JP2015094845A - Optical waveguide, optoelectronic hybrid substrate and electronic apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光導波路、光電気混載基板および電子機器に関するものである。 The present invention relates to an optical waveguide, an opto-electric hybrid board, and an electronic device.
従来から、傾斜面(ミラー面)を有する光導波路の製造方法として、第1クラッド層、コア部が形成されているコア層および第2クラッド層が積層された積層体に対して、第2クラッド層側から、テーパー状のブレードによって光導波路を切削加工して切り欠きを形成することにより、傾斜面を形成する方法が知られている(例えば、特許文献1、2参照)。しかしながら、特許文献1、2の光導波路では、ブレードの先端が積層体の面方向と平行な直線(または微細幅の面)となっている(図6参照)。そのため、以下のような問題が生じてしまう。 Conventionally, as a method of manufacturing an optical waveguide having an inclined surface (mirror surface), a second cladding is applied to a laminate in which a first cladding layer, a core layer on which a core portion is formed, and a second cladding layer are stacked. A method of forming an inclined surface by cutting an optical waveguide from a layer side with a tapered blade to form a notch is known (for example, see Patent Documents 1 and 2). However, in the optical waveguides of Patent Documents 1 and 2, the blade tip is a straight line (or a surface having a fine width) parallel to the surface direction of the laminate (see FIG. 6). As a result, the following problems occur.
ブレードによって形成される切り欠きは、積層体の第1クラッド層側の表面に貫通させない方が好ましい。これは、仮に、切り欠きが第1クラッド層側の表面に貫通してしまうと、その開口から、切り欠き内に塵や埃、水分等が侵入し、これらが反射面を汚染することによって、光反射効率が低下するおそれがあるためである。切り欠きを第1クラッド層側の表面まで貫通させないためには、ブレードの高精度な制御が必要となるが、積層体の厚さが薄いため、ブレードの高精度な制御は極めて難しい。特許文献1のようなブレードを用いて切り欠きを形成する場合、ブレードの切削深さ(積層体への侵入深さ)が所望の深さとなれば問題はないが、例えば、ブレードの切削深さが所望の深さよりも深くなると、ブレードの先端の全域が同時に積層体を貫通してしまい、第1クラッド層側の表面に形成される開口が大きくなり、上記問題がより顕著に発生してしまう(図6参照)。 The notch formed by the blade is preferably not penetrated through the surface of the laminate on the first cladding layer side. This is because, if the notch penetrates the surface on the first cladding layer side, dust, dust, moisture, etc. intrude into the notch from the opening, and these contaminate the reflective surface, This is because the light reflection efficiency may decrease. In order to prevent the notch from penetrating to the surface on the first cladding layer side, high-precision control of the blade is necessary. However, since the thickness of the laminated body is thin, high-precision control of the blade is extremely difficult. When a notch is formed using a blade as in Patent Document 1, there is no problem if the cutting depth of the blade (depth of penetration into the laminate) is a desired depth. For example, the cutting depth of the blade When the depth becomes deeper than the desired depth, the entire tip of the blade simultaneously penetrates the laminate, and the opening formed in the surface on the first cladding layer side becomes large, and the above problem occurs more remarkably. (See FIG. 6).
本発明の目的は、開口の発生を抑制することのできる光導波路、光電気混載基板および電子機器を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an optical waveguide, an opto-electric hybrid board, and an electronic device that can suppress the generation of openings.
このような目的は、下記(1)〜(9)の本発明により達成される。
(1) 第1クラッド層、コア部が形成されているコア層および第2クラッド層が積層された積層体と、
前記第2クラッド層側から前記コア部に向けて形成され、前記コア部の軸線に対して傾斜する傾斜面を備える切り欠きと、を有し、
前記傾斜面の前記第1クラッド層側の輪郭線は、その中央部が両端部よりも前記第1クラッド層側に位置することを特徴とする光導波路。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (9) below.
(1) a laminated body in which a first cladding layer, a core layer in which a core portion is formed, and a second cladding layer are laminated;
A notch provided with an inclined surface that is formed from the second cladding layer side toward the core portion and is inclined with respect to the axis of the core portion;
The contour of the inclined surface on the first clad layer side is such that the center portion is located closer to the first clad layer side than both ends.
(2) 前記輪郭線は、凸状に湾曲している上記(1)に記載の光導波路。
(3) 前記輪郭線の中央部は、前記第1クラッド層に位置している上記(1)または(2)に記載の光導波路。
(2) The optical waveguide according to (1), wherein the outline is curved in a convex shape.
(3) The optical waveguide according to (1) or (2), wherein a central portion of the contour line is located in the first cladding layer.
(4) 前記輪郭線の中央部は、前記コア層に位置している上記(1)または(2)に記載の光導波路。 (4) The optical waveguide according to (1) or (2), wherein a central portion of the contour line is located in the core layer.
(5) 前記輪郭線の中央部と端部は、互いに、前記積層体の異なる層に位置している上記(1)ないし(3)のいずれか1項に記載の光導波路。 (5) The optical waveguide according to any one of (1) to (3), wherein a center portion and an end portion of the contour line are located in different layers of the stacked body.
(6) 前記傾斜面は、湾曲凹面をなしている上記(1)ないし(5)のいずれか1項に記載の光導波路。 (6) The optical waveguide according to any one of (1) to (5), wherein the inclined surface forms a curved concave surface.
(7) 前記傾斜面は、平坦面である上記(1)ないし(5)のいずれか1項に記載の光導波路。 (7) The optical waveguide according to any one of (1) to (5), wherein the inclined surface is a flat surface.
(8) 上記(1)ないし(7)のいずれか1項に記載の光導波路と、
前記光導波路に積層され、表面に電気配線を備える電気配線基板と、を有することを特徴とする光電気混載基板。
(9) 上記(8)に記載の光電気混載基板を備えることを特徴とする電子機器。
(8) The optical waveguide according to any one of (1) to (7),
An opto-electric hybrid board, comprising: an electric wiring board laminated on the optical waveguide and provided with electric wiring on a surface thereof.
(9) An electronic apparatus comprising the opto-electric hybrid board according to (8).
本発明によれば、開口の発生を抑制することのできる光導波路が得られる。
また、本発明によれば、かかる光導波路を備える信頼性の高い光電気混載基板および電子機器が得られる。
According to the present invention, an optical waveguide capable of suppressing the generation of openings can be obtained.
In addition, according to the present invention, a highly reliable opto-electric hybrid board and electronic apparatus having such an optical waveguide can be obtained.
