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JP2019159052A - Liquid crystal display device - Google Patents

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JP2019159052A
JP2019159052A JP2018044322A JP2018044322A JP2019159052A JP 2019159052 A JP2019159052 A JP 2019159052A JP 2018044322 A JP2018044322 A JP 2018044322A JP 2018044322 A JP2018044322 A JP 2018044322A JP 2019159052 A JP2019159052 A JP 2019159052A
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Japan
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liquid crystal
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spacer
electrode
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Application number
JP2018044322A
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Japanese (ja)
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良太 高崎
Ryota TAKASAKI
良太 高崎
祐介 森田
Yusuke Morita
祐介 森田
石川 智一
Tomokazu Ishikawa
智一 石川
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Japan Display Inc
Original Assignee
Japan Display Inc
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Abstract

To provide a liquid crystal display device which suppresses lowering of the quality of display when the corner part of a display region is formed in the shape of a circular arc by a light blocking layer.SOLUTION: The liquid crystal display device according to an embodiment is a display panel including a display region having a plurality of pixels and a non-display region around the display region. The display panel includes: a first substrate having a first electrode formed over a plurality of pixels and a second electrode facing the first electrode; a second substrate facing the first substrate, the second substrate having a light blocking layer containing open regions for the pixels, respectively; a sealing member for connecting the first substrate and the second substrate to each other; and a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate, the liquid crystal layer being sealed by the sealing member. The distance between the end of the second substrate in the corner of the display region and the outermost open region is larger than the distance between the corner part and the end of the second substrate in the corner part and the outermost open region.SELECTED DRAWING: Figure 8

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置に関するものである。   Embodiments described herein relate generally to a liquid crystal display device.

最近の液晶表示装置においては、矩形の表示パネルにおける表示領域の角部が円弧形となるものが提案されている。   Recent liquid crystal display devices have been proposed in which the corners of the display area of a rectangular display panel have an arc shape.

特開2016−148775号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-148775 国際公開第2009/057342号International Publication No. 2009/057342

上記のような表示領域の角部を円弧形にする場合には、表示パネル自体の角部を円弧形にしたり、表示パネルは矩形のままで表示領域を囲む非表示領域に形成された遮光層を用いて、表示領域の角部を円弧形にしたりすることで、表示領域の角部を円弧形に形成する。しかし、遮光層を用いて、表示領域の角部を円弧形にした場合、非表示領域と表示領域における表示パネル内の積層構造の差により、表示領域におけるアレイ基板と対向基板との間隔と、非表示領域におけるアレイ基板と対向基板との間隔に差が生じて、表示に不具合が発生するという問題点があった。   When the corners of the display area as described above are arc-shaped, the corners of the display panel itself are arc-shaped, or the display panel remains rectangular and is formed in a non-display area surrounding the display area. By using the light shielding layer, the corners of the display area are formed in an arc shape by forming the corners of the display area in an arc shape. However, when the corners of the display area are formed in an arc shape by using the light shielding layer, the distance between the array substrate and the counter substrate in the display area is different due to the difference in the laminated structure in the display panel in the non-display area and the display area. There is a problem in that a display defect occurs due to a difference in the distance between the array substrate and the counter substrate in the non-display area.

そこで本発明の実施形態は、上記問題点に鑑み、遮光層を用いて表示領域の角部を円弧形に形成する場合に、表示領域と非表示領域で、対向基板とアレイ基板との間隔に差が発生しない液晶表示装置を提供することを目的とする。   Therefore, in view of the above problems, the embodiment of the present invention provides an interval between the counter substrate and the array substrate in the display region and the non-display region when the light shielding layer is used to form the corners of the display region in an arc shape. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which no difference occurs between the two.

本発明の実施形態は、複数の画素が設けられた表示領域と、前記表示領域の周囲に位置する非表示領域と、を有する表示パネルであって、前記表示パネルは、前記複数の画素に亘って形成された第1電極と、前記第1電極と対向して形成された第2電極と、を有する第1基板と、前記第1基板と対向し、前記複数の画素の各々に対応して開口領域が形成された遮光層を有する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とを接着するシール部材と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟まれ、前記シール部材によって封止された液晶層と、を備え、前記表示領域の角部における前記第2基板の端部から最外周に位置する前記開口領域までの距離は、前記角部と角部との間における前記第2基板の端部から最外周に位置する前記開口領域までの距離よりも大きい、液晶表示装置である。   An embodiment of the present invention is a display panel having a display area provided with a plurality of pixels and a non-display area positioned around the display area, the display panel extending over the plurality of pixels. And a first substrate having a first electrode formed opposite to the first electrode, the first substrate facing the first substrate, and corresponding to each of the plurality of pixels. A second substrate having a light-shielding layer in which an opening region is formed; a seal member that bonds the first substrate to the second substrate; and the seal between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal layer sealed by a member, and a distance from an end of the second substrate to the opening region located on the outermost periphery at a corner of the display region is between the corner and the corner From the end of the second substrate to the opening region located on the outermost periphery Greater than away, it is a liquid crystal display device.

本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの概略的な平面図である。1 is a schematic plan view of a display panel of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 画素のアレイ基板側の構造について概略的に示した平面図である。It is the top view which showed roughly about the structure by the side of the array substrate of a pixel. 図2に対応する画素の対向基板側の構造について概略的に示した平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a structure on a counter substrate side of a pixel corresponding to FIG. 2. 図2におけるI−I線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the II line in FIG. 図2におけるII−II線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the II-II line in FIG. 図1における部分E1の一部の拡大平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view of a part of a portion E1 in FIG. 図6をさらに拡大した部分E1の一部の拡大平面図である。FIG. 7 is an enlarged plan view of a part of a part E1 further enlarged from FIG. 図7に対応するアレイ基板側の構造について概略的に示した拡大平面図である。FIG. 8 is an enlarged plan view schematically showing a structure on the array substrate side corresponding to FIG. 7. 図8におけるIV−IV線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the IV-IV line in FIG. 図1におけるVI−VI線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the VI-VI line in FIG. 図1におけるV−V線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the VV line in FIG.

本発明の一実施形態の液晶表示装置について、図面を参照して説明する。なお、実施形態における開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の趣旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の対応に比べ、各部の幅、厚さ、形状などについて模式的に表される場合があるが、あくまでも一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。   A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. It should be noted that the disclosure in the embodiment is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate changes while maintaining the spirit of the invention are naturally included in the scope of the present invention. In addition, the drawings may be schematically represented with respect to the width, thickness, shape, and the like of each part in comparison with actual correspondence in order to make the description clearer, but are merely examples, and the interpretation of the present invention is not limited. It is not limited. In addition, in the present specification and each drawing, the same elements and the same reference numerals as those described above with reference to the previous drawings are attached, and the detailed description may be omitted as appropriate.

本実施形態の液晶表示装置は、具体例において、IPS(In-Plane Switching)方式やフリンジ電界を用いるFFS(Fringe Field Switching)方式と呼ばれる横電界方式のものを開示しているが、TNモードなどの縦電界方式のものでも良い。   In the specific example, the liquid crystal display device of the present embodiment discloses a lateral electric field method called an IPS (In-Plane Switching) method or an FFS (Fringe Field Switching) method using a fringe electric field. The vertical electric field type may be used.

本実施形態の液晶表示装置について、図1〜図11を参照して説明する。   The liquid crystal display device of this embodiment will be described with reference to FIGS.

(1)表示パネル1の全体構成
図1に示す、本発明の一実施形態に係る表示パネル1の概略的な平面図を用いて、表示パネル1の全体構成について説明する。図1は、第1方向Xと、第1方向Xに垂直な第2方向Yによって規定されるX−Y平面における平面図である。なお、第1方向Xと第2方向Yは、90度以外の角度で交差していても良い。
表示パネル1は、アレイ基板2と、アレイ基板2と対向配置された対向基板3とを備えている。図示した例においては、アレイ基板2は、対向基板3よりもサイズが大きく、アレイ基板2と対向基板3は3辺をそろえて、シール部材5によって張り合わされている。また、図1の例における表示パネル1は、アレイ基板2と対向基板3の角部の一部が円弧形に形成されている。
(1) Overall Configuration of Display Panel 1 The overall configuration of the display panel 1 will be described using a schematic plan view of the display panel 1 according to an embodiment of the present invention shown in FIG. FIG. 1 is a plan view in an XY plane defined by a first direction X and a second direction Y perpendicular to the first direction X. FIG. Note that the first direction X and the second direction Y may intersect at an angle other than 90 degrees.
The display panel 1 includes an array substrate 2 and a counter substrate 3 arranged to face the array substrate 2. In the illustrated example, the array substrate 2 is larger in size than the counter substrate 3, and the array substrate 2 and the counter substrate 3 are aligned by a seal member 5 with three sides aligned. In the display panel 1 in the example of FIG. 1, part of the corners of the array substrate 2 and the counter substrate 3 are formed in an arc shape.

