JP2019159052A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示領域の角部を、遮光層を用いて円弧形にする場合における、表示品位の低下を抑制する液晶表示装置を提供する。【解決手段】一実施形態に係る液晶表示装置は、複数の画素を有する表示領域と、前記表示領域の周囲に位置する非表示領域と、を有する表示パネルであって、前記表示パネルは、前記複数の画素に亘って形成された第１電極と、前記第１電極と対向する第２電極とを有する第１基板と、前記第１基板と対向し、前記複数の画素の各々に対応する開口領域を含む遮光層を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とを接着するシール部材と、前記第１基板と前記第２基板との間に、前記シール部材で封止された液晶層と、を備える。前記表示領域の角部の前記第２基板の端部から最外周の前記開口領域までの距離は、前記角部と角部の間の前記第２基板の端部から最外周の前記開口領域までの距離よりも大きい。【選択図】 図８

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置に関するものである。

最近の液晶表示装置においては、矩形の表示パネルにおける表示領域の角部が円弧形となるものが提案されている。

特開２０１６−１４８７７５号公報 国際公開第２００９／０５７３４２号

上記のような表示領域の角部を円弧形にする場合には、表示パネル自体の角部を円弧形にしたり、表示パネルは矩形のままで表示領域を囲む非表示領域に形成された遮光層を用いて、表示領域の角部を円弧形にしたりすることで、表示領域の角部を円弧形に形成する。しかし、遮光層を用いて、表示領域の角部を円弧形にした場合、非表示領域と表示領域における表示パネル内の積層構造の差により、表示領域におけるアレイ基板と対向基板との間隔と、非表示領域におけるアレイ基板と対向基板との間隔に差が生じて、表示に不具合が発生するという問題点があった。

そこで本発明の実施形態は、上記問題点に鑑み、遮光層を用いて表示領域の角部を円弧形に形成する場合に、表示領域と非表示領域で、対向基板とアレイ基板との間隔に差が発生しない液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明の実施形態は、複数の画素が設けられた表示領域と、前記表示領域の周囲に位置する非表示領域と、を有する表示パネルであって、前記表示パネルは、前記複数の画素に亘って形成された第１電極と、前記第１電極と対向して形成された第２電極と、を有する第１基板と、前記第１基板と対向し、前記複数の画素の各々に対応して開口領域が形成された遮光層を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とを接着するシール部材と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟まれ、前記シール部材によって封止された液晶層と、を備え、前記表示領域の角部における前記第２基板の端部から最外周に位置する前記開口領域までの距離は、前記角部と角部との間における前記第２基板の端部から最外周に位置する前記開口領域までの距離よりも大きい、液晶表示装置である。

本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの概略的な平面図である。 画素のアレイ基板側の構造について概略的に示した平面図である。 図２に対応する画素の対向基板側の構造について概略的に示した平面図である。 図２におけるI−I線に沿った断面図である。 図２におけるII−II線に沿った断面図である。 図１における部分Ｅ１の一部の拡大平面図である。 図６をさらに拡大した部分Ｅ１の一部の拡大平面図である。 図７に対応するアレイ基板側の構造について概略的に示した拡大平面図である。 図８におけるIV−IV線に沿った断面図である。 図１におけるVI−VI線に沿った断面図である。 図１におけるV−V線に沿った断面図である。

本発明の一実施形態の液晶表示装置について、図面を参照して説明する。なお、実施形態における開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の趣旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の対応に比べ、各部の幅、厚さ、形状などについて模式的に表される場合があるが、あくまでも一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

本実施形態の液晶表示装置は、具体例において、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式やフリンジ電界を用いるＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式と呼ばれる横電界方式のものを開示しているが、ＴＮモードなどの縦電界方式のものでも良い。

本実施形態の液晶表示装置について、図１〜図１１を参照して説明する。

（１）表示パネル１の全体構成
図１に示す、本発明の一実施形態に係る表示パネル１の概略的な平面図を用いて、表示パネル１の全体構成について説明する。図１は、第１方向Ｘと、第１方向Ｘに垂直な第２方向Ｙによって規定されるＸ−Ｙ平面における平面図である。なお、第１方向Ｘと第２方向Ｙは、９０度以外の角度で交差していても良い。
表示パネル１は、アレイ基板２と、アレイ基板２と対向配置された対向基板３とを備えている。図示した例においては、アレイ基板２は、対向基板３よりもサイズが大きく、アレイ基板２と対向基板３は３辺をそろえて、シール部材５によって張り合わされている。また、図１の例における表示パネル１は、アレイ基板２と対向基板３の角部の一部が円弧形に形成されている。

