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JP2014517110A - Thermosetting light reflecting resin composition and manufacturing method thereof, optical semiconductor element mounting reflector manufactured by thermosetting light reflecting resin composition, and optical semiconductor device including the same - Google Patents

Thermosetting light reflecting resin composition and manufacturing method thereof, optical semiconductor element mounting reflector manufactured by thermosetting light reflecting resin composition, and optical semiconductor device including the same Download PDF

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JP2014517110A
JP2014517110A JP2014511293A JP2014511293A JP2014517110A JP 2014517110 A JP2014517110 A JP 2014517110A JP 2014511293 A JP2014511293 A JP 2014511293A JP 2014511293 A JP2014511293 A JP 2014511293A JP 2014517110 A JP2014517110 A JP 2014517110A
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thermosetting light
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reflecting resin
composition according
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ウー チョウ,サン
フイ チョウ,チュル
コク ワン,プン
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株式會社ネペスエーエムシー
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Abstract

本発明は、熱硬化型光反射用樹脂組成物及びその製造方法、熱硬化型光反射用樹脂組成物によって製造された光半導体素子搭載用反射板及びそれを含む光半導体装置に関する。より具体的に、本発明は、熱硬化型光反射用樹脂組成物で硬化促進剤としてヒドロキシ基を有するポリオールを含ませ、耐変色性が良く、光反射率低下が少ない熱硬化型光反射用樹脂組成物及びその製造方法、熱硬化型光反射用樹脂組成物によって製造された光半導体素子搭載用反射板及びそれを含む光半導体装置に関する。
【選択図】図1
The present invention relates to a thermosetting light reflecting resin composition and a method for producing the same, a reflecting plate for mounting an optical semiconductor element manufactured using the thermosetting light reflecting resin composition, and an optical semiconductor device including the same. More specifically, the present invention is a thermosetting light reflecting resin composition containing a polyol having a hydroxyl group as a curing accelerator, having good discoloration resistance and low light reflectivity reduction. The present invention relates to a resin composition, a manufacturing method thereof, a reflecting plate for mounting an optical semiconductor element manufactured by a thermosetting light reflecting resin composition, and an optical semiconductor device including the same.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、熱硬化型光反射用樹脂組成物及びその製造方法、熱硬化型光反射用樹脂組成物によって製造された光半導体素子搭載用反射板及びそれを含む光半導体装置に関する。より具体的に、本発明は、熱硬化型光反射用樹脂組成物において硬化促進剤として2個以上のヒドロキシ基を有する多価ポリオールを含ませ、耐変色性が良いため黄変又は変色が発生せず、光反射率の低下が少ない熱硬化型光反射用樹脂組成物及びその製造方法、熱硬化型光反射用樹脂組成物によって製造された光半導体素子搭載用反射板及びそれを含む光半導体装置に関する。 The present invention relates to a thermosetting light reflecting resin composition and a method for producing the same, a reflecting plate for mounting an optical semiconductor element manufactured using the thermosetting light reflecting resin composition, and an optical semiconductor device including the same. More specifically, the present invention includes a polyhydric polyol having two or more hydroxy groups as a curing accelerator in the thermosetting light reflecting resin composition, and yellowing or discoloration occurs due to good discoloration resistance. Without reducing the light reflectivity, a thermosetting light reflecting resin composition and a method for manufacturing the same, a reflecting plate for mounting an optical semiconductor element manufactured using the thermosetting light reflecting resin composition, and an optical semiconductor including the same Relates to the device.

LED(light emitting diode)は、反射板に発光素子を搭載し、エポキシ樹脂などで封止してなる発光装置である。このようなLEDは、小型で且つ軽量であるため各種の器具類に装着しやすく、振動やオン/オフの繰り返しに強いため寿命が長いだけでなく、発色が鮮明かつ目立つため優れた視認性を有しており、電力消費量が少ないという長所を有する。このようなLEDのうち、紫外線発光素子と、この紫外線発光素子から発生する紫外線によって白色に発光する蛍光体とを備えた白色LEDは、携帯電話、コンピューター、テレビジョンなどの液晶表示画面のバックライト、自動車のヘッドライトや計器パネル、照明器具などの光源として注目を集めている。 An LED (light emitting diode) is a light emitting device in which a light emitting element is mounted on a reflection plate and sealed with an epoxy resin or the like. These LEDs are small and lightweight, so they can be easily mounted on various instruments, and they are not only long-lived because they are strong against vibration and repeated on / off, but also have excellent visibility because the color is clear and conspicuous. And has the advantage of low power consumption. Among such LEDs, a white LED including an ultraviolet light emitting element and a phosphor that emits white light by ultraviolet light generated from the ultraviolet light emitting element is a backlight for liquid crystal display screens of mobile phones, computers, televisions, and the like. It is attracting attention as a light source for automobile headlights, instrument panels, and lighting fixtures.

このような装置に使用されるLED反射板には、一般に発光素子が発する光又は紫外線を高効率で反射する良好な光反射率が要求される。光反射率の低下を防止するためには、反射板自体が黄変又は変色してはならない。また、LED反射板は、長期間高熱に晒されるので、熱処理後にも高い光反射率を有さなければならない。 The LED reflector used in such a device is generally required to have a good light reflectance that reflects light or ultraviolet rays emitted from a light emitting element with high efficiency. In order to prevent a decrease in light reflectance, the reflector itself must not turn yellow or discolor. Further, since the LED reflector is exposed to high heat for a long time, it must have a high light reflectance even after heat treatment.

