JP2015152658A - 防眩フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】低ヘイズであっても広い観察角度において優れた防眩性を有し、画像表示装置に配置したとき、白ちゃけ及びギラツキの発生を十分抑制し得る防眩フィルムを提供する。【解決手段】透明支持体と、その上に形成された微細な表面凹凸形状を有する防眩層とを備え、全ヘイズが０．１％以上３％以下、表面ヘイズが０．１％以上２％以下であり、表面凹凸形状の傾斜角度の平均値が０．２?以上１．２?以下であり、傾斜角度の標準偏差が０．１?以上０．８?以下であり、表面凹凸形状の標高と防眩層の屈折率から計算される複素振幅のパワースペクトルの、特定の２つの空間周波数における強度比がそれぞれ所定の範囲内である防眩フィルムが提供される。【選択図】なし

Description

本発明は、防眩性に優れた防眩（アンチグレア）フィルムに関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むことによる視認性の悪化を避けるために、当該表示面に防眩フィルムが配置されている。

防眩フィルムとしては、表面凹凸形状を備えた透明フィルムが主として検討されている。かかる防眩フィルムは、表面凹凸形状により外光を散乱反射させること（外光散乱光）で映り込みを低減することにより防眩性を発現する。しかしながら、外光散乱光が強い場合には、画像表示装置の表示面全体が白っぽくなったり、表示が濁った色になったりする、いわゆる「白ちゃけ」が発生することがある。また、画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸とが干渉して、輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」も発生することがある。以上のことから、防眩フィルムには、優れた防眩性を確保しつつ、この「白ちゃけ」や「ギラツキ」の発生を十分防止することが要望されている。

かかる防眩フィルムとして、例えば特許文献１には、高精細な画像表示装置に配置した際にもギラツキが発生せず、白ちゃけの発生も十分防止された防眩フィルムとして、透明基材上に微細な表面凹凸形状が形成されており、該表面凹凸形状の任意の断面曲線における平均長さＰＳｍが１２μｍ以下、該断面曲線における算術平均高さＰａと平均長さＰＳｍの比Ｐａ／ＰＳｍが０．００５以上０．０１２以下、該表面凹凸形状が傾斜角度２°以下である面の割合が５０％以下、該傾斜角度６°以下である面の割合が９０％以上である防眩フィルムが開示されている。

特許文献１に開示された防眩フィルムは、任意の断面曲線における平均長さＰＳｍを非常に小さくすることで、ギラツキを発生させやすくする５０μｍ付近の周期を持つ表面凹凸形状をなくすことにより、当該ギラツキを効果的に抑制することができる。しかしながら、特許文献１に開示された防眩フィルムはヘイズをより小さくしようとすると（低ヘイズにしようとすると）、この防眩フィルムを配置した画像表示装置の表示面を斜めから観察したときの防眩性が低下する場合があった。したがって、特許文献１に開示された防眩フィルムは、広い観察角度における防眩性の点では改良の余地が残されていた。

特開２００７−１８７９５２号公報

本発明は、低ヘイズであっても広い観察角度において優れた防眩性を有し、画像表示装置に配置したときに、白ちゃけ及びギラツキの発生を十分に抑制し得る防眩フィルムを提供することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、透明支持体と、その上に形成された微細な表面凹凸形状を有する防眩層とを備える防眩フィルムであって、
全ヘイズが０．１％以上３％以下であり、
表面ヘイズが０．１％以上２％以下であり、
前記防眩層は、表面凹凸形状の傾斜角度の平均値が０．２°以上１．２°以下であり、傾斜角度の標準偏差が０．１°以上０．８°以下であり、
下記パワースペクトル算出方法により求められる複素振幅のパワースペクトルが、以下の（１）〜（３）の条件をいずれも満たすことを特徴とする防眩フィルムを提供する。

（１）パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Ｈ（０．００２）と、パワースペクトルの空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Ｈ（０．０１）との比Ｈ（０．０１）／Ｈ（０．００２）が０．０２以上０．６以下であること；
（２）パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Ｈ（０．００２）と、パワースペクトルの空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Ｈ（０．０２）との比Ｈ（０．０２）／Ｈ（０．００２）が０．００５以上０．０５以下であること；
（３）パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Ｈ（０．００２）と、パワースペクトルの空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Ｈ（０．０４）との比Ｈ（０．０４）／Ｈ（０．００２）が０．０００５以上０．０１以下であること。

＜パワースペクトル算出方法＞
（Ａ）前記表面凹凸形状の標高の平均から仮想的な平面である平均面を定める；
（Ｂ）前記表面凹凸形状の標高が最も低い点を含み、前記平均面に平行する仮想的な平面である最低標高面と、前記表面凹凸形状の標高が最も高い点を含み、前記平均面に平行する仮想的な平面である最高標高面とを定める；
（Ｃ）前記最低標高面に垂直な主法線方向から入射し、前記最高標高面から出射する波長５５０ｎｍの平面波について前記表面凹凸形状の標高と防眩層の屈折率から前記最高標高面における複素振幅を計算したときの該複素振幅のパワースペクトルを求める。

さらに本発明の防眩フィルムにおいては、
暗部と明部の幅がそれぞれ、０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである５種類の光学くしを用いて測定される透過鮮明度の和Ｔｃが３７５％以上であり、
暗部と明部の幅がそれぞれ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて光の入射角４５°で測定される反射鮮明度の和Ｒｃ（４５）が１８０％以下であり、
暗部と明部の幅がそれぞれ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて光の入射角６０°で測定される反射鮮明度の和Ｒｃ（６０）が２４０％以下であることが好ましい。

本発明によれば、低ヘイズであっても広い観察角度において十分な防眩性を有し、画像表示装置に配置したときに、白ちゃけ及びギラツキの発生が十分抑制された防眩フィルムを提供することができる。

防眩フィルムの表面凹凸形状の傾斜角度を説明するための模式図である。 防眩フィルムの表面凹凸形状の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。 防眩フィルムの表面凹凸形状の標高を簡単に説明するための図である。 防眩フィルムの表面凹凸形状の標高ｈ（ｘ，ｙ）と標高基準面と最高標高面の関係を簡単に説明するための図である。 防眩フィルムの表面凹凸形状の標高が離散的に得られる状態を示す模式図である。 離散関数として得られた表面凹凸形状の標高から計算される複素振幅の二次元パワースペクトルから一次元パワースペクトルを計算する状態を示す模式図である。 防眩フィルムの表面凹凸形状の標高から計算された複素振幅の一次元パワースペクトルＨ（ｆ）を空間周波数ｆに対して示した図である。 金型の製造方法（前半部分）の好ましい一例を模式的に示す図である。 金型の製造方法（後半部分）の好ましい一例を模式的に示す図である。 本発明の防眩フィルムの製造方法に用いられる製造装置の好ましい一例を模式的に示す図である。 本発明の防眩フィルムの製造方法において、好適な予備硬化工程を模式的に示す図である。 ギラツキ評価のためのユニットセルを模式的に示す図である。 ギラツキ評価装置を模式的に示す図である。 実施例１〜３及び比較例１で用いたパターンＡの一部を表す図である。 実施例４で用いたパターンＢの一部を表す図である。 実施例５で用いたパターンＣの一部を表す図である。 比較例２で用いたパターンＤの一部を表す図である。

以下、本発明の好ましい実施形態を必要に応じて図面を参照して説明するが、当該図面に示す寸法などは、見やすさのために任意になっている。

本発明の防眩フィルムは表面凹凸形状の傾斜角度の平均値が０．２°以上１．２°以下であり、傾斜角度の標準偏差が０．１°以上０．８°以下であり、前記パワースペクトル算出方法により求められるパワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１の強度と、空間周波数０．０１μｍ^−１、０．０２μｍ^−１及び０．０４μｍ^−１における強度との比のそれぞれが前記の範囲であることを特徴とする。
まずは、本発明の防眩フィルムに関し、傾斜角度の平均値及び標準偏差、並びに複素振幅のパワースペクトルの求め方について説明する。

［傾斜角度の平均値及び標準偏差］
傾斜角度の平均値及び標準偏差の求め方について説明する。
本発明者は、防眩フィルムの表面凹凸形状を特定の傾斜角度分布を示すようにすることが、優れた防眩性能を有し、且つ白ちゃけを効果的に防止した画像表示装置を得るうえで極めて有効であることを見出した。すなわち、本発明の防眩フィルムは、表面凹凸形状の傾斜角度の平均値が０．２°以上１．２°以下であり、傾斜角度の標準偏差が０．１°以上０．８°以下である。当該傾斜角度の平均値が０．２°を下回る場合には、表面凹凸形状の凹凸が略平坦な面となり、十分な防眩性能を発現できないおそれがある。表面凹凸形状の傾斜角度の平均値が１．２°を上回る場合には、その傾斜角度が急峻になって、周囲からの光を集光しやすくなるため、このような防眩フィルムを備えた画像表示装置は白ちゃけが発生しやすくなる。また、傾斜角度の標準偏差が０．１°を下回る場合には、表面凹凸形状が均一となり、十分な防眩性能を発現しない可能性がある。傾斜角度の標準偏差が０．８°を上回る場合には、平均値が所定の範囲内であったとしても表面凹凸形状に傾斜角度が急峻な領域が存在することとなり、このような防眩フィルムを備えた画像表示装置は白ちゃけが発生しやすくなる。

本発明でいう「表面凹凸形状の傾斜角度」とは、図１に示す防眩フィルム１表面の任意の点Ｐにおいて、フィルムの主法線方向５に対する局所的な法線６のなす角度ψを意味する。この局所的な法線６のなす角度ψは、点Ｐにおける凹凸の影響を加味する。表面凹凸形状の傾斜角度は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。

図２は、表面凹凸形状の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。具体的な傾斜角度の決定方法を説明すると、図２に示すように、点線で示される仮想的な平面ＦＧＨＩ上の着目点Ａを決定し、そこを通るｘ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点Ｂ及びＤを、また点Ａを通るｙ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点Ｃ及びＥをとり、これらの点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応するフィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔを決定する。なお、図２では、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、フィルム厚み方向の座標をｚで表示している。平面ＦＧＨＩは、ｙ軸上の点Ｃを通るｘ軸に平行な直線、及び、同じくｙ軸上の点Ｅを通るｘ軸に平行な直線と、ｘ軸上の点Ｂを通るｙ軸に平行な直線、及び、同じくｘ軸上の点Ｄを通るｙ軸に平行な直線とのそれぞれの交点Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉによって形成される面である。また、図２では、平面ＦＧＨＩに対して、実際のフィルム面の位置が上方にくるように描かれているが、着目点Ａのとる位置によって当然ながら、実際のフィルム面の位置が平面ＦＧＨＩの上方にくることもあるし、下方にくることもある。

そして、得られる表面形状データ（表面凹凸形状の表面形状データ）の傾斜角度は、着目点Ａに対応する実際のフィルム面上の点Ｐと、その近傍にとられた４点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する実際のフィルム面上のＱ，Ｒ，Ｓ，Ｔの合計５点により張られるポリゴン４平面、すなわち、四つの三角形ＰＱＲ，ＰＲＳ，ＰＳＴ，ＰＴＱの各法線ベクトル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを平均して得られる平均法線ベクトル６の極角を求めることにより得ることができる。このようにして各測定点について傾斜角度を求めた後、傾斜角度の平均値と標準偏差が計算される。

