系余剰汚泥とが注入
され、上記第一沈澱槽から汚泥が返送され、この返送汚
泥と枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、か
つ、上記混合して曝気した返送汚泥と枯草菌と生活系余
剰汚泥を上記調整槽または上記曝気槽の少なくとも一方
へ返送する第一返送汚泥混合曝気槽と、枯草菌と生活系
余剰汚泥とが注入され、上記第二沈澱槽から汚泥が返送
され、上記返送汚泥と枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合
して曝気し、この混合して曝気した返送汚泥と枯草菌と
生活系余剰汚泥を上記接触曝気槽に返送する第二返送汚
泥混合曝気槽とを備えることを特徴としている。
【００３２】また、上記曝気槽は、塩化ビニリデン充填
物が充填されており、かつ、上記接触曝気槽は、塩化ビ
ニリデン充填物と炭酸カルシウム充填物の両方が充填さ
れていることが望ましい。
【００３３】また、上記目的を達成するために、請求項
５に記載の発明は、調整槽と、放射状に延びた輪状部を
複数含む放射状輪状糸体が充填された第一接触曝気槽
と、第一沈澱槽と、曝気手段を有する第一返送汚泥混合
曝気槽と、上記放射状輪状糸体が充填された第二接触曝
気槽と、炭酸カルシウム鉱物と活性炭を充填した第三接
触曝気槽と、第二沈澱槽と、第二返送汚泥混合曝気槽を
備えた排水処理装置によって現像液含有排水の排水処理
を行う排水処理方法であって、上記第一沈澱槽から、上
記第一返送汚泥混合曝気槽へ汚泥を返送し、上記第一返
送汚泥混合曝気槽に、有機物分解能力があると共にコロ
ニーに粘着力があり、かつ、脱臭能力がある枯草菌と生
活系余剰汚泥を注入し、上記返送した汚泥と上記枯草菌
と生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、この混合して曝
気した上記返送汚泥と上記枯草菌と生活系余剰汚泥を、
上記第一接触曝気槽と上記調整槽の両方または上記第一
接触曝気槽へ返送し、上記第二沈澱槽から、曝気手段を
有する第二返送汚泥混合曝気槽へ汚泥を返送し、上記第
二返送汚泥混合曝気槽に上記枯草菌と生活系余剰汚泥を
注入し、上記返送した汚泥と上記枯草菌と生活系余剰汚
泥とを混合して曝気し、この混合して曝気した返送汚泥
と上記枯草菌と生活系余剰汚泥を上記第二接触曝気槽へ
返送し、上記第二接触曝気槽から、管壁が網状になって
いる複数の網状管が所定の距離を隔てて縦横に立体状に
配設されていると共に上記網状管と網状管との間の空間
部に炭酸カルシウム鉱物と活性炭が充填されている上記
第三接触曝気槽に排水を送ることを特徴としている。
【００３４】また、上記放射状輪状糸体が塩化ビニリデ
ンで作製されていることが望ましい。
【００３５】また、上記目的を達成するために、請求項
７に記載の発明は、調整槽と、放射状に延びた輪状部を
複数含む放射状輪状糸体が充填された第一接触曝気槽
と、第一沈澱槽と、上記放射状輪状糸体が充填された第
二接触曝気槽と、第二沈澱槽とを備えた排水処理装置で
あって、有機物分解能力があると共にコロニーに粘着力
があり、かつ、脱臭能力がある枯草菌と生活系余剰汚泥
とが注入され、上記第一沈澱槽から汚泥が返送され、こ
の返送汚泥と上記枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して
曝気し、かつ、上記混合して曝気した返送汚泥と上記枯
草菌と生活系余剰汚泥を上記第一接触曝気槽と上記調整
槽の両方または上記第一接触曝気槽へ返送する第一返送
汚泥混合曝気槽と、上記枯草菌と生活系余剰汚泥とが注
入され、上記第二沈澱槽から汚泥が返送され、上記返送
汚泥と上記枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気
し、この混合して曝気した返送汚泥と上記枯草菌と生活
系余剰汚泥を上記第二接触曝気槽に返送する第二返送汚
泥混合曝気槽と、管壁が網状になっている複数の網状管
が所定の距離を隔てて縦横に立体状に配設されていると
共に上記網状管と網状管との間の空間部に炭酸カルシウ
ム鉱物と活性炭が充填されている第三接触曝気槽とを備
えることを特徴としている。
【００３６】また、上記放射状輪状糸体が塩化ビニリデ
ンで作製されていることが望ましい。
【００３７】
【作用】上記排水処理方法および排水処理装置によれ
ば、混合して曝気した上記返送汚泥とＢＳＫ菌等の枯草
菌と生活系余剰汚泥を、上記第一返送汚泥混合曝気槽か
ら、上記調整槽または上記曝気槽の少なくとも一方へ返
送し、かつ、混合して曝気した返送汚泥とＢＳＫ菌等の
枯草菌と生活系余剰汚泥を、上記第二返送汚泥混合曝気
槽から、上記接触曝気槽へ返送する。
【００３８】上記ＢＳＫ菌は自然界に存在する好気性の
微生物であるので、曝気手段を有する第一及び第二返送
汚泥混合曝気槽内で効果的に繁殖することができる。ま
た、上記曝気手段によって、ＢＳＫ菌と生活系の余剰汚
泥と返送汚泥とを充分に混合撹拌できる。そして、上記
生活系の栄養的にバランスの良い余剰汚泥およびこの余
剰汚泥が分泌する物質は、上記ＢＳＫ菌の栄養剤の役目
をするので、このＢＳＫ菌によって上記生活系余剰汚泥
が好気性に消化され処理されると同時に、上記第一およ
び第二返送汚泥混合曝気槽内で上記ＢＳＫ菌が高濃度に
維持される。つまり、上記第一および第二返送汚泥混合
曝気槽内でＢＳＫ菌主体の新たな活性汚泥が作られる。
【００３９】上記ＢＳＫ菌が高濃度に維持されるので、
現像液含有排水を希釈することなく上記曝気槽で微生物
処理することができる。しかも、上記返送汚泥は現像液
含有排水が含んでいるＴＭＡＨおよび界面活性剤に馴化
しているので、上記第一および第二返送汚泥混合曝気槽
内で生成されるＢＳＫ菌主体の新たな活性汚泥によっ
て、上記曝気槽および接触曝気槽内で上記ＴＭＡＨが生
物学的に効率的に処理される。したがって、従来例に比
べて、曝気槽や接触曝気槽を小型にでき、建造コストを
大幅に下げることができる。
【００４０】すなわち、本発明によれば、半導体工場や
液晶工場などで必ず発生し、処分が必要な生活系の余剰
汚泥を有効に利用して、現像液含有排水を希釈すること
なくＴＭＡＨおよびＴＭＡＨから派生したアンモニア性
窒素と亜硝酸性窒素などを処理できる合理的かつ、経済
的な排水の処理方法および処理装置が提供される。
【００４１】また、上記曝気槽は、塩化ビニリデン充填
物が充填されており、かつ、上記接触曝気槽は、塩化ビ
ニリデン充填物と炭酸カルシウム充填物の両方が充填さ
れている場合には、ＢＳＫ菌主体の新活性汚泥はＢＳＫ
菌が持つ付着性により、曝気槽や接触酸化槽に充填して
ある塩化ビニリデン充填物等に多量に付着し、その結果
として、従来例に比べて、前記槽内の微生物濃度を格段
に高く維持することができる。したがって、微生物処理
能力も格段に高くなって、槽内の微生物の安定性もよく
なる。このため、現像液と界面活性剤の処理を、特に合
理的かつ経済的に行うことができる。
【００４２】尚、上記曝気槽および接触曝気槽への充填
物として、塩化ビニリデンでなく、表面積が大きくＢＳ
Ｋ菌主体の新活性汚泥が付着しやすい高分子材料を用い
ても、ある程度の活性汚泥付着効果を得ることができる