表示パネル1は、アレイ基板2と対向基板3が重なる領域において、画像表示のための画素6が形成された表示領域8と、表示領域8の周囲の非表示領域9を有している。さらに、表示パネル1は、アレイ基板2と対向基板3が重ならず、アレイ基板2のみとなっている端子領域11を有している。   The display panel 1 has a display area 8 in which pixels 6 for image display are formed and a non-display area 9 around the display area 8 in an area where the array substrate 2 and the counter substrate 3 overlap. Further, the display panel 1 has a terminal region 11 in which the array substrate 2 and the counter substrate 3 do not overlap with each other and only the array substrate 2 is present.

アレイ基板2は、表示領域8において、第1方向Xに沿って延びるとともに第2方向Yに並んで配置された複数のゲート線16と、第2方向Yに沿って延びるとともに第1方向Xに並んで配置された複数のソース線15とを備えている。図示した例では、画素6は、隣り合う2本のゲート線と隣り合う2本のソース線とによって区画されている。   In the display area 8, the array substrate 2 extends along the first direction X and is arranged in the second direction Y. The array substrate 2 extends along the second direction Y and extends in the first direction X. And a plurality of source lines 15 arranged side by side. In the illustrated example, the pixel 6 is partitioned by two adjacent gate lines and two adjacent source lines.

各画素6において、アレイ基板2は、ゲート線16及びソース線15と電気的に接続されたスイッチング素子7と、スイッチング素子7と電気的に接続された画素電極14を備えている。画素電極14は、複数の画素6に亘って共通に設けられた共通電極13との間で電界を形成する。この電界によって、アレイ基板2と対向基板3の間に封入されている液晶層4内の液晶分子の配向を制御する。なお、アレイ基板は第1基板に相当し、対向基板は第2基板に相当する。   In each pixel 6, the array substrate 2 includes a switching element 7 electrically connected to the gate line 16 and the source line 15, and a pixel electrode 14 electrically connected to the switching element 7. The pixel electrode 14 forms an electric field with the common electrode 13 provided in common over the plurality of pixels 6. By this electric field, the orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 4 sealed between the array substrate 2 and the counter substrate 3 is controlled. The array substrate corresponds to the first substrate, and the counter substrate corresponds to the second substrate.

(2)表示パネル1の回路構成
表示パネル1の回路構成について図1を参照して説明する。アレイ基板2は、各ゲート線16と電気的に接続されたゲートドライバ50と、各ソース線15と電気的に接続されたソースドライバ52とを備えている。図示した例においては、ゲートドライバ50は、表示パネル1の第2方向Yに沿う辺に沿って、表示領域8を挟むように、非表示領域9に設けられている。また、ソースドライバ52は、表示パネル1の第1方向Xに沿う辺に沿って、表示領域8と端子領域11の間の非表示領域9に設けられている。なお、図示した例では、ゲートドライバ50は、表示領域8を挟むように設けられているが、どちらか片側だけに設けられていても良い。また、ソースドライバ52も、他の態様でアレイ基板2に設けられても良い。さらに、ゲートドライバ50とソースドライバ52は、アレイ基板2の外部に設けられても良い。
(2) Circuit Configuration of Display Panel 1 The circuit configuration of the display panel 1 will be described with reference to FIG. The array substrate 2 includes a gate driver 50 electrically connected to each gate line 16 and a source driver 52 electrically connected to each source line 15. In the illustrated example, the gate driver 50 is provided in the non-display area 9 so as to sandwich the display area 8 along the side along the second direction Y of the display panel 1. The source driver 52 is provided in the non-display area 9 between the display area 8 and the terminal area 11 along the side along the first direction X of the display panel 1. In the illustrated example, the gate driver 50 is provided so as to sandwich the display area 8, but may be provided only on one side. The source driver 52 may also be provided on the array substrate 2 in another manner. Furthermore, the gate driver 50 and the source driver 52 may be provided outside the array substrate 2.

端子領域11には、表示ドライバとして機能するドライバIC19が実装されている。ドライバIC19は、複数の接続配線25を介してゲートドライバ50及びソースドライバ52と電気的に接続されている。例えば、ソースドライバ52は、このドライバIC19からの信号に基づいてソース線15に画像信号を出力する。   A driver IC 19 that functions as a display driver is mounted in the terminal area 11. The driver IC 19 is electrically connected to the gate driver 50 and the source driver 52 via a plurality of connection wirings 25. For example, the source driver 52 outputs an image signal to the source line 15 based on a signal from the driver IC 19.

(3)画素6の構成
画素6の構造について図2及び図3を参照して説明する。図2は、各画素6のアレイ基板2側の構造について概略的に示した平面図であり、図3は、図2に対応する各画素6の対向基板3側の構造について概略的に示した平面図である。
図示した例においては、画素6は、ソース線15に沿った辺が長く、ゲート線16に沿った辺が短い長方形形状で形成されている。画素電極14は、各画素6に設けられ、ソース線15に沿って形成された複数のスリット14bを有している。図示していないが、共通電極13は、複数の画素6に亘って共通に設けられている。画素電極14及び共通電極13は、透明な導電材料、例えば、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)によって形成されている。
(3) Configuration of Pixel 6 The structure of the pixel 6 will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a plan view schematically showing the structure of each pixel 6 on the array substrate 2 side. FIG. 3 schematically shows the structure of each pixel 6 on the counter substrate 3 side corresponding to FIG. It is a top view.
In the illustrated example, the pixel 6 is formed in a rectangular shape having a long side along the source line 15 and a short side along the gate line 16. The pixel electrode 14 is provided in each pixel 6 and has a plurality of slits 14 b formed along the source line 15. Although not shown, the common electrode 13 is provided in common across the plurality of pixels 6. The pixel electrode 14 and the common electrode 13 are formed of a transparent conductive material, for example, indium tin oxide (ITO).

スイッチング素子7は、例えば、薄膜トランジスタ(TFT)である。図示した例では、ダブルゲート型のTFTを示しているが、シングルゲート型であっても良い。スイッチング素子7は、各画素6に設けられ、画素電極14の接続部14aにおいて、画素電極14と電気的に接続している。スイッチング素子7を介して画素電極14に画像信号が供給され、スリット14bと共通電極13との間で電界を形成し、液晶分子の配向を制御する。   The switching element 7 is, for example, a thin film transistor (TFT). In the illustrated example, a double-gate TFT is shown, but a single-gate TFT may be used. The switching element 7 is provided in each pixel 6 and is electrically connected to the pixel electrode 14 at a connection portion 14 a of the pixel electrode 14. An image signal is supplied to the pixel electrode 14 through the switching element 7, and an electric field is formed between the slit 14b and the common electrode 13, thereby controlling the alignment of liquid crystal molecules.

図3に示した例では、対向基板3には、各画素6に対応した位置にR(赤色),G(緑色),B(青色)からなるカラーフィルタ104が第2方向Yに沿って延びる帯状に設けられている。それぞれのカラーフィルタ104の境界は、遮光層102と重なるように設けられている。
また、図3において、アレイ基板2と対向基板3の間の間隔を維持するスペーサ120が配置される位置に対応して、遮光層102が拡大して形成されている。これは、スペーサ120の周囲で液晶分子の配向が乱れやすく、それに起因した光漏れなどの表示の不具合が発生するのを防ぐためである。
In the example shown in FIG. 3, a color filter 104 made of R (red), G (green), and B (blue) extends along the second direction Y on the counter substrate 3 at a position corresponding to each pixel 6. It is provided in a band shape. The boundary of each color filter 104 is provided so as to overlap the light shielding layer 102.
Further, in FIG. 3, the light shielding layer 102 is enlarged and formed corresponding to the position where the spacer 120 that maintains the distance between the array substrate 2 and the counter substrate 3 is disposed. This is to prevent the orientation of the liquid crystal molecules from being easily disturbed around the spacer 120 and causing display defects such as light leakage due to the alignment.

