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JP2019105672A - Light irradiation apparatus, light irradiation method, exposure apparatus, and exposure method - Google Patents

Light irradiation apparatus, light irradiation method, exposure apparatus, and exposure method Download PDF

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JP2019105672A
JP2019105672A JP2017236392A JP2017236392A JP2019105672A JP 2019105672 A JP2019105672 A JP 2019105672A JP 2017236392 A JP2017236392 A JP 2017236392A JP 2017236392 A JP2017236392 A JP 2017236392A JP 2019105672 A JP2019105672 A JP 2019105672A
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light
unit
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榎本 芳幸
Yoshiyuki Enomoto
芳幸 榎本
昌明 松坂
Masaaki Matsuzaka
昌明 松坂
小林 健一
Kenichi Kobayashi
健一 小林
智紀 原田
Tomonori Harada
智紀 原田
愛 橋本
Ai Hashimoto
愛 橋本
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V Technology Co Ltd
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V Technology Co Ltd
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

To provide a light irradiation apparatus, light irradiation method, exposure apparatus and exposure method that can be applied even for the case of exposure by adjusting the collimation half angle, in which while exposing in multiple irradiation modes, surface emitting light sources are efficiently arranged.SOLUTION: A light irradiation apparatus 10 comprises a light source unit 20 including a plurality of surface emitting light sources 21. The light source unit 20 is arranged such that the density of the surface emitting light sources 21 disposed at the central part of the light source unit 20 is denser than the density of the surface emitting light sources 21 disposed at the peripheral part of the light source unit 20.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光照射装置、光照射方法、露光装置及び露光方法に関し、より詳細には、光源として複数の面発光光源を備え、例えば、マスクに形成されたパターンを被露光部材に露光転写するのに好適な光照射装置、光照射方法、露光装置及び露光方法に関する。   The present invention relates to a light irradiation apparatus, a light irradiation method, an exposure apparatus, and an exposure method, and more specifically, includes a plurality of surface emitting light sources as light sources, and, for example, exposes and transfers a pattern formed on a mask to a member to be exposed The present invention relates to a light irradiation apparatus, a light irradiation method, an exposure apparatus and an exposure method which are suitable for the present invention.

従来、露光用光照射装置の光源部としては、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等のランプとリフレクタとの組合せや、複数の面発光素子を用いたものが提案されている。特許文献1では、ランプとフライアイレンズとの間に開口絞りを設け、コリメーション半角を調整することで被露光部材に精細なパターンを形成するようにした露光装置が提案されている。また、特許文献2では、LEDなどの複数の面発光素子をマトリックス状に配置した構成の光源装置を備え、光源装置からの光束を、コリメートレンズを介して、フライアイレンズに入射することが記載されている。LEDは、水銀ランプなどに比べて発光効率が高く、省電力、小発熱、長寿命であると共に、発光面が大きく、光の指向特性が広角である特徴がある。   Heretofore, as a light source part of a light irradiation apparatus for exposure, a combination of a lamp such as an extra-high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp and a reflector and a plurality of surface light emitting elements has been proposed. Patent Document 1 proposes an exposure apparatus in which an aperture stop is provided between a lamp and a fly's eye lens, and a fine pattern is formed on a member to be exposed by adjusting a half angle of collimation. Further, Patent Document 2 describes that a light source device having a configuration in which a plurality of surface light emitting elements such as LEDs are arranged in a matrix is provided, and a light flux from the light source device is incident on a fly eye lens through a collimator lens. It is done. LEDs are characterized by high luminous efficiency compared to mercury lamps and the like, power saving, small heat generation, long life, large light emitting surface, and wide-angle light directivity characteristics.

特開2013−200529号公報JP 2013-200529 A 特開2004−335826号公報JP, 2004-335826, A

しかしながら、特許文献1によると、開口絞りが、水銀ランプとフライアイレンズとの間に配置されているので、フライアイレンズに入射する光量が制限されて照度が低下するという課題があった。また、特許文献2によると、面発光素子の指向特性が広角であるため、その放射束を無駄なくコリメートレンズに入射し難いという課題があった。
また、光源部を面発光光源を用いて構成する場合、コリメーション半角を調整して露光するための照射モードも必要とされており、複数の照射モードで露光しつつ、面発光光源の効率的な配置が望まれている。
However, according to Patent Document 1, since the aperture stop is disposed between the mercury lamp and the fly's eye lens, there is a problem that the amount of light entering the fly's eye lens is limited and the illuminance is reduced. Further, according to Patent Document 2, there is a problem that since the directivity characteristic of the surface light emitting element is wide angle, it is difficult for the radiation flux to enter the collimating lens without waste.
In addition, when the light source unit is configured using a surface emitting light source, an irradiation mode for adjusting and exposing the collimation half angle is also required, and the surface emitting light source can be efficiently used while exposing in a plurality of irradiation modes. Placement is desired.