表示パネル１は、アレイ基板２と対向基板３が重なる領域において、画像表示のための画素６が形成された表示領域８と、表示領域８の周囲の非表示領域９を有している。さらに、表示パネル１は、アレイ基板２と対向基板３が重ならず、アレイ基板２のみとなっている端子領域１１を有している。

アレイ基板２は、表示領域８において、第１方向Ｘに沿って延びるとともに第２方向Ｙに並んで配置された複数のゲート線１６と、第２方向Ｙに沿って延びるとともに第１方向Ｘに並んで配置された複数のソース線１５とを備えている。図示した例では、画素６は、隣り合う２本のゲート線と隣り合う２本のソース線とによって区画されている。

各画素６において、アレイ基板２は、ゲート線１６及びソース線１５と電気的に接続されたスイッチング素子７と、スイッチング素子７と電気的に接続された画素電極１４を備えている。画素電極１４は、複数の画素６に亘って共通に設けられた共通電極１３との間で電界を形成する。この電界によって、アレイ基板２と対向基板３の間に封入されている液晶層４内の液晶分子の配向を制御する。なお、アレイ基板は第１基板に相当し、対向基板は第２基板に相当する。

（２）表示パネル１の回路構成
表示パネル１の回路構成について図１を参照して説明する。アレイ基板２は、各ゲート線１６と電気的に接続されたゲートドライバ５０と、各ソース線１５と電気的に接続されたソースドライバ５２とを備えている。図示した例においては、ゲートドライバ５０は、表示パネル１の第２方向Ｙに沿う辺に沿って、表示領域８を挟むように、非表示領域９に設けられている。また、ソースドライバ５２は、表示パネル１の第１方向Ｘに沿う辺に沿って、表示領域８と端子領域１１の間の非表示領域９に設けられている。なお、図示した例では、ゲートドライバ５０は、表示領域８を挟むように設けられているが、どちらか片側だけに設けられていても良い。また、ソースドライバ５２も、他の態様でアレイ基板２に設けられても良い。さらに、ゲートドライバ５０とソースドライバ５２は、アレイ基板２の外部に設けられても良い。

端子領域１１には、表示ドライバとして機能するドライバＩＣ１９が実装されている。ドライバＩＣ１９は、複数の接続配線２５を介してゲートドライバ５０及びソースドライバ５２と電気的に接続されている。例えば、ソースドライバ５２は、このドライバＩＣ１９からの信号に基づいてソース線１５に画像信号を出力する。

（３）画素６の構成
画素６の構造について図２及び図３を参照して説明する。図２は、各画素６のアレイ基板２側の構造について概略的に示した平面図であり、図３は、図２に対応する各画素６の対向基板３側の構造について概略的に示した平面図である。
図示した例においては、画素６は、ソース線１５に沿った辺が長く、ゲート線１６に沿った辺が短い長方形形状で形成されている。画素電極１４は、各画素６に設けられ、ソース線１５に沿って形成された複数のスリット１４ｂを有している。図示していないが、共通電極１３は、複数の画素６に亘って共通に設けられている。画素電極１４及び共通電極１３は、透明な導電材料、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）によって形成されている。

スイッチング素子７は、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）である。図示した例では、ダブルゲート型のＴＦＴを示しているが、シングルゲート型であっても良い。スイッチング素子７は、各画素６に設けられ、画素電極１４の接続部１４ａにおいて、画素電極１４と電気的に接続している。スイッチング素子７を介して画素電極１４に画像信号が供給され、スリット１４ｂと共通電極１３との間で電界を形成し、液晶分子の配向を制御する。

図３に示した例では、対向基板３には、各画素６に対応した位置にＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）からなるカラーフィルタ１０４が第２方向Ｙに沿って延びる帯状に設けられている。それぞれのカラーフィルタ１０４の境界は、遮光層１０２と重なるように設けられている。
また、図３において、アレイ基板２と対向基板３の間の間隔を維持するスペーサ１２０が配置される位置に対応して、遮光層１０２が拡大して形成されている。これは、スペーサ１２０の周囲で液晶分子の配向が乱れやすく、それに起因した光漏れなどの表示の不具合が発生するのを防ぐためである。

