JP2016002534A - 排ガス浄化用触媒、その製造方法、及び、それを用いた排ガス浄化方法 - Google Patents
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 673
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims abstract description 218
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 284
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 claims abstract description 181
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 128
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 128
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 147
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 51
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 42
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 30
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 10
- 238000011068 loading method Methods 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 7
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 359
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 326
- 239000002585 base Substances 0.000 description 70
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 description 35
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 33
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 29
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 25
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 18
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 13
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 11
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 11
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 10
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 8
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 7
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 5
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 4
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- -1 potassium (K) Chemical class 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 3
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009469 supplementation Effects 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101710134784 Agnoprotein Proteins 0.000 description 1
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004631 Ce(NO3)3.6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010718 Oxidation Activity Effects 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000809 air pollutant Substances 0.000 description 1
- 231100001243 air pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L azanide;platinum(2+);dinitrite Chemical compound [NH2-].[NH2-].[Pt+2].[O-]N=O.[O-]N=O IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
- Y02T10/10—Internal combustion engine [ICE] based vehicles
- Y02T10/12—Improving ICE efficiencies
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- Catalysts (AREA)
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- Processes For Solid Components From Exhaust (AREA)
Abstract
【解決手段】排ガスの流入面11と、排出面12とを有する排ガス浄化用触媒1であって、一端が流入面11に開口しかつ他端が前記排出面側で封止されているガス流入通路13と、一端が排出面12に開口しかつ他端が前記流入面側で封止されているガス流出通路14とを有し、ガス流入通路13に流入した排ガスが多孔性隔壁21を通過してガス流出通路14から排出されるフィルタ基体2と、ガス流入通路13の開口端側の隔壁の表面に担持されたNOx浄化触媒からなる第1の触媒層3と、ガス流入通路13の封止端側の隔壁の表面に担持されたPM酸化触媒からなる第2の触媒層4と、ガス流出通路14の封止端側及び開口端側の隔壁の表面に担持されたNOx浄化触媒からなる第3の触媒層5及び第4の触媒層6と、を備えている排ガス浄化用触媒1。
【選択図】図1
Description
一端が前記流入面に開口しかつ他端が前記排出面側で封止されているガス流入通路と、一端が前記排出面に開口しかつ他端が前記流入面側で封止されているガス流出通路とが、多孔性隔壁により画成されて並設されており、前記ガス流入通路に流入した排ガスが前記隔壁を通過して前記ガス流出通路から排出されるウォールスルー型のフィルタ基体と、
前記ガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)に担持されかつNO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒からなる第1の触媒層と、
前記ガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)に担持されかつ粒子状物質酸化触媒からなる第2の触媒層と、
前記ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)に担持されかつNOx浄化触媒からなる第3の触媒層と、
前記ガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)に担持されかつNOx浄化触媒からなる第4の触媒層と、
を備えていることを特徴とするものである。
一端が前記流入面に開口しかつ他端が前記排出面側で封止されているガス流入通路と、一端が前記排出面に開口しかつ他端が前記流入面側で封止されているガス流出通路とが、多孔性隔壁により画成されて並設されており、前記ガス流入通路に流入した排ガスが前記隔壁を通過して前記ガス流出通路から排出されるウォールスルー型のフィルタ基体を準備する工程と、
前記ガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)に、NO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒の前駆体である第1の触媒スラリーを担持せしめる工程と、
前記ガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)に、粒子状物質酸化触媒の前駆体である第2の触媒スラリーを担持せしめる工程と、
前記ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)に、NOx浄化触媒の前駆体である第3の触媒スラリーを担持せしめる工程と、
前記ガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)に、NOx浄化触媒の前駆体である第4の触媒スラリーを担持せしめる工程と、
前記触媒スラリーを担持せしめたフィルタ基体に熱処理を施すことにより、上記本発明の排ガス浄化用触媒を得る工程と、
を含むことを特徴とする製造方法である。
前記ガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)に担持されかつNO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒からなる第1の触媒層と、
前記ガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)に担持されかつ粒子状物質酸化触媒からなる第2の触媒層と、
前記ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)に担持されかつNOx浄化触媒からなる第3の触媒層と、
前記ガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)に担持されかつNOx浄化触媒からなる第4の触媒層と、を備えるものである。このような排ガス浄化用触媒とすることにより、十分に高い粒子状物質浄化性能を有し、かつ十分に高いNOx浄化性能を有する排ガス浄化用触媒を提供することができる。
本発明の排ガス浄化用触媒におけるフィルタ基体は、NOxと粒子状物質とを含有する排ガスの流路に配置され、排ガスが流入する側の流入面と、浄化ガスが排出される側の排出面とを有する排ガス浄化用触媒を構成するフィルタ基体であって、一端が前記流入面に開口しかつ他端が前記排出面側で封止されているガス流入通路と、一端が前記排出面に開口しかつ他端が前記流入面側で封止されているガス流出通路とが、多孔性隔壁により画成されて並設されており、前記ガス流入通路に流入した排ガスが前記隔壁を通過して前記ガス流出通路から排出されるウォールスルー型のフィルタ基体である。
