JP2016525084A

JP2016525084A - ピラゾール−カルボキサミドを立体選択的に調製するためのプロセス

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Publication number: JP2016525084A
Application number: JP2016522404A
Authority: JP
Inventors: ドゥムニエラファエル; ケッサビジラリ; フォルカーベンデボルンセバスティアン; ヌスバウマーハンネス
Original assignee: シンジェンタパーティシペーションズアーゲー
Priority date: 2013-06-26
Filing date: 2014-06-19
Publication date: 2016-08-22
Anticipated expiration: 2034-06-19
Also published as: JP6464158B2; CN105339352A; WO2014206855A1; DK3013801T3; PT3013801T; US20160108001A1; ES2695163T3; EP3013801A1; US9637457B2; PL3013801T3; TR201816541T4; HUE040244T2; BR112015032393A2; BR112015032393B1; CN105339352B; EP3013801B1

Abstract

本発明は、式（Ｉｂ）で表される化合物をエナンチオ選択的に調製するためのプロセスであって、ａ）式（ＩＩ）で表される化合物の（Ｅ）体または（Ｚ）体を、エナンチオ選択性を有する試薬で還元することによって、式（ＩＩＩａ）で表される化合物を得るステップと、ｂ）式（ＩＩＩａ）で表される化合物を、式（ＩＶ）で表される化合物でアシル化するステップとを含むか、またはｃ）式（ＩＶ）で表される化合物を、式ＩＩで表される化合物とカップリングさせることによって、式（Ｖ）で表される化合物を得るステップと、ｄ）式（Ｖ）で表される化合物を、水素、触媒および不斉配位子の存在下に還元することによって、式（Ｉｂ）で表される化合物を得るステップとを含む、プロセスに関する。

Description

本発明は、３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドを立体選択的（エナンチオ選択的）に調製するためのプロセスに関する。

この３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミド化合物は、例えば、国際公開第２０１０／０６３７００号パンフレットに記載されている。上記化合物は非常に優れた抗真菌作用を示す。

上記化合物は、２種類のエナンチオマー、すなわち化合物名（ｃｈｅｍｉｃａｌｄｅｓｉｇｎａｔｉｏｎ）が３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［（１Ｒ）−１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドである、式Ｉａ：

の形態および化合物名が３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドである、式Ｉｂ：

の形態として存在することができる。

式Ｉｂのエナンチオマーの方が顕著な抗真菌作用を示す。抗真菌作用が高い方のエナンチオマーを過剰に含む抗真菌剤は、経済的に有利なラセミ体よりも低い濃度で適用してもラセミ体と同じ効果を得ることができる。したがって、上記化合物のＩｂのエナンチオマーを選択的に調製することが非常に望ましい。

国際公開第２０１０／０６３７００号パンフレットから、
ａ）式ＩＩ：

で表される化合物を、還元剤の存在下に還元することによって、式ＩＩＩ：

で表される化合物を得、
ｂ）式ＩＩＩで表される化合物を、式ＩＶ：

で表される化合物と反応させることによって、３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドのラセミ体を調製することが知られている。

このプロセスの生成物は、３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドのラセミ体である。

３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドの２種類のエナンチオマーは、例えば、このラセミ体をキラルクロマトグラフィーに付すことによって分離することができる。しかしながら、上記方法は費用が嵩むので、上記化合物の大規模製造には適していない。

式ＩＩＩで表される化合物は、国際公開第２０１０／０６３７００号パンフレットにおいてラセミ体として調製されている。このプロセスにおいて、エナンチオ選択的なステップを用いて式ＩＩＩの化合物をエナンチオ選択的に合成することによって、式ＩＩＩａ：

で表されるエナンチオマーである（２Ｓ）−Ｎ−メトキシ−１−（２，４，６−トリクロロフェニル）プロパン−２−アミンが過剰に得られるようにすれば、３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミド（式Ｉｂで表されるエナンチオマー）を、３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［（１Ｒ）−１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミド（式Ｉａで表されるエナンチオマー）よりも過剰に生成させることができることが見出された。式ＩＩＩで表される化合物をエナンチオ選択的に合成することにより、抗真菌作用を有する３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドを高収率かつ非常に高い費用対効果で調製することが可能になる。