以下、本発明の光導波路、光電気混載基板および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, the optical waveguide, the opto-electric hybrid board and the electronic apparatus of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
<光導波路>
≪第1実施形態≫
まず、本発明の光導波路の第1実施形態について説明する。
<Optical waveguide>
<< First Embodiment >>
First, a first embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図1は、本発明の光導波路の第1実施形態を一部透過して示す斜視図、図2は、図1に示す光導波路の縦断面図、図3は、図1に示す光導波路が有する切り欠きを図2中の矢印B方向から見た断面図、図4は、図1に示す光導波路が有する切り欠きの上面図、図5は、図1に示す光導波路が有する切り欠きを示す斜視図、図6は、本発明と従来例とを比較する図、図7は、第1実施形態に係るミラーの他の構成例を示す縦断面図である。 FIG. 1 is a partially transparent perspective view showing a first embodiment of an optical waveguide of the present invention, FIG. 2 is a longitudinal sectional view of the optical waveguide shown in FIG. 1, and FIG. 3 is an optical waveguide shown in FIG. 2 is a cross-sectional view of the notch that is seen from the direction of arrow B in FIG. 2, FIG. 4 is a top view of the notch that the optical waveguide shown in FIG. 1 has, and FIG. 5 is the notch that the optical waveguide shown in FIG. FIG. 6 is a perspective view showing a comparison between the present invention and a conventional example, and FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing another configuration example of the mirror according to the first embodiment.
図1に示す光導波路1は、帯状をなしており、光入射部と光出射部との間で光信号を伝送し、光通信を行う。 An optical waveguide 1 shown in FIG. 1 has a band shape, and transmits an optical signal between a light incident portion and a light emitting portion to perform optical communication.
図1に示す光導波路1は、下側からクラッド層(第1クラッド層)11、コア層13およびクラッド層(第2クラッド層)12を積層してなる積層体10を備えている。コア層13中には、長尺状のコア部14とその側面に隣接して設けられた側面クラッド部15とが形成されている。これにより、コア部14は、クラッド部(側面クラッド部15および各クラッド層11、12)で囲まれることとなり、コア部14に光を閉じ込めて伝搬することができる。また、光導波路1には積層体10に形成された切り欠き170が設けられている。なお、以下では、積層体10のクラッド層11側の表面を表面10aと言い、クラッド層12側の表面を表面10bと言う。 An optical waveguide 1 shown in FIG. 1 includes a laminate 10 in which a clad layer (first clad layer) 11, a core layer 13, and a clad layer (second clad layer) 12 are laminated from below. In the core layer 13, a long core portion 14 and a side clad portion 15 provided adjacent to the side surface are formed. As a result, the core part 14 is surrounded by the clad part (the side clad part 15 and the clad layers 11 and 12), and light can be confined and propagated in the core part 14. The optical waveguide 1 is provided with a notch 170 formed in the laminate 10. In the following, the surface on the cladding layer 11 side of the laminate 10 is referred to as a surface 10a, and the surface on the cladding layer 12 side is referred to as a surface 10b.
コア部14の屈折率は、クラッド部の屈折率より大きければよいが、その差は0.3%以上であるのが好ましく、0.5%以上であるのがより好ましい。一方、上限値は特に設定されないが、好ましくは5.5%程度とされる。屈折率差が前記下限値未満の場合、光を伝搬する効果が低下するおそれがあり、一方、屈折率差が前記上限値を上回る場合、光の伝送効率のそれ以上の向上は期待できない。 Although the refractive index of the core part 14 should just be larger than the refractive index of a clad part, it is preferable that the difference is 0.3% or more, and it is more preferable that it is 0.5% or more. On the other hand, the upper limit value is not particularly set, but is preferably about 5.5%. If the difference in refractive index is less than the lower limit value, the effect of propagating light may be reduced. On the other hand, if the difference in refractive index exceeds the upper limit value, further improvement in light transmission efficiency cannot be expected.
なお、前記屈折率差とは、コア部14の最大屈折率をn4、側面クラッド部15、クラッド層11およびクラッド層12の各最小屈折率をn5、n1、n2としたとき、次式で表される。 The refractive index difference is expressed by the following equation when the maximum refractive index of the core portion 14 is n4 and the minimum refractive indexes of the side cladding portion 15, the cladding layer 11, and the cladding layer 12 are n5, n1, and n2. Is done.
屈折率差(%)=|n4/n5−1|×100
屈折率差(%)=|n4/n1−1|×100
屈折率差(%)=|n4/n2−1|×100
Refractive index difference (%) = | n4 / n5-1 | × 100
Refractive index difference (%) = | n4 / n1-1 | × 100
Refractive index difference (%) = | n4 / n2-1 | × 100
また、コア層13の幅方向(図2の紙面厚さ方向)における屈折率分布は、いかなる形状の分布であってもよい。すなわち、この屈折率分布は、屈折率が不連続的に変化したいわゆるステップインデックス(SI)型の分布であってもよく、屈折率が連続的に変化したいわゆるグレーデッドインデックス(GI)型の分布であってもよい。SI型の分布であれば屈折率分布の形成が容易であり、GI型の分布であれば屈折率の高い領域に信号光が集まる確率が高くなるため伝送効率が向上する。 Further, the refractive index distribution in the width direction of the core layer 13 (the thickness direction in FIG. 2) may be any shape distribution. That is, the refractive index distribution may be a so-called step index (SI) type distribution in which the refractive index changes discontinuously, or a so-called graded index (GI) type distribution in which the refractive index changes continuously. It may be. If the SI type distribution is used, it is easy to form a refractive index distribution. If the GI type distribution is used, the probability that the signal light is collected in a region having a high refractive index is increased, so that the transmission efficiency is improved.
一方、光導波路1の厚さ方向(図2の上下方向)における屈折率分布も、上述したステップインデックス型の分布であってもよく、上述したグレーデッドインデックス型の分布であってもよい。 On the other hand, the refractive index distribution in the thickness direction of the optical waveguide 1 (vertical direction in FIG. 2) may be the above-described step index distribution or the above-described graded index distribution.
また、コア部14は、平面視で直線状であっても曲線状であってもよい。さらに、コア部14は途中で分岐または交差していてもよい。 Further, the core portion 14 may be linear or curved in plan view. Furthermore, the core part 14 may branch or cross | intersect on the way.
なお、コア部14の横断面形状は特に限定されず、例えば、真円、楕円形、長円形等の円形、三角形、四角形、五角形、六角形等の多角形であってもよいが、四角形(矩形状)であることにより、コア部14を形成し易い利点がある。 The cross-sectional shape of the core portion 14 is not particularly limited, and may be a circle such as a perfect circle, an ellipse, or an oval, or a polygon such as a triangle, a quadrangle, a pentagon, or a hexagon. By being (rectangular), there is an advantage that the core portion 14 can be easily formed.
コア部14の幅および高さ(コア層13の厚さ)は、特に限定されないが、1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましい。これにより、コア部14の伝送効率を高めつつコア部14の高密度化を図ることができる。すなわち、単位面積当たりに敷設可能なコア部14の数を多くすることができるので、小面積であっても大容量の光通信を行うことができる。 The width and height (the thickness of the core layer 13) of the core part 14 are not particularly limited, but are preferably about 1 to 200 μm, more preferably about 5 to 100 μm. Thereby, it is possible to increase the density of the core part 14 while increasing the transmission efficiency of the core part 14. That is, since the number of core portions 14 that can be laid per unit area can be increased, large-capacity optical communication can be performed even in a small area.
なお、コア層13に形成されるコア部14の数は、特に限定されないが、例えば1〜100本とされる。 In addition, the number of the core parts 14 formed in the core layer 13 is not particularly limited, but is 1 to 100, for example.