（４）表示パネル１の断面構成
図４は、図２のI−I線に沿った断面図である。図４は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに垂直な第３方向Ｚによって規定される断面図である。第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、及び第３方向Ｚは、９０度以外の角度で交差していても良い。なお、本実施形態においては、第３方向Ｚの矢印の先端に向かう方向を上と定義し、第３方向Ｚの矢印の先端に向かう方向とは反対側の方向を下と定義する。また、「第１部材の上の第２部材」及び「第１部材の下の第２部材」とした場合、第２部材は、第１部材に接していても良く、又は第１部材から離れていても良い。後者の場合、第１部材と第２部材との間に、第３部材が介在していても良い。

アレイ基板２は、ガラス基板などの第１絶縁基板１０を備えている。第１絶縁基板１０は、対向基板３側の第１主面１０Ａと、第１主面１０Ａの反対側の第２主面１０Ｂを有している。さらに、第１絶縁基板１０の第１主面１０Ａ側に、アンダーコート層２１が形成されている。

アンダーコート層２１の上には、第１絶縁膜２２、第２絶縁膜２３、第３絶縁膜１２、第４絶縁膜２４、スイッチング素子７、画素電極１４、共通電極１３、第１配向膜１８を備えている。なお、図示した例では、トップゲート型かつ、ダブルゲート型を示しているが、ボトムゲート型でも良いし、シングルゲート型でも良い。

アンダーコート層２１は、第１絶縁基板１０の第１主面１０Ａを覆っている。スイッチング素子７は、ポリシリコンなどの半導体層１７と、ゲート電極２６と、ソース電極２７と、ドレイン電極２８を備えている。半導体層１７は、アンダーコート層２１の上に配置されている。
アンダーコート層２１と半導体層１７は、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等からなる第１絶縁膜２２によって覆われている。スイッチング素子７のゲート電極２６は、第１絶縁膜２２の上に形成され、半導体層１７と対向している。

また、第１絶縁膜２２の上には、モリブデン合金等からなるゲート線（第１金属線）１６が形成されている。スイッチング素子７のゲート電極２６は、ゲート線１６と電気的に接続されている。なお、ゲート電極２６は、ゲート線１６と一体的に形成されていても良い。

ゲート電極２６、ゲート線１６、第１絶縁膜２２は、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等からなる第２絶縁膜２３によって覆われている。スイッチング素子７のソース電極２７とドレイン電極２８は、第２絶縁膜２３の上に形成されている。図示した例では、ソース電極２７は、ソース線と電気的に接続されている。ソース電極２７とドレイン電極２８は、それぞれ第１絶縁膜２２及び第２絶縁膜２３を貫通するコンタクトホールを通して半導体層１７と接続している。

また、第２絶縁膜２３の上には、アルミニウムや、その合金等（例えば、ＴＡＴ（Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉ））からなるソース線１５（第２金属線）が形成されている。スイッチング素子７のソース電極２７は、ソース線１５と電気的に接続されている。なお、ソース電極２７はソース線１５と一体的に形成されていても良い。

ソース電極２７、ドレイン電極２８、ソース線１５の上には、透明の有機樹脂材料等からなる第３絶縁膜１２が形成されている。第３絶縁膜１２は、スイッチング素子７のソース電極２７及びドレイン電極２８などにより生じる凹凸を緩和させている。例えば、第３絶縁膜１２は、第１絶縁基板１０の第１主面１０Ａの側に形成される要素の中で最も厚い層である。

第３絶縁膜１２上には、第１透明電極が形成されている。本実施形態においては、第１透明電極は、共通電極１３である。共通電極１３上には、共通電極１３を低抵抗化するために、例えばＭＡＭ（Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ）からなる金属線２０（第３金属線）が形成されていても良い。この第３金属線２０を形成する場合、ソース線１５と重なる位置に形成することで、画素６の開口面積に影響を与えない。

共通電極１３の上には、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等からなる第４絶縁膜２４が形成されている。
第４絶縁膜２４の上には、第２透明電極が形成されている。本実施形態においては、第２透明電極は、画素電極１４であり、第１透明電極である共通電極１３と対向している。画素電極１４は、第３絶縁膜１２と第４絶縁膜２４を貫通するコンタクトホールを介してスイッチング素子７のドレイン電極２８と電気的に接続している。図示した例においては、画素電極１４には、スリット１４ｂがソース線１５に沿って形成されている。なお、本実施形態においては、第１電極を共通電極、第２電極を画素電極としたが、第１電極を画素電極、第２電極を共通電極としても良い。その場合、画素電極は各画素に島状に形成され、共通電極は各画素に対応するスリットを有する。