が、新活性汚泥は塩化ビニリデン充填物には格段によく
付着することが実験結果からわかっている。
【００４３】また、請求項５および７に記載の現像液含
有排水の排水処理方法および排水処理装置によれば、混
合して曝気した上記返送汚泥と、ＢＳＫ菌等の有機物分
解能力があると共にコロニーに粘着力があり、かつ、脱
臭能力がある枯草菌と生活系余剰汚泥を、上記第一返送
汚泥混合曝気槽から、上記第一接触曝気槽と上記調整槽
の両方または上記第一接触曝気槽へ返送し、かつ、混合
して曝気した返送汚泥と上記枯草菌と生活系余剰汚泥
を、上記第二返送汚泥混合曝気槽から、上記第二接触曝
気槽へ返送する。
【００４４】さらに、上記第二接触曝気槽から、上記第
三接触曝気槽に処理水が送られる。
【００４５】上記ＢＳＫ菌等の枯草菌は自然界に存在す
る好気性の微生物であるので、曝気手段を有する第一お
よび第二返送汚泥混合曝気槽内で効果的に繁殖すること
ができる。また、上記曝気手段によって、ＢＳＫ菌等の
枯草菌と生活系の余剰汚泥と返送汚泥とを充分に混合撹
拌できる。そして、上記生活系の栄養的にバランスの良
い余剰汚泥およびこの余剰汚泥が分泌する物質は、上記
ＢＳＫ菌等の枯草菌の栄養剤の役目をするので、このＢ
ＳＫ菌等の枯草菌によって上記生活系余剰汚泥が好気性
に消化され処理されると同時に、上記第一および第二返
送汚泥混合曝気槽内で上記ＢＳＫ菌等の枯草菌が高濃度
に維持される。つまり、上記第一および第二返送汚泥混
合曝気槽内でＢＳＫ菌等の枯草菌主体の新たな活性汚泥
が作られる。
【００４６】また、上記ＢＳＫ菌等の枯草菌が高濃度に
維持されるので、流入水の水質変動に対する曝気槽内の
微生物処理の安定性も良くなる。また、曝気槽内の微生
物濃度が高濃度であれば、流入水の水質変動に対して微
生物自体が緩衝物体としての作用を示し反応の調整を行
う。
【００４７】また、上記ＢＳＫ菌等の枯草菌が高濃度に
維持されるので、現像液含有排水を希釈することなく上
記第一及び第二接触曝気槽で微生物処理することができ
る。しかも、上記返送汚泥は現像液含有排水が含んでい
るＴＭＡＨおよび界面活性剤に馴化しているので、上記
第一および第二返送汚泥混合曝気槽内で生成されるＢＳ
Ｋ菌等の枯草菌主体の新たな活性汚泥によって、上記第
一および第二接触曝気槽内で上記ＴＭＡＨが生物学的に
効率的に処理される。したがって、従来例に比べて、曝
気槽を小型にでき、建造コストを大幅に下げることがで
きる。
【００４８】上記接触曝気槽内では、大きなフロックと
なって流動する新活性汚泥と、上記放射状輪状糸体に付
着して固定化した新活性汚泥とが存在している。すなわ
ち、上記接触曝気槽内では、微生物濃度が格段に高濃度
に維持されているので、微生物の固定化状態と流動状態
とが両方とも確保されるのである。
【００４９】このように、微生物濃度を格段に高濃度に
維持することによって、上記接触曝気槽は、いわば、完
全なる接触曝気槽になるのである。
【００５０】上記接触曝気槽の利点は、微生物濃度が高
いことによる処理性能の向上に加えて、処理安定性およ
びアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素の酸化機能を保有す
るという接触酸化槽の長所と、空気撹拌によって短時間
に排水と微生物との完全混合反応を達成できるという曝
気槽の長所の両方を有するということである。
【００５１】また、上記新活性汚泥は、肉眼で見る限
り、従来例の活性汚泥と比較して、フロックが大きく強
固であるので、沈殿槽での固液分離状態もよく処理水の
水質向上に役立つ。
【００５２】また、上記第三接触曝気槽は、その曝気手
段が吐出する空気によって起こる水流が多数の網状管の
内部を通過させられる。このため、曝気時の水流に対す
る抵抗が、上記網状管がない場合に比べて小さくなり、
上記第三接触曝気槽は確実に接触混合撹拌できるように
なる。そして、上記網状管は、たとえば、塩化ビニール
やポリエチレンで作製されており、上記網状管の表面に
付着する微生物によってアンモニア性窒素と亜硝酸性窒
素を酸化させることができる。さらに、上記水流による
撹拌が十分であるので、上記第三接触曝気槽は、その炭
酸カルシウム鉱物および活性炭にＳＳ（サスペンディッ
ド・ソリッド）つまり浮遊物質を確実に捕集することが
できる。したがって、上記第三接触曝気槽は、網状管に
付着する微生物及び炭酸カルシウム鉱物と活性炭の表面
に付着繁殖する微生物によって、魚類に対して毒性のあ
るアンモニア性窒素や亜硝酸性窒素を確実に硝酸性窒素
にまで酸化処理することができるし、かつ前記活性炭と
活性炭の表面に付着繁殖する微生物によって界面活性剤
の最終的な処理をすることができる。
【００５３】すなわち、請求項５および７に記載の発明
によれば、半導体工場や液晶工場などで必ず発生し、処
分が必要な生活系の余剰汚泥を有効に利用して、現像液
含有排水を希釈することなくＴＭＡＨおよびＴＭＡＨか
ら派生したアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素等および界
面活性剤を確実に処理できる合理的かつ、経済的な排水
の処理方法および処理装置が提供される。
【００５４】また、上記放射状輪状糸体を塩化ビニリデ
ンで作製した場合には、上記ＢＳＫ菌等の枯草菌が上記
放射場輪状糸体に特に付着し易くなり、上記第一，第二
接触曝気槽内の微生物濃度を格段に高く維持することが
できる。したがって、微生物処理能力も格段に高くなっ
て、槽内の微生物の安定性もよくなる。このため、現像
液と界面活性剤を特に効率良く処理できる。
【００５５】
【実施例】以下、この発明を図示の実施例により詳細に
説明する。
【００５６】図１に、本発明の排水処理装置の一実施例
を示す。この実施例は、図１に示すように、主要装置と
して、工場からの現像液含有排水が最初に流入する調整
槽１５と、曝気槽１６と、第一沈澱槽１８と、接触曝気
槽１９と、第二沈澱槽２１とを備えている。上記曝気槽
１６には、塩化ビニリデン充填物３１が充填されてお
り、かつ、上記接触曝気槽１９には、塩化ビニリデン充
填物３１と炭酸カルシウム充填物３０の両方が充填され
ている。さらに、接触曝気槽１９を撹拌するため、およ
び好気性に維持するために、接触曝気槽１９には散気管
２６が設置されている。
【００５７】図１に示した排水処理装置には、図３の従
来例に示す希釈槽３がなく、調整槽ポンプ２２によっ
て、現像液含有排水を希釈することなく、調整槽１５か
ら直接曝気槽１６に導入している。
【００５８】また、上記実施例は、ＢＳＫ（バチラス・
スブチリス・クボタ）菌と生活系余剰汚泥とが導入され
る余剰汚泥貯蔵槽２８を備えている。
【００５９】また、上記実施例は、上記第一沈澱槽１８
から返送汚泥が送られ、かつ、上記余剰汚泥貯蔵槽２８
から上記ＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥とがポンプ２９で送
られる第一返送汚泥混合曝気槽１７を有している。この
第一返送汚泥混合曝気槽１７は、上記返送汚泥とＢＳＫ
菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、かつ、上記混