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、コリメーション半角を調整して露光する場合にも適用でき、複数の照射モードで露光しつつ、面発光光源を効率的に配置することができる光照射装置、光照射方法、露光装置及び露光方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and the object is also applicable to the case of adjusting the collimation half-angle to perform exposure, and efficiently exposes the surface emitting light source while exposing in a plurality of irradiation modes. Abstract: A light irradiation apparatus, a light irradiation method, an exposure apparatus and an exposure method which can be arranged.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) 複数の面発光光源を有する光源部を備える光照射装置であって、
前記光源部は、該光源部の中央部に配置される前記面発光光源の密度が、該光源部の周辺部に配置される前記面発光光源の密度よりも密に配置されることを特徴とする光照射装置。
(2) 前記光源部は、前記複数の面発光光源が配置される複数の基板ユニットを備え、
前記複数の基板ユニットは、
前記光源部の中央部に配置され、前記複数の面発光光源がマトリクス状に配置される第1の基板ユニットと、
前記光源部の周辺部に配置され、前記複数の面発光光源の数が第1の基板ユニットよりも少ない第2の基板ユニットと、
を備えることを特徴とする(1)に記載の光照射装置。
(3) 前記第1及び第2の基板ユニットは、前記複数の面発光光源が取り付けられ、サイズが同じ共通の基板本体を備えることを特徴とする(2)に記載の光照射装置。
(4)前記複数の基板ユニットは、冷却用流路を有する冷却プレートに取り付けられ、
前記冷却プレートは、前記複数の面発光光源に配索される配線を挿通可能な孔部を備えることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の光照射装置。
(5) 前記光源部は、前記面発光光源から入射される光を指向角を狭めて出射する複数の反射部と、をさらに備え、
前記複数の反射部は、前記複数の面発光光源に対応して、前記基板ユニットに直接又はホルダを介して取り付けられることを特徴とする(2)〜(4)のいずれかに記載の光照射装置。
(6) 前記光源部は、前記面発光光源から入射される光を指向角を狭めて出射する複数の反射部と、をさらに備え、
前記各反射部は、前記面発光光源から前記光の出射する側に向けて、光軸に直交する断面積が次第に大きくなることを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載の光照射装置。
(7) 前記各反射部は、前記面発光光源から前記光の出射する側に向けて、光軸に直交する断面積が次第に大きくなる4角錐形状を有し、
前記反射部の4つの稜線は、前記面発光光源の光軸方向から見て、前記面発光光源の頂点に対して、45°位相がずれた状態で配置されることを特徴とする(6)に記載の光照射装置。
(8) 前記光源部は、前記面発光光源から入射される光を指向角を狭めて出射する複数の反射部と、をさらに備え、
前記各反射部は、
前記面発光光源の光軸を中心として、前記面発光光源から離れるにつれて徐々に拡径する円錐テーパ面と、
該円錐テーパ面の大径部分から連続する円筒面と、
該円筒面内に、前記面発光光源の光軸周りに90°位相間隔で形成され、前記面発光光源の光軸と平行な軸を中心として、前記面発光光源から離れるにつれて徐々に拡径する、最大半径が該円筒面の曲率半径より小さな4つの部分円錐テーパ面と、
を有することを特徴とする(1)〜(7)のいずれかに記載の光照射装置。
(9) 前記4つの部分円錐テーパ面の中心位置は、前記面発光光源の光軸方向から見て、矩形の前記面発光光源の頂点に対して、45°位相がずれた状態で配置されることを特徴とする(8)に記載の光照射装置。
(10) 前記光源部を制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、
前記各面発光光源の点灯、消灯及び照度調整を行う光源制御部と、
前記複数の面発光光源の照射モードを選択可能な照射モード設定部と、
を備えることを特徴とする(1)〜(9)のいずれかに記載の光照射装置。
(11) 該光源部からの光の強度を均一化するインテグレータと、前記インテグレータから出射する前記光をコリメートするコリメーションミラー又はコリメータレンズと、
をさらに備えることを特徴とする(1)〜(10)のいずれかに記載の光照射装置。
(12) (1)〜(11)のいずれかに記載の光照射装置を用いて、前記光源部からの光をマスクを介して被露光部材に照射して前記マスクの露光パターンを前記被露光部材に露光転写するための光照射方法であって、
前記複数の面発光光源の複数の照射モードを準備する工程と、
前記マスクの設計値と前記露光パターンの設計値を含むレシピに基づいて、前記複数の照射モードのいずれかを選択し、
前記複数の照射モードのうち、選択された前記照射モードに応じて、前記各面発光光源の点灯及び消灯を行う工程と、
を備えることを特徴とする光照射方法。
(13) (1)〜(11)のいずれかに記載の光照射装置を備え、
前記光源部からの前記光をマスクを介して被露光部材に照射して前記マスクの露光パターンを前記被露光部材に露光転写することを特徴とする露光装置。
(14) (13)に記載の露光装置を備え、前記光源部からの前記光をマスクを介して被露光部材に照射して前記マスクの露光パターンを前記被露光部材に露光転写することを特徴とする露光方法。
The above object of the present invention is achieved by the following constitution.
(1) A light irradiation apparatus comprising a light source unit having a plurality of surface emitting light sources,
The light source unit is characterized in that the density of the surface emitting light source disposed in the central portion of the light source unit is denser than the density of the surface emitting light source disposed in the peripheral portion of the light source unit. Light irradiation device.
(2) The light source unit includes a plurality of substrate units on which the plurality of surface emitting light sources are disposed,
The plurality of substrate units are
A first substrate unit disposed at a central portion of the light source unit, and in which the plurality of surface emitting light sources are disposed in a matrix;
A second substrate unit disposed around the light source unit, wherein the number of the plurality of surface emitting light sources is smaller than that of the first substrate unit;
The light irradiation device according to (1), comprising:
(3) The light irradiation device according to (2), wherein the first and second substrate units are provided with a common substrate main body to which the plurality of surface emitting light sources are attached and which have the same size.
(4) The plurality of substrate units are attached to a cooling plate having a cooling channel,
The light irradiation device according to any one of (1) to (3), wherein the cooling plate includes a hole portion through which a wire wired to the plurality of surface emitting light sources can be inserted.
(5) The light source unit further includes: a plurality of reflecting units that narrows the directivity angle of the light incident from the surface emitting light source and emits the light.
The light irradiation according to any one of (2) to (4), wherein the plurality of reflecting portions are attached to the substrate unit directly or through a holder, corresponding to the plurality of surface emitting light sources. apparatus.
(6) The light source unit further includes a plurality of reflecting units that narrows the directivity angle of the light incident from the surface emitting light source and emits the light.
Each of the reflecting portions is characterized in that the cross-sectional area orthogonal to the optical axis gradually becomes larger toward the light emission side from the surface emitting light source according to any one of (1) to (5). Light irradiation device.
(7) Each of the reflection portions has a quadrangular pyramid shape in which the cross-sectional area orthogonal to the optical axis gradually increases toward the light emission side from the surface emitting light source,
The four ridge lines of the reflecting section are arranged in a state of being shifted in phase by 45 ° with respect to the vertex of the surface emitting light source when viewed from the optical axis direction of the surface emitting light source (6) The light irradiation device described in.
(8) The light source unit further includes: a plurality of reflecting units that narrows the directivity angle of the light incident from the surface emitting light source and emits the light.
Each of the reflectors is
A conical tapered surface whose diameter gradually increases with distance from the surface emitting light source with the optical axis of the surface emitting light source as a center;
A cylindrical surface continuous from the large diameter portion of the conical tapered surface;
The cylindrical surface is formed at a 90 ° phase interval around the optical axis of the surface emitting light source, and the diameter is gradually enlarged as it is separated from the surface emitting light source around an axis parallel to the optical axis of the surface emitting light source , Four partial conical tapered surfaces whose maximum radius is smaller than the radius of curvature of the cylindrical surface,
The light irradiation device according to any one of (1) to (7), characterized in that
(9) The center positions of the four partial conical tapered surfaces are arranged with a phase difference of 45 ° with respect to the vertex of the rectangular surface emitting light source as viewed from the optical axis direction of the surface emitting light source The light irradiation device according to (8), characterized in that
(10) It further comprises a control unit that controls the light source unit,
The control unit
A light source control unit for turning on / off and adjusting the illumination of each of the surface emitting light sources;
An irradiation mode setting unit capable of selecting an irradiation mode of the plurality of surface emitting light sources;
The light irradiation apparatus according to any one of (1) to (9), comprising:
(11) An integrator that makes the intensity of light from the light source unit uniform, and a collimation mirror or collimator lens that collimates the light emitted from the integrator.
The light irradiation device according to any one of (1) to (10), further comprising:
(12) By using the light irradiation apparatus according to any one of (1) to (11), the light from the light source unit is irradiated to the member to be exposed through the mask, and the exposure pattern of the mask is exposed to the light A light irradiation method for exposing and transferring onto a member, comprising:
Preparing a plurality of illumination modes of the plurality of surface emitting light sources;
One of the plurality of irradiation modes is selected based on a recipe including the design value of the mask and the design value of the exposure pattern,
A step of lighting and extinguishing the surface emitting light sources according to the selected irradiation mode among the plurality of irradiation modes;
A light irradiation method comprising:
(13) A light irradiation device according to any one of (1) to (11), comprising:
An exposure apparatus characterized in that the light from the light source unit is irradiated to the member to be exposed through the mask to expose and transfer the exposure pattern of the mask onto the member to be exposed.
(14) The exposure apparatus according to (13) is characterized in that the light from the light source unit is irradiated to the member to be exposed through the mask to expose and transfer the exposure pattern of the mask to the member to be exposed. Exposure method.

本発明の光照射装置及び光照射方法によれば、複数の面発光光源を有する光源部を備える光照射装置であって、光源部は、該光源部の中央部に配置される面発光光源の密度が、該光源部の周辺部に配置される面発光光源の密度よりも密に配置される。これにより、面発光光源の点灯箇所に応じて、コリメーション半角を調整して露光する場合にも適用でき、複数の照射モードで露光しつつ、面発光光源を効率的に配置する。   According to the light irradiation apparatus and the light irradiation method of the present invention, the light irradiation apparatus includes a light source unit having a plurality of surface emitting light sources, and the light source unit is a surface emitting light source disposed at a central part of the light source unit. The density is arranged more densely than the density of the surface emitting light source arranged at the periphery of the light source unit. Thereby, according to the lighting location of a surface emitting light source, it can apply also when adjusting and adjusting a collimation half angle, and a surface emitting light source is arrange | positioned efficiently, exposing in several irradiation mode.

また、本発明の露光装置及び露光方法によれば、上記の光照射装置を備え、光源部からの光をマスクを介して被露光部材に照射してマスクの露光パターンを被露光部材に露光転写する。これにより、面発光光源の点灯箇所に応じて、コリメーション半角を調整して露光する場合にも適用でき、複数の照射モードで露光しつつ、面発光光源を効率的に配置する。   Further, according to the exposure apparatus and the exposure method of the present invention, the light irradiation apparatus described above is provided, and light from the light source unit is irradiated to the member to be exposed through the mask to expose and transfer the exposure pattern of the mask to the member to be exposed Do. Thereby, according to the lighting location of a surface emitting light source, it can apply also when adjusting and adjusting a collimation half angle, and a surface emitting light source is arrange | positioned efficiently, exposing in several irradiation mode.

本発明に係る光照射装置を備える露光装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the exposure apparatus provided with the light irradiation apparatus which concerns on this invention. 図1に示す光照射装置の面発光光源とフライアイレンズの各レンズ素子との位置関係を示す正面図である。It is a front view which shows the positional relationship of the surface emitting light source of the light irradiation apparatus shown in FIG. 1, and each lens element of a fly eye lens. 図2のA−A断面を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the AA cross section of FIG. (a)は、面発光光源の一例を示す概略断面図であり、(b)は、面発光光源の他の例を示す概略断面図である。(A) is a schematic sectional drawing which shows an example of a surface emitting light source, (b) is a schematic sectional drawing which shows the other example of a surface emitting light source. (a)は、多角錐型反射部の概略斜視図、(b)は、円錐型反射部の概略斜視図、(c)は、多段型反射部の概略斜視図である。(A) is a schematic perspective view of a polygon pyramid type reflective part, (b) is a schematic perspective view of a conical reflective part, (c) is a schematic perspective view of a multistage reflective part. (a)は組み合わせ型反射部の斜視図、(b)は、(a)のB矢視図である。(A) is a perspective view of a combination type reflection part, (b) is B arrow line view of (a). 図6(a)のC−C断面図である。It is CC sectional drawing of Fig.6 (a). (a)は、各面発光光源にそれぞれ反射部が配設された光源部の概略図、(b)は、複数の面発光光源に対して1つの反射部が配設された光源部の概略図、(c)は、(a)と(b)とを組み合わせた光源部の概略図である。(A) is a schematic view of a light source unit in which each surface emitting light source is provided with a reflecting unit, and (b) is a schematic view of a light source unit in which one reflecting unit is provided for a plurality of surface emitting light sources A figure (c) is a schematic diagram of a light source part which combined (a) and (b). 通常照射モードにおける各面発光光源の点灯状態を示す正面図である。It is a front view which shows the lighting state of each surface emitting light source in normal irradiation mode. コリメーション半角調整照射モードにおける各面発光光源の点灯状態を示す正面図である。It is a front view which shows the lighting state of each surface emitting light source in collimation half-angle adjustment irradiation mode. 変形照射モードにおける各面発光光源の点灯状態の一例を示す正面図である。It is a front view which shows an example of the lighting state of each surface emitting light source in deformation | transformation irradiation mode. (a)は、コリメーション半角調整照射モードで点灯した光照射装置と矩形パターンを有するマスクとの組み合わせで露光される被露光部材の被露光部の形状を説明する図、(b)は、変形照射モードで点灯した光照射装置と十字形パターンを有するマスクとの組み合わせで露光された被露光部材の被露光部の形状を説明する図である。(A) is a figure explaining the shape of the to-be-exposed part of the to-be-exposed member exposed in the combination of the light irradiation apparatus lighted in collimation half-angle adjustment irradiation mode, and the mask which has a rectangular pattern, (b) is deformation | transformation irradiation It is a figure explaining the shape of the to-be-exposed part of the to-be-exposed member exposed by the combination of the light irradiation apparatus lighted in mode, and the mask which has a cross-shaped pattern.