第４絶縁膜２４と画素電極１４の上には、第１配向膜１８が形成されている。この第１配向膜１８は、液晶層４と接しており、液晶層４内の液晶分子を配向させている。第１配向膜１８は、ラビング処理、又は光配向処理によって配向処理されている。

対向基板３は、ガラス基板などの第２絶縁基板１００を備えている。第２絶縁基板１００は、アレイ基板２側の第１主面１００Ａと、第１主面１００Ａの反対側の第２主面１００Ｂを有している。さらに、対向基板３は、第２絶縁基板１００の第１主面１００Ａ側に、遮光層１０２、カラーフィルタ１０４、オーバーコート１０５、第２配向膜１１０が形成されている。

遮光層１０２は、表示領域８において、各画素６を区画して開口領域３０を形成するとともに、アレイ基板２側に設けられたソース線１５やゲート線１６、さらにはスイッチング素子７などと対向している。つまり、ソース線１５に沿って延びる第１部分１０２ａと、ゲート線１６に沿って延びる第２部分１０２ｂとを有している（図３参照）。

カラーフィルタ１０４は、開口領域３０を覆うように形成され、遮光層１０２の上にも延びている。カラーフィルタ１０４は、例えば、画素６に応じた色に着色されたカラーレジストにより形成されている。図示した例では、カラーフィルタ１０４は、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の３色を有している（図３参照）。なお、R、G、Bの３色に加えてW（白色）のカラーフィルタを備えていても良い。

カラーフィルタ１０４は、例えば、樹脂からなるオーバーコート１０５によって覆われている。オーバーコート１０５は、遮光層１０２やカラーフィルタ１０４の表面の凹凸を緩和させている。オーバーコート１０５上には、第２配向膜１１０が形成されている。第２配向膜１１０は、第1配向膜１８と同様に、液晶層４と接しており、液晶層４内の液晶分子を配向させている。また、第１配向膜１８と同様に、ラビング処理、又は光配向処理によって配向処理されている。

（５）スペーサ１２０
スペーサ１２０について図５を参照して説明する。図５は、図２のII−II線に沿った断面図である。
アレイ基板２と対向基板３との間には、スペーサ１２０が設けられている。このスペーサ１２０によって、アレイ基板２と対向基板３との間の間隔を保持している。図示した例では、スペーサ１２０は、第１スペーサ（メインスペーサ）１２１と、第２スペーサ（サブスペーサ）１２２といった２種類のスペーサを有している。これらのスペーサ１２０は、平面視で見て円形で、対向基板３からアレイ基板２側に向かって突出している。なお、スペーサ１２０は、円形以外の形状でも良く、アレイ基板２から対向基板３側に突出していても良い。なお、スペーサ１２０は、一定の間隔で配置されており、図示した例では、３つの画素毎に配置されているが、これに限定はされない。

第１スペーサ１２１は、図３に示すように、対向基板３における遮光層１０２の第１部分１０２ａと第２部分１０２ｂの交叉部に形成され、遮光層１０２が拡大している位置に設けられている。図５に示した例においては、第１スペーサ１２１は、対向基板３側からアレイ基板２側に向かって先細る形状に形成されている。この先細った側を第１スペーサ１２１の頂部１２１ｔとした場合、頂部１２１ｔはアレイ基板２と接触している。つまり、第１スペーサ１２１は、アレイ基板２と対向基板３との間隔（ギャップ）を常に一定に保持するように形成されている。

第２スペーサ１２２は、図３に示すように、対向基板３における遮光層１０２の第１部分１０２ａと第２部分１０２ｂの交叉部に形成され、遮光層１０２が拡大している位置に設けられている。図５に示した例においては、第１スペーサ１２１と同様に、第２スペーサ１２２は、対向基板３側からアレイ基板２側に向かって先細る形状に形成されている。この先細った側を第２スペーサ１２２の頂部１２２ｔとした場合、頂部１２２ｔはアレイ基板２と接触していない。すなわち、無負荷状態においては、第２スペーサ１２２とアレイ基板２との間には隙間が開いている。しかし、アレイ基板２又は対向基板３が曲がるなどしてアレイ基板２と対向基板３とが接近したときに、第２スペーサ１２２がアレイ基板２に接触する。これによりアレイ基板２と対向基板３との最低限の間隔が保持され、また、耐圧効果が発揮される。なお、図示した例では、第２配向膜１１０は、スペーサ１２０を覆うように形成されている。

