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JP2022145150A - ガス拡散層付膜電極接合体およびその製造方法 - Google Patents

ガス拡散層付膜電極接合体およびその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】マイクロポーラス層がガス拡散層から剥離することを抑制する技術を提供する。【解決手段】ガス拡散層付MEA2は、MEA1と、ガス拡散層3とを有する。MEA1は、電解質膜11と、触媒層13と、サブガスケット15とを有する。ガス拡散層3は、ガス拡散層基材31と、マイクロポーラス層33とを有する。マイクロポーラス層33は、ガス拡散層基材31に接着しており、ガス拡散層基材31と触媒層13との間に配されている。ガス拡散層基材31に対するマイクロポーラス層33の接着力は、ISO29862:2007の試験において、40g/25mm以上である。【選択図】図2

Description

本発明は、ガス拡散層付膜電極接合体およびその製造方法に関する。
燃料電池、例えば、高分子電解質形燃料電池は、水素を含有する燃料ガスと、空気などの酸素を含有する酸化剤ガスとを、白金などの触媒層を有するガス拡散層で電気科学的に反応させることにより、電力と熱とを同時に発生させる。
固体高分子型燃料電池のセルは、イオン透過性の電解質膜と、該電解質膜を挟持するアノード側の触媒層およびカソード側の触媒層とからなる3層の膜電極接合体(3 Layer MEA、MEA:Membrane Electrode Assembly)を形成し、さらにその電極外側上下に樹脂フィルム(サブガスケット)を積層した5層構造からなる5層膜電極接合体(5 Layer MEA)を有する。
さらに、セルは、アノード側およびカソード側の各触媒層の表面に、ガス拡散層(GDL:Gas Diffusion Layer)がそれぞれ設けられた7層構造からなる7層膜電極接合体を有する。そして、このガス拡散層の外側には、セパレータが配される。実際の燃料電池では、このセルが発電性能に応じた段積だけ積層することによって、燃料電池スタックが形成される。
特許文献1には、ガス拡散層を触媒層の表面に取り付けるため、ガス拡散層のうちの枠領域を、接着剤を介してサブガスケットの表面に接着させることが記載されている。
特開2010-015963号公報
ところで、ガス拡散層として、マイクロポーラス層を有するガス拡散層が用いられる場合がある。マイクロポーラス層は、疎水性バリアとして機能し、電解質膜の湿潤化の促進、触媒層に対するガス拡散層の接触抵抗を低減する。また、マイクロポーラス層は、高湿度及び高電流密度において、余分な水分を効率良く排出することにより、カソード触媒層の水での飽和を低減する。
しかしながら、従来技術のように、ガス拡散層の枠領域のみをサブガスケットに接着させた場合、接着面積が小さいため、膜電極接合体の取り扱い時にガス拡散層がばたつくおそれがあった。ガス拡散層にばたつき(振動)が生じた場合、マイクロポーラス層がガス拡散層から剥離してしまう可能性があった。
本発明の目的は、マイクロポーラス層がガス拡散層から剥離することを抑制する技術を提供することにある。
上記課題を解決するため、第1態様は、ガス拡散層付膜電極接合体であって、電解質膜と、前記電解質膜の一方の面に位置する触媒層と、前記電解質膜の前記一方の面のうち前記触媒層よりも外側において、前記電解質膜の前記一方の面に接合されているサブガスケットと、を有する膜電極接合体と、前記触媒層の一方側において前記触媒層を覆うとともに、接着部を介して前記膜電極接合体に接合されているガス拡散層と、を有し、前記ガス拡散層は、ガス拡散層基材と、前記ガス拡散層基材に接着しており、前記ガス拡散層基材と前記触媒層との間に位置するマイクロポーラス層と、を備え、前記ガス拡散層基材に対する前記マイクロポーラス層の接着力は、ISO29862:2007の試験において、40g/25mm以上である。
第2態様は、第1態様のガス拡散層付膜電極接合体であって、前記接着力は、ISO29862:2007の試験において、200g/25mm以下である。
第3態様は、第1態様または第2態様のガス拡散層付膜電極接合体であって、前記接着部が、前記ガス拡散層の周縁部と重なる位置に配され、かつ、周縁部に沿って線状に延びている。
第4態様は、第3態様のガス拡散層付膜電極接合体であって、前記ガス拡散層は、互いに対向する2つの周縁部を有し、前記2つの周縁部と重なる位置に前記接着部が配されている。
第5態様は、第4態様のガス拡散層付膜電極接合体であって、前記接着部は、10mm以下の幅を有する。