従来のLED反射板においては、金属箔からパンチングやエッチングなどの方法で金属配線(リードフレーム)にニッケル/銀などのめっきを施した後、白色顔料を含む熱可塑性樹脂で成形品を製造した。しかし、高輝度に対する消費者の要求に応じて、最近はLEDの定格出力が高くなり、このときに発生する高熱と紫外線は、反射板に黄変などの変色を発生させ、光反射率及び輝度を低下させる要因になると報告されている。既存の熱可塑性樹脂成形品で製造された光反射用反射板は、特に高温で光反射率を維持させるのに限界を有していた。 In a conventional LED reflector, a metal wiring (lead frame) is plated from a metal foil by a method such as punching or etching, and then a molded product is manufactured using a thermoplastic resin containing a white pigment. However, in response to consumer demand for high brightness, the rated output of LEDs has recently increased, and the high heat and ultraviolet rays generated at this time cause discoloration such as yellowing in the reflector, resulting in light reflectance and brightness. It is reported that it becomes a factor to decrease The reflector for light reflection manufactured with the existing thermoplastic resin molded product has a limit in maintaining light reflectivity especially at high temperature.

本発明の目的は、黄変又は変色が発生しない耐変色性の良い熱硬化型光反射用樹脂組成物を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a thermosetting light reflecting resin composition having good discoloration resistance that does not cause yellowing or discoloration.

本発明の他の目的は、熱処理後に光反射率が低下しない熱硬化型光反射用樹脂組成物を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a thermosetting light reflecting resin composition in which the light reflectance does not decrease after heat treatment.

本発明の更に他の目的は、熱硬化型光反射用樹脂組成物の製造方法を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide a method for producing a thermosetting light reflecting resin composition.

本発明の更に他の目的は、前記熱硬化型光反射用樹脂組成物で構成される反射板を含む光半導体素子搭載用反射板を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide an optical semiconductor element mounting reflector including the reflector composed of the thermosetting light reflecting resin composition.

本発明の更に他の目的は、前記光半導体素子搭載用反射板を含む光半導体装置を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide an optical semiconductor device including the optical semiconductor element mounting reflector.

本発明の一観点である熱硬化型光反射用樹脂組成物は、ヒドロキシ基が約2個以上の多価ポリオールを硬化促進剤として含み、前記組成物で製造された試片の下記の式1に表示される光反射率維持率が約70%以上になり得る。 The thermosetting light reflecting resin composition which is one aspect of the present invention contains a polyhydric polyol having about 2 or more hydroxy groups as a curing accelerator, and a test piece produced from the composition has the following formula 1 The light reflectance maintenance factor displayed on the screen can be about 70% or more.

<式1>
光反射率維持率(%)=180℃で168時間熱処理した後の光反射率/熱処理する前の光反射率×100
<Formula 1>
Light reflectance maintenance rate (%) = light reflectance after heat treatment at 180 ° C. for 168 hours / light reflectance before heat treatment × 100

一具体例において、前記組成物は、トランスファー成形し、150℃で3時間硬化させた後、180℃で168時間熱処理した後の光反射率維持率が70%以上になり得る。 In one embodiment, the composition may have a light reflectance maintenance ratio of 70% or more after transfer molding, curing at 150 ° C. for 3 hours, and heat treatment at 180 ° C. for 168 hours.

一具体例において、前記組成物は、トランスファー成形時のS/F(spiral flow length)が約15インチないし約45インチになり得る。 In one embodiment, the composition may have a S / F (spiral flow length) of about 15 inches to about 45 inches during transfer molding.

一具体例において、前記組成物は、トランスファー成形時のG/T(Gelation time)が約30秒ないし約70秒になり得る。 In one embodiment, the composition may have a G / T (Gelation time) of about 30 seconds to about 70 seconds during transfer molding.

一具体例において、前記組成物は、前記硬化促進剤、エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填剤及び白色顔料を含むことができる。 In one embodiment, the composition may include the curing accelerator, an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, and a white pigment.

一具体例において、前記硬化促進剤は、下記の化学式3の構造を有することができる。 In one specific example, the curing accelerator may have a structure of Formula 3 below.

<化3>
OH―(CH―[CR1―OH]―(CH―OH
(前記式において、R1は、水素又は炭素数1〜30の線形又は分枝型のアルキル基で、nは0〜20の整数で、mとpは独立的に0〜10の整数である。ただし、n、m及びpが全て0である場合は除外する。)
<Chemical Formula 3>
OH- (CH 2) m - [ CR1-OH] n - (CH 2) p -OH
(In the above formula, R1 is hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, n is an integer of 0 to 20, and m and p are independently integers of 0 to 10. (However, when n, m, and p are all 0, they are excluded.)

一具体例において、前記硬化促進剤は芳香族作用基を含まないこともある。 In one embodiment, the curing accelerator may not contain an aromatic functional group.

