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JP2015071198A - Grinding method of plate-like object - Google Patents

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JP2015071198A
JP2015071198A JP2013207468A JP2013207468A JP2015071198A JP 2015071198 A JP2015071198 A JP 2015071198A JP 2013207468 A JP2013207468 A JP 2013207468A JP 2013207468 A JP2013207468 A JP 2013207468A JP 2015071198 A JP2015071198 A JP 2015071198A
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JP
Japan
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grinding
plate
stress
stress detection
detection step
Prior art date
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Application number
JP2013207468A
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Japanese (ja)
Inventor
大野 勝利
Katsutoshi Ono
勝利 大野
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Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a grinding method of a plate-like object which can suppress a possibility of breakage due to internal stress.SOLUTION: A grinding method of a plate-like object 11 includes: a stress detection step of detecting internal stress of a plate-like object by propagating an ultrasonic wave U to the plate-like object; a grinding condition setting step of setting a grinding condition in accordance with the internal stress of the plate-like object detected by the stress detection step; and a grinding step of grinding the plate-like object with grinding means by using the grinding condition set by the grinding condition setting step.

Description

本発明は、半導体ウェーハや光デバイスウェーハに代表される板状物の研削方法に関する。   The present invention relates to a grinding method for a plate-like object represented by a semiconductor wafer or an optical device wafer.

近年、小型軽量なデバイスを実現するために、半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等の板状物を薄く研削することが求められている。研削装置の保持テーブルに板状物を保持させて、回転する研削ホイールを板状物の被加工面に押し付けることで、板状物を研削できる(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, in order to realize a small and lightweight device, it is required to thinly grind a plate-like object such as a semiconductor wafer or an optical device wafer. A plate-like object can be ground by holding the plate-like object on a holding table of a grinding apparatus and pressing a rotating grinding wheel against a work surface of the plate-like object (see, for example, Patent Document 1).

特開2011−41991号公報JP 2011-41991 A

ところで、表面にデバイスが形成された半導体ウェーハや、エピタキシャル膜が形成された光デバイスウェーハ、デバイスをモールド材で封止したWL−CSP(Wafer Level−Chip Size Package)ウェーハ等の内部には、積層構造に起因する大きな応力(内部応力)が発生している。   By the way, inside a semiconductor wafer having a device formed on the surface, an optical device wafer having an epitaxial film formed thereon, a WL-CSP (Wafer Level-Chip Size Package) wafer in which the device is sealed with a molding material, etc. are laminated. A large stress (internal stress) due to the structure is generated.

そのため、これらの板状物を薄く研削すると、内部応力で板状物が反り、場合によっては板状物が破損してしまう。通常、これらの板状物には多数のデバイスが形成されているので、1枚の板状物が破損すると多くのデバイスに不良を生じ、損失は極めて大きくなる。   Therefore, when these plate-like objects are thinly ground, the plate-like objects warp due to internal stress, and in some cases, the plate-like objects are damaged. Usually, since many devices are formed in these plate-shaped objects, if one plate-shaped object is damaged, many devices will be defective and loss will become very large.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、内部応力による破損の可能性を低く抑えることができる板状物の研削方法を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a method for grinding a plate-like object that can suppress the possibility of damage due to internal stress.

本発明によれば、板状物の研削方法であって、板状物に超音波を伝播させて板状物の内部応力を検出する応力検出ステップと、該応力検出ステップで検出された板状物の内部応力に応じて研削条件を設定する研削条件設定ステップと、該研削条件設定ステップで設定された該研削条件を用いて板状物を研削手段で研削する研削ステップと、を備えたことを特徴とする板状物の研削方法が提供される。   According to the present invention, there is provided a grinding method for a plate-like object, in which an ultrasonic wave is propagated through the plate-like object to detect an internal stress of the plate-like object, and the plate-like shape detected in the stress detection step. A grinding condition setting step for setting grinding conditions according to the internal stress of the object, and a grinding step for grinding the plate-like object by a grinding means using the grinding conditions set in the grinding condition setting step. A plate-like object grinding method is provided.