本発明の排ガス浄化用触媒においては、前記ガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)に担持されかつNO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒からなる第1の触媒層を備えている。このような第1の触媒層は、NO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒からなる触媒層であること以外は特に制限されないが、このような第1の触媒層は、前記第1の隔壁表面の露出面(ガス流入通路に接する面)及び前記第1の隔壁表面の多孔性隔壁の内部の細孔内の表面に形成することが好ましい。また、このような第1の触媒層の形成範囲は、前記第1の隔壁表面Aの70〜100%の範囲に形成されていることが好ましく、80〜100%の範囲であることがより好ましい。このような触媒層の形成範囲が前記下限未満では、第1の触媒層の添加による効果が得られない傾向にある。なお、このような第1の触媒層の形成範囲は、ガス流入通路の多孔性隔壁表面の20〜80%の範囲に形成されていることが好ましい。更に、このような第1の触媒層の深さは、特に制限されないが、隔壁の厚さの1/4〜3/4の範囲内であることが好ましく、1/3〜2/3がより好ましい。このような第1の触媒層の深さが前記下限未満では、第1の触媒層の添加による効果が得られない傾向にあり、他方、上限を超えると、第3の触媒層と重なり圧損が上昇する傾向にある。
本発明の排ガス浄化用触媒においては、前記ガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)に担持されかつ粒子状物質酸化触媒(PM酸化触媒)からなる第2の触媒層を備えている。このような第2の触媒層は、粒子状物質酸化触媒からなる触媒層であること以外は特に制限されないが、このような第2の触媒層は、前記第2の隔壁表面の露出面(ガス流入通路に接する面)及び前記第2の隔壁表面の多孔性隔壁の内部の細孔内の表面に形成することが好ましい。また、このような第2の触媒層の形成範囲は、前記第2の隔壁表面Bの70〜100%の範囲に形成されていることが好ましく、80〜100%の範囲であることがより好ましい。このような触媒層の形成範囲が前記下限未満では、第2の触媒層の添加による効果が得られない傾向にある。なお、このような第2の触媒層の形成範囲は、ガス流入通路の多孔性隔壁表面の20〜80%の範囲に形成されていることが好ましい。更に、このような第2の触媒層の深さは、特に制限されないが、隔壁の厚さの1/4〜3/4の範囲内であることが好ましく、1/3〜2/3がより好ましい。このような第2の触媒層の深さが前記下限未満では、第2の触媒層の添加による効果が得られない傾向にあり、他方、上限を超えると、第4の触媒層と重なり圧損が上昇する傾向にある。また、第2の触媒層は、前記第1の触媒層と隔てて(触媒層を担持していない部分を置いて)設けてもよいが、前記第1の触媒層に続いて連続的に設けることが好ましい。このようにすることにより、より多くの触媒をコートでき、性能が向上する傾向にある。
本発明の排ガス浄化用触媒においては、前記ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)に担持されかつNOx浄化触媒からなる第3の触媒層を備えている。このような第3の触媒層は、NOx浄化触媒からなる触媒層であること以外は特に制限されないが、このような第3の触媒層は、前記第3の隔壁表面の露出面(ガス流出通路に接する面)及び前記第3の隔壁表面の多孔性隔壁の内部の細孔内の表面に形成することが好ましい。また、このような第3の触媒層の形成範囲は、前記第3の隔壁表面Cの70〜100%の範囲に形成されていることが好ましく、80〜100%の範囲であることがより好ましい。このような触媒層の形成範囲が前記下限未満では、第3の触媒層の添加による効果が得られない傾向にある。なお、このような第3の触媒層の形成範囲は、ガス流出通路の多孔性隔壁表面の20〜80%の範囲に形成されていることが好ましい。更に、このような第3の触媒層の深さは、特に制限されないが、隔壁の厚さの1/4〜3/4の範囲内であることが好ましく、1/3〜2/3がより好ましい。このような第3の触媒層の深さが前記下限未満では、第3の触媒層の添加による効果が得られない傾向にあり、他方、上限を超えると、第1の触媒層と重なり圧損が上昇する傾向にある。
本発明の排ガス浄化用触媒においては、前記ガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)に担持されかつNOx浄化触媒からなる第4の触媒層を備えている。このような第4の触媒層は、NOx浄化触媒からなる触媒層であること以外は特に制限されないが、このような第4の触媒層は、前記第4の隔壁表面の露出面(ガス流出通路に接する面)及び前記第4の隔壁表面の多孔性隔壁の内部の細孔内の表面に形成することが好ましい。また、このような第4の触媒層の形成範囲は、前記第4の隔壁表面Dの70〜100%の範囲に形成されていることが好ましく、80〜100%の範囲であることがより好ましい。このような触媒層の形成範囲が前記下限未満では、第4の触媒層の添加による効果が得られない傾向にある。なお、このような第4の触媒層の形成範囲は、ガス流出通路の多孔性隔壁表面の20〜80%の範囲に形成されていることが好ましい。また、第4の触媒層として前記第3の触媒層と同じNOx浄化触媒を用いる場合は、第4の触媒層及び第3の触媒層の形成範囲は、ガス流出通路の多孔性隔壁表面の80〜100%の範囲に形成されていることが好ましい。更に、このような第4の触媒層の深さは、特に制限されないが、隔壁の厚さの1/4〜3/4の範囲内であることが好ましく、1/3〜2/3がより好ましい。このような第4の触媒層の深さが前記下限未満では、第4の触媒層の添加による効果が得られない傾向にあり、他方、上限を超えると、第2の触媒層と重なり圧損が上昇する傾向にある。