別法として、
ｃ）式ＩＶで表される化合物を、式ＩＩで表される化合物とカップリングさせることにより、式Ｖ：

の化合物を得、
ｄ）式Ｖで表される化合物を、水素、触媒および不斉配位子の存在下に、式Ｉｂで表される化合物に還元することにより、３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミド化合物を調製することが可能である。

したがって本発明の目的は、式Ｉｂ：

で表される３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドをエナンチオ選択的に調製するための新規なプロセスであって、
ａ）式ＩＩ：

で表される化合物の（Ｅ）体または（Ｚ）体を、エナンチオ選択性を有する試薬（ｅｎａｎｔｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅｒｅａｇｅｎｔ）で還元することによって、式ＩＩＩａ：

で表される化合物を得るステップと、
ｂ）式ＩＩＩａで表される化合物を、式ＩＶ：

で表される化合物でアシル化するステップと
を含むか、または
ｃ）式ＩＶで表される化合物を式ＩＩで表される化合物とカップリングさせることによって、式Ｖ：

で表される化合物を得るステップと、
ｄ）式Ｖで表される化合物を、水素、触媒および不斉配位子の存在下に還元することによって、式Ｉｂで表される化合物を得るステップと
を含む、プロセスを提供することにある。

このプロセスの生成物は、式Ｉａおよび式Ｉｂの混合物の形態にある、３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミドＩであり、３−（ジフルオロメチル）−Ｎ−メトキシ−１−メチル−Ｎ−［（１Ｓ）−１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール−４−カルボキサミド（Ｉｂ）は、この混合物中に、式Ｉａの化合物に対し５５〜９９％の過剰率で存在する。

本発明による、光学活性な形態で調製する、または過剰に調製するとは、所望の生成物（式ＩＩＩａおよび式Ｉｂ）のモル比率が、反応混合物中に存在する全ての異性体の総量の５０％を超える（例えば５５％超、６０％超、６５％超、７０％超、７５％超、８０％超、８５％超、９０％超、９５％超、９６％超、９７％超、９８％超または９９％超）ことを意味する。

反応ステップａ）：
オキシムエーテルの不斉還元は文献に記載されているが、ほとんどの場合、これはＮ−アルコキシアミンを得るためのものではなく、得られる生成物はアミンへと完全に還元されている。これは、通常、キラルな１，２−アミノ−アルコールの存在下において、還元剤としてのボラン錯体を必要とする（Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．ＰＥＲＫＩＮＴＲＡＮＳ．Ｉ，１９８５，２０３９）。オキシムエーテルをＮ−アルコキシアミンへと不斉還元した最初の例が論文（Ｊ．ＯＲＧ．ＣＨＥＭ．，１９９７，５３８５）に記載されており、この論文には、不斉ボランを試薬として使用することが記載されている。これと同年に、同じグループが、この反応の展開（ｓｃｏｐｅ）について記載した論文（ＴＥＴＲＡＨＥＤＲＯＮ：ＡＳＹＭＭＥＴＲＹ，１９９７，４９７）を発表しており、この論文においては、キラルなアミノアルコールが化学量論量を超える量（１．３２当量）で使用されており、このオキシムエーテルは環内にあり、芳香環に直接結合している。後年になって、この種の反応について記載した報告が散見されるようになったが、還元を行うと必ず、完全に還元されたアミンおよびＮ−アルコキシアミンの混合物となってしまい、Ｎ−アルコキシアミンの方が混合物の少量成分となる場合もあった（ＴＥＴＲＡＨＥＤＲＯＮ：ＡＳＹＭＭＥＴＲＹ，２００１，２１８５；ＴＥＴＲＡＨＥＤＲＯＮ：ＡＳＹＭＭＥＴＲＹ，２００３，１４６３；ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＦＬＵＯＲＩＮＥＣＨＥＭＩＳＴＲＹ，２００７，３４；ＴＥＴＲＡＨＥＤＲＯＮ：ＡＳＹＭＭＥＴＲＹ，２００８，７８８）。これらのグループはいずれもキラルなアミノアルコールを１当量を超える量で使用していた。２００８年に、唯一、将来性のある本発見と類似の結果（混合物については述べられていない）、すなわち、芳香環（この場合はヘテロ環）に直接結合しているオキシムエーテルを使用し、不斉源としてキラルなアミノアルコール（１．２当量）を化学量論量を超える量で用いて、オキシムエーテルを不斉還元することにより、高純度の（ｃｌｅａｎ）Ｎ−アルコキシアミンが得られることが報告されている（ＴＥＴＲＡＨＥＤＲＯＮ：ＡＳＹＭＭＥＴＲＹ，２００８，９５６）。

