JP2022110602A - 眼科装置、眼科装置の制御方法、及びプログラム - Google Patents

Abstract

【課題】被検眼における所望の層領域の深さ位置を短時間に、且つ、正確に特定するための新たな技術を提供する。【解決手段】眼科装置は、層領域特定部と、層領域位置算出部とを含む。層領域特定部は、被検眼の眼底に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて、眼底における第１層領域に相当する第１深さ位置を特定する。層領域位置算出部は、第１深さ位置に所定のオフセット値を加算して眼底における第２層領域に相当する第２深さ位置を算出する。【選択図】図５

Description

この発明は、眼科装置、眼科装置の制御方法、及びプログラムに関する。

眼軸長の測定は、白内障手術前の眼内レンズ（ｉｎｔｒａｏｃｕｌａｒ ｌｅｎｓ：ＩＯＬ）の度数選択だけではなく、軸性屈折異常の確認や眼球形状の計測などを目的として行われる。

眼軸長の測定が可能な装置として、角膜に超音波プローブを接触させて眼軸長を測定する超音波式眼軸長測定装置や、被検眼に対して光コヒーレンストモグラフィを実行して非接触にて眼軸長を光学的に測定する光学式眼軸長測定装置などがある。

一般的に、超音波式眼軸長測定装置により得られた眼軸長が用いられる。しかしながら、超音波式眼軸長測定装置による測定には熟練の手技が必要な上に、被検眼に対して点眼麻酔を行う必要があるため、被検者の負担が大きくなる。

これに対して、光学式眼軸長測定装置による測定には、熟練の手技が不要であり、非接触での測定が可能なため、被検者の負担が大幅に軽減される。しかしながら、白内障眼の場合には測定ができず、信頼性の高い測定結果を得ることが難しくなる。

例えば、特許文献１には、超音波式で眼軸長の測定を行う超音波式眼軸長測定手段と、非接触にて光学的に眼軸長の測定を行う非接触式眼軸長測定手段とを備えた眼軸長測定装置が開示されている。

例えば、特許文献２には、被検眼に対して光コヒーレンストモグラフィを実行することにより得られたＡスキャン方向の強度プロファイルから角膜頂点の位置と網膜色素上皮層の位置とを特定し、眼軸長を測定する手法が開示されている。

例えば、非特許文献１には、７８０ナノメートル（ｎｍ）の近赤外光を測定光として用いた光コヒーレンストモグラフィにより得られた眼軸長に対応する光路長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて測定された眼軸長（物理長）に変換する手法が開示されている。

特開２００８－１６１２１８号公報 特表２０１４－５０００９６号公報

Ｓｕｈｅｉｍａｔ Ｍ， Ｖｅｒｋｉｃｈａｒｌａ ＰＫ， Ｍａｌｌｅｎ ＥＡＨ， Ｒｏｚｅｍａ Ｊ， Ａｔｃｈｉｓｏｎ ＤＡ， "Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ ｉｎｄｉｃｅｓ ｕｓｅｄ ｂｙ ｔｈｅ Ｈａａｇ－Ｓｔｒｅｉｔ Ｌｅｎｓｔａｒ ｔｏ ｃａｌｃｕｌａｔｅ ａｘｉａｌ ｂｉｏｍｅｔｒｉｃ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎｓ"， Ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ ＆ Ｐｈｙｓｉｏｌｏｇｉｃａｌ Ｏｐｔｉｃｓ ２０１５， ３５：９０－９６．ｄｏｉ：１０．１１１１／ｏｐｏ．１２１８２

眼軸長は、角膜頂点から網膜色素上皮（Ｒｅｔｉｎａｌ Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｅｐｉｔｈｅｌｉｕｍ：以下、ＲＰＥ）層までの距離である。しかしながら、光コヒーレンストモグラフィを実行して得られた干渉信号の強度プロファイルでは、ＲＰＥ層に相当するピークが、内節外節結合部（ＩＳ／ＯＳライン）やブルッフ膜（Ｂｒｕｃｈ ｍｅｍｂｒａｎｅ）等の層領域に相当するピークに埋もれる場合がある。その場合、ＲＰＥ層に相当するピークの特定に時間を要したり、ＲＰＥ層に相当するピークの特定に失敗したり、ＲＰＥ層に相当するピークを誤検出したりする場合がある。その結果、眼軸長の測定結果の信頼性を低下させる。

従って、被検眼における所望の層領域の深さ位置を短時間に、且つ、正確に特定することが求められる。

本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、その目的の１つは、被検眼における所望の層領域の深さ位置を短時間に、且つ、正確に特定するための新たな技術を提供することにある。

いくつかの実施形態の第１態様は、被検眼の眼底に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて、前記眼底における第１層領域に相当する第１深さ位置を特定する層領域特定部と、前記第１深さ位置に所定のオフセット値を加算して前記眼底における第２層領域に相当する第２深さ位置を算出する層領域位置算出部と、を含む、眼科装置である。

いくつかの実施形態の第２態様では、第１態様において、前記第１層領域は、ＩＳ／ＯＳラインであり、前記第２層領域は、網膜色素上皮層である。

いくつかの実施形態の第３態様では、第１態様又は第２態様において、前記層領域位置算出部は、前記被検眼に応じて異なるオフセット値を前記第１深さ位置に加算する。

いくつかの実施形態の第４態様では、第２態様又は第３態様において、前記層領域特定部は、前記干渉光の検出結果に基づいて、前記第１深さ位置と角膜頂点に相当する第３深さ位置とを特定する。眼科装置は、前記第３深さ位置と前記第２深さ位置とに基づいて前記被検眼の眼軸長を算出する眼軸長算出部を含む。

いくつかの実施形態の第５態様では、第４態様において、前記ＯＣＴスキャンは、第１波長を測定波長とする測定光を前記被検眼に照射することにより実行される。眼科装置は、前記眼軸長算出部により算出された前記眼軸長に対して波長補正を行うことにより、前記第１波長と異なる第２波長における眼軸長に補正する波長補正部を含む。

いくつかの実施形態の第６態様は、第１波長を測定波長とする測定光を用いて被検眼に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて眼軸長を算出する眼軸長算出部と、前記眼軸長算出部により算出された前記眼軸長に対して波長補正を行うことにより、前記第１波長と異なる第２波長における眼軸長に補正する波長補正部と、を含む、眼科装置である。

いくつかの実施形態の第７態様では、第５態様又は第６態様において、前記波長補正部は、前記第２波長における人眼の屈折率に対する前記第１波長における人眼の屈折率の比を、前記眼軸長算出部により算出された前記眼軸長に乗算することにより前記第２波長における眼軸長に補正する。

いくつかの実施形態の第８態様では、第５態様～第７態様のいずれかにおいて、前記第２波長は、７８０ｎｍである。

いくつかの実施形態の第９態様は、第５態様～第８態様のいずれかにおいて、前記波長補正部により補正された眼軸長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長に換算する眼軸長換算部を含む。

いくつかの実施形態の第１０態様では、第９態様において、前記眼軸長換算部は、前記波長補正部により補正された眼軸長としての光路長を、前記超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長としての物理長に換算する。

いくつかの実施形態の第１１態様は、第１態様～第１０態様のいずれかにおいて、光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を前記被検眼に照射し、前記被検眼からの前記測定光の戻り光と参照光路を経由した前記参照光との前記干渉光を検出するＯＣＴ光学系を含む。

いくつかの実施形態の第１２態様は、被検眼の眼底に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて、前記眼底における第１層領域に相当する第１深さ位置を特定する層領域特定ステップと、前記第１深さ位置に所定のオフセット値を加算して前記眼底における第２層領域に相当する第２深さ位置を算出する層領域位置算出ステップと、を含む、眼科装置の制御方法である。

いくつかの実施形態の第１３態様では、第１２態様において、前記第１層領域は、ＩＳ／ＯＳラインであり、前記第２層領域は、網膜色素上皮層である。

いくつかの実施形態の第１４態様では、第１２態様又は第１３態様において、前記層領域特定ステップは、前記干渉光の検出結果に基づいて、前記第１深さ位置と角膜頂点に相当する第３深さ位置とを特定する。眼科装置の制御方法は、前記第３深さ位置と前記第２深さ位置とに基づいて前記被検眼の眼軸長を算出する眼軸長算出ステップを含む。

いくつかの実施形態の第１５態様では、第１４態様において、前記ＯＣＴスキャンは、第１波長を測定波長とする測定光を前記被検眼に照射することにより実行される。眼科装置の制御方法は、前記眼軸長算出ステップにおいて算出された前記眼軸長に対して波長補正を行うことにより、前記第１波長と異なる第２波長における眼軸長に補正する波長補正ステップを含む。

いくつかの実施形態の第１６態様は、第１波長を測定波長とする測定光を用いて被検眼に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて眼軸長を算出する眼軸長算出ステップと、前記眼軸長算出ステップにおいて算出された前記眼軸長に対して波長補正を行うことにより、前記第１波長と異なる第２波長における眼軸長に補正する波長補正ステップと、を含む、眼科装置の制御方法である。

いくつかの実施形態の第１７態様は、第１５態様又は第１６態様において、前記波長補正ステップにおいて補正された眼軸長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長に換算する眼軸長換算ステップを含む。

いくつかの実施形態の第１８態様は、コンピュータに、第１２態様～第１７態様のいずれかに記載の眼科装置の制御方法の各ステップを実行させるプログラムである。

なお、上記した複数の請求項に係る構成を任意に組み合わせることが可能である。

本発明によれば、被検眼における所望の層領域の深さ位置を短時間に、且つ、正確に特定するための新たな技術を提供することができるようになる。

実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作を説明するための概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作を説明するための概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。

この発明に係る眼科装置、眼科装置の制御方法、及びプログラムの実施形態の例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、この明細書において引用された文献の記載内容や任意の公知技術を、以下の実施形態に援用することが可能である。

実施形態に係る眼科装置は、被検眼に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて、眼底における第１層領域に相当する深さ位置を特定し、特定された深さ位置に所定のオフセット値を加算して眼底における第２層領域に相当する深さ位置を算出する。例えば、第１層領域は、ＩＳ／ＯＳラインであり、第２層領域は、ＲＰＥ層である。

これにより、眼底（網膜）側の代表位置の特定に失敗することなく、短時間で正確に眼底側の代表位置を特定することが可能になる。その結果、眼底側の代表位置を用いて特定される被検眼の眼内距離（例えば、眼軸長）の測定精度を向上させることができる。

また、実施形態に係る眼科装置は、被検眼に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて得られた眼軸長等の眼内距離に対して、波長補正、又は、波長補正及び所定の換算式を用いて換算することが可能である。これにより、波長が異なる測定光で眼軸長の測定が可能な他の眼軸長測定装置の測定結果や、超音波式眼軸長測定装置の測定結果と高精度に比較することができるようになる。