また、本発明において、該応力検出ステップで検出された板状物の内部応力が所定の値を超えた場合に研削を実施しないと判断する判断ステップを更に備えることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to further include a determination step of determining that grinding is not performed when the internal stress of the plate-like object detected in the stress detection step exceeds a predetermined value.

本発明の板状物の研削方法は、板状物に超音波を伝播させて内部応力を検出すると共に、検出された内部応力に対応する研削条件で板状物を研削するので、内部応力による板状物の破損の可能性を低く抑えることができる。   The plate-like object grinding method of the present invention detects internal stress by propagating ultrasonic waves to the plate-like object, and grinds the plate-like object under the grinding conditions corresponding to the detected internal stress. The possibility of breakage of the plate-like object can be kept low.

本実施の形態に係る応力検出ステップを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the stress detection step which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る研削ステップを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the grinding step which concerns on this Embodiment.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。本実施の形態に係る板状物の研削方法は、応力検出ステップ(図1参照)、研削条件設定ステップ、研削ステップ(図2参照)を含む。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The plate-like object grinding method according to the present embodiment includes a stress detection step (see FIG. 1), a grinding condition setting step, and a grinding step (see FIG. 2).

応力検出ステップでは、板状物に超音波を伝播させる複屈折音弾性法(音弾性法)を利用して応力(内部応力)を検出する。研削条件設定ステップでは、検出された応力に応じて板状物が破損し難い研削条件を設定する。研削ステップでは、設定された研削条件で板状物を研削する。以下、本実施の形態に係る板状物の研削方法について詳述する。   In the stress detection step, stress (internal stress) is detected using a birefringent acoustoelastic method (acoustoelastic method) in which ultrasonic waves are propagated through the plate-like object. In the grinding condition setting step, grinding conditions are set such that the plate-like object is not easily damaged according to the detected stress. In the grinding step, the plate-like object is ground under the set grinding conditions. Hereinafter, the grinding method of the plate-shaped object which concerns on this Embodiment is explained in full detail.

本実施の形態の板状物の研削方法では、まず、板状物の応力を検出する応力検出ステップを実施する。図1は、本実施の形態に係る応力検出ステップを模式的に示す図である。図1に示すように、応力検出ステップは、応力検出装置2を用いて実施される。   In the plate-like object grinding method of the present embodiment, first, a stress detection step of detecting the stress of the plate-like object is performed. FIG. 1 is a diagram schematically showing a stress detection step according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the stress detection step is performed using a stress detection device 2.

応力検出装置2は、伝播方向に対して垂直な方向に振動する超音波Uを発振すると共に、その反射波Rを検出可能な圧電素子4を備えている。圧電素子4は、板状物11の厚さ方向に超音波Uを伝播させることができるように、被加工物11の表面に配置される。   The stress detection device 2 includes a piezoelectric element 4 that oscillates an ultrasonic wave U that vibrates in a direction perpendicular to the propagation direction and can detect the reflected wave R. The piezoelectric element 4 is disposed on the surface of the workpiece 11 so that the ultrasonic wave U can propagate in the thickness direction of the plate-like object 11.

板状物11は、サファイアウェーハ13の表面側に、光デバイスを構成するエピタキシャル膜15が設けられた光デバイスウェーハである。ただし、板状物11の構成はこれに限定されない。例えば、表面にデバイスが形成された半導体ウェーハや、デバイスをモールド材で封止したWL−CSP(Wafer Level−Chip Size Package)ウェーハ等を板状物11としても良い。   The plate-like object 11 is an optical device wafer in which an epitaxial film 15 constituting an optical device is provided on the surface side of the sapphire wafer 13. However, the configuration of the plate-like object 11 is not limited to this. For example, a semiconductor wafer having a device formed on the surface, a WL-CSP (Wafer Level-Chip Size Package) wafer in which the device is sealed with a molding material, or the like may be used as the plate-like object 11.