上述したようなコア層13およびクラッド層11、12の構成材料(主材料)は、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料等を用いることができる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。これらは、比較的加工が容易であるため、切り欠き170が形成されるコア層13やクラッド層11、12の構成材料として好適である。 The constituent materials (main materials) of the core layer 13 and the cladding layers 11 and 12 as described above are, for example, acrylic ether, methacrylic resin, polycarbonate, polystyrene, cyclic ether resin such as epoxy resin and oxetane resin. , Polyamide, polyimide, polybenzoxazole, polysilane, polysilazane, silicone resin, fluorine resin, polyurethane, polyolefin resin, polybutadiene, polyisoprene, polychloroprene, polyester such as PET and PBT, polyethylene succinate, polysulfone, poly Various resin materials such as ethers and cyclic olefin resins such as benzocyclobutene resins and norbornene resins can be used. Note that the resin material may be a composite material in which materials having different compositions are combined. Since these are relatively easy to process, they are suitable as constituent materials for the core layer 13 and the cladding layers 11 and 12 in which the notches 170 are formed.
光導波路1には、積層体10の一部が表面10b側から除去されてなる切り欠き170が設けられている。すなわち、光導波路1は、積層体10とそれに形成された切り欠き170とを備えたものである。図1に示す切り欠き170は、コア部14の長手方向の途中に位置している。切り欠き170の形成方法としては、特に限定されず、例えば、フォトリソグラフィー技法とエッチング技法とを用いたパターニング法によって形成することができるし、マスクを用いたレーザー加工法や、切り欠き170の形状に対応した成形型(ブレード)を押し付けるインプリント法などによっても形成することができる。 The optical waveguide 1 is provided with a notch 170 in which a part of the laminated body 10 is removed from the surface 10b side. That is, the optical waveguide 1 includes the laminated body 10 and a notch 170 formed thereon. The notch 170 shown in FIG. 1 is located in the middle of the core part 14 in the longitudinal direction. The method for forming the notch 170 is not particularly limited, and can be formed by, for example, a patterning method using a photolithography technique and an etching technique, a laser processing method using a mask, or the shape of the notch 170. It can also be formed by an imprint method in which a mold (blade) corresponding to the above is pressed.
図2に示すように、このような切り欠き170の内側面の一部は、コア部14の軸線Aに対して傾斜して横切っている傾斜面(横断面)171、172になっている。傾斜面171は、コア部14の光路を変換するミラー面(光路変換部)として機能する。傾斜面171は、例えばコア部14内において図2の右側から左側に向かって伝搬する光を下方に向けて反射することにより伝搬方向を変換する。なお、傾斜面171と同様にして、傾斜面172をミラー面として利用してもよい。 As shown in FIG. 2, a part of the inner surface of the notch 170 is inclined surfaces (transverse sections) 171 and 172 that are inclined with respect to the axis A of the core portion 14. The inclined surface 171 functions as a mirror surface (optical path conversion unit) that converts the optical path of the core unit 14. The inclined surface 171 changes the propagation direction by reflecting light propagating from the right side to the left side in FIG. Note that the inclined surface 172 may be used as a mirror surface in the same manner as the inclined surface 171.
傾斜面171、172は、それぞれ、平坦面で構成されている。これにより、傾斜面171で反射された光の拡散を低減でき、傾斜面171における光反射特性を高くすることができる。 Each of the inclined surfaces 171 and 172 is a flat surface. Thereby, the diffusion of the light reflected by the inclined surface 171 can be reduced, and the light reflection characteristics on the inclined surface 171 can be enhanced.
また、図3に示すように、傾斜面171の表面10a側の輪郭線179が凸状に湾曲し、その中央部179cが両端部179a、179bよりも表面10a側に位置している。 Further, as shown in FIG. 3, a contour line 179 on the surface 10a side of the inclined surface 171 is curved in a convex shape, and a central portion 179c thereof is located on the surface 10a side with respect to both end portions 179a and 179b.
また、輪郭線179は、その全域がクラッド層11内(クラッド層11の厚さ方向の途中)に位置している。これにより、傾斜面171の面積を大きく確保することができ、傾斜面171における反射特性を高くすることができる。 The entire area of the contour line 179 is located in the cladding layer 11 (in the middle of the thickness direction of the cladding layer 11). As a result, a large area of the inclined surface 171 can be ensured, and reflection characteristics on the inclined surface 171 can be enhanced.
以上のように、傾斜面171、172が共に平坦面であり、輪郭線179が凸状に湾曲しているため、切り欠き170は、図4および図5に示すような形状となる。図示するように、切り欠き170は、輪郭線179に対応して湾曲した底面178を有し、底面178の幅W1が中央部から両端部に向けて漸増している。すなわち、幅W1が最少の中央部が最も表面10a側に位置し、幅W1が最大の両端部が最も表面10aから遠くに位置している。また、中央部の幅W1は、ほぼ0であり、当該部分にて傾斜面171、172が接触(接続)している。そのため、図4中のC−C線断面では、切り欠き170の断面形状が略三角形をなし(図2参照)、図4中のD−D線断面、E−E線断面では、切り欠き170の断面形状が略台形をなしている。ただし、中央部の幅W1は、0でなくてもよく、図4中のC−C線断面、D−D線断面、E−E線断面のそれぞれで切り欠き170の断面形状が略台形をなしていてもよい。 As described above, since the inclined surfaces 171 and 172 are both flat surfaces and the contour line 179 is curved in a convex shape, the notch 170 has a shape as shown in FIGS. 4 and 5. As illustrated, the notch 170 has a bottom surface 178 which is curved corresponding to the contour line 179, the width W 1 of the bottom surface 178 is gradually increases toward the both end portions from the central portion. That is, located closest to the surface 10a side width W 1 is the central portion of the minimum width W 1 is located far from the maximum of the ends is the most surface 10a. The width W 1 of the central portion is substantially 0, the inclined surfaces 171 and 172 are in contact (connected) at the portion. For this reason, the cross-sectional shape of the cutout 170 is substantially triangular in the cross-section taken along the line CC in FIG. 4 (see FIG. 2), and the cutout 170 is taken along the cross-section taken along the line DD and EE in FIG. The cross-sectional shape is substantially trapezoidal. However, the width W 1 of the central portion may not be 0, C-C line cross section, D-D line cross-sectional shape substantially trapezoidal respectively notch 170 of the line E-E cross section in FIG. 4 You may have done.
切り欠き170(輪郭線179)をこのような形状とすることによって、従来のように輪郭線179が表面10aに平行な直線状である場合に比べて、次のような効果を発揮することができる。仮に、光導波路1の製造過程において、切り欠き170が設定値よりも深く形成され、図6に示すように、切り欠き170が表面10aまで貫通してしまったとしても、当該貫通によってできる表面10aの開口9を従来よりも小さく抑えることができる。そのため、表面10aに形成された開口9からの塵や埃、水分等の侵入が抑制され、傾斜面171、172の汚染が抑制される。 By forming the notch 170 (contour line 179) in such a shape, the following effects can be exhibited as compared with the conventional case where the contour line 179 is a straight line parallel to the surface 10a. it can. Even if the notch 170 is formed deeper than the set value in the manufacturing process of the optical waveguide 1 and the notch 170 penetrates to the surface 10a as shown in FIG. 6, the surface 10a formed by the penetration is provided. The opening 9 can be made smaller than before. Therefore, intrusion of dust, dirt, moisture and the like from the opening 9 formed on the surface 10a is suppressed, and contamination of the inclined surfaces 171 and 172 is suppressed.