合して曝気した返送汚泥とＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥を
上記調整槽１５または上記曝気槽１６の少なくとも一方
へ返送するようになっている。
【００６０】また、上記実施例は、上記第二沈澱槽２１
から返送汚泥が送られ、かつ、上記余剰汚泥貯留槽２８
を介してＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥とが注入される第二
返送汚泥混合曝気槽２０を有している。この第２返送汚
泥混合曝気槽２０は、上記返送汚泥と、ＢＳＫ菌と生活
系余剰汚泥とを混合して曝気し、この混合して曝気した
返送汚泥とＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥を上記接触曝気槽
１９に返送するようになっている。
【００６１】上記実施例の排水処理装置によって現像液
含有排水の排水処理を行う本発明の排水処理方法の実施
例を以下に説明する。
【００６２】まず、調整槽１５に流入した現像液含有排
水は、ブロワー２３より送出されて散気管２６から吹き
出す空気によって撹拌される。
【００６３】上記水量及び水質が調整された現像液含有
排水は調整槽ポンプ２２によって、調整槽１５から曝気
槽１６に導入されて生物処理される。
【００６４】曝気槽１６は水位が一定に保たれ、散気管
２６から吐出される空気によって槽内が撹拌され、かつ
好気性に維持されている。さらに、この曝気槽１６に
は、第一沈澱槽１８からの返送汚泥と余剰汚泥貯留槽２
８からの生活系余剰汚泥およびＢＳＫ菌の三者が、第一
返送汚泥混合曝気槽１７において充分混合撹拌されてか
ら、常時返送されている。
【００６５】これら現像液含有排水の曝気槽１６への流
入および第一返送汚泥混合曝気槽１７からの返送などの
通常運転を１ケ月以上継続していると、上記ＢＳＫ菌
は、生活系の活性汚泥よりも繁殖力が旺盛なので、曝気
槽１６は生活系の余剰汚泥な,どを栄養源に繁殖したＢ
ＳＫ菌主体の曝気槽になる。すなわち、上記曝気槽１６
は、ＢＳＫ菌主体のバイオリアクターになる。特に、付
着性のあるＢＳＫ菌主体の新活性汚泥は、曝気槽１６に
充填してある塩化ビニリデン充填物３１に多量に付着す
る。その結果として、時間が経過すると、この実施例の
曝気槽１６内の微生物濃度は、従来の活性汚泥法による
曝気槽５と比較して、格段に高く維持される。曝気槽１
６内の微生物濃度が格段に高い(一般的には曝気槽１６
のＭＬＳＳ濃度が高いという)ので、高濃度の現像液含
有排水を、無希釈で、より効果的に処理することができ
る。事実、曝気槽１６内に、現像液含有排水を無希釈で
流入させても特に問題は発生しないのに対し、従来の曝
気槽に無希釈で現像液含有排水を流入させると曝気槽は
発泡したり、白濁したりして、活性汚泥自体を正常に維
持できない。
【００６６】ここで、生活系の余剰汚泥などの役目はあ
くまでもＢＳＫ菌の窒素,燐に関するバランスのとれた
栄養源としての役目であり、ＢＳＫ菌が活発に繁殖する
ことに役立つ。そして、この生活系の余剰汚泥は、第一
沈澱槽１８での沈澱性の良い汚泥となる。
【００６７】次に、上記曝気槽１６で処理された排水
は、第１沈澱槽１８に導入される。そして、第一沈澱槽
１８から第一沈澱槽ポンプ２４及び第一返送汚泥混合曝
気槽１７を介して上記曝気槽１６に汚泥が返送される。
この返送汚泥の役目は、現像液含有排水中のＴＭＡＨや
界面活性剤に馴化したＢＳＫ菌を再度曝気槽１６に返送
し、新たな現像液含有排水を処理するのに役立てること
である。ＢＳＫ菌は好気性の微生物で納豆菌と同様に枯
草菌の１種で自然界に存在している安全な菌である。Ｂ
ＳＫ菌は一般に栄養源、温度条件、溶存酸素等の条件が
整えば活発に増殖繁殖する。また、ＢＳＫ菌主体の新活
性汚泥は、従来の活性汚泥よりもはるかに臭気に対して
脱臭能力(活性汚泥の微生物による脱臭機能)が高く、生
活系余剰汚泥が発する臭気を効果的に脱臭する。すなわ
ち、ＢＳＫ菌主体の新活性汚泥は、第一返送汚泥混合曝
気槽１７内および曝気槽１６内にある生活系余剰汚泥が
発する臭気に対して脱臭効果を発揮する。脱臭能力があ
り、かつＴＭＡＨを処理する能力があるＢＳＫ菌を、曝
気槽１６内に配置した塩化ビニリデン充填物３１に付着
繁殖させて高濃度に培養することによってバイオリアク
ターが形成される。そして、この高濃度に培養されたＢ
ＳＫ菌は、単にＴＭＡＨのみならず、現像液含有排水が
含んでいる界面活性剤およびその他の多価アルコール等
の有機物全般を効果的に処理する。したがって、現像液
含有排水の流入水質が異常に高い場合には、図１に破線
で示すように、第一返送汚泥混合曝気槽１７から調整槽
１５に返送汚泥を返送し、調整槽１５で現像液含有排水
を前処理することもある。
【００６８】調整槽１５では、ＴＭＡＨが充分処理され
ていないので調整槽１５での液性はpＨ１２以上である
が、曝気槽１６ではＴＭＡＨが処理されて亜硝酸性窒素
や硝酸性窒素に変化し、それらが増加するためpＨが中
性に近づく。また、同様に調整槽１５では界面活性剤が
処理されていないので、調整槽１５における界面活性剤
による発泡があるが、曝気槽１６では界面活性剤が処理
されるので界面活性剤による発泡が減少する。
【００６９】このように、上記実施例によれば、従来例
と異なり、曝気槽１６においてＢＳＫ菌を高濃度に培養
して維持できるので、現像液含有排水を希釈することな
くＴＭＡＨおよび界面活性剤などの有機物を合理的かつ
経済的に処理できる。
【００７０】また、この実施例は、界面活性剤を微生物
によって処理するので、図３に示した活性炭吸着によっ
て界面活性剤を処理する従来の方法と比較して、活性炭
の再生費や活性炭の取り替え費などが不必要である。し
たがって、この実施例によれば、従来例に比べて、ラン
ニングコストを大幅に削減でき、処理コストを格段に低
下させることができて、管理も容易にできる。
【００７１】また、生活系の余剰汚泥や余剰汚泥からの
分泌物を、ＢＳＫ菌の栄養源として利用することによっ
て、上記生活系の余剰汚泥を消化することができ、処分
費用のかかる廃棄物である生活系余剰汚泥の分量を減ら
すことができる。
【００７２】現像液含有排水が含むＴＭＡＨ濃度は、工
場及び製造工程によって異なるが、一般に、２０００pp
m〜１００００ppmの範囲であることが多い。このため、
図３に示した従来の方法では、ＴＭＡＨ濃度が生物処理
できる２００ppm〜１０００ppmの範囲の濃度に低下する
ように、現像液含有排水を希釈槽３で希釈してから、曝
気槽５に導入した。これに対し、本発明の上記実施例に
よれば、ＴＭＡＨ濃度２０００ppm〜１００００ppmで流
入した現像液含有排水を希釈することなく、曝気槽１６
内で生物処理して、ＴＭＡＨ濃度２００ppm〜１０００p
pmまで低下させることができる。
【００７３】ＴＭＡＨが２００ppm〜１０００ppmまで処
理された現像液含有排水は接触曝気槽１９に導入され、
さらに目的処理水質まで処理される。炭酸カルシウム充
填物３０は、曝気槽１６において窒素化合物であるＴＭ
ＡＨが処理されて多量の亜硝酸性窒素や硝酸性窒素が発
生することによって酸性側に移行した液性を中和するた
めの中和剤としての役目と、ＢＳＫ菌などの好気性微生
物の固定化単体としての役目とを果たす。また、炭酸カ