圧電素子4には、音速測定装置6が接続されている。この音速測定装置6は、例えば、シング・アラウンド方式で音速を測定する装置であり、超音波Uの発振から反射波Rの検出までに要する時間(伝播時間)を積算して、超音波U(及び反射波R)の伝播速度(音速)を算出する。   A sound speed measuring device 6 is connected to the piezoelectric element 4. The sound velocity measuring device 6 is a device that measures the sound velocity by, for example, a single-around method, and integrates the time (propagation time) required from the oscillation of the ultrasonic wave U to the detection of the reflected wave R to obtain the ultrasonic wave U ( And the propagation speed (sound speed) of the reflected wave R) is calculated.

音速測定装置6には、演算装置8が接続されている。演算装置8は、例えば、下記式(1)に基づいて、板状物11の応力に相当する音響異方性aを算出する。なお、下記式(1)において、vは、伝播方向に対して垂直な第1方向に振動する超音波U(又は反射波R)の伝播速度を示し、vは、伝播方向及び第1方向に対して垂直な第2方向に振動する超音波U(又は反射波R)の伝播速度を示す。 An arithmetic device 8 is connected to the sound speed measuring device 6. The computing device 8 calculates the acoustic anisotropy a corresponding to the stress of the plate-like object 11 based on the following formula (1), for example. In the following formula (1), v 1 indicates the propagation speed of the ultrasonic wave U (or reflected wave R) that vibrates in the first direction perpendicular to the propagation direction, and v 2 indicates the propagation direction and the first direction. The propagation speed of the ultrasonic wave U (or reflected wave R) oscillating in the second direction perpendicular to the direction is shown.

Figure 2015071198
Figure 2015071198

本実施の形態に係る応力検出ステップでは、上述した応力検出装置2を用い、複屈折音弾性法で板状物11の応力を検出する。ここで、複屈折音弾性法とは、互いに直交する方向に偏向する2つの弾性振動波(音波)の速度差が主応力差に比例する現象を利用した応力検出方法である。   In the stress detection step according to the present embodiment, the stress of the plate-like object 11 is detected by the birefringent acoustoelastic method using the stress detection device 2 described above. Here, the birefringent acoustoelastic method is a stress detection method that uses a phenomenon in which the velocity difference between two elastic vibration waves (sound waves) deflected in directions orthogonal to each other is proportional to the main stress difference.

複屈折音弾性法では、上記式(1)に示すように、対象内部の応力を、無次元化された音響異方性(音響複屈折)aとして数値化する。よって、応力検出ステップにおいては、まず、板状物11の厚さ方向と垂直な第1方向に偏向する超音波Uを圧電素子4で発振させて、その反射波Rを検出し、音速測定装置6で伝播速度vを算出する。 In the birefringence acoustoelastic method, as shown in the above formula (1), the stress inside the object is quantified as a non-dimensionalized acoustic anisotropy (acoustic birefringence) a. Therefore, in the stress detection step, first, the ultrasonic wave U deflected in the first direction perpendicular to the thickness direction of the plate-like object 11 is oscillated by the piezoelectric element 4, the reflected wave R is detected, and the sound speed measuring device is detected. 6, the propagation velocity v 1 is calculated.

また、板状物11の厚さ方向及び第1方向と垂直な第2方向に偏向する超音波Uを圧電素子4で発振させて、その反射波Rを検出し、音速測定装置6で伝播速度vを算出する。第2方向に偏向する超音波Uは、例えば、圧電素子4を、被加工物11の表面と平行な面内において90度回転させることにより発振される。伝播速度v,vを算出した後には、演算装置8で板状物11の音響異方性aを算出する。 In addition, the ultrasonic wave U deflected in the thickness direction of the plate-like object 11 and the second direction perpendicular to the first direction is oscillated by the piezoelectric element 4, the reflected wave R is detected, and the propagation velocity is detected by the sound velocity measuring device 6. v to calculate the 2. The ultrasonic wave U deflected in the second direction is oscillated, for example, by rotating the piezoelectric element 4 by 90 degrees in a plane parallel to the surface of the workpiece 11. After calculating the propagation velocities v 1 and v 2 , the calculation unit 8 calculates the acoustic anisotropy a of the plate-like object 11.