以下、本発明の一実施形態に係る光照射装置及び露光装置を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は本実施形態の光照射装置を備える露光装置の概略構成図である。本実施形態の露光装置は、マスクMと被露光部材70とを所定のギャップを持って配置し、光照射装置10から出射された光を、マスクMを介して被露光部材70に照射して、マスクMのパターンを被露光部材70に露光転写する近接露光装置である。
Hereinafter, a light irradiation apparatus and an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram of an exposure apparatus provided with the light irradiation apparatus of the present embodiment. In the exposure apparatus of the present embodiment, the mask M and the member to be exposed 70 are disposed with a predetermined gap, and the light emitted from the light irradiation device 10 is irradiated to the member to be exposed 70 through the mask M. It is a proximity exposure apparatus that exposes and transfers the pattern of the mask M onto the exposure member 70.

光照射装置10は、光源部20と、該光源部20からの光の強度を均一化するインテグレータを構成するフライアイレンズ40と、コリメーションミラー50と、制御部60と、を備え、光源部20からの光をフライアイレンズ40、コリメーションミラー50を介して、マスクM側へ出射する。
なお、コリメーションミラー50の代わりに、コリメータレンズが使用されてもよいが、広範囲に光を照射する露光装置の場合には、コリメーションミラー50が好適に使用される。
また、インテグレータとしては、フライアイレンズ40の代わりに、ロッドレンズが使用されてもよい。
The light irradiation device 10 includes a light source unit 20, a fly eye lens 40 constituting an integrator for equalizing the intensity of light from the light source unit 20, a collimation mirror 50, and a control unit 60. Through the fly's eye lens 40 and the collimation mirror 50 to the mask M side.
Although a collimator lens may be used instead of the collimation mirror 50, in the case of an exposure apparatus that emits light in a wide range, the collimation mirror 50 is suitably used.
Also, as the integrator, a rod lens may be used instead of the fly's eye lens 40.

図2及び図3に示すように、光源部20は、LED(Light Emitting Diode)、LD(Laser Diode)、有機ELなどの複数の面発光光源21が、それぞれ基板本体22に実装されてなる複数の基板ユニット23と、面発光光源21からの光を反射して指向角を狭めてフライアイレンズ40に向けて出射する反射部30と、を備える。   As shown in FIGS. 2 and 3, the light source unit 20 includes a plurality of surface emitting light sources 21 such as LEDs (Light Emitting Diodes), LDs (Laser Diodes), and organic ELs mounted on the substrate body 22. And a reflecting unit 30 that reflects light from the surface emitting light source 21 to narrow the directivity angle and emits the light toward the fly's eye lens 40.

一例として、面発光光源21は、図4(a)に示すように、パッケージ基板21bに取り付けられたLEDチップ21aの前方にカバーガラス21cが設けられる構成であってもよい。或いは、面発光光源21は、図4(b)に示すように、パッケージ基板21bに取り付けられたLEDチップ21aの前方にレンズ21dが設けられる構成であってもよい。   As an example, as shown to Fig.4 (a), the surface emitting light source 21 may be the structure by which the cover glass 21c is provided ahead of the LED chip 21a attached to the package board 21b. Alternatively, as shown in FIG. 4B, the surface emitting light source 21 may be configured such that the lens 21d is provided in front of the LED chip 21a attached to the package substrate 21b.

基板ユニット23は、光源部20の中央部に配置される第1の基板ユニット23Aと、光源部20の周辺部に配置される第2の基板ユニット23Bとを備える。第1の基板ユニット23A及び第2の基板ユニット23Bは、9×9の同一仕様のマトリクス状の実装スペースを有する基板本体22に、それぞれ異なる数、即ち、異なる密度で面発光光源21が実装されて構成される。   The substrate unit 23 includes a first substrate unit 23A disposed in the central portion of the light source unit 20 and a second substrate unit 23B disposed in the peripheral portion of the light source unit 20. In the first substrate unit 23A and the second substrate unit 23B, the surface emitting light sources 21 are mounted in different numbers, ie, different densities, on the substrate main body 22 having a matrix-shaped mounting space of the same specification of 9 × 9. Is configured.

第1の基板ユニット23Aに実装される面発光光源21の数は、第2の基板ユニット23Bに実装される面発光光源21の数より多く、例えば、中央部に配置される第1の基板ユニット23Aの面発光光源21の数は、81個として、9×9のマトリクス状の実装スペース全てに配置されている。また、周辺部に配置される第2の基板ユニット23Bの面発光光源21は、点対称に25個配置されている。
このように、基板本体22を第1及び第2の基板ユニット23A,23Bで共用しつつ、後述する各照明モードを実現するのに、中央部と周辺部とで適切な数の面発光光源21を実装することで、コストダウンが図れる。
The number of surface emitting light sources 21 mounted on the first substrate unit 23A is larger than the number of surface emitting light sources 21 mounted on the second substrate unit 23B, for example, the first substrate unit disposed in the central portion The number of surface emitting light sources 21 of 23A is 81, and is disposed in all the 9 × 9 matrix mounting spaces. In addition, 25 surface emitting light sources 21 of the second substrate unit 23B disposed in the peripheral portion are disposed point-symmetrically.
In this manner, while the substrate main body 22 is shared by the first and second substrate units 23A and 23B, an appropriate number of surface-emitting light sources 21 are provided in the central portion and the peripheral portion to realize each illumination mode described later. Can reduce costs.

第1の基板ユニット23A及び第2の基板ユニット23Bは、不図示の冷却用流路を有する矩形形状の冷却プレート24に取り付けられており、冷却プレート24は、冷却用流路内を循環する冷却水によって、面発光光源21を冷却する。なお、面発光光源21の冷却方法は、水冷の他、空冷や冷却素子を用いた冷却でもよい。   The first substrate unit 23A and the second substrate unit 23B are attached to a rectangular cooling plate 24 having a cooling channel (not shown), and the cooling plate 24 circulates in the cooling channel The surface light source 21 is cooled by water. The cooling method of the surface emitting light source 21 may be air cooling or cooling using a cooling element other than water cooling.

冷却プレート24の中央部には、第1の基板ユニット23AがX方向及びY方向に密着して配置され、冷却プレート24の周辺部には、第2の基板ユニット23BがX方向及びY方向に互いに離間した状態で配置されている。図2に示す例では、光源部20の中央部には、4枚の第1の基板ユニット23Aが密着して配置されている。また、光源部20の周辺部には、8枚の第2の基板ユニット23Bが間隔をあけて配置されている。   The first substrate unit 23A is disposed in close contact with the X direction and the Y direction at the central portion of the cooling plate 24, and the second substrate unit 23B is disposed in the X direction and the Y direction at the peripheral portion of the cooling plate 24. It is arrange | positioned in the mutually spaced state. In the example shown in FIG. 2, the four first substrate units 23A are disposed in close contact with each other at the central portion of the light source unit 20. In addition, eight second substrate units 23B are arranged at intervals in the peripheral portion of the light source unit 20.

したがって、基板ユニット23の配置密度によっても、光源部20の中央部には、面発光光源21が密に配置され、光源部20の周辺部には、面発光光源21が疎に配置される。ただし、周辺部における基板ユニット23の配置は、X方向及びY方向に密着或いは、X方向のみY方向のみで部分的に隣接して配置されてもよい。   Therefore, the surface emitting light sources 21 are densely disposed at the central portion of the light source unit 20 and the surface emitting light sources 21 are sparsely disposed at the peripheral portion of the light source unit 20 depending on the arrangement density of the substrate units 23. However, the arrangement of the substrate units 23 in the peripheral portion may be in close contact with the X direction and the Y direction, or may be arranged so as to be partially adjacent only in the Y direction only in the X direction.