実施形態に係る眼科装置の制御方法は、実施形態に係る眼科装置を制御する方法である。実施形態に係るプログラムは、眼科装置の制御方法の各ステップをプロセッサ（コンピュータ）に実行させる。実施形態に係る記録媒体は、実施形態に係るプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な非一時的な記録媒体（記憶媒体）である。

本明細書において「プロセッサ」は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）、プログラマブル論理デバイス（例えば、ＳＰＬＤ（Ｓｉｍｐｌｅ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＣＰＬＤ（Ｃｏｍｐｌｅｘ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙ））等の回路を意味する。プロセッサは、例えば、記憶回路や記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、実施形態に係る機能を実現する。

以下、実施形態に係る眼科装置が、被検眼に対してＯＣＴを実行するＯＣＴ光学系を含む測定光学系を備える場合について説明するが、実施形態に係る眼科装置の構成はこれに限定されるものではない。例えば、実施形態に係る眼科装置は、外部のＯＣＴ装置から干渉光の検出結果を取得するように構成されていてもよい。

いくつかの実施形態に係る眼科装置は、ＯＣＴを実行するためのＯＣＴ装置の機能だけではなく、眼底カメラ、走査型レーザー検眼鏡、スリットランプ顕微鏡、及び手術用顕微鏡の少なくとも１つの機能を備える。更に、いくつかの実施形態に係る眼科装置は、被検眼の光学的な特性を測定する機能を備える。被検眼の光学的な特性を測定する機能を備えた眼科装置には、眼圧計、ウェーブフロントアナライザー、スペキュラーマイクロスコープ、視野計などがある。いくつかの実施形態に係る眼科装置は、レーザー治療に用いられるレーザー治療装置の機能を備える。

以下、実施形態では、ＯＣＴを用いた計測等においてスペクトラルドメインタイプのＯＣＴの手法を用いる場合について特に詳しく説明する。しかしながら、他のタイプ（例えば、スウェプトソースタイプ）のＯＣＴを用いる眼科装置に対して、実施形態に係る構成を適用することも可能である。

＜光学系の構成＞
図１及び図２に、実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。図１は、実施形態に係る眼科装置１０００の光学系の全体の構成例を表す。図２は、図１のＯＣＴユニット１００の光学系の構成例を表す。

実施形態に係る眼科装置１０００は、被検眼Ｅを観察するための光学系と、被検眼Ｅを検査するための光学系と、これらの光学系の光路を波長分離するダイクロイックミラーとを含む。被検眼Ｅを観察するための光学系として、前眼部観察系５が設けられている。被検眼Ｅを検査するための光学系としてＯＣＴ光学系やレフ測定光学系（屈折力測定光学系）が設けられている。

眼科装置１０００は、アライメント系１と、ケラト測定系３、固視投影系４、前眼部観察系５、レフ測定投射系６、レフ測定受光系７、及びＯＣＴ光学系８を含む。以下では、例えば、前眼部観察系５が９４０ｎｍ～１０００ｎｍの光を用い、レフ測定光学系（レフ測定投射系６、レフ測定受光系７）が８５０ｎｍ～８８０ｎｍの光を用い、固視投影系４が４００ｎｍ～７００ｎｍの光を用いるものとする。また、ＯＣＴ光学系８が８４０ｎｍの光を用いるものとする。すなわち、ＯＣＴ光学系８は、８４０ｎｍを測定波長とするＯＣＴ計測（ＯＣＴスキャン）を実行するものとする。

（アライメント系１）
アライメント系１は、被検眼Ｅに対する光学系のＺアライメントとＸＹアライメントとに用いられる。Ｚアライメントは、前眼部観察系５（例えば、対物レンズ５１）の光軸に平行なＺ方向（前後方向、作動距離方向）のアライメントである。ＸＹアライメントは、この光軸に垂直な方向（左右方向（Ｘ方向）、上下方向（Ｙ方向））のアライメントである。

アライメント系１は、２以上の前眼部カメラ１４を含む。２以上の前眼部カメラ１４は、被検眼Ｅの前眼部を互いに異なる方向から実質的に同時に撮影し、取得された２以上の撮影画像（前眼部像）を後述の処理部９に出力する。処理部９は、２以上の前眼部カメラ１４からの２以上の撮影画像を解析して被検眼Ｅ（具体的には、被検眼Ｅの特徴部位）の３次元位置を特定し、特定された３次元位置に基づいて被検眼Ｅ（特徴部位）に対する光学系のＸＹ方向及びＺ方向のアライメントを行う。

以下では、アライメント系１は、２つの前眼部カメラ１４を含むものとする。しかしながら、アライメント系１は、３以上の前眼部カメラ１４を含んでもよい。また、２つの前眼部カメラ１４の１つの機能は、後述する前眼部観察系５が備える撮像素子５９により実現されてよい。

（前眼部観察系５）
前眼部観察系５は、被検眼Ｅの前眼部を動画撮影する。前眼部観察系５を経由する光学系において、撮像素子５９の撮像面は瞳孔共役位置（被検眼Ｅの瞳孔と光学的に略共役な位置）に配置されている。前眼部照明光源５０は、被検眼Ｅの前眼部に照明光（例えば、赤外光）を照射する。被検眼Ｅの前眼部により反射された光は、対物レンズ５１を通過し、ダイクロイックミラー５２を透過し、絞り（テレセン絞り）５３に形成された孔部を通過し、リレーレンズ５５及び５６を通過し、ダイクロイックミラー７６を透過する。ダイクロイックミラー５２は、レフ測定光学系の光路と前眼部観察系５の光路とを合成（分離）する。ダイクロイックミラー５２は、これらの光路を合成する光路合成面が対物レンズ５１の光軸に対して傾斜して配置される。ダイクロイックミラー７６を透過した光は、結像レンズ５８により撮像素子５９（エリアセンサー）の撮像面に結像される。撮像素子５９は、所定のレートで撮像及び信号出力を行う。撮像素子５９の出力（映像信号）は、後述の処理部９に入力される。処理部９は、この映像信号に基づく前眼部像Ｅ´を後述の表示部１０の表示画面１０ａに表示させる。前眼部像Ｅ´は、例えば赤外動画像である。

（ケラト測定系３）
ケラト測定系３は、被検眼Ｅの角膜Ｃｒの形状を測定するためのリング状光束（赤外光）を角膜Ｃｒに投射する。ケラト板３１は、対物レンズ５１と被検眼Ｅとの間に配置されている。ケラト板３１の背面側（対物レンズ５１側）にはケラトリング光源３２が設けられている。ケラト板３１には、対物レンズ５１の光軸を中心とする円周上に沿ってケラトリング光源３２からの光を透過するケラトパターン（透過部）が形成されている。なお、ケラトパターンは、対物レンズ５１の光軸を中心とする円弧状（円周の一部）に形成されていてもよい。ケラトリング光源３２からの光でケラト板３１を照明することにより、被検眼Ｅの角膜Ｃｒにリング状光束（円弧状又は円周状の測定パターン）が投射される。被検眼Ｅの角膜Ｃｒからの反射光（ケラトリング像）は撮像素子５９により前眼部像Ｅ´とともに検出される。処理部９は、このケラトリング像を基に公知の演算を行うことで、角膜Ｃｒの形状を表す角膜形状パラメータを算出する。

（レフ測定投射系６、レフ測定受光系７）
レフ測定光学系は、屈折力測定に用いられるレフ測定投射系６及びレフ測定受光系７を含む。レフ測定投射系６は、屈折力測定用の光束（例えば、リング状光束）（赤外光）を眼底Ｅｆに投射する。レフ測定受光系７は、この光束の被検眼Ｅからの戻り光を受光する。レフ測定投射系６は、レフ測定受光系７の光路に設けられた孔開きプリズム６５によって分岐された光路に設けられる。孔開きプリズム６５に形成されている孔部は、瞳孔共役位置に配置される。レフ測定受光系７を経由する光学系において、撮像素子５９の撮像面は眼底共役位置（被検眼Ｅの眼底Ｅｆと光学的に略共役な位置）に配置される。

いくつかの実施形態では、レフ測定光源６１は、高輝度光源であるＳＬＤ（Ｓｕｐｅｒｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ）光源である。レフ測定光源６１は、光軸方向に移動可能である。レフ測定光源６１は、眼底共役位置に配置される。レフ測定光源６１から出力された光は、リレーレンズ６２を通過し、円錐プリズム６３の円錐面に入射する。円錐面に入射した光は偏向され、円錐プリズム６３の底面から出射する。円錐プリズム６３の底面から出射した光は、リング絞り６４にリング状に形成された透光部を通過する。リング絞り６４の透光部を通過した光（リング状光束）は、孔開きプリズム６５の孔部の周囲に形成された反射面により反射され、ロータリープリズム６６を通過し、ダイクロイックミラー６７により反射される。ダイクロイックミラー６７により反射された光は、ダイクロイックミラー５２により反射され、対物レンズ５１を通過し、被検眼Ｅに投射される。ロータリープリズム６６は、眼底Ｅｆの血管や疾患部位に対するリング状光束の光量分布を平均化や光源に起因するスペックルノイズの低減のために用いられる。

眼底Ｅｆに投射されたリング状光束の戻り光は、対物レンズ５１を通過し、ダイクロイックミラー５２及びダイクロイックミラー６７により反射される。ダイクロイックミラー６７により反射された戻り光は、ロータリープリズム６６を通過し、孔開きプリズム６５の孔部を通過し、リレーレンズ７１を通過し、反射ミラー７２により反射され、リレーレンズ７３及び合焦レンズ７４を通過する。合焦レンズ７４は、レフ測定受光系７の光軸に沿って移動可能である。合焦レンズ７４を通過した光は、反射ミラー７５により反射され、ダイクロイックミラー７６により反射され、結像レンズ５８により撮像素子５９の撮像面に結像される。処理部９は、撮像素子５９からの出力を基に公知の演算を行うことで被検眼Ｅの屈折力値を算出する。例えば、屈折力値は、球面度数、乱視度数及び乱視軸角度、又は等価球面度数を含む。

（固視投影系４）
ダイクロイックミラー６７によりレフ測定光学系の光路から波長分離された光路に、後述のＯＣＴ光学系８が設けられる。ダイクロイックミラー８３によりＯＣＴ光学系８の光路から分岐された光路に固視投影系４が設けられる。

固視投影系４は、固視標を被検眼Ｅに呈示する。固視投影系４の光路には、固視ユニット４０が配置されている。固視ユニット４０は、後述の処理部９からの制御を受け、固視投影系４の光路に沿って移動可能である。固視ユニット４０は、液晶パネル４１を含む。ダイクロイックミラー８３と固視ユニット４０との間に、リレーレンズ４２が配置されている。