上述のように、複屈折音弾性法では、残留応力等の応力に相当する音響異方性aを非破壊で測定できるので、本実施の形態に係る応力検出ステップに適している。また、この複屈折音弾性法によれば、不透明な板状物11の応力に相当する音響異方性aを検出することもできる。   As described above, the birefringent acoustoelastic method is suitable for the stress detection step according to the present embodiment because the acoustic anisotropy a corresponding to stress such as residual stress can be measured nondestructively. Further, according to this birefringent acoustoelastic method, the acoustic anisotropy a corresponding to the stress of the opaque plate-like object 11 can also be detected.

なお、上述のようにして得られる音響異方性aは、応力に換算されても良い。例えば、応力と音響異方性aとの関係を示すテーブルを予め用意しておくことで、音響異方性aを応力に換算できる。このテーブルは、例えば、演算装置8内のメモリ(不図示)に格納しておけばよい。   The acoustic anisotropy a obtained as described above may be converted into stress. For example, the acoustic anisotropy a can be converted into stress by preparing in advance a table showing the relationship between the stress and the acoustic anisotropy a. This table may be stored, for example, in a memory (not shown) in the arithmetic device 8.

応力検出ステップの後には、検出された応力に応じて板状物11の研削条件を設定する研削条件設定ステップを実施する。後の研削ステップにおいて板状物11を研削する研削装置10(図2参照)のメモリ(不図示)には、例えば、以下のテーブルが格納されている。   After the stress detection step, a grinding condition setting step for setting grinding conditions for the plate-like object 11 according to the detected stress is performed. For example, the following table is stored in a memory (not shown) of the grinding apparatus 10 (see FIG. 2) for grinding the plate-like object 11 in the subsequent grinding step.

Figure 2015071198
Figure 2015071198

応力検出ステップで検出された板状物11の応力(又は音響異方性a)は、応力検出装置2から研削装置10に送られる。研削装置10のコントローラ(不図示)は、応力検出装置2から受け取った応力及び上記テーブルを参照して研削条件を設定(選定)する。   The stress (or acoustic anisotropy a) of the plate-like object 11 detected in the stress detection step is sent from the stress detection device 2 to the grinding device 10. A controller (not shown) of the grinding apparatus 10 sets (selects) grinding conditions with reference to the stress received from the stress detection apparatus 2 and the table.

すなわち、研削装置10のコントローラは、板状物11の応力が100〜200(MPa)の場合に、研削送り速度(スピンドル16(図2参照)の下降速度)を2(μm/s)に設定し、板状物11の応力が200〜300(MPa)の場合に、研削送り速度を1(μm/s)に設定する。また、板状物11の応力が300〜400(MPa)の場合に、研削送り速度を0.5(μm/s)に設定し、板状物11の応力が400〜500(MPa)の場合に、研削送り速度を0.3(μm/s)に設定する。   That is, the controller of the grinding apparatus 10 sets the grinding feed speed (the descending speed of the spindle 16 (see FIG. 2)) to 2 (μm / s) when the stress of the plate-like object 11 is 100 to 200 (MPa). When the stress of the plate-like object 11 is 200 to 300 (MPa), the grinding feed rate is set to 1 (μm / s). When the stress of the plate-like object 11 is 300 to 400 (MPa), the grinding feed rate is set to 0.5 (μm / s), and the stress of the plate-like object 11 is 400 to 500 (MPa) In addition, the grinding feed rate is set to 0.3 (μm / s).