一具体例において、前記硬化促進剤は、前記エポキシ樹脂約100重量部に対して約3重量部ないし約49重量部で含ませることができる。 In one embodiment, the curing accelerator may be included in an amount of about 3 parts by weight to about 49 parts by weight with respect to about 100 parts by weight of the epoxy resin.

一具体例において、前記エポキシ樹脂は芳香族作用基を含まないこともある。 In one embodiment, the epoxy resin may not contain an aromatic functional group.

一具体例において、前記硬化剤は芳香族作用基を含まないこともある。 In one embodiment, the curing agent may not contain an aromatic functional group.

一具体例において、前記組成物は、離型剤及び添加剤からなる群より選ばれる一つ以上をさらに含むことができる。 In one embodiment, the composition may further include one or more selected from the group consisting of a release agent and an additive.

一具体例において、前記無機充填剤は、平均粒径(D50)が約10μm未満の無機充填剤と、平均粒径(D50)が約10μmないし約35μmの無機充填剤との混合物として含ませることができる。 In one embodiment, the inorganic filler is included as a mixture of an inorganic filler having an average particle diameter (D50) of less than about 10 μm and an inorganic filler having an average particle diameter (D50) of about 10 μm to about 35 μm. Can do.

一具体例において、前記組成物は、前記白色顔料と無機充填剤を約1:0.1ないし約1:4の重量比で含ませることができる。 In one embodiment, the composition may include the white pigment and the inorganic filler in a weight ratio of about 1: 0.1 to about 1: 4.

本発明の更に他の観点である熱硬化型光反射用樹脂組成物の製造方法は、エポキシ樹脂及び硬化剤を溶融混合し;前記混合物にヒドロキシ基が約2個以上の多価ポリオールを含む硬化促進剤、無機充填剤及び白色顔料を添加して溶融混練する段階を含むことができる。 According to still another aspect of the present invention, there is provided a method for producing a thermosetting light reflecting resin composition, comprising: melting and mixing an epoxy resin and a curing agent; curing containing a polyhydric polyol having about 2 or more hydroxy groups in the mixture A step of adding an accelerator, an inorganic filler, and a white pigment and melt-kneading can be included.

一具体例において、前記の溶融混練する段階は、約30℃ないし約50℃の温度で約30分ないし約180分間行うことができる。 In one embodiment, the melt-kneading step may be performed at a temperature of about 30 ° C. to about 50 ° C. for about 30 minutes to about 180 minutes.

本発明の更に他の観点である光半導体素子搭載用反射板は、前記熱硬化型光反射用樹脂組成物を含むことができる。 The reflecting plate for mounting an optical semiconductor element, which is still another aspect of the present invention, can include the thermosetting light reflecting resin composition.

本発明の更に他の観点である光半導体装置は、前記光半導体素子搭載用反射板を含むことができる。 An optical semiconductor device which is still another aspect of the present invention can include the optical semiconductor element mounting reflector.

本発明は、耐変色性が良く、黄変又は変色が発生しない熱硬化型光反射用樹脂組成物を提供した。また、本発明は、長期間高温に晒されたときにも光反射率が低下しない熱硬化型光反射用樹脂組成物を提供した。 The present invention provides a thermosetting light-reflective resin composition that has good discoloration resistance and does not cause yellowing or discoloration. In addition, the present invention provides a thermosetting light reflecting resin composition in which the light reflectance does not decrease even when exposed to a high temperature for a long time.

本発明の実施例1〜3の組成物と、芳香族作用基を含む硬化促進剤を含む比較例4の組成物で製造された試片を180℃で168時間熱処理した後、熟成時間(aging time)による430nm波長での光反射率を示したグラフである。Samples prepared from the compositions of Examples 1 to 3 of the present invention and the composition of Comparative Example 4 containing a curing accelerator containing an aromatic functional group were heat treated at 180 ° C. for 168 hours, and then aged. It is the graph which showed the light reflectivity in 430 nm wavelength by time. 本発明の実施例1〜3の組成物と、既存に使用される熱可塑性樹脂を含む比較例5〜7の組成物で製造された試片を180℃で168時間熱処理した後、熟成時間による430nm波長での光反射率を示したグラフである。Specimens manufactured with the compositions of Examples 1 to 3 of the present invention and the compositions of Comparative Examples 5 to 7 containing thermoplastic resins that are used in the past were heat-treated at 180 ° C. for 168 hours, and then depending on the aging time. It is the graph which showed the light reflectivity in 430 nm wavelength.

本発明の一観点である熱硬化型光反射用樹脂組成物の光反射率維持率は約70%以上になり得る。本明細書において、「光反射率維持率」とは、前記樹脂組成物で製造される試片を熱処理する前の光反射率に対する、試片を180℃で168時間熱処理した後の光反射率の比の値を意味し得る。光反射率維持率は下記の式1のように示すことができる。 The light reflectance maintenance factor of the thermosetting light reflecting resin composition which is one aspect of the present invention can be about 70% or more. In this specification, the “light reflectance maintenance factor” means the light reflectance after heat treating the specimen at 180 ° C. for 168 hours with respect to the light reflectance before heat treating the specimen manufactured with the resin composition. The ratio value of The light reflectance maintenance factor can be expressed as the following formula 1.