(4)表示パネル1の断面構成
図4は、図2のI−I線に沿った断面図である。図4は、第1方向X及び第2方向Yに垂直な第3方向Zによって規定される断面図である。第1方向X、第2方向Y、及び第3方向Zは、90度以外の角度で交差していても良い。なお、本実施形態においては、第3方向Zの矢印の先端に向かう方向を上と定義し、第3方向Zの矢印の先端に向かう方向とは反対側の方向を下と定義する。また、「第1部材の上の第2部材」及び「第1部材の下の第2部材」とした場合、第2部材は、第1部材に接していても良く、又は第1部材から離れていても良い。後者の場合、第1部材と第2部材との間に、第3部材が介在していても良い。
(4) Cross-sectional Configuration of Display Panel 1 FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view defined by a third direction Z perpendicular to the first direction X and the second direction Y. The first direction X, the second direction Y, and the third direction Z may intersect at an angle other than 90 degrees. In the present embodiment, the direction toward the tip of the arrow in the third direction Z is defined as up, and the direction opposite to the direction toward the tip of the arrow in the third direction Z is defined as down. Further, when “the second member above the first member” and “the second member below the first member” are used, the second member may be in contact with the first member or separated from the first member. May be. In the latter case, a third member may be interposed between the first member and the second member.

アレイ基板2は、ガラス基板などの第1絶縁基板10を備えている。第1絶縁基板10は、対向基板3側の第1主面10Aと、第1主面10Aの反対側の第2主面10Bを有している。さらに、第1絶縁基板10の第1主面10A側に、アンダーコート層21が形成されている。   The array substrate 2 includes a first insulating substrate 10 such as a glass substrate. The first insulating substrate 10 has a first main surface 10A on the counter substrate 3 side and a second main surface 10B on the opposite side of the first main surface 10A. Further, an undercoat layer 21 is formed on the first main surface 10 </ b> A side of the first insulating substrate 10.

アンダーコート層21の上には、第1絶縁膜22、第2絶縁膜23、第3絶縁膜12、第4絶縁膜24、スイッチング素子7、画素電極14、共通電極13、第1配向膜18を備えている。なお、図示した例では、トップゲート型かつ、ダブルゲート型を示しているが、ボトムゲート型でも良いし、シングルゲート型でも良い。   On the undercoat layer 21, the first insulating film 22, the second insulating film 23, the third insulating film 12, the fourth insulating film 24, the switching element 7, the pixel electrode 14, the common electrode 13, and the first alignment film 18. It has. In the illustrated example, a top gate type and a double gate type are shown, but a bottom gate type or a single gate type may be used.

アンダーコート層21は、第1絶縁基板10の第1主面10Aを覆っている。スイッチング素子7は、ポリシリコンなどの半導体層17と、ゲート電極26と、ソース電極27と、ドレイン電極28を備えている。半導体層17は、アンダーコート層21の上に配置されている。
アンダーコート層21と半導体層17は、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等からなる第1絶縁膜22によって覆われている。スイッチング素子7のゲート電極26は、第1絶縁膜22の上に形成され、半導体層17と対向している。
The undercoat layer 21 covers the first main surface 10 </ b> A of the first insulating substrate 10. The switching element 7 includes a semiconductor layer 17 such as polysilicon, a gate electrode 26, a source electrode 27, and a drain electrode 28. The semiconductor layer 17 is disposed on the undercoat layer 21.
The undercoat layer 21 and the semiconductor layer 17 are covered with a first insulating film 22 made of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like. The gate electrode 26 of the switching element 7 is formed on the first insulating film 22 and faces the semiconductor layer 17.

また、第1絶縁膜22の上には、モリブデン合金等からなるゲート線(第1金属線)16が形成されている。スイッチング素子7のゲート電極26は、ゲート線16と電気的に接続されている。なお、ゲート電極26は、ゲート線16と一体的に形成されていても良い。   A gate line (first metal line) 16 made of a molybdenum alloy or the like is formed on the first insulating film 22. The gate electrode 26 of the switching element 7 is electrically connected to the gate line 16. Note that the gate electrode 26 may be formed integrally with the gate line 16.

ゲート電極26、ゲート線16、第1絶縁膜22は、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等からなる第2絶縁膜23によって覆われている。スイッチング素子7のソース電極27とドレイン電極28は、第2絶縁膜23の上に形成されている。図示した例では、ソース電極27は、ソース線と電気的に接続されている。ソース電極27とドレイン電極28は、それぞれ第1絶縁膜22及び第2絶縁膜23を貫通するコンタクトホールを通して半導体層17と接続している。   The gate electrode 26, the gate line 16, and the first insulating film 22 are covered with a second insulating film 23 made of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like. The source electrode 27 and the drain electrode 28 of the switching element 7 are formed on the second insulating film 23. In the illustrated example, the source electrode 27 is electrically connected to the source line. The source electrode 27 and the drain electrode 28 are connected to the semiconductor layer 17 through contact holes that penetrate the first insulating film 22 and the second insulating film 23, respectively.

また、第2絶縁膜23の上には、アルミニウムや、その合金等(例えば、TAT(Ti/Al/Ti))からなるソース線15(第2金属線)が形成されている。スイッチング素子7のソース電極27は、ソース線15と電気的に接続されている。なお、ソース電極27はソース線15と一体的に形成されていても良い。   A source line 15 (second metal line) made of aluminum, an alloy thereof, or the like (for example, TAT (Ti / Al / Ti)) is formed on the second insulating film 23. The source electrode 27 of the switching element 7 is electrically connected to the source line 15. The source electrode 27 may be formed integrally with the source line 15.

ソース電極27、ドレイン電極28、ソース線15の上には、透明の有機樹脂材料等からなる第3絶縁膜12が形成されている。第3絶縁膜12は、スイッチング素子7のソース電極27及びドレイン電極28などにより生じる凹凸を緩和させている。例えば、第3絶縁膜12は、第1絶縁基板10の第1主面10Aの側に形成される要素の中で最も厚い層である。   On the source electrode 27, the drain electrode 28, and the source line 15, the third insulating film 12 made of a transparent organic resin material or the like is formed. The third insulating film 12 relaxes unevenness caused by the source electrode 27 and the drain electrode 28 of the switching element 7. For example, the third insulating film 12 is the thickest layer among the elements formed on the first main surface 10 </ b> A side of the first insulating substrate 10.

第3絶縁膜12上には、第1透明電極が形成されている。本実施形態においては、第1透明電極は、共通電極13である。共通電極13上には、共通電極13を低抵抗化するために、例えばMAM(Mo/Al/Mo)からなる金属線20(第3金属線)が形成されていても良い。この第3金属線20を形成する場合、ソース線15と重なる位置に形成することで、画素6の開口面積に影響を与えない。   A first transparent electrode is formed on the third insulating film 12. In the present embodiment, the first transparent electrode is the common electrode 13. On the common electrode 13, in order to reduce the resistance of the common electrode 13, a metal line 20 (third metal line) made of, for example, MAM (Mo / Al / Mo) may be formed. When the third metal line 20 is formed, the opening area of the pixel 6 is not affected by being formed at a position overlapping the source line 15.

共通電極13の上には、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等からなる第4絶縁膜24が形成されている。
第4絶縁膜24の上には、第2透明電極が形成されている。本実施形態においては、第2透明電極は、画素電極14であり、第1透明電極である共通電極13と対向している。画素電極14は、第3絶縁膜12と第4絶縁膜24を貫通するコンタクトホールを介してスイッチング素子7のドレイン電極28と電気的に接続している。図示した例においては、画素電極14には、スリット14bがソース線15に沿って形成されている。なお、本実施形態においては、第1電極を共通電極、第2電極を画素電極としたが、第1電極を画素電極、第2電極を共通電極としても良い。その場合、画素電極は各画素に島状に形成され、共通電極は各画素に対応するスリットを有する。
A fourth insulating film 24 made of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like is formed on the common electrode 13.
A second transparent electrode is formed on the fourth insulating film 24. In the present embodiment, the second transparent electrode is the pixel electrode 14 and faces the common electrode 13 that is the first transparent electrode. The pixel electrode 14 is electrically connected to the drain electrode 28 of the switching element 7 through a contact hole that penetrates the third insulating film 12 and the fourth insulating film 24. In the illustrated example, the pixel electrode 14 has a slit 14 b formed along the source line 15. In the present embodiment, the first electrode is a common electrode and the second electrode is a pixel electrode. However, the first electrode may be a pixel electrode and the second electrode may be a common electrode. In that case, the pixel electrode is formed in an island shape in each pixel, and the common electrode has a slit corresponding to each pixel.