ここで、輪郭線179の中央部179cと両端部179a、179bとのギャップGの最小値としては、特に限定されず、切り欠き170の形成精度や切り欠き170の幅によっても異なるが、0.5〜300μm程度であるのが好ましく、2〜200μm程度であるのがより好ましい。これにより、製造誤差によって表面10aに形成される開口9をより小さく抑えることができる。 Here, the minimum value of the gap G between the central portion 179c of the contour line 179 and the both end portions 179a and 179b is not particularly limited, and varies depending on the formation accuracy of the notch 170 and the width of the notch 170. It is preferably about 5 to 300 μm, and more preferably about 2 to 200 μm. Thereby, the opening 9 formed in the surface 10a due to a manufacturing error can be further reduced.
また、中央部179cの曲率半径(平均曲率半径)としては、特に限定されず、切り欠き170の形成精度等によっても異なるが、2000μm以下程度であるのが好ましく、1000μm以下程度であるのがより好ましい。これにより、製造誤差によって表面10aに形成される開口9をより小さく抑えることができる。なお、輪郭線179の曲率半径は、その全域に亘って一定であってもよいし、各部で異なっていてもよい。例えば、中央部179cの曲率半径が両端部179a、179bの曲率半径よりも大きくてもよいし、反対に、中央部179cの曲率半径が両端部179a、179bの曲率半径よりも小さくてもよい。 Further, the radius of curvature (average radius of curvature) of the central portion 179c is not particularly limited, and varies depending on the formation accuracy of the notch 170, but is preferably about 2000 μm or less, more preferably about 1000 μm or less. preferable. Thereby, the opening 9 formed in the surface 10a due to a manufacturing error can be further reduced. In addition, the curvature radius of the outline 179 may be constant over the whole area, and may differ in each part. For example, the radius of curvature of the central portion 179c may be larger than the radius of curvature of both end portions 179a and 179b, and conversely, the radius of curvature of the central portion 179c may be smaller than the radius of curvature of both end portions 179a and 179b.
以上、切り欠き170について説明した。切り欠き170の最大深さDは、積層体10の厚さから適宜設定されるものであり、特に限定されないが、光導波路1の機械的強度や可撓性といった観点から、1〜500μm程度とするのが好ましく、5〜400μm程度とするのがより好ましい。 The notch 170 has been described above. The maximum depth D of the notch 170 is appropriately set based on the thickness of the laminated body 10 and is not particularly limited. However, from the viewpoint of the mechanical strength and flexibility of the optical waveguide 1, it is about 1 to 500 μm. It is preferable to set it to about 5 to 400 μm.
また、切り欠き170の最大長さLは、特に限定されないが、クラッド層11、12やコア層13の厚さ、および、傾斜面171、172の傾斜角度との関係から、2〜1200μm程度とするのが好ましく、10〜1000μm程度とするのがより好ましい。 Further, the maximum length L of the notch 170 is not particularly limited, but is about 2 to 1200 μm from the relationship between the thickness of the cladding layers 11 and 12 and the core layer 13 and the inclination angle of the inclined surfaces 171 and 172. It is preferable to set it to about 10 to 1000 μm.
さらに、切り欠き170の最大幅Wは、特に限定されず、コア部14の幅、コア部14のピッチ、コア部14のライン数等に応じて適宜設定されるが、1〜10000μm程度とするのが好ましく、5〜6000μm程度とするのがより好ましい。 Furthermore, the maximum width W of the notch 170 is not particularly limited, and is appropriately set according to the width of the core portion 14, the pitch of the core portion 14, the number of lines of the core portion 14, and the like, but about 1 to 10000 μm. Is preferable, and it is more preferable to set it as about 5-6000 micrometers.
なお、切り欠き170は、1本のコア部14に対して1つ設けられていてもよいが、複数本のコア部14に対してこれらに跨るように1つ設けられていてもよい。 Note that one notch 170 may be provided for one core part 14, but one notch 170 may be provided so as to straddle the plurality of core parts 14.
図7は、第1実施形態に係るミラーの他の構成例を示す縦断面図である。図1では、傾斜面171がミラーを構成しているのに対し、図7では、傾斜面171とその上に成膜された反射膜176とがミラーを構成している点で相違している。それ以外については、図4に示す光導波路1は、図1に示す光導波路1と同様である。 FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing another configuration example of the mirror according to the first embodiment. In FIG. 1, the inclined surface 171 forms a mirror, whereas in FIG. 7, the inclined surface 171 and the reflective film 176 formed thereon form a mirror. . Otherwise, the optical waveguide 1 shown in FIG. 4 is the same as the optical waveguide 1 shown in FIG.
このような反射膜176を設けることにより、ミラーにおける反射特性を特に高めることができる。反射膜176としては、例えば、金属膜、炭素膜、樹脂膜、セラミック膜、シリコン膜等が挙げられる。このうち、金属膜が好ましく用いられる。金属膜によれば、金属特有の光沢による反射率の高い反射膜176が得られる。金属膜の構成材料としては、例えば、アルミニウム、鉄、クロム、ニッケル、銅、亜鉛、銀、白金、金、鉛等が挙げられる。 By providing such a reflective film 176, the reflection characteristics of the mirror can be particularly improved. Examples of the reflective film 176 include a metal film, a carbon film, a resin film, a ceramic film, and a silicon film. Among these, a metal film is preferably used. According to the metal film, the reflection film 176 having a high reflectance due to the gloss peculiar to the metal can be obtained. Examples of the constituent material of the metal film include aluminum, iron, chromium, nickel, copper, zinc, silver, platinum, gold, lead and the like.
反射膜176の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜500μm程度であるのが好ましく、0.5〜300μm程度であるのがより好ましい。これにより、十分な反射率を有するとともに、剥がれ難い反射膜が得られる。 The average thickness of the reflective film 176 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 500 μm, and more preferably about 0.5 to 300 μm. As a result, a reflective film that has sufficient reflectivity and is difficult to peel off can be obtained.
反射膜176の成膜方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法のような物理蒸着法、CVD法のような化学蒸着法、めっき法、熱転写法、金属箔転写法、印刷法、塗布法等が挙げられる。 Examples of the method for forming the reflective film 176 include a vacuum deposition method, a physical vapor deposition method such as a sputtering method, a chemical vapor deposition method such as a CVD method, a plating method, a thermal transfer method, a metal foil transfer method, a printing method, and a coating method. Etc.
≪第2実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第2実施形態について説明する。
<< Second Embodiment >>
Next, a second embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図8は、本発明の光導波路の第2実施形態の切り欠きを示す断面図である。なお、図8は、前述した図3に対応する図である。 FIG. 8 is a cross-sectional view showing a cutout in the second embodiment of the optical waveguide of the present invention. FIG. 8 corresponds to FIG. 3 described above.
以下、第2実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although 2nd Embodiment is described, in the following description, difference with 1st Embodiment is demonstrated and the description is abbreviate | omitted about the same matter.