第6態様は、第4態様または第5態様のガス拡散層付膜電極接合体であって、前記接着部は、乾燥厚みが5μm以下である。
第7態様は、第4態様から第6態様のいずれか1つのガス拡散層付膜電極接合体であって、前記接着部は、前記ガス拡散層の前記周縁部と平行な方向に断続的に延びている。
第8態様は、第3態様から第7態様のいずれか1つのガス拡散層付膜電極接合体であって、前記接着部は、前記触媒層の外縁部と重なる。
第9態様は、第8態様のガス拡散層付膜電極接合体であって、前記接着部は、前記サブガスケットと重なり、前記触媒層とは重ならない第1接着部と、前記触媒層と重なる第2接着部と、を有し、前記第1接着部は、1.0mg/cm2以上のアイオノマーを有し、前記第2接着部は、1.0mg/cm2以下のアイオノマーを有する。
第10態様は、ガス拡散層付膜電極接合体の製造方法であって、a)電解質膜と、前記電解質膜の一方の面に位置する触媒層と、前記電解質膜の前記一方の面のうち前記触媒層よりも外側において、前記電解質膜の前記一方の面に接合されているサブガスケットと、を有する膜電極接合体を準備する工程と、b)マイクロポーラス層が接着しているガス拡散層基材を準備する工程と、c)前記触媒層の一方側において前記触媒層を覆うように、接着剤を介して前記ガス拡散層基材を前記膜電極接合体に接合させる工程と、を含み、前記ガス拡散層基材に対する前記マイクロポーラス層の接着力は、ISO29862:2007の試験において、40g/25mm以上である。
第1態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、ガス拡散層基材に対するマイクロポーラス層の接着力を40g/25mm以上にすることによって、ガス拡散層付膜電極接合体の取り扱い時に、ガス拡散層が振動しても、マイクロポーラス層がガス拡散層基材から剥離することを抑制できる。
第2態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、電池特性が低下することを抑制できる。
第3態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、ガス拡散層の周縁部に接着部を設けることによって、ガス拡散層の周縁部が膜電極接合体に接着される。これにより、ガス拡散層の周縁部よりも内側の部分をまく電極接合体に接合する場合と比べて、ガス拡散層膜電極接合体からの剥離を抑制できる。また、接着部を線状にすることによって、接着部に使用される接着剤の量を少なくすることができる。
第4態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、対向する2つの周縁部をサブガスケットに接着できる。
第5態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、接着剤の幅を10mm以下とすることによって、接着剤の使用量を低減できる。これにより、ガス拡散層付膜電極接合体を薄くすることができる。
第6態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、乾燥厚みを5μm以下とすることよって、接着剤の使用材料を低減できるとともに、ガス拡散層付膜電極接合体を薄くすることができる。
第7態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、接着部が分離して設けられていることにより、接着剤の使用量を低減できる。
第8態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、接着部でガス拡散層を触媒層の外縁部に接着できる。
第9態様のガス拡散層付膜電極接合体によると、触媒層と重なる第2接着部のアイオノマーを1.0mg/cm2以下とすることによって、プロトンの導電性と接着性との双方を確保できる。
第10態様のガス拡散層付膜電極接合体の製造方法によると、ガス拡散層基材に対するマイクロポーラス層の接着力を40g/25mm以上にすることによって、ガス拡散層付膜電極接合体の取り扱い時に、ガス拡散層が振動しても、マイクロポーラス層がガス拡散層基材から剥離することを抑制できる。
第1実施形態に係る膜電極接合体を示す側断面図および平面図である。 第1実施形態に係るガス拡散層付MEAを示す側断面図および平面図である。 第2実施形態のガス拡散層付MEAを示す側断面図および平面図である。 第3実施形態のガス拡散層付MEAを示す側断面図および平面図である。 第4実施形態のガス拡散層付MEAを示す側断面図および平面図である。
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張又は簡略化して図示されている場合がある。