第4絶縁膜24と画素電極14の上には、第1配向膜18が形成されている。この第1配向膜18は、液晶層4と接しており、液晶層4内の液晶分子を配向させている。第1配向膜18は、ラビング処理、又は光配向処理によって配向処理されている。   A first alignment film 18 is formed on the fourth insulating film 24 and the pixel electrode 14. The first alignment film 18 is in contact with the liquid crystal layer 4 and aligns the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 4. The first alignment film 18 is subjected to an alignment process by a rubbing process or an optical alignment process.

対向基板3は、ガラス基板などの第2絶縁基板100を備えている。第2絶縁基板100は、アレイ基板2側の第1主面100Aと、第1主面100Aの反対側の第2主面100Bを有している。さらに、対向基板3は、第2絶縁基板100の第1主面100A側に、遮光層102、カラーフィルタ104、オーバーコート105、第2配向膜110が形成されている。   The counter substrate 3 includes a second insulating substrate 100 such as a glass substrate. The second insulating substrate 100 has a first main surface 100A on the array substrate 2 side and a second main surface 100B on the opposite side of the first main surface 100A. Further, in the counter substrate 3, a light shielding layer 102, a color filter 104, an overcoat 105, and a second alignment film 110 are formed on the first main surface 100 A side of the second insulating substrate 100.

遮光層102は、表示領域8において、各画素6を区画して開口領域30を形成するとともに、アレイ基板2側に設けられたソース線15やゲート線16、さらにはスイッチング素子7などと対向している。つまり、ソース線15に沿って延びる第1部分102aと、ゲート線16に沿って延びる第2部分102bとを有している(図3参照)。   The light shielding layer 102 divides each pixel 6 in the display region 8 to form an opening region 30, and faces the source line 15, the gate line 16, and the switching element 7 provided on the array substrate 2 side. ing. That is, it has the 1st part 102a extended along the source line 15, and the 2nd part 102b extended along the gate line 16 (refer FIG. 3).

カラーフィルタ104は、開口領域30を覆うように形成され、遮光層102の上にも延びている。カラーフィルタ104は、例えば、画素6に応じた色に着色されたカラーレジストにより形成されている。図示した例では、カラーフィルタ104は、R(赤色)、G(緑色)、B(青色)の3色を有している(図3参照)。なお、R、G、Bの3色に加えてW(白色)のカラーフィルタを備えていても良い。   The color filter 104 is formed so as to cover the opening region 30 and extends also on the light shielding layer 102. The color filter 104 is formed of, for example, a color resist colored in a color corresponding to the pixel 6. In the illustrated example, the color filter 104 has three colors of R (red), G (green), and B (blue) (see FIG. 3). In addition to the three colors R, G, and B, a W (white) color filter may be provided.

カラーフィルタ104は、例えば、樹脂からなるオーバーコート105によって覆われている。オーバーコート105は、遮光層102やカラーフィルタ104の表面の凹凸を緩和させている。オーバーコート105上には、第2配向膜110が形成されている。第2配向膜110は、第1配向膜18と同様に、液晶層4と接しており、液晶層4内の液晶分子を配向させている。また、第1配向膜18と同様に、ラビング処理、又は光配向処理によって配向処理されている。   The color filter 104 is covered with an overcoat 105 made of resin, for example. The overcoat 105 reduces unevenness on the surface of the light shielding layer 102 and the color filter 104. A second alignment film 110 is formed on the overcoat 105. Similar to the first alignment film 18, the second alignment film 110 is in contact with the liquid crystal layer 4 and aligns the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 4. Further, like the first alignment film 18, the alignment process is performed by a rubbing process or a photo-alignment process.

(5)スペーサ120
スペーサ120について図5を参照して説明する。図5は、図2のII−II線に沿った断面図である。
アレイ基板2と対向基板3との間には、スペーサ120が設けられている。このスペーサ120によって、アレイ基板2と対向基板3との間の間隔を保持している。図示した例では、スペーサ120は、第1スペーサ(メインスペーサ)121と、第2スペーサ(サブスペーサ)122といった2種類のスペーサを有している。これらのスペーサ120は、平面視で見て円形で、対向基板3からアレイ基板2側に向かって突出している。なお、スペーサ120は、円形以外の形状でも良く、アレイ基板2から対向基板3側に突出していても良い。なお、スペーサ120は、一定の間隔で配置されており、図示した例では、3つの画素毎に配置されているが、これに限定はされない。
(5) Spacer 120
The spacer 120 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG.
A spacer 120 is provided between the array substrate 2 and the counter substrate 3. The spacer 120 maintains a distance between the array substrate 2 and the counter substrate 3. In the illustrated example, the spacer 120 has two types of spacers, a first spacer (main spacer) 121 and a second spacer (sub-spacer) 122. These spacers 120 are circular in a plan view and protrude from the counter substrate 3 toward the array substrate 2 side. The spacer 120 may have a shape other than a circle, and may protrude from the array substrate 2 to the counter substrate 3 side. In addition, although the spacer 120 is arrange | positioned by the fixed space | interval and is arrange | positioned for every three pixels in the example shown in figure, it is not limited to this.

第1スペーサ121は、図3に示すように、対向基板3における遮光層102の第1部分102aと第2部分102bの交叉部に形成され、遮光層102が拡大している位置に設けられている。図5に示した例においては、第1スペーサ121は、対向基板3側からアレイ基板2側に向かって先細る形状に形成されている。この先細った側を第1スペーサ121の頂部121tとした場合、頂部121tはアレイ基板2と接触している。つまり、第1スペーサ121は、アレイ基板2と対向基板3との間隔(ギャップ)を常に一定に保持するように形成されている。   As shown in FIG. 3, the first spacer 121 is formed at the intersection of the first portion 102a and the second portion 102b of the light shielding layer 102 in the counter substrate 3, and is provided at a position where the light shielding layer 102 is enlarged. Yes. In the example shown in FIG. 5, the first spacer 121 is formed in a shape that tapers from the counter substrate 3 side toward the array substrate 2 side. When this tapered side is the top 121 t of the first spacer 121, the top 121 t is in contact with the array substrate 2. That is, the first spacer 121 is formed so as to always keep the distance (gap) between the array substrate 2 and the counter substrate 3 constant.

第2スペーサ122は、図3に示すように、対向基板3における遮光層102の第1部分102aと第2部分102bの交叉部に形成され、遮光層102が拡大している位置に設けられている。図5に示した例においては、第1スペーサ121と同様に、第2スペーサ122は、対向基板3側からアレイ基板2側に向かって先細る形状に形成されている。この先細った側を第2スペーサ122の頂部122tとした場合、頂部122tはアレイ基板2と接触していない。すなわち、無負荷状態においては、第2スペーサ122とアレイ基板2との間には隙間が開いている。しかし、アレイ基板2又は対向基板3が曲がるなどしてアレイ基板2と対向基板3とが接近したときに、第2スペーサ122がアレイ基板2に接触する。これによりアレイ基板2と対向基板3との最低限の間隔が保持され、また、耐圧効果が発揮される。なお、図示した例では、第2配向膜110は、スペーサ120を覆うように形成されている。   As shown in FIG. 3, the second spacer 122 is formed at the intersection of the first portion 102 a and the second portion 102 b of the light shielding layer 102 in the counter substrate 3, and is provided at a position where the light shielding layer 102 is enlarged. Yes. In the example shown in FIG. 5, like the first spacer 121, the second spacer 122 is formed in a shape that tapers from the counter substrate 3 side toward the array substrate 2 side. When this tapered side is the top 122 t of the second spacer 122, the top 122 t is not in contact with the array substrate 2. That is, in the no-load state, a gap is opened between the second spacer 122 and the array substrate 2. However, the second spacer 122 contacts the array substrate 2 when the array substrate 2 and the counter substrate 3 approach each other because the array substrate 2 or the counter substrate 3 is bent. As a result, the minimum distance between the array substrate 2 and the counter substrate 3 is maintained, and a pressure resistance effect is exhibited. In the illustrated example, the second alignment film 110 is formed so as to cover the spacer 120.