<式1>
光反射率維持率(%)=180℃で168時間熱処理した後の光反射率/熱処理する前の光反射率×100
<Formula 1>
Light reflectance maintenance rate (%) = light reflectance after heat treatment at 180 ° C. for 168 hours / light reflectance before heat treatment × 100

一般に、光反射用樹脂組成物で製造された試片を熱処理すると、白色から黄色系統に色が変色するが、これは、光反射率低下として示される。光反射率低下が低いほど耐変色性は高くなる。すなわち、光反射率維持率が高いほど耐変色性は高くなる。 In general, when a specimen made of a resin composition for light reflection is heat-treated, the color changes from white to yellow, which is indicated as a decrease in light reflectance. The lower the light reflectivity, the higher the discoloration resistance. That is, the higher the light reflectance maintenance rate, the higher the discoloration resistance.

前記組成物は、光反射率維持率が約70%以上、望ましくは約72%ないし約85%になり得る。 The composition may have a light reflectance maintenance factor of about 70% or more, desirably about 72% to about 85%.

前記光反射率維持率は特別に制限されないが、組成物を150℃で240秒間トランスファー成形機を用いて成形してから金型から取り外した後、150℃で後硬化を3時間行うことによって試片を製造する。その後、熱処理する前の光反射率を測定し、180℃で168時間熱処理した後、光反射率を測定して求めることができる。本発明において、前記光反射率は、約430nmの波長で測定した値を基準とする。 The light reflectance maintenance factor is not particularly limited, but the composition was molded by using a transfer molding machine at 150 ° C. for 240 seconds, removed from the mold, and then post-cured at 150 ° C. for 3 hours. Manufacture pieces. Thereafter, the light reflectance before heat treatment is measured, and after heat treatment at 180 ° C. for 168 hours, the light reflectance can be measured and obtained. In the present invention, the light reflectance is based on a value measured at a wavelength of about 430 nm.

一具体例において、前記熱硬化型光反射用樹脂組成物は、トランスファー成形時のS/F(spiral flow length)が約15インチないし約45インチ、望ましくは約24インチないし約45インチになり得る。 In one embodiment, the thermosetting light reflecting resin composition may have an S / F (spiral flow length) of about 15 inches to about 45 inches, preferably about 24 inches to about 45 inches during transfer molding. .

一具体例において、前記熱硬化型光反射用樹脂組成物は、トランスファー成形時のG/T(Gelation time)が約30秒ないし約70秒、望ましくは約57秒ないし約68秒になり得る。 In one embodiment, the thermosetting light reflecting resin composition may have a G / T (Gelation time) during transfer molding of about 30 seconds to about 70 seconds, preferably about 57 seconds to about 68 seconds.

本発明の樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填剤及び白色顔料を含むことができる。 The resin composition of the present invention can contain an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, an inorganic filler, and a white pigment.

本発明において、エポキシ樹脂としては、エポキシ樹脂成形材料として通常使用されるものを使用することができ、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂などを含むフェノール類とアルデヒド類のノボラック樹脂をエポキシ化したもの;ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アルキル置換ビスフェノールなどのジグリシジルエーテル;ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸などのポリアミンとエピクロロヒドリンの反応によって得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸などの過酸で成形して得られる線形脂肪族エポキシ樹脂;及び脂環族エポキシ樹脂などを使用することができる。エポキシ樹脂としては2種以上を混合したものを使用することもできる。 In the present invention, as the epoxy resin, those usually used as an epoxy resin molding material can be used. For example, novolaks of phenols and aldehydes including phenol novolac type epoxy resins, orthocresol novolac type epoxy resins and the like. Epoxidized resin; diglycidyl ether such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, alkyl-substituted bisphenol; glycidylamine type epoxy resin obtained by reaction of polyamine such as diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid with epichlorohydrin; olefin A linear aliphatic epoxy resin obtained by molding a bond with a peracid such as peracetic acid; and an alicyclic epoxy resin can be used. As the epoxy resin, a mixture of two or more kinds can be used.

エポキシ樹脂としては、エポキシ当量が約50g/eqないし約500g/eq、望ましくは約80g/eqないし約450g/eqのエポキシ樹脂を使用することができる。 As the epoxy resin, an epoxy resin having an epoxy equivalent of about 50 g / eq to about 500 g / eq, desirably about 80 g / eq to about 450 g / eq can be used.

望ましくは、エポキシ樹脂としては、芳香族作用基を含まないものを使用することができる。芳香族作用基を含む場合、発光素子の反射板に適用すると、発光素子の高熱によって黄変が発生し、反射板として使用できなくなることもある。例えば、エポキシ樹脂としては、オレフィン結合を過酢酸などの過酸で成形して得られる線形脂肪族エポキシ樹脂;及び脂環族エポキシ樹脂を使用することができる。 Desirably, as an epoxy resin, what does not contain an aromatic functional group can be used. When an aromatic functional group is contained, when it is applied to a reflector of a light-emitting element, yellowing occurs due to high heat of the light-emitting element, and it may not be used as a reflector. For example, as the epoxy resin, a linear aliphatic epoxy resin obtained by molding an olefin bond with a peracid such as peracetic acid; and an alicyclic epoxy resin can be used.