また、外側に配置される8枚の複数の第2の基板ユニット23Bは、これらを繋いだ部分の大きさが、フライアイレンズ40の大きさと略一致するようにして配置されており、また、複数の第1の基板ユニット23Aは、これらの周囲を結んだ4辺が、フライアイレンズ40の中央付近の複数のレンズ素子41の周縁部と略一致するようにして配置されている。
ただし、複数の第2の基板ユニット23Bを繋いだ部分の大きさは、フライアイレンズ40の大きさと必ずしも一致させる必要がなく、例えば、複数の第2の基板ユニット23Bを繋いだ部分の大きさが、フライアイレンズ40の大きさよりも大きくてもよい。
また、複数の第1の基板ユニット23Aの周囲を結んだ4辺も、フライアイレンズ40の中央付近の複数のレンズ素子41の周縁部と必ずしも一致させる必要はなく、その場合には、例えば、後述するコリメーション半角調整照射モード時、フライアイレンズ40のの中央付近の複数のレンズ素子41の周縁部外に位置する面発光光源21を消灯すればよい。
Further, the plurality of eight second substrate units 23B disposed outside are disposed so that the size of the portion connecting them substantially matches the size of the fly eye lens 40, and The plurality of first substrate units 23A are arranged such that the four sides connecting the peripheries thereof substantially coincide with the peripheral portions of the plurality of lens elements 41 near the center of the fly eye lens 40.
However, the size of the portion connecting the plurality of second substrate units 23B does not necessarily have to match the size of the fly-eye lens 40. For example, the size of the portion connecting the plurality of second substrate units 23B However, it may be larger than the size of the fly's eye lens 40.
Further, the four sides connecting the peripheries of the plurality of first substrate units 23A do not necessarily have to coincide with the peripheral portions of the plurality of lens elements 41 near the center of the fly eye lens 40, in which case, for example, In the collimation half-angle adjustment irradiation mode to be described later, the surface-emitting light source 21 located outside the periphery of the plurality of lens elements 41 near the center of the fly's eye lens 40 may be turned off.

また、図2において、符号26は、各面発光光源21からの配線を引き出すため、コネクタなどが配置される配線取出し領域である。配線取出し領域は、基板ユニット23に設けられた回路基板に形成されてもよい。   Further, in FIG. 2, reference numeral 26 is a wiring extraction area in which a connector or the like is disposed in order to extract the wiring from each surface emitting light source 21. The wiring extraction area may be formed on a circuit board provided in the board unit 23.

また、冷却プレート24には、中央部に配置された第1の基板ユニット23Aと周辺部に配置された第2の基板ユニット23Bとの間に、板厚方向に貫通する複数の孔部25が設けられており、孔部25を介して中央部に配置された面発光光源21からの配線(図示せず)を外部に引き出す。   Further, in the cooling plate 24, there are a plurality of holes 25 penetrating in the plate thickness direction between the first substrate unit 23A disposed in the center and the second substrate units 23B disposed in the peripheral portion. The wiring (not shown) from the surface emitting light source 21 which is provided and which is disposed in the center through the hole 25 is drawn out.

このように、基板ユニット23を複数に分割することで、一部の面発光光源21に不具合が発生した場合、不具合の面発光光源21を含む基板ユニット23だけの交換で容易に修復することができ、メンテナンスが容易になると共に、コストを抑制することができる。   As described above, by dividing the substrate unit 23 into a plurality of parts, when a failure occurs in a part of the surface light emission light source 21, it can be easily repaired by replacing only the substrate unit 23 including the surface light emission light source 21 of failure. As a result, maintenance can be facilitated and costs can be reduced.

また、基板ユニット23内での面発光光源21の配置密度、基板ユニット23の大きさや実装スペース、及び、冷却プレート24に対する基板ユニット23の配置密度を、中央部と周辺部で工夫することで、冷却プレート24に対する面発光光源21の配置密度が、周辺部が中央部の1/2以下となるように配置されることが好ましい。
即ち、本実施形態では、面発光光源21が密に配置されている領域を光源部20の中央部とし、面発光光源21が疎に配置されている領域を光源部20の周辺部としている。
Further, the arrangement density of the surface emitting light source 21 in the substrate unit 23, the size and mounting space of the substrate unit 23, and the arrangement density of the substrate unit 23 with respect to the cooling plate 24 are devised in the central portion and the peripheral portion, It is preferable that the arrangement density of the surface emitting light source 21 with respect to the cooling plate 24 be arranged so that the peripheral portion is half or less of the central portion.
That is, in the present embodiment, the area where the surface emitting light sources 21 are densely arranged is taken as the central part of the light source unit 20, and the area where the surface emitting light sources 21 are arranged sparsely is taken as the peripheral part of the light source unit 20.

なお、複数の面発光光源21は、フライアイレンズ40の中央部から周辺部へ、段階的に配置密度を異ならせて配置してもよい。また、面発光光源21の数によるだけでなく、面発光光源21の大きさを調整して配置密度を調整してもよい。いずれの配置でも、面発光光源21は、フライアイレンズ40に対して略点対称に配置されていればよく、光照射装置10を、例えば、露光装置100の光源として利用する場合、実装誤差を含め、20%程度の配置誤差は実質的な影響が少なく許容される。   The plurality of surface emitting light sources 21 may be arranged in a stepwise different arrangement density from the central portion to the peripheral portion of the fly eye lens 40. Further, the arrangement density may be adjusted by adjusting the size of the surface emitting light source 21 in addition to the number of the surface emitting light source 21. In any arrangement, the surface emitting light source 21 may be disposed substantially point-symmetrically with respect to the fly's eye lens 40. When using the light irradiation device 10 as a light source of the exposure device 100, for example, mounting error Including a placement error of about 20% is acceptable with virtually no effect.

反射部30は、フライアイレンズ40から距離d(数mm程度)離れて、面発光光源21とフライアイレンズ40との間に配置されている。反射部30は、面発光光源21からフライアイレンズ40に向けて、光軸に直交する断面積が次第に大きくなる断面形状を有し、内面が鏡面の筒状部材やガラスロッドで形成される。そして、面発光光源21から放射される広角の指向特性を持つ光を、筒状部材の鏡面、あるいはガラスロッドの内面で複数回反射させて照射角を狭め、輝度ムラの少ない光をフライアイレンズ40に向けて出射する。   The reflecting unit 30 is disposed between the surface-emitting light source 21 and the fly-eye lens 40 at a distance d (about several mm) from the fly-eye lens 40. The reflecting portion 30 has a cross-sectional shape in which a cross-sectional area orthogonal to the optical axis gradually increases from the surface emitting light source 21 to the fly's eye lens 40, and is formed of a cylindrical member having a mirror surface and a glass rod. Then, light having wide-angle directivity emitted from the surface emitting light source 21 is reflected a plurality of times by the mirror surface of the cylindrical member or the inner surface of the glass rod to narrow the irradiation angle, and light with less luminance unevenness is fly eye lens Emit towards 40.

反射部30の形状としては、図5(a)に示す4角錐型反射部30A、図5(b)に示す円錐型反射部30B、図5(c)に示す多段型反射部30C、図6及び図7に示す、組み合わせ型反射部30Dなどが挙げられる。4角錐型反射部30Aは、長さ寸法、入口及び出口寸法が同じ円錐型反射部30Bと比較して、集光効率が高い。また、図5(c)に示すように、2段の4角錐形状の場合には、面発光光源21側の4角錐のテーパ角度を、フライアイレンズ40側の4角錐のテーパ角度よりも大きくすることが好ましい。   The shape of the reflecting portion 30 is a quadrangular pyramidal reflecting portion 30A shown in FIG. 5A, a conical reflecting portion 30B shown in FIG. 5B, a multistage reflecting portion 30C shown in FIG. And a combination type reflection unit 30D shown in FIG. The four-pyramidal reflector 30A has high light collection efficiency as compared to the conical reflector 30B having the same length dimension and the same inlet and outlet dimensions. Further, as shown in FIG. 5C, in the case of a two-step four-pyramid shape, the taper angle of the four-sided pyramid on the surface emitting light source 21 side is larger than the taper angle of the four-sided pyramid on the fly's eye lens 40 side. It is preferable to do.

また、図6及び図7に示すように、内面が鏡面を有する場合の組み合わせ型反射部30Dは、面発光光源21の光軸Lを中心として、面発光光源21から離れるにつれて徐々に拡径する円錐テーパ面31と、円錐テーパ面31の大径部分から連続する円筒面32と、円筒面32内に、面発光光源21の光軸L周りに90°位相間隔で形成され、面発光光源21の光軸Lと平行な軸を中心として、面発光光源21から離れるにつれて徐々に拡径する、最大半径Dが円筒面32の曲率半径Rより小さな4つの部分円錐テーパ面33と、を有する。これら4つの部分円錐テーパ面33は、互いに離れた状態で、円筒面32内に形成されている。また、円錐テーパ面31のテーパ角度は、部分円錐テーパ面33のテーパ角度より大きくすることが好ましい。
これにより、組み合わせ型反射部30Dは、円錐型反射部30Bが有する加工の容易さと、4角錐型反射部30Aが有する集光効率の高さと、を同時に実現できる。
Further, as shown in FIG. 6 and FIG. 7, the combination type reflection part 30D in the case where the inner surface has a mirror surface is gradually enlarged in diameter with distance from the surface emitting light source 21 centering on the optical axis L of the surface emitting light source 21. The conical tapered surface 31, the cylindrical surface 32 continuing from the large diameter portion of the conical tapered surface 31, and the cylindrical surface 32 are formed at 90 ° phase intervals around the optical axis L of the surface emitting light source 21. The four cone-shaped tapered surfaces 33 whose maximum radius D is smaller than the radius of curvature R of the cylindrical surface 32 gradually increase in diameter away from the surface-emitting light source 21 about an axis parallel to the optical axis L of. The four partial conical tapered surfaces 33 are formed in the cylindrical surface 32 in a mutually separated state. Moreover, it is preferable to make the taper angle of the conical taper surface 31 larger than the taper angle of the partial conical taper surface 33.
As a result, the combination type reflector 30D can simultaneously realize the ease of processing possessed by the conical reflector 30B and the height of the light collection efficiency possessed by the four-pyramidal reflector 30A.