これら全ての参考文献から、（１）キラルなアミノアルコールおよびボラン錯体は不斉還元剤として使用することができ、通常（不都合にも）、十分なエナンチオマー過剰率および転化率を達成するためには、化学量論量を超えて存在させることが必要であり、かつ（２）オキシムエーテルは、その配置が、還元によって得られるアミンの絶対配置を大きく左右することになるため、（Ｅ）体または（Ｚ）体のいずれかで存在しなければならないことが分かった。したがって、反応ステップａ）にオキシムの（Ｅ）体および（Ｚ）体の混合物を使用することは推奨されない。

驚くべきことに、本発明に関し、有利には、（１）触媒量のキラルなアミノアルコールを使用して、良好な転化率およびエナンチオマー過剰率を維持することができ、（２）オキシムエーテルからＮ−アルコキシアミンへの不斉還元におけるボラン供給源としてボラン−ジエチルアニリン錯体を使用することにより、この不斉還元に付随する望ましくないアミン（完全に還元された化合物）の生成を数パーセントまで抑えることができるかまたは回避することができ、（３）オキシム基の炭素原子が芳香環にもヘテロ芳香環にも直接結合しておらず、かつ環内にも存在しない、化合物（ＩＩ）のようなオキシムを、望ましくない完全に還元されたアミンの生成を回避しながら、依然としてエナンチオ選択的に還元できることが見出された。

ボラン供給源は、当業者が、ジメチルスルフィド、テトラヒドロフラン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジエチルアニリン錯体等の様々な市販の供給源から当業者が選択することができる。好ましい供給源は、硫酸ジメチル、テトラヒドロフランおよびジエチルアニリン錯体であり、ジエチルアニリン−ボラン錯体は、アルコキシアミンの段階で還元を停止するのに特に好ましい。別法として、水素化ホウ素ナトリウムと、例えば、トリメチルシリルクロリドまたは硫酸ジメチルとを使用し、次いでジエチルアニリンと錯体化させることにより、ボラン錯体を当業者がｉｎｓｉｔｕで調製することができる。

キラルな１，２−アミノアルコールは、様々な供給業者から供給されている一方のエナンチオマー、例えば、ケミカルアブストラクト登録番号（ＣｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒａｃｔＥｎｔｒｙＮｕｍｂｅｒ）ＣＡＳ４９２−４１−１、１２６４５６−４３−７、１１２０６８−０１−６、１０４３５４−３５−０、２０２６−４８−４、１２９７０４−１３−８、７９８６８−７８−３、１４４０５４−７０−６、７８６０３−９５−９、７８６０３−９１−５で表記されるものなどを当業者が選択することができる。これらの構造を次に示す。

当業者に知られているあらゆる不活性溶媒をこの目的に使用することができ、これらの溶媒の任意の組成の混合物も使用することができる。好ましい溶媒の種類としては、エーテル類、炭化水素類、芳香族炭化水素類、塩素化炭化水素類およびニトロアルカン（nitrolalkane）類が挙げられる。本発明による特に好ましい溶媒は、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロメタンおよびニトロエタンならびにこれらの混合物からなる群から選択される。

還元反応の温度は、原則として、十分に高速かつ選択的な反応が達成される限り、当業者が任意に選択することができる。したがって、この反応は、好ましくは、−１０℃〜１００℃の間、より好ましくは０℃〜８０℃の間、特に好ましくは２５℃〜６０℃の間の温度で実施される。