また、第4の触媒層は、前記第3の触媒層と隔てて(触媒層を担持していない部分を置いて)設けてもよいが、前記第3の触媒層に続いて連続的に設けることが好ましい。このようにすることにより、より多くの触媒をコートでき、性能が向上する傾向にある。更に、第4の触媒層は、前記第3の触媒層と同じNOx浄化触媒を用いてもよく、異なるものを用いることもできる。
本発明の排ガス浄化用触媒においては、前記粒子状物質酸化触媒の粒子状物質酸化能が、前記NOx浄化触媒の粒子状物質酸化能よりも高く、かつ、前記NOx浄化触媒のNOx浄化能が、前記粒子状物質酸化触媒のNOx浄化能よりも高いことが好ましい。これより、より十分に高度な粒子状物質浄化性能を有し、かつ、より十分に高度なNOx浄化性能を併せ持つ排ガス浄化用触媒を提供することができる。なお、このような排ガス浄化用触媒における前記粒子状物質酸化触媒の粒子状物質酸化能が、前記NOx浄化触媒の粒子状物質酸化能よりも低い場合には、PMの燃焼が促進されず、堆積したPMにより圧損が上昇する傾向になる。また、前記NOx浄化触媒のNOx浄化能が、前記粒子状物質酸化触媒のNOx浄化能よりも低い場合には、NOx還元が進行せず、十分なNOx浄化能が得られない傾向になる。
次に、本発明のガス浄化用触媒の製造方法を説明する。本発明の排ガス浄化用触媒の製造方法は、NOxと粒子状物質とを含有する排ガスの流路に配置され、排ガスが流入する側の流入面と、浄化ガスが排出される側の排出面とを有する排ガス浄化用触媒の製造方法であって、
一端が前記流入面に開口しかつ他端が前記排出面側で封止されているガス流入通路と、一端が前記排出面に開口しかつ他端が前記流入面側で封止されているガス流出通路とが、多孔性隔壁により画成されて並設されており、前記ガス流入通路に流入した排ガスが前記隔壁を通過して前記ガス流出通路から排出されるウォールスルー型のフィルタ基体を準備する工程(フィルタ基体準備工程)と、
前記ガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)に、NO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒の前駆体である第1の触媒スラリーを担持せしめる工程(第1の触媒スラリー担持工程)と、
前記ガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)に、粒子状物質酸化触媒の前駆体である第2の触媒スラリーを担持せしめる工程(第2の触媒スラリー担持工程)と、
前記ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)に、NOx浄化触媒の前駆体である第3の触媒スラリーを担持せしめる工程(第3の触媒スラリー担持工程)と、
前記ガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)に、NOx浄化触媒の前駆体である第4の触媒スラリーを担持せしめる工程(第4の触媒スラリー担持工程)と、
前記触媒スラリーを担持せしめたフィルタ基体に熱処理を施すことにより、上記本発明の排ガス浄化用触媒を得る工程(焼成工程)と、を含むことを特徴とする製造方法である。このような方法により、十分に高い粒子状物質浄化性能を有し、かつ十分に高いNOx浄化性能を有する本発明の排ガス浄化用触媒を製造することができる。
本発明の排ガス浄化用触媒の製造方法においては、まず、一端が前記流入面に開口しかつ他端が前記排出面側で封止されているガス流入通路と、一端が前記排出面に開口しかつ他端が前記流入面側で封止されているガス流出通路とが、多孔性隔壁により画成されて並設されており、前記ガス流入通路に流入した排ガスが前記隔壁を通過して前記ガス流出通路から排出されるウォールスルー型のフィルタ基体を準備する(フィルタ基体準備工程)。
次に、前記準備したフィルタ基体に、前記ガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)にNO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒の前駆体である第1の触媒スラリーを担持せしめ(第1の触媒スラリー担持工程)、前記ガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)に粒子状物質酸化触媒の前駆体である第2の触媒スラリーを担持せしめ(第2の触媒スラリー担持工程)、前記ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)にNOx浄化触媒の前駆体である第3の触媒スラリーを担持せしめ(第3の触媒スラリー担持工程)、前記ガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)にNOx浄化触媒の前駆体である第4の触媒スラリーを担持せしめる(第4の触媒スラリー担持工程)。このような触媒スラリーを担持せしめる順番は、特に制限されないが、形成する第1の触媒層、第2の触媒層、第3の触媒層及び第4の触媒層の触媒の種類、担持方法(手段)や担持量等の条件等により、触媒スラリーの担持順番が適宜決定される。また、前記第1の触媒スラリー担持工程、第2の触媒スラリー担持工程、第3の触媒スラリー担持工程及び第4の触媒スラリー担持工程を施した後に、触媒スラリーをコートしたフィルタ基材を乾燥させることが好ましい。また、上記の触媒スラリー担持及び乾燥の操作は、コートした触媒スラリーの量が、所定量の触媒量となるまで繰り返し行うことが好ましい。更に、このような触媒スラリー担持工程において用いる触媒スラリーとしては、特に限定されず、例えば、公知の製造方法を適宜採用して得ることができる。
次いで、前記触媒スラリーを担持せしめたフィルタ基体に熱処理を施すことにより、上記本発明の排ガス浄化用触媒を得る(焼成工程)。
次に、本発明の排ガス浄化方法について説明する。本発明の排ガス浄化方法は、上記本発明の排ガス浄化用触媒を用い、NOxと粒子状物質とを含有する排ガスを前記排ガス浄化用触媒のガス流入通路から流入して前記ガス流出通路から浄化ガスを排出することを特徴とする方法である。