ルシウム充填物３０中のカルシウムが溶解することによ
って、ＢＳＫ菌等の好気性の微生物が菌体内にカルシウ
ムを取り入れることができ、活発に繁殖できるようにな
り、ＢＳＫ菌等が沈澱しやすくなる。
【００７４】一方、接触曝気槽１９に塩化ビニリデン充
填物３１を充填しているので、ＢＳＫ菌主体の新活性汚
泥を接触曝気槽１９内で高濃度に維持することができ、
かつ、発生したアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素とを硝
酸性窒素へ酸化処理することができる。上記塩化ビニリ
デン充填物３１は、細い繊維で構成されているので表面
積が大きく、アンモニア性窒素と亜硝酸性窒素とを硝酸
性窒素へ酸化する為の接触材としては好適である。具体
的には、塩化ビニリデン充填物３１として、放射状の輪
状体のエレメントを多数有するひも状の商品を利用する
ことができる。
【００７５】接触曝気槽１９で生物学的に処理された処
理水は、第二沈澱槽２１に導入され、微生物と上澄液が
沈澱分離される。第二沈澱槽２１の底部に沈澱した汚泥
は第二沈澱槽ポンプ２５によって第二返送汚泥混合曝気
槽２０に導入され、さらに、そこでＢＳＫ菌と生活系の
余剰汚泥を混合され撹拌されて曝気され、新たな活性汚
泥となり、接触曝気槽１９に返送される。曝気槽１６と
接触曝気槽１９における微生物濃度(ＭＬＳＳ濃度)を比
較すると、曝気槽１６の微生物濃度の方が格段に高濃度
である。曝気槽１６における微生物濃度が高濃度である
が故に、現像液含有排水を希釈することなく処理するこ
とができる。また、曝気槽１６内に、ＢＳＫ菌という従
来の活性汚泥よりも有機物処理能力のある微生物が主体
の新活性汚泥があるので、現像液含有排水を希釈するこ
となく処理することができる。また、新活性汚泥が含む
ＢＳＫ菌がＴＭＡＨや界面活性剤に馴化しているので、
現像液含有排水を希釈することなく処理することができ
る。
【００７６】このように、ＢＳＫ菌と、このＢＳＫ菌の
栄養源としての生活系余剰汚泥と、さらに第二沈澱槽２
１からの低濃度ＴＭＡＨに馴化した返送汚泥との３者
を、第二返送汚泥曝気槽２０において効果的に撹拌し、
曝気し、混合して作製した新活性汚泥を、接触曝気槽１
９に導入し、かつ塩化ビニリデン充填物３１に付着させ
て固定化している。したがって、接触曝気槽１９の微生
物濃度が高まり、従来例に比べて、ＴＭＡＨをより効果
的に処理できるのである。
【００７７】尚、図２に示すように、曝気槽１６および
接触曝気槽１９に、塩化ビニリデン充填物３１を設けな
くてもよいが、上記実施例のように、曝気槽１６および
接触曝気槽１９に塩化ビニリデン充填物３１を設けた方
が、微生物濃度が高くなり、排水処理能力が向上する。
【００７８】次に、図４に、請求項５に記載の発明の排
水処理装置の一実施例を示す。この実施例は、図４に示
すように、主要装置として、工場からの現像液含有排水
が最初に流入する調整槽４１と、第一接触曝気槽４４
と、第一沈澱槽４７と、第二接触曝気槽４９と、第三接
触曝気槽５０と、第二沈澱槽５２とを備えている。上記
第一接触曝気槽４４には、塩化ビニリデンで作製した放
射状輪状糸体４５が充填されており、かつ、上記第二接
触曝気槽４９には、塩化ビニリデンで作製した放射状輪
状糸体４５が充填されている。この放射状輪状糸体４５
は、図６に示すように、糸体４５ｂと、この糸体４５ｂ
から放射状に延びる多数の輪状部４５ａを含んでいる。
図６（Ａ）は、上記糸体４５の側面図であり、図６
（Ｂ）は、上記糸体４５の正面図である。
【００７９】また、第一接触曝気槽４４および第二接触
曝気槽４９及び第三接触曝気槽５０を撹拌するため、お
よび好気性に維持するために、第一接触曝気槽４４およ
び第二接触曝気槽４９および第三接触曝気槽５０には散
気管４２が設置されている。
【００８０】図４に示した排水処理装置には、図３の従
来例に示す希釈槽３がなく、調整槽ポンプ４３によっ
て、現像液含有排水を、希釈することなく、調整槽４１
から直接に第一接触曝気槽４４に導入している。
【００８１】また、上記実施例は、ＢＳＫ（バチラス・
スブチリス・クボタ）菌と生活系余剰汚泥とが導入され
る余剰汚泥貯蔵槽５４を備えている。
【００８２】また、上記実施例は、上記第一沈澱槽４７
から返送汚泥が送られ、かつ、上記余剰汚泥貯蔵槽５４
から上記ＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥とがポンプ５５で送
られる第一返送汚泥混合曝気槽４６を有している。この
第一返送汚泥混合曝気槽４６は、上記返送汚泥とＢＳＫ
菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、かつ、上記混
合して曝気した返送汚泥とＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥
を、上記第一接触曝気槽４４または上記第１接触曝気槽
４４と上記調整槽の両方に、返送するようになってい
る。
【００８３】また、上記実施例は、上記第二沈澱槽５２
から返送汚泥が送られ、かつ、上記余剰汚泥貯留槽５４
からＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥とが注入される第二返送
汚泥混合曝気槽５６を有している。この第２返送汚泥混
合曝気槽５６は、上記返送汚泥と、ＢＳＫ菌と生活系余
剰汚泥とを混合して曝気し、この混合して曝気した返送
汚泥とＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥を上記第二接触曝気槽
４９に返送するようになっている。
【００８４】また、上記実施例は、上記第二接触曝気槽
４９から排水が送られる第三接触曝気槽５０を有してい
る。この第三接触曝気槽５０は、図５に詳細に示すよう
に、多数の網状管６１，６１が所定の間隔を隔てて、架
台７５内に縦横に立体状に配設されている。この網状管
６１は、管壁が網状になっている。そして、上記網状管
６１と網状管６１との間の空間に炭酸カルシウム鉱物７
２と活性炭７１が充填されている。また、図５におい
て、４２は散気管、７３は傾斜壁である。上記網状管６
１は、上記第三接触曝気槽５０内の排水の流れを良くす
ると共に、上記排水が上記炭酸カルシウム鉱物７２およ
び活性炭７１に良く行き渡るようにする役割をしてい
る。
【００８５】上記排水処理装置によって現像液含有排水
の排水処理を行う排水処理方法を以下に説明する。ま
ず、調整槽４１に流入した現像液含有排水は、ブロワー
５８より送出されて散気管４２から吹き出す空気によっ
て撹拌される。この調整槽４１での排水の滞留時間は、
流入水の水量および水質の変動状態に応じて設計される
が、一般的には６時間以上に設定される。
【００８６】上記水量及び水質が調整された現像液含有
排水は調整槽ポンプ４３によって、調整槽４１から第一
接触曝気槽４４に導入されて微生物処理される。
【００８７】第一接触曝気槽４４は水位が一定に保た
れ、散気管４２から吐出される空気によって槽内が撹拌
され、かつ好気性に維持されている。さらに、この第一
接触曝気槽４４には、第一沈澱槽４７からの返送汚泥と
余剰汚泥貯留槽５４からの生活系余剰汚泥およびＢＳＫ