還元反応の時間は、１０分間〜４８時間の間、好ましくは３０分間〜２４時間の間、最も好ましくは１時間〜１２時間の間である。

式ＩＩＩａ：

で表される化合物は、本発明によるプロセスのために特に開発された新規な化合物であり、したがって、本発明のさらなる目的を構成する。

本発明の好ましい実施形態においては、式ＩＩで表される化合物のエナンチオ選択的還元は、キラルなアミノアルコールの一方のエナンチオマーの存在下にボランを作用させることにより実施される。

反応ステップｂ）は、国際公開第２０１０／０６３７００号パンフレットに記載されているステップと同様に実施することができる。式Ｉｂで表される化合物を得るための反応は、有利には、非プロトン性不活性有機溶媒中で実施される。この種の溶媒は、炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等）、塩素化炭化水素類（ジクロロメタン、トリクロロメタン、クロロベンゼン等）、エーテル類（ジアルキルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等）である。反応温度は、有利には、−２０℃〜＋１２０℃の間にある。一般に、この反応はわずかに発熱性であり、周囲温度で実施することができる。反応は、通常、弱塩基、特に、トリエチルアミン等の３級アミンの存在下に実施される。

反応ステップｃ）は次のように実施することができる。エナミド（化合物１００、Ｘ＝Ｈ）：

の調製および使用は当該技術分野においてよく知られているが、Ｎ−Ｏ−アルキル置換エナミド（化合物１００、Ｘ＝ＯＭｅ、Ｏアルキル）の調製例は極めて少なく、しかもこの種の化合物を調製するための一般的に適用できる手順は存在しない。報告されている例としては：Ｎ−臭素化エナミド（化合物１００、Ｘ＝Ｂｒ）のＮａＯＣＨ₃による置換（Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．１９７５，４８，２４９２）、ＤＭＡＰの存在下における、オキシムの（ＣＦ₃Ｃ（Ｏ）Ｏ）₂によるｉｎ−ｓｉｔｕトリフルオロアシル化（Ｅｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００７，１４９１）が挙げられる。環状オキシムエーテルが様々な酸塩化物によりアシル化されている（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９７９，４４，２４８７）。

α位に酸性プロトンを有するＯ−アルキルオキシム（化合物１０１、Ｘ＝ＯＣＨ₃またはＯ−アルキル）を脱プロトン化することにより対応するアニオン性化学種（化合物１０２、Ｘ＝ＯＣＨ₃、Ｏ−アルキル、Ｍ＝Ｌｉ、Ｋ）を生成することを記載した例はほとんどない。

ＢｕＬｉの使用を含む例（ＬｉｅｂｉｇｓＡｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９９１，１８９；ＬｉｅｂｉｇｓＡｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９９１，３８１）においては、Ｌｉ（Ｎ（ｉＰｒ）₂およびＢｕＬｉと比較すると、ＫＮ（ｉＰｒ）₂の方が優れた試薬であると報告されている（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．１９８０，２１，３１１５）。

反応ステップｃ）は、式ＩＩで表される化合物（一方の異性体またはＥ／Ｚ異性体の混合物）を、好適な不活性非プロトン性溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、エーテル類（ジアルキルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）等）中、好適な温度（溶媒に応じて−７８℃〜２０℃）で、好適な塩基である（ＫＮ（ｉＰｒ）₂、ＬｉＮ（ｉＰｒ）₂、ＫＮ（トリメチルシリル）₂、ＢｕＬｉ、ＫＮ（ｉＰｒ）₂／ＫＯｔＢｕ）（１〜５当量、好ましくは２当量）を用いて脱プロトン化することにより実施することができる。こうすることにより生成した陰イオンを化合物ＶＩで処理することによって化合物Ｖが得られる。この反応は、回分方式でも、流通方式でも、これらの２つの方式を組み合わせて行ってもよい。

式Ｖ：

本発明の他の好ましい実施形態においては、式Ｖで表される化合物のエナンチオ選択的還元を行うことができる。エナミドのエナンチオ選択的水素化は過去の文献に十分に記載されており、高収率で進行する場合が多く、好適な不斉配位子を使用することによって高い〜極めて高いエナンチオマー過剰率が得られる。これとは対照的に、Ｎ−Ｏアルキルエナミド（化合物１００、Ｘ＝Ｏアルキル）の水素化については先行技術に記載されていない。式Ｖの化合物から化合物１ｂを調製するためには、（１）オレフィン性結合をエナンチオ選択的に還元すると共に、（２）この還元を、窒素−酸素結合の還元を回避しながら、官能基選択的に行うという、２つの要件を同時に満たさなければならない。