表面凹凸形状の傾斜角度の平均値を０．２°以上１．２°以下とし、傾斜角度の標準偏差を０．１°以上０．８°以下とするためには、
微粒子を分散させた樹脂溶液を透明支持体上に塗布し、微粒子を塗布膜表面に露出させることでランダムな凹凸を透明支持体上に形成する方法であれば、微粒子の粒径及び分散状態と塗布膜の膜厚を調整すればよい。一般的に、微粒子の粒径が一定の下では、塗布膜の膜厚を増加させることによって、傾斜角度の平均値は低下する。また、微粒子の分散状態が良好、すなわち微粒子が均一に透明支持体上に配置されているほど、傾斜角度の標準偏差は小さくなる。
また、後述する本発明の防眩フィルムを得るために好ましい方法においては、第２エッチング工程のエッチング量を調整することによって、本発明の要件を満たす防眩フィルムを得ることができる。第２エッチング工程のエッチング量を増加させることによって、傾斜角度の平均値及び標準偏差を小さくすることができる。

［複素振幅のパワースペクトル］
防眩フィルムの表面凹凸形状の標高と防眩層の屈折率から計算される複素振幅のパワースペクトルについて説明する。図３は、本発明の防眩フィルムを模式的に示す断面図である。図３に示されるように、本発明の防眩フィルムの一態様（防眩フィルム１）は、透明支持体１０１とその上に形成された防眩層１０２とを有し、防眩層１０２は、透明支持体１０１と反対側に微細な凹凸２を有する表面凹凸形状を備える。

ここで、本発明でいう「表面凹凸形状の標高」とは、表面凹凸形状上の任意の点Ｐと、前記最低標高面との、本発明の防眩フィルムの主法線方向５（前記最低標高面における法線方向）における直線距離を意味する。仮想的に定められる最低標高面の任意の点の標高は０μｍであり、表面凹凸形状上の任意の点の標高を求めるときの基準であり、図３においては、最低標高面１０３で示している。

実際には、防眩フィルムは図１に模式的に示したように、二次元平面上に微細な表面凹凸形状を有する防眩層を備えている。よって、表面凹凸形状の標高は図１に示すように、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示したときには、座標（ｘ，ｙ）の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）と表すことができる。

表面凹凸形状の標高は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。測定機に要求される水平分解能は５μm以下が好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。また、当該測定機に要求される垂直分解能は０．１μｍ以下が好ましく、０．０１μm以下がさらに好ましい。この測定に好適な非接触三次元表面形状・粗さ測定機としては、Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０００シリーズ（Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製）、三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）などを挙げることができる。測定面積は、標高のパワースペクトルの分解能が０．００２μｍ^−１以下である必要があるため、少なくとも５００μｍ×５００μｍとすることが好ましく、７５０μｍ×７５０μｍ以上とすることがより好ましい。

図４に、表面凹凸形状の標高ｈ（ｘ，ｙ）と、最低標高面１０３及び最高標高面１０４との関係を模式的に示した。ここで、最高標高面１０４の標高をｈ_ｍａｘ（μｍ）とする。なお、この図４は本防眩フィルムの最も標高が高い点と、最も標高が低い点とを含むような断面の構成を示すものである。

座標（ｘ，ｙ）における標高基準面１０３と最高標高面１０４との間の光路長ｄ（ｘ，ｙ）は、標高に関する二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を用いて式（１）で表すことができる。

ここでｎ_AGは防眩層の屈折率であり、ｎ_airは空気の屈折率である。そして、空気の屈折率ｎ_airを１で近似すると、式（１）は式（２）のように表すことができる。

次に、主法線方向５（最低標高面に垂直な主法線方向）に伝播する単一波長λの平面波が、透明支持体側（最低標高面１０３側）から入射し、防眩層側（最高標高面１０４側）に出射する場合における、該平面波の複素振幅について説明する。複素振幅とは、波動の振幅を複素表示した場合において、時間の要素を含まない部分をいう。単一波長λの平面波の振幅は、一般的に以下の式（３）により複素表示することができる。

ここで式（３）中のＡは平面波の最大振幅、πは円周率、ｉは虚数単位、ｚはｚ軸方向（主法線方向５）の座標（原点からの光路長）、ωは角周波数、ｔは時間、φ_０は初期の位相である。

式（３）において時間に依存しない項が複素振幅である。したがって、式（３）で表される平面波についての最高標高面１０４の座標（ｘ，ｙ）における複素振幅ψ（ｘ，ｙ）は、式（３）の時間に依存しない項において、ｚに上記光路長ｄ（ｘ，ｙ）を代入した以下の式（４）で表すことができる。

さらに、式（４）において平面波の最大振幅Ａ及び初期の位相φ₀は座標（ｘ，ｙ）に依存せず、座標（ｘ，ｙ）での表面凹凸形状の分布を規定しようとする本発明においては定数となるため、以下ではＡ＝１及びφ_０＝０とする。また、上記式（２）を代入すると、複素振幅ψ（ｘ，ｙ）は、以下の式（５）で表すことができる。なお、本発明においてはλ＝５５０ｎｍを基準とする。

次に、複素振幅のパワースペクトルを求める方法について説明する。まず、式（５）で表される二次元関数ψ（ｘ，ｙ）より、式（６）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ψ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求める。

ここでｆ_ｘ及びｆ_ｙは、それぞれｘ方向及びｙ方向の周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。得られた二次元関数Ψ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の絶対値を二乗することによって、二次元パワースペクトルＨ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を式（７）により求めることができる。

この二次元パワースペクトルＨ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、防眩フィルムの表面凹凸形状の標高から計算される複素振幅の空間周波数分布を表している。防眩フィルムは等方的であるため、複素振幅の二次元パワースペクトルを表す二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、原点（０，０）からの距離ｆのみに依存する一次元関数Ｈ（ｆ）で表すことができる。次に、二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）から一次元関数Ｈ（ｆ）を求める方法を示す。まず、複素振幅の二次元パワースペクトルである二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を式（８）に基づいて極座標で表示する。

ここで、θはフーリエ空間中の偏角である。一次元関数Ｈ（ｆ）は、極座標表示した二次元関数Ｈ（ｆｃｏｓθ，ｆｓｉｎθ）の回転平均を式（９）に基づき計算することにより求めることができる。複素振幅の二次元パワースペクトルである二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の回転平均から求められる一次元関数Ｈ（ｆ）を、以下では一次元パワースペクトルＨ（ｆ）ともいう。

本発明の防眩フィルムは、表面凹凸形状の標高から計算される複素振幅の一次元パワースペクトルＨ（ｆ）の空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Ｈ（０．００２）と空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Ｈ（０．０１）の比Ｈ（０．０１）／Ｈ（０．００２）、強度Ｈ（０．００２）と空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Ｈ（０．０２）の比Ｈ（０．０２）／Ｈ（０．００２）、及び強度Ｈ（０．００２）と空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Ｈ（０．０４）の比Ｈ（０．０４）／Ｈ（０．００２）とがいずれも前記所定の範囲内であることを特徴とするものである。

以下、防眩フィルムが有する表面凹凸形状の標高から計算される複素振幅の二次元パワースペクトルを求める方法を、さらに具体的に説明する。上記の共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡などによって実際に測定される表面形状の三次元情報は、一般的に離散的な値、すなわち、多数の測定点に対応する標高として得られる。図５は、標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。図５に示すように、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、フィルム投影面３上に、ｘ軸方向にΔｘ毎に分割した線と、ｙ軸方向にΔｙ毎に分割した線とを破線で示すと、実際の測定では、表面凹凸形状の標高はフィルム投影面３上の各破線で分割された面積Δｘ×Δｙ毎の離散的な標高値として得られる。

得られる標高値の数は、測定範囲と、Δｘ及びΔｙによって決まり、図５に示すようにｘ軸方向の測定範囲をＸ＝ＭΔｘとし、ｙ軸方向の測定範囲をＹ＝ＮΔｙとすると、得られる標高値の数はＭ×Ｎ個である。

図５に示すように、フィルム投影面３上の着目点Ａの座標を（ｍΔｘ，ｎΔｙ）［ここで、ｍは０以上Ｍ−１以下であり、ｎは０以上Ｎ−１以下である］とすると、着目点Ａに対応するフィルム面上の点Ｐの標高はｈ（ｍΔｘ，ｎΔｙ）と表すことができる。

ここで、測定間隔Δｘ及びΔｙは、測定機器の水平分解能に依存し、精度良く表面凹凸形状を評価するためには、Δｘ及びΔｙはともに、５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、測定範囲Ｘ及びＹは上述したとおり、ともに５００μｍ以上が好ましく、７５０μｍ以上がより好ましい。

このように実際の測定では、表面凹凸形状の標高を表す関数は、Ｍ×Ｎ個の値を持つ離散関数ｈ（ｘ，ｙ）として得られる。よって、表面凹凸形状の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）から式（５）で求められる複素振幅ψ（ｘ，ｙ）も離散関数として得られ、この複素振幅ψ（ｘ，ｙ）の二次元フーリエ変換によって求められる二次元関数Ψ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）も、式（６）を離散的に計算した離散フーリエ変換によって式（１０）のように離散関数として求められる。

ここで、式（１０）中のｊは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｋは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。また、Δｆ_ｘ及びΔｆ_ｙはそれぞれ、ｘ方向及びｙ方向の周波数間隔であり、式（１１）及び式（１２）により定義される。

二次元パワースペクトルＨ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、式（１０）により求められた離散関数Ψ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の絶対値を二乗することによって式（１３）に示すように求められる。

離散関数として得られた二次元パワースペクトルＨ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）も防眩フィルムが有する表面凹凸形状の標高から計算される複素振幅の空間周波数分布を表している。また、防眩フィルムは等方的であるため、複素振幅の二次元パワースペクトルを表す二次元離散関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）も原点（０，０）からの距離ｆのみに依存する一次元離散関数Ｈ（ｆ）で表すことができる。二次元離散関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）から一次元離散関数Ｈ（ｆ）を求める場合も式（９）と同様に回転平均を計算すればよい。二次元離散関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の離散的な回転平均は式（１４）により計算できる。前記パワースペクトル算出方法は、この一次元離散関数Ｈ（ｆ）から表される一次元パワースペクトルを算出するものである。

ここで、Ｍ≧Ｎの場合、ｌは０以上Ｎ／２以下の整数であり、Ｍ＜Ｎの場合、ｌは０以上Ｍ／２以下の整数である。Δｆは、原点からの距離の間隔であり、Δｆ＝（Δｆ_ｘ＋Δｆ_ｙ）／２とした。またΘ（ｘ）は、式（１５）で定義されるヘヴィサイド関数である。ｆ_ｊｋは、（ｊ，ｋ）における原点からの距離であり、式（１６）により計算される。