また、部分円錐テーパ面33の中心位置は、矩形の面発光光源21の頂点と位相を一致させた状態で取り付けられてもよいが、図6(b)に示すように、部分円錐テーパ面33の中心位置O1は、面発光光源21の光軸方向から見て、矩形の面発光光源21の頂点21aに対して、45°位相がずれた状態で取り付けられることが好ましい。これにより、反射部30Dから出射される光は、面発光光源21の矩形形状の出射光の影響を受け難くなり、より均一となる。なお、図5(a)に示す4角錐型反射部30Aにおいても、反射部30Aの4つの稜線と、面発光光源21の頂点の位置とを、面発光光源21の光軸L周りに45°位相をずらすことでも、同様の効果を奏する。   Also, the central position of the partially conical tapered surface 33 may be attached in phase with the apex of the rectangular surface emitting light source 21, but as shown in FIG. 6 (b), the partially conical tapered surface 33 is used. The center position O1 is preferably attached with a phase shift of 45 ° with respect to the vertex 21a of the rectangular surface emitting light source 21 when viewed from the optical axis direction of the surface emitting light source 21. As a result, the light emitted from the reflecting portion 30D is less likely to be affected by the rectangular light emitted from the surface emitting light source 21, and becomes more uniform. Also in the quadrangular pyramidal reflector 30A shown in FIG. 5A, the four ridges of the reflector 30A and the position of the apex of the surface emitting light source 21 are 45 ° around the optical axis L of the surface emitting light source 21. Shifting the phase produces the same effect.

また、図8は、面発光光源21と反射部30との組み合わせ例であり、図8(a)に示す組み合わせ例では、各面発光光源21に対してそれぞれ1つの反射部30が対応して配置される。また、図8(b)に示す組み合わせ例では、複数の面発光光源21に対して大きな入射口を有する1つの反射部30が対応配置される。また、図8(c)に示す組み合わせ例では、各面発光光源21に対してそれぞれ1つの反射部30が配置され、さらに各反射部30から出射される光が、大きな入射口を有する他の1つの反射部30で纏められてフライアイレンズ40に向けて出射されるように構成されている。
また、複数の面発光光源21に対応する複数の反射部30を、単一の部品として形成することも可能である。これにより、複数の反射部30を有する部材を基板ユニット23A、23Bと容易に一体化することができる。
また、複数の反射部30は、基板ユニット23A、23Bに、図示しないホルダを介して取り付けられてもよい。
さらに、複数の反射部30は、基板ユニット23A、23Bとフライアイレンズ40とと共に、ホルダを用いて一体的に取り付けてもよい。フライアイレンズ40は、照射面積に応じて複数種類を交換可能に光照射装置1に搭載されるが、1種類のフライアイレンズ40しか搭載しない光照射装置1の場合には、光源部20とフライアイレンズ40とを一体的にホルダで保持してもよい。
8 shows an example of combination of the surface emitting light source 21 and the reflecting section 30, and in the example of combination shown in FIG. 8A, one reflecting section 30 corresponds to each surface emitting light source 21. Be placed. Further, in the combination example shown in FIG. 8B, one reflecting portion 30 having a large incident opening is arranged corresponding to the plurality of surface emitting light sources 21. Further, in the combination example shown in FIG. 8C, one reflecting portion 30 is disposed for each of the surface emitting light sources 21, and the light emitted from each reflecting portion 30 further has a large entrance. It is configured to be collected by one reflection unit 30 and emitted toward the fly's eye lens 40.
Moreover, it is also possible to form several reflection part 30 corresponding to several surface emitting light source 21 as a single component. Thereby, the member which has the some reflection part 30 can be easily integrated with board | substrate unit 23A, 23B.
In addition, the plurality of reflection units 30 may be attached to the substrate units 23A and 23B via a holder (not shown).
Furthermore, the plurality of reflecting portions 30 may be integrally attached together with the substrate units 23A, 23B and the fly's eye lens 40 using a holder. The fly's eye lens 40 is mounted on the light irradiation apparatus 1 so as to be able to exchange a plurality of types according to the irradiation area, but in the case of the light irradiation apparatus 1 equipped with only one type of fly's eye lens 40 The fly-eye lens 40 may be integrally held by the holder.

フライアイレンズ40は、複数(図2では、196個(14行×14列))のレンズ素子41がマトリックス状に配置された構成を有する。フライアイレンズ40は、複数のレンズ素子41により、面発光光源21から放射した光を重ね合わせて、露光光の強度分布を均一化する。   The fly-eye lens 40 has a configuration in which a plurality of (196 (14 rows × 14 columns) lens elements 41 in FIG. 2) are arranged in a matrix. The fly's eye lens 40 superimposes the light emitted from the surface emitting light source 21 by the plurality of lens elements 41 to make the intensity distribution of the exposure light uniform.

面発光光源21とフライアイレンズ40のレンズ素子41とは、必ずしも1:1で対応している必要はなく、また、各レンズ素子41に対応して配置される面発光光源21の数も、同一である必要はない。   The surface emitting light source 21 and the lens elements 41 of the fly's eye lens 40 do not necessarily have to correspond 1: 1, and the number of surface emitting light sources 21 arranged corresponding to each lens element 41 is also It does not have to be identical.

コリメーションミラー50は、フライアイレンズ40とマスクMとの間に配置され、フライアイレンズ40から出射した露光光の光路を変更して、平行光をマスクMを介して被露光部材70に照射する。   The collimation mirror 50 is disposed between the fly's eye lens 40 and the mask M, changes the optical path of the exposure light emitted from the fly's eye lens 40, and irradiates parallel light onto the member 70 via the mask M. .

図1に戻り、制御部60は、光源制御部61と、照射モード設定部62とを備え、各面発光光源21を個別に制御する。光源制御部61は、照射モード設定部62で選択された照射モードに基づいて、複数の面発光光源21を点灯及び消灯を行う。また、各面発光光源21の電力調整、点灯時間、又は周波数の調整を行うことで、各面発光光源21の照度調整を行う。   Returning to FIG. 1, the control unit 60 includes a light source control unit 61 and an irradiation mode setting unit 62, and controls the surface light sources 21 individually. The light source control unit 61 turns on and off the plurality of surface emitting light sources 21 based on the irradiation mode selected by the irradiation mode setting unit 62. Also, by adjusting the power of each surface emitting light source 21, adjusting the lighting time, or adjusting the frequency, the illuminance of each surface emitting light source 21 is adjusted.

照射モード設定部62は、照射モードを選択することにより瞳分布を自由に設定する。照射モード設定部62は、図9に示す通常照射モード、図10に示すコリメーション半角調整照射モード、及び図11に示す変形照射モードなどの各モードで各面発光光源21を点灯制御する。即ち、制御部60は、複数の面発光光源21を個別に制御可能である。   The irradiation mode setting unit 62 freely sets the pupil distribution by selecting the irradiation mode. The irradiation mode setting unit 62 performs lighting control of each surface light emission light source 21 in the normal irradiation mode shown in FIG. 9, the collimation half-angle adjustment irradiation mode shown in FIG. 10, and the deformation irradiation mode shown in FIG. That is, the control unit 60 can control the plurality of surface emitting light sources 21 individually.

照射モード設計部62では、露光装置を制御するためのレシピ(制御情報)において、照射モードを直接設定することもできるが、マスクMの設計値と露光パターンの設計値を含むレシピに基づいて、複数の照射モードのいずれかを自動的に選択するようにしてもよい。なお、レシピは、露光装置の主制御部(制御PC)でオペレータが選択する他、工場の中央制御部(ホストPC)から各露光装置に送信されてもよい。また、基板コードを認識して、レシピと合致しているかを判別するようにしてもよい。
例えば、線幅5μm以下であれば、コリメーション半角調整照射モードが選択される。
The irradiation mode design unit 62 can directly set the irradiation mode in the recipe (control information) for controlling the exposure apparatus, but based on the recipe including the design value of the mask M and the design value of the exposure pattern, One of the plurality of irradiation modes may be automatically selected. The recipe may be transmitted from the central control unit (host PC) of the factory to each exposure device, in addition to being selected by the operator at the main control unit (control PC) of the exposure device. Alternatively, the substrate code may be recognized to determine whether the recipe matches.
For example, if the line width is 5 μm or less, the collimation half-angle adjustment irradiation mode is selected.