図8に示す第2実施形態に係る光導波路1は、切り欠き170の構成が異なる以外、第1実施形態に係る光導波路1と同様である。 The optical waveguide 1 according to the second embodiment shown in FIG. 8 is the same as the optical waveguide 1 according to the first embodiment except that the configuration of the notch 170 is different.
前述した第1実施形態に係る光導波路1では、傾斜面171の輪郭線179の全域がクラッド層11内に位置しているのに対して、本実施形態に係る光導波路1では、図8に示すように、傾斜面171の輪郭線179の全域がコア層13内に位置している。すなわち、切り欠き170がクラッド層11に到達していない。これにより、切り欠き170内に、コア層13とクラッド層11との境界が露出しないため、前記境界を起点とした剥離の発生等を効果的に防止することができる。そのため、例えば、前述した第1実施形態と比較して機械的強度に優れた光導波路1となる。
このような第2実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。
In the optical waveguide 1 according to the first embodiment described above, the entire area of the contour line 179 of the inclined surface 171 is located in the cladding layer 11, whereas in the optical waveguide 1 according to the present embodiment, FIG. As shown, the entire area of the contour line 179 of the inclined surface 171 is located in the core layer 13. That is, the notch 170 does not reach the cladding layer 11. Thereby, since the boundary between the core layer 13 and the clad layer 11 is not exposed in the notch 170, it is possible to effectively prevent the occurrence of peeling or the like starting from the boundary. Therefore, for example, the optical waveguide 1 is excellent in mechanical strength as compared with the first embodiment described above.
In such a second embodiment, the same operations and effects as in the first embodiment can be obtained.
≪第3実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第3実施形態について説明する。
図9は、本発明の光導波路の第3実施形態の切り欠きを示す断面図である。なお、図9は、前述した図3に対応する図である。
«Third embodiment»
Next, a third embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a cutout in the third embodiment of the optical waveguide of the present invention. FIG. 9 is a diagram corresponding to FIG. 3 described above.
以下、第3実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, the third embodiment will be described. In the following description, differences from the first embodiment will be described, and description of similar matters will be omitted.
前述した第1実施形態に係る光導波路1では、傾斜面171の輪郭線179の全域がクラッド層11内に位置しているのに対して、本実施形態に係る光導波路1では、図9に示すように、傾斜面171の輪郭線179の中央部179cがクラッド層11内に位置し、両端部179a、179bがコア層13内に位置している。すなわち、中央部179cと両端部179a、179bとが積層体10の異なる層に位置している。これにより、前述した第1実施形態の光導波路1よりも、切り欠き170に露出するコア層13とクラッド層11との境界の全長を短くすることができ、前記境界を起点とした剥離の発生等を効果的に抑制することができる。また、前述した第2実施形態よりもコア部14を横断する領域の面積が大きくなるため、傾斜面171における光反射特性が向上する。すなわち、本実施形態の光導波路1によれば、第1実施形態の効果と、第2実施形態の効果とを折衷することができる。特に、図9に示すように、傾斜面171がコア部14の全域を横断することによって、光反射特性については、第1実施形態の光導波路1と同等の特性を発揮することができる。
このような第3実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。
In the optical waveguide 1 according to the first embodiment described above, the entire area of the contour line 179 of the inclined surface 171 is located in the clad layer 11, whereas in the optical waveguide 1 according to the present embodiment, FIG. As shown, the central portion 179 c of the contour line 179 of the inclined surface 171 is located in the cladding layer 11, and both end portions 179 a and 179 b are located in the core layer 13. That is, the central portion 179 c and the both end portions 179 a and 179 b are located in different layers of the stacked body 10. As a result, the entire length of the boundary between the core layer 13 and the cladding layer 11 exposed at the notch 170 can be shortened compared to the optical waveguide 1 of the first embodiment described above, and the occurrence of peeling starting from the boundary is generated. Etc. can be effectively suppressed. Further, since the area of the region crossing the core portion 14 is larger than that in the second embodiment described above, the light reflection characteristics on the inclined surface 171 are improved. That is, according to the optical waveguide 1 of the present embodiment, the effects of the first embodiment and the effects of the second embodiment can be compromised. In particular, as shown in FIG. 9, when the inclined surface 171 crosses the entire area of the core portion 14, the light reflection characteristics can be the same as those of the optical waveguide 1 of the first embodiment.
In such a third embodiment, the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.
≪第4実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第4実施形態について説明する。
<< Fourth Embodiment >>
Next, a fourth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図10は、本発明の光導波路の第4実施形態の切り欠きを示す縦断面図、図11は、図10に示す切り欠きの上面図である。なお、図9は、前述した図3に対応する図であり、図11は、前述した図4に対応する図である。 FIG. 10 is a longitudinal sectional view showing a cutout of the fourth embodiment of the optical waveguide of the present invention, and FIG. 11 is a top view of the cutout shown in FIG. 9 is a diagram corresponding to FIG. 3 described above, and FIG. 11 is a diagram corresponding to FIG. 4 described above.
以下、第4実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although 4th Embodiment is described, in the following description, a difference with 1st Embodiment is demonstrated and the description is abbreviate | omitted about the same matter.
前述した第1実施形態に係る光導波路1では、傾斜面171、172が平坦面で構成されているのに対して、本実施形態に係る光導波路1では、図10に示すように、傾斜面171、172が共に湾曲凹面(切り欠き170の外側へ向けて凹む湾曲面)で構成されている。このように、傾斜面が湾曲凹面で構成されているため、本実施形態の切り欠き170には、底面178が存在せず、輪郭線179の全域で、すなわち他の面を介さずに傾斜面171、172が接続されている。このように、本実施形態によれば、切り欠き170に底面が形成されないため、製造誤差により形成されてしまう開口9の面積を第1実施形態と比較して小さくすることができる。
このような第4実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。
In the optical waveguide 1 according to the first embodiment described above, the inclined surfaces 171 and 172 are formed as flat surfaces, whereas in the optical waveguide 1 according to the present embodiment, as shown in FIG. Reference numerals 171 and 172 are both configured as curved concave surfaces (curved surfaces that are recessed toward the outside of the notch 170). As described above, since the inclined surface is formed of a curved concave surface, the notch 170 of the present embodiment does not have the bottom surface 178, and the inclined surface is formed over the entire area of the contour line 179, that is, without any other surface. 171 and 172 are connected. Thus, according to the present embodiment, since the bottom surface is not formed in the notch 170, the area of the opening 9 that is formed due to a manufacturing error can be reduced as compared with the first embodiment.
In such a fourth embodiment, the same operations and effects as in the first embodiment can be obtained.
≪第5実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第5実施形態について説明する。
図12は、本発明の光導波路の第5実施形態の切り欠きを示す縦断面図である。なお、図12は、前述した図2に対応する図である。
«Fifth embodiment»
Next, a fifth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
FIG. 12 is a longitudinal sectional view showing a cutout in the fifth embodiment of the optical waveguide of the present invention. FIG. 12 is a diagram corresponding to FIG. 2 described above.
以下、第5実施形態について説明するが、以下の説明では、第4実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although 5th Embodiment is described, in the following description, difference with 4th Embodiment is demonstrated and the description is abbreviate | omitted about the same matter.