式（１４）に示す計算について図６を用いて説明する。関数Θ（ｆ_ｊｋ−（ｌ−１／２）Δｆ）は、ｆ_ｊｋが（ｌ−１／２）Δｆ未満のときは０で、（ｌ−１／２）Δｆ以上のときは１であり、関数Θ（ｆ_ｊｋ−（ｌ＋１／２）Δｆ）は、ｆ_ｊｋが（ｌ＋１／２）Δｆ未満のときは０で、（ｌ＋１／２）Δｆ以上のときは１であることから、式（１４）のΘ（ｆ_ｊｋ−（ｌ−１／２）Δｆ）−Θ（ｆ_ｊｋ−（ｌ＋１／２）Δｆ）は、ｆ_ｊｋが（ｌ−１／２）Δｆ以上（ｌ−１／２）Δｆ未満のときのみ１となり、それ以外の場合には０となる。ここでｆ_ｊｋは周波数空間において、原点Ｏ（ｆ_ｘ＝０，ｆ_ｙ＝０）からの距離であるため、式（１４）の分母は原点Ｏからの距離ｆ_ｊｋが、（ｌ−１／２）Δｆ以上（ｌ＋１／２）Δｆ未満に位置する全ての点（図６中の黒丸の点）の個数を計算していることとなる。また、式（１４）の分子は原点Ｏからの距離ｆ_ｊｋが、（ｌ−１／２）Δｆ以上（ｌ＋１／２）Δｆ未満に位置する全ての点のＨ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の合計値（図６中の黒丸の点におけるＨ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の合計値）を計算していることとなる。

一般的に、前記した方法によって求められる一次元パワースペクトルは、測定における雑音を含んでいる。ここで一次元パワースペクトルを求めるのに際して、この雑音の影響を除くためには、防眩フィルム上の複数箇所の表面凹凸形状の標高を測定し、それぞれの表面凹凸形状の標高から求められる一次元パワースペクトルの平均値を一次元パワースペクトルＨ（ｆ）として用いることが好ましい。防眩フィルム上の表面凹凸形状の標高を測定する箇所の数は３箇所以上が好ましく、より好ましくは５箇所以上である。

図７に、このようにして得られた表面凹凸形状の標高から計算される複素振幅の一次元パワースペクトルのＨ（ｆ）を示す。図７の一次元パワースペクトルＨ（ｆ）は、防眩フィルム上の５箇所の異なる箇所の表面凹凸形状の標高から求められた一次元パワースペクトルを平均したものである。

本発明の防眩フィルムは、表面凹凸形状の標高から計算される複素振幅の一次元パワースペクトルＨ（ｆ）の空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Ｈ（０．００２）と空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Ｈ（０．０１）との比Ｈ（０．０１）／Ｈ（０．００２）が０．０２以上０．６以下であり、強度Ｈ（０．００２）と空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Ｈ（０．０２）との比Ｈ（０．０２）／Ｈ（０．００２）が０．００５以上０．０５以下であり、強度Ｈ（０．００２）と空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Ｈ（０．０４）との比Ｈ（０．０４）／Ｈ（０．００２）が０．０００５以上０．０１以下であることを特徴とする。ここで一次元パワースペクトルＨ（ｆ）は、離散関数として得られるため、特定の空間周波数ｆ_１における強度Ｈ（ｆ_１）を求めるには、式（１７）に示すように内挿して計算すればよい。

本発明の防眩フィルムは、前記の特定空間周波数における強度比をそれぞれ所定の範囲にすることで、後述のヘイズ及び反射率比との相乗効果により、白ちゃけ及びギラツキの発生を良好に防止しつつ、優れた防眩性を発現する。かかる効果をより有効に発現するためには、比Ｈ（０．０１）／Ｈ（０．００２）は、０．０２以上０．６以下が好ましく、０．０３以上０．３以下がさらに好ましい。同様に、比Ｈ（０．０２）／Ｈ（０．００２）は、０．００５以上０．０５以下が好ましく、０．００７以上０．０４以下がさらに好ましく、また比Ｈ（０．０４）／Ｈ（０．００２）は、０．０００５以上０．０１以下が好ましく、０．００１以上０．００５以下がさらに好ましい。

比Ｈ（０．０１）／Ｈ（０．００２）が前記範囲を下回る場合には、斜め（３０°以上）から防眩フィルムを観察したときの防眩効果に寄与する１００μｍ程度（空間周波数で０．０１μｍ^−１に相当）の周期の光学的な変動が小さくなり、防眩性が不十分となる。比Ｈ（０．０１）／Ｈ（０．００２）が前記範囲を上回る場合には、１００μｍ程度の周期の光学的な変動が大きくなりすぎ、防眩フィルムの表面凹凸形状が粗くなって、ヘイズが上昇する傾向があるため好ましくない。

比Ｈ（０．０２）／Ｈ（０．００２）が前記範囲を下回る場合には、斜め（１０°〜３０°）から防眩フィルムを観察したときの防眩効果に寄与する５０μｍ程度（空間周波数で０．０２μｍ^−１に相当）の周期の光学的な変動が小さくなり、防眩性が不十分となる。比Ｈ（０．０２）／Ｈ（０．００２）が前記範囲を上回る場合には、５０μｍ程度の周期の光学的な変動が大きくなりすぎ、ギラツキが発生することとなる。

比Ｈ（０．０４）／Ｈ（０．００２）が前記範囲を下回る場合には、正面（０°〜１０°）から防眩フィルムを観察したときの防眩効果に寄与する２５μｍ程度（空間周波数で０．０４μｍ^−１に相当）の周期の光学的な変動が小さくなり、防眩性が不十分となる。比Ｈ（０．０４）／Ｈ（０．００２）が前記範囲を上回る場合には、２５μｍ程度の短周期の光学的な変動による散乱が強くなり、白ちゃけが発生しやすくなる。

［全ヘイズ、表面ヘイズ］
本発明の防眩フィルムは、防眩性を発現し、白ちゃけを防止するために、垂直入射光に対する全ヘイズが０．１％以上３％以下の範囲であり、表面ヘイズが０．１％以上２％以下の範囲のものである。防眩フィルムの全ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１３６に示される方法に準拠した方法により測定することができる。全ヘイズ又は表面ヘイズが０．１％を下回る防眩フィルムを配置した画像表示装置は、十分な防眩性を発現しないため、好ましくない。また、全ヘイズが３％を上回る場合、又は表面ヘイズが２％を上回る場合の防眩フィルムは、当該防眩フィルムを配置した画像表示装置が、白ちゃけを発生するものとなるため、好ましくない。かかる画像表示装置はまた、そのコントラストも不十分になるといった不都合もある。

全ヘイズから表面ヘイズを差し引いて求められる内部ヘイズは低いほど好ましい。当該内部ヘイズが２．５％を上回る防眩フィルムを配置した画像表示装置は、そのコントラストが低下する傾向がある。

［透過鮮明度Ｔｃ、反射鮮明度Ｒｃ（４５）、及び反射鮮明度Ｒｃ（６０）］
本発明の防眩フィルムは、下記する測定条件で求められる透過鮮明度の和Ｔｃが３７５％以上であることが好ましい。透過鮮明度の和Ｔｃは、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠する方法により所定幅の光学くしを用いて像鮮明度をそれぞれ測定し、その合計を求めることで算出される。具体的には、暗部と明部の幅の比が１：１で、その幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである５種類の光学くしを用いて像鮮明度をそれぞれ測定し、その合計を求めて、Ｔｃとする。Ｔｃが３７５％を下回る防眩フィルムは、より高精細な画像表示装置に配置した場合に、ギラツキが発生しやすくなることがある。Ｔｃの上限は、その最大値である５００％以下の範囲で選ばれるが、このＴｃが高すぎると、正面からの防眩性が低下しやすい画像表示装置が得られるため、例えば４５０％以下であることが好ましい。

本発明の防眩フィルムは、入射角４５°の入射光で測定される反射鮮明度Ｒｃ（４５）が１８０％以下であることが好ましい。反射鮮明度Ｒｃ（４５）は、前記Ｔｃと同様に、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠する方法で測定されるものであり、前記５種類の光学くしのうち、その幅が０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度をそれぞれ測定し、その合計を求めて、Ｒｃ（４５）とする。Ｒｃ（４５）が１８０％以下であると、かかる防眩フィルムを配置した画像表示装置は、正面及び斜めから観察したときの防眩性がより良好となるので、好ましい。Ｒｃ（４５）の下限は特に制限されないが、白ちゃけやギラツキの発生を良好に抑制するためには、例えば８０％以上であることが好ましい。

本発明の防眩フィルムは、入射角６０°の入射光で測定される反射鮮明度Ｒｃ（６０）が２４０％以下であることが好ましい。反射鮮明度Ｒｃ（６０）は、入射角を変更する以外は、反射鮮明度Ｒｃ（４５）と同じＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠する方法で測定される。Ｒｃ（６０）が２４０％以下であると、その防眩フィルムを配置した画像表示装置は、斜めから観察したときの防眩性がより良好となるので、好ましい。Ｒｃ（６０）の下限は特に制限されないが、白ちゃけやギラツキの発生をより良好に抑制するためには、例えば１５０％以上であることが好ましい。

［防眩フィルムの製造方法］
本発明の防眩フィルムは、例えば以下のようにして製造される。第１の方法は、所定のパターンに基づいた表面凹凸形状が、成形表面に形成された微細凹凸形成用金型を準備し、当該金型の凹凸面の形状を透明支持体に転写した後、凹凸面の形状が転写された透明支持体を金型から剥がすという方法である。第２の方法は、微粒子、樹脂（バインダー）及び溶剤を含み、かかる微粒子が樹脂溶液に分散した組成物を準備し、当該組成物を透明支持体上に塗布し、必要に応じて乾燥することで形成した塗布膜（微粒子を含む塗布膜）を硬化するという方法である。第２の方法では、塗布膜厚や微粒子の凝集状態を、前記組成物の組成や前記塗布膜の乾燥条件等によって調整することで、微粒子を塗布膜の表面に露出させ、ランダムな凹凸を透明支持体上に形成する。防眩フィルムの生産安定性、生産再現性の観点からは、第１の方法により本発明の防眩フィルムを製造することが好ましい。

ここでは、本発明の防眩フィルムの製造方法として好ましい第１の方法について詳述する。

上述のような特性を有する表面凹凸形状の防眩層を精度よく形成するためには、準備する微細凹凸形成用金型（以下、「金型」と略記することがある）が重要である。より具体的には、金型が有する表面凹凸形状（以下、「金型凹凸表面」ということがある）が所定のパターンに基づいて形成されており、この所定パターンが、その一次元パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Γ（０．０１）との比Γ（０．０１）／Γ（０．００２）が１．５以上６以下であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Γ（０．０２）との比Γ（０．０２）／Γ（０．００２）が０．３以上５以下であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Γ（０．０４）との比Γ（０．０４）／Γ（０．００２）が３以上１３以下であると好ましい。ここで「パターン」とは、防眩フィルムが有する防眩層の表面凹凸形状を形成するための画像データや透光部と遮光部を有するマスクなどを意味するものであり、以下、「パターン」と略記することとする。

まずは、本発明の防眩フィルムが有する防眩層の表面凹凸形状を形成するためのパターンを定める方法について説明する。

パターンの二次元パワースペクトルの求め方を、例えば当該パターンが画像データである場合について示す。まず、当該画像データを２階調の二値化画像データに変換した後、その階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表す。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を下記式（１８）のようにフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、下記式（１９）に示すように、得られた二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の絶対値を二乗することによって、二次元パワースペクトルΓ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求める。ここで、ｘ及びｙは画像データ面内の直交座標を表す。また、ｆ_ｘ及びｆ_ｙはそれぞれ、ｘ方向及びｙ方向の周波数を表しており、長さの逆数の次元を持つ。