(6)表示パネル1の部分E1、部分E2
次に、表示パネル1の部分E1及び部分E2(図1参照)について図6〜図9を参照して説明する。なお、部分E1と部分E2とは左右対称の構成であるため、以下、部分E1に着目して説明する。図6〜図8は、図1の部分E1の概略的な拡大平面図である。なお、図6〜図8においては、説明に必要な構成のみを記載し、それ以外については図示を省略している。また、図9において、アレイ基板2の積層構造については、図4及び図5と同様であるため、各絶縁膜のみ図示し、電極等の図示は省略している。
(6) Part E1 and part E2 of the display panel 1
Next, the part E1 and the part E2 (refer FIG. 1) of the display panel 1 are demonstrated with reference to FIGS. In addition, since the part E1 and the part E2 are left-right symmetric structures, it demonstrates below paying attention to the part E1. 6 to 8 are schematic enlarged plan views of the portion E1 of FIG. 6 to 8, only the configuration necessary for the description is shown, and the illustration is omitted for the other parts. In FIG. 9, the laminated structure of the array substrate 2 is the same as that in FIGS. 4 and 5, so that only the insulating films are shown and the electrodes and the like are omitted.

図1に示すように、部分E1及び部分E2の位置では、表示パネル1は矩形で、表示領域8の角部は遮光層102を用いて円弧形に形成されている。図6においては、対向基板3側の構造について図示している。   As shown in FIG. 1, the display panel 1 is rectangular at the positions of the parts E <b> 1 and E <b> 2, and the corners of the display area 8 are formed in an arc shape using a light shielding layer 102. FIG. 6 illustrates the structure on the counter substrate 3 side.

図6に示すように、遮光層102を用いて、表示領域8の角部を円弧形にするために、第2方向Yに沿って、遮光層102に形成される開口領域30が徐々に少なくなるように階段状に形成されている。具体的には、平面視において、人間の目で見える程度に滑らかに円弧形となるように、階段状に形成されている。表示領域8の周囲は、図示しないカラーフィルタ104が形成されており、境界線124を形成している。すなわち、一つのカラーフィルタ104が表示領域8から連続して、表示領域8を囲むように形成されている。これは、表示領域8と非表示領域9との積層構造が、急激に変化することによる表示品位の低下を抑制するために設けられている。なお、表示領域8の角部が、平面視において、人間の目で見える程度に滑らかに円弧形となっていれば良く、開口領域が階段状に形成されているものに限定はされない。例えば、開口領域の大きさを段階的に変化させて、人間の目で見える程度に滑らかに円弧形としても良いし、遮光層を表示領域の円弧形に合わせて円弧形に形成しても良い。   As shown in FIG. 6, the opening region 30 formed in the light shielding layer 102 is gradually formed along the second direction Y in order to make the corners of the display region 8 have an arc shape by using the light shielding layer 102. It is formed in a staircase shape so as to decrease. Specifically, it is formed in a staircase shape so as to be smoothly arc-shaped to the extent that it can be seen by human eyes in plan view. A color filter 104 (not shown) is formed around the display area 8 to form a boundary line 124. That is, one color filter 104 is formed continuously from the display area 8 so as to surround the display area 8. This is provided in order to suppress deterioration in display quality due to a rapid change in the laminated structure of the display area 8 and the non-display area 9. Note that the corners of the display area 8 need only have a circular arc shape that is visible to the human eye in a plan view, and the opening area is not limited to a stepped shape. For example, the size of the opening area may be changed stepwise to form an arc shape that is smooth enough to be seen by human eyes, or the light shielding layer may be formed in an arc shape that matches the arc shape of the display area. May be.

一方で、遮光層102は、表示領域8から境界線124を越えて、対向基板3の端部まで全面に形成されている。この遮光層102が全面に形成されていることによって、非表示領域9を形成している。図示していないシール部材5は、部分E1よりも対向基板3の端部近くに形成されている(図1参照)。すなわち、部分E1及び部分E2においては、表示には寄与しない液晶層4が設けられており、表示領域8からシール部材5までの間隔が他の部分に比べて大きい。そのため、表示領域8からシール部材5までの層構造を、部分E1及び部分E2と他の部分とで同じ構造にすると、部分E1及び部分E2において、アレイ基板2と対向基板3との間隔を一定に保つのが困難となる。   On the other hand, the light shielding layer 102 is formed on the entire surface from the display region 8 to the end of the counter substrate 3 beyond the boundary line 124. The non-display area 9 is formed by forming the light shielding layer 102 on the entire surface. The seal member 5 (not shown) is formed near the end of the counter substrate 3 rather than the portion E1 (see FIG. 1). That is, in the part E1 and the part E2, the liquid crystal layer 4 which does not contribute to a display is provided, and the space | interval from the display area 8 to the sealing member 5 is large compared with another part. Therefore, if the layer structure from the display region 8 to the seal member 5 is the same in the part E1, the part E2, and the other part, the distance between the array substrate 2 and the counter substrate 3 is constant in the part E1 and the part E2. It will be difficult to keep.

そこで、本実施形態では、図6に示したように、境界線124からシール部材5までの領域において、カラーフィルタ104が島状に形成された島状部126と、島状部126に対応して形成されたスペーサ120を設けている。島状部126で高さを調整し、その上にスペーサ120を形成することで、表示領域8内の高さと合わせている。そのため、部分E1及び部分E2においても他の部分と同様に、アレイ基板2と対向基板3との間隔を一定に保つことができる。   Therefore, in the present embodiment, as illustrated in FIG. 6, in the region from the boundary line 124 to the seal member 5, the color filter 104 corresponds to the island-shaped portion 126 and the island-shaped portion 126. The spacer 120 formed in this way is provided. The height is adjusted by the island-shaped portion 126, and the spacer 120 is formed on the island-shaped portion 126, thereby matching the height in the display region 8. Therefore, also in the part E1 and the part E2, the space | interval of the array substrate 2 and the opposing board | substrate 3 can be kept constant similarly to another part.

図6では、表示領域8及び境界線124と間隔をあけて島状部126を形成している。これについて、図7を参照して説明する。図7では、表示に寄与する画素6に対応する開口領域30及び表示領域8に位置しているスペーサ120を実線で示し、表示に寄与しない画素6に対応する仮想開口領域30′、及び、表示領域8内と同じ間隔で非表示領域9にも配置した場合の仮想スペーサ120′を点線で示している。なお、仮想開口領域30′及び仮想スペーサ120′は、実際には形成されていない。   In FIG. 6, island portions 126 are formed at intervals from the display region 8 and the boundary line 124. This will be described with reference to FIG. In FIG. 7, the opening region 30 corresponding to the pixel 6 contributing to display and the spacer 120 positioned in the display region 8 are indicated by solid lines, the virtual opening region 30 ′ corresponding to the pixel 6 not contributing to display, and the display The virtual spacer 120 ′ when it is also arranged in the non-display area 9 at the same interval as in the area 8 is indicated by a dotted line. Note that the virtual opening region 30 ′ and the virtual spacer 120 ′ are not actually formed.

図5で説明したように、本実施形態に係るスペーサ120は、対向基板3側に形成されており、遮光層102、カラーフィルタ104、及び、オーバーコート105の上に位置している。また、スペーサ120は、異なる色のカラーフィルタ104の境界、例えば、赤色カラーフィルタと青色カラーフィルタの境界、と重なる位置に形成されている(図5参照)。このカラーフィルタ104の境界に位置するため、オーバーコート105によって、カラーフィルタ104などの凹凸を緩和させているものの、スペーサ120を形成する際に、凹凸の影響を受け、スペーサの形成不良を起こす可能性がある。スペーサが形成不良となると、配向膜に傷をつけて液晶分子の配向が乱れ、表示品位が低下する可能性がある。そのため、図7に示すように、スペーサ120は、スペーサ120周囲の画素6の層構造が同じになる位置に形成し、スペーサ120周囲の画素6の層構造が異なる位置には形成していない。   As described with reference to FIG. 5, the spacer 120 according to the present embodiment is formed on the counter substrate 3 side and is located on the light shielding layer 102, the color filter 104, and the overcoat 105. In addition, the spacer 120 is formed at a position where it overlaps the boundary between the color filters 104 of different colors, for example, the boundary between the red color filter and the blue color filter (see FIG. 5). Although the unevenness of the color filter 104 and the like is reduced by the overcoat 105 because it is located at the boundary of the color filter 104, the formation of the spacer 120 may be affected by the unevenness when the spacer 120 is formed. There is sex. If the spacer is poorly formed, the alignment film may be damaged, the alignment of the liquid crystal molecules may be disturbed, and the display quality may be deteriorated. Therefore, as shown in FIG. 7, the spacer 120 is formed at a position where the layer structure of the pixels 6 around the spacer 120 is the same, and is not formed at a position where the layer structure of the pixels 6 around the spacer 120 is different.