前述した第4実施形態に係る光導波路1では、傾斜面171をミラー面として用い、コア部14内において図10の右側から左側に向かって伝搬する光を下方に向けて反射することにより伝搬方向を変換するように構成されているのに対して、本実施形態に係る光導波路1では、反対側の傾斜面172をミラー面として用いている。具体的には、傾斜面172には反射膜176が設けられており、さらに、切り欠き170が、コア部14とほぼ等しい屈折率を有する樹脂材料7で埋められている。このような構成では、図12の右側から左側に向かって伝搬する光を、傾斜面171と樹脂材料7との境界を通過させて、傾斜面172(反射膜176)で上方に向けて反射することより伝搬方向を変換するように構成されている。傾斜面172が湾曲面をなしているため、反射した光を集光させることができ、より効率的な光の伝搬を行うことができる。
このような第5実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。
In the above-described optical waveguide 1 according to the fourth embodiment, the inclined surface 171 is used as a mirror surface, and the light propagating from the right side to the left side in FIG. However, in the optical waveguide 1 according to this embodiment, the inclined surface 172 on the opposite side is used as a mirror surface. Specifically, the inclined surface 172 is provided with a reflective film 176, and the notch 170 is filled with a resin material 7 having a refractive index substantially equal to that of the core portion 14. In such a configuration, light propagating from the right side to the left side in FIG. 12 passes through the boundary between the inclined surface 171 and the resin material 7 and is reflected upward by the inclined surface 172 (reflection film 176). Thus, the propagation direction is changed. Since the inclined surface 172 is a curved surface, the reflected light can be collected and more efficient light propagation can be performed.
Also in the fifth embodiment, the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.
≪第6実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第6実施形態について説明する。
図13は、本発明の光導波路の第6実施形態を示す縦断面図である。
<< Sixth Embodiment >>
Next, a sixth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
FIG. 13 is a longitudinal sectional view showing a sixth embodiment of the optical waveguide of the present invention.
以下、第6実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, the sixth embodiment will be described. In the following description, differences from the first embodiment will be described, and description of similar matters will be omitted.
前述した第1実施形態に係る光導波路1では、傾斜面172が傾斜面171と同様に傾斜した面になっているのに対し、本実施形態に係る光導波路1では、傾斜面172が、軸線Aに対してほぼ直交している平坦な直立面172’になっている。
このような第6実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。
In the optical waveguide 1 according to the first embodiment described above, the inclined surface 172 is an inclined surface similar to the inclined surface 171, whereas in the optical waveguide 1 according to the present embodiment, the inclined surface 172 has an axis line. It is a flat upright surface 172 ′ that is substantially orthogonal to A.
In such a sixth embodiment, the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.
≪第7実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第7実施形態について説明する。
図14は、本発明の光導波路の第7実施形態の縦断面図である。
<< Seventh Embodiment >>
Next, a seventh embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
FIG. 14 is a longitudinal sectional view of a seventh embodiment of the optical waveguide of the present invention.
以下、第7実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, the seventh embodiment will be described. In the following description, differences from the first embodiment will be described, and description of similar matters will be omitted.
図14に示す第7実施形態に係る光導波路1は、さらに、クラッド層11の下面(表面10a)に積層された支持フィルム2と、クラッド層12の上面(表面10b)に積層されたカバーフィルム3と、を備えている。 The optical waveguide 1 according to the seventh embodiment shown in FIG. 14 further includes a support film 2 laminated on the lower surface (surface 10a) of the cladding layer 11, and a cover film laminated on the upper surface (surface 10b) of the cladding layer 12. 3 is provided.
また、切り欠き170は、カバーフィルム3を貫通するよう構成されている。したがって、傾斜面171は、カバーフィルム3からクラッド層12およびコア層13をそれぞれ経てクラッド層11の途中に至るまでの間に連続して形成された面となる。
このような第7実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。
Further, the notch 170 is configured to penetrate the cover film 3. Therefore, the inclined surface 171 is a surface formed continuously from the cover film 3 through the cladding layer 12 and the core layer 13 to the middle of the cladding layer 11.
In the seventh embodiment, the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.
また、支持フィルム2およびカバーフィルム3を用いることで、積層体10を外力や異物付着、汚染等から保護することができる。 Moreover, by using the support film 2 and the cover film 3, the laminated body 10 can be protected from external force, foreign matter adhesion, contamination, and the like.
また、傾斜面171がカバーフィルム3の断面も含むため、より広い面積を有するものとなる。このため、傾斜面171をより高い精度で形成し易くなる。すなわち、加工しようとする面が広いほど、コア部14の断面の加工精度を容易に高められるため、第7実施形態によれば特に反射効率の高いミラーを形成することができる。 Moreover, since the inclined surface 171 includes the cross section of the cover film 3, it has a wider area. For this reason, it becomes easy to form the inclined surface 171 with higher accuracy. That is, as the surface to be processed is wider, the processing accuracy of the cross section of the core portion 14 can be easily increased. Therefore, according to the seventh embodiment, a mirror with particularly high reflection efficiency can be formed.
≪第8実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第8実施形態について説明する。
図15は、本発明の光導波路の第8実施形態の縦断面図、図16は、図15に示す光導波路の切り欠きを示す断面図である。なお、図15は、前述した図3に対応する図である。
<< Eighth Embodiment >>
Next, an eighth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
FIG. 15 is a longitudinal sectional view of an optical waveguide according to an eighth embodiment of the present invention, and FIG. 16 is a sectional view showing a notch of the optical waveguide shown in FIG. FIG. 15 corresponds to FIG. 3 described above.
以下、第8実施形態について説明するが、以下の説明では、前述の実施形態との相違点について説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, the eighth embodiment will be described, but in the following description, differences from the above-described embodiment will be described, and description of similar matters will be omitted.
図15に示す第8実施形態に係る光導波路1は、切り欠き170の構成が異なる以外、第7実施形態に係る光導波路1と同様である。 The optical waveguide 1 according to the eighth embodiment shown in FIG. 15 is the same as the optical waveguide 1 according to the seventh embodiment except that the configuration of the notch 170 is different.
前述した第7実施形態に係る光導波路1では、切り欠き170がクラッド層11まで到達しているのに対して、本実施形態に係る光導波路1では、切り欠き170が支持フィルム2まで到達している。 In the optical waveguide 1 according to the seventh embodiment described above, the notch 170 reaches the cladding layer 11, whereas in the optical waveguide 1 according to the present embodiment, the notch 170 reaches the support film 2. ing.
この際、図16(a)に示すように、輪郭線179の全域が支持フィルム2内に位置していてもよいし、図16(b)に示すように、輪郭線179の中央部179cが支持フィルム2内に位置し、両端部179a、179bがクラッド層11内に位置していてもよいし、図16(c)に示すように、輪郭線179の中央部179cが支持フィルム2内に位置し、両端部179a、179bがコア層13内に位置していてもよい。特に、図16(b)、(c)の構成によれば、図16(a)の構成と比較して、切り欠き170に露出するコア層13とクラッド層11との境界や、クラッド層11と支持フィルム2との境界を短くすることができ、前記境界を起点とした剥離の発生等を効果的に抑制することができる。
このような第8実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。
At this time, as shown in FIG. 16 (a), the whole area of the contour line 179 may be located in the support film 2, and as shown in FIG. 16 (b), the central portion 179c of the contour line 179 is formed. Both ends 179a and 179b may be located in the cladding layer 11 in the support film 2, and the center part 179c of the contour line 179 is in the support film 2 as shown in FIG. The both end portions 179 a and 179 b may be located in the core layer 13. In particular, according to the configuration of FIGS. 16B and 16C, compared with the configuration of FIG. 16A, the boundary between the core layer 13 and the cladding layer 11 exposed in the notch 170, the cladding layer 11 and the like. And the support film 2 can be shortened, and the occurrence of peeling and the like starting from the boundary can be effectively suppressed.