図9に示すように、通常照射モードは、全面を設定された照度で均一に照射するモードであり、中央部の面発光光源21は、周辺部の照度に合わせて一部消灯または照度調整される。ここで、中央部と周辺部の照度は、必ずしも同一である必要はなく、それぞれ設定された照度であればよい。通常照射モードは、比較的太い線を露光転写する際に用いられる。なお、図中、点灯している面発光光源21は、ドット模様を付して示す。   As shown in FIG. 9, the normal irradiation mode is a mode in which the entire surface is uniformly irradiated with the set illuminance, and the surface emitting light source 21 at the central portion is partially turned off or adjusted in accordance with the illuminance at the peripheral portion. Ru. Here, the illuminance at the central portion and the peripheral portion does not necessarily have to be the same, and may be set respectively. The normal irradiation mode is used when exposing and transferring a relatively thick line. In the drawing, the surface emitting light source 21 which is lit is shown with a dot pattern.

また、図10に示すように、コリメーション半角調整照射モードでは、中央部に配置される第1の基板ユニット23Aの面発光光源21が設定照度値になるよう点灯され、周辺部に配置される第2の基板ユニット23Bの面発光光源21が消灯する。コリメーション半角調整照射モードでは、中央部の面発光光源21のみを点灯させることで照射部が中央部に限定され、コリメーション半角が小さくなるので、露光された像のぼけ量を少なくすることができ、比較的細い線を高解像度で露光転写できる。   Further, as shown in FIG. 10, in the collimation half-angle adjustment irradiation mode, the surface emitting light source 21 of the first substrate unit 23A disposed in the center is turned on to have the set illuminance value, and is disposed in the peripheral portion. The surface emitting light source 21 of the second substrate unit 23B is turned off. In the collimation half-angle adjustment illumination mode, the illumination unit is limited to the central portion by turning on only the surface-emitting light source 21 in the central portion, and the collimation half-angle decreases, so the amount of blurring of the exposed image can be reduced. A relatively thin line can be exposed and transferred with high resolution.

なお、フライアイレンズ40の前方、または後方に開口絞りを設けてもよい。開口絞りを設置する場合、周辺部(第2の基板ユニット23B)の面発光光源21は、必ずしも全消灯する必要はない。開口絞りの設置により、コリメーション半角が小さくなるので、露光された像のぼけ量を少なくすることができ、比較的細い線を高解像度で露光転写できる。   An aperture stop may be provided in front of or behind the fly's eye lens 40. When the aperture stop is installed, the surface emitting light source 21 in the peripheral portion (the second substrate unit 23B) does not necessarily have to be completely turned off. By providing the aperture stop, the collimation half angle is reduced, so that the amount of blurring of the exposed image can be reduced, and a relatively thin line can be exposed and transferred with high resolution.

図11に示すように、変形照射モードでは、マトリックス状に実装された複数の面発光光源21を選択的に点灯することにより、マスクMのパターンに合わせて最適な照明形状で露光光を照射することができる。   As shown in FIG. 11, in the modified irradiation mode, the exposure light is irradiated with an optimal illumination shape according to the pattern of the mask M by selectively lighting the plurality of surface emitting light sources 21 mounted in a matrix. be able to.

例えば、図12(a)に示すように、矩形のパターンを有するマスクMに対して、コリメーション半角調整照射モード(図10参照)で露光光を照射すると、被露光部材70には、角部が丸まった被露光部71が形成される。   For example, as shown in FIG. 12A, when the exposure light is irradiated to the mask M having a rectangular pattern in the collimation half-angle adjustment irradiation mode (see FIG. 10), the corner of the exposed member 70 is A rounded exposed portion 71 is formed.

角部が尖った矩形の被露光部71を被露光部材70に形成するためには、例えば、図12(b)に示すように、十字形のパターンを有するマスクMに対して、面発光光源21がX形に点灯した変形照射モードで露光光を照射することで達成される。このように、面発光光源21を個別に制御して、マスクMに形成されたパターンに最適な照射形状で露光光を照射することで、精度よく露光することができる。   In order to form a rectangular exposed portion 71 having sharp corners in the exposed member 70, for example, as shown in FIG. 12 (b), a surface emitting light source is used for the mask M having a cruciform pattern. This is achieved by irradiating the exposure light in the modified irradiation mode in which the X. 21 is turned on. As described above, exposure can be performed with high accuracy by controlling the surface light source 21 individually and irradiating the exposure light with the optimum irradiation shape on the pattern formed on the mask M.

また、変形照射モードでは、被露光部71の形状に応じて、マスクMのパターンの選択と共に、種々の照射形状を選択することができ、例えば、輪帯照明、二重極照明、四重極照明などの照射形状が挙げられる。   Further, in the modified irradiation mode, various irradiation shapes can be selected along with the selection of the pattern of the mask M according to the shape of the exposed portion 71. For example, annular illumination, dipole illumination, quadrupole An illumination shape such as illumination may be mentioned.

いずれの照射モードにおいても、光源部20全体の照度は設定値に制御され、点灯している各面発光光源21の照度は、均一となるように制御されるのが好ましい。   In any of the irradiation modes, it is preferable that the illuminance of the entire light source unit 20 be controlled to a set value, and the illuminance of each of the surface emitting light sources 21 that are lit be controlled to be uniform.

以上説明したように、本実施形態の光照射装置10によれば、複数の面発光光源21を有する光源部20を備え、光源部20は、該光源部20の中央部に配置される面発光光源21の密度が、該光源部20の周辺部に配置される面発光光源21の密度よりも密に配置される。これにより、面発光光源の点灯箇所に応じて、コリメーション半角を調整して露光する場合にも適用でき、複数の照射モードで露光しつつ、面発光光源を効率的に配置することができる。   As described above, according to the light irradiation device 10 of the present embodiment, the light source unit 20 having the plurality of surface emitting light sources 21 is provided, and the light source unit 20 is a surface light emission disposed at the central portion of the light source unit 20 The density of the light source 21 is denser than the density of the surface emitting light source 21 arranged at the peripheral portion of the light source unit 20. Thereby, according to the lighting location of a surface emitting light source, it is applicable also when adjusting and adjusting a collimation half angle, and a surface emitting light source can be arrange | positioned efficiently, exposing in several irradiation mode.

また、光源部20は、複数の面発光光源21が配置される複数の基板ユニット23を備え、複数の基板ユニット23は、光源部20の中央部に配置され、複数の面発光光源21がマトリクス状に配置される第1の基板ユニット23Aと、光源部20の周辺部に配置され、複数の面発光光源21の数が第1の基板ユニット23Aよりも少ない第2の基板ユニット23Bと、を備えるので、第1及び第2の基板ユニット23A、23Bを用いて、面発光光源21を効率的に配置することができる。   In addition, the light source unit 20 includes a plurality of substrate units 23 in which a plurality of surface emitting light sources 21 are disposed, the plurality of substrate units 23 are disposed in the center of the light source unit 20, and the plurality of surface emitting light sources 21 are in a matrix A first substrate unit 23A disposed in the shape of a circle, and a second substrate unit 23B disposed at the periphery of the light source unit 20 and having a smaller number of surface emitting light sources 21 than the first substrate unit 23A; Since it comprises, the surface emitting light source 21 can be arrange | positioned efficiently using 1st and 2nd board | substrate unit 23A, 23B.

また、第1及び第2の基板ユニット23A,23Bは、複数の面発光光源21が取り付けられ、サイズが同じ共通の基板本体22を備えるので、基板本体22を共用することでコストが抑制される。   Further, since the first and second substrate units 23A and 23B have the common substrate body 22 to which the plurality of surface emitting light sources 21 are attached and which have the same size, cost can be reduced by sharing the substrate body 22. .

また、複数の基板ユニット23は、冷却用流路を有する冷却プレート24に取り付けられ、該冷却プレート24は、複数の面発光光源21に配索される配線を挿通可能な孔部25を備える。これにより、周辺部の基板ユニット23Bが隣接して配置されて、冷却プレート24の表面に、中央部の基板ユニット23Aの配線を外部まで配索するスペースがない場合でも、配線の配索が容易になる。   Further, the plurality of substrate units 23 are attached to a cooling plate 24 having a cooling flow path, and the cooling plate 24 includes holes 25 through which the wires arranged in the plurality of surface emitting light sources 21 can be inserted. Thereby, even if there is no space for arranging the wiring of the substrate unit 23A in the central portion to the outside on the surface of the cooling plate 24, the substrate units 23B in the peripheral portion are arranged adjacent to each other, the wiring is easily arranged. become.