処理部９による制御を受けた液晶パネル４１は、固視標を表すパターンを表示する。液晶パネル４１の画面上におけるパターンの表示位置を変更することにより、被検眼Ｅの固視位置を変更できる。被検眼Ｅの固視位置としては、眼底Ｅｆの黄斑部を中心とする画像を取得するための位置や、視神経乳頭を中心とする画像を取得するための位置や、黄斑部と視神経乳頭との間の眼底中心を中心とする画像を取得するための位置などがある。固視標を表すパターンの表示位置を任意に変更することが可能である。

液晶パネル４１からの光は、リレーレンズ４２を通過し、ダイクロイックミラー８３を透過し、リレーレンズ８２を通過し、反射ミラー８１により反射され、ダイクロイックミラー６７を透過し、ダイクロイックミラー５２により反射される。ダイクロイックミラー５２により反射された光は、対物レンズ５１を通過して眼底Ｅｆに投射される。いくつかの実施形態では、液晶パネル４１及びリレーレンズ４２のそれぞれは、独立に光軸方向に移動可能である。

（ＯＣＴ光学系８）
ＯＣＴ光学系８は、ＯＣＴ計測を行うための光学系である。ＯＣＴ計測よりも前に実施されたレフ測定結果に基づいて、光ファイバーｆ１の端面がＯＣＴ計測部位と光学系に共役となるように合焦レンズ８７の位置が調整される。ＯＣＴ計測部位は、眼底Ｅｆ、前眼部等の被検眼Ｅの任意の部位であってよい。

ＯＣＴ光学系８は、ダイクロイックミラー６７によりレフ測定光学系の光路から波長分離された光路に設けられる。上記の固視投影系４の光路は、ダイクロイックミラー８３によりＯＣＴ光学系８の光路に結合される。それにより、ＯＣＴ光学系８及び固視投影系４のそれぞれの光軸を同軸で結合することができる。

ＯＣＴ光学系８は、ＯＣＴユニット１００を含む。図２に示すように、ＯＣＴユニット１００には、被検眼Ｅに対してＯＣＴ計測（ＯＣＴ撮影、ＯＣＴスキャン）を行うための光学系が設けられている。この光学系は、従来のスペクトラルドメインタイプのＯＣＴ装置と同様の構成を有する。すなわち、この光学系は、広帯域光源からの光（低コヒーレンス光）を参照光と測定光とに分割し、被検眼Ｅ（ＯＣＴ計測部位）を経由した測定光と参照光路を経由した参照光とを干渉させて干渉光を生成し、この干渉光のスペクトル成分を検出するように構成されている。この検出結果（検出信号）は処理部９に送られる。

光源ユニット１０１は広帯域の低コヒーレンス光Ｌ０を出力する。低コヒーレンス光Ｌ０は、例えば、近赤外領域の波長帯（約８００ｎｍ～９００ｎｍ程度）の波長成分を有し、数十マイクロメートル程度の時間的コヒーレンス長を有する。また、人眼では視認できない波長帯、例えば１０４０～１０６０ｎｍ程度の中心波長を有する近赤外光を低コヒーレンス光Ｌ０として用いてもよい。

以下、光源ユニット１０１は、８４０ｎｍの波長成分を有する低コヒーレンス光Ｌ０を出力するものとする。

光源ユニット１０１は、スーパールミネセントダイオード（Ｓｕｐｅｒ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ：ＳＬＤ）や、ＬＥＤや、ＳＯＡ（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｍｐｌｉｆｉｅｒ）等の光出力デバイスを含んで構成される。

光源ユニット１０１から出力された低コヒーレンス光Ｌ０は、光ファイバー１０２によりファイバーカプラー１０３に導かれて測定光ＬＳと参照光ＬＲとに分割される。

参照光ＬＲは、光ファイバー１０４により導かれてアッテネータ（光減衰器）１０５に到達する。アッテネータ１０５は、公知の技術を用いて、処理部９の制御の下、光ファイバー１０４により導かれる参照光ＬＲの光量を自動で調整する。アッテネータ１０５により光量が調整された参照光ＬＲは、光ファイバー１０４により導かれて偏波コントローラ（偏波調整器）１０６に到達する。偏波コントローラ１０６は、例えば、ループ状にされた光ファイバー１０４に対して外部から応力を与えることで、光ファイバー１０４内を導かれる参照光ＬＲの偏波状態を調整する装置である。なお、偏波コントローラ１０６の構成はこれに限定されるものではなく、任意の公知技術を用いることが可能である。偏波コントローラ１０６により偏波状態が調整された参照光ＬＲは、ファイバーカプラー１０９に到達する。

ファイバーカプラー１０３により生成された測定光ＬＳは、光ファイバーｆ１によりコリメータレンズ９０（図１）に導かれ、コリメータレンズ９０により平行光束とされる。更に、測定光ＬＳは、光路長変更部８９、光スキャナー８８、合焦レンズ８７、リレーレンズ８５、及び反射ミラー８４を経由してダイクロイックミラー８３に到達する。

いくつかの実施形態では、合焦レンズ８７と光スキャナー８８とは、光軸方向に移動可能な１つのユニット内に収容される。これにより、合焦レンズ８７と光スキャナー８８との光学的な位置関係が維持されたまま光軸方向に移動することができる。このように合焦レンズ８７と光スキャナー８８とを一体的に移動可能に構成することにより、光スキャナー８８と被検眼Ｅとの共役関係を維持したまま光学系の調整が可能となる。また、この構成の場合、合焦レンズ８７の焦点距離ｆを変えることで、被検眼Ｅの瞳孔と光スキャナー８８の倍率関係を容易に変更ことが可能である。

いくつかの実施形態では、合焦レンズ８７と光スキャナー８８とは、ユニット内で独立に光軸方向に移動される。いくつかの実施形態では、合焦レンズ８７と光スキャナー８８とは、処理部９からの制御を受けて独立に又は一体的に光軸方向に移動される。例えば、対物レンズ５１の焦点位置に被検眼Ｅの瞳孔が配置され、合焦レンズ８７の焦点位置に光スキャナー８８の偏向面が配置される（合焦レンズ８７の焦点位置に光スキャナー８８が配置される場合、瞳孔共役関係が保たれ、光スキャナー８８の偏向面は瞳孔共役位置に配置される）。

光路長変更部８９は、測定光ＬＳの光路長を変更する。測定光ＬＳの光路長を変更することにより、参照光ＬＲの光路長と測定光ＬＳの光路長との差を変更することが可能である。例えば、光路長変更部８９は、測定光ＬＳの光路及び測定光ＬＳの戻り光の光路に沿って移動可能なリトロリフレクター（ｒｅｔｒｏｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）を含み、リトロリフレクターを移動することで測定光ＬＳの光路長を変更する。

光スキャナー８８は、測定光ＬＳを１次元的又は２次元的に偏向する。

いくつかの実施形態では、光スキャナー８８は、第１ガルバノミラーと、第２ガルバノミラーとを含む。第１ガルバノミラーは、ＯＣＴ光学系８の光軸に直交する水平方向にＯＣＴ計測部位をスキャンするように測定光ＬＳを偏向する。第２ガルバノミラーは、ＯＣＴ光学系８の光軸に直交する垂直方向に撮影部位をスキャンするように、第１ガルバノミラーにより偏向された測定光ＬＳを偏向する。このような光スキャナー８８による測定光ＬＳの走査態様としては、例えば、水平スキャン、垂直スキャン、十字スキャン、放射スキャン、円スキャン、同心円スキャン、螺旋スキャンなどがある。

いくつかの実施形態では、光スキャナー８８は、測定光ＬＳを２次元的に偏向するＭＥＭＳスキャナー（ＭＥＭＳミラースキャナー）を含む。ＭＥＭＳスキャナーは、ＯＣＴ光学系８の光軸に直交する水平方向及び垂直方向にＯＣＴ計測部位をスキャンするように測定光ＬＳを偏向する。

なお、光スキャナー８８は、ガルバノミラー及びＭＥＭＳスキャナー以外に、ポリゴンミラー、回転ミラー、ダボプリズム、ダブルダボプリズム、ローテーションプリズムなどを含んで構成されていてもよい。

ダイクロイックミラー８３に到達した測定光ＬＳは、ダイクロイックミラー８３により反射され、リレーレンズ８２を通過し、反射ミラー８１により反射される。反射ミラー８１により反射された測定光ＬＳは、ダイクロイックミラー５２により反射され、対物レンズ５１により屈折されてＯＣＴ計測部位に照射される。測定光ＬＳは、ＯＣＴ計測部位の様々な深さ位置において散乱（反射を含む）される。ＯＣＴ計測部位による測定光ＬＳの後方散乱光は、往路と同じ経路を逆向きに進行してファイバーカプラー１０３に導かれ、光ファイバー１０８を経由してファイバーカプラー１０９に到達する。

ファイバーカプラー１０９は、測定光ＬＳの後方散乱光と、アッテネータ１０５等を経由した参照光ＬＲとを干渉させる。これにより生成された干渉光ＬＣは、光ファイバー１１０により導かれて出射端１１１から出射される。更に、干渉光ＬＣは、コリメータレンズ１１２により平行光束とされ、回折格子（分光器）１１３により分光（スペクトル分解）され、ズーム光学系１１４により集光されてＣＣＤイメージセンサ１１５の受光面に投影される。なお、図２に示す回折格子１１３は透過型であるが、例えば反射型の回折格子など、他の形態の分光素子を用いることも可能である。

ＣＣＤイメージセンサ１１５は、例えばラインセンサーであり、２以上の受光素子（検出素子）が配列され、分光された干渉光ＬＣの各スペクトル成分を検出して電荷に変換する。ＣＣＤイメージセンサ１１５は、この電荷を蓄積して検出信号を生成し、これを処理部９に送る。

この実施形態ではマイケルソン型の干渉計を採用しているが、例えばマッハツェンダー型など任意のタイプの干渉計を適宜に採用することが可能である。また、ＣＣＤイメージセンサに代えて、他の形態のイメージセンサ、例えばＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）イメージセンサなどを用いることが可能である。

また、図１に示す構成では、光路長変更部８９により測定光ＬＳの光路長を変更することにより、測定光ＬＳの光路長と参照光ＬＲの光路長との差を変更するように構成されているが、実施形態に係る構成は、これに限定されるものではない。例えば、公知の手法により参照光ＬＲの光路長を変更することにより、測定光ＬＳの光路長と参照光ＬＲの光路長との差を変更するように構成されていてもよい。