In such an eighth embodiment, the same operations and effects as in the first embodiment can be obtained.
<光電気混載基板>
次に、本発明の光電気混載基板の実施形態について説明する。
図17は、本発明の光電気混載基板の実施形態を示す縦断面図である。
<Opto-electric hybrid board>
Next, an embodiment of the opto-electric hybrid board according to the present invention will be described.
FIG. 17 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of the opto-electric hybrid board of the present invention.
図17に示す光電気混載基板100は、光導波路(本発明の光導波路)1と、その上面に積層された電気配線基板5と、これらの間に介挿され両者を接着する接着シート90と、を有している。 An opto-electric hybrid board 100 shown in FIG. 17 includes an optical waveguide 1 (the optical waveguide of the present invention), an electric wiring board 5 laminated on the upper surface thereof, and an adhesive sheet 90 that is interposed between them to bond them together. ,have.
図17に示す電気配線基板5は、コア基板51とその両面に積層されたビルドアップ層52とを備えた多層基板50と、この多層基板50の下面に設けられた貫通孔53と、を有している。 An electrical wiring board 5 shown in FIG. 17 has a multilayer board 50 having a core board 51 and build-up layers 52 laminated on both sides thereof, and a through hole 53 provided on the lower surface of the multilayer board 50. doing.
コア基板51は、電気配線基板5を支持する基板であり、その構成材料としては、例えば、各種樹脂材料が挙げられる。この他、紙、ガラス布、樹脂フィルム等を基材とし、この基材に樹脂材料を含浸させたもの、具体的には、ガラス布・エポキシ銅張積層板、ガラス不織布・エポキシ銅張積層板等のコンポジット銅張積層板に使用される絶縁性基板の他、ポリエーテルイミド樹脂基板、ポリエーテルケトン樹脂基板、ポリサルフォン系樹脂基板等の耐熱・熱可塑性の有機系リジッド基板や、アルミナ基板、窒化アルミニウム基板、炭化ケイ素基板等のセラミックス系リジッド基板等であってもよい。 The core substrate 51 is a substrate that supports the electrical wiring substrate 5, and examples of the constituent material thereof include various resin materials. In addition, paper, glass cloth, resin film, etc. as a base material, and the base material impregnated with a resin material, specifically, glass cloth / epoxy copper clad laminate, glass nonwoven fabric / epoxy copper clad laminate In addition to insulating substrates used for composite copper-clad laminates such as heat-resistant and thermoplastic organic rigid substrates such as polyetherimide resin substrates, polyetherketone resin substrates, polysulfone resin substrates, alumina substrates, and nitriding It may be a ceramic rigid substrate such as an aluminum substrate or a silicon carbide substrate.
これらの導体層522および貫通配線は、それぞれ、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、金、銀のような金属単体、またはこれらの金属元素を含む合金等の導電性材料で構成される。 Each of the conductor layer 522 and the through wiring is made of a conductive material such as a simple metal such as copper, aluminum, nickel, chromium, zinc, tin, gold, silver, or an alloy containing these metal elements. .
また、絶縁層521は、酸化ケイ素、窒化ケイ素のようなケイ素化合物、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂のような樹脂材料等により構成される。 The insulating layer 521 is made of a silicon compound such as silicon oxide or silicon nitride, a resin material such as a polyimide resin or an epoxy resin, or the like.
このようにして、ビルドアップ層52内には、面方向のみでなく厚さ方向にも広がる電気回路を構築することができ、電気回路の高密度化を図ることができる。 In this way, an electrical circuit that extends not only in the plane direction but also in the thickness direction can be constructed in the buildup layer 52, and the density of the electrical circuit can be increased.
なお、このような多層基板50は、いかなる工法で形成されたものであってもよいが、一例としてアディティブ法、セミアディティブ法、サブトラクティブ法等の各種ビルドアップ工法により形成される。 In addition, although such a multilayer substrate 50 may be formed by what kind of construction method, it is formed by various buildup construction methods, such as an additive method, a semi-additive method, and a subtractive method, as an example.
また、本発明の光電気混載基板が備える電気配線基板は、上述した電気配線基板5のような多層基板を含むものに限定されず、例えば多層基板を単層の電気配線基板(リジッド基板)で代替したものであってもよく、ポリイミド基板、ポリエステル基板、アラミドフィルム基板のような各種フレキシブル基板で代替したものであってもよい。また、多層基板50は、コア基板51を含まないコアレスの多層基板で代替することもできる。 The electrical wiring board provided in the opto-electric hybrid board of the present invention is not limited to the one including the multilayer board such as the electrical wiring board 5 described above. For example, the multilayer board is a single-layer electrical wiring board (rigid board). It may be replaced, or may be replaced with various flexible substrates such as a polyimide substrate, a polyester substrate, and an aramid film substrate. The multilayer substrate 50 can be replaced with a coreless multilayer substrate that does not include the core substrate 51.
また、図17に示す電気配線基板5は、多層基板50の上面に設けられたソルダーレジスト層54を有している。ソルダーレジスト層54を設けることにより、電気配線基板5の導体層522を酸化や腐食等から保護する。 Also, the electrical wiring board 5 shown in FIG. 17 has a solder resist layer 54 provided on the upper surface of the multilayer board 50. By providing the solder resist layer 54, the conductor layer 522 of the electrical wiring board 5 is protected from oxidation, corrosion, and the like.
なお、この電気配線基板5には、図示しない電気素子が搭載されていてもよい。電気素子としては、例えば、IC、LSI、RAM、ROM、コンデンサー、コイル、抵抗、ダイオード等が挙げられる。 Note that an electrical element (not shown) may be mounted on the electrical wiring board 5. Examples of the electric element include IC, LSI, RAM, ROM, capacitor, coil, resistor, and diode.
また、図17に示す光電気混載基板100は、光導波路1を貫通する貫通孔16と、貫通孔16内に設けられた貫通配線17と、を有している。 In addition, the opto-electric hybrid board 100 shown in FIG. 17 includes a through hole 16 that penetrates the optical waveguide 1 and a through wiring 17 provided in the through hole 16.
図17に示す貫通孔16は、光導波路1およびその下方に位置する接着シート90とソルダーレジスト層54とを貫通している。 The through hole 16 shown in FIG. 17 penetrates the optical waveguide 1 and the adhesive sheet 90 and the solder resist layer 54 located therebelow.
また、図17に示す光電気混載基板100は、電気配線基板5上に搭載された光素子6を有している。 Also, the opto-electric hybrid board 100 shown in FIG. 17 has an optical element 6 mounted on the electric wiring board 5.