菌の三者が、第一返送汚泥混合曝気槽４６において充分
混合撹拌されてから、常時返送されている。
【００８８】これら現像液含有排水の第一接触曝気槽４
４への流入及び第一返送汚泥混合曝気槽４６からの返送
などの通常運転を１ケ月以上継続していると、上記ＢＳ
Ｋ菌は、生活系の活性汚泥よりも繁殖力が旺盛なので、
第一接触曝気槽４４は生活系の余剰汚泥などを栄養源に
繁殖したＢＳＫ菌主体の曝気槽になる。すなわち、上記
第一接触曝気槽４４は、ＢＳＫ菌主体のバイオリアクタ
ーになる。特に、付着性のあるＢＳＫ菌主体の新活性汚
泥は、第一接触曝気槽４４に充填してある塩化ビニリデ
ン製放射状輪状糸体４５に多量に付着する。その結果と
して、時間が経過すると、この実施例の第一接触曝気槽
４４内の微生物濃度は、従来の活性汚泥法による曝気槽
５と比較して、格段に高く維持される。上記第一接触曝
気槽４４内の微生物濃度が格段に高い(一般的には曝気
槽のＭＬＳＳ濃度が高いという。)ので、高濃度の現像
液含有排水を、無希釈で、より効果的に処理することが
できる。事実、第一接触曝気槽４４内に、現像液含有排
水を無希釈で流入させても特に問題は発生しないのに対
し、従来の曝気槽に無希釈で現像液含有排水を流入させ
ると曝気槽は発泡したり、白濁したりして、活性汚泥自
体を正常に維持できない。
【００８９】ここで、生活系の余剰汚泥などの役目はあ
くまでもＢＳＫ菌の窒素,燐に関するバランスのとれた
栄養源としての役目であり、ＢＳＫ菌が活発に繁殖する
ことに役立つ。そして、この生活系の余剰汚泥は、第一
沈澱槽４７での沈澱性の良い汚泥となる。
【００９０】次に、上記第一接触曝気槽４４で処理され
た排水は、第一沈澱槽４７に導入される。そして、第一
沈澱槽４７から第一沈澱槽ポンプ４８および第一返送汚
泥混合曝気槽４６を介して上記第一接触曝気槽４４に汚
泥が返送される。この汚泥返送率は１００％である。こ
の返送汚泥の役目は、現像液含有排水中のＴＭＡＨや界
面活性剤に馴化したＢＳＫ菌を再度第一接触曝気槽４４
に返送し、新たな現像液含有排水を処理するのに役立て
ることである。ＢＳＫ菌は好気性の微生物で納豆菌と同
様に枯草菌の１種で自然界に存在している安全な菌であ
る。ＢＳＫ菌の形態は短小桿菌であり、細胞の多形性と
しては細胞膜に取り囲まれた核をもっている。また、Ｂ
ＳＫ菌の性質としては運動性があり、鞭毛は１０本位で
ある。また、ＢＳＫ菌は、グラム陽性の抗酸性の菌であ
る。ＢＳＫ菌は一般に栄養源、温度条件、溶存酸素等の
条件が整えば活発に増殖繁殖する。また、ＢＳＫ菌主体
の新活性汚泥は、従来の活性汚泥よりもはるかに臭気に
対して脱臭能力(活性汚泥の微生物による脱臭機能)が高
く、生活系余剰汚泥が発する臭気を効果的に脱臭する。
即ち、ＢＳＫ菌主体の新活性汚泥は、第一返送汚泥混合
曝気槽４６内及び第一接触曝気槽４４内にある生活系余
剰汚泥が発する臭気に対して脱臭効果を発揮する。脱臭
能力があり、かつＴＭＡＨを処理する能力があるＢＳＫ
菌を、第一接触曝気槽４４内に配置した塩化ビニリデン
製放射状輪状糸体４５に付着繁殖させて高濃度に培養す
ることによってバイオリアクターが形成される。そし
て、この高濃度に培養されたＢＳＫ菌は、単にＴＭＡＨ
のみならず、現像液含有排水が含んでいる界面活性剤お
よびその他の多価アルコール等の有機物全般を効果的に
処理する。したがって、現像液含有排水の流入水質が異
常に高い場合には、図４に破線で示すように、第一返送
汚泥混合曝気槽４６から調整槽４１に返送汚泥を返送
し、調整槽４１で現像液含有排水を前処理することもあ
る。
【００９１】調整槽４１に流入する排水のｐＨは、１２
以上でありアルカリ性である。そして、調整槽４１で
は、ＴＭＡＨが充分処理されていないので、調整槽４１
での液性はpＨ１１以上であることが多い。しかし、第
一接触曝気槽４４での微生物濃度が、従来例の曝気槽５
での微生物濃度に比べて高く、かつ、微生物が第一接触
曝気槽４４に付着固定しているので、上記微生物の緩衝
作用によって上記液性は中性化の方向に進み、特に問題
なく排水処理を進めることができる。
【００９１】そして、上記第一接触曝気槽４４ではＴＭ
ＡＨが処理されて亜硝酸性窒素や硝酸性窒素に変化し、
それらが増加するためpＨが中性に近づく。また、同様
に調整槽４１では界面活性剤が処理されていないので、
調整槽４１における界面活性剤による発泡があるが、第
一接触曝気槽４４では界面活性剤が処理されるので界面
活性剤による発泡が減少する。
【００９２】このように、上記実施例によれば、従来例
と異なり、第一接触曝気槽４４においてＢＳＫ菌を高濃
度に培養して維持できるので、現像液含有排水を希釈す
ることなくＴＭＡＨ及び界面活性剤などの有機物を合理
的かつ経済的に処理できる。具体的には、上記第一接触
曝気槽４４内の微生物濃度を１００００ｐｐｍ以上に維
持して微生物処理を効果的に実施できるようにしてい
る。
【００９３】また、この実施例は、界面活性剤を微生物
によって処理するので、図３に示した活性炭吸着によっ
て界面活性剤を処理する従来の方法と比較して、活性炭
の再生費や活性炭の取り替え費などが不必要である。し
たがって、この実施例によれば、従来例に比べて、ラン
ニングコストを大幅に削減でき、処理コストを格段に低
下させることができて、管理も容易にできる。
【００９４】また、生活系の余剰汚泥や余剰汚泥からの
分泌物を、ＢＳＫ菌の栄養源として利用することによっ
て、上記生活系の余剰汚泥を消化することができ、処分
費用のかかる廃棄物である生活系余剰汚泥の分量を減ら
すことができる。
【００９５】現像液含有排水が含むＴＭＡＨ濃度は、工
場及び製造工程によって異なるが、一般に、２０００pp
m〜１００００ppmの範囲であることが多い。このため、
図３に示した従来の方法では、ＴＭＡＨ濃度が生物処理
できる２００ppm〜１０００ppmの範囲の濃度に低下する
ように、現像液含有排水を希釈槽３で希釈してから、曝
気槽５に導入した。これに対し、本発明の上記実施例に
よれば、ＴＭＡＨ濃度２０００ppm〜１００００ppmで流
入した現像液含有排水を希釈することなく、第一接触曝
気槽４４内で微生物処理して、ＴＭＡＨ濃度を２００pp
m〜１０００ppmまで、またはその濃度以下まで低下させ
ることができる。
【００９６】上記第１接触曝気槽４４に導入するＴＭＡ
Ｈの流入負荷は、第１接触曝気槽４４の１立方メートル
当たり１日に、１．５キログラム以下であることが望ま
しい。つまり、上記第１接触曝気槽４４の容量負荷は、
１．５ｋｇ−ＴＭＡＨ／Ｍ3／日以下である。
【００９７】ＴＭＡＨ濃度が２００ppm〜１０００ppmま
で処理された現像液含有排水は第二接触接触曝気槽４９
に導入され、さらに微生物処理される。
【００９８】第二接触曝気槽４９に塩化ビニリデン製の
放射状輪状糸体４５を充填しているので、ＢＳＫ菌主体
の新活性汚泥を第二接触曝気槽４９内で高濃度に維持す
ることができ、かつ、発生したアンモニア性窒素と亜硝
酸性窒素を硝酸性窒素へ酸化処理することができる。上
記塩化ビニリデン製の放射状輪状糸体４５は、細い繊維
で構成されているので表面積が大きく、アンモニア性窒
素と亜硝酸性窒素を硝酸性窒素へ酸化するための接触材
としては好適である。