処理部９は、レフ測定光学系を用いて得られた測定結果から屈折力値を算出し、算出された屈折力値に基づいて、眼底Ｅｆとレフ測定光源６１と撮像素子５９とが共役となる位置に、レフ測定光源６１及び合焦レンズ７４それぞれを光軸方向に移動させる。いくつかの実施形態では、処理部９は、合焦レンズ７４の移動に連動して合焦レンズ８７及び光スキャナー８８をその光軸方向に移動させる。いくつかの実施形態では、処理部９は、レフ測定光源６１及び合焦レンズ７４の移動に連動して液晶パネル４１（固視ユニット４０）をその光軸方向に移動させる。

上記の実施形態において、合焦レンズ７４、８７の少なくとも１つの機能が液晶レンズ又は液体レンズにより実現されてもよい。

＜処理系の構成＞
眼科装置１０００の処理系の構成について説明する。眼科装置１０００の処理系の機能的構成の例を図３～図５に示す。図３は、眼科装置１０００の処理系の機能ブロック図の一例を表す。図４は、処理部９の処理対象である図３のＯＣＴ光学系８の機能ブロック図の一例を表す。図５は、図３のデータ処理部２５０の機能ブロック図の一例を表す。

処理部９は、眼科装置１０００の各部を制御する。また、処理部９は、各種演算処理を実行可能である。処理部９は、プロセッサを含む。処理部９は、例えば、記憶回路や記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、実施形態に係る機能を実現する。

処理部９は、制御部２１０と、演算処理部２２０とを含む。また、眼科装置１０００は、移動機構４０Ｄ、７４Ｄ、８７Ｄ、２００と、表示部２７０と、操作部２８０と、通信部２９０とを含む。

移動機構２００は、上記の光学系が収納されたヘッド部をＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向に移動させるための機構である。例えば、移動機構２００には、ヘッド部を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。制御部２１０（主制御部２１１）は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構２００に対する制御を行う。

移動機構４０Ｄは、固視ユニット４０を固視投影系４の光軸方向（対物レンズ５１の光軸方向）に移動するための機構である。例えば、移動機構４０Ｄには、移動機構２００と同様に、固視ユニット４０を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。制御部２１０（主制御部２１１）は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構４０Ｄに対する制御を行う。

移動機構７４Ｄは、合焦レンズ７４をレフ測定受光系７の光軸方向に移動するための機構である。例えば、移動機構７４Ｄには、移動機構２００と同様に、合焦レンズ７４を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。制御部２１０（主制御部２１１）は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構７４Ｄに対する制御を行う。

移動機構８７Ｄは、合焦レンズ８７をＯＣＴ光学系８の光軸方向（対物レンズ５１の光軸方向）に移動するための機構である。例えば、移動機構８７Ｄには、移動機構２００と同様に、合焦レンズ８７を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。制御部２１０（主制御部２１１）は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構８７Ｄに対する制御を行う。

いくつかの実施形態では、移動機構８７Ｄの制御には、合焦レンズ８７の光軸方向への移動制御、撮影部位に対応した合焦基準位置への合焦レンズ８７の移動制御、撮影部位に対応した移動範囲（合焦範囲）内での移動制御などがある。例えば、主制御部２１１は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構８７Ｄに対する制御を行い、合焦レンズ８７を光軸方向に移動させる。

（制御部２１０）
制御部２１０は、プロセッサを含み、眼科装置の各部を制御する。制御部２１０は、主制御部２１１と、記憶部２１２とを含む。記憶部２１２には、眼科装置１０００を制御するためのコンピュータプログラムがあらかじめ格納される。コンピュータプログラムには、アライメント系制御用プログラム、ケラト系制御用プログラム、固視系制御用プログラム、前眼部観察系制御用プログラム、レフ測定投射系制御用プログラム、レフ測定受光系制御用プログラム、ＯＣＴ光学系制御用プログラム、演算処理用プログラム及びユーザインターフェイス用プログラムなどが含まれる。このようなコンピュータプログラムに従って主制御部２１１が動作することにより、制御部２１０は制御処理を実行する。

主制御部２１１は、測定制御部として眼科装置の各種制御を行う。

アライメント系１に対する制御には、前眼部カメラ１４の制御などがある。

前眼部カメラ１４の制御には、各前眼部カメラの露光調整、ゲイン調整、及び検出レート調整や、２つの前眼部カメラ１４の撮影の同期制御などがある。いくつかの実施形態では、２つの前眼部カメラの露光条件、ゲイン、及び検出レートが実質的に同一になるように２つの前眼部カメラ１４が制御される。

ケラト測定系３に対する制御には、ケラトリング光源３２の制御などがある。

ケラトリング光源３２の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。それにより、ケラトリング光源３２の点灯と非点灯とが切り替えられたり、光量が変更されたりする。主制御部２１１は、撮像素子５９により検出されたケラトリング像に対する公知の演算を演算処理部２２０に実行させる。それにより、被検眼Ｅの角膜形状パラメータが求められる。

固視投影系４に対する制御には、液晶パネル４１の制御や固視ユニット４０の移動制御などがある。

液晶パネル４１の制御には、固視標の表示のオン・オフや、検査や測定の種別に応じた固視標の切り替えや、固視標の表示位置の切り替えなどがある。主制御部２１１は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構４０Ｄに対する制御を行い、少なくとも液晶パネル４１を光軸方向に移動させる。それにより、液晶パネル４１と眼底Ｅｆとが光学的に共役となるように液晶パネル４１の位置が調整される。

前眼部観察系５に対する制御には、前眼部照明光源５０の制御、撮像素子５９の制御などがある。

前眼部照明光源５０の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。それにより、前眼部照明光源５０の点灯と非点灯とが切り替えられたり、光量が変更されたりする。撮像素子５９の制御には、撮像素子５９の露光調整やゲイン調整や検出レート調整などがある。主制御部２１１は、撮像素子５９により検出された信号を取り込み、取り込まれた信号に基づく画像の形成等の処理を演算処理部２２０に実行させる。

レフ測定投射系６に対する制御には、レフ測定光源６１の制御、ロータリープリズム６６の制御などがある。

レフ測定光源６１の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。それにより、レフ測定光源６１の点灯と非点灯とが切り替えられたり、光量が変更されたりする。例えば、レフ測定投射系６は、レフ測定光源６１を光軸方向に移動する移動機構を含む。この移動機構には、移動機構２００と同様に、当該移動機構を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。主制御部２１１は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構に対する制御を行い、レフ測定光源６１を光軸方向に移動させる。ロータリープリズム６６の制御には、ロータリープリズム６６の回転制御などがある。例えば、ロータリープリズム６６を回転させる回転機構が設けられており、主制御部２１１は、この回転機構を制御することによりロータリープリズム６６を回転させる。

レフ測定受光系７に対する制御には、レフ測定光源６１と眼底Ｅｆと撮像素子５９とが光学的に共役となるように、例えば被検眼Ｅの屈折力に応じてレフ測定光源６１及び合焦レンズ７４をそれぞれ光軸方向に移動させる制御が含まれる。この場合、主制御部２１１は、被検眼Ｅの屈折力に応じて移動機構７４Ｄ等を制御することにより、レフ測定光源６１と眼底Ｅｆと撮像素子５９とが光学的に略共役な位置に配置させる。

ＯＣＴ光学系８に対する制御には、光スキャナー８８の制御、光路長変更部８９、ＯＣＴユニット１００に対する制御などがある。ＯＣＴユニット１００に対する制御には、光源ユニット１０１の制御、アッテネータ１０５の制御、偏波コントローラ１０６の制御、ズーム光学系１１４の制御、ＣＣＤイメージセンサ１１５の制御などがある。

光スキャナー８８の制御には、予め決められたスキャンパターンで計測部位をスキャンするためのスキャンモードの設定や、スキャン範囲の制御、スキャン速度の制御などがある。スキャン範囲（スキャン開始位置及びスキャン終了位置）を制御することで、測定光ＬＳを偏向する偏向面の角度範囲を制御することが可能である。スキャン速度を制御することで、偏向面の角度の変更速度を制御することが可能である。主制御部２１１は、光スキャナー８８に対して制御信号を出力することにより、スキャンモード、スキャン範囲、及びスキャン速度の少なくとも１つを制御する。

光路長変更部８９の制御には、測定光ＬＳの光路長の制御などがある主制御部２１１は、光路長変更部８９に対して制御信号を出力することにより、光路長変更部８９に測定光ＬＳの光路長を変更させる。

光源ユニット１０１の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。アッテネータ１０５の制御には、参照光ＬＲの光量の調整などがある。偏波コントローラ１０６の制御には、参照光ＬＲの偏波状態の調整などがある。ズーム光学系１１４の制御には、光学倍率の制御などがある。ＣＣＤイメージセンサ１１５の制御には、ＣＣＤイメージセンサ１１５の露光調整やゲイン調整や検出レート調整などがある。主制御部２１１は、イメージセンサ１１５により検出された信号を取り込み、取り込まれた信号に基づく画像の形成等の処理を演算処理部２２０に実行させる。

また、主制御部２１１は、記憶部２１２にデータを書き込む処理や、記憶部２１２からデータを読み出す処理を行う。

（記憶部２１２）
記憶部２１２は、各種のデータを記憶する。記憶部２１２に記憶されるデータとしては、例えば他覚測定の測定結果（ＯＣＴ計測結果）、ＯＣＴ画像の画像データ、前眼部像の画像データ、自覚検査の結果、被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者ＩＤや氏名などの被検者に関する情報や、左眼／右眼の識別情報などの被検眼に関する情報を含む。また、記憶部２１２には、眼科装置を動作させるための各種プログラムやデータが記憶されている。

（演算処理部２２０）
演算処理部２２０は、プロセッサを含み、各種の演算処理を実行する。図示しない記憶部（例えば、記憶部２１２）には、各種演算処理を実行するためのコンピュータプログラムがあらかじめ格納される。プロセッサは、このコンピュータプログラムに従って動作することにより、各種の演算処理を実行する各部の機能を実現する。

図３に示すように、演算処理部２２０は、眼屈折力算出部２３０と、画像形成部２４０と、データ処理部２５０とを含む。眼屈折力算出部２３０は、被検眼Ｅの眼屈折力を算出する。画像形成部２４０は、ＯＣＴ光学系８を用いて取得された干渉光ＬＣの検出結果に基づいてＯＣＴ画像を形成する。データ処理部２５０は、眼科装置１０００が備える光学系を用いて得られた測定結果（干渉光ＬＣの検出結果等）や画像形成部２４０により形成されたＯＣＴ画像に対して各種のデータ処理（画像処理）や解析処理を施す。