例えば、エポキシ樹脂のうち、透明性及び耐変色性に優れた下記の化学式1のトリグリシジルイソシアヌレート樹脂又は下記の化学式2のエポキシ樹脂を使用することができる。 For example, among the epoxy resins, a triglycidyl isocyanurate resin represented by the following chemical formula 1 or an epoxy resin represented by the following chemical formula 2 that is excellent in transparency and discoloration resistance can be used.

<化1>

Figure 2014517110
<Chemical formula 1>
Figure 2014517110

<化2>

Figure 2014517110

(前記式において、nは0〜20の整数である。) <Chemical formula 2>
Figure 2014517110

(In the above formula, n is an integer of 0 to 20.)

特に、前記化学式2のエポキシ樹脂は、エポキシ分子構造内にヒドロキシ基を1個以上含んでいるので、硬化剤との部分エステル化反応によってゲル化されず、熱によって再び溶融され得る熱硬化性樹脂のBステージ状態に製造するのに適している。 In particular, since the epoxy resin of Formula 2 contains one or more hydroxy groups in the epoxy molecular structure, it is not gelled by a partial esterification reaction with a curing agent and can be melted again by heat. It is suitable for manufacturing in the B stage state.

本発明において、硬化剤としては、特別に限定されることなく、前記エポキシ樹脂と反応可能な化合物であればいずれのものも使用することができる。硬化剤としては、酸無水物硬化剤、イソシアヌル酸硬化剤、フェノール系硬化剤などを使用することができる。硬化剤としては、2種以上を混合したものを使用することができる。 In the present invention, the curing agent is not particularly limited, and any compound that can react with the epoxy resin can be used. As the curing agent, an acid anhydride curing agent, an isocyanuric acid curing agent, a phenol curing agent, or the like can be used. As a hardening | curing agent, what mixed 2 or more types can be used.

酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナディック酸、無水ナディック酸、無水グルタル酸、無水ジメチルグルタル酸、無水ジエチルグルタル酸、無水コハク酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などを使用することができる。 Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride, Dimethyl glutaric anhydride, diethyl glutaric anhydride, succinic anhydride, methyl hexahydrophthalic anhydride, methyl tetrahydrophthalic anhydride and the like can be used.

イソシアヌル酸硬化剤としては、1,3,5―トリス(1―カルボキシメチル)イソシアヌレート、1,3,5―トリス(2―カルボキシエチル)イソシアヌレート、1,3,5―トリス(3―カルボキシプロピル)イソシアヌレート、1,3―ビス(2―カルボキシエチル)イソシアヌレートなどを挙げることができる。 Isocyanuric acid curing agents include 1,3,5-tris (1-carboxymethyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (2-carboxyethyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (3-carboxyl). Propyl) isocyanurate, 1,3-bis (2-carboxyethyl) isocyanurate, and the like.

フェノール系硬化剤としては、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノールなどのフェノール類及び/又はα―ナフトール、β―ナフトール、ジヒドロキシナフタレンなどのナフトール類と、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒドなどのアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシ)ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂;ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂などのアラルキル型フェノール樹脂;フェノール類及び/又はナフトール類とジシクロペンタジエンとの共重合によって合成されるジシクロペンタジエン型フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン型4ナフトールノボラック樹脂などのジシクロペンタジエン型フェノール樹脂;トリフェニルメタン型フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;パラキシレン及び/又はメタキシレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;又はシクロペンタジエン変性フェノール樹脂を使用することができる。 Examples of phenolic curing agents include phenols such as phenol, cresol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, aminophenol, and / or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene, and formaldehyde. , Benzaldehyde, salicylaldehyde, and other novolak-type phenol resins obtained by condensation or cocondensation in the presence of an acidic catalyst; synthesized from phenols and / or naphthols and dimethoxyparaxylene or bis (methoxy) biphenyl Phenol aralkyl resins; aralkyl type phenol resins such as biphenylene type phenol aralkyl resins and naphthol aralkyl resins; phenols and / or naphth Dicyclopentadiene-type phenolic resins such as dicyclopentadiene-type phenol novolak resin and dicyclopentadiene-type 4-naphthol novolak resin synthesized by copolymerization of tols with dicyclopentadiene; triphenylmethane-type phenol resin; terpene-modified phenol resin Paraxylene and / or metaxylene modified phenolic resin; melamine modified phenolic resin; or cyclopentadiene modified phenolic resin can be used.

望ましくは、硬化剤としては、芳香族作用基を含まないものを使用することができる。芳香族作用基を含む場合、発光ダイオードの反射板に適用すると、発光ダイオードの高熱によって黄変が発生し、反射板として使用できなくなることもある。例えば、硬化剤としては、酸無水物硬化剤及びイソシアヌル酸硬化剤からなる群より選ばれる1種以上を使用することができ、望ましくは酸無水物硬化剤を使用することができる。 Desirably, as a hardening | curing agent, what does not contain an aromatic functional group can be used. When an aromatic functional group is contained, when it is applied to a reflector of a light emitting diode, yellowing occurs due to the high heat of the light emitting diode, and it may not be used as a reflector. For example, as the curing agent, one or more selected from the group consisting of an acid anhydride curing agent and an isocyanuric acid curing agent can be used, and an acid anhydride curing agent can be desirably used.