式（１８）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。

この二次元パワースペクトルΓ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）はパターンの空間周波数分布を表している。通常、防眩フィルムは等方的であることが求められるため、本発明の防眩フィルム製造用のパターンも等方的となる。そのため、パターンの二次元パワースペクトルを表す二次元関数Γ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、原点（０，０）からの距離ｆのみに依存する一次元関数Γ（ｆ）で表すことができる。次に、二次元関数Γ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）から一次元関数Γ（ｆ）を求める方法を説明する。まず、パターンの階調の二次元パワースペクトルである二次元関数Γ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を式（２０）のように極座標で表示する。

ここで、θはフーリエ空間中の偏角である。一次元関数Γ（ｆ）は極座標表示した二次元関数Γ（ｆｃｏｓθ，ｆｓｉｎθ）の回転平均を式（２１）のように計算することによって求めることができる。パターンの階調の二次元パワースペクトルである二次元関数Γ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の回転平均から求められる一次元関数Γ（ｆ）を、以下では一次元パワースペクトルΓ（ｆ）ともいう。

本発明の防眩フィルムを精度良く得るためには、パターンの一次元パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Γ（０．０１）との比Γ（０．０１）／Γ（０．００２）が１．５以上６以下であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Γ（０．０２）との比Γ（０．０２）／Γ（０．００２）が０．３以上５以下であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Γ（０．０４）との比Γ（０．０４）／Γ（０．００２）が３以上１３以下であることが好ましい。

パターンの二次元パワースペクトルを求める場合には、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は通常、離散関数として得られる。その場合は、離散フーリエ変換によって、二次元パワースペクトルを計算すればよい。パターンの一次元パワースペクトルは、パターンの二次元パワースペクトルから、同様にして求められる。

また、得られる表面凹凸形状を均一で連続的な曲面とするために、二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）の平均値は、二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）の最大値と、二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）の最小値との差の３０〜７０％であることが好ましい。金型凹凸表面をリソグラフィー法により製造する場合には、この二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）はパターンの開口率となる。金型凹凸表面をリソグラフィー法により製造する場合に関して、ここでいうパターンの開口率を定義しておく。リソグラフィー法に用いるレジストがポジレジストである場合の開口率は、当該ポジレジストの塗布膜に画像データを描画したとき、当該塗布膜の全表面領域に対する、露光される領域の割合を意味する。一方、リソグラフィー法に用いるレジストがネガレジストである場合の開口率は、当該ネガレジストの塗布膜に画像データを描画するとき、当該塗布膜の全表面領域に対する、露光されない領域の割合を意味する。リソグラフィー法が一括露光である場合の開口率は、透光部と遮光部を有するマスクの透光部の割合を意味する。

本発明の防眩フィルムは、パターンの一次元パワースペクトルの強度比Γ（０．０１）／Γ（０．００２）、Γ（０．０２）／Γ（０．００２）、及び、Γ（０．０４）／Γ（０．００２）のそれぞれを、前記の範囲として、所望の金型を製造し、当該金型を用いて前記第１の方法により製造することができる。

このような強度比を有する一次元パワースペクトルのパターンを作成するためには、ドットをランダムに配置して作成したパターンや乱数若しくは計算機によって生成された疑似乱数により濃淡を決定したランダムな明度分布を有するパターン（予備パターン）を予め作成し、当該予備パターンから特定の空間周波数範囲の成分を除去する。この特定の空間周波数範囲の成分除去には、前記予備パターンをバンドパスフィルターに通過させればよい。

所定パターンに基づいた表面凹凸形状が形成された防眩層を有する防眩フィルムを製造するため、当該所定パターンに基づいて形成された表面凹凸形状を透明支持体に転写するための金型凹凸表面を有する金型を製造する。かかる金型を用いる前記第１の方法は、防眩層を透明支持体上に作製することを特徴とするエンボス法である。

前記エンボス法としては、光硬化性樹脂を用いる光エンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法などが例示される。中でも、生産性の観点から、光エンボス法が好ましい。

光エンボス法は、透明支持体上（透明支持体の表面）に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の金型凹凸表面に押し付けながら硬化させることで、金型の金型凹凸表面の形状を、光硬化性樹脂層に転写するという方法である。具体的には、透明支持体上に光硬化性樹脂を塗布して形成した光硬化性樹脂層を、金型凹凸表面に密着させた状態で、透明支持体側から光（当該光は光硬化性樹脂が硬化し得るものを用いる）を照射して光硬化性樹脂（光硬化性樹脂層に含まれる光硬化性樹脂）を硬化させ、その後、硬化後の光硬化性樹脂層が形成された透明支持体を金型から剥離する。このような製造方法で得られる防眩フィルムは、硬化後の光硬化性樹脂層が防眩層となる。なお、製造の容易さからみれば、光硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂が好ましく、当該紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、照射する光は紫外線を用いる（光硬化性樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いるエンボス法を以下、「ＵＶエンボス法」という）。偏光フィルムと一体化した防眩フィルムを製造するためには、透明支持体として偏光フィルムを用い、ここで説明したエンボス法において透明支持体を偏光フィルムに置き換えて実施すればよい。

ＵＶエンボス法に用いる紫外線硬化性樹脂の種類は、特に限定されず、市販樹脂の中から、用いる透明支持体の種類や紫外線の種類に応じて適宜のものを用いることができる。かかる紫外線硬化性樹脂は、紫外線照射により光重合するモノマー（多官能モノマー）、オリゴマー及びポリマー、並びにそれらの混合物を含む概念である。また、紫外線硬化性樹脂の種類に応じて適宜、選択された光開始剤を組み合わせて用いることにより、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることもできる。この紫外線硬化性樹脂の好適例などの説明は後述する。

ＵＶエンボス法に用いる透明支持体としては、例えばガラスやプラスチックフィルムなどを用いることができる。プラスチックフィルムとしては適度の透明性、機械強度を有していれば使用可能である。具体的には、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等のセルロースアセテート系樹脂；アクリル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂などからなる透明樹脂フィルムが挙げられる。これらの透明樹脂フィルムは、溶剤キャストフィルムであっても、押出フィルムであってもよい。

透明支持体の厚みは、例えば１０〜５００μｍであり、好ましくは１０〜１００μｍであり、より好ましくは１０〜６０μｍである。透明支持体の厚みがこの範囲であると、十分な機械強度を有する防眩フィルムが得られる傾向があり、当該防眩フィルムを備えた画像表示装置が、より一層ギラツキを発生しにくいものとなる。

一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明樹脂フィルムを、加熱して軟化させた状態で金型凹凸表面に押し付け、当該金型凹凸表面の表面凹凸形状を透明樹脂フィルムに転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明樹脂フィルムも、実質的に光学的に透明なものであればいかなるものであってもよく、具体的には、ＵＶエンボス法に用いる透明樹脂フィルムとして例示したものを挙げることができる。

続いて、エンボス法に用いる金型を製造する方法について説明する。
金型の製造方法については、当該金型の成形面が、上述した所定パターンに基づいて形成された表面凹凸形状を透明支持体上に転写し得る（所定パターンに基づいて形成された表面凹凸形状の防眩層を形成し得る）金型凹凸表面となる範囲で、特に制限されないが、当該表面凹凸形状の防眩層を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、リソグラフィー法が好ましい。さらに、当該リソグラフィー法は、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕第１研磨工程と、〔３〕感光性樹脂膜形成工程と、〔４〕露光工程と、〔５〕現像工程と、〔６〕第１エッチング工程と、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔８〕第２エッチング工程と、〔９〕第２めっき工程と、〔１０〕第２研磨工程とを含むと好ましい。

図８は、金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図８は各工程での金型の断面を模式的に示している。以下、図８を参照しながら、本発明の防眩フィルム製造用の金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。

〔１〕第１めっき工程
まず、金型製造に用いる基材（金型用基材）を準備し、当該金型用基材の表面に、銅めっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきを施すことにより、後述の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を向上させることができる。銅めっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成することができる。そのため、このようにして銅めっきを金型用基材表面に施すことで、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や鬆に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消される。したがって、所定パターンに基づいた表面凹凸形状（微細凹凸表面形状）を金型用基材成形面に作製したとしても、微小な凹凸や鬆等の下地（金型用基材）表面の影響によるずれを十分防止することができる。

第１めっき工程の銅めっきに用いられる銅としては、銅の純金属を用いても、銅を主成分とする合金（銅合金）を用いてもよい。したがって、銅めっきに用いられる「銅」は、銅及び銅合金を含む概念である。銅めっきは、電解めっきであっても、無電解めっきであってもよいが、第１めっき工程の銅めっきは、電解めっきを用いることが好ましい。さらに、第１めっき工程における好ましいめっき層は、銅めっき層からなるもののみならず、銅めっき層と、銅以外の金属からなるめっき層とが積層されたものであってもよい。

金型用基材の表面上に銅めっきを施して形成されるめっき層は余り薄いと、下地表面の影響（微小な凹凸や鬆、クラック等）が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であることが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどを考慮した場合には、５００μｍ程度以下であると好ましい。

金型用基材は金属材料からなる基材が好ましい。さらに、コストの観点からは当該金属材料の材質としては、アルミニウム、鉄などが好ましい。さらに金型用基材の取扱いの利便性からみれば、軽量なアルミニウムからなる基材が金型用基材として特に好ましい。なお、ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属である必要はなく、アルミニウム又は鉄を主成分とする合金であってもよい。

金型用基材の形状は、本発明の防眩フィルムの製造方法に応じて適宜の形状のものであればよい。具体的には、平板状基材、円柱状基材又は円筒状（ロール形状）基材などから選択される。本発明の防眩フィルムを連続的に製造する場合には、金型はロール形状であると好ましい。このような金型はロール形状の金型用基材から製造される。

〔２〕第１研磨工程
続く第１研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきが施された金型用基材の表面（めっき層）を研磨する。本発明の防眩フィルムの製造方法に用いる金型の製造方法では、当該第１研磨工程を経て、金型用基材表面を、鏡面に近い状態にまで研磨することが好ましい。金型用基材として用いる平板状基材やロール形状基材の市販品は、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより金型用基材表面には微細な加工目が残っている。そのため、第１めっき工程によりめっき（好ましくは、銅めっき）層を形成したとしても、前記加工目が残ることがある。また、第１めっき工程におけるめっきを施したとしても、金型用基材の表面が完全に平滑になるとは限らない。すなわち、このような深い加工目などが残った表面がある金型用基材に対して、後述する〔３〕〜〔１０〕の工程を施したとしても、得られる金型表面の表面凹凸形状が所定パターンに基づく表面凹凸形状とは異なることがあったり、加工目などに由来する凹凸が含まれることがあったりする。加工目などの影響が残っている金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、目的とする防眩性などの光学特性が十分発現できず、予期できない影響を及ぼすおそれがある。

第１研磨工程において適用する研磨方法は特に制限されるものではなく、研磨対象となる金型用基材の形状・性状に応じた研磨方法が選択される。第１研磨工程に適用できる研磨方法を具体的に例示すると、機械研磨法、電解研磨法及び化学研磨法などが挙げられる。これらのうち、機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などのいずれも使用できる。また、研磨工程において切削工具を用いて鏡面切削することによって、金型用基材の表面を鏡面としてもよい。この場合の切削工具の材質・形状は金型用基材の材質（金属材料）の種類に応じて、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することができるが、加工精度の観点からはダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠した中心線平均粗さＲａで表して、０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的に得られる金型の金型凹凸表面に、かかる表面粗度の影響が残るおそれがある。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されない。したがって、第１研磨工程における加工時間（研磨時間）や加工コストの観点から、下限を定めればよい。