<PM酸化触媒の前駆体である触媒スラリーの調製>
先ず、50.46gのCe(NO3)3・6H2Oと、5.59gのLa(NO3)3と、29.62gのAgNO3とを120mLの水で溶解せしめた硝酸塩溶液([仕込み量の比(モル比)]Ce:Ag:La=90:135:10)を調製した。次に、25質量%のアンモニア水38.21gを水100gに希釈したアンモニア水を調製した。次いで、上記アンモニア水に対して撹拌しながら前記硝酸塩溶液を投入し(逆沈殿)、10分間撹拌を継続した後、水の存在下、閉鎖系において2気圧の条件下にて120℃に加熱して2時間の凝集処理を行い、凝集体前駆体(La添加CeO2−Ag前駆体)を調製した。
<NOx浄化触媒(1)の前駆体である触媒スラリーの調製>
先ず、ゼオライト粉末(東ソー社製、「ZSM−5粉末」、Si/Al比が23、比表面積300m2/g)を酢酸銅を溶解した水溶液(銅6質量%含有)に投入し、ビーカ中で30℃の温度条件で24時間攪拌し、銅イオンによるイオン交換を行った。その後濾過、洗浄、蒸発乾固後500℃の温度条件で1時間焼成することにより銅イオン交換ZSM−5(Cu/ZSM−5触媒粉末)を調製した。
<NO酸化触媒の前駆体である触媒スラリーの調製>
先ず、アルミナ粉末(γ−Al2O3、グレース社製、平均粒径:7.3μm)に対し、ジニトロジアンミン白金硝酸水溶液の所定量を含浸させ、蒸発・乾固後、500℃の温度条件で3時間焼成することによりPt担持アルミナ粉末を調製した。Ptの担持量は、担体粉末100gに対して1gであった。次に、得られたPt担持アルミナ粉末100重量部と、18%硝酸アルミニウム400重量部と、イオン交換水50重量部を混合することにより、NO酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを調製した。なお、前記スラリー中のPt/Al2O3は20質量%であった。また、このようなスラリーの粒度分布を測定したところ、平均粒子径が4.0μmの凝集体が安定に分散していた。
<NOx浄化触媒(2)の前駆体である触媒スラリーの調製>
先ず、CeO2粉末(比表面積138m2/g)15gをイオン交換水100mlに懸濁させ、そこへWO3含有量が12.6質量%となるように所定量のメタタングステン酸アンモニウム[(NH4)6(H2W12O40)]を投入し、90℃の温度条件で加熱攪拌して水分を蒸発させてタングステン担持セリア(W/CeO2)の凝固物を得た後、大気中、500℃の温度条件で3時間焼成することによりタングステン担持セリアを調製した。
<NOx浄化触媒(3)の前駆体である触媒スラリーの調製>
先ず、0.038gのPd(NO3)2を100gの水に溶解した水溶液(Pd濃度:0.0175質量%)にアルミナ粉末(平均二次粒子径:8μm、比表面積:200m2/g)を10g添加し、1時間撹拌した後、粉末を取り出して大気中、110℃の温度条件で24時間の乾燥を行い、パラジウム粒子が担持されたアルミナ粉末(Pd/Al2O3粉末)を得た。次に、得られたPd/Al2O3粉末を、水素濃度が5容量%の雰囲気(バランスガスは窒素)中に配置し、400℃の温度条件で3時間の水素化処理を施すことにより、パラジウム粒子に水素が固溶したアルミナ粉末を得た。次いで、得られた粉末を、水素濃度が5容量%の雰囲気に維持された容器中から、大気中に晒すことなく直接、0.070gのPt(NO2)2(NH3)2を100gの水に溶解した水溶液(Pt濃度:0.0425質量%)中に投入し、1時間撹拌した後、粉末を取り出して大気中、110℃の温度条件で24時間の乾燥を行い、更に大気中、300℃の温度条件で3時間の熱処理を施すことにより、パラジウムと白金との固溶体からなる金属粒子が担持された粉末(金属粒子担持粉末)を得た。次に、得られた金属粒子担持粉末を、(CH3COO)2Ba、CH3COOK及びCH3COOLiを含む水溶液(Ba濃度:0.1mol/L、K濃度:0.1mol/L、Li濃度:0.2mol/L)に浸した後、粉末を取り出して大気中、110℃の温度条件で24時間の乾燥を行って蒸発乾固せしめ、更に大気中、300℃の温度条件で3時間の熱処理を施すことにより、NOx浄化触媒粉末を得た。なお、得られた触媒におけるパラジウムと白金との固溶体からなる金属粒子の担持量はアルミナ粉末100質量部に対して0.60質量部であり、パラジウムと白金との組成比は(Pd)3原子%:(Pt)4原子%であった。また、得られた触媒におけるBa,K,Liの担持量はそれぞれアルミナ粉末100質量部に対して0.1mol/100g,0.1mol/100g,0.2mol/100gであった。
先ず、フィルタ基体(基材)として、テストピースサイズ(35ml)のDPF(コージェライト製、気孔率65%、平均細孔径30μm、直径30mm×長さ50mm、隔壁の厚さ0.2mm)を用意した。
フィルタ基材の隔壁のガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)(A)に調製例1で調製したPM酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPM酸化触媒からなる触媒層を形成するようにした以外は、実施例1と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第1の隔壁表面(A)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
フィルタ基材のガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)(D)に調製例1で調製したPM酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPM酸化触媒からなる触媒層を形成するようにした以外は、実施例1と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第4の隔壁表面(D)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