【００９９】図６に示す上記放射状輪状糸体４５の中心
部のひも状の糸体４５ｂは、太い糸で編み上げてあり、
その太い糸には小さな穴が空いており微生物が繁殖し易
い構造になっている。
【０１００】そして、上記放射状輪状糸体４５に汚泥が
付着すればするほど、上記ひも状の糸体４５ｂは、溶存
酸素が行き渡らないので、嫌気状態になり、硝酸性窒素
を処理する嫌気性菌が繁殖する。したがって、放射状輪
状糸体４５に汚泥が付着すればするほど、上記ひも状の
糸体４５ｂでは、嫌気処理を行うこととなる。
【０１０１】したがって、上記第二接触曝気槽４９にお
いて、排水は、好気性のＢＳＫ菌による好気工程と、上
記嫌気性菌による嫌気工程との繰り返しにより脱窒素処
理される。この第二接触曝気槽４９での排水の滞留時間
は、１２時間以上に設定することが望ましい。この第二
接触曝気槽４９では、排水のＴＭＡＨ濃度を１ｐｐｍ以
下に低下させることができ、略目的処理水質にすること
ができる。
【０１０２】第二接触曝気槽４９で生物学的に処理され
た排水は、第三接触曝気槽５０に導入される。この第三
接触曝気槽５０に充填されている炭酸カルシウム鉱物７
２は、第二接触曝気槽４９において窒素化合物であるＴ
ＭＡＨが処理されて多量の亜硝酸性窒素や硝酸性窒素が
発生することによって酸性側に移行した液性を中和する
ための中和剤としての役目と、ＢＳＫ菌などの好気性微
生物の固定化単体としての役目とを果たす。また、炭酸
カルシウム鉱物７２中のカルシウムが溶解することによ
って、ＢＳＫ菌等の好気性の微生物が菌体内にカルシウ
ムを取り入れることができ、活発に繁殖できるようにな
り、ＢＳＫ菌等が沈澱しやすくなる。また、上記第三接
触曝気槽５０に充填されている活性炭７１は、界面活性
剤を吸着処理して、界面活性剤の高度処理を行うととも
に、活性炭７１自体に微生物を繁殖させ、界面活性剤の
微生物処理を促進させる。この第三接触曝気槽５０での
滞留時間は、１２時間以上にすることが望ましい。
【０１０３】また、上記第三接触曝気槽５０の炭酸カル
シウム鉱物７２および活性炭７１に浮遊物質(ＳＳ)が捕
集されるので、従来例(沈殿槽６において浮遊物質が多
く透視度が悪い。)に比べて、処理排水の透視度が良く
なる。
【０１０４】この第三接触曝気槽５０で生物学的に処理
された処理水は、第二沈殿槽５３に導入され、微生物と
上澄液が沈澱分離される。そして、その上澄液である処
理水は、再利用されるか、もしくは、放流されることと
なる。
【０１０５】第二沈澱槽５２の底部に沈澱した汚泥は第
二沈澱槽ポンプ５３によって第二返送汚泥混合曝気槽５
６に導入され、更に、そこでＢＳＫ菌と生活系の余剰汚
泥を混合され撹拌されて曝気され、新たな活性汚泥とな
り、第一接触曝気槽４４に返送される。第一接触曝気槽
４４と第二接触曝気槽４９における微生物濃度(ＭＬＳ
Ｓ濃度)を比較すると、第一接触曝気槽４４における微
生物濃度の方が格段に高濃度である。第一接触曝気槽４
４における微生物濃度が高濃度であるが故に、現像液含
有排水を希釈することなく処理することができる。ま
た、第一接触曝気槽４４内に、ＢＳＫ菌という従来の活
性汚泥よりも有機物処理能力のある微生物が主体の新活
性汚泥があるので、現像液含有排水を希釈することなく
処理することができる。また、新活性汚泥が含むＢＳＫ
菌がＴＭＡＨや界面活性剤に馴化しているので、現像液
含有排水を希釈することなく処理することができる。
【０１０６】このように、ＢＳＫ菌と、このＢＳＫ菌の
栄養源としての生活系余剰汚泥と、さらに第二沈澱槽５
２からの低濃度ＴＭＡＨに馴化した返送汚泥との３者
を、第二返送汚泥曝気槽５６において効果的に撹拌し、
曝気し、混合して作製した新活性汚泥を、第二接触曝気
槽４９に導入し、かつ塩化ビニリデン製の放射状輪状糸
体４５に付着させて固定化している。したがって、第二
接触曝気槽４９の微生物濃度が高まり、従来例に比べ
て、ＴＭＡＨをより効果的に処理できるのである。
【０１０７】次に、図４に示した上記実施例による処理
水の水質と、図３に示した従来例による処理水の水質と
の比較実験例を説明する。
【０１０８】まず、上記実施例において、それぞれ、調
整槽４１の容量を５ l(リットル)、第一接触曝気槽４４
の容量を２０ l、第一沈澱槽４７の容量を３ l、第二接
触曝気槽４９の容量を１２ l、第三接触曝気槽５０の容
量を１２ l、第二沈澱槽５２の容量を３ l等として実施
例の実験設備を構成した。
【０１０９】また、上記従来例において、調整槽１の容
量を５ l、活性炭吸着塔２の容量を１ l、希釈槽３の容
量を１ l、中和槽４の容量を１ l、曝気槽５の容量を８
０ l(希釈水を追加するので曝気槽容量が上記実施例に
比べて格段に大きい。)、沈澱槽６の容量を１０ l等と
して従来例の実験設備を構成した。
【０１１０】そして、上記実施例の実験設備と、上記従
来例の実験設備によって、実排水による排水処理実験を
行った。この実験は、約３ケ月間行い(試運転)、その
後、流入水と処理水の水質を測定した。この水質測定結
果を、以下の(１),(２),(３)に示す。
【０１１１】(１) 流入水の水質 ＰＨ １２．２ ＴＭＡＨ ５１２０ppm アンモニア性窒素 １．０ppm 亜硝酸性窒素 ６．０ppm 硝酸性窒素 ６．０ppm ＳＳ（浮遊物質） ３２ppm ＣＯＤ（化学的酸素要求量） ２６４０ppm(界面活性剤
はＣＯＤとしてとらえた。)
【０１１２】(２) 図４に示した上記実施例の実験設備
による処理水の水質 ＰＨ ７．２ ＴＭＡＨ ０．４ppm アンモニア性窒素 ０．８ppm 亜硝酸性窒素 ０．６ppm 硝酸性窒素 ３９６ppm ＳＳ（浮遊物質） ３．２ppm ＣＯＤ（化学的酸素要求量） ７３ppm
【０１１３】(３) 図３に示した従来例の実験設備によ
る処理水の水質 ＰＨ ７．８ ＴＭＡＨ ０．６ppm アンモニア性窒素 ３７６ppm 亜硝酸性窒素 １２ppm 硝酸性窒素 １６ｐｐｍ ＳＳ（浮遊物質） ２６ｐｐｍ ＣＯＤ（化学的酸素要求量） ７０ppm
【０１１４】上記の実験例から判明するように界面活性
剤を含んだ現像液含有排水中の主成分であるＴＭＡＨは
本発明の上記実施例の実験設備にしろ、上記従来例の実
験設備にしろ、確実に処理できている。しかし、魚類に
対して毒性を示すアンモニア性窒素や亜硝酸性窒素につ
いては、本発明の実施例の実験設備は、従来例の実験設
備に比べて、より確実に処理できている。また、ＳＳ
(浮遊物質)についても、本発明の実施例の実験設備は、
従来例の実験設備と比較して、より確実に処理できてい
る。このことは、処理水の透視度を測定すれば容易に確
認できることである。
【０１１５】そして、界面活性剤をＣＯＤとしてとらえ
た場合には、本発明の実施例の実験設備は、ＣＯＤに関
して、従来例の実験設備と同様の処理効果があることが
判る。
【０１１６】つまり、上記実施例によれば、従来例と同
等以上の排水処理能力を、従来例よりも格段に低コスト
に実現することができるのである。
【０１１７】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
によれば、混合して曝気した返送汚泥とＢＳＫ菌と生活
系余剰汚泥を、第一返送汚泥混合曝気槽から、調整槽ま
たは曝気槽の少なくとも一方へ返送し、かつ、混合して