酸無水物硬化剤としては、無色又は淡黄色の硬化剤を使用することが望ましい。 As the acid anhydride curing agent, it is desirable to use a colorless or light yellow curing agent.

硬化剤は、前記エポキシ樹脂約100重量部に対して約50重量部ないし約250重量部で含ませることができる。前記範囲内では、高温安定性及び電気的性能に優れ、熱変形温度が高く、機械的性質が良いという効果があり得る。硬化剤は、望ましくは約50重量部ないし約200重量部、より望ましくは約50重量部ないし約170重量部で含ませることができる。 The curing agent may be included in an amount of about 50 parts by weight to about 250 parts by weight with respect to about 100 parts by weight of the epoxy resin. Within the above range, there can be an effect that the high temperature stability and electrical performance are excellent, the heat distortion temperature is high, and the mechanical properties are good. The curing agent may be included in an amount of about 50 parts by weight to about 200 parts by weight, more preferably about 50 parts by weight to about 170 parts by weight.

エポキシ樹脂に対する硬化剤、特に酸無水物硬化剤の配合においては、エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対してエポキシ基と反応可能な活性基、例えば、酸無水物基を約0.5当量ないし約1.5当量にすることが望ましい。前記範囲内では、エポキシ樹脂組成物の硬化速度が遅くならなく、硬化物のガラス転移温度が低下せず、硬化物の耐湿性が低下しない。望ましくは、活性基を約0.7当量ないし約1.2当量にすることができる。 In compounding a curing agent for an epoxy resin, particularly an acid anhydride curing agent, an active group capable of reacting with an epoxy group, for example, an acid anhydride group, from about 0.5 equivalents to 1 equivalent of an epoxy group in the epoxy resin. Desirably about 1.5 equivalents. Within the said range, the cure rate of an epoxy resin composition does not become slow, the glass transition temperature of hardened | cured material does not fall, and the moisture resistance of hardened | cured material does not fall. Desirably, the active group can be about 0.7 equivalents to about 1.2 equivalents.

前記エポキシ樹脂に対する硬化剤の他にも、上述した酸無水物硬化剤をアルコールで部分エステル化したもの、又はカルボン酸硬化剤を共に使用することができる。 In addition to the curing agent for the epoxy resin, the acid anhydride curing agent described above partially esterified with alcohol or a carboxylic acid curing agent can be used together.

本発明で使用可能な硬化促進剤は、前記エポキシ樹脂及び硬化剤と反応して架橋反応を促進させる役割をする。硬化促進剤としては、ヒドロキシ基が約2個以上の多価ポリオールを使用することができる。望ましくは、硬化促進剤は、ヒドロキシ基を約3個以上有することができる。 The curing accelerator that can be used in the present invention serves to promote the crosslinking reaction by reacting with the epoxy resin and the curing agent. As the curing accelerator, a polyhydric polyol having about 2 or more hydroxy groups can be used. Desirably, the curing accelerator can have about 3 or more hydroxy groups.

硬化促進剤は、特別に制限されないが、下記の化学式3の構造を有することができる。 The curing accelerator is not particularly limited, but may have a structure represented by the following chemical formula 3.

<化3>
OH―(CH―[CR1―OH]―(CH―OH
(前記式において、R1は、水素又は炭素数1〜30の線形又は分枝型のアルキル基で、nは0〜20の整数で、mとpは独立的に0〜10の整数である。ただし、n、m及びpが全て0である場合は除外する。)
<Chemical Formula 3>
OH- (CH 2) m - [ CR1-OH] n - (CH 2) p -OH
(In the above formula, R1 is hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, n is an integer of 0 to 20, and m and p are independently integers of 0 to 10. (However, when n, m, and p are all 0, they are excluded.)

望ましくは、R1は、水素又は炭素数1〜10の線形又は分枝型のアルキル基で、nは0〜3の整数である。 Desirably, R1 is hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 3.

本発明の硬化促進剤としては、水酸基当量が約30以上、望ましくは約30ないし約200、より望ましくは約30ないし約150の硬化促進剤を使用することができる。 As the curing accelerator of the present invention, a curing accelerator having a hydroxyl group equivalent of about 30 or more, desirably about 30 to about 200, more desirably about 30 to about 150 can be used.

本発明の硬化促進剤は、芳香族作用基を含まないこともある。芳香族作用基を含む場合、反射板に製造するときに変色が発生し得る。 The curing accelerator of the present invention may not contain an aromatic functional group. When an aromatic functional group is included, discoloration may occur when the reflector is manufactured.

本発明の硬化促進剤は、前記エポキシ樹脂約100重量部に対して約3重量部ないし約49重量部で含ませることができる。前記範囲内では、エポキシ樹脂と硬化剤の架橋結合が発生しないので、組成物の未硬化状態を防止することができる。硬化促進剤は、望ましくは約5重量部ないし約45重量部で含ませることができる。 The curing accelerator of the present invention may be included in an amount of about 3 parts by weight to about 49 parts by weight with respect to about 100 parts by weight of the epoxy resin. Within the said range, since the crosslinked bond of an epoxy resin and a hardening | curing agent does not generate | occur | produce, the uncured state of a composition can be prevented. The curing accelerator may be included in an amount of about 5 parts by weight to about 45 parts by weight.