〔３〕感光性樹脂膜形成工程
続いて、感光性樹脂膜形成工程を、図８を参照して説明する。
感光性樹脂膜形成工程では、上述した第１研磨工程によって得られた鏡面研磨を施した金型用基材４０の表面４１に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液（感光性樹脂溶液）を塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜（レジスト膜）を形成する。図８では、金型用基材４０の表面４１に感光性樹脂膜５０が形成された状態を模式的に示している（図８（ｂ））。

感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができるし、すでにレジストとして市販されているものをそのまま、又は必要に応じてろ過等で精製してから用いることもできる。例えば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては、分子中にアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などを用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としてはフェノール樹脂系やノボラック樹脂系などを用いることができる。このようなポジ型又はネガ型の感光性樹脂は、ポジレジストやネガレジストとして市場から容易に入手することもできる。また、感光性樹脂溶液は、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤などの各種添加剤が配合されていてもよく、このような添加剤を市販のレジストに混合したものを感光性樹脂溶液として用いることもできる。

これらの感光性樹脂溶液を金型用基材４０の表面４１に塗布するためには、より平滑な感光性樹脂膜を形成するうえで最適な溶剤を選択し、かかる溶剤に感光性樹脂を溶解・希釈して得られる感光性樹脂溶液を用いると好ましい。このような溶剤は感光性樹脂の種類及びその溶解性によって選択される。具体的には、例えば、セロソルブ系溶剤、プロピレングリコール系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、高極性溶剤などから選択される。市販のレジストを用いる場合、当該レジストに含まれる溶剤の種類に応じて、又は、適当な予備実験を行って、最適なレジストを選択し、感光性樹脂溶液として用いてもよい。

金型用基材の鏡面研磨された表面に感光性樹脂溶液を塗布する方法は、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、リングコートなどの公知の方法のなかから、当該金型用基材の形状などに応じて選択される。塗布後の感光性樹脂膜の厚さは、乾燥後の厚さで１〜１０μｍの範囲とすることが好ましく、６〜９μｍの範囲とすることがより好ましい。

〔４〕露光工程
続く露光工程は、目的とするパターンを、上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜５０を露光することで、当該感光性樹脂膜５０に転写する工程である。露光工程に用いる光源は、感光性樹脂膜に含まれる感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、例えば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、ｈ線（波長：４０５ｎｍ）、又はｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマレーザ（波長：１５７ｎｍ）などを用いることができる。露光方式は、目的とするパターンに対応したマスクを用いて一括露光する方式でもよいし、描画方式でもよい。なお、目的とするパターンとはすでに説明したとおり、一次元パワースペクトルの空間周波数の強度比Γ（０．０１）／Γ（０．００２）、Γ（０．０２）／Γ（０．００２）、及びΓ（０．０４）／Γ（０．００２）をそれぞれ所定の好ましい範囲とする。

金型の製造方法において、当該金型の表面凹凸形状をより精度良く形成するためには、目的とするパターンを感光性樹脂膜上に、精密に制御された状態で露光することが好ましい。このような状態で露光するためには、コンピュータ上で目的のパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって感光性樹脂膜上に描画（レーザ描画）することが好ましい。レーザ描画を行うに際しては、例えば印刷版作製などで汎用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置の市販品としては、例えば、Ｌａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。

図８（ｃ）は、感光性樹脂膜５０にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜５０にネガ型の感光性樹脂が含まれる場合（例えば、感光性樹脂溶液としてネガレジストを用いた場合）には、露光された領域５１は、露光エネルギーを受けて感光性樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域５２が現像液によって溶解され、露光された領域５１のみ基材表面上に残り、マスク６０となる。一方、感光性樹脂膜５０にポジ型の感光性樹脂が含まれる場合（例えば、感光性樹脂溶液としてポジレジストを用いた場合）には、露光された領域５１では、露光エネルギーを受けて、感光性樹脂の結合が切断されるなどにより、後述する現像液に溶解されやすくなる。よって、現像工程において露光された領域５１が現像液によって溶解され、露光されていない領域５２のみ基材表面上に残り、マスク６０となる。

〔５〕現像工程
現像工程においては、感光性樹脂膜５０にネガ型の感光性樹脂が含まれる場合には、露光されていない領域５２は現像液によって溶解され、露光された領域５１が金型用基材上に残存しマスク６０となる。一方、感光性樹脂膜５０にポジ型の感光性樹脂が含まれる場合には、露光された領域５１のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域５２が、金型用基材上に残存しマスク６０となる。所定のパターンを感光性樹脂膜として形成せしめた金型用基材は、第１エッチング工程において、金型用基材上に残存する感光性樹脂膜が、後述の第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。

現像工程に用いる現像液については従来公知のもののなかから、用いた感光性樹脂の種類に応じて適切なものを選択することができる。例えば、当該現像液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水の如き無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミンの如き第一アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンの如き第二アミン類；トリエチルアミン、メチルジエチルアミンの如き第三アミン類；ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンの如きアルコールアミン類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドの如き第四級アンモニウム化合物；ピロール、ピヘリジンの如き環状アミン類などが溶解されているアルカリ性水溶液；キシレン、トルエンの如き有機溶剤などが挙げられる。

現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などを用いることができる。

図８（ｄ）には、感光性樹脂としてネガ型のものを用い、現像工程を行った後の状態を模式的に示している。図８（ｄ）において露光されていない領域５２が現像液によって溶解され、露光された領域５１のみ基材表面上に残り、この領域の感光性樹脂膜がマスク６０となる。図８（ｅ）には、感光性樹脂としてポジ型のものを用い、現像工程を行った後の状態を模式的に示している。図８（ｅ）において露光された領域５１が現像液によって溶解され、露光されていない領域５２のみ基材表面上に残り、この領域の感光性樹脂膜がマスク６０となる。

〔６〕第１エッチング工程
第１エッチング工程は、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用い、金型用基材表面のうち、主にマスクのない領域にあるめっき層をエッチングする工程である。

図９は、金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図９（ａ）には、エッチング工程によって、主にマスクのない領域のめっき層がエッチングされた後の状態を模式的に示している。マスク６０の下部のめっき層は感光性樹脂膜がマスク６０として働くことでエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクのない領域４５からのエッチングが進行する。よって、マスク６０のある領域と、マスクのない領域４５の境界付近では、マスク６０の下部にあるめっき層もエッチングされることになる。このように、マスク６０のある領域と、マスクのない領域４５の境界付近において、マスク６０の下部のめっき層もエッチングされることをサイドエッチングと呼ぶ。

第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ_３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ_２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２）などのエッチング液を用いて、金型用基材表面のうち、主としてマスク６０のない領域のめっき層（金属表面）を腐食させることによって行われる。当該エッチング処理としては、塩酸や硫酸などの強酸をエッチング液として用いることもできるし、当該めっき層を電解めっきにより形成した場合には、電解めっきの時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いてエッチング処理することもできる。エッチング処理を施した際の金型用基材に形成される表面凹凸形状は、金型用基材の構成材料（金属材料）又はめっき層の種類、感光性樹脂膜の種類及び、エッチング工程におけるエッチング処理の種類などによって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に接触する金型用基材表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られるめっき層の厚みである。

第１エッチング工程におけるエッチング量は好ましくは１〜２０μｍであり、より好ましくは３〜１０μｍであり、さらに好ましくは５〜８μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、金型に表面凹凸形状がほとんど形成されず、ほぼ平坦な表面を有するものとなるため、当該金型を用いて防眩フィルムを製造しても、かかる防眩フィルムは表面凹凸形状をほとんど有さないものとなる。このような防眩フィルムを配置した画像表示装置では、十分な防眩性を示さなくなってしまう。また、エッチング量が大きすぎる場合には、最終的に得られる金型凹凸表面が、凹凸の高低差が大きいものとなりやすい。当該金型を用いて防眩フィルムを製造しても、当該防眩フィルムを備えた画像表示装置では、白ちゃけの発生を十分防止できないことがある。エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜２０μｍであることが好ましい。

〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスク６０として作用し、金型用基材上に残存した感光性樹脂膜を除去する工程であり、当該工程により、金型用基材上に残存した感光性樹脂膜を完全に除去することが好ましい。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解することが好ましい。剥離液としては、現像液として例示したものを、その濃度やｐＨなどを変更することで調製したものを用いることができる。又は、現像工程で用いた現像液と同じものを用い、現像工程とは、温度や浸漬時間などを変えることで感光性樹脂膜を剥離することもできる。感光性樹脂膜剥離工程において、剥離液と金型用基材との接触方法（剥離方法）については特に制限されず、浸漬剥離、スプレー剥離、ブラシ剥離、超音波剥離などを用いることができる。

図９（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスク６０として使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜によるマスク６０と、エッチング処理とによって、第１の表面凹凸形状４６が金型用基材表面に形成される。

〔８〕第２エッチング工程
第２エッチング工程では、第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状４６を、さらなるエッチング処理（第２エッチング処理）によって鈍らせるための工程である。この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状４６において、表面傾斜が急峻な部分がなくなる（以下、このように表面凹凸形状のなかで、表面傾斜が急峻な部分を鈍らせることを「形状鈍化」という）。図９（ｃ）には、第２エッチング処理によって、金型用基材４０の第１の表面凹凸形状４６を形状鈍化させることで、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状４７が形成された状態が示されている。このようにして第２エッチング処理を行って得られる金型は、当該金型を用いて製造される本発明の防眩フィルムの光学特性がより好ましくなるという効果がある。

第２エッチング工程の第２エッチング処理も、第１エッチング工程と同様のエッチング液を用いるエッチング処理や逆電解エッチングを用いることができる。第２エッチング処理後の形状鈍化の度合い（第１エッチング工程後の表面凹凸形状における表面傾斜が急峻な部分の消失度合い）は、金型用基材の材質、第２エッチング処理の手段、及び第１エッチング工程により得られた表面凹凸形状にある凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合（形状鈍化の度合い）を制御する上で最も大きな因子は、第２エッチング処理におけるエッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程の場合と同様に、第２エッチング処理により削られる基材の厚みで表す。第２エッチング処理のエッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた表面凹凸形状の形状鈍化に関する効果が不十分となる。したがって、形状鈍化が不十分な金型を用いて製造される防眩フィルムは、表面凹凸形状の傾斜角度の平均値及び標準偏差が、本発明の要件を上回りやすくなり、結果として白ちゃけが発生することがある。一方で、第２エッチング処理におけるエッチング量が大きすぎると、第１エッチング工程により形成された表面凹凸形状の凹凸がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な表面を有する金型となってしまうことがある。このようなほぼ平坦な表面を有する金型を用いて製造される防眩フィルムは、表面凹凸形状の傾斜角度の平均値及び標準偏差が、本発明の要件を下回りやすくなり、結果として防眩性が不十分となることがある。そこで、第２エッチング処理のエッチング量は１〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、４〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、９〜１２μｍの範囲内であることがさらに好ましい。第２エッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。