<1. 実施形態>
図1は、第1実施形態に係る膜電極接合体1を示す側断面図および平面図である。以下、膜電極接合体を「MEA」と表記する。MEA1は、燃料電池に用いられる。図1に示すように、MEA1は、複数のフィルム状の部材を積層したシート状を有する。
MEA1は、電解質膜11と、2つの触媒層13と、2つのサブガスケット15とを有する。2つの触媒層13のうち、1つは電解質膜11の一方側の主面(最も面積が大きい面)に位置し、もう1つは、電解質膜11の他方側の主面に位置する。すなわち、MEA1は、一方側から他方側に向かって順に、触媒層13と、電解質膜11と、触媒層13とを有する。以下、2つの触媒層13と電解質膜11が並ぶ方向(積層方向)を「厚さ方向」と称する。
電解質膜11には、例えば、フッ素系または炭化水素系の高分子電解質膜が用いられる。電解質膜11の具体例としては、パーフルオロカーボンスルホン酸を含む高分子電解質膜(例えば、米国DuPont社製のNafion(登録商標)、旭硝子(株)製のFlemion(登録商標)、旭化成(株)製のAciplex(登録商標)、ゴア(Gore)社製のGoreselect(登録商標))を挙げることができる。電解質膜11の膜厚は、例えば、5μm~30μmとされる。電解質膜11は、大気中の湿気によって膨潤する一方、湿度が低くなると収縮する。すなわち、電解質膜11は、大気中の湿度に応じて変形しやすい性質を有する。
2つの触媒層13は、高分子形燃料電池において、カソード電極およびアノード電極として機能する。触媒層13は、高分子形燃料電池のアノードまたはカソードにおいて燃料電池反応を起こす材料が用いられる。触媒層13の材料として、金(Pt)、白金合金、白金化合物等の触媒粒子が用いられる。白金合金の例としては、例えば、ルテニウム(Ru)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)、モリブデン(Mo)、イリジウム(Ir)、鉄(Fe)等からなる群から選択される少なくとも1種の金属と白金との合金を挙げることができる。一般的には、カソード用の触媒層13の材料には白金が用いられ、アノード用の触媒層13の材料には白金合金が用いられる。
サブガスケット15は、供給ガスおよび生成水のリークを防止する機能を有するとともに、MEA1のハンドリングを容易にするために設けられている。サブガスケット15は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)またはPS(ポリスチレン)のフィルムである。サブガスケット15は、触媒層13よりも大きい厚さ(例えば、25~100μm)を有していてもよい。
サブガスケット15は、電解質膜11の主面のうち触媒層13よりも外側の部分に、接着剤層17を介して接合されている。サブガスケット15は、開口(貫通穴)を有する枠状である。サブガスケット15の開口は、触媒層13とほぼ同じ大きさを有し、かつ、触媒層13の外形に対応する形状を有する。なお、サブガスケット15の開口は、触媒層13よりも小さくてもよい。この場合、サブガスケット15の内縁部が、触媒層13の外縁部131と厚さ方向に重ねられていてもよい。
2つのサブガスケット15の外縁部は、電解質膜11の外縁部よりも外側に位置する。すなわち、2つのサブガスケット15は、それぞれ電解質膜11の外縁部よりも外側にはみ出す部分を有する。2つのサブガスケット15における電解質膜11からはみ出した部分は、接着剤層17を介して互いに接着されている。
図2は、第1実施形態に係るガス拡散層付MEA2を示す側断面図および平面図である。ガス拡散層付MEA2は、図1に示すMEA1と、2つのガス拡散層3を有する。2つのガス拡散層3のうち、1つはMEA1の一方側に位置し、もう1つはMEA1の他方側に位置する。すなわち、MEA1は、2つのガス拡散層3で挟まれている。以下、ガス拡散層付MEA2における、電解質膜11よりも一方側の構造について説明する。ガス拡散層付MEA2の電解質膜11より他方側の構造は、一方側の構造と同様である。
ガス拡散層3は、触媒層13よりも大きい面積を有しており、触媒層13の外表面の全部を覆うように設けられている。図2に示すように、ガス拡散層3は、触媒層13の外縁部131よりも外側にはみ出した部分を有する。ガス拡散層3の触媒層13からはみ出した部分は、2つの第1接着部41を介して、サブガスケット15の一方側の面に接着されている。ガス拡散層3は、例えば矩形状である。なお、ガス拡散層3の形状は、矩形状に限定されるものではなく、円形(楕円形を含む)状または多角形状等であってもよい。