曝気した返送汚泥とＢＳＫ菌と生活系余剰汚泥を、第二
返送汚泥混合曝気槽から、接触曝気槽へ返送する。
【０１１８】こうすると、上記生活系の余剰汚泥は上記
ＢＳＫ菌の栄養剤の役目をするので、上記曝気槽内のＢ
ＳＫ菌の濃度を高濃度にして、現像液含有排水を無希釈
で処理できる。
【０１１９】また、上記曝気槽は、塩化ビニリデン充填
物が充填されており、かつ、上記接触曝気槽は、塩化ビ
ニリデン充填物と炭酸カルシウム充填物の両方が充填さ
れている場合には、ＢＳＫ菌主体の新活性汚泥はＢＳＫ
菌が持つ付着性により、曝気槽や接触酸化槽に充填して
ある塩化ビニリデン充填物等に多量に付着し、その結果
として、従来例に比べて、前記槽内の微生物濃度を格段
に高く維持することができる。したがって、微生物処理
能力も格段に高くなって、槽内の微生物の安定性もよく
なる。このため、現像液と界面活性剤の処理を、特に合
理的かつ経済的に行うことができる。
【０１２０】すなわち、本発明は、以下の効果を有す
る。
【０１２１】(１) 従来の活性炭吸着塔の活性炭の取り
替えおよび再生作業の必要がなくなるので、排水処理コ
ストを低減できる。また、現像液含有排水を無希釈で処
理できるので、曝気槽および接触酸化槽を従来例に比べ
て小さくでき、排水処理装置の建設コストを大幅に低減
でき、ランニングコストを低減でき、省スペース化を実
現できる。
【０１２２】(２) 処分費のかかる生活系の余剰汚泥
を、排水処理用微生物の栄養剤として有効に利用でき、
かつ、余剰汚泥の消化作用により新たな余剰汚泥の発生
が少なく廃棄物を減量化できる。
【０１２３】(１)、(２)により、本発明は半導体工場や
液晶工場などから発生する現像液含有排水を従来の処理
方法と比較して格段に合理的かつ経済的に処理できる一
大効果がある。
【０１２４】また、請求項５及び７に記載の発明によれ
ば、第三接触曝気槽は、その曝気手段が吐出する空気に
よって起こる水流が多数の網状管の内部を通過させられ
る。このため、曝気時の水流に対する抵抗が、上記網状
管がない場合に比べて小さくなり、上記第三接触曝気槽
は確実に接触混合撹拌できるようになる。そして、上記
網状管は、たとえば、塩化ビニールやポリエチレンで作
製されており、上記網状管の表面に付着する微生物によ
ってアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素を酸化させること
ができる。さらに、上記水流による撹拌が十分であるの
で、上記第三接触曝気槽は、その炭酸カルシウム鉱物お
よび活性炭にＳＳ（サスペンディッド・ソリッド）つま
り浮遊物質を確実に捕集することができる。したがっ
て、上記第三接触曝気槽は、網状管に付着する微生物及
び炭酸カルシウム鉱物と活性炭の表面に付着繁殖する微
生物によって、魚類に対して毒性のあるアンモニア性窒
素や亜硝酸性窒素を確実に硝酸性窒素にまで酸化処理す
ることができるし、かつ前記活性炭と活性炭の表面に付
着繁殖する微生物によって界面活性剤の最終的な処理を
することができる。
【０１２５】すなわち、請求項５および７に記載の発明
によれば、半導体工場や液晶工場などで必ず発生し、処
分が必要な生活系の余剰汚泥を有効に利用して、現像液
含有排水を希釈することなくＴＭＡＨおよびＴＭＡＨか
ら派生したアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素等および界
面活性剤を確実に処理できる合理的かつ、経済的な排水
の処理方法および処理装置が提供される。
【０１２６】また、上記放射状輪状糸体を塩化ビニリデ
ンで作製した場合には、上記ＢＳＫ菌等の枯草菌が上記
放射場輪状糸体に特に付着し易くなり、上記第一，第二
接触曝気槽内の微生物濃度を格段に高く維持することが
できる。したがって、微生物処理能力も格段に高くなっ
て、槽内の微生物の安定性もよくなる。このため、現像
液と界面活性剤を特に効率良く処理できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の現像液含有排水の処理方法および処
理装置の実施例を説明する系統図である。
【図２】 上記実施例の変形例を説明する系統図であ
る。
【図３】 従来例における現像液含有排水の排水処理の
系統図である。
【図４】 請求項５,６,７,８に記載の発明の実施例を
説明する系統図である。
【図５】 上記実施例の第三接触曝気槽の構造図であ
る。
【図６】 放射状輪状糸体の構造図である。
【符号の説明】
１ 調整槽 ２ 活性炭
吸着塔 ３ 希釈槽 ４ 中和槽 ５ 曝気槽 ６ 沈澱槽 ７ 調整槽ポンプ ８ ブロワ
ー ９ 沈澱槽ポンプ １０ 散気管 １１ 配管 １２ 希釈
槽ポンプ １３ 希釈槽 １４ 希釈
水配管 １５ 調整槽 １６ 曝気
槽 １７ 第一返送汚泥混合曝気槽 １８ 第一
沈澱槽 １９ 接触曝気槽 ２０ 第二
返送汚泥混合曝気槽 ２１ 第二沈澱槽 ２２ 調整
槽ポンプ ２３ ブロワー ２４ 第一
沈澱槽ポンプ ２５ 第二沈澱槽ポンプ ２６ 散気
管 ２７ 配管 ２８ 余剰
汚泥貯留槽 ２９ 余剰汚泥貯留槽ポンプ ３０ 炭酸
カルシウム充填物 ３１ 塩化ビニリデン充填物 ４１ 調整槽 ４２ 散気
管 ４３ 第一調整槽ポンプ ４４ 第一
接触曝気槽 ４５ 放射状輪状糸体 ４６ 第一
返送汚泥混合曝気槽 ４７ 第一沈殿槽 ４８ 第一
沈殿槽ポンプ ４９ 第二接触曝気槽 ５０ 第三
接触曝気槽 ５２ 第二沈殿槽 ５４ 余剰
汚泥貯留槽 ５５ ポンプ ５７ 配管 ５８ ブロワー ６１ 網状
管 ７１ 活性炭 ７２ 炭酸
カルシウム鉱物
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 3/34 ＺＡＢ Ｃ０２Ｆ 3/34 ＺＡＢＺ Ｇ０３Ｃ 5/00 Ｇ０３Ｃ 5/00 Ａ (72)発明者 坂田 和之 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 西尾 聡 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 内山 貴雅 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 平５−96298（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−322799（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−268000（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−200798（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−270787（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−282697（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−180795（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−152593（ＪＰ，Ａ)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 調整槽と、曝気槽と、第一沈澱槽と、曝