例えば、仮想スペーサ120′の位置に、スペーサ120を形成した場合、周囲の画素6のなかで仮想開口領域30′は層構造が異なる。つまり、仮想開口領域30′においては、実際には開口領域は形成されていないため、遮光層102がベタ状に形成されており、その上にカラーフィルタ104がベタ状に形成されている。つまり、ベタ状に形成された層が重なって形成されている。いずれの層も樹脂によって形成されているため、表面の平滑化によって、他の開口領域30の層構造の厚みに比べて、仮想開口領域30′の層構造の厚みは薄くなるおそれがある。そうすると、カラーフィルタ104の境界よりも凹凸が激しくなり、オーバーコート105によって、凹凸を緩和したとしても、スペーサ120が形成不良を起こす可能性が高い。そのため、本実施形態においては、図6に示すように、表示領域8から境界線124付近まで間隔をあけて、スペーサ120が形成されていない領域が設けられている。このスペーサ120が形成されていない領域は、境界線124からシール部材5までの領域に比べて小さいため、スペーサ120が形成されていなくても、表示に影響は与えない。   For example, when the spacer 120 is formed at the position of the virtual spacer 120 ′, the virtual opening region 30 ′ has a different layer structure in the surrounding pixels 6. That is, in the virtual opening region 30 ′, since the opening region is not actually formed, the light shielding layer 102 is formed in a solid shape, and the color filter 104 is formed thereon in a solid shape. That is, the layers formed in a solid shape overlap each other. Since all the layers are made of resin, there is a possibility that the thickness of the layer structure of the virtual opening region 30 ′ becomes thinner than the thickness of the layer structure of the other opening region 30 due to the smoothing of the surface. Then, the unevenness becomes severer than the boundary of the color filter 104, and even if the unevenness is reduced by the overcoat 105, the spacer 120 is likely to cause a formation failure. Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 6, a region where the spacer 120 is not formed is provided at a distance from the display region 8 to the vicinity of the boundary line 124. Since the region where the spacer 120 is not formed is smaller than the region from the boundary line 124 to the seal member 5, the display is not affected even if the spacer 120 is not formed.

図8は、図7に対応する位置におけるアレイ基板2側の構造について図示している。また、対向基板3側の構造として、境界線124を点線、表示領域8内に設けられるスペーサ120を一点鎖線、遮光層102に設けられる開口領域30を二点鎖線で示している。
本実施形態においては、図6に示すように、遮光層102を用いて、表示領域8の角部を円弧形にするために、第2方向Yに沿って、遮光層102に形成される開口領域30が徐々に少なくなるように階段状に形成されている。一方で、アレイ基板2側の構造は、部分E1及びE2においても、表示領域8と同様の構造が形成されている。つまり、部分E1及びE2においても、第1絶縁基板10上に、アンダーコート層21、第1絶縁膜22、第2絶縁膜23、第3絶縁膜12、第4絶縁膜24、スイッチング素子7、画素電極14、共通電極13、第1配向膜18を備えている。そのため、開口領域30が形成されていない位置においても、表示領域8内と同様に、液晶分子の配向を制御している。
FIG. 8 illustrates the structure on the array substrate 2 side at a position corresponding to FIG. Further, as a structure on the counter substrate 3 side, a boundary line 124 is indicated by a dotted line, a spacer 120 provided in the display region 8 is indicated by a one-dot chain line, and an opening region 30 provided in the light shielding layer 102 is indicated by a two-dot chain line.
In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the light shielding layer 102 is used to form the corners of the display area 8 in an arc shape in the light shielding layer 102 along the second direction Y. The opening region 30 is formed in a stepped shape so as to gradually decrease. On the other hand, the structure on the array substrate 2 side is the same as that of the display region 8 in the portions E1 and E2. That is, also in the portions E1 and E2, the undercoat layer 21, the first insulating film 22, the second insulating film 23, the third insulating film 12, the fourth insulating film 24, the switching element 7, A pixel electrode 14, a common electrode 13, and a first alignment film 18 are provided. Therefore, the alignment of the liquid crystal molecules is controlled at the position where the opening region 30 is not formed, as in the display region 8.

図9は、図6のIV−IV線の断面図である。部分E1及びE2において、図9に示すように、全面に形成された遮光層102の下にカラーフィルタ104が形成されている。表示領域8には、カラーフィルタ104をR,G,Bの順番に形成していくが、表示領域8の周囲では、図6に示したように、同じ色(例えばB)のカラーフィルタ104が形成されている。   9 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. In the portions E1 and E2, as shown in FIG. 9, a color filter 104 is formed under the light shielding layer 102 formed on the entire surface. In the display area 8, the color filters 104 are formed in the order of R, G, and B. As shown in FIG. 6, the color filters 104 of the same color (for example, B) are formed around the display area 8. Is formed.

図6〜図9に示すように、部分E1及びE2においては、表示領域8及び境界線124と間隔をあけて、シール部材5と境界線124との間で島状部126が遮光層102の下に規則的に形成されている。この形成される位置は表示領域8におけるスペーサ120の配置に対応する。この島状部126は、表示領域8の周囲に位置するカラーフィルタ104と同じ色のカラーフィルタ104(例えば、カラーフィルタ104B)によって形成されている。   As shown in FIGS. 6 to 9, in the portions E <b> 1 and E <b> 2, the island portion 126 of the light shielding layer 102 is formed between the seal member 5 and the boundary line 124 with a space from the display region 8 and the boundary line 124. It is regularly formed below. This formed position corresponds to the arrangement of the spacers 120 in the display area 8. The island portion 126 is formed by the color filter 104 (for example, the color filter 104B) having the same color as the color filter 104 positioned around the display area 8.

図9に示すように、島状部126の下には、それぞれ第1スペーサ121と第2スペーサ122が形成されている。部分E1及びE2においても、表示領域8と同様の周期で規則的に形成されている。そのため、この形成工程は、表示領域8において第1スペーサ121と第2スペーサ122を形成する工程と同時に形成することができる。   As shown in FIG. 9, a first spacer 121 and a second spacer 122 are formed under the island-shaped portion 126, respectively. The portions E1 and E2 are also regularly formed with the same period as the display region 8. Therefore, this forming process can be performed simultaneously with the process of forming the first spacer 121 and the second spacer 122 in the display region 8.

(7)表示パネル1の端部の構造
次に、表示パネル1の端部の構造について図10及び図11を参照して説明する。図10は、図1のVI−VI線における断面図であり、図11は、図1のV−V線における断面図である。なお、図10は、部分E1及びE2における表示パネル1の端部の構造を示しており、図11は、部分E1及びE2以外における表示パネル1の端部の構造を示している。また、部分E1及びE2以外における表示パネル1の端部の構造は、図11に図示した構造と略同じ構造で形成されている。
(7) Structure of the edge part of the display panel 1 Next, the structure of the edge part of the display panel 1 is demonstrated with reference to FIG.10 and FIG.11. 10 is a cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. 1, and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line V-V in FIG. 10 shows the structure of the end portion of the display panel 1 in the portions E1 and E2, and FIG. 11 shows the structure of the end portion of the display panel 1 other than the portions E1 and E2. Further, the structure of the end portion of the display panel 1 other than the portions E1 and E2 is formed in substantially the same structure as the structure illustrated in FIG.