（眼屈折力算出部２３０）
眼屈折力算出部２３０は、レフ測定投射系６により眼底Ｅｆに投影されたリング状光束（リング状の測定パターン）の戻り光を撮像素子５９が受光することにより得られたリング像（パターン像）を解析する。例えば、眼屈折力算出部２３０は、得られたリング像が描出された画像における輝度分布からリング像の重心位置を求め、この重心位置から放射状に延びる複数の走査方向に沿った輝度分布を求め、この輝度分布からリング像を特定する。続いて、眼屈折力算出部２３０は、特定されたリング像の近似楕円を求め、この近似楕円の長径及び短径を公知の式に代入することによって球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を求める。或いは、眼屈折力算出部２３０は、基準パターンに対するリング像の変形及び変位に基づいて眼屈折力のパラメータを求めることができる。

また、眼屈折力算出部２３０は、前眼部観察系５により取得されたケラトリング像に基づいて、角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。例えば、眼屈折力算出部２３０は、ケラトリング像を解析することにより角膜前面の強主経線や弱主経線の角膜曲率半径を算出し、角膜曲率半径に基づいて上記パラメータを算出する。

（画像形成部２４０）
画像形成部２４０は、ＣＣＤイメージセンサ１１５により得られた干渉光ＬＣの検出信号に基づいて、被検眼ＥのＯＣＴ画像の画像データを形成する。すなわち、画像形成部２４０は、干渉光学系による干渉光ＬＣの検出結果に基づいて被検眼Ｅの画像データを形成する。この処理には、従来のスペクトラルドメインタイプのＯＣＴと同様に、フィルター処理、ＦＦＴ（Ｆａｓｔ Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ）などの処理が含まれている。このようにして取得される画像データは、複数のＡライン（被検眼Ｅ内における各測定光ＬＳの経路）における反射強度プロファイルを画像化することにより形成された一群の画像データを含むデータセットである。

画質を向上させるために、同じパターンでのスキャンを複数回繰り返して収集された複数のデータセットを重ね合わせる（加算平均する）ことができる。

（データ処理部２５０）
データ処理部２５０は、画像形成部２４０により形成されたＯＣＴ画像又はＣＣＤイメージセンサ１１５により得られた干渉光ＬＣの検出信号に対して各種のデータ処理（画像処理）や解析処理を施す。例えば、データ処理部２５０は、画像の輝度補正や分散補正等の補正処理を実行する。また、データ処理部２５０は、前眼部観察系５を用い得られた画像（前眼部像等）に対して各種の画像処理や解析処理を施す。

データ処理部２５０は、画像形成部２４０により形成されたＯＣＴ画像（断層像）の間の画素を補間する補間処理などの公知の画像処理を実行して、眼底Ｅｆ又は前眼部の３次元画像の画像データを形成することができる。なお、３次元画像の画像データとは、３次元座標系により画素の位置が定義された画像データを意味する。３次元画像の画像データとしては、３次元的に配列されたボクセルからなる画像データがある。この画像データは、ボリュームデータ或いはボクセルデータなどと呼ばれる。ボリュームデータに基づく画像を表示させる場合、データ処理部２５０は、このボリュームデータに対してレンダリング処理（ボリュームレンダリングやＭＩＰ（Ｍａｘｉｍｕｍ Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ：最大値投影）など）を施して、特定の視線方向から見たときの擬似的な３次元画像の画像データを形成する。表示部２７０等の表示デバイスには、この擬似的な３次元画像が表示される。

また、３次元画像の画像データとして、複数の断層像のスタックデータを形成することも可能である。スタックデータは、複数のスキャンラインに沿って得られた複数の断層像を、スキャンラインの位置関係に基づいて３次元的に配列させることで得られる画像データである。すなわち、スタックデータは、元々個別の２次元座標系により定義されていた複数の断層像を、１つの３次元座標系により表現する（つまり１つの３次元空間に埋め込む）ことにより得られる画像データである。

データ処理部２５０は、取得された３次元データセット（ボリュームデータ、スタックデータ等）に各種のレンダリングを施すことで、任意断面におけるＢモード画像（縦断面像、軸方向断面像）、任意断面におけるＣモード画像（横断面像、水平断面像）、プロジェクション画像、シャドウグラムなどを形成することができる。Ｂモード画像やＣモード画像のような任意断面の画像は、指定された断面上の画素（ピクセル、ボクセル）を３次元データセットから選択することにより形成される。プロジェクション画像は、３次元データセットを所定方向（Ｚ方向、深さ方向、軸方向）に投影することによって形成される。シャドウグラムは、３次元データセットの一部（たとえば特定層に相当する部分データ）を所定方向に投影することによって形成される。Ｃモード画像、プロジェクション画像、シャドウグラムのような、被検眼の正面側を視点とする画像を正面画像（ｅｎ－ｆａｃｅ画像）と呼ぶ。

データ処理部２５０は、ＯＣＴスキャンにより時系列に収集されたデータ（例えば、Ｂスキャン画像データ）に基づいて、網膜血管や脈絡膜血管が強調されたＢモード画像や正面画像（血管強調画像、アンギオグラム）を構築することができる。例えば、被検眼Ｅの略同一部位を反復的にスキャンすることにより、時系列のＯＣＴデータを収集することができる。

いくつかの実施形態では、データ処理部２５０は、略同一部位に対するＢスキャンにより得られた時系列のＢスキャン画像を比較し、信号強度の変化部分の画素値を変化分に対応した画素値に変換することにより当該変化部分が強調された強調画像を構築する。更に、データ処理部２５０は、構築された複数の強調画像から所望の部位における所定の厚さ分の情報を抽出してｅｎ－ｆａｃｅ画像として構築することでＯＣＴＡ像を形成する。

データ処理部２５０により生成された画像（例えば、３次元画像、Ｂモード画像、Ｃモード画像、プロジェクション画像、シャドウグラム、ＯＣＴＡ像）もまたＯＣＴ画像に含まれる。

また、データ処理部２５０は、２つの前眼部カメラ１４により実質的に同時に取得された２つの撮影画像のそれぞれを解析することにより、前眼部の特徴部位に相当する特徴位置を特定する。前眼部の特徴部位は、例えば瞳孔中心（瞳孔重心）である。データ処理部２５０は、２つの前眼部カメラ１４の位置と、特定された２つの撮影画像における特徴部位に相当する特徴位置とに対して公知の三角法を適用することにより、特徴部位の３次元位置（すなわち、被検眼Ｅの３次元位置）を算出する。算出された３次元位置は、被検眼Ｅに対する光学系の位置合わせに用いることができる。

更に、眼科装置１０００は、被検眼Ｅに対してＯＣＴスキャンを実行することにより被検眼Ｅの眼軸長等の眼内距離を測定することが可能である。実施形態では、データ処理部２５０が、眼軸長算出部としての機能を実現するものとする。

データ処理部２５０は、ＯＣＴスキャンを実行して得られた干渉光ＬＣの検出結果に基づいて、角膜頂点に相当する位置とＲＰＥ層に相当する位置との距離を眼軸長として算出することが可能である。

ここで、干渉光ＬＣを検出することにより生成される干渉信号の強度プロファイルでは、ＲＰＥ層に相当するピークがＩＳ／ＯＳラインやブルッフ膜等の層領域に相当するピークに近接し、ＲＰＥ層に相当するピークレベルがＩＳ／ＯＳライン等に相当するピークレベルより低い場合、ＲＰＥ層に相当するピークが、ＩＳ／ＯＳライン等に相当するピークに埋もれる。それにより、ＲＰＥ層に相当するピークの特定に時間を要したり、ＲＰＥ層に相当するピークの特定に失敗したり、ＲＰＥ層に相当するピークを誤検出したりする場合がある。

そこで、まず、データ処理部２５０は、干渉光ＬＣの検出結果（干渉光ＬＣの強度プロファイル）に基づいて、ＩＳ／ＯＳライン又はブルッフ膜（第１層領域）に相当する深さ位置を特定する。続いて、データ処理部２５０は、特定された深さ位置に所定のオフセット値を加算して眼底におけるＲＰＥ層（第２層領域）に相当する深さ位置を算出する。これにより、ＲＰＥ層に相当する深さ位置を短時間に、且つ、確実に特定することが可能になる。その結果、ＲＰＥ層を直接的に特定する場合と比較して、特定されたＲＰＥ層を用いて算出された眼軸長等の眼内距離の信頼性を向上させることができるようになる。

また、データ処理部２５０は、角膜頂点に相当する位置とＲＰＥ層に相当する位置との距離である眼軸長に相当する距離を光路長ＯＰＬとして特定し、式（１）に示す関係式に従って、眼軸長（物理長）ＡＬを求める。

式（１）において、ＯＰＬは光路長を表し、ＡＬは眼軸長の物理長を表し、ｎは人眼の屈折率（群屈折率：ｇｒｏｕｐ ｉｎｄｅｘ）を表す。ここで、眼の構成物（角膜、水晶体、等）毎に屈折率は異なるが、ｎは眼球を単一の構成物に換算した場合の屈折率を表している。

ここで、屈折率ｎは、波長依存性を有する。これは、測定波長に応じて、物理長として算出される眼軸長が変化することを意味する。例えば、８４０ｎｍを測定波長とする測定光ＬＳで眼軸長を測定したときの光路長をＯＰＬ_８４０と表し、８４０ｎｍにおける屈折率をｎ_８４０と表すと、式（２）のような関係式が得られる。同様に、例えば、７８０ｎｍを測定波長とする測定光ＬＳで眼軸長を測定したときの光路長をＯＰＬ_７８０と表し、７８０ｎｍにおける屈折率をｎ_７８０と表すと、式（３）のような関係式が得られる。

従って、８４０ｎｍを測定波長とする測定光ＬＳを用いて測定された眼軸長は、７８０ｎｍを測定波長とする測定光ＬＳを用いて測定された眼軸長と異なることを意味する。

そこで、実施形態では、８４０ｎｍを測定波長とする測定光ＬＳを用いて測定された眼軸長に対して波長補正を行う。それにより、８４０ｎｍとは異なる他の波長（例えば、７８０ｎｍ）における眼軸長（他の波長成分を有する測定光ＬＳを用いて測定される眼軸長）を算出することが可能である。

更に、厳密には、実施形態に係る非接触式眼軸長測定装置により得られる眼軸長の測定値は、超音波式眼軸長測定装置により得られる眼軸長の測定値と異なる。

そこで、実施形態では、８４０ｎｍを測定波長とする測定光ＬＳを用いて測定された眼軸長の測定値を、超音波式眼軸長測定装置により得られる眼軸長の測定値に換算することが可能である。

このようなデータ処理部２５０は、図５に示すように、層領域特定部２５１と、層領域位置算出部２５２と、眼軸長算出部２５３と、波長補正部２５４と、眼軸長換算部２５５とを含む。