    気手段を有する第一返送汚泥混合曝気槽と、炭酸カルシ
    ウム充填物を充填した接触曝気槽と、第二沈澱槽と、第
    二返送汚泥混合曝気槽を備えた排水処理装置によって現
    像液含有排水の排水処理を行う排水処理方法であって、 上記第一沈澱槽から、上記第一返送汚泥混合曝気槽へ汚
    泥を返送し、上記第一返送汚泥混合曝気槽に枯草菌と生
    活系余剰汚泥を注入し、上記返送した汚泥と枯草菌と生
    活系余剰汚泥とを混合して曝気し、この混合して曝気し
    た上記返送汚泥と枯草菌と生活系余剰汚泥を上記調整槽
    または上記曝気槽の少なくとも一方へ返送し、 上記第二沈澱槽から、曝気手段を有する第二返送汚泥混
    合曝気槽へ汚泥を返送し、上記第二返送汚泥混合曝気槽
    に枯草菌と生活系余剰汚泥を注入し、上記返送した汚泥
    と枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、この混
    合して曝気した返送汚泥と枯草菌と生活系余剰汚泥を上
    記接触曝気槽へ返送することを特徴とする排水処理方
    法。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の現像液含有排水の排水
    処理方法において、上記曝気槽として、塩化ビニリデン
    充填物が充填されたものを用い、かつ、上記接触曝気槽
    として、塩化ビニリデン充填物と炭酸カルシウム充填物
    の両方が充填されたものを用いることを特徴とする排水
    処理方法。
  3. 【請求項３】 調整槽と、曝気槽と、第一沈澱槽と、接
    触曝気槽と、第二沈澱槽とを備えた排水処理装置におい
    て、枯草菌 と生活系余剰汚泥とが注入され、上記第一沈澱槽
    から汚泥が返送され、この返送汚泥と枯草菌と生活系余
    剰汚泥とを混合して曝気し、かつ、上記混合して曝気し
    た返送汚泥と枯草菌と生活系余剰汚泥を上記調整槽また
    は上記曝気槽の少なくとも一方へ返送する第一返送汚泥
    混合曝気槽と、枯草菌 と生活系余剰汚泥とが注入され、上記第二沈澱槽
    から汚泥が返送され、上記返送汚泥と枯草菌と生活系余
    剰汚泥とを混合して曝気し、この混合して曝気した返送
    汚泥と枯草菌と生活系余剰汚泥を上記接触曝気槽に返送
    する第二返送汚泥混合曝気槽とを備えることを特徴とす
    る排水処理装置。
  4. 【請求項４】 請求項３に記載の排水処理装置におい
    て、上記曝気槽は、塩化ビニリデン充填物が充填されて
    おり、かつ、上記接触曝気槽は、塩化ビニリデン充填物
    と炭酸カルシウム充填物の両方が充填されていることを
    特徴とする排水処理装置。
  5. 【請求項５】 調整槽と、放射状に延びた輪状部を複数
    含む放射状輪状糸体が充填された第一接触曝気槽と、第
    一沈澱槽と、曝気手段を有する第一返送汚泥混合曝気槽
    と、上記放射状輪状糸体が充填された第二接触曝気槽
    と、炭酸カルシウム鉱物と活性炭を充填した第三接触曝
    気槽と、第二沈澱槽と、第二返送汚泥混合曝気槽を備え
    た排水処理装置によって現像液含有排水の排水処理を行
    う排水処理方法であって、 上記第一沈澱槽から、上記第一返送汚泥混合曝気槽へ汚
    泥を返送し、上記第一返送汚泥混合曝気槽に、有機物分
    解能力があると共にコロニーに粘着力があり、かつ、脱
    臭能力がある枯草菌と生活系余剰汚泥を注入し、上記返
    送した汚泥と上記枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して
    曝気し、この混合して曝気した上記返送汚泥と上記枯草
    菌と生活系余剰汚泥を、上記第一接触曝気槽と上記調整
    槽の両方または上記第一接触曝気槽へ返送し、 上記第二沈澱槽から、曝気手段を有する第二返送汚泥混
    合曝気槽へ汚泥を返送し、上記第二返送汚泥混合曝気槽
    に上記枯草菌と生活系余剰汚泥を注入し、上記返送した
    汚泥と上記枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気
    し、この混合して曝気した返送汚泥と上記枯草菌と生活
    系余剰汚泥を上記第二接触曝気槽へ返送し、 上記第二接触曝気槽から、管壁が網状になっている複数
    の網状管が所定の距離を隔てて縦横に立体状に配設され
    ていると共に上記網状管と網状管との間の空間部に炭酸
    カルシウム鉱物と活性炭が充填されている上記第三接触
    曝気槽に排水を送ることを特徴とする排水処理方法。
  6. 【請求項６】 請求項５に記載の現像液含有排水の排水
    処理方法において、上記放射状輪状糸体が塩化ビニリデ
    ンで作製されていることを特徴とする排水処理方法。
  7. 【請求項７】 調整槽と、放射状に延びた輪状部を複数
    含む放射状輪状糸体が充填された第一接触曝気槽と、第
    一沈澱槽と、上記放射状輪状糸体が充填された第二接触
    曝気槽と、第二沈澱槽とを備えた排水処理装置であっ
    て、 有機物分解能力があると共にコロニーに粘着力があり、
    かつ、脱臭能力がある枯草菌と生活系余剰汚泥とが注入
    され、上記第一沈澱槽から汚泥が返送され、この返送汚
    泥と上記枯草菌と生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、
    かつ、上記混合して曝気した返送汚泥と上記枯草菌と生
    活系余剰汚泥を上記第一接触曝気槽と上記調整槽の両方
    または上記第一接触曝気槽へ返送する第一返送汚泥混合
    曝気槽と、 上記枯草菌と生活系余剰汚泥とが注入され、上記第二沈
    澱槽から汚泥が返送され、上記返送汚泥と上記枯草菌と
    生活系余剰汚泥とを混合して曝気し、この混合して曝気
    した返送汚泥と上記枯草菌と生活系余剰汚泥を上記第二
    接触曝気槽に返送する第二返送汚泥混合曝気槽と、 管壁が網状になっている複数の網状管が所定の距離を隔
    てて縦横に立体状に配設されていると共に上記網状管と
    網状管との間の空間部に炭酸カルシウム鉱物と活性炭が
    充填されている第三接触曝気槽とを備えることを特徴と
    する排水処理装置。
  8. 【請求項８】 請求項７に記載の排水処理装置におい
    て、上記放射状輪状糸体が塩化ビニリデンで作製されて
    いることを特徴とする排水処理装置。
  9. 【請求項９】 上記枯草菌がＢＳＫ（バチラス・スブチ
    リス・クボタ）菌であることを特徴とする請求項１、
    ２、５又は６に記載の排水処理方法。
  10. 【請求項１０】 上記枯草菌がＢＳＫ菌であることを特
    徴とする、請求項３、４、７又は８に記載の排水処理装
    置。
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