（６）表示パネル１の部分Ｅ１、部分Ｅ２
次に、表示パネル１の部分Ｅ１及び部分Ｅ２（図１参照）について図６〜図９を参照して説明する。なお、部分Ｅ１と部分Ｅ２とは左右対称の構成であるため、以下、部分Ｅ１に着目して説明する。図６〜図８は、図１の部分Ｅ１の概略的な拡大平面図である。なお、図６〜図８においては、説明に必要な構成のみを記載し、それ以外については図示を省略している。また、図９において、アレイ基板２の積層構造については、図４及び図５と同様であるため、各絶縁膜のみ図示し、電極等の図示は省略している。

図１に示すように、部分Ｅ１及び部分Ｅ２の位置では、表示パネル１は矩形で、表示領域８の角部は遮光層１０２を用いて円弧形に形成されている。図６においては、対向基板３側の構造について図示している。

図６に示すように、遮光層１０２を用いて、表示領域８の角部を円弧形にするために、第２方向Ｙに沿って、遮光層１０２に形成される開口領域３０が徐々に少なくなるように階段状に形成されている。具体的には、平面視において、人間の目で見える程度に滑らかに円弧形となるように、階段状に形成されている。表示領域８の周囲は、図示しないカラーフィルタ１０４が形成されており、境界線１２４を形成している。すなわち、一つのカラーフィルタ１０４が表示領域８から連続して、表示領域８を囲むように形成されている。これは、表示領域８と非表示領域９との積層構造が、急激に変化することによる表示品位の低下を抑制するために設けられている。なお、表示領域８の角部が、平面視において、人間の目で見える程度に滑らかに円弧形となっていれば良く、開口領域が階段状に形成されているものに限定はされない。例えば、開口領域の大きさを段階的に変化させて、人間の目で見える程度に滑らかに円弧形としても良いし、遮光層を表示領域の円弧形に合わせて円弧形に形成しても良い。

一方で、遮光層１０２は、表示領域８から境界線１２４を越えて、対向基板３の端部まで全面に形成されている。この遮光層１０２が全面に形成されていることによって、非表示領域９を形成している。図示していないシール部材５は、部分Ｅ１よりも対向基板３の端部近くに形成されている（図１参照）。すなわち、部分Ｅ１及び部分Ｅ２においては、表示には寄与しない液晶層４が設けられており、表示領域８からシール部材５までの間隔が他の部分に比べて大きい。そのため、表示領域８からシール部材５までの層構造を、部分Ｅ１及び部分Ｅ２と他の部分とで同じ構造にすると、部分Ｅ１及び部分Ｅ２において、アレイ基板２と対向基板３との間隔を一定に保つのが困難となる。

そこで、本実施形態では、図６に示したように、境界線１２４からシール部材５までの領域において、カラーフィルタ１０４が島状に形成された島状部１２６と、島状部１２６に対応して形成されたスペーサ１２０を設けている。島状部１２６で高さを調整し、その上にスペーサ１２０を形成することで、表示領域８内の高さと合わせている。そのため、部分Ｅ１及び部分Ｅ２においても他の部分と同様に、アレイ基板２と対向基板３との間隔を一定に保つことができる。

図６では、表示領域８及び境界線１２４と間隔をあけて島状部１２６を形成している。これについて、図７を参照して説明する。図７では、表示に寄与する画素６に対応する開口領域３０及び表示領域８に位置しているスペーサ１２０を実線で示し、表示に寄与しない画素６に対応する仮想開口領域３０′、及び、表示領域８内と同じ間隔で非表示領域９にも配置した場合の仮想スペーサ１２０′を点線で示している。なお、仮想開口領域３０′及び仮想スペーサ１２０′は、実際には形成されていない。

図５で説明したように、本実施形態に係るスペーサ１２０は、対向基板３側に形成されており、遮光層１０２、カラーフィルタ１０４、及び、オーバーコート１０５の上に位置している。また、スペーサ１２０は、異なる色のカラーフィルタ１０４の境界、例えば、赤色カラーフィルタと青色カラーフィルタの境界、と重なる位置に形成されている（図５参照）。このカラーフィルタ１０４の境界に位置するため、オーバーコート１０５によって、カラーフィルタ１０４などの凹凸を緩和させているものの、スペーサ１２０を形成する際に、凹凸の影響を受け、スペーサの形成不良を起こす可能性がある。スペーサが形成不良となると、配向膜に傷をつけて液晶分子の配向が乱れ、表示品位が低下する可能性がある。そのため、図７に示すように、スペーサ１２０は、スペーサ１２０周囲の画素６の層構造が同じになる位置に形成し、スペーサ１２０周囲の画素６の層構造が異なる位置には形成していない。