〔９〕第２めっき工程
第２めっき工程では、前記〔６〕及び〔７〕の工程を経た金型用基材、好ましくは前記〔６〕〜〔８〕の工程を経た金型用基材の表面にめっき（好ましくは、後述のクロムめっき）を施す。第２めっき工程を行うことにより、金型用基材の表面凹凸形状４７を鈍らせるとともに、当該めっきによって金型表面を保護することができる。図９（ｄ）には、上述したように第２エッチング処理によって形成された第２の表面凹凸形状４７上にクロムめっき層７１を形成することで、表面凹凸形状が形状鈍化（金型凹凸表面７０）した状態を示している。

第２めっき工程により形成するめっき層としては、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るという点でクロムめっきが好ましい。クロムめっきのなかでも、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきが特に好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われるが、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ_３）と少量の硫酸を含む水溶液がめっき液として用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっき層の厚みを制御することができる。

第２エッチング処理後の金型用基材表面にある表面凹凸形状に、クロムめっきを施すことにより、形状鈍化ができるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られる。この場合の形状鈍化の度合いを制御するうえで最も大きな因子は、クロムめっき層の厚みである。当該厚みが薄いと、形状鈍化の度合いが不十分となり、このような金型を用いて得られる防眩フィルムは、白ちゃけが発生することがある。一方、クロムめっき層の厚みが厚すぎると、防眩性が不十分となる。本発明者らは、白ちゃけの発生を十分防止し、優れた防眩性を有する画像表示装置の得るための防眩フィルムは、クロムめっき層の厚みが所定の範囲となるように金型を製造することが有効であることを見出している。すなわち、クロムめっき層の厚みは２〜１０μｍの範囲内であると好ましく、５〜１０μｍの範囲内であるとより好ましい。

第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型を使用して防眩フィルムを製造する際、当該金型の耐久性が低下する傾向がある。

〔１０〕第２研磨工程
金型製造の最後の段階は、上述した第２めっき工程にてクロムめっきが施された金型用基材の表面（クロムめっき層）を研磨する第２研磨工程である。クロムめっきは光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を有するが、クロムめっき層を形成する際の高い内部応力のために表面にマイクロクラックが生じる。本発明の防眩フィルムの製造方法に用いる金型の製造方法では、当該第２研磨工程を経て、クロムめっきのマイクロクラックによるわずかな表面形状の荒れを解消することが好ましい。クロムめっきのマイクロクラックによる表面形状の荒れが残っている金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、表面での散乱が強くなり白ちゃけが発生する虞がある。また、マイクロクラックの発生密度に分布がある場合には、当該金型を用いて製造された防眩フィルムに散乱が強い箇所と弱い箇所が発生し、ムラが発生することがある。

第２研磨工程において適用する研磨方法は、第２めっき工程にて形成された金型凹凸表面７０に影響を略影響を与えず、マイクロクラックによる表面形状の荒れのみを選択的に研磨する方法が好ましい。このような研磨方法を具体的に例示すると、ラッピング、流体研磨法、ブラスト研磨法などが挙げられる。第２研磨工程においてクロムめっき層が削られる量である研磨量は０．０３μｍ以上０．２μｍ以下であることが好ましい。研磨量が０．０３μｍを下回る場合にはマイクロクラックによる表面形状の荒れを解消する効果が不十分となる。一方、研磨量が０．２μｍを上回る場合には、金型凹凸表面７０に平坦な領域が発生することとなる。平坦な領域が発生した金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、防眩性が不十分となる虞がある。

以下では、本発明の防眩フィルムを製造するための方法として好ましい前記光エンボス法について説明する。すでに述べたとおり、ＵＶエンボス法が光エンボス法として特に好ましいが、ここでは活性エネルギー線硬化性樹脂を用いるエンボス法について具体的に説明する。

本発明の防眩フィルムを連続的に製造するために、本発明の防眩フィルムを光エンボス法によって製造する場合は、下記工程：
〔Ｐ１〕連続して搬送される透明支持体上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程、
〔Ｐ２〕塗工層の表面に、金型の表面を押し当てた状態で、透明支持体側から活性エネルギー線を照射する本硬化工程、
を含むことが好ましい。

また、本発明の防眩フィルムを光エンボス法によって製造する場合は、
〔Ｐ３〕塗工工程〔Ｐ１〕の後であって、硬化工程〔Ｐ２〕の前に、塗工層の幅方向の両方の端部領域に活性エネルギー線を照射する予備硬化工程を含むことがより好ましい。

以下、図面を参照しながら、各工程について詳細に説明する。図１０は、本発明の防眩フィルムの製造方法に用いられる製造装置の好ましい一例を模式的に示す図である。図１０中の矢印は、フィルムの搬送方向又はロールの回転方向を示す。

〔Ｐ１〕塗工工程
塗布工程では、透明支持体上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する。塗工工程は、例えば図１０に示されるように、送り出しロール８０から繰り出される透明支持体８１に対し、塗工ゾーン８３で活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含有する塗工液が塗布される。

塗工液の透明支持体８１上への塗工は、例えば、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ロッドコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、キスコート法、ダイコート法などによって行うことができる。

（透明支持体）
透明支持体８１は透光性のものであればよく、例えばガラスやプラスチックフィルムなどを用いることができる。プラスチックフィルムとしては適度の透明性、機械強度を有していればよい。具体的には、すでにＵＶエンボス法に用いる透明支持体として例示したものがいずれも使用可能であり、さらに光エンボス法により連続的に本発明の防眩フィルムを製造するために、適度な可とう性を有するものが選択される。

塗工液の塗工性の改良、透明支持体と塗工層との接着性の改良を目的として、透明支持体８１の表面（塗工層側表面）には、各種表面処理を施してもよい。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、酸表面処理、アルカリ表面処理、紫外線照射処理などが挙げられる。また、透明支持体８１上に、例えばプライマー層等の他の層を形成し、この他の層の上に、塗工液を塗工するようにしてもよい。

また、本発明の防眩フィルムとして、偏光フィルムと一体化したものを製造する場合には、透明支持体と偏光フィルムとの接着性を向上させるために、透明支持体の表面（塗工層とは反対側の表面）を各種表面処理によって親水化しておくことが好ましい。この表面処理は、防眩フィルムの製造後に行ってもよい。

（塗工液）
塗工液は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有し、通常は、光重合開始剤（ラジカル重合開始剤）をさらに含む。必要に応じて、透光性微粒子、有機溶剤等の溶剤、レベリング剤、分散剤、帯電防止剤、防汚剤、界面活性剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。

（１）活性エネルギー線硬化性樹脂
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、例えば、多官能（メタ）アクリレート化合物を含有するものを好ましく用いることができる。多官能（メタ）アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物である。多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。

多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２′−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールのような２価のアルコール；トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンのような３価以上のアルコールが挙げられる。

多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物として、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。

ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、１分子中に複数個のイソシアネート基を有するイソシアネートと、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体のウレタン化反応物を挙げることができる。１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の１分子中に２個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性した１分子中に３個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。

ポリエステル（メタ）アクリレート化合物として好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレートである。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールとしては前述した化合物と同様のものが例示できる。また、多価アルコール以外にも、フェノール類としてビスフェノールＡ等が挙げられる。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸、安息香酸等が挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、トリメリット酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。

以上のような多官能（メタ）アクリレート化合物の中でも、その硬化物の強度向上や入手の容易性の点から、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のエステル化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；トリレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；アダクト変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；及びビウレット変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの付加体が好ましい。さらに、これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、それぞれ単独で、又は２種以上を併用することができる。

活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記の多官能（メタ）アクリレート化合物のほかに、単官能（メタ）アクリレート化合物を含有していてもよい。単官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アセチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類を挙げることができる。これらの化合物はそれぞれ単独で又は２種類以上を併用することができる。

また、活性エネルギー線硬化性樹脂は重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、硬化物の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーは、例えば、前記多官能（メタ）アクリレート化合物、すなわち、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物又はエポキシ（メタ）アクリレート等の２量体、３量体などのようなオリゴマーであることができる。

その他の重合性オリゴマーとしては、分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネートの重合物等が挙げられ、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであって、多価アルコールとして、例えば、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等であるものが挙げられる。この少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールは、多価アルコールのアルコール性水酸基の一部が（メタ）アクリル酸とエステル化反応しているとともに、アルコール性水酸基が分子中に残存するものである。

さらに、その他の重合性オリゴマーの例として、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物と、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、前記多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレートで記載したものと同様のものが例示できる。また、少なくとも１個の（メタ）アクリロイオキシ基を有する多価アルコールとしては、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。

以上のような重合性オリゴマーに加えて、さらにウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの例として、水酸基含有ポリエステル、水酸基含有ポリエーテル又は水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルの水酸基にイソシアネート類を反応させて得られる化合物が挙げられる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールや、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、それぞれ、多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレート化合物で記載したものと同様のものが例示できる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエーテルは、多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド及び／又はε−カプロラクトンを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルである。多価アルコールは、前記水酸基含有ポリエステルに使用できるものと同じものであってよい。好ましく用いられる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとしては、重合性オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。イソシアネート類としては、分子中に１個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ましく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの２価のイソシアネート化合物が特に好ましい。

これらの重合性オリゴマー化合物は、それぞれ単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（２）光重合開始剤
光重合開始剤は、本発明の防眩フィルム製造に適用する活性エネルギー線の種類に応じて適宜選択できる。また、活性エネルギー線として電子線を用いる場合には、光重合開始剤を含有しない塗工液を本発明の防眩フィルム製造に用いることもある。
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジアゾール系光重合開始剤などが用いられる。また、光重合開始剤として、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニル−１，２′−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等も用いることができる。光重合開始剤の使用量は、活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して、通常０．５〜２０重量部であり、好ましくは１〜５重量部である。

塗工液は、透明支持体に対する塗工性を改良するために、有機溶剤等の溶剤を含むこともある。有機溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテル類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類などから、粘度等を考慮して選択して用いることができる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。塗工後は、上記有機溶剤を蒸発させる必要がある。そのため、沸点は６０℃〜１６０℃の範囲であることが望ましい。また、２０℃における飽和蒸気圧は０．１ｋＰａ〜２０ｋＰａの範囲であることが好ましい。

塗工液が溶剤を含む場合、上記塗工工程の後、第１硬化工程の前に、溶剤を蒸発させて乾燥を行う乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は、例えば図１０に示される例のように、塗工層を備える透明支持体８１を、乾燥ゾーン８４内を通過させることによって行うことができる。乾燥温度は、使用する溶剤や透明支持体の種類により適宜選択される。一般に２０℃〜１２０℃の範囲であるが、これに限定されない。また、乾燥炉が複数ある場合は、乾燥炉毎に温度を変えてもよい。乾燥後の塗工層の厚みは、１〜３０μｍであることが好ましい。

かくして、透明支持体と塗工層とが積層した積層体が形成される。

〔Ｐ２〕硬化工程
本工程は、塗工層の表面に、所望の表面凹凸形状を有する金型凹凸表面（成形面）を押し当てた状態で、透明支持体側から活性エネルギー線を照射し、塗工層を硬化させることにより、透明支持体上に硬化された樹脂層を形成する工程である。これにより、塗工層が硬化されるとともに、金型凹凸表面の表面凹凸形状が塗工層表面に転写される。ここで用いる金型はロール形状のものであり、すでに説明した金型製造方法においてロール形状の金型用基材を用いることで製造されたものである。

