JP2016086116A5 - - Google Patents

Description

本発明は、横方向吐出タイプのノズルから液が基板液処理装置の構成部材に落下することを防止しうる技術を提供するものである。

上記の実施形態によれば、ノズルから液が基板液処理装置の構成部材に落下することを防止することができ、当該構成部材の汚染、あるいは当該構成部材上で跳ねた液が当該部材の周囲の部材を汚染することを防止することができる。

［固定供給部及び液受け部の第１実施形態］
以下に、図２に概略的に示した固定供給部４１及び液受け部４２の第１実施形態について、図３〜図５を参照して説明する。この第１実施形態の液受け部４２は、固定供給部４１からのダミーディスペンスの際に、固定供給部４１から微小流量で吐出される処理液を、チャンバ２０内に配置された固定供給部４１の下方にある処理ユニット１６の構成部材（例えば回収カップ５０の上面）に垂れ落ちることを防止するために設けられている。なお、「ダミーディスペンス」とはノズル及びノズルに接続された供給ライン内に存在する処理に不適切な組成の処理液または長期滞留した処理液をノズル及び供給ライン内から廃棄する等の目的で、処理対象基板（ウエハ）とは異なる場所に向けてノズルから処理液を吐出する操作を意味する。

下側液受け皿４４２は底壁４４２１と、底壁４４２１の左右両端の縁から上方に延びる一対の側壁４４２２と、後壁４４２３とを有している。側壁４４２２及び後壁４４２３は、底壁４４２１上に落ちた処理液が下側液受け皿４４２からこぼれ落ちることを防止する堰の役割を果たす。底壁４４２１は、ノズル４１０からの処理液の吐出方向と反対の方向に進むに従って低くなるように傾斜している。底壁４４２１の後端には排液口４４２４が設けられており、この排液口４４２４は、排液管４４２５を介してチャンバ２０の外側に接続されている。

ここで、考慮しなければならないことは、上側液受け皿４４１の先端４４１６の近傍、及び下側液受け皿４４２の先端４４２６の近傍に処理液の液滴が落下すると、落下により液滴がつぶれることにより、あるいは、液滴のノズル４１０から遠ざかる方向の運動エネルギーにより、液滴が先端４４１６（４４２６）を乗り越えて液受け皿４４１（４４２）の裏面（底壁の下面）に回り込む現象が発生するということである（図７の液滴ＬＥを参照）。この裏面に回り込んだ液滴は、そのまま裏面に沿ってウエハの回転中心軸線から遠ざかる方向に流れてゆくこともあるが、多くの場合、途中で下方に落下する。落下した位置が回転カップ体５０２の上面であれば、上述した望ましくない液滴の飛散が生じる。

上側液受け皿４４１の先端４４１６の近傍に落下した処理液の一部は、上側液受け皿４４１の裏面（底壁の下面）に回り込み、底壁４４１１の下面の先端部の領域４４１７上を図７の左方向に流れてゆき、その多くは下側液受け皿４４２の上に落下する。仮に、上側液受け皿４４１の裏面に回り込んだ直後に先端４４１６の近傍の位置で液滴が下方に落下すると、落下した液滴は下側液受け皿４４２の先端４４２６の近傍に衝突し、下側液受け皿４４２の裏面に回り込んだ後に、回転カップ体５０２の上面５０２１上に落下する可能性がある。しかしながら、底壁４４１１の下面の先端部の領域４４１７の水平面に対する角度βを比較的大きくとること（例えば２０度以上）、並びに、ノズル４１０からの処理液の吐出方向に測定した距離である下側液受け皿４４２の先端４４２６と上側液受け皿４４１の先端４４１６との距離Ｘを小さくすることにより、上記の望ましくない事象は回避することができる。

上記第１及び第２実施形態では、可動供給部４３と対比するため「固定」供給部４１という名称を付けたが、固定供給部４１は完全に不動でなくてもよい。基板上への着液位置の調整のため、例えば、処理液の吐出角度（水平面に対する仰角ないし俯角）を変化させるために固定供給部４１にチルト機構を設けてもよい。あるいは固定供給部を着液目標位置に対して接近（例えばノズル４１０がウエハの上方にやや張り出す場合も含む）または離間させることができる移動機構を設けてもよい。このような移動機構を設けた場合、液受け部４２は、完全に不動であってもよいし、固定供給部４１の動きに追従するように液受け部４２を移動させる移動機構を設けてもよい。固定供給部４１が多少動けたとしても、可動供給部４３のように動けないのであれば、背景技術の項で説明した問題は依然として存在するので、上述した第１及び第２実施形態の構成は有益である。

Claims (11)

1. 基板を水平に保持する基板保持部と、
   基板保持部により保持された基板上に前記基板の外側に設けられた吐出口から、横方向に処理液を吐出するノズルと、
   前記ノズルの下方に設けられ、前記ノズルの吐出口から下方または斜め下方に落下する処理液を受け止める液受け部と、
   前記基板に供給された後の前記処理液を回収するために前記基板の周囲に配置された回収カップと、
   を備え、
   前記液受け部は、平面視で、前記基板の周縁よりも前記基板の半径方向外側の位置で前記処理液を受け止めるように設けられ、
   前記液受け部は前記回収カップの上方に設けられている
   ことを特徴とする基板液処理装置。
2. 前記液受け部は、液受け部材と、前記ノズルの吐出口の開口端から下方に延びる第１案内壁と、前記第１案内壁に対面する第２案内壁と、を有し、
   前記第１案内壁と前記第２案内壁との間に隙間が形成され、この隙間を通って処理液が前記液受け部材に導かれる、請求項１記載の基板液処理装置。
3. 処理液の第２案内壁に対する接触角は、処理液の前記第１案内壁に対する接触角よりも大きい、請求項２記載の基板液処理装置。
4. 前記第１案内壁の表面は、前記ノズルの開口端と同一平面上に位置している、請求項３記載の基板液処理装置。
5. 前記隙間の大きさは、前記ノズルの吐出口から吐出される液滴の大きさよりも小さい、請求項３記載の基板液処理装置。
6. 前記第２案内壁が前記液受け部材と一体的に形成されている、請求項２から５のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置。
7. 前記液受け部材の上方が蓋により覆われている、請求項２から６のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置。
8. 前記蓋は、前記ノズルを予め定められた位置に保持するための保持部材の一部分により形成されている、請求項７記載の基板液処理装置。
9. 前記液受け部は、上側液受け部材と、その下方にある下側液受け部材とを含む、請求項１記載の基板液処理装置。
10. 前記上側液受け部材の下面の前端部は、着液目標位置からの水平方向距離が大きくなるに従って低くなるように傾斜しており、前記上側液受け部材の前端縁の前記着液目標位置からの水平方向距離は、前記下側液受け部材の前端縁の前記着液目標位置からの水平方向距離よりも小さい、請求項９記載の基板液処理装置。
11. 基板に供給された後の処理液を回収するために基板の周囲に配置された回収カップをさらに備え、前記回収カップが、鉛直軸線周りに回転するリング状の回転カップ体を有しており、前記上側液受け部材の前端縁の前記着液目標位置からの水平方向距離は、前記回転カップ体の上面の内周縁の前記着液目標位置からの水平方向距離以下である、請求項１０記載の基板液処理装置。