図2において拡大して示されているように、ガス拡散層3は、ガス拡散層基材31と、マイクロポーラス層33とを有する。ガス拡散層付MEA2において、マイクロポーラス層33は、ガス拡散層基材31と触媒層13の間に位置する。
ガス拡散層基材31は、導電性を有する多孔質部材で構成されている。ガス拡散層基材31は、例えば、カーボンペーパまたはカーボンクロスである。ガス拡散層基材31は、燃料である水素や空気の電極(触媒)への供給、電極での化学反応で生じた電子の集電、電解質膜11の保湿および精製水の排出といった機能を有する。
マイクロポーラス層33は、ガス拡散層基材31に接着している。マイクロポーラス層33は、例えば、マイクロポーラス層形成用のペースト組成物をガス拡散層基材31の片面上に塗布した後、ペースト組成物を乾燥させることによって形成される塗膜である。ペースト組成物は、例えば、非ポリマー系フッ素材料(例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE))の撥水性樹脂と、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、または、カーボンナノファイバーなどの導電性炭素材料とを有する。また、ペースト組成物は、必要に応じて、接着剤(熱可塑性樹脂など)を有する。
マイクロポーラス層33は、組成物の成分比を変更することによって、電解質膜11中により多くの水分を保持させる機能、あるいは、MEA1中の余分な水分を効率よく排出する機能等をガス拡散層3に持たせる。
ガス拡散層基材31に対するマイクロポーラス層33の接着力は、ISO29862:2007(JIS Z 0237:2009)の試験において、好ましくは40g/25mm以上、より好ましくは50g/25mm以上、より好ましくは60g/25mm以上、より好ましくは65g/25mm以上である。接着力を40g/25mm以上にすることによって、ガス拡散層付MEA2のハンドリング中に、ガス拡散層3に振動が生じても、マイクロポーラス層33がガス拡散層基材31から剥離することを抑制できる。
ガス拡散層基材31に対するマイクロポーラス層33の接着力は、ISO29862:2007の試験において、好ましくは200g/25mm以下、より好ましくは190g/25mm以下、より好ましくは180g/25mm以下、より好ましくは170g/25mm以下、より好ましくは160g/25mm以下である。接着力を200g/25mm以下とすることによって、ガス拡散層3のガス透過性が低下することを抑制でき、MEA1の電池特性が低下することを抑制できる。
第1接着部41は、厚さ方向において、ガス拡散層3の周縁部3Eと重なる位置に配されている。第1接着部41は、矩形状であるガス拡散層3の4辺のうち、互いに向かい合う2辺の周縁部3E,3Eにそれぞれ設けられている。また、第1接着部41は、ガス拡散層3の周縁部3Eと平行に延びる連続した線状(ここでは、直線状)を有する。ガス拡散層3の周縁部3Eとは、ガス拡散層3の主面の周縁領域を含む。周縁領域は、ガス拡散層3の周縁(周端)から幅数cm程度内側の領域である。なお、図2の例では、第1接着部41が、ガス拡散層3における対向する2辺の周縁部3E,3Eのみに設けられているが、残りの周縁部3E,3Eにも設けられていてもよい。
また、第1接着部41は、触媒層13の外縁部131よりも外側に位置する。すなわち、第1接着部41は、触媒層13とは厚さ方向に重なっていない。第1接着部41は、触媒層13の外縁部131と平行な方向に延びている。
第1接着部41は、例えば、接着剤を塗布することによって形成される部分である。接着剤は、特に限定されないが、以下のものが好ましい。接着剤は、例えば、熱可塑性接着剤、熱硬化性接着剤、エラストマー系接着剤、またはこれらのうちいくつかを組み合わせたものである。
ガス拡散層付MEA2の作製は、例えば、以下の手順で行われる。
(1)MEA1と、ガス拡散層3とをそれぞれ準備する工程。
(2)ガス拡散層3の表面(マイクロポーラス層33の表面)、または、サブガスケット15の表面のうち、第1接着部41を形成すべき領域に接着剤を塗布する工程。なお、第1接着部41の接着剤は、ガス拡散層3とサブガスケット15との両方に塗布されるようにしてもよい。
(3)ガス拡散層3をMEA1における触媒層13の外表面に積層する工程。本工程により、ガス拡散層3およびサブガスケット15が、第1接着部41の接着剤によって、互いに接着される。これにより、ガス拡散層3が、MEA1に接合される。
接着剤をガス拡散層3に直接塗布する場合、接着剤をサブガスケット15に塗布する場合よりも、ガス拡散層3の周縁部3Eに対して接着剤を正確に塗布できる。これにより、ガス拡散層3を、ガス拡散層3の周縁部3Eでサブガスケット15に接合できるため、ガス拡散層3がサブガスケット15から剥離することを抑制できる。