本工程は、例えば図１０に示されるように、例えば、塗工ゾーン８３（乾燥を行う場合には、乾燥ゾーン８４、後述する予備硬化工程を行う場合にはさらに活性エネルギー線照射装置８６による照射がなされる予備硬化ゾーン）を通過した塗工層を有する積層体に対して、透明支持体８１側に配置された紫外線照射装置等の活性エネルギー線照射装置８６を用いて、活性エネルギー線を照射することにより行うことができる。

まず、硬化工程を経た積層体の塗工層の表面に、ニップロール８８等の圧着装置を用いて、ロール形状の金型８７を押し当て、この状態で活性エネルギー線照射装置８６を用いて、透明支持体８１側から活性エネルギー線を照射して塗工層８２を硬化させる。ここで、「塗工層を硬化させる」とは、当該塗工層に含まれる活性エネルギー線硬化性樹脂が活性エネルギー線のエネルギーを受けて硬化反応を生じさせることをいう。ニップロールの使用は、積層体の塗工層と金型との間への気泡の混入を防止するうえで有効である。活性エネルギー線照射装置は、１機若しくは複数機を使用することができる。

活性エネルギー線の照射後、積層体は、出口側のニップロール８９を支点として金型８７から剥離される。得られた透明支持体と硬化した塗工層は、当該硬化した塗工層が防眩層となって本発明の防眩フィルムが得られる。得られた防眩フィルムは通常、フィルム巻き取り装置９０によって巻き取られる。この際、防眩層を保護する目的で、再剥離性を有した粘着剤層を介して、防眩層表面にポリエチレンテレフタレートやポリエチレン等からなる保護フィルムを貼着しながら巻き取ってもよい。なお、ここでは用いる金型はロール形状のものの場合を説明したが、ロール形状以外の金型を用いることもできる。また、金型から剥離された後に、追加の活性エネルギー線照射を行ってもよい。

本工程で用いる活性エネルギー線としては、塗工液に含まれる活性エネルギー線硬化性樹脂の種類に応じて紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、これらの中で紫外線及び電子線が好ましく、取り扱いが簡便で高エネルギーが得られることから紫外線が特に好ましい（上述のとおり、光エンボス法としては、ＵＶエンボス法が好ましい）。

紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、無電極ランプ、メタルハライドランプ、キセノンアークランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。これらの中でも、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、無電極ランプ、キセノンアークランプ、メタルハライドランプが好ましく用いられる。

また、電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。

活性エネルギー線が紫外線である場合、紫外線のＵＶＡにおける積算光量は、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ²以上３０００ｍＪ／ｃｍ²以下であり、より好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ²以上２０００ｍＪ／ｃｍ²以下である。また、透明支持体が短波長側の紫外線を吸収する場合もあるため、当該吸収を抑制する目的で可視光を含む波長領域の紫外線ＵＶＶ（３９５〜４４５ｎｍ）の積算光量が好ましくなるようにして照射量を調整することもある。かかるＵＶＶにおける積算光量は、１００ｍＪ／ｃｍ²以上３０００ｍＪ／ｃｍ²以下であることが好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ²以上２０００ｍＪ／ｃｍ²以下であることがより好ましい。積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ²未満である場合、塗工層の硬化が不十分となり、得られる防眩層の硬度が低くなったり、未硬化の樹脂がガイドロール等に付着し、工程汚染の原因となったりする傾向がある。また、積算光量が３０００ｍＪ／ｃｍ²を超える場合、紫外線照射装置から放射される熱により、透明支持体が収縮して皺の原因になることがある。

〔Ｐ３〕予備硬化工程
本工程は、前記硬化工程に先立って、塗工層の透明支持体の幅方向の両方の端部領域に活性エネルギー線を照射して、この両端部領域を予備硬化させる工程である。図１１は、予備硬化工程を模式的に示す断面図である。図１１において、塗工層の幅方向（搬送方向と直交する方向）の端部領域８２ｂは、塗工層の端部を含み端部から所定の幅の領域である。

予備硬化工程において、端部領域を予め硬化させておくことにより、端部領域において、透明支持体８１との密着性を一段と高めて、硬化工程後の工程で、硬化樹脂の一部が剥がれて落下し、工程が汚染されるのを防止することができる。端部領域８２ｂは、塗工層８２の端部から、例えば、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下の領域とすることができる。

塗工層の端部領域への活性エネルギー線の照射は、図１０及び図１１を参照して、例えば、塗工ゾーン８３（乾燥を行う場合には、乾燥ゾーン８４）を通過した塗工層８２を有する透明支持体８１に対して、塗工層８２側の両端部近傍にそれぞれ設置された紫外線照射装置等の活性エネルギー線照射装置８５を用いて、活性エネルギー線を照射することにより行うことができる。活性エネルギー線照射装置８５は、塗工層８２の端部領域８２ｂに活性エネルギー線を照射できるものであればよく、透明支持体８１側に設置されていてもよい。

活性エネルギー線の種類及び光源については本硬化工程と同様である。活性エネルギー線が紫外線である場合、紫外線のＵＶＡにおける積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ²以上４００ｍＪ／ｃｍ²以下であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ²以上４００ｍＪ／ｃｍ²以下であることがより好ましい。５０ｍＪ／ｃｍ²以上となるように照射することにより、本硬化工程にける変形をより効果的に防止することができる。なお、４００ｍＪ／ｃｍ²を超えると、硬化反応が過度に進行する結果、硬化部分と未硬化部分との境界において、膜厚差や内部応力の歪みに起因して樹脂剥がれが生じる場合がある。

［本発明の防眩フィルムの用途］
以上のようにして得られる本発明の防眩フィルムは画像表示装置などに用いられるものであり、通常、視認側偏光板の視認側保護フィルムとして偏光フィルムに貼合して用いられる（すなわち、画像表示装置の表面に配置される。）。また、すでに述べたとおり、透明支持体として偏光フィルムを用いた場合には、偏光フィルム一体型の防眩フィルムが得られるため、かかる偏光フィルム一体型の防眩フィルムを画像表示装置に用いることもできる。本発明の防眩フィルムを備えた画像表示装置は、広い観察角度において十分な防眩性を有し、さらに白ちゃけ及びギラツキの発生をともに良好に防止することができる。

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「％」及び「部」は、特記ない限り重量基準である。以下の例における金型又は防眩フィルムの評価方法は、次のとおりである。

〔１〕防眩フィルムの表面形状の測定
（表面凹凸形状の傾斜角度）
三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、防眩フィルムの表面の標高を測定した。測定サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用い、測定サンプルの防眩層とは反対側の面をガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定時の対物レンズの倍率は５０倍とした。水平分解能Δｘ及びΔｙはともに０．３３２μｍであり、測定面積は２５５μｍ×１９１μｍであった。得られた測定データをもとに、前述のアルゴリズムに基づいて計算し、表面凹凸形状の傾斜角度の平均値と標準偏差を計算した。

（表面凹凸形状の標高から計算される複素振幅のパワースペクトル）
三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、測定サンプルである防眩フィルムの防眩層の表面凹凸形状の標高を測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、測定サンプルの防眩層とは反対側の面をガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は１０倍として測定を行った。水平分解能Δｘ及びΔｙはともに１．６６μｍであり、測定面積は１２７０μｍ×９５０μｍであった。得られた測定データの中央部から５１２個×５１２個（測定面積で８５０μｍ×８５０μｍ）のデータをサンプリングし、防眩フィルムが有する表面凹凸形状（防眩層の表面凹凸形状）の標高を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）として求めた。次いで、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より複素振幅を二次元関数ψ（ｘ，ｙ）を計算した。複素振幅を計算する際の波長λは５５０ｎｍとした。この二次元関数ψ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ψ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求めた。二次元関数Ψ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の絶対値を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ（ｆ）を計算した。各サンプルにつき５箇所の表面凹凸形状について標高を測定し、それらのデータから計算される一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ（ｆ）の平均値を各サンプルの一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ（ｆ）とした。

〔２〕防眩フィルムの光学特性の測定
（ヘイズ）
防眩フィルムの全ヘイズは、防眩フィルムを光学的に透明な粘着剤を用い、測定サンプルの防眩層とは反対側の面をガラス基板に貼合し、該ガラス基板に貼合された防眩フィルムについて、ガラス基板側から光を入射させ、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠した方法により、（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」型を用いて、測定した。表面ヘイズは、防眩フィルムの内部ヘイズを求め、次式
表面ヘイズ＝全ヘイズ−内部ヘイズ
によって全ヘイズから内部ヘイズを差し引くことで求めた。内部ヘイズは、全ヘイズを測定した後の測定サンプルの防眩層面にヘイズがほぼ０のトリアセチルセルロースフィルムをグリセリンで貼り付けた後、全ヘイズと同様にして測定した。

（透過鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠した方法により、スガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの透過鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、測定サンプルの防眩層とは反対側の面をガラス基板に貼合してから、測定に供した。この状態でガラス基板側から光を入射させ、測定を行った。ここでの測定値は、暗部と明部の幅がそれぞれ０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである５種類の光学くしを用いて、それぞれ測定された値の合計値である。

（光の入射角４５°で測定される反射鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠した方法により、スガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、測定サンプルの防眩層とは反対側の面を黒色アクリル基板に貼合してから、測定に供した。この状態で防眩層面側から光を４５°で入射させ、測定を行った。ここでの測定値は、暗部と明部の幅がそれぞれ０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて、それぞれ測定された値の合計値である。

（光の入射角６０°で測定される反射鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠した方法により、スガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、測定サンプルの防眩層とは反対側の面を黒色アクリル基板に貼合してから、測定に供した。この状態で防眩層面側から光を６０°で入射させ、測定を行った。ここでの測定値は、暗部と明部の幅がそれぞれ０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて、それぞれ測定された値の合計値である。

〔３〕防眩フィルムの防眩性能の評価
（映り込み、白ちゃけの目視評価）
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、測定サンプルの防眩層とは反対側の面を黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で防眩層側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの程度、白ちゃけの程度を目視で評価した。映り込みに関しては、防眩フィルムを正面から観察したときの映り込みの程度と斜め３０°から観察したときの映り込みの程度をそれぞれ評価した。映り込み及び白ちゃけは、それぞれ１から３の３段階で次の基準により評価した。

映り込み １：映り込みが観察されない。
２：映り込みが少し観察される。
３：映り込みが明瞭に観察される。

白ちゃけ １：白ちゃけが観察されない。
２：白ちゃけが少し観察される。
３：白ちゃけが明瞭に観察される。

（ギラツキの評価）
ギラツキは次の手順で評価した。すなわち、まず図１２に平面図で示すようなユニットセルのパターンを有するフォトマスクを用意した。この図において、ユニットセル１００は、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターン１０１が形成され、そのクロム遮光パターン１０１の形成されていない部分が開口部１０２となっている。ここでは、ユニットセルの寸法が２１１μｍ×７０μｍ（図の縦×横）、したがって開口部の寸法が２０１μｍ×６０μｍ（図の縦×横）のものを用いた。図示するユニットセルが縦横に多数並んで、フォトマスクを形成する。