反応ステップｄ）は、金属触媒（優先的には、ロジウム（Ｉ）またはルテニウム（ＩＩ）錯体、（例えば、［Ｒｈ（ｃｏｄ）₂］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ｃｏｄ）₂］ＢＦ₄、［Ｒｕ（ｃｏｄ）₂］ＯＴＦＡおよび［ＲｕＣｌ₂（ｐ−シメン）］₂と、好適な不斉配位子、優先的には、ジ−ホスフィン配位子、例えば、次に示す式：

で表される、ケミカルアブストラクト登録番号ＣＡＳ１３３５４５−１７−２、１５０９７１−４３−０、７６１８９−５６−５、７４８３９−８４−２、１５５８３０−６９−６、１８４０９５−６９−０、１２２１７４５−９０−９、２１０８４２−７４−３、１００３０１２−９６−１、３８７８６８−０６−６で表記されるものとを、好適な溶媒または溶媒混合物（通常は、ジアルキルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類およびメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール等のアルコール類から得られるもの）中に溶解させることにより実施することができる。

金属触媒および配位子は、０．５〜２の範囲、優先的には０．８〜１．５の範囲の比率で使用される。このようにして調製された触媒系を、次いで、式Ｖの化合物（１０〜１００００倍過剰）と混合し、適切な反応槽、例えば、ステンレス鋼製オートクレーブ等に移し替え、激しく撹拌しながら水素ガスで加圧する。０．１ｂａｒ〜１５ＭＰａの範囲の圧力が必要であり、これらの条件下における反応時間は０．５時間〜２４時間の間で変化し得る。反応温度は２０℃〜２００℃の範囲、好ましくは２０℃〜１００℃の範囲の温度とすることができる。この種の反応を行う際は、通常の安全措置を施す。触媒系をｉｎ−ｓｉｔｕで調製することに替えて、単離された金属−不斉配位子錯体を使用することもできる。このような反応条件を用いることにより、式Ｉｂの化合物を、９５％までの収率かつ９５％までのエナンチオマー過剰率（ＨＰＬＣ追跡に基づく）で得た。

調製実施例：
ＧＣＭＳ
ＧＣＭＳを行った。ＭＳ：Ｔｈｅｒｍｏ社製ＤＳＱ。ＧＣ：Ｔｈｅｒｍｏ社製ＴＲＡＣＥＧＣＵＬＴＲＡ、カラム：ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ社製Ｚｅｂｒｏｎ：ＰｈａｓｅＺＢ−５ｍｓ（１５ｍ、内径０．２５ｍｍ、０．２５μｍ）。Ｈ₂流量：１．７ｍＬ／分。注入口温度：２５０℃。検出器温度：２２０℃。昇温条件：初期温度７０℃→２５℃／分→３２０℃（２分）（総分析時間：１２分）。ＣＩ試薬ガス：メタン、流量１ｍＬ／分。
キラルＨＰＬＣ分析：Ａ法
Ｗａｔｅｒｓ社製ＡｕｔｏｐｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎＳｙｓｔｅｍ、２７６７ｓａｍｐｌｅＭａｎａｇｅｒ、２４８９ＵＶ／可視光検出器、２５４５４液対応ＧｒａｄｉｅｎｔＭｏｄｕｌｅ。カラム：ダイセル社製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ（登録商標）ＡＳ−３Ｒ（３μｍ、０．４６ｃｍ×１５ｃｍ）。移動相：ＡＣＮ／ＭｅＯＨ／水（３５／５／６０）。流量：１．０ｍＬ／分。検出器：ＤＡＤ。試料濃度：１ｍｇ／ｍＬ（ＡＣＮ／水（８０／２０））。注入量：５μＬ。
キラルＨＰＬＣ分析：Ｂ法
ＨＰＬＣ：Ｗａｔｅｒｓ社製ＵＰＬＣ−Ｈｃｌａｓｓ。検出器：Ｗａｔｅｒｓ社製ＵＰＬＣＤＡＤ。カラム：ダイセル社製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ（登録商標）ＩＣ（粒子径３μｍ、０．４６ｃｍ×１０ｃｍ）。移動相：ＥｔＯＨ／ＭｅＯＨ（５０／５０）。流量：１．０ｍＬ／分。検出器：ＤＡＤ。試料濃度：１ｍｇ／ｍＬ（Ｈｅｐｔ／ｉＰｒＯＨ（７０／３０））。注入量：２μＬ。