また、光源部20は、面発光光源21から入射される光を指向角を狭めてフライアイレンズ40に向けて出射する複数の反射部30を備え、複数の反射部30は、複数の面発光光源21に対応して、基板ユニット23に直接又はホルダを介して取り付けられるので、複数の面発光光源21からの放射束を効率良くレンズ系に取り込むことができ、且つ、反射部30の設置を容易におこなうことができる。   Further, the light source unit 20 includes a plurality of reflecting units 30 that narrows the directivity angle of light incident from the surface emitting light source 21 and emits the light toward the fly eye lens 40, and the plurality of reflecting units 30 emit a plurality of surface lights. Since it is attached to the substrate unit 23 directly or via a holder corresponding to the light source 21, radiation fluxes from the plurality of surface emitting light sources 21 can be efficiently taken into the lens system, and the installation of the reflecting portion 30 It can be done easily.

また、各反射部30は、面発光光源21から光の出射する側に向けて、光軸Lに直交する断面積が次第に大きくなるので、効率的に光の指向角を狭めることができ、複数の面発光光源21からの放射束を効率良くレンズ系に取り込むことができる。   In addition, since the cross-sectional area orthogonal to the optical axis L gradually increases toward the light emission side from the surface emitting light source 21, each reflecting portion 30 can effectively narrow the directivity angle of light; The radiant flux from the surface emitting light source 21 can be efficiently taken into the lens system.

また、各反射部30は、面発光光源21から光の出射する側に向けて、光軸Lに直交する断面積が次第に大きくなる4角錐形状を有し、反射部30の4つの稜線は、面発光光源21の光軸方向から見て、前記面発光光源の頂点に対して、45°位相がずれた状態で配置されるので、反射部30から出射される光は、面発光光源21の矩形形状の出射光の影響を受け難くなり、より均一となる。   Each reflecting portion 30 has a quadrangular pyramid shape in which the cross-sectional area orthogonal to the optical axis L gradually increases toward the side from which light is emitted from the surface emitting light source 21, and the four ridges of the reflecting portion 30 are The light emitted from the reflection unit 30 is the light emitted from the surface emitting light source 21 because the light emitting device is disposed in a phase shifted by 45 ° with respect to the vertex of the surface emitting light source when viewed from the optical axis direction of the surface emitting light source 21. It becomes less susceptible to the influence of the rectangular shaped outgoing light and becomes more uniform.

また、各反射部30は、面発光光源21の光軸Lを中心として、面発光光源21から離れるにつれて徐々に拡径する円錐テーパ面31と、該円錐テーパ面31の大径部分から連続する円筒面32と、該円筒面32内に、面発光光源21の光軸L周りに90°位相間隔で形成され、面発光光源21の光軸Lと平行な軸を中心として、面発光光源21から離れるにつれて徐々に拡径する、最大半径Dが該円筒面32の曲率半径Rより小さな4つの部分円錐テーパ面33と、を有するので、機械加工の容易性と高い集光効率とを同時に達成することができる。   Further, each reflecting portion 30 is continuous with a conical tapered surface 31 whose diameter gradually increases with distance from the surface emitting light source 21 with the optical axis L of the surface emitting light source 21 as a center, and from a large diameter portion of the conical tapered surface 31. The cylindrical surface 32 and the cylindrical surface 32 are formed at 90 ° phase intervals around the optical axis L of the surface emitting light source 21, and the surface emitting light source 21 is centered on an axis parallel to the optical axis L of the surface emitting light source 21. Since it has four partial conical tapered surfaces 33 whose maximum radius D is smaller than the radius of curvature R of the cylindrical surface 32 and gradually increases in diameter away from the surface, machining ease and high light collection efficiency are simultaneously achieved. can do.

また、4つの部分円錐テーパ面33の中心位置は、面発光光源21の光軸方向から見て、矩形の面発光光源21の頂点に対して、45°位相がずれた状態で配置されるので、反射部30から出射される光は、面発光光源21の矩形形状の出射光の影響を受け難くなり、より均一となる。   In addition, since the central positions of the four partial conical tapered surfaces 33 are arranged in a state of being shifted in phase 45 ° with respect to the vertex of the rectangular surface emitting light source 21 when viewed from the optical axis direction of the surface emitting light source 21. The light emitted from the reflection unit 30 is less likely to be affected by the rectangular light emitted from the surface emitting light source 21 and is more uniform.

また、光源部20を制御する制御部60をさらに備え、制御部60は、各面発光光源21の点灯、消灯及び照度調整を行う光源制御部61と、複数の面発光光源21の照射モードを選択可能な照射モード設定部62と、を備えるので、任意の複数の照射モードに応じて、複数の面発光光源21を点灯制御することができる。   The control unit 60 further includes a control unit 60 that controls the light source unit 20. The control unit 60 controls the illumination mode of the surface emission light sources 21 and the light source control unit 61 that turns on and off each surface emission light source 21 and adjusts the illumination. Since the selectable irradiation mode setting unit 62 is provided, the lighting control of the plurality of surface emitting light sources 21 can be performed according to an arbitrary plurality of irradiation modes.

また、光照射装置10は、さらに、該光源部からの光の強度を均一化するインテグレータとして、マトリクス状に配置された複数のレンズ素子41を有するフライアイレンズ40と、フライアイレンズ40から出射する光をコリメートするコリメーションミラー50又はコリメーションレンズと、をさらに備えるので、光源部20からの光をマスク側へ効率よく出射することができる。   In addition, the light irradiation device 10 further emits a fly eye lens 40 having a plurality of lens elements 41 arranged in a matrix and an output from the fly eye lens 40 as an integrator that makes the intensity of light from the light source uniform. Further, the light from the light source unit 20 can be efficiently emitted to the mask side.

また、本発明の光照射方法によれば、複数の面発光光源21の複数の照射モードを準備する工程と、マスクMの設計値と露光パターンの設計値を含むレシピに基づいて、複数の照射モードのいずれかを選択し、複数の照射モードのうち、選択された照射モードに応じて、各面発光光源21の点灯及び消灯を行う工程と、を備えるので、レシピに適したいずれかの照射モードが選択されることで、光源部20を容易に制御することができる。   Further, according to the light irradiation method of the present invention, the plurality of irradiations are performed based on the step of preparing the plurality of irradiation modes of the plurality of surface emitting light sources 21 and the recipe including the design value of the mask M and the design value of the exposure pattern. Selecting any one of the modes, and turning on and off each of the surface emitting light sources 21 according to the selected irradiation mode among the plurality of irradiation modes, any irradiation suitable for the recipe The light source unit 20 can be easily controlled by selecting the mode.

また、本発明の露光装置100及び露光方法によれば、上記の光照射装置10を備え、光源部20からの光をマスクMを介して被露光部材70に照射してマスクMの露光パターンを被露光部材70に露光転写するので、複数の面発光光源21からの放射束を効率良くレンズ系に取り込むことができ、且つ、コリメーション半角を調整して露光する場合にも高い照度を確保することができる。   Further, according to the exposure apparatus 100 and the exposure method of the present invention, the light irradiation device 10 is provided, and the light from the light source unit 20 is irradiated to the exposed member 70 through the mask M to expose the exposure pattern of the mask M. Since exposure and transfer to the member to be exposed 70, radiant fluxes from the plurality of surface emitting light sources 21 can be efficiently taken into the lens system, and high illuminance can be secured even in the case of exposure by adjusting the collimation half angle. Can.

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
また、本発明の光照射装置の構成は、上記実施形態に限定されるものでなく、例えば、複数のミラーを備えるものであってもよく、他の部品を備える構成であってもよい。
さらに、上記実施形態では、第1及び第2の基板ユニット23A、23Bは冷却プレート24に取り付けられているが、全ての第1及び第2の基板ユニット23A、23Bが取り付けられる支持プレートであれば、冷却プレートに限定されない。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications, improvements, and the like can be made.
Moreover, the structure of the light irradiation apparatus of this invention is not limited to the said embodiment, For example, a several mirror may be provided and other components may be provided.
Furthermore, in the above embodiment, although the first and second substrate units 23A and 23B are attached to the cooling plate 24, it is a support plate to which all the first and second substrate units 23A and 23B are attached. Not limited to the cooling plate.