フィルタ基材のガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)(A)に調製例1で調製したPM酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPM酸化触媒からなる触媒層を形成し、更に、フィルタ基材のガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)(D)に調製例2で調製したNOx浄化触媒(1)の前駆体である触媒スラリーを用いてNOx浄化触媒からなる触媒層を形成するようにした以外は、実施例1と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第1の隔壁表面(A)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであり、第4の隔壁表面(D)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
<触媒性能評価試験>
実施例1及び比較例1〜3で得られた触媒試料を用いて、アンモニアを還元剤としたNOx選択還元反応による活性評価を行った。すなわち、各触媒試料をそれぞれ常圧固定床流通型反応装置(ベスト測器社製)に設置した。次に、NO(440ppm)、NH3(550ppm)、O2(10容量%)、CO2(10容量%)、H2O(10容量%)及びN2(残部)からなるモデルガスを20L(リットル)/分のガス流量で供給し、触媒入りガス温度が400℃となるように調整した。次いで、触媒入りガス温度を400℃で10分間保持し前処理を行った後に降温し、入りガス温度250℃〜400℃における触媒入りガス及び触媒出ガス中のNOx濃度を測定し、それらの測定値からNOx浄化率(%)を算出した。得られた結果を図4に示す。
次に、実施例1及び比較例1〜2で得られた触媒試料を用いて、模擬PMの付着処理を行った。すなわち、先ず、モデル粒子状物質(PM)であるカーボン粉末(デグサ製の商品名「Printex−U」)0.03gを特級エタノール50mlに混合し、超音波洗浄機を用いて十分に分散させてPM分散液を得た。次いで、触媒をコートした各触媒試料の上流側を上方にして、各触媒試料に前記PM分散液を流し込んだ後、通過したPM分散液を回収し、通過したPM分散液を再び上方から流し込む工程を、PM分散液がほぼ透明になるまで繰り返し、その後、乾燥させて前記カーボン粉末を触媒試料に付着せしめた(PM付着処理)。なお、このようなPM付着処理によって、前記PM分散液中のほぼ全量のカーボン粉末が触媒試料(DPF)に濾過され、各触媒試料におけるカーボン付着量は0.8g/Lとなった。
次に、PM付着処理後の各触媒試料に対し、PMを燃焼除去するPM再生試験を行った。すなわち、先ず、PM付着処理後の各触媒試料を常圧固定床流通型反応装置(ベスト測器社製)に設置した。PM付着処理後の各触媒試料に対してN2(入りガス)を500℃(入りガス温度)、15分間、ガス流量15L/分の条件で供給して加熱し前処理を行った後、N2ガスを供給しながら200℃になるまで排ガス管内を自然冷却した。次いで、各触媒試料に対して、O2(10容量%)、H2O(10容量%)及びN2(残部)からなる酸化雰囲気のガス組成に切り替え(混合ガス、入りガス)、ガス温度を20℃/分の昇温速度で200℃から720℃まで昇温しながら、ガス流量15L/分の条件で供給した後、720℃におけるCO脱離量及びCO2脱離量を測定した。そして、このようにして測定されたCO脱離量及びCO2脱離量から、CO脱離量とCO2脱離量の和に占めるCO2脱離量の割合[(CO2脱離量/(CO脱離量+CO2脱離量))×100](%)を求め、この割合を本発明における完全酸化率と定義した。得られた結果を図4に示す。
フィルタ基材のガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)(A)に調製例3で調製したNO酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPt/Al2O3からなるNO酸化触媒層(第1の触媒層)を形成するようにした以外は、実施例1と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、排ガス浄化用触媒を得た。なお、第1の隔壁表面(A)の触媒スラリーのコート量は、触媒形成部位の体積(L)当たりの担持触媒量(g)で50g/Lとなる量であった。
フィルタ基材のガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)(B)に調製例3で調製したNO酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてNO酸化触媒からなる触媒層を形成するようにした以外は、実施例2と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第2の隔壁表面(B)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