実施例Ｐ１：式ＩＩＩａの光学活性な（２Ｓ）−Ｎ−メトキシ−１−（２，４，６−トリクロロフェニル）プロパン−２−アミンの調製：

アルゴン雰囲気中、（−）−ノルエフェドリン−（１Ｒ，２Ｓ）−２−アミノ−１−フェニルプロパン−１−オール（７６ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。次いで、ボラン−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体（０．１８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を０℃で２時間撹拌し、次いで（Ｅ）−Ｎ−メトキシ−１−（２，４，６−トリクロロフェニル）プロパン−２−イミン（０．２６７ｇ，１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍｌ）溶液を滴下した。３５℃に加温した後、追加のボラン−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体（０．１８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を滴下し、次いで反応混合物を３５℃で２時間、次いで周囲温度で１６時間撹拌した。反応混合物にメタノール（１ｍＬ）を滴下することにより反応を停止し、揮発性成分をロータリーエバポレータで除去し、混合物を塩酸（１０ｍＬ，２Ｍ）で処理し、周囲温度で２時間撹拌した。

次いでこの水溶液をエーテルで洗浄し、ＮａＯＨ（２Ｍ）で塩基性化し、ｔＢｕＯＭｅで３回抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させることにより、光学活性な当該Ｎ−メトキシアミンを黄色油状物として得た（０．２７１ｇ，０．８２７ｍｍｏｌ，収率８２％（定量ＨＮＭＲにより推定））。
¹ＨＮＭＲ：（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ）δ：０．９１−０．９３（ｄ，３Ｈ）；２．７２−２．７７（ｄｄ，１Ｈ）；２．９８−３．０３（ｄｄ，１Ｈ）；３．２５−３．３０（ｍ，１Ｈ）；３．９３（ｓ，３Ｈ）；７．１５（ｓ，２Ｈ）。
エナンチオマー過剰率：Ａ法
Ｒ体：ピーク１：２６．８９分；３．９４％
Ｓ体：ピーク２：２８．３５分；９６．０６％

実施例Ｐ２：光学活性な式Ｉｂの化合物の調製

Ｎ−［２−（２，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−エチル］−Ｏ−メチルヒドロキシルアミン（１．０ｇ，４．２７ｍｍｏｌ）（上述の通りに調製）およびトリエチルアミン（０．９０ｍＬ，６．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（７ｍｌ）溶液を０℃で撹拌しながら、３−ジフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニルクロリド（０．９１ｇ，４．７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液を滴下した。冷却浴を取り除き、反応混合物を周囲温度で１．５時間撹拌した。次いで反応混合物を、１ＭのＮａＯＨ（２０ｍＬ）、１ＭのＨＣｌ（２０ｍＬ）、食塩水（２０ｍＬ）で順次洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を除去した後、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル（７：３））で精製することにより、３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸［２−（２，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−エチル］−メトキシ−アミド（１．３５ｇ）を白色固体として得た（融点９８〜１０２℃）。
¹ＨＮＭＲ：（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ）：１．４１−１．４６（ｄ，３Ｈ）；２．９９−３．０４（ｄｄ，１Ｈ）；３．１７−３．２３（ｄｄ，１Ｈ）；３．６０（ｓ，３Ｈ）；３．９５（ｓ，３Ｈ）；４．６８−４．７０（ｍ，１Ｈ）；７．１０−７−６２（ｍ，５Ｈ）。ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］＋３９２／３９４／３９６。

（Ｓ）体過剰のＯ−メチル−Ｎ−［１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）−エチル］ヒドロキシルアミンをアシル化する場合、保持時間は（Ｓ）体が２．４１分、（Ｒ）体が２．９７分となり、エナンチオマー比は、（Ｓ）体過剰のＯ−メチル−Ｎ−［１−メチル−２−（２，４，６−トリクロロフェニル）−エチル］ヒドロキシルアミンおよび（Ｓ）体過剰の３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸［２−（２，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−エチル］−メトキシ−アミド間で保存される。