例えば、仮想スペーサ１２０′の位置に、スペーサ１２０を形成した場合、周囲の画素６のなかで仮想開口領域３０′は層構造が異なる。つまり、仮想開口領域３０′においては、実際には開口領域は形成されていないため、遮光層１０２がベタ状に形成されており、その上にカラーフィルタ１０４がベタ状に形成されている。つまり、ベタ状に形成された層が重なって形成されている。いずれの層も樹脂によって形成されているため、表面の平滑化によって、他の開口領域３０の層構造の厚みに比べて、仮想開口領域３０′の層構造の厚みは薄くなるおそれがある。そうすると、カラーフィルタ１０４の境界よりも凹凸が激しくなり、オーバーコート１０５によって、凹凸を緩和したとしても、スペーサ１２０が形成不良を起こす可能性が高い。そのため、本実施形態においては、図６に示すように、表示領域８から境界線１２４付近まで間隔をあけて、スペーサ１２０が形成されていない領域が設けられている。このスペーサ１２０が形成されていない領域は、境界線１２４からシール部材５までの領域に比べて小さいため、スペーサ１２０が形成されていなくても、表示に影響は与えない。

図８は、図７に対応する位置におけるアレイ基板２側の構造について図示している。また、対向基板３側の構造として、境界線１２４を点線、表示領域８内に設けられるスペーサ１２０を一点鎖線、遮光層１０２に設けられる開口領域３０を二点鎖線で示している。
本実施形態においては、図６に示すように、遮光層１０２を用いて、表示領域８の角部を円弧形にするために、第２方向Ｙに沿って、遮光層１０２に形成される開口領域３０が徐々に少なくなるように階段状に形成されている。一方で、アレイ基板２側の構造は、部分Ｅ１及びＥ２においても、表示領域８と同様の構造が形成されている。つまり、部分Ｅ１及びＥ２においても、第１絶縁基板１０上に、アンダーコート層２１、第１絶縁膜２２、第２絶縁膜２３、第３絶縁膜１２、第４絶縁膜２４、スイッチング素子７、画素電極１４、共通電極１３、第１配向膜１８を備えている。そのため、開口領域３０が形成されていない位置においても、表示領域８内と同様に、液晶分子の配向を制御している。

図９は、図６のIV−IV線の断面図である。部分Ｅ１及びＥ２において、図９に示すように、全面に形成された遮光層１０２の下にカラーフィルタ１０４が形成されている。表示領域８には、カラーフィルタ１０４をＲ，Ｇ，Ｂの順番に形成していくが、表示領域８の周囲では、図６に示したように、同じ色（例えばＢ）のカラーフィルタ１０４が形成されている。

図６〜図９に示すように、部分Ｅ１及びＥ２においては、表示領域８及び境界線１２４と間隔をあけて、シール部材５と境界線１２４との間で島状部１２６が遮光層１０２の下に規則的に形成されている。この形成される位置は表示領域８におけるスペーサ１２０の配置に対応する。この島状部１２６は、表示領域８の周囲に位置するカラーフィルタ１０４と同じ色のカラーフィルタ１０４（例えば、カラーフィルタ１０４Ｂ）によって形成されている。

図９に示すように、島状部１２６の下には、それぞれ第１スペーサ１２１と第２スペーサ１２２が形成されている。部分Ｅ１及びＥ２においても、表示領域８と同様の周期で規則的に形成されている。そのため、この形成工程は、表示領域８において第１スペーサ１２１と第２スペーサ１２２を形成する工程と同時に形成することができる。

（７）表示パネル１の端部の構造
次に、表示パネル１の端部の構造について図１０及び図１１を参照して説明する。図１０は、図１のVI−VI線における断面図であり、図１１は、図１のV−V線における断面図である。なお、図１０は、部分Ｅ１及びＥ２における表示パネル１の端部の構造を示しており、図１１は、部分Ｅ１及びＥ２以外における表示パネル１の端部の構造を示している。また、部分Ｅ１及びＥ２以外における表示パネル１の端部の構造は、図１１に図示した構造と略同じ構造で形成されている。