無機充填剤としては、特別に制限されることなく、例えば、シリカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムからなる群より選ばれる一つ以上を使用することができる。樹脂組成物の成形性及び難燃性の観点で、無機充填剤としては、シリカ、水酸化アルミニウム、及び水酸化マグネシウムのうち一つ以上を使用することが望ましい。 The inorganic filler is not particularly limited, and for example, one or more selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, and barium carbonate can be used. From the viewpoint of moldability and flame retardancy of the resin composition, it is desirable to use one or more of silica, aluminum hydroxide, and magnesium hydroxide as the inorganic filler.

無機充填剤の平均粒径(D50)は、約35μm以下、望ましくは約1μmないし約22μmになり得る。無機充填剤としては、平均粒径が互いに異なる2種以上を混合したものを使用することもでき、例えば、平均粒径(D50)が約10μm未満、望ましくは約1μmないし約10μmの無機充填剤と平均粒径(D50)が約10μmないし約35μmの無機充填剤とを混合したものを使用することができる。平均粒径(D50)が約10μmないし約35μmの無機充填剤を含む場合、トランスファー成形時に金型の間に発生するバリを減少させるという効果がある。しかし、無機充填剤が多すぎると、キャビティの注入口を容易に塞ぐことによって未充填が発生し得る。この場合、平均粒径(D50)が約10μm未満の無機充填剤と平均粒径(D50)が約10μmないし約35μmの無機充填剤は約1:0.1ないし約1:2.0の重量比で含ませることができる。 The average particle size (D50) of the inorganic filler can be about 35 μm or less, desirably about 1 μm to about 22 μm. As the inorganic filler, a mixture of two or more kinds having different average particle diameters may be used. For example, an inorganic filler having an average particle diameter (D50) of less than about 10 μm, preferably about 1 μm to about 10 μm. And an inorganic filler having an average particle diameter (D50) of about 10 μm to about 35 μm can be used. When the average particle diameter (D50) contains an inorganic filler having a particle size of about 10 μm to about 35 μm, there is an effect of reducing burrs generated between the molds during transfer molding. However, if there is too much inorganic filler, unfilling can occur by easily closing the cavity inlet. In this case, an inorganic filler having an average particle size (D50) of less than about 10 μm and an inorganic filler having an average particle size (D50) of about 10 μm to about 35 μm have a weight of about 1: 0.1 to about 1: 2.0. Ratios can be included.

無機充填剤は、熱硬化型光反射用樹脂組成物全体約100重量部のうち約1重量部ないし約90重量部、望ましくは約5重量部ないし約70重量部、より望ましくは約40重量部ないし約45重量部で含ませることができる。 The inorganic filler is about 1 to about 90 parts by weight, preferably about 5 to about 70 parts by weight, more preferably about 40 parts by weight, of about 100 parts by weight of the total thermosetting light reflecting resin composition. Or about 45 parts by weight.

白色顔料としては、特別に制限されることなく、酸化チタン、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、無機中空粒子などを使用することができる。 The white pigment is not particularly limited, and titanium oxide, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, inorganic hollow particles, and the like can be used.

白色顔料の平均粒径(D50)は約0.1μmないし約50μmになり得る。前記範囲内では、粒子が凝集しないので分散性が良く、硬化物の光反射特性が悪化しない。白色顔料としては、平均粒径が互いに異なる2種以上を混合したものを使用することもできる。白色顔料は、熱硬化型光反射用樹脂組成物全体約100重量部のうち約5重量部ないし約50重量部、望ましくは約10重量部ないし約40重量部、より望ましくは約15重量部ないし約35重量部で含ませることができる。 The average particle size (D50) of the white pigment can be from about 0.1 μm to about 50 μm. Within the above range, since the particles do not aggregate, the dispersibility is good and the light reflection property of the cured product does not deteriorate. As the white pigment, a mixture of two or more kinds having different average particle diameters can be used. The white pigment is about 5 parts by weight to about 50 parts by weight, preferably about 10 parts by weight to about 40 parts by weight, more preferably about 15 parts by weight to about 100 parts by weight of the total thermosetting light reflecting resin composition. About 35 parts by weight can be included.

白色顔料と無機充填剤は、約1:0.1ないし約1:4の重量比で含ませることができる。前記範囲内では、硬化物の光反射特性が悪化せず、トランスファー成形方法に適したタブレット成形に有利であり、溶解物が金型内に注入されるとき、成形品の表面で光反射を阻害するバブルの形成を減少させることができ、金型の間に漏れ出るレジンバリを減少させ、レジンバリによる金属配線(リードフレーム)の汚染を発生させないので、光半導体素子を金属配線に搭載するとき、ボンディング作業と金線の連結作業が良好に行われるという効果があり得る。白色顔料と無機充填剤は、望ましくは約1:0.2ないし約1:3の重量比で含ませることができる。 The white pigment and the inorganic filler can be included in a weight ratio of about 1: 0.1 to about 1: 4. Within the above range, the light reflection property of the cured product does not deteriorate, which is advantageous for tablet molding suitable for the transfer molding method, and when the melt is injected into the mold, the light reflection is inhibited on the surface of the molded product. The formation of bubbles can be reduced, the resin burrs leaking between the molds can be reduced, and the metal wiring (lead frame) can be prevented from being contaminated by the resin burrs. There can be an effect that the operation of connecting the work and the gold wire is performed well. The white pigment and the inorganic filler may desirably be included in a weight ratio of about 1: 0.2 to about 1: 3.