さらに、研削装置10のコントローラは、板状物11の応力が500(MPa)を超える場合に、研削不可と判定し、板状物11の研削を回避する。このように、研削条件設定ステップにおいて、板状物11の応力が所定の値を超える場合に研削不可(研削を実施しない)と判断する判断ステップを備えることで、研削装置10内において板状物11が破損する可能性を低減できる。これにより、研削装置10のメンテナンスが容易になる。   Furthermore, the controller of the grinding device 10 determines that grinding is impossible when the stress of the plate-like object 11 exceeds 500 (MPa), and avoids grinding of the plate-like object 11. As described above, in the grinding condition setting step, when the stress of the plate-like object 11 exceeds a predetermined value, the plate-like object is determined in the grinding apparatus 10 by determining that grinding is impossible (grinding is not performed). The possibility that 11 will break can be reduced. Thereby, the maintenance of the grinding apparatus 10 becomes easy.

なお、この研削条件設定ステップでは、板状物11の応力に応じて研削送り速度を設定しているが、研削条件設定ステップにおいて設定される研削条件は研削送り速度に限定されない。例えば、供給される水の量や、チャックテーブル12(図2参照)の回転数、スピンドル16の回転数等の研削条件を研削条件設定ステップにおいて設定しても良い。   In this grinding condition setting step, the grinding feed speed is set according to the stress of the plate-like object 11, but the grinding condition set in the grinding condition setting step is not limited to the grinding feed speed. For example, grinding conditions such as the amount of water to be supplied, the number of rotations of the chuck table 12 (see FIG. 2), and the number of rotations of the spindle 16 may be set in the grinding condition setting step.

研削条件設定ステップ(判断ステップを含む)の後には、設定された研削条件で板状物11を研削する研削ステップを実施する。図2は、研削ステップを模式的に示す斜視図である。   After the grinding condition setting step (including the determination step), a grinding step for grinding the plate-like object 11 under the set grinding conditions is performed. FIG. 2 is a perspective view schematically showing the grinding step.

図2に示すように、研削装置10は、板状物11を吸引保持する保持テーブル12を備えている。保持テーブル12の下方には、回転機構(不図示)が設けられており、保持テーブル12は、この回転機構で鉛直軸の周りに回転する。また、保持テーブル12の下方には、移動機構(不図示)が設けられており、保持テーブル12は、この移動機構で水平方向に移動する。   As shown in FIG. 2, the grinding apparatus 10 includes a holding table 12 that sucks and holds the plate-like object 11. A rotating mechanism (not shown) is provided below the holding table 12, and the holding table 12 rotates around the vertical axis by this rotating mechanism. Further, a moving mechanism (not shown) is provided below the holding table 12, and the holding table 12 moves in the horizontal direction by this moving mechanism.

保持テーブル12の表面は、板状物11を吸引保持する保持面となっている。この保持面には、保持テーブル12の内部に形成された流路(不図示)を通じて吸引源(不図示)の負圧が作用し、板状物11を吸引する吸引力が発生する。   The surface of the holding table 12 is a holding surface for sucking and holding the plate-like object 11. A negative pressure of a suction source (not shown) acts on the holding surface through a flow path (not shown) formed inside the holding table 12, and a suction force for sucking the plate-like object 11 is generated.

保持テーブル12の上方には研削機構(研削手段)14が配置されている。研削機構14は、鉛直軸の周りに回転するスピンドル16を備えている。スピンドル16は、昇降機構(不図示)で昇降される。   A grinding mechanism (grinding means) 14 is disposed above the holding table 12. The grinding mechanism 14 includes a spindle 16 that rotates about a vertical axis. The spindle 16 is lifted and lowered by a lifting mechanism (not shown).

スピンドル16の下端側には、円盤状のホイールマウント18が固定されており、このホイールマウント18には、研削ホイール20が装着されている。研削ホイール20は、アルミニウム、ステンレス等の金属材料で形成されたホイール基台20aを備えている。ホイール基台20aの円環状の下面には、全周にわたって複数の研削砥石20bが固定されている。   A disc-shaped wheel mount 18 is fixed to the lower end side of the spindle 16, and a grinding wheel 20 is attached to the wheel mount 18. The grinding wheel 20 includes a wheel base 20a formed of a metal material such as aluminum or stainless steel. A plurality of grinding wheels 20b are fixed to the annular lower surface of the wheel base 20a over the entire circumference.