図１０は、図１のVI−VI線における断面図である。図１０に示すように、アレイ基板２の第１絶縁基板１０の上面には、アンダーコート層２１、第１絶縁膜２２、第２絶縁膜２３、ゲートドライバ５０が形成されている。そして、その上には、第３絶縁膜１２が形成されている。第３絶縁膜１２は、シール部材５と重なる位置において、水分が伝わるのを防止するための溝１４０が形成されている。この溝１４０は、第３絶縁膜１２より下に形成されている絶縁膜を露出させている。第３絶縁膜１２の上には、第４絶縁膜２４、画素電極１４などが積層され、その上には第１配向膜１８が形成されている。図示した例においては、第１配向膜１８は、溝１４０も全て覆うように形成されているが、溝１４０の途中で途切れていても良い。

図１０に示すように、対向基板３の第２絶縁基板１００には、遮光層１０２が形成されているが、この遮光層１０２には、第３絶縁膜１２と同様に、水分が伝わるのを防止するためのスリット１４４が形成されている。図示した例では、この遮光層１０２に設けられたスリット１４４は、アレイ基板２に設けられた溝１４０と対向するように形成されている。なお、スリット１４４と溝１４０は、対向しないように形成されても良いし、スリット１４４と対応する位置に、例えば青色のカラーフィルタが形成されていても良いし、アレイ基板２に遮光層を設けても良い。

図１０に示すように、対向基板３の端部には、凸部１４６が形成されている。凸部１４６は、スペーサ１２０と同じ材料で形成されている。この凸部１４６は、アレイ基板２の端部に位置する第３絶縁膜１２と対向するように形成されている。これは、表示パネル１を単個に切断する際に、切断する位置にシール部材５があると切断しにくくなる可能性がある。そのため、単個の切断をしやすくするために配置している。なお、凸部１４６や端部に位置する第３絶縁膜１２は形成されていなくても良い。

図１０に示すように、アレイ基板２と対向基板３は、シール部材５によって貼り合わせられている。第３絶縁膜１２は、シール部材５と重なる位置において、厚みが薄くなっている。これは、シール部材５の接着面積を拡大するためである。なお、第３絶縁膜１２は、溝１４０まで同じ厚みで形成されていても良い。なお、図１０では、島状部１２６を省略して図示しており、実際には図示した数よりも多く形成される。

図１１は、図１のV−V線における断面図である。図１０と同様に、アレイ基板２の第１絶縁基板１０の上面には、アンダーコート層２１、第１絶縁膜２２、第２絶縁膜２３、ゲートドライバ５０、第３絶縁膜１２、第４絶縁膜２４、画素電極１４、第１配向膜１８などが積層して形成されている。図１０と同様に、第３絶縁膜１２は、シール部材５と重なる位置において、水分が伝わるのを防止するための溝１４０が形成され、第３絶縁膜１２より下に形成されている絶縁膜を露出させている。図示した例においては、第１配向膜１８は、溝１４０も全て覆うように形成されているが、溝１４０の途中で途切れていても良い。

図１０と同様に、図１１に示すように、対向基板３の第２絶縁基板１００には、遮光層１０２が形成されており、第３絶縁膜１２と同様に、水分が伝わるのを防止するためのスリット１４４が形成されている。図示した例では、この遮光層１０２に設けられたスリット１４４は、アレイ基板２に設けられた溝１４０と対向するように形成されている。なお、スリット１４４と溝１４０は、対向しないように形成されても良いし、スリット１４４に対応する位置に、アレイ基板２に遮光層を設けても良い。

図１０と同様に、図１１に示すように、対向基板３の端部には、凸部１４６が形成されている。凸部１４６は、スペーサ１２０と同じ材料で形成されている。この凸部１４６は、アレイ基板２の端部に位置する第３絶縁膜１２と対向するように形成されている。これは、表示パネル１を単個に切断する際に、切断する位置にシール部材５があると切断しにくくなる可能性がある。そのため、単個の切断をしやすくするために配置している。なお、凸部１４６や端部に位置する第３絶縁膜１２は形成されていなくても良い。

図１０と同様に、図１１に示すように、アレイ基板２と対向基板３は、シール部材５によって貼り合わせられている。第３絶縁膜１２は、シール部材５と重なる位置において、厚みが薄くなっている。これは、シール部材５の接着面積を拡大するためである。なお、第３絶縁膜１２は、溝１４０まで同じ厚みで形成されていても良い。