第1接着部41の接着剤を線状に塗布する場合、接着剤を非線状に塗布する場合と比べて、作業を単純化できる。したがって、ガス拡散層付MEA2の製造速度を向上できる。
第1接着部41の幅W1は、好ましくは10mm以下であり、より好ましくは2mm以下である。このようにすることによって、第1接着部41の接着剤が触媒層13に付着することによるMEA1の性能低下を抑制できる。第1接着部41の厚み(乾燥厚み)は、好ましくは5μm以下であり、より好ましくは、1μm以下である。第1接着部41の厚みをこのようにすることによって、ガス拡散層付MEA2の厚みを抑えることができる。
第1実施形態のガス拡散層付MEA2では、ガス拡散層3は、2つの線状の第1接着部41でサブガスケット15に接着されているだけで、それ以外の部分はMEA1に接着されていない。このため、ガス拡散層付MEA2の取り扱い時に、ガス拡散層3にばたつきなどの振動が生じやすい。ガス拡散層3に振動が生じると、マイクロポーラス層33がガス拡散層基材31から剥離するおそれがある。これに対して、ガス拡散層基材31に対するマイクロポーラス層33の接着力を、40g/25mm以上にすることによって、ガス拡散層付MEA2の取り扱い時に、マイクロポーラス層33がガス拡散層基材31から剥離することを抑制できる。
<2.第2実施形態>
図3は、第2実施形態のガス拡散層付MEA2を示す側断面図および平面図である。第2実施形態のガス拡散層付MEA2は、4つの第1接着部41の代わりに、4つの第1接着部41aを有する。第1接着部41aは、断続的に延びる線状(直線状)を有する。第1接着部41aは、例えば、30mm以下のピッチで接着剤を塗布することにより形成される。第1接着部41aの幅W1および乾燥厚みは、例えば、図2に示す第1接着部41の幅W1および乾燥厚みと同じとしてもよい。
第1接着部41aを断続的な線状とすることによって、接着剤の使用量を軽減できる。また、第1接着部41aの場合、サブガスケット15に接合しているガス拡散層3の部分が小さくなるため、ガス拡散層付MEA2の取り扱い時にガス拡散層3にばたつきがより一層生じやすくなる。しかしながら、ガス拡散層基材31に対するマイクロポーラス層33の接着力を40g/25mm以上とすることによって、マイクロポーラス層33の剥離を抑制できる。
本実施形態では、4つの第1接着部41のすべてを第1接着部41aに置換しているが、4つの第1接着部41のち一部のみを第1接着部41aに置換してもよい。
<3.第3実施形態>
図4は、第3実施形態のガス拡散層付MEA2を示す側断面図および平面図である。第3実施形態のガス拡散層付MEA2は、4つの第2接着部42をさらに有する。第2接着部42は、接着剤を線状に塗布することによって形成される領域である。
4つの第2接着部42のうち、2つは、MEA1の一方側に位置し、残りの2つはMEA1の他方側に位置する。以下、第3実施形態のガス拡散層付MEA2における、電解質膜11よりも一方側の構造について説明するが、電解質膜11よりも他方側の構造は、一方側の構造と同様であるため、説明を省略する。
2つの第2接着部42は、2つの第1接着部41の間に位置する。第2接着部42は、厚さ方向において、触媒層13の外縁部131と、サブガスケット15の内縁部とに重なる位置に配置されている。ガス拡散層3は、2つの第2接着部42を介して、触媒層13の外縁部131およびサブガスケット15の内縁部に接着されている。
第1接着部41は、0.05mg/cm2以上1.5mg/cm2以下、より好ましくは、1.0mg/cm2以上1.5mg/cm2以下のアイオノマーを有する。アイオノマーは、例えばNafion(登録商標)である。第2接着部42は、厚さ方向において触媒層13の外縁部131に重なる部分と、厚さ方向においてサブガスケット15の内縁部と重なる部分とを有する。第2接着部42は、例えば、0.025mg/cm2以上1.0mg/cm2以下のアイオノマーを有する。アイオノマーは、例えばNafion(登録商標)である。
第1接着部41および第2接着部42が含有するアイオノマーの量を、上記の通りとすることによって、ガス拡散層3のMEA1に対する接着力を確保できるとともに、ガス拡散層3におけるプロトン導電性を確保できる。
<4.第4実施形態>
図5は、第4実施形態のガス拡散層付MEA2を示す側断面図および平面図である。第4実施形態のガス拡散層付MEA2は、第2接着部42の代わりに、第2接着部42aを有している。第2接着部42は、外縁部131と平行な方向に断続的に延びる線状を有する。第2接着部42aは、好ましくは、30mm以下のピッチで接着剤を塗布することによって形成される。