（層領域特定部２５１）
層領域特定部２５１は、ＯＣＴユニット１００において取得された干渉光ＬＣの検出結果に基づいて、被検眼Ｅの所定部位に相当する深さ位置を特定する。所定部位の例として、眼底Ｅｆにおける所定の層領域、前眼部における角膜頂点などがある。眼底Ｅｆにおける所定の層領域の例として、ＩＳ／ＯＳライン、ブルッフ膜などがある。

実施形態では、層領域特定部２５１は、前眼部（角膜Ｃｒ）における角膜頂点に相当する深さ位置と、眼底ＥｆにおけるＩＳ／ＯＳラインに相当する深さ位置とを特定する。

（層領域位置算出部２５２）
層領域位置算出部２５２は、層領域特定部２５１により特定された深さ位置に所定のオフセット値を加算することにより、層領域特定部２５１により深さ位置が特定された部位と異なる被検眼Ｅにおける別の部位に相当する深さ位置を算出する。別の部位の例として、ＲＰＥ層などがある。

図６に、実施形態に係る層領域位置算出部２５２の動作説明図を示す。図６は、眼底ＥｆにおけるＯＣＴ画像（断層像）の一例を模式的に表す。

上記のように、層領域特定部２５１によりＩＳ／ＯＳラインに相当する深さ位置が特定されたものとする。層領域位置算出部２５２は、ＩＳ／ＯＳラインに相当する深さ位置にオフセット値ｄｔを加算することにより、ＩＳ／ＯＳラインを基準にＩＳ／ＯＳラインと異なる別の層領域に相当する深さ位置を算出する。従って、層領域位置算出部２５２は、ＩＳ／ＯＳラインに相当する深さ位置にオフセット値ｄｔを加算することによりＲＰＥ層に相当する深さ位置を算出することが可能である。

オフセット値ｄｔの例として、定数、被検者又は被検眼に応じて変化する変数などがある。

オフセット値ｄｔが定数の場合、オフセット値ｄｔは、事前に複数の被検眼に対する測定により得られたノーマティブデータにより決定される。例えば、複数の被検眼に対する測定値を平均することによりオフセット値ｄｔが決定される。

オフセット値ｄｔが変数の場合、オフセット値ｄｔは、被検者の情報に応じて決定することが可能である。また、オフセット値ｄｔは、被検眼Ｅの情報に応じて決定することが可能である。被検眼Ｅの情報には、眼内距離（例えば、眼底Ｅｆにおける所定の層領域間の距離）などがある。いくつかの実施形態では、オフセット値ｄｔは、被検眼ＥのＩＳ／ＯＳラインに相当する深さ位置とブルッフ膜に相当する深さ位置との距離に応じて決定される。

（眼軸長算出部２５３）
眼軸長算出部２５３は、層領域特定部２５１により特定された層領域の深さ位置（第１深さ位置）と、層領域位置算出部２５２により算出された当該層領域と異なる別の層領域の深さ位置（第２深さ位置）との距離を眼軸長（光路長）として算出する。眼軸長を物理長として算出する場合、眼軸長算出部２５３は、式（１）に従って眼軸長の物理長を算出する。

図７に、実施形態に係る眼軸長算出部２５３の動作説明図を示す。図７は、前眼部に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉信号の強度プロファイルの一例と、眼底Ｅｆに対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉信号の強度プロファイルの一例とを模式的に表す。図７において、図１又は図６と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。

例えば、アライメント系１と移動機構２００とを用いてＯＣＴ光学系８の光軸が被検眼Ｅの瞳孔中心と一致するように被検眼Ｅと図１に示す光学系とのアライメントが完了しているものとする。層領域特定部２５１は、アライメント完了後に前眼部に対してＯＣＴスキャンを実行して得られた干渉信号の強度プロファイルのピークを探索して特定されたピークの位置を角膜頂点に相当する深さ位置ｚａとして特定する。

続いて、層領域特定部２５１は、アライメント完了後に眼底Ｅｆに対してＯＣＴスキャンを実行して得られた干渉信号の強度プロファイルのピークを探索し、ＩＳ／ＯＳライン（又はブルッフ膜）に相当するピークの位置を深さ位置ｚｆとして特定する。層領域位置算出部２５２は、ＩＳ／ＯＳラインに相当する深さ位置ｚｆにオフセット値ｄｔを加算することによりＲＰＥ層に相当する深さ位置（ｚｆ＋ｄｔ）を算出する。

ここで、干渉信号の強度プロファイルにおけるＲＰＥ層に相当するピークが他の層領域に相当するピークに近接し、且つ、ＲＰＥ層に相当するピークレベルが他の層領域に相当するピークレベルより低い場合、ＲＰＥ層に相当するピークの特定が困難になる。これに対して、実施形態では、ピークの特定が容易なＩＳ／ＯＳライン（又はブルッフ膜）に相当する深さ位置を特定し、特定された深さ位置にオフセット値を加算する。それにより、眼底Ｅｆ側の代表位置の特定に失敗することなく、短時間で正確に眼底Ｅｆ側の代表位置を特定することが可能になる。

眼軸長算出部２５３は、層領域特定部２５１により特定された角膜頂点に相当する深さ位置ｚａと、層領域位置算出部２５２により算出されたＲＰＥ層に相当する深さ位置（ｚｆ＋ｄｔ）との距離を眼軸長ＡＬ０（光路長）として算出する。

上記のように、眼底Ｅｆ側の代表位置の特定に失敗することなく、短時間で正確に眼底Ｅｆ側の代表位置を特定するようにしたので、被検眼Ｅの眼軸長の測定精度を向上させることができる。

いくつかの実施形態では、１度のＯＣＴスキャンにより前眼部から眼底Ｅｆまでの範囲の干渉信号の強度スペクトルを取得し、取得された強度スペクトルから角膜頂点に相当する深さ位置、及びＩＳ／ＯＳラインに相当する深さ位置が特定される。

いくつかの実施形態では、層領域特定部２５１は、ＩＳ／ＯＳライン（又はブルッフ膜）以外の眼底Ｅｆの層領域の深さ位置を特定し、層領域位置算出部２５２は、特定された深さ位置にオフセット値を加算することでＲＰＥ層の深さ位置を算出する。

（波長補正部２５４）
波長補正部２５４は、眼軸長算出部２５３により算出された眼軸長に対して式（４）に示すように波長補正を行うことにより、測定光ＬＳの測定波長（８４０ｎｍ）と異なる波長（例えば、７８０ｎｍ）を測定波長とする測定光を用いて得られる眼軸長に補正する。

ここで、眼軸長算出部２５３により眼軸長（光路長）ＯＰＬ_８４０が算出されたものとする。このとき、波長補正部２５４は、７８０ｎｍにおける人眼の屈折率（ｎ_７８０）に対する８４０ｎｍにおける人眼の屈折率（ｎ_８４０）の比を眼軸長（光路長）ＯＰＬ_８４０に乗算する。それにより、７８０ｎｍの波長成分を有する測定光を用いて得られる眼軸長（光路長）ＯＰＬ_７８０に補正する。

（眼軸長換算部２５５）
眼軸長換算部２５５は、波長補正部２５４により波長補正が行われた眼軸長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長（物理長）に換算する。

例えば、眼軸長換算部２５５は、式（５）に従って、波長補正部２５４により波長補正が行われた眼軸長（光路長）を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長（物理長）に換算する。例えば、非特許文献１には、非接触式眼軸長測定装置により得られた光路長を超音波式眼軸長測定装置を用いて測定された眼軸長に変換する式として、式（５）が開示されている。

ここで、波長補正部２５４により眼軸長（光路長）ＯＰＬ_７８０が算出されたものとする。このとき、眼軸長換算部２５５は、波長補正部２５４により算出された眼軸長（光路長）ＯＰＬ_７８０を式（５）に代入することで、眼軸長（物理長）ＡＬ１を算出する。

いくつかの実施形態では、眼軸長換算部２５５は、波長補正部２５４による式（４）に従った波長補正を行うことなく、眼軸長算出部２５３により算出された眼軸長（光路長）ＯＰＬ_８４０を式（６）に直接に代入することで、眼軸長（物理長）ＡＬ１を算出する。

いくつかの実施形態では、主制御部２１１は、後述の表示部２７０を制御し、眼軸長算出部２５３により算出された眼軸長（光路長）、及び波長補正部２５４により補正された眼軸長（光路長）を同一画面に表示させる。いくつかの実施形態では、主制御部２１１は、後述の表示部２７０を制御し、眼軸長算出部２５３により算出された眼軸長（光路長）を式（２）に従って変換した眼軸長（物理長）、及び波長補正部２５４により補正された眼軸長（光路長）を式（３）に従って変換した眼軸長（物理長）を同一画面に表示させる。

いくつかの実施形態では、主制御部２１１は、後述の表示部２７０を制御し、眼軸長算出部２５３により算出された眼軸長（光路長）を式（２）に従って変換した眼軸長（物理長）、波長補正部２５４により補正された眼軸長（光路長）を式（３）に従って変換した眼軸長（物理長）、及び眼軸長換算部２５５により求められた眼軸長（物理長）の少なくとも２つを同一画面に表示させる。

実施形態によれば、波長が異なる測定光で眼軸長を測定する他の眼軸長測定装置の測定結果や、超音波式眼軸長測定装置の測定結果と高精度に比較することができるようになる。

（表示部２７０、操作部２８０）
表示部２７０は、ユーザインターフェイス部として、制御部２１０による制御を受けて情報を表示する。表示部２７０は、図１などに示す表示部１０を含む。

操作部２８０は、ユーザインターフェイス部として、眼科装置を操作するために使用される。操作部２８０は、眼科装置に設けられた各種のハードウェアキー（ジョイスティック、ボタン、スイッチなど）を含む。また、操作部２８０は、タッチパネル式の表示画面１０ａに表示される各種のソフトウェアキー（ボタン、アイコン、メニューなど）を含んでもよい。

表示部２７０及び操作部２８０の少なくとも一部が一体的に構成されていてもよい。その典型例として、タッチパネル式の表示画面１０ａがある。

（通信部２９０）
通信部２９０は、図示しない外部装置と通信するための機能を有する。通信部２９０は、外部装置との接続形態に応じた通信インターフェイスを備える。外部装置の例として、レンズの光学特性を測定するための眼鏡レンズ測定装置がある。眼鏡レンズ測定装置は、被検者が装用する眼鏡レンズの度数などを測定し、この測定データを眼科装置１０００に入力する。また、外部装置は、任意の眼科装置、記録媒体から情報を読み取る装置（リーダ）や、記録媒体に情報を書き込む装置（ライタ）などでもよい。更に、外部装置は、病院情報システム（ＨＩＳ）サーバ、ＤＩＣＯＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｍａｇｉｎｇ ａｎｄ ＣＯｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ ｉｎ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ）サーバ、医師端末、モバイル端末、個人端末、クラウドサーバなどでもよい。通信部２９０は、例えば処理部９に設けられていてもよい。