フィルタ基材のガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)(A)に調製例3で調製したNO酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPt/Al2O3からなるNO酸化触媒層(第1の触媒層)を形成し、フィルタ基材のガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)(B)に調製例1で調製したPM酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPM酸化触媒からなる第2の触媒層を形成し、フィルタ基材のガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)(C)に調製例3で調製したNO酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPt/Al2O3からなるNO酸化触媒層(第3の触媒層)を形成し、更に、フィルタ基材のガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(D)に調製例1で調製したPM酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPM酸化触媒からなる第4の触媒層をするようにした以外は、実施例1と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第1の隔壁表面(A)の触媒スラリーのコート量は50g/L、第2の隔壁表面(B)の触媒スラリーのコート量は50g/L、第3の隔壁表面(C)の触媒スラリーのコート量は50g/L、第4の隔壁表面(D)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
実施例2及び比較例4〜5で得られた触媒試料を用いて、実施例1と同様に、触媒性能評価試験、模擬PM付着処理及びPM再生試験を行った。得られた結果を図5に示す。図5は、実施例2及び比較例4〜5で得られた排ガス浄化用触媒のNOx浄化率及び完全酸化率を示すグラフである。
フィルタ基材のガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)(A)に調製例4で調製したNOx浄化触媒(2)の前駆体である触媒スラリーを用いてタングステン担持セリア(W/CeO2)からなる高耐熱NOx浄化触媒層(第1の触媒層)を形成するようにした以外は、実施例1と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、排ガス浄化用触媒を得た。なお、第1の隔壁表面(A)の触媒スラリーのコート量は、触媒形成部位の体積(L)当たりの担持触媒量(g)で50g/Lとなる量であった。
フィルタ基材のガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)(B)に調製例2で調製したNOx浄化触媒(1)の前駆体である触媒スラリーを用いてNOx浄化触媒からなる触媒層を形成し、ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)(C)に調製例4で調製したNOx浄化触媒(2)の前駆体である触媒スラリーを用いて高耐熱NOx浄化触媒からなる触媒層を形成するようにした以外は、実施例3と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第2の隔壁表面(B)の触媒スラリーのコート量は50g/L、第3の隔壁表面(C)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
フィルタ基材のガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)(B)に調製例4で調製したNOx浄化触媒(2)の前駆体である触媒スラリーを用いて高耐熱NOx浄化触媒からなる触媒層を形成するようにした以外は、実施例3と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第2の隔壁表面(B)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
実施例3及び比較例6〜7で得られた触媒試料を用いて、実施例1と同様に、触媒性能評価試験、模擬PM付着処理及びPM再生試験を行った。なお、触媒性能評価試験において、各触媒試料を大気中にて750℃で5時間保持する耐久試験を行った後に、実施例1と同様にNOx濃度測定試験を行った。得られた結果を図6に示す。図6は、実施例3及び比較例6〜7で得られた排ガス浄化用触媒のNOx浄化率及び完全酸化率を示すグラフである。
フィルタ基材のガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)(A)、フィルタ基材の隔壁のガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)(C)及びガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)(D)のそれぞれに、調製例5で調製したNOx浄化触媒(3)の前駆体である触媒スラリーを用いて[(Ba、K、Li)/(Pt、Pd)/Al2O3]NOx浄化触媒からなる第1の触媒層、第3の触媒層及び第4の触媒層を形成するようにした以外は、実施例1と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、排ガス浄化用触媒を得た。なお、フィルタ基材の第1の隔壁表面(A)、フィルタ基材の第3の隔壁表面(C)及び第4の隔壁表面(D)の触媒スラリーのコート量は、それぞれ触媒形成部位の体積(L)当たりの担持触媒量(g)で50g/Lとなる量であった。
フィルタ基材のガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)(A)に調製例1で調製したPM酸化触媒の前駆体である触媒スラリーを用いてPM酸化触媒からなる触媒層を形成するようにした以外は、実施例4と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第1の隔壁表面(A)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