第2接着部42aを断続的な線状とすることによって、接着剤の使用量を軽減できる。また、第2接着部42aの場合、サブガスケット15に接着しているガス拡散層3の部分が小さくなるため、ガス拡散層付MEA2の取り扱い時にガス拡散層3にばたつきが生じやすくなる。しかしながら、マイクロポーラス層33を40g/25mm以上の接着力でガス拡散層基材31に接着させることによって、マイクロポーラス層33の剥離を抑制できる。
この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。
1 膜電極接合体(MEA)
2 ガス拡散層付MEA
3 ガス拡散層
3E 周縁部
11 電解質膜
13 触媒層
15 サブガスケット
17 接着剤層
31 ガス拡散層基材
33 マイクロポーラス層
41 第1接着部
41a 第1接着部
42 第2接着部
42a 第2接着部

Claims (10)

  1. ガス拡散層付膜電極接合体であって、
    電解質膜と、前記電解質膜の一方の面に位置する触媒層と、前記電解質膜の前記一方の面のうち前記触媒層よりも外側において、前記電解質膜の前記一方の面に接合されているサブガスケットと、を有する膜電極接合体と、
    前記触媒層の一方側において前記触媒層を覆うとともに、接着部を介して前記膜電極接合体に接合されているガス拡散層と、
    を有し、
    前記ガス拡散層は、
    ガス拡散層基材と、
    前記ガス拡散層基材に接着しており、前記ガス拡散層基材と前記触媒層との間に位置するマイクロポーラス層と、
    を備え、
    前記ガス拡散層基材に対する前記マイクロポーラス層の接着力は、ISO29862:2007の試験において、40g/25mm以上である、ガス拡散層付膜電極接合体。
  2. 請求項1に記載のガス拡散層付膜電極接合体であって、
    前記接着力は、ISO29862:2007の試験において、200g/25mm以下である、ガス拡散層付膜電極接合体。
  3. 請求項1または請求項2に記載のガス拡散層付膜電極接合体であって、
    前記接着部が、前記ガス拡散層の周縁部と重なる位置に配され、かつ、周縁部に沿って線状に延びている、ガス拡散層付膜電極接合体。
  4. 請求項3に記載のガス拡散層付膜電極接合体であって、
    前記ガス拡散層は、互いに対向する2つの周縁部を有し、
    前記2つの周縁部と重なる位置に前記接着部が配されている、ガス拡散層付膜電極接合体。
  5. 請求項4に記載のガス拡散層付膜電極接合体であって、
    前記接着部は、10mm以下の幅を有する、ガス拡散層付膜電極接合体。
  6. 請求項4または請求項5に記載のガス拡散層付膜電極接合体であって、
    前記接着部は、乾燥厚みが5μm以下である、ガス拡散層付膜電極接合体。
  7. 請求項4から請求項6のいずれか1項に記載のガス拡散層付膜電極接合体であって、
    前記接着部は、前記ガス拡散層の前記周縁部と平行な方向に断続的に延びている、ガス拡散層付膜電極接合体。
  8. 請求項3から請求項7のいずれか1項に記載のガス拡散層付膜電極接合体であって、
    前記接着部は、前記触媒層の外縁部と重なる、ガス拡散層付膜電極接合体。
  9. 請求項8に記載のガス拡散層付膜電極接合体であって、
    前記接着部は、
    前記サブガスケットと重なり、前記触媒層とは重ならない第1接着部と、
    前記触媒層と重なる第2接着部と、
    を有し、
    前記第1接着部は、1.0mg/cm以上のアイオノマーを有し、
    前記第2接着部は、1.0mg/cm以下のアイオノマーを有する、ガス拡散層付膜電極接合体。
  10. ガス拡散層付膜電極接合体の製造方法であって、
    a) 電解質膜と、前記電解質膜の一方の面に位置する触媒層と、前記電解質膜の前記一方の面のうち前記触媒層よりも外側において、前記電解質膜の前記一方の面に接合されているサブガスケットと、を有する膜電極接合体を準備する工程と、
    b) マイクロポーラス層が接着しているガス拡散層基材を準備する工程と、
    c) 前記触媒層の一方側において前記触媒層を覆うように、接着剤を介して前記ガス拡散層基材を前記膜電極接合体に接合させる工程と、
    を含み、
    前記ガス拡散層基材に対する前記マイクロポーラス層の接着力は、ISO29862:2007の試験において、40g/25mm以上である、ガス拡散層付膜電極接合体の製造方法。
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