ＩＳ／ＯＳライン又はブルッフ膜は、実施形態に係る「第１層領域」の一例である。ＲＰＥ層は、実施形態に係る「第２層領域」の一例である。８４０ｎｍは、実施形態に係る「第１波長」の一例である。７８０ｎｍは、実施形態に係る「第２波長」の一例である。

＜動作例＞
実施形態に係る眼科装置１０００の動作について説明する。

図８に、眼科装置１０００の動作の一例を示す。図８は、眼科装置１０００の動作例のフロー図を表す。記憶部２１２には、図８に示す処理を実現するためのコンピュータプログラムが記憶されている。主制御部２１１は、このコンピュータプログラムに従って動作することにより、図８に示す処理を実行する。

（Ｓ１：アライメント）
図示しない顔受け部に被検者の顔が固定された状態で、検者が操作部２８０に対して所定の操作を行うことで、眼科装置１０００は、アライメントを実行する。

具体的には、主制御部２１１は、２つの前眼部カメラ１４を制御し、被検眼Ｅの前眼部の撮影を開始させる。２つの前眼部カメラ１４により２つの撮影画像（前眼部像）が取得されると、主制御部２１１は、データ処理部２５０を制御して、２つの撮影画像のそれぞれを解析して瞳孔中心に相当する特徴位置を特定させ、２つの前眼部カメラ１４の位置と特定された２つの撮影画像における特徴位置とに対して公知の三角法を適用することにより、瞳孔中心（被検眼Ｅ）の３次元位置を算出させる。主制御部２１１は、算出された被検眼Ｅの３次元位置に基づいて移動機構２００を制御することにより、被検眼Ｅに対する光学系の位置合わせを実行する。具体的には、主制御部２１１は、算出された３次元位置に基づいて、ＯＣＴ光学系８の光軸（対物レンズ５１の光軸）を被検眼Ｅの軸に合わせるように、且つ、被検眼Ｅに対する光学系（対物レンズ５１）の距離が所定の作動距離になるように移動機構２００を制御する。ここで、作動距離とは、ワーキングディスタンスとも呼ばれる既定値であり、光学系を用いた検査時における被検眼Ｅと光学系との間の距離を意味する。

また、前眼部カメラ１４が前眼部を異なる方向から並行して動画撮影する場合、例えば、次のような処理（１）および（２）を行うことにより、主制御部２１１は、被検眼Ｅの動きに対する光学系のトラッキングを実行することが可能である。
（１）データ処理部２５０が、２つの前眼部カメラ１４による動画撮影において実質的に同時に得られた２つのフレームを逐次に解析することで、被検眼Ｅの３次元位置を逐次に求める。
（２）主制御部２１１が、データ処理部２５０により逐次に求められる被検眼Ｅの３次元位置に基づき移動機構２００を逐次に制御することにより、光学系の位置を被検眼Ｅの動きに追従させる。

また、主制御部２１１は、レフ測定光源６１と、合焦レンズ７４と、液晶パネル４１をそれぞれの光軸に沿って原点の位置（例えば、０Ｄ（ディオプター）に相当する位置）に移動させる。

（Ｓ２：眼底ＯＣＴスキャン）
次に、主制御部２１１は、眼底Ｅｆに対してＯＣＴスキャンを実行するようにＯＣＴ光学系８等を制御する。

具体的には、主制御部２１１は、移動機構８７Ｄを制御することにより、眼底Ｅｆに測定光ＬＳの焦点位置が設定されるように合焦レンズ８７を光軸方向に移動させる。続いて、主制御部２１１は、光源ユニット１０１、アッテネータ１０５、偏波コントローラ１０６、ズーム光学系１１４、ＣＣＤイメージセンサ１１５、及び光路長変更部８９を調整する。次に、主制御部２１１は、所望の固視位置に対応した表示位置に固視標を示すパターンを液晶パネル４１に表示させる。それにより、所望の固視位置に被検眼Ｅを注視させる。主制御部２１１は、光スキャナー８８を制御して眼底Ｅｆにおける所定のスキャン範囲に対して測定光ＬＳでスキャンを実行させる。測定光ＬＳのスキャンにより得られた干渉光ＬＣの検出結果は、画像形成部２４０に送られる。

（Ｓ３：前眼部ＯＣＴスキャン）
続いて、主制御部２１１は、前眼部に対してＯＣＴスキャンを実行するようにＯＣＴ光学系８等を制御する。

具体的には、主制御部２１１は、移動機構８７Ｄを制御することにより、前眼部に測定光ＬＳの焦点位置が設定されるように合焦レンズ８７を光軸方向に移動させる。続いて、主制御部２１１は、光源ユニット１０１、アッテネータ１０５、偏波コントローラ１０６、ズーム光学系１１４、ＣＣＤイメージセンサ１１５、及び光路長変更部８９を調整する。次に、主制御部２１１は、所望の固視位置に対応した表示位置に固視標を示すパターンを液晶パネル４１に表示させる。主制御部２１１は、光スキャナー８８を制御して前眼部における所定のスキャン範囲に対して測定光ＬＳでスキャンを実行させる。測定光ＬＳのスキャンにより得られた干渉光ＬＣの検出結果は、画像形成部２４０に送られる。

（Ｓ４：ＩＳ／ＯＳラインを特定）
次に、主制御部２１１は、層領域特定部２５１を制御して、ステップＳ２において取得された眼底Ｅｆにおける干渉光ＬＣの検出結果（又は眼底ＥｆのＯＣＴ画像）を解析させて、ＩＳ／ＯＳラインに相当する深さ位置を特定させる。

また、主制御部２１１は、層領域特定部２５１を制御して、ステップＳ３において取得された前眼部における干渉光ＬＣの検出結果（又は前眼部のＯＣＴ画像）を解析させて、角膜頂点に相当する深さ位置を特定させる。

（Ｓ５：オフセット値を加算）
続いて、主制御部２１１は、層領域位置算出部２５２を制御して、ステップＳ４において特定されたＩＳ／ＯＳラインの深さ位置に所定のオフセット値を加算させてＲＰＥ層に相当する深さ位置を特定させる。

（Ｓ６：眼軸長を算出）
次に、主制御部２１１は、眼軸長算出部２５３を制御して、ステップＳ２において特定された角膜頂点に相当する深さ位置とステップＳ３において算出されたＲＰＥ層に相当する深さ位置との距離を眼軸長（光路長）ＯＰＬ_８４０として算出させる。

（Ｓ７：波長補正）
次に、主制御部２１１は、波長補正部２５４を制御して、ステップＳ６において算出された眼軸長ＯＰＬ_８４０を式（４）に従って波長補正を行うことにより、７８０ｎｍにおける眼軸長ＯＰＬ_７８０に補正する。

（Ｓ８：眼軸長を換算）
次に、主制御部２１１は、眼軸長換算部２５５を制御して、ステップＳ７において補正された眼軸長ＯＰＬ_７８０を式（５）に代入して、超音波式眼軸長測定装置を用いて測定される眼軸長ＡＬ１に変換させる。

いくつかの実施形態では、主制御部２１１は、ステップＳ６～ステップＳ８の演算結果の少なくとも２つを表示部２７０の同一画面に表示させる。これにより、ステップＳ６～ステップＳ８の演算結果を容易に比較できるようになる。

以上で、眼科装置１０００の動作は終了である（エンド）。

なお、図８に示すフローにおいて、ステップＳ８は、ステップＳ６において算出された眼軸長ＯＰＬ_８４０を式（６）に代入することで、超音波式眼軸長測定装置を用いて測定される眼軸長ＡＬ１に変換させてもよい。

［作用］
実施形態に係る眼科装置、眼科装置の制御方法、及びプログラムについて説明する。

実施形態に係る眼科装置（１０００）は、層領域特定部（２５１）と、層領域位置算出部（２５２）とを含む。層領域特定部は、被検眼（Ｅ）の眼底（Ｅｆ）に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて、眼底における第１層領域に相当する第１深さ位置（ｚｆ）を特定する。層領域位置算出部は、第１深さ位置に所定のオフセット値（ｄｔ）を加算して眼底における第２層領域に相当する第２深さ位置（ｚｆ＋ｄｔ）を算出する。

このような態様によれば、第２層領域に相当する干渉光（干渉信号）の強度のピークが、他の層領域に相当する干渉光の強度のピークに近接する等、第２層領域の特定に時間を要したり特定に失敗したり誤検出したりする場合でも、短時間で正確に第２層領域の深さ位置を特定することが可能になる。

いくつかの実施形態では、第１層領域は、ＩＳ／ＯＳラインであり、第２層領域は、網膜色素上皮層である。

このような態様によれば、網膜色素上皮層の特定に時間を要したり、特定に失敗したり、誤検出したりする場合でも、短時間で正確に網膜色素上皮層の深さ位置を特定することが可能になる。

いくつかの実施形態では、層領域位置算出部は、被検眼に応じて異なるオフセット値を第１深さ位置に加算する。

このような態様によれば、被検眼に応じてオフセット値を変更するようにしたので、第２層領域の深さ位置をより正確に特定することができるようになる。

いくつかの実施形態では、層領域特定部は、干渉光の検出結果に基づいて、第１深さ位置と角膜頂点に相当する第３深さ位置（ｚａ）とを特定する。眼科装置は、第３深さ位置と第２深さ位置とに基づいて被検眼の眼軸長を算出する眼軸長算出部（２５３）を含む。

このような態様によれば、第２層領域の特定に時間を要したり特定に失敗したり誤検出したりする場合でも、短時間で正確に第２層領域の深さ位置を特定することができるため、眼軸長をより高精度に算出することが可能になる。

いくつかの実施形態では、ＯＣＴスキャンは、第１波長（８４０ｎｍ）を測定波長とする測定光（ＬＳ）を被検眼に照射することにより実行される。眼科装置は、眼軸長算出部により算出された眼軸長に対して波長補正を行うことにより、第１波長と異なる第２波長（７８０ｎｍ）における眼軸長に補正する波長補正部（２５４）を含む。

このような態様によれば、互いに異なる測定波長で得られた眼軸長の測定値の波長依存性にかかわらず、眼軸長の測定値を比較することが可能になる。

実施形態に係る眼科装置（１０００）は、眼軸長算出部（２５３）と、波長補正部（２５４）とを含む。眼軸長算出部は、第１波長（８４０ｎｍ）を測定波長とする測定光（ＬＳ）を用いて被検眼（Ｅ）に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて眼軸長を算出する。波長補正部は、眼軸長算出部により算出された眼軸長に対して波長補正を行うことにより、第１波長と異なる第２波長（７８０ｎｍ）における眼軸長に補正する。