実施例Ｐ３：式Ｖの化合物の調製

アルゴン中、式ＩＩの化合物（異性体混合物Ｅ／Ｚ＝１：１．５）（２．６７ｇ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解し、−３０℃に冷却した。この溶液にＫＮ（トリメチルシリル）₂のトルエン溶液（０．５Ｍ，４０ｍＬ）を、温度が−２５℃未満に維持される速度で添加した。得られた溶液をさらに１０分間撹拌し、ＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解した式ＶＩの化合物（３．８９ｇ）を、温度が−２０℃未満に維持される速度で添加した。得られた溶液を−２０〜−３０℃で０．３時間撹拌した。ＮＨ₄Ｃｌの飽和水溶液（１００ｍＬ）を加え、反応物をさらに１０分間撹拌した。

得られた混合物をＥｔＯＡｃ（２×７０ｍＬ）で抽出し、有機層を合一して、食塩水で洗浄した後、Ｎａ₂ＳＯ₄で乾燥させ、減圧下で濃縮した。得られた褐色の塊をフラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ＥｔＯＡｃ：ヘプタン＝１：１）で精製した。生成物を含有する画分を減圧下で濃縮し、得られた油状物をエーテルから結晶化させることにより化合物Ｖの無色結晶（１．９３ｇ）を得た。この反応後には、相当量の式Ｖの化合物の（Ｚ）体は認められないので、この反応は（Ｅ）体に対する選択性が非常に高い。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，５００ＭＨｚ）δ＝７．９４（ｔ，Ｊ＝１．４６Ｈｚ，１Ｈ）；７．３９（ｓ，１Ｈ）；７．３０（ｔ，Ｊ＝５４．２０Ｈｚ，１Ｈ）；６．４１（ｓ，１Ｈ）；４．００（ｓ，３Ｈ）；３．８２（ｓ，３Ｈ）；１．９１（ｓ，３Ｈ）。

実施例Ｐ４：光学活性な式Ｉｂの化合物の調製

ＳＬ−Ｊ００２−１（１６．９ｍｇ，０．０３１ｍｍｏｌ）および［Ｒｈ（ｎｂｄ）₂］ＢＦ₄（１０．６ｍｇ，０．０２８ｍｍｏｌ）を、予めアルゴン雰囲気にしておいた１０ｍＬのシュレンク管に装入した。次いで脱気したメタノール（４ｍＬ）を加え、橙色溶液を室温で３０分間撹拌した。別の２５ｍＬのシュレンク管に化合物Ｖ（０．３ｇ，０．７０６ｍｍｏｌ）、次いで脱気したＴＨＦ（３．５ｍＬ）および脱気したＭｅＯＨ（１０ｍＬ）を装入した。透明な溶液を１０分間撹拌した。次いで、基質および触媒溶液を両方共、予めアルゴン雰囲気にしておいた５０ｍＬのステンレス鋼製反応器にカニューレを介して移し替えた。反応器を密閉し、アルゴン置換を３サイクル（１ｂａｒ／２０ｂａｒ）行い、最後にアルゴンを水素に置換した（４サイクル、０．１ＭＰａ／２ＭＰａ）。反応器の水素圧を５ＭＰａに設定し、５０℃に加熱して、撹拌を開始した。１．５時間後、６時間後および２１時間後にＩＰＣ試料を回収した。反応時間が４８時間経過した後、圧力を開放した。ＨＰＬＣを用いて、粗生成物の転化率、官能基選択性およびエナンチオマー過剰率について分析した。４８時間後の転化率は９９．８％であり、生成物Ｉｂは８７％の官能基選択性、６９％のエナンチオマー過剰率で生成した。
¹ＨＮＭＲ：（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ）：１．４１−１．４６（ｄ，３Ｈ）；２．９９−３．０４（ｄｄ，１Ｈ）；３．１７−３．２３（ｄｄ，１Ｈ）；３．６０（ｓ，３Ｈ）；３．９５（ｓ，３Ｈ）；４．６８−４．７０（ｍ，１Ｈ）；７．１０−７−６２（ｍ，５Ｈ）。
ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］＋３９２／３９４／３９６。