研削ステップでは、まず、板状物11の表面側(エピタキシャル膜側)に保護テープ21を貼着する。次に、この保護テープ21側を保持テーブル12の保持面に接触させて、吸引源の負圧を作用させる。これにより、板状物11は、保護テープ21を介して保持テーブル12に吸引保持される。この状態では、板状物11の裏面側が上方に露出されている。   In the grinding step, first, the protective tape 21 is attached to the surface side (epitaxial film side) of the plate-like object 11. Next, the side of the protective tape 21 is brought into contact with the holding surface of the holding table 12 to apply a negative pressure of the suction source. Thereby, the plate-like object 11 is sucked and held by the holding table 12 via the protective tape 21. In this state, the back side of the plate-like object 11 is exposed upward.

次に、保持テーブル12とスピンドル16とを、それぞれ所定の回転方向に回転させつつ、スピンドル16を下降させ、図2に示すように、板状物11の裏面側に研削砥石20bを接触させる。   Next, the spindle 16 is lowered while rotating the holding table 12 and the spindle 16 in predetermined rotation directions, and the grinding wheel 20b is brought into contact with the back surface side of the plate-like object 11 as shown in FIG.

スピンドル16は、研削条件設定ステップで設定された所定の研削送り速度で下降する。これにより、板状物11を破損させることなく研削できる。板状物11が仕上げ厚さまで研削されると、研削ステップは終了する。なお、板状物11の厚さは、厚さ測定装置(不図示)でリアルタイムに測定される。   The spindle 16 descends at a predetermined grinding feed speed set in the grinding condition setting step. Thereby, it can grind, without damaging the plate-shaped object 11. FIG. When the plate-like object 11 is ground to the finished thickness, the grinding step is finished. In addition, the thickness of the plate-like object 11 is measured in real time by a thickness measuring device (not shown).

以上のように、本実施の形態に係る板状物の研削方法は、板状物11に超音波Uを伝播させて応力(内部応力)を検出すると共に、検出された応力に対応する研削条件で板状物11を研削するので、応力による板状物11の破損の可能性を低く抑えることができる。   As described above, the plate-like object grinding method according to the present embodiment detects the stress (internal stress) by propagating the ultrasonic wave U to the plate-like object 11, and the grinding condition corresponding to the detected stress. Since the plate-like object 11 is ground by this, the possibility of damage to the plate-like object 11 due to stress can be kept low.

なお、本発明は上記実施の形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施の形態では、応力検出ステップにおいて板状物11に超音波Uを伝播させているが、板状物11に伝播させる音波(弾性振動波)の周波数(振動数)は特に限定されない。例えば、可聴域の音波を板状物11に伝播させても良い。   In addition, this invention is not limited to description of the said embodiment, A various change can be implemented. For example, in the above embodiment, the ultrasonic wave U is propagated to the plate-like object 11 in the stress detection step, but the frequency (frequency) of the sound wave (elastic vibration wave) propagated to the plate-like object 11 is not particularly limited. . For example, sound waves in the audible range may be propagated to the plate-like object 11.

また、上記実施の形態では、1個の圧電素子4を90度回転させることで第1方向及び第2方向に偏向する超音波Uを発振しているが、第1方向に偏向する超音波を発振する圧電素子と第2方向に偏向する超音波を発振する圧電素子とを別に設けても良い。同様に、発振用の圧電素子と、検出用の圧電素子とを別に設けることもできる。   Further, in the above embodiment, the ultrasonic wave U deflected in the first direction and the second direction is oscillated by rotating one piezoelectric element 4 by 90 degrees, but the ultrasonic wave deflected in the first direction is oscillated. A piezoelectric element that oscillates and a piezoelectric element that oscillates an ultrasonic wave deflected in the second direction may be provided separately. Similarly, an oscillation piezoelectric element and a detection piezoelectric element can be provided separately.