図10は、図1のVI−VI線における断面図である。図10に示すように、アレイ基板2の第1絶縁基板10の上面には、アンダーコート層21、第1絶縁膜22、第2絶縁膜23、ゲートドライバ50が形成されている。そして、その上には、第3絶縁膜12が形成されている。第3絶縁膜12は、シール部材5と重なる位置において、水分が伝わるのを防止するための溝140が形成されている。この溝140は、第3絶縁膜12より下に形成されている絶縁膜を露出させている。第3絶縁膜12の上には、第4絶縁膜24、画素電極14などが積層され、その上には第1配向膜18が形成されている。図示した例においては、第1配向膜18は、溝140も全て覆うように形成されているが、溝140の途中で途切れていても良い。   10 is a cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. As shown in FIG. 10, an undercoat layer 21, a first insulating film 22, a second insulating film 23, and a gate driver 50 are formed on the upper surface of the first insulating substrate 10 of the array substrate 2. A third insulating film 12 is formed thereon. In the third insulating film 12, a groove 140 is formed at a position overlapping the seal member 5 to prevent moisture from being transmitted. The groove 140 exposes an insulating film formed below the third insulating film 12. On the third insulating film 12, a fourth insulating film 24, a pixel electrode 14, and the like are stacked, and a first alignment film 18 is formed thereon. In the illustrated example, the first alignment film 18 is formed so as to cover all the grooves 140, but may be interrupted in the middle of the grooves 140.

図10に示すように、対向基板3の第2絶縁基板100には、遮光層102が形成されているが、この遮光層102には、第3絶縁膜12と同様に、水分が伝わるのを防止するためのスリット144が形成されている。図示した例では、この遮光層102に設けられたスリット144は、アレイ基板2に設けられた溝140と対向するように形成されている。なお、スリット144と溝140は、対向しないように形成されても良いし、スリット144と対応する位置に、例えば青色のカラーフィルタが形成されていても良いし、アレイ基板2に遮光層を設けても良い。   As shown in FIG. 10, a light shielding layer 102 is formed on the second insulating substrate 100 of the counter substrate 3. As in the third insulating film 12, moisture is transmitted to the light shielding layer 102. A slit 144 is formed for prevention. In the illustrated example, the slit 144 provided in the light shielding layer 102 is formed so as to face the groove 140 provided in the array substrate 2. Note that the slit 144 and the groove 140 may be formed so as not to face each other, for example, a blue color filter may be formed at a position corresponding to the slit 144, and a light shielding layer is provided on the array substrate 2. May be.

図10に示すように、対向基板3の端部には、凸部146が形成されている。凸部146は、スペーサ120と同じ材料で形成されている。この凸部146は、アレイ基板2の端部に位置する第3絶縁膜12と対向するように形成されている。これは、表示パネル1を単個に切断する際に、切断する位置にシール部材5があると切断しにくくなる可能性がある。そのため、単個の切断をしやすくするために配置している。なお、凸部146や端部に位置する第3絶縁膜12は形成されていなくても良い。   As shown in FIG. 10, a convex portion 146 is formed at the end of the counter substrate 3. The convex portion 146 is formed of the same material as the spacer 120. The convex portion 146 is formed to face the third insulating film 12 located at the end of the array substrate 2. In this case, when the display panel 1 is cut into a single piece, if there is a seal member 5 at the cutting position, there is a possibility that the display panel 1 is difficult to cut. Therefore, it arrange | positions in order to make it easy to cut a single piece. The third insulating film 12 positioned at the convex portion 146 or the end portion may not be formed.

図10に示すように、アレイ基板2と対向基板3は、シール部材5によって貼り合わせられている。第3絶縁膜12は、シール部材5と重なる位置において、厚みが薄くなっている。これは、シール部材5の接着面積を拡大するためである。なお、第3絶縁膜12は、溝140まで同じ厚みで形成されていても良い。なお、図10では、島状部126を省略して図示しており、実際には図示した数よりも多く形成される。   As shown in FIG. 10, the array substrate 2 and the counter substrate 3 are bonded together by a seal member 5. The third insulating film 12 has a small thickness at a position overlapping the seal member 5. This is to increase the bonding area of the seal member 5. Note that the third insulating film 12 may be formed with the same thickness up to the trench 140. In FIG. 10, the island-like portions 126 are omitted, and in actuality, the number is larger than the number shown.

図11は、図1のV−V線における断面図である。図10と同様に、アレイ基板2の第1絶縁基板10の上面には、アンダーコート層21、第1絶縁膜22、第2絶縁膜23、ゲートドライバ50、第3絶縁膜12、第4絶縁膜24、画素電極14、第1配向膜18などが積層して形成されている。図10と同様に、第3絶縁膜12は、シール部材5と重なる位置において、水分が伝わるのを防止するための溝140が形成され、第3絶縁膜12より下に形成されている絶縁膜を露出させている。図示した例においては、第1配向膜18は、溝140も全て覆うように形成されているが、溝140の途中で途切れていても良い。   11 is a cross-sectional view taken along the line V-V in FIG. Similar to FIG. 10, the undercoat layer 21, the first insulating film 22, the second insulating film 23, the gate driver 50, the third insulating film 12, and the fourth insulating layer are formed on the upper surface of the first insulating substrate 10 of the array substrate 2. The film 24, the pixel electrode 14, the first alignment film 18 and the like are stacked. As in FIG. 10, the third insulating film 12 is formed with a groove 140 for preventing moisture from being transmitted at a position overlapping the seal member 5, and is formed below the third insulating film 12. Is exposed. In the illustrated example, the first alignment film 18 is formed so as to cover all the grooves 140, but may be interrupted in the middle of the grooves 140.

図10と同様に、図11に示すように、対向基板3の第2絶縁基板100には、遮光層102が形成されており、第3絶縁膜12と同様に、水分が伝わるのを防止するためのスリット144が形成されている。図示した例では、この遮光層102に設けられたスリット144は、アレイ基板2に設けられた溝140と対向するように形成されている。なお、スリット144と溝140は、対向しないように形成されても良いし、スリット144に対応する位置に、アレイ基板2に遮光層を設けても良い。   Similarly to FIG. 10, as shown in FIG. 11, a light shielding layer 102 is formed on the second insulating substrate 100 of the counter substrate 3, and similarly to the third insulating film 12, moisture is prevented from being transmitted. A slit 144 is formed. In the illustrated example, the slit 144 provided in the light shielding layer 102 is formed so as to face the groove 140 provided in the array substrate 2. The slit 144 and the groove 140 may be formed so as not to face each other, or a light shielding layer may be provided on the array substrate 2 at a position corresponding to the slit 144.

図10と同様に、図11に示すように、対向基板3の端部には、凸部146が形成されている。凸部146は、スペーサ120と同じ材料で形成されている。この凸部146は、アレイ基板2の端部に位置する第3絶縁膜12と対向するように形成されている。これは、表示パネル1を単個に切断する際に、切断する位置にシール部材5があると切断しにくくなる可能性がある。そのため、単個の切断をしやすくするために配置している。なお、凸部146や端部に位置する第3絶縁膜12は形成されていなくても良い。   Similar to FIG. 10, as shown in FIG. 11, a convex portion 146 is formed at the end of the counter substrate 3. The convex portion 146 is formed of the same material as the spacer 120. The convex portion 146 is formed to face the third insulating film 12 located at the end of the array substrate 2. In this case, when the display panel 1 is cut into a single piece, if there is a seal member 5 at the cutting position, there is a possibility that the display panel 1 is difficult to cut. Therefore, it arrange | positions in order to make it easy to cut a single piece. The third insulating film 12 positioned at the convex portion 146 or the end portion may not be formed.

図10と同様に、図11に示すように、アレイ基板2と対向基板3は、シール部材5によって貼り合わせられている。第3絶縁膜12は、シール部材5と重なる位置において、厚みが薄くなっている。これは、シール部材5の接着面積を拡大するためである。なお、第3絶縁膜12は、溝140まで同じ厚みで形成されていても良い。   Similar to FIG. 10, as shown in FIG. 11, the array substrate 2 and the counter substrate 3 are bonded together by a seal member 5. The third insulating film 12 has a small thickness at a position overlapping the seal member 5. This is to increase the bonding area of the seal member 5. Note that the third insulating film 12 may be formed with the same thickness up to the trench 140.