そして、図１３に模式的な断面図で示すように、フォトマスク１１３のクロム遮光パターン１１１を上にしてライトボックス１１５に置き、ガラス板１１７に粘着剤で防眩フィルム１１０をその防眩層が表面となるように貼合したサンプルをフォトマスク１１３上に置く。ライトボックス１１５の中には、光源１１６が配置されている。この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置１１９で目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した。レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル４はごくわずかにギラツキが観察される状態である。

（コントラストの評価）
市販の液晶テレビ〔ソニー（株）製の“KDL-32EX550”〕 から表裏両面の偏光板を剥離した。それらオリジナル偏光板の代わりに、背面側及び表示面側とも、住友化学（株）製の偏光板“スミカラン SRDB831E” を、それぞれの吸収軸がオリジナルの偏光板の吸収軸と一致するように粘着剤を介して貼合し、さらに表示面側偏光板の上には、以下の各例に示す防眩フィルムを凹凸面が表面となるように粘着剤を介して貼合した。こうして得られた液晶テレビを暗室内で起動し、（株）トプコン製の輝度計“BM5A”型を用いて、黒表示状態及び白表示状態における輝度を測定し、コントラストを算出した。ここでコントラストは、黒表示状態の輝度に対する白表示状態の輝度の比で表される。結果は防眩フィルムを貼合した状態で測定されたコントラストを、防眩フィルムを貼合しない状態で測定したコントラストの比で示した。

〔４〕防眩フィルム製造用のパターンの評価
作成したパターンデータを２階調の二値化画像データとし、階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能Δｘ及びΔｙはともに、２μｍとした。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して、二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求めた。二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の絶対値を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Γ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Γ（ｆ）を計算した。

＜実施例１＞
（防眩フィルム製造用の金型の作製）
直径３００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ６０６３）の表面に銅バラードめっきが施されたものを準備した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図１４に示すパターンＡを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、及び現像はＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。感光性樹脂膜としてはポジ型の感光性樹脂を含むものを使用した。ここで、パターンＡはランダムな明度分布を有するパターンから、複数のガウス関数型のバンドパスフィルターを通過させて作成したものであり、開口率は４５％であり、一次元パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Γ（０．０１）との比Γ（０．０１）／Γ（０．００２）は３．８であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Γ（０．０２）との比Γ（０．０２）／Γ（０．００２）は０．５であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Γ（０．０４）との比Γ（０．０４）／Γ（０．００２）は７．５である。

その後、塩化第二銅液で第１エッチング処理を行った。その際のエッチング量は５μｍとなるように設定した。第１エッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２エッチング処理を行った。その際のエッチング量は１０μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行った。このとき、クロムめっき厚みが６μｍとなるように設定した。クロムめっきが施されたロールを以下の条件でラッピング研磨し、金型Ａを作製した。

研磨材：マイクロポリッシュ（粒度０．０５μｍの酸化アルミナ研磨材）（ムサシノ電子株式会社製）
研磨布：クロス（レッド）（ムサシノ電子株式会社製）
ロール回転速度：６０ｒｐｍ
押し付け圧：１．１ｋＰａ

（防眩フィルムの作製）
以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０％で溶解されており、硬化後に１．５３の屈折率を示す膜を形成し得る紫外線硬化性樹脂組成物Ａを準備した。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
多官能ウレタン化アクリレート ４０部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド ５部

この紫外線硬化性樹脂組成物Ａを厚み６０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、乾燥後の塗布層の厚みが５μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの成形面（表面凹凸形状を有する面）に、乾燥後の塗工層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射して、塗工層を硬化させることで防眩フィルムを製造した。この後、得られた防眩フィルムを金型から剥離して、ＴＡＣフィルム上に防眩層を備えた透明な防眩フィルムＡを作製した。

＜実施例２＞
第２エッチング工程におけるエッチング量を９μｍとなるように設定したこと以外は実施例１の金型Ａの作製と同様にして金型Ｂを作製し、金型Ａを金型Ｂに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＢとする。

＜実施例３＞
第２エッチング工程におけるエッチング量を１１μｍとなるように設定したこと以外は実施例１の金型Ａの作製と同様にして金型Ｃを作製し、金型Ａを金型Ｃに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＣとする。

＜実施例４＞
図１５に示すパターンＢを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例１の金型Ａ作製と同様にして金型Ｄを作製し、金型Ａを金型Ｄに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＤとする。ここで、パターンＢはランダムな明度分布を有するパターンから、複数のガウス関数型のバンドパスフィルターを通過させて作成したものであり、開口率が４５％であり、一次元パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Γ（０．０１）との比Γ（０．０１）／Γ（０．００２）は２．７であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Γ（０．０２）との比Γ（０．０２）／Γ（０．００２）は０．５であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Γ（０．０４）との比Γ（０．０４）／Γ（０．００２）は３．７である。

＜実施例５＞
図１６に示すパターンＣを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例１の金型Ａ作製と同様にして金型Ｅを作製し、金型Ａを金型Ｅに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＥとする。ここで、パターンＣはランダムな明度分布を有するパターンから、複数のガウス関数型のバンドパスフィルターを通過させて作成したものであり、開口率が４５％であり、一次元パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Γ（０．０１）との比Γ（０．０１）／Γ（０．００２）は３．５であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Γ（０．０２）との比Γ（０．０２）／Γ（０．００２）は０．４２であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Γ（０．０４）との比Γ（０．０４）／Γ（０．００２）は５．５である。

＜比較例１＞
第２エッチング工程におけるエッチング量を８μｍとなるように設定したこと以外は実施例１の金型Ａの作製と同様にして金型Ｆを作製し、金型Ａを金型Ｆに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＦとする。

＜比較例２＞
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ６０６３）を使用し、図１７に示すパターンＤを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例１の金型Ａ作製と同様にして金型Ｇを作製し、金型Ａを金型Ｇに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＧとする。ここで、パターンＤはランダムな明度分布を有するパターンから、複数のガウス関数型のバンドパスフィルターを通過させて作成したものであり、開口率が４５．０％であり、一次元パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Γ（０．０１）との比Γ（０．０１）／Γ（０．００２）は４．２であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Γ（０．０２）との比Γ（０．０２）／Γ（０．００２）は１４であり、空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Γ（０．００２）と空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Γ（０．０４）との比Γ（０．０４）／Γ（０．００２）は２０８である。

＜比較例３＞
直径３００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面を鏡面研磨し、研磨されたアルミ面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．１ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量８ｇ／ｃｍ^２（ロールの表面積１ｃｍ^２あたりの使用量、以下同じ）でブラストし、アルミロール表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つきアルミロールに対し、無電解ニッケルめっき加工を行い、金型Ｈを作製した。このとき、無電解ニッケルめっき厚みが１５μｍとなるように設定した。金型Ａを金型Ｈに置き換えた以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＨとする。

＜比較例４＞
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを準備した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚さは、約２００μｍであった。その銅めっき表面を鏡面研磨し、さらにその研磨面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズ“ＴＺ−ＳＸ−１７”（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．０５ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量６ｇ／ｃｍ^２でブラストし、アルミロール表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つき銅めっきアルミロールにクロムめっき加工を行い、金型Ｉを作製した。このとき、クロムめっき厚みが６μｍとなるように設定した。金型Ａを金型Ｉに置き換えた以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＩとする。

［評価結果］
以上の実施例及び比較例で得られた防眩フィルムについて、評価結果を表１に示す。

本発明の要件を満たす防眩フィルムＡ〜Ｅ（実施例１〜５）は、低ヘイズであるにも拘わらず観察角度が正面であっても斜めであっても優れた防眩性を有し、白ちゃけ及びギラツキの抑制効果も十分なものであった。一方、防眩フィルムＦ（比較例１）は、白ちゃけが発生するものであった。防眩フィルムＧ（比較例２）は、斜めから観察した際の防眩性が不十分であった。防眩フィルムＨ（比較例３）は、ギラツキが発生しやすいものであった。防眩フィルムＩ（比較例４）は、斜めから観察したときの防眩性が不十分であった。

６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ 法線ベクトル， ６ 平均法線ベクトル，
４０ 金型用基材，
４１ 第１めっき工程及び研磨工程を経た金型用基材表面（めっき層），
４６ 第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状，
４７ 第２エッチング処理によって形状鈍化した表面凹凸形状，
５０ 感光性樹脂膜，６０ マスク，
７０ クロムめっき後の表面凹凸形状が形状鈍化した表面，
７１ クロムめっき層，
８０ 送り出しロール， ８１ 透明支持体， ８３ 塗工ゾーン，
８６ 活性エネルギー線照射装置， ８７ ロール形状の金型，
８８，８９ ニップロール， ９０ フィルム巻き取り装置
１０３ 最低標高面， １０４ 最高標高面。

本発明の防眩フィルムは、液晶ディスプレイなどの画像表示装置に有用である。

Claims (2)

1. 透明支持体と、その上に形成された微細な表面凹凸形状を有する防眩層とを備える防眩フィルムであって、
   全ヘイズが０．１％以上３％以下であり、
   表面ヘイズが０．１％以上２％以下であり、
   前記表面凹凸形状の傾斜角度の平均値が０．２°以上１．２°以下であり、傾斜角度の標準偏差が０．１°以上０．８°以下であり、
   下記パワースペクトル算出方法により求められる複素振幅のパワースペクトルが、以下の（１）〜（３）の条件：
   （１）パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Ｈ（０．００２）と、パワースペクトルの空間周波数０．０１μｍ^−１における強度Ｈ（０．０１）との比Ｈ（０．０１）／Ｈ（０．００２）が０．０２以上０．６以下であること；
   （２）パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Ｈ（０．００２）と、パワースペクトルの空間周波数０．０２μｍ^−１における強度Ｈ（０．０２）との比Ｈ（０．０２）／Ｈ（０．００２）が０．００５以上０．０５以下であること；及び
   （３）パワースペクトルの空間周波数０．００２μｍ^−１における強度Ｈ（０．００２）と、パワースペクトルの空間周波数０．０４μｍ^−１における強度Ｈ（０．０４）との比Ｈ（０．０４）／Ｈ（０．００２）が０．０００５以上０．０１以下であること
   をいずれも満たすことを特徴とする防眩フィルム。
   ＜パワースペクトル算出方法＞
   （Ａ）前記表面凹凸形状の標高の平均から仮想的な平面である平均面を定める；
   （Ｂ）前記表面凹凸形状の標高が最も低い点を含み、前記平均面に平行する仮想的な平面である最低標高面と、前記表面凹凸形状の標高が最も高い点を含み、前記平均面に平行する仮想的な平面である最高標高面とを定める；
   （Ｃ）前記最低標高面に垂直な主法線方向から入射し、前記最高標高面から出射する波長５５０ｎｍの平面波について前記表面凹凸形状の標高と防眩層の屈折率から前記最高標高面における複素振幅を計算したときの該複素振幅のパワースペクトルを求める。
2. 暗部と明部の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである５種類の光学くしを用いて測定される透過鮮明度の和Ｔｃが３７５％以上であり、
   暗部と明部の幅が０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて光の入射角４５°で測定される反射鮮明度の和Ｒｃ（４５）が１８０％以下であり、
   暗部と明部の幅が０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて光の入射角６０°で測定される反射鮮明度の和Ｒｃ（６０）が２４０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の防眩フィルム。

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