また、上記実施の形態では、研削条件設定ステップ(判断ステップを含む)において、あらかじめ用意されたテーブルから研削条件を選定しているが、研削条件は任意の方法で設定できる。例えば、検出された応力及びオペレータの経験に基づいて研削条件を設定しても良い。   In the above embodiment, the grinding condition is selected from a table prepared in advance in the grinding condition setting step (including the determination step). However, the grinding condition can be set by any method. For example, the grinding conditions may be set based on the detected stress and operator experience.

また、応力検出ステップ及び研削条件設定ステップ(判断ステップを含む)は、複数回繰り返し実施されても良い。例えば、研削の進行に応じて応力が変化するような板状物11を研削する場合には、任意のタイミングで応力検出ステップを再び実施して、研削条件を設定し直すことができる。これにより、研削の進行に伴う応力の変化に対応できるので、板状物11の破損の可能性をさらに低く抑えることができる。もちろん、応力が変化しない板状物11の研削においては、応力検出ステップ及び研削条件設定ステップを1回実施するだけで構わない。   Further, the stress detection step and the grinding condition setting step (including the determination step) may be repeated a plurality of times. For example, when grinding the plate-like object 11 whose stress changes with the progress of grinding, the stress detection step can be performed again at an arbitrary timing to reset the grinding conditions. Thereby, since it can respond to the change of the stress accompanying the progress of grinding, the possibility of breakage of the plate-like object 11 can be further reduced. Of course, in the grinding of the plate-like object 11 where the stress does not change, the stress detection step and the grinding condition setting step need only be performed once.

また、上記実施の形態では、応力検出装置2と研削装置10とを別に設けているが、応力検出装置2は研削装置10に組み込まれていても良い。その他、上記実施の形態に係る構成、方法などは、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。   Moreover, in the said embodiment, although the stress detection apparatus 2 and the grinding apparatus 10 are provided separately, the stress detection apparatus 2 may be integrated in the grinding apparatus 10. FIG. In addition, the configurations, methods, and the like according to the above-described embodiments can be changed as appropriate without departing from the scope of the object of the present invention.

11 板状物
13 サファイアウェーハ
15 エピタキシャル膜
21 保護テープ
2 応力検出装置
4 圧電素子
6 音速測定装置
8 演算装置
10 研削装置
12 保持テーブル
14 研削機構(研削手段)
16 スピンドル
18 ホイールマウント
20 研削ホイール
20a ホイール基台
20b 研削砥石
U 超音波
R 反射波
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Plate-like object 13 Sapphire wafer 15 Epitaxial film 21 Protective tape 2 Stress detector 4 Piezoelectric element 6 Sonic measuring device 8 Arithmetic device 10 Grinding device 12 Holding table 14 Grinding mechanism (grinding means)
16 Spindle 18 Wheel mount 20 Grinding wheel 20a Wheel base 20b Grinding wheel U Ultrasonic wave R Reflected wave

Claims (2)

板状物の研削方法であって、
板状物に超音波を伝播させて板状物の内部応力を検出する応力検出ステップと、
該応力検出ステップで検出された板状物の内部応力に応じて研削条件を設定する研削条件設定ステップと、
該研削条件設定ステップで設定された該研削条件を用いて板状物を研削手段で研削する研削ステップと、を備えたことを特徴とする板状物の研削方法。
A method for grinding a plate-like object,
A stress detection step for detecting the internal stress of the plate-like object by propagating ultrasonic waves to the plate-like object;
A grinding condition setting step for setting grinding conditions according to the internal stress of the plate-like object detected in the stress detection step;
And a grinding step of grinding the plate-like object by a grinding means using the grinding condition set in the grinding condition setting step.
該応力検出ステップで検出された板状物の内部応力が所定の値を超えた場合に研削を実施しないと判断する判断ステップを更に備えたことを特徴とする請求項1に記載の板状物の研削方法。
2. The plate-like object according to claim 1, further comprising a judgment step of judging that grinding is not performed when the internal stress of the plate-like object detected in the stress detection step exceeds a predetermined value. Grinding method.
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