図10に示すように、部分E1及びE2においては、対向基板3の第2絶縁基板100の端部100Eから最外周に位置する開口領域30までの距離L1が、部分E1及びE2以外、つまりは角部以外における対向基板3の第2絶縁基板100の端部100Eから最外周に位置する開口領域30までの距離L2よりも大きくなっている。これは、部分E1及びE2は、表示領域8の角部に位置しており、遮光層102によって、角部を円弧形に形成しているためである。そのため、部分E1及びE2において、図11のような構造を用いると、スペーサ120が形成されない領域が大きくなり、アレイ基板2と対向基板3との間隔を一定に保つことが困難になり、アレイ基板2と対向基板3との間隔にむらができ、表示品位を低下させる可能性がある。なお、端部5Eは、表示領域8に最も近い部分に相当し、図示した例では、表示領域側に凸となっている頂点の部分に相当する。また、最外周に位置とは、表示パネルの端部に最も近い位置に相当する。   As shown in FIG. 10, in the portions E1 and E2, the distance L1 from the end 100E of the second insulating substrate 100 of the counter substrate 3 to the opening region 30 located on the outermost periphery is other than the portions E1 and E2, that is, The distance L2 is larger than the distance L2 from the end 100E of the second insulating substrate 100 of the counter substrate 3 other than the corners to the opening region 30 located on the outermost periphery. This is because the portions E1 and E2 are located at the corners of the display area 8, and the corners are formed in an arc shape by the light shielding layer 102. Therefore, if the structure as shown in FIG. 11 is used in the portions E1 and E2, a region where the spacer 120 is not formed becomes large, and it becomes difficult to keep the distance between the array substrate 2 and the counter substrate 3 constant. 2 and the counter substrate 3 may be uneven, which may reduce display quality. The end portion 5E corresponds to a portion closest to the display region 8, and in the illustrated example, corresponds to a vertex portion that is convex toward the display region side. Further, the position on the outermost periphery corresponds to the position closest to the end of the display panel.

本実施形態によれば、遮光層を用いて、表示領域の角部を円弧形にした場合でも、円弧形にした位置に、表示領域内と同様の間隔でスペーサを配置することで、アレイ基板2と対向基板3との間隔を一定に保つことができ、表示品位の低下を抑制することができる。   According to the present embodiment, even when the corners of the display area are formed in an arc shape using the light shielding layer, the spacers are arranged at the same positions as in the display area at the arc-shaped positions. The distance between the array substrate 2 and the counter substrate 3 can be kept constant, and the deterioration of display quality can be suppressed.

また、本実施形態によれば、スペーサの周囲において、スペーサと基板との間の積層構造が同一となる位置にのみスペーサを形成している。そのため、スペーサの形成不良を抑制することができ、表示品位の低下を抑制することができる。   Further, according to the present embodiment, the spacer is formed only at a position where the laminated structure between the spacer and the substrate is the same around the spacer. As a result, poor formation of spacers can be suppressed, and deterioration in display quality can be suppressed.

本発明の実施形態を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての実施形態も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。   Based on the embodiments of the present invention, all embodiments that can be implemented by those skilled in the art with appropriate design changes are also within the scope of the present invention as long as they include the gist of the present invention.

また、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、上記実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。   Further, within the scope of the idea of the present invention, those skilled in the art can conceive various changes and modifications, and it is understood that these changes and modifications also belong to the scope of the present invention. . For example, those in which the person skilled in the art appropriately added, deleted, or changed the design of the above-described embodiment, or those in which a process was added, omitted, or changed conditions also include the gist of the present invention. As long as it falls within the scope of the present invention.

例えば、上記実施形態の表示パネル1にタッチパネルを一体に設けても良い。この場合には、上記実施形態のアレイ基板2における第2方向の共通電極13が、液晶表示装置のコモン電極とタッチセンサの第1センサ電極(TX電極)とを兼ねるようにする。また、対向基板3の上に、第2センサ電極(RX電極)を第1方向(X軸方向)に延びるように所定間隔毎に形成しても良い。   For example, a touch panel may be provided integrally with the display panel 1 of the above embodiment. In this case, the common electrode 13 in the second direction on the array substrate 2 of the above embodiment serves as both the common electrode of the liquid crystal display device and the first sensor electrode (TX electrode) of the touch sensor. Further, the second sensor electrode (RX electrode) may be formed on the counter substrate 3 at predetermined intervals so as to extend in the first direction (X-axis direction).

また、本実施形態において述べた対応によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、又は、当業者において時に想到し得るものについては、当然に発明によりもたらされるものと解される。   In addition, other functions and effects brought about by the correspondence described in the present embodiment are apparent from the description of the present specification, or can be conceived by those skilled in the art from time to time. .

1・・・表示パネル、2・・・アレイ基板、13・・・共通電極、14・・・画素電極、15・・・ソース線、16・・・ゲート線、18・・・第1配向膜、50・・・ゲートドライバ、52・・・ソースドライバ、102・・・遮光層、104・・・カラーフィルタ、105・・・オーバーコート、110・・・第2配向膜、121・・・第1スペーサ、122・・・第2スペーサ、124・・・境界線、126・・・島状部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display panel, 2 ... Array substrate, 13 ... Common electrode, 14 ... Pixel electrode, 15 ... Source line, 16 ... Gate line, 18 ... 1st alignment film 50 ... Gate driver, 52 ... Source driver, 102 ... Light-shielding layer, 104 ... Color filter, 105 ... Overcoat, 110 ... Second alignment film, 121 ... First 1 spacer, 122 ... second spacer, 124 ... boundary line, 126 ... island-shaped part

Claims (7)

複数の画素が設けられた表示領域と、前記表示領域の周囲に位置する非表示領域と、を有する表示パネルであって、
前記表示パネルは、
前記複数の画素に亘って形成された第1電極と、前記第1電極と対向して形成された第2電極と、を有する第1基板と、
前記第1基板と対向し、前記複数の画素の各々に対応して開口領域が形成された遮光層を有する第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板とを接着するシール部材と、
前記第1基板と前記第2基板との間に挟まれ、前記シール部材によって封止された液晶層と、を備え、
前記表示領域の角部における前記第2基板の端部から最外周に位置する前記開口領域までの距離は、前記角部と角部との間における前記第2基板の端部から最外周に位置する前記開口領域までの距離よりも大きい、液晶表示装置。
A display panel having a display area provided with a plurality of pixels, and a non-display area located around the display area,
The display panel is
A first substrate having a first electrode formed across the plurality of pixels and a second electrode formed to face the first electrode;
A second substrate having a light shielding layer facing the first substrate and having an opening region corresponding to each of the plurality of pixels;
A sealing member for bonding the first substrate and the second substrate;
A liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate and sealed by the sealing member,
The distance from the end of the second substrate at the corner of the display region to the opening region located at the outermost periphery is located at the outermost periphery from the end of the second substrate between the corners. A liquid crystal display device having a larger distance than the opening region.
平面視において、前記角部は、前記開口領域が階段状に形成されている、
請求項1に記載の液晶表示装置。
In plan view, the corner portion has the opening region formed in a step shape.
The liquid crystal display device according to claim 1.
さらに、前記第2基板は、前記遮光層を覆うように形成されたカラーフィルタを備えており、
前記カラーフィルタは、前記表示領域においては、帯状に形成され、前記角部に対応する前記非表示領域においては、島状に形成されている、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
Furthermore, the second substrate includes a color filter formed to cover the light shielding layer,
The color filter is formed in a band shape in the display region, and is formed in an island shape in the non-display region corresponding to the corner portion.
The liquid crystal display device according to claim 1.
さらに、前記第1基板と前記第2基板との間に位置するスペーサを備えており、
前記スペーサは、前記表示領域及び前記角部に対応する前記非表示領域において、一定の間隔で配置されている、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
And a spacer positioned between the first substrate and the second substrate,
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacers are arranged at regular intervals in the display area and the non-display area corresponding to the corner portion. 5.
前記非表示領域において、前記カラーフィルタが島状に形成された島状部は、前記スペーサが形成される位置に対応して設けられている、請求項4に記載の液晶表示装置。   5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein in the non-display region, the island-shaped portion where the color filter is formed in an island shape is provided corresponding to a position where the spacer is formed. 前記スペーサは、前記開口領域が前記階段状に形成されている位置には配置されていない、請求項4に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the spacer is not disposed at a position where the opening region is formed in the stepped shape. 前記角部に対応する前記表示パネルの角部は、矩形である、請求項1に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a corner portion of the display panel corresponding to the corner portion is a rectangle.
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