フィルタ基材のガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)(B)に調製例5で調製したNOx浄化触媒(3)の前駆体である触媒スラリーを用いてNOx浄化触媒からなる触媒層を形成するようにした以外は、実施例4と同様にして触媒スラリーをコートした後に焼成することにより、比較用触媒を得た。なお、第2の隔壁表面(B)の触媒スラリーのコート量は50g/Lであった。
実施例4及び比較例8〜9で得られた触媒試料を用いて、先ず、触媒性能評価試験をNOx浄化試験により行った。すなわち、各触媒試料1.0gを試験容器内に配置し、300℃の温度条件下において表1に示す組成のリッチガス及びリーンガスをリーン/リッチ=40秒/5秒の間隔で変動させながら流通させ、定常状態におけるNOx浄化率を測定した。NOx浄化率は、各触媒試料において、それぞれの触媒試料に接触する前後のガス中に含有される窒素酸化物(NOx)の濃度を測定し、その窒素酸化物濃度の値に基づいて求めた。得られた結果を図7に示す。
Claims (5)
- NOxと粒子状物質とを含有する排ガスの流路に配置され、排ガスが流入する側の流入面と、浄化ガスが排出される側の排出面とを有する排ガス浄化用触媒であって、
一端が前記流入面に開口しかつ他端が前記排出面側で封止されているガス流入通路と、一端が前記排出面に開口しかつ他端が前記流入面側で封止されているガス流出通路とが、多孔性隔壁により画成されて並設されており、前記ガス流入通路に流入した排ガスが前記隔壁を通過して前記ガス流出通路から排出されるウォールスルー型のフィルタ基体と、
前記ガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)に担持されかつNO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒からなる第1の触媒層と、
前記ガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)に担持されかつ粒子状物質酸化触媒からなる第2の触媒層と、
前記ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)に担持されかつNOx浄化触媒からなる第3の触媒層と、
前記ガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)に担持されかつNOx浄化触媒からなる第4の触媒層と、
を備えていることを特徴とする排ガス浄化用触媒。 - 前記粒子状物質酸化触媒の粒子状物質酸化能が、前記NOx浄化触媒の粒子状物質酸化能よりも高く、かつ、
前記NOx浄化触媒のNOx浄化能が、前記粒子状物質酸化触媒のNOx浄化能よりも高い、
ことを特徴とする請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。 - 前記粒子状物質酸化触媒が、銀が酸化セリウムに担持された又は複合化した粒子状物質酸化触媒であり、
前記NO酸化触媒が、白金が酸化アルミニウムに担持されたNO酸化触媒であり、かつ、
前記NOx浄化触媒が、NOx吸蔵還元触媒及び/又はNOx選択還元触媒である、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の排ガス浄化用触媒。 - NOxと粒子状物質とを含有する排ガスの流路に配置され、排ガスが流入する側の流入面と、浄化ガスが排出される側の排出面とを有する排ガス浄化用触媒の製造方法であって、
一端が前記流入面に開口しかつ他端が前記排出面側で封止されているガス流入通路と、一端が前記排出面に開口しかつ他端が前記流入面側で封止されているガス流出通路とが、多孔性隔壁により画成されて並設されており、前記ガス流入通路に流入した排ガスが前記隔壁を通過して前記ガス流出通路から排出されるウォールスルー型のフィルタ基体を準備する工程と、
前記ガス流入通路の開口端側の隔壁の表面(第1の隔壁表面)に、NO酸化触媒及び/又はNOx浄化触媒の前駆体である第1の触媒スラリーを担持せしめる工程と、
前記ガス流入通路の封止端側の隔壁の表面(第2の隔壁表面)に、粒子状物質酸化触媒の前駆体である第2の触媒スラリーを担持せしめる工程と、
前記ガス流出通路の封止端側の隔壁の表面(第3の隔壁表面)に、NOx浄化触媒の前駆体である第3の触媒スラリーを担持せしめる工程と、
前記ガス流出通路の開口端側の隔壁の表面(第4の隔壁表面)に、NOx浄化触媒の前駆体である第4の触媒スラリーを担持せしめる工程と、
前記触媒スラリーを担持せしめたフィルタ基体に熱処理を施すことにより、請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒を得る工程と、
を含むことを特徴とする排ガス浄化用触媒の製造方法。 - 請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒を用い、NOxと粒子状物質とを含有する排ガスを前記排ガス浄化用触媒のガス流入通路から流入して前記ガス流出通路から浄化ガスを排出することを特徴とする排ガス浄化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014125975A JP6315194B2 (ja) | 2014-06-19 | 2014-06-19 | 排ガス浄化用触媒、その製造方法、及び、それを用いた排ガス浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016002534A true JP2016002534A (ja) | 2016-01-12 |
JP6315194B2 JP6315194B2 (ja) | 2018-04-25 |
Family
ID=55222256
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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