JP2021159861A - 触媒の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
〔1〕(A)カルシウムアルミネートと遷移金属を含む水性スラリーを作製する工程と、(B)前記水性スラリーをセラミックス支持体表面にコーティングする工程と、(C)前記セラミックス支持体を400〜600℃の温度で熱処理して、12CaO・7Al2O3化合物粒子を前記セラミックス支持体上に生成させ、固定化する工程とを含む触媒の製造方法。
〔2〕さらに、(D)前記遷移金属を還元処理して触媒活性を付与する工程を含む〔1〕の触媒の製造方法。
〔3〕前記セラミックス支持体が、ハニカム構造を有するセラミックス支持体である〔1〕または〔2〕の触媒の製造方法。
〔4〕セラミック支持体と、該セラミック支持体表面上に12CaO・7Al2O3化合物粒子を含むカルシウムアルミネート層を有し、該カルシウムアルミネート層全体に触媒活性を有する遷移金属が広く分散してなり、かつ該カルシウムアルミネート層内部にガス流通可能な間隙を含むことを特徴とする触媒。
工程(A)に用いるカルシウムアルミネートとしては、各種カルシウムアルミネート化合物、非晶質カルシウムアルミネート、カルシウムアルミネート水和物が挙げられ、これら1種または2種以上でもよい。カルシウムアルミネート化合物としては、3CaO・Al2O3 、12CaO・7Al2O3 、CaO・Al2O3 等が挙げられる。また、カルシウムアルミネート水和物としては、3CaO・Al2O3・xH2O、2CaO・Al2O3・xH2O、4CaO・Al2O3・xH2Oなどが挙げられる。これらは1種または2種以上の混合物であってもよいが、熱処理後において、できるだけ12CaO・7Al2O3化合物を含むことが好ましい。その点から、カルシウムアルミネートとしては、CaO/Al2O3モル比で、1.4〜2.0が好ましく、1.5〜1.9がより好ましく、1.6〜1.8がさらに好ましい。
前記水性スラリーをセラミックス支持体表面にコーティングする。ここで、セラミックス支持体としては、セラミックペレット、セラミックフォーム、セラミックハニカム、目封じタイプのセラミックハニカム等が挙げられるが、多量のカルシウムアルミネート粒子をコーティングできることからハニカム構造を有するセラミックス支持体がより好ましい。ここで、セラミックスとしては、炭化珪素、コージェライト、ムライト、アルミナ、ジルコニア、チタニア、リン酸チタン、アルミニウムチタネート、アルミノシリケート等が挙げられる。また、本発明におけるセラミック支持体は、支持体表面がセラミックスとしての性状を有するものも含まれる。例えば、鉄、アルミニウム、クロム、チタンやその合金などの表面に金属酸化物等のセラミックスの不動態の形成された金属等も使用可能である。
次いで、表面が水性スラリーでコーティングされたセラミックス支持体を400〜600℃の温度で熱処理する。これによって、カルシウムアルミネート粒子表面のカルシウムアルミネート水和物は分解し、12CaO・7Al2O3化合物等のカルシウムアルミネートが生成する。これによって、遷移金属を含むカルシウムアルミネート粒子のコーティング層はセラミックス支持体上にしっかりと固定化する。また、水和物の分解によって12CaO・7Al2O3化合物を含むカルシウムアルミネート層内にガスが流通可能な間隙が生成することも好ましい。
熱処理の雰囲気は特に限定されないが、通常、大気中で実施することができる。なお、水素雰囲気とすることで、遷移金属の活性化処理を同時に行うこともできる。大気中で熱処理が行われた場合は、別途、水素雰囲気にて遷移金属の活性化処理を行うことが好ましい。
本発明の製造方法によれば、セラミック支持体と、該セラミック支持体表面上に12CaO・7Al2O3化合物粒子を含むカルシウムアルミネート層を有し、当該カルシウムアルミネート層全体に触媒活性を有する遷移金属が広く分散してなり、かつ当該カルシウムアルミネート層内部にガス流通可能な間隙を含む触媒が得られる。本触媒は、触媒反応の際の遷移金属と反応対象物(炭化水素等)の接触において、コーティング層表面だけでなく、層内部の遷移金属とも反応対象物が接触しやすく、高い触媒活性を有する。
(12CaO・7Al2O3化合物粒子の作製)
酸化カルシウムとα型酸化アルミニウムがモル比〔(CaO)/(Al2O3)〕=1.63となる混合粉末を溶融炉にて溶融させた。溶融時の表面温度は最高で1800℃であり、40分間経過後全量溶融したことを確認し型枠に流し出した。その後自然冷却させ12CaO・7Al2O3化合物を得た。粉砕処理にはピンミルで粉砕後シングルトラックジェットミル(セイシン企業(株)製)を用いて粉砕を行った。この時得られた12CaO・7Al2O3化合物粉末の比表面積は1.8m2/gであった。比表面積測定には窒素ガス吸着測定装置(マイクロトラックベル(株)製BELsorp MAX)を用いBET比表面積として算出した。