図１０に示すように、部分Ｅ１及びＥ２においては、対向基板３の第２絶縁基板１００の端部１００Ｅから最外周に位置する開口領域３０までの距離Ｌ１が、部分Ｅ１及びＥ２以外、つまりは角部以外における対向基板３の第２絶縁基板１００の端部１００Ｅから最外周に位置する開口領域３０までの距離Ｌ２よりも大きくなっている。これは、部分Ｅ１及びＥ２は、表示領域８の角部に位置しており、遮光層１０２によって、角部を円弧形に形成しているためである。そのため、部分Ｅ１及びＥ２において、図１１のような構造を用いると、スペーサ１２０が形成されない領域が大きくなり、アレイ基板２と対向基板３との間隔を一定に保つことが困難になり、アレイ基板２と対向基板３との間隔にむらができ、表示品位を低下させる可能性がある。なお、端部５Ｅは、表示領域８に最も近い部分に相当し、図示した例では、表示領域側に凸となっている頂点の部分に相当する。また、最外周に位置とは、表示パネルの端部に最も近い位置に相当する。

本実施形態によれば、遮光層を用いて、表示領域の角部を円弧形にした場合でも、円弧形にした位置に、表示領域内と同様の間隔でスペーサを配置することで、アレイ基板２と対向基板３との間隔を一定に保つことができ、表示品位の低下を抑制することができる。

また、本実施形態によれば、スペーサの周囲において、スペーサと基板との間の積層構造が同一となる位置にのみスペーサを形成している。そのため、スペーサの形成不良を抑制することができ、表示品位の低下を抑制することができる。

本発明の実施形態を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての実施形態も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。

また、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、上記実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

例えば、上記実施形態の表示パネル１にタッチパネルを一体に設けても良い。この場合には、上記実施形態のアレイ基板２における第２方向の共通電極１３が、液晶表示装置のコモン電極とタッチセンサの第１センサ電極（ＴＸ電極）とを兼ねるようにする。また、対向基板３の上に、第２センサ電極（ＲＸ電極）を第１方向（Ｘ軸方向）に延びるように所定間隔毎に形成しても良い。

また、本実施形態において述べた対応によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、又は、当業者において時に想到し得るものについては、当然に発明によりもたらされるものと解される。

１・・・表示パネル、２・・・アレイ基板、１３・・・共通電極、１４・・・画素電極、１５・・・ソース線、１６・・・ゲート線、１８・・・第１配向膜、５０・・・ゲートドライバ、５２・・・ソースドライバ、１０２・・・遮光層、１０４・・・カラーフィルタ、１０５・・・オーバーコート、１１０・・・第２配向膜、１２１・・・第１スペーサ、１２２・・・第２スペーサ、１２４・・・境界線、１２６・・・島状部

Claims (7)

1. 複数の画素が設けられた表示領域と、前記表示領域の周囲に位置する非表示領域と、を有する表示パネルであって、
   前記表示パネルは、
   前記複数の画素に亘って形成された第１電極と、前記第１電極と対向して形成された第２電極と、を有する第１基板と、
   前記第１基板と対向し、前記複数の画素の各々に対応して開口領域が形成された遮光層を有する第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板とを接着するシール部材と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に挟まれ、前記シール部材によって封止された液晶層と、を備え、
   前記表示領域の角部における前記第２基板の端部から最外周に位置する前記開口領域までの距離は、前記角部と角部との間における前記第２基板の端部から最外周に位置する前記開口領域までの距離よりも大きい、液晶表示装置。
2. 平面視において、前記角部は、前記開口領域が階段状に形成されている、
   請求項１に記載の液晶表示装置。
3. さらに、前記第２基板は、前記遮光層を覆うように形成されたカラーフィルタを備えており、
   前記カラーフィルタは、前記表示領域においては、帯状に形成され、前記角部に対応する前記非表示領域においては、島状に形成されている、
   請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
4. さらに、前記第１基板と前記第２基板との間に位置するスペーサを備えており、
   前記スペーサは、前記表示領域及び前記角部に対応する前記非表示領域において、一定の間隔で配置されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
5. 前記非表示領域において、前記カラーフィルタが島状に形成された島状部は、前記スペーサが形成される位置に対応して設けられている、請求項４に記載の液晶表示装置。
6. 前記スペーサは、前記開口領域が前記階段状に形成されている位置には配置されていない、請求項４に記載の液晶表示装置。
7. 前記角部に対応する前記表示パネルの角部は、矩形である、請求項１に記載の液晶表示装置。
   

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