図17に示す光素子6は、素子本体60と、素子本体60の下面に設けられた受発光部61および端子62と、端子62から下方に突出するよう設けられたバンプ63と、を有している。なお、受発光部とは、受光部または発光部、あるいはその双方の機能を有するものを指す。 The optical element 6 shown in FIG. 17 has an element body 60, a light emitting / receiving unit 61 and a terminal 62 provided on the lower surface of the element body 60, and a bump 63 provided so as to protrude downward from the terminal 62. ing. The light emitting / receiving unit refers to a light receiving unit, a light emitting unit, or a unit having both functions.
光素子6は、受発光部61の光軸が光導波路1の切り欠き170の傾斜面171(ミラー)を介してコア部14の軸線と一致するよう配置されている。これにより、光導波路1と光素子6とが光学的に接続され、光導波路1を伝搬する光信号を光素子6に受光させたり、光素子6から出射された光信号を光導波路1に入射したりすることができる。 The optical element 6 is arranged such that the optical axis of the light emitting / receiving unit 61 coincides with the axis of the core unit 14 via the inclined surface 171 (mirror) of the notch 170 of the optical waveguide 1. Thereby, the optical waveguide 1 and the optical element 6 are optically connected, and the optical signal propagating through the optical waveguide 1 is received by the optical element 6, or the optical signal emitted from the optical element 6 is incident on the optical waveguide 1. You can do it.
光素子6としては、例えば、面発光レーザー(VCSEL)、発光ダイオード(LED)、有機EL素子等の発光素子、フォトダイオード(PD、APD)等の受光素子が挙げられる。 Examples of the optical element 6 include a light emitting element such as a surface emitting laser (VCSEL), a light emitting diode (LED), and an organic EL element, and a light receiving element such as a photodiode (PD, APD).
<電子機器>
上述したような本発明に係る光導波路は、伝送効率が高く、かつ他の光学部品との光結合効率に優れたものである。このため、本発明の光導波路を備えることにより、高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器(本発明の電子機器)が得られる。
<Electronic equipment>
The optical waveguide according to the present invention as described above has high transmission efficiency and excellent optical coupling efficiency with other optical components. For this reason, by providing the optical waveguide of the present invention, a highly reliable electronic device (electronic device of the present invention) capable of performing high-quality optical communication can be obtained.
本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できることから、電子機器の低コスト化に貢献することができる。 Examples of the electronic device including the optical waveguide of the present invention include electronic devices such as a mobile phone, a game machine, a router device, a WDM device, a personal computer, a television, and a home server. In any of these electronic devices, it is necessary to transmit a large amount of data at high speed between an arithmetic device such as an LSI and a storage device such as a RAM. Therefore, since such an electronic device includes the optical waveguide of the present invention, problems such as noise and signal degradation peculiar to electric wiring are eliminated, and a dramatic improvement in performance can be expected. This can contribute to cost reduction.
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。 In addition, the amount of heat generated in the optical waveguide portion is greatly reduced compared to electrical wiring. For this reason, the electric power required for cooling can be reduced and the power consumption of the whole electronic device can be reduced.
以上、本発明の光導波路、光電気混載基板および電子機器について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば光導波路には、任意の構成物が付加されていてもよい。 The optical waveguide, the opto-electric hybrid board, and the electronic device of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to this, and for example, an arbitrary component may be added to the optical waveguide.
また、傾斜面171を光入射側ミラーとして用いた場合、光出射側はコア部14の端面からコア部14の軸線に沿って光を出射させるようにしてもよく、その際、出射端にはコネクターが装着されていてもよい。一方、傾斜面を光出射側ミラーとして用いた場合、光入射側はコア部14の端面からコア部14の軸線に沿って光を入射するようにしてもよく。その際、入射端にはコネクターが装着されていてもよい。 In addition, when the inclined surface 171 is used as a light incident side mirror, the light emitting side may emit light from the end surface of the core portion 14 along the axis of the core portion 14. A connector may be attached. On the other hand, when the inclined surface is used as a light output side mirror, the light incident side may be configured to make light incident along the axis of the core portion 14 from the end surface of the core portion 14. At that time, a connector may be attached to the incident end.
また、光導波路には複数の傾斜面が形成されていてもよい。例えば2つの傾斜面が形成されている場合、一方の傾斜面を光入射側ミラーとして用い、他方の傾斜面を光出射側ミラーとして用いることができる。 In addition, a plurality of inclined surfaces may be formed in the optical waveguide. For example, when two inclined surfaces are formed, one inclined surface can be used as a light incident side mirror, and the other inclined surface can be used as a light emitting side mirror.
1 光導波路
10 積層体
10a 表面
10b 表面
100 光電気混載基板
11 クラッド層
12 クラッド層
13 コア層
14 コア部
15 側面クラッド部
170 切り欠き
171 傾斜面
172 傾斜面
172’ 直立面
176 反射膜
178 底面
179 輪郭線
179a 端部
179b 端部
179c 中央部
2 支持フィルム
3 カバーフィルム
5 電気配線基板
50 多層基板
51 コア基板
52 ビルドアップ層
521 絶縁層
522 導体層
53 貫通孔
54 ソルダーレジスト層
6 光素子
60 素子本体
61 受発光部
62 端子
63 バンプ
7 樹脂材料
9 開口
90 接着シート
A 軸線
D 最大深さ
G ギャップ
W 最大幅
W1 幅
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical waveguide 10 Laminated body 10a Surface 10b Surface 100 Opto-electric hybrid board 11 Cladding layer 12 Cladding layer 13 Core layer 14 Core part 15 Side clad part 170 Notch 171 Inclined surface 172 Inclined surface 172 'Upright surface 176 Reflective film 178 Bottom surface 179 Contour line 179a End part 179b End part 179c Center part 2 Support film 3 Cover film 5 Electric wiring board 50 Multilayer board 51 Core board 52 Build-up layer 521 Insulating layer 522 Conductor layer 53 Through hole 54 Solder resist layer 6 Optical element 60 Element body 61 Light emitting / receiving section 62 Terminal 63 Bump 7 Resin material 9 Opening 90 Adhesive sheet A Axis D Maximum depth G Gap W Maximum width W 1 width
Claims (9)
前記第2クラッド層側から前記コア部に向けて形成され、前記コア部の軸線に対して傾斜する傾斜面を備える切り欠きと、を有し、
前記傾斜面の前記第1クラッド層側の輪郭線は、その中央部が両端部よりも前記第1クラッド層側に位置することを特徴とする光導波路。 A laminated body in which a first cladding layer, a core layer in which a core portion is formed, and a second cladding layer are laminated;
A notch provided with an inclined surface that is formed from the second cladding layer side toward the core portion and is inclined with respect to the axis of the core portion;
The contour of the inclined surface on the first clad layer side is such that the center portion is located closer to the first clad layer side than both ends.
前記光導波路に積層され、表面に電気配線を備える電気配線基板と、を有することを特徴とする光電気混載基板。 An optical waveguide according to any one of claims 1 to 7,
An opto-electric hybrid board, comprising: an electric wiring board laminated on the optical waveguide and provided with electric wiring on a surface thereof.
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