得られた12CaO・7Al2O3化合物粉末と硝酸ニッケル六水和物(富士フィルム和光純薬(株))を蒸留水100質量部に対しそれぞれ2質量部および100質量部添加し、1時間撹拌して水性スラリーを得た。支持体として、1平方インチ当たり目の数が400のハニカム型コージエライトを用い、ハニカム面の鉛直方向に3cm×3cm×で水平方向に5cmに切り出して使用した。このハニカム支持体を水性スラリーに10秒間浸漬し、大気雰囲気にて100℃で1時間乾燥させた。同様の浸漬と乾燥の処理を合計4回繰り返し行った。その後大気雰囲気にて400℃で1時間熱処理を行い、触媒を得た。
触媒を流通式反応管内に設置し400℃で1時間水素雰囲気で還元処理を行った後、700℃にてメタンガスを4.5L/hrで流通させ、その際の水素生成特性をガスクロマトグラフィーにて計測した。その結果、メタン流通初期のメタン転化率が56.1%、水素濃度が70.8%であった。
(触媒の作製)
実施例1と同様の手順で得られた12CaO・7Al2O3化合物粉末と硝酸ニッケル六水和物、さらにクエン酸粉末を蒸留水100質量部に対しそれぞれ2質量部、100質量部、0.01質量部添加し、1時間撹拌して水性スラリーを得た。実施例1と同様のハニカム支持体を用い、水性スラリーに10秒間浸漬し、大気雰囲気にて100℃で1時間乾燥させた。同様の浸漬と乾燥の処理を合計4回繰り返し行った。その後大気雰囲気にて400℃で1時間熱処理を行い、触媒を得た。
触媒を流通式反応管内に設置し400℃で1時間水素雰囲気で還元処理を行った後、700℃にてメタンガスを4.5L/hrで流通させ、その際の水素生成特性をガスクロマトグラフィーにて計測した。その結果、メタン流通初期のメタン転化率が69.4%、水素濃度が81.6%であった。
(触媒の作製)
実施例1と同様の手順で得られた12CaO・7Al2O3化合物粉末を蒸留水100質量部に対しそれぞれ2質量部添加し、1時間撹拌して水性スラリーを得た。実施例1と同様のハニカム支持体を用い、水性スラリーに10秒間浸漬し、大気雰囲気にて100℃で1時間乾燥させた。同様の浸漬と乾燥の処理を合計4回繰り返し行った。その後、硝酸ニッケル六水和物を蒸留水100質量部に対し100質量部添加し、1時間撹拌して得た水溶液にハニカム支持体を10秒間浸漬し、大気雰囲気にて400℃で1時間熱処理を行い、触媒を得た。
触媒を流通式反応管内に設置し400℃で1時間水素雰囲気で還元処理を行った後、700℃にてメタンガスを4.5L/hrで流通させ、その際の水素生成特性をガスクロマトグラフィーにて計測した。その結果、メタン流通初期のメタン転化率が36.2%、水素濃度が52.3%であった。
(触媒の作製)
実施例1と同様の手順で得られた12CaO・7Al2O3化合物粉末を蒸留水100質量部に対しそれぞれ2質量部添加し、1時間撹拌して水性スラリーを得た。実施例1と同様のハニカム支持体を用い、水性スラリーに10秒間浸漬し、大気雰囲気にて100℃で1時間乾燥させた。同様の浸漬と乾燥の処理を合計4回繰り返し行った。その後硝酸ニッケル六水和物を蒸留水100質量部に対し100質量部添加し1時間撹拌して得た水溶液にハニカム支持体を10秒間浸漬し、大気雰囲気にて100℃で1時間乾燥させた。同様の浸漬と乾燥の処理を合計4回繰り返し行った。その後、大気雰囲気にて400℃で1時間熱処理を行い、触媒を得た。
触媒を流通式反応管内に設置し400℃で1時間水素雰囲気で還元処理を行った後、700℃にてメタンガスを4.5L/hrで流通させ、その際の水素生成特性をガスクロマトグラフィーにて計測した。その結果、メタン流通初期のメタン転化率が43.8%、水素濃度が60.6%であった。
Claims (4)
- (A)カルシウムアルミネートと遷移金属を含む水性スラリーを作製する工程と、
(B)前記水性スラリーをセラミックス支持体表面にコーティングする工程と、
(C)前記セラミックス支持体を400〜600℃の温度で熱処理して、12CaO・7Al2O3化合物粒子を前記セラミックス支持体上に生成させ、固定化する工程とを含む触媒の製造方法。 - さらに、(D)前記遷移金属を還元処理して触媒活性を付与する工程を含む請求項1に記載の触媒の製造方法。
- 前記セラミックス支持体が、ハニカム構造を有するセラミックス支持体である請求項1または2に記載の触媒の製造方法。
- セラミック支持体と、該セラミック支持体表面上に12CaO・7Al2O3化合物粒子を含むカルシウムアルミネート層を有し、該カルシウムアルミネート層全体に触媒活性を有する遷移金属が広く分散してなり、かつ該カルシウムアルミネート層内部にガス流通可能な間隙を含むことを特徴とする触媒。
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