Claims

式Ｉｂ：

で表される化合物をエナンチオ選択的に調製するためのプロセスであって、
ａ）式ＩＩ：

で表される化合物の（Ｅ）体または（Ｚ）体を、エナンチオ選択性を有する試薬で還元することによって、式ＩＩＩａ：

で表される化合物を得るステップと、
ｂ）式ＩＩＩａで表される化合物を、式ＩＶ：

で表される化合物でアシル化するステップと
を含むか、または
ｃ）式ＩＶで表される化合物を、式ＩＩで表される化合物とカップリングさせることによって、式Ｖ：

で表される化合物を得るステップと、
ｄ）式Ｖで表される化合物を、水素、触媒および不斉配位子の存在下に還元することによって、式Ｉｂで表される化合物を得るステップと
を含む、プロセス。
請求項１に記載の式Ｉｂで表される化合物をエナンチオ選択的に調製するためのプロセスであって、
ａ）式ＩＩ：

で表される化合物の（Ｅ）体または（Ｚ）体を、エナンチオ選択性を有する試薬で還元することによって、式ＩＩＩａ：

で表される化合物を得るステップと、
ｂ）式ＩＩＩａで表される化合物を、式ＶＩ：

で表される化合物でアシル化するステップと
を含む、プロセス。
請求項１に記載の式Ｉｂで表される化合物をエナンチオ選択的に調製するためのプロセスであって、
ｃ）式ＩＶで表される化合物を、式ＩＩで表される化合物とカップリングさせることによって、式Ｖ：

で表される化合物を得るステップと、
ｄ）式Ｖで表される化合物を、水素、触媒および不斉配位子の存在下に還元することによって、式Ｉｂで表される化合物を得るステップと
を含む、プロセス。
請求項１に記載の式Ｉｂ：

で表される化合物をエナンチオ選択的に調製するためのプロセスであって、
ａ）式ＩＩ：

で表される化合物の（Ｅ）体または（Ｚ）体を、不活性溶媒中、キラルな１，２−アミノアルコールの一方のエナンチオマーの存在下に、０℃〜６０℃の範囲の温度で、還元剤としてのボラン錯体で還元することによって、式ＩＩＩａ：

で表される化合物を得るステップと、
ｂ）不活性溶媒中、通常は弱塩基（３級アミン等）の存在下に、−２０℃〜１２０℃の範囲の温度で、式ＩＩＩａで表される化合物を、式ＩＶ：

で表される化合物でアシル化するステップと
を含むか、または
ｃ）不活性非プロトン性溶媒中、−７８℃〜２５℃の温度で、式（ＩＩ）で表される化合物を、１．５〜２当量の好適な塩基（ＫＮ（ｉＰｒ）₂、ＬｉＮ（ｉＰｒ）₂、ＫＮ（トリメチルシリル）₂、ＢｕＬｉ、ＫＮ（ｉＰｒ）₂／ＫＯｔＢｕ）で脱プロトン化した後、式（ＶＩ）で表される化合物で処理することによって、式ＩＶで表される化合物を式ＩＩで表される化合物とカップリングすることにより、式Ｖ：

で表される化合物を得るステップと、
ｄ）０．１ｂａｒ〜１５ＭＰａの圧力の水素の存在下、かつ０．１〜０．０００１当量の金属触媒（優先的には、ロジウム（Ｉ）またはルテニウム（ＩＩ）錯体、例えば：［Ｒｈ（ｃｏｄ）₂］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ｃｏｄ）₂］ＢＦ₄、［Ｒｕ（ｃｏｄ）₂］ＯＴＦＡおよび［ＲｕＣｌ₂（ｐ−シメン）］₂および好適な不斉配位子、優先的にはジホスフィン配位子の一方のエナンチオマーの存在下に、金属対配位子の比を０．８〜１．５として、好適な溶媒中、２０℃〜１００℃の温度で、式Ｖで表される化合物を還元することによって、式Ｉｂの化合物を得るステップと
を含む、プロセス。
式ＩＩＩａ：

で表される化合物。
式Ｖ：

で表される化合物。