このような態様によれば、互いに異なる測定波長で得られた眼軸長の測定値の波長依存性にかかわらず、眼軸長の測定値を比較することが可能になる。

いくつかの実施形態では、波長補正部は、第２波長における人眼の屈折率（ｎ_７８０）に対する第１波長における人眼の屈折率（ｎ_８４０）の比を、眼軸長算出部により算出された眼軸長に乗算することにより第２波長における眼軸長に補正する。

このような態様によれば、簡素な処理で、所望の測定波長で得られた眼軸長に補正することが可能になる。

いくつかの実施形態では、第２波長成分は、７８０ｎｍである。

このような態様によれば、７８０ｎｍを測定波長とする非接触式眼軸長測定装置により得られた眼軸長の測定値と比較することが可能になる。

いくつかの実施形態は、波長補正部により補正された眼軸長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長に換算する眼軸長換算部（２５５）を含む。

このような態様によれば、眼科装置により得られた眼軸長の測定値と超音波式眼軸長測定装置の測定結果とを高精度に比較することができるようになる。

いくつかの実施形態では、眼軸長換算部は、波長補正部により補正された眼軸長としての光路長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長としての物理長に換算する。

このような態様によれば、簡素な処理で、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長の測定に換算することが可能になる。

いくつかの実施形態は、光源（光源ユニット１０１）からの光（Ｌ０）を測定光（ＬＳ）と参照光（ＬＲ）とに分割し、測定光を被検眼に照射し、被検眼からの測定光の戻り光と参照光路を経由した参照光との干渉光（ＬＣ）を検出するＯＣＴ光学系（８）を含む。

このような態様によれば、被検眼に対してＯＣＴを実行し、眼底における第２層領域の深さ位置を短時間で正確に特定することが可能な眼科装置を提供することができるようになる。

実施形態に係る眼科装置（１０００）の制御方法は、層領域特定ステップと、層領域位置算出ステップとを含む。層領域特定ステップは、被検眼（Ｅ）の眼底（Ｅｆ）に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光（ＬＣ）の検出結果に基づいて、眼底における第１層領域に相当する第１深さ位置（ｚｆ）を特定する。層領域位置算出ステップは、第１深さ位置に所定のオフセット値（ｄｔ）を加算して眼底における第２層領域に相当する第２深さ位置（ｚｆ＋ｄｔ）を算出する。

このような態様によれば、第２層領域に相当する干渉光（干渉信号）の強度のピークが、他の層領域に相当する干渉光の強度のピークに近接する等、第２層領域の特定に時間を要したり特定に失敗したり誤検出したりする場合でも、短時間で正確に第２層領域の深さ位置を特定することが可能になる。

いくつかの実施形態では、第１層領域は、ＩＳ／ＯＳラインであり、第２層領域は、網膜色素上皮層である。

このような態様によれば、網膜色素上皮層の特定に時間を要したり、特定に失敗したり、誤検出したりする場合でも、短時間で正確に網膜色素上皮層の深さ位置を特定することが可能になる。

いくつかの実施形態では、層領域特定ステップは、干渉光の検出結果に基づいて、第１深さ位置と角膜頂点に相当する第３深さ位置（ｚａ）とを特定する。眼科装置の制御方法は、第３深さ位置と第２深さ位置とに基づいて被検眼の眼軸長を算出する眼軸長算出ステップを含む。

このような態様によれば、第２層領域の特定に時間を要したり特定に失敗したり誤検出したりする場合でも、短時間で正確に第２層領域の深さ位置を特定することができるため、眼軸長をより高精度に算出することが可能になる。

いくつかの実施形態では、ＯＣＴスキャンは、第１波長（８４０ｎｍ）を測定波長とする測定光を被検眼に照射することにより実行される。眼科装置の制御方法は、眼軸長算出ステップにおいて算出された眼軸長に対して波長補正を行うことにより、第１波長と異なる第２波長（７８０ｎｍ）における眼軸長に補正する波長補正ステップを含む。

このような態様によれば、互いに異なる測定波長で得られた眼軸長の測定値の波長依存性にかかわらず、眼軸長の測定値を比較することが可能になる。

実施形態に係る眼科装置（１０００）の制御方法は、眼軸長算出ステップと、波長補正ステップとを含む。眼軸長算出ステップは、第１波長（８４０ｎｍ）を測定波長とする測定光（ＬＳ）を用いて被検眼（Ｅ）に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて眼軸長を算出する。波長補正ステップは、眼軸長算出ステップにおいて算出された眼軸長に対して波長補正を行うことにより、第１波長と異なる第２波長（７８０ｎｍ）における眼軸長に補正する。

このような態様によれば、互いに異なる測定波長で得られた眼軸長の測定値の波長依存性にかかわらず、眼軸長の測定値を比較することが可能になる。

いくつかの実施形態は、波長補正ステップにおいて補正された眼軸長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長に換算する眼軸長換算ステップを含む。

このような態様によれば、眼科装置により得られた眼軸長の測定値と超音波式眼軸長測定装置の測定結果とを高精度に比較することができるようになる。

実施形態に係るプログラムは、コンピュータに、上記のいずれかに記載の眼科装置の制御方法の各ステップを実行させる。

このような態様によれば、第２層領域に相当する干渉光（干渉信号）の強度のピークが、他の層領域に相当する干渉光の強度のピークに近接する等、第２層領域の特定に時間を要したり特定に失敗したり誤検出したりする場合でも、短時間で正確に第２層領域の深さ位置を特定することが可能なプログラムを提供することができるようになる。

＜その他＞
以上に示された実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。

１ アライメント系
３ ケラト測定系
４ 固視投影系
５ 前眼部観察系
６ レフ測定投射系
７ レフ測定受光系
８ ＯＣＴ光学系
９ 処理部
５１ 対物レンズ
８８ 光スキャナー
２１０ 制御部
２１１ 主制御部
２５０ データ処理部
２５１ 層領域特定部
２５２ 層領域位置算出部
２５３ 眼軸長算出部
２５４ 波長補正部
２５５ 眼軸長換算部
１０００ 眼科装置

Claims (18)

1. 被検眼の眼底に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて、前記眼底における第１層領域に相当する第１深さ位置を特定する層領域特定部と、
   前記第１深さ位置に所定のオフセット値を加算して前記眼底における第２層領域に相当する第２深さ位置を算出する層領域位置算出部と、
   を含む、眼科装置。
2. 前記第１層領域は、ＩＳ／ＯＳラインであり、
   前記第２層領域は、網膜色素上皮層である
   ことを特徴とする請求項１に記載の眼科装置。
3. 前記層領域位置算出部は、前記被検眼に応じて異なるオフセット値を前記第１深さ位置に加算する
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の眼科装置。
4. 前記層領域特定部は、前記干渉光の検出結果に基づいて、前記第１深さ位置と角膜頂点に相当する第３深さ位置とを特定し、
   前記第３深さ位置と前記第２深さ位置とに基づいて前記被検眼の眼軸長を算出する眼軸長算出部を含む
   ことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の眼科装置。
5. 前記ＯＣＴスキャンは、第１波長を測定波長とする測定光を前記被検眼に照射することにより実行され、
   前記眼軸長算出部により算出された前記眼軸長に対して波長補正を行うことにより、前記第１波長と異なる第２波長における眼軸長に補正する波長補正部を含む
   ことを特徴とする請求項４に記載の眼科装置。
6. 第１波長を測定波長とする測定光を用いて被検眼に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて眼軸長を算出する眼軸長算出部と、
   前記眼軸長算出部により算出された前記眼軸長に対して波長補正を行うことにより、前記第１波長と異なる第２波長における眼軸長に補正する波長補正部と、
   を含む、眼科装置。
7. 前記波長補正部は、前記第２波長における人眼の屈折率に対する前記第１波長における人眼の屈折率の比を、前記眼軸長算出部により算出された前記眼軸長に乗算することにより前記第２波長における眼軸長に補正する
   ことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の眼科装置。
8. 前記第２波長は、７８０ｎｍである
   ことを特徴とする請求項５～請求項７のいずれか一項に記載の眼科装置。
9. 前記波長補正部により補正された眼軸長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長に換算する眼軸長換算部を含む
   ことを特徴とする請求項５～請求項８のいずれか一項に記載の眼科装置。
10. 前記眼軸長換算部は、前記波長補正部により補正された眼軸長としての光路長を、前記超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長としての物理長に換算する
    ことを特徴とする請求項９に記載の眼科装置。
11. 光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を前記被検眼に照射し、前記被検眼からの前記測定光の戻り光と参照光路を経由した前記参照光との前記干渉光を検出するＯＣＴ光学系を含む
    ことを特徴とする請求項１～請求項１０のいずれか一項に記載の眼科装置。
12. 被検眼の眼底に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて、前記眼底における第１層領域に相当する第１深さ位置を特定する層領域特定ステップと、
    前記第１深さ位置に所定のオフセット値を加算して前記眼底における第２層領域に相当する第２深さ位置を算出する層領域位置算出ステップと、
    を含む、眼科装置の制御方法。
13. 前記第１層領域は、ＩＳ／ＯＳラインであり、
    前記第２層領域は、網膜色素上皮層である
    ことを特徴とする請求項１２に記載の眼科装置の制御方法。
14. 前記層領域特定ステップは、前記干渉光の検出結果に基づいて、前記第１深さ位置と角膜頂点に相当する第３深さ位置とを特定し、
    前記第３深さ位置と前記第２深さ位置とに基づいて前記被検眼の眼軸長を算出する眼軸長算出ステップを含む
    ことを特徴とする請求項１２又は請求項１３に記載の眼科装置の制御方法。
15. 前記ＯＣＴスキャンは、第１波長を測定波長とする測定光を前記被検眼に照射することにより実行され、
    前記眼軸長算出ステップにおいて算出された前記眼軸長に対して波長補正を行うことにより、前記第１波長と異なる第２波長における眼軸長に補正する波長補正ステップを含む
    ことを特徴とする請求項１４に記載の眼科装置の制御方法。
16. 第１波長を測定波長とする測定光を用いて被検眼に対してＯＣＴスキャンを実行することにより得られた干渉光の検出結果に基づいて眼軸長を算出する眼軸長算出ステップと、
    前記眼軸長算出ステップにおいて算出された前記眼軸長に対して波長補正を行うことにより、前記第１波長と異なる第２波長における眼軸長に補正する波長補正ステップと、
    を含む、眼科装置の制御方法。
17. 前記波長補正ステップにおいて補正された眼軸長を、超音波式眼軸長測定装置を用いて得られる眼軸長に換算する眼軸長換算ステップを含む
    ことを特徴とする請求項１５又は請求項１６に記載の眼科装置の制御方法。
18. コンピュータに、請求項１２～請求項１７のいずれか一項に記載の眼科装置の制御方法の各ステップを実行させることを特徴とするプログラム。

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