10 光照射装置
20 光源部
21 面発光光源
22 基板本体
23 基板ユニット
23A 第1の基板ユニット
23B 第2の基板ユニット
24 冷却プレート
25 孔部
30 反射部
30A 角錐型反射部
30B 円錐型反射部
30C 多段型反射部
30D 組み合わせ型反射部
31 第1の円錐テーパ面
32 円筒面
33 部分円錐テーパ面
40 フライアイレンズ(インテグレータ)
41 レンズ素子
50 コリメーションミラー
60 制御部
61 光源制御部
62 照射モード設定部
70 被露光部材
D 最大半径
L 光軸
M マスク
R 曲率半径
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 light irradiation apparatus 20 light source part 21 surface emitting light source 22 substrate main body 23 substrate unit 23A 1st board | substrate unit 23B 2nd board | substrate unit 24 cooling plate 25 hole part 30 reflective part 30A pyramid type reflection part 30B cone type reflection part 30C multistage -Shaped reflector 30D combined-type reflector 31 first conical tapered surface 32 cylindrical surface 33 partial conical tapered surface 40 fly's eye lens (integrator)
41 lens element 50 collimation mirror 60 control unit 61 light source control unit 62 irradiation mode setting unit 70 exposed member D maximum radius L optical axis M mask R curvature radius

Claims (14)

複数の面発光光源を有する光源部を備える光照射装置であって、
前記光源部は、該光源部の中央部に配置される前記面発光光源の密度が、該光源部の周辺部に配置される前記面発光光源の密度よりも密に配置されることを特徴とする光照射装置。
A light irradiation apparatus comprising a light source unit having a plurality of surface emitting light sources,
The light source unit is characterized in that the density of the surface emitting light source disposed in the central portion of the light source unit is denser than the density of the surface emitting light source disposed in the peripheral portion of the light source unit. Light irradiation device.
前記光源部は、前記複数の面発光光源が配置される複数の基板ユニットを備え、
前記複数の基板ユニットは、
前記光源部の中央部に配置され、前記複数の面発光光源がマトリクス状に配置される第1の基板ユニットと、
前記光源部の周辺部に配置され、前記複数の面発光光源の数が前記第1の基板ユニットよりも少ない第2の基板ユニットと、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の光照射装置。
The light source unit includes a plurality of substrate units on which the plurality of surface emitting light sources are disposed,
The plurality of substrate units are
A first substrate unit disposed at a central portion of the light source unit, and in which the plurality of surface emitting light sources are disposed in a matrix;
A second substrate unit disposed around the light source unit, wherein the number of the plurality of surface emitting light sources is smaller than that of the first substrate unit;
The light irradiation apparatus according to claim 1, comprising:
前記第1及び第2の基板ユニットは、前記複数の面発光光源が取り付けられ、サイズが同じ共通の基板本体を備えることを特徴とする請求項2に記載の光照射装置。   The light irradiation apparatus according to claim 2, wherein the first and second substrate units have a common substrate body to which the plurality of surface emitting light sources are attached and which have the same size. 前記複数の基板ユニットは、冷却用流路を有する冷却プレートに取り付けられ、
前記冷却プレートは、前記複数の面発光光源に配索される配線を挿通可能な孔部を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光照射装置。
The plurality of substrate units are attached to a cooling plate having a cooling channel,
The light irradiation device according to any one of claims 1 to 3, wherein the cooling plate includes a hole portion through which a wire arranged in the plurality of surface emitting light sources can be inserted.
前記光源部は、前記面発光光源から入射される光を指向角を狭めて出射する複数の反射部と、をさらに備え、
前記複数の反射部は、前記複数の面発光光源に対応して、前記基板ユニットに直接又はホルダを介して取り付けられることを特徴とする請求項2〜4のいずれか1項に記載の光照射装置。
The light source unit further includes a plurality of reflecting units that narrows the directivity angle of light incident from the surface emitting light source and emits the light.
The light irradiation according to any one of claims 2 to 4, wherein the plurality of reflecting portions are attached to the substrate unit directly or through a holder corresponding to the plurality of surface emitting light sources. apparatus.
前記光源部は、前記面発光光源から入射される光を指向角を狭めて出射する複数の反射部と、をさらに備え、
前記各反射部は、前記面発光光源から前記光の出射する側に向けて、光軸に直交する断面積が次第に大きくなることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光照射装置。
The light source unit further includes a plurality of reflecting units that narrows the directivity angle of light incident from the surface emitting light source and emits the light.
The cross-sectional area orthogonal to the optical axis gradually increases toward the light emission side of the surface emitting light source from each of the reflecting portions, according to any one of claims 1 to 5, Light irradiation device.
前記各反射部は、前記面発光光源から前記光の出射する側に向けて、光軸に直交する断面積が次第に大きくなる4角錐形状を有し、
前記反射部の4つの稜線は、前記面発光光源の光軸方向から見て、前記面発光光源の頂点に対して、45°位相がずれた状態で配置されることを特徴とする請求項6に記載の光照射装置。
Each of the reflecting portions has a quadrangular pyramid shape whose cross-sectional area orthogonal to the optical axis gradually increases toward the light emitting side from the surface emitting light source,
The four ridge lines of the reflecting portion are arranged in a state of being shifted in phase by 45 ° with respect to the vertex of the surface emitting light source as viewed from the optical axis direction of the surface emitting light source. The light irradiation device described in.
前記光源部は、前記面発光光源から入射される光を指向角を狭めて出射する複数の反射部と、をさらに備え、
前記各反射部は、
前記面発光光源の光軸を中心として、前記面発光光源から離れるにつれて徐々に拡径する円錐テーパ面と、
該円錐テーパ面の大径部分から連続する円筒面と、
該円筒面内に、前記面発光光源の光軸周りに90°位相間隔で形成され、前記面発光光源の光軸と平行な軸を中心として、前記面発光光源から離れるにつれて徐々に拡径する、最大半径が該円筒面の曲率半径より小さな4つの部分円錐テーパ面と、
を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の光照射装置。
The light source unit further includes a plurality of reflecting units that narrows the directivity angle of light incident from the surface emitting light source and emits the light.
Each of the reflectors is
A conical tapered surface whose diameter gradually increases with distance from the surface emitting light source with the optical axis of the surface emitting light source as a center;
A cylindrical surface continuous from the large diameter portion of the conical tapered surface;
The cylindrical surface is formed at a 90 ° phase interval around the optical axis of the surface emitting light source, and the diameter is gradually enlarged as it is separated from the surface emitting light source around an axis parallel to the optical axis of the surface emitting light source , Four partial conical tapered surfaces whose maximum radius is smaller than the radius of curvature of the cylindrical surface,
The light irradiation device according to any one of claims 1 to 7, characterized in that
前記4つの部分円錐テーパ面の中心位置は、前記面発光光源の光軸方向から見て、矩形の前記面発光光源の頂点に対して、45°位相がずれた状態で配置されることを特徴とする請求項8に記載の光照射装置。   The center positions of the four partial conical tapered surfaces are arranged with a phase difference of 45 ° with respect to the vertex of the rectangular surface emitting light source as viewed from the optical axis direction of the surface emitting light source. The light irradiation device according to claim 8. 前記光源部を制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、
前記各面発光光源の点灯、消灯及び照度調整を行う光源制御部と、
前記複数の面発光光源の照射モードを選択可能な照射モード設定部と、
を備えることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の光照射装置。
And a control unit that controls the light source unit.
The control unit
A light source control unit for turning on / off and adjusting the illumination of each of the surface emitting light sources;
An irradiation mode setting unit capable of selecting an irradiation mode of the plurality of surface emitting light sources;
The light irradiation apparatus according to any one of claims 1 to 9, comprising:
該光源部からの光の強度を均一化するインテグレータと、前記インテグレータから出射する前記光をコリメートするコリメーションミラー又はコリメーションレンズと、
をさらに備えることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の光照射装置。
An integrator for equalizing the intensity of light from the light source unit; a collimation mirror or collimation lens for collimating the light emitted from the integrator;
The light irradiation apparatus according to any one of claims 1 to 10, further comprising:
請求項1〜11のいずれか1項に記載の光照射装置を用いて、前記光源部からの光をマスクを介して被露光部材に照射して前記マスクの露光パターンを前記被露光部材に露光転写するための光照射方法であって、
前記複数の面発光光源の複数の照射モードを準備する工程と、
前記マスクの設計値と前記露光パターンの設計値を含むレシピに基づいて、前記複数の照射モードのいずれかを選択し、
前記複数の照射モードのうち、選択された前記照射モードに応じて、前記各面発光光源の点灯及び消灯を行う工程と、
を備えることを特徴とする光照射方法。
The light to be exposed member is irradiated with the light from the said light source part through a mask using the light irradiation apparatus of any one of Claims 1-11, and the exposure pattern of the said mask is exposed to the said to-be-exposed member A light irradiation method for transferring,
Preparing a plurality of illumination modes of the plurality of surface emitting light sources;
One of the plurality of irradiation modes is selected based on a recipe including the design value of the mask and the design value of the exposure pattern,
A step of lighting and extinguishing the surface emitting light sources according to the selected irradiation mode among the plurality of irradiation modes;
A light irradiation method comprising:
請求項11に記載の光照射装置を備え、
前記光源部からの前記光をマスクを介して被露光部材に照射して前記マスクの露光パターンを前記被露光部材に露光転写することを特徴とする露光装置。
A light irradiation device according to claim 11 is provided.
An exposure apparatus characterized in that the light from the light source unit is irradiated to the member to be exposed through the mask to expose and transfer the exposure pattern of the mask onto the member to be exposed.
請求項13に記載の露光装置を備え、前記光源部からの光をマスクを介して被露光部材に照射して前記マスクの露光パターンを前記被露光部材に露光転写することを特徴とする露光方法。   An exposure method comprising: the exposure apparatus according to claim 13; irradiating the light from the light source to the member to be exposed through the mask to transfer the exposure pattern of the mask onto the member to be exposed. .
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JP2021043343A (en) * 2019-09-11 2021-03-18 株式会社ブイ・テクノロジー Illumination apparatus for proximity exposure apparatus, proximity exposure apparatus, and exposure method for proximity exposure apparatus

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