他の具体例において、本発明の組成物は、離型剤及び添加剤からなる群より選ばれる一つ以上をさらに含むことができる。 In another embodiment, the composition of the present invention may further include one or more selected from the group consisting of a release agent and an additive.

離型剤としては、特別に制限されることなく、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸エステル、脂肪族ポリエーテル、非酸化型ポリオレフィン及びカルボキシ基を有する酸化型ポリオレフィンからなる群より選ばれる一つ以上を使用することができる。離型剤としては、無色又は淡黄色の着色が少ない離型剤を使用することが望ましい。 The release agent is not particularly limited and is selected from the group consisting of aliphatic carboxylic acids, aliphatic carboxylic acid esters, aliphatic polyethers, non-oxidized polyolefins, and oxidized polyolefins having a carboxy group. The above can be used. As the mold release agent, it is desirable to use a mold release agent with little colorless or pale yellow coloring.

脂肪族カルボン酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、及びモンタン酸などの炭素数が10〜50の1価の有機酸を使用することができる。 As the aliphatic carboxylic acid, a monovalent organic acid having 10 to 50 carbon atoms such as lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, and montanic acid can be used.

脂肪族カルボン酸エステルとしては、下記の化学式4の構造を有し、炭素数3〜500のポリアルキレンエーテル化合物を使用することができる。 As the aliphatic carboxylic acid ester, a polyalkylene ether compound having a structure of the following chemical formula 4 and having 3 to 500 carbon atoms can be used.

<化4>

Figure 2014517110

(前記式において、q1は1〜20で、Rは、水素、メチル基、炭素数2〜10の有機基である。) <Chemical formula 4>
Figure 2014517110

(In the above formula, q1 is 1 to 20, and R is hydrogen, a methyl group, or an organic group having 2 to 10 carbon atoms.)

酸化型又は非酸化型のポリオレフィンとしては、数平均分子量が約500g/mol ないし約10000g/molの低分子量ポリオレフィンを使用することができる。 As the oxidized or non-oxidized polyolefin, a low molecular weight polyolefin having a number average molecular weight of about 500 g / mol to about 10,000 g / mol can be used.

離型剤は、エポキシ樹脂約100重量部に対して約0.01重量部ないし約8重量部で含ませることができる。前記範囲内では、反射板に対する接着性が悪化しない。離型剤は、望ましくは約1重量部ないし約7重量部で含ませることができる。 The release agent may be included in an amount of about 0.01 to about 8 parts by weight with respect to about 100 parts by weight of the epoxy resin. Within the said range, the adhesiveness with respect to a reflecting plate does not deteriorate. The release agent may be included in an amount of about 1 to about 7 parts by weight.

添加剤は、耐熱耐寒性に優れ、約−50℃ないし約250℃の広範囲な温度範囲で製品の弾性を維持させることができる。添加剤としては、架橋された線形ジメチルポリシロキサン構造を有するものを使用することができる。 The additive is excellent in heat and cold resistance and can maintain the elasticity of the product in a wide temperature range of about -50 ° C to about 250 ° C. As the additive, one having a crosslinked linear dimethylpolysiloxane structure can be used.

例えば、添加剤としては、下記の式5に表示される構造ユニットを含む微細シリコン粉末を使用することができる。又は、添加剤としては、下記の式5に表示される微細シリコン粉末を下記の式6のシリコンレジンでコーティングしたハイブリッドシリコン粉末を使用することができる。 For example, as the additive, fine silicon powder containing a structural unit represented by the following formula 5 can be used. Alternatively, as the additive, a hybrid silicon powder obtained by coating a fine silicon powder represented by the following formula 5 with a silicon resin represented by the following formula 6 can be used.

<化5>

Figure 2014517110
<Chemical formula 5>
Figure 2014517110

<化6>
(RSiO3/2)n
(前記式において、Rは、メチル基、フェニル基、ビニル基又は水素である。nは、2〜10,000の整数である。)
<Chemical formula 6>
(RSiO 3/2 ) n
(In the above formula, R is a methyl group, a phenyl group, a vinyl group, or hydrogen. N is an integer of 2 to 10,000.)

前記シリコン粉末の平均粒径(D50)は、約0.8μmないし約40μmになり得る。 The average particle size (D50) of the silicon powder may be about 0.8 μm to about 40 μm.

添加剤は、熱硬化型光反射用樹脂組成物全体約100重量部のうち約0.01重量部ないし約10重量部で含ませることがある。前記範囲内では、成形物に衝撃吸収性があり、耐磨耗性及び離型性向上効果がある。添加剤は、望ましくは約0.1重量部ないし約7重量部で含ませることができる。 The additive may be contained in an amount of about 0.01 to about 10 parts by weight out of about 100 parts by weight of the entire thermosetting light reflecting resin composition. Within the above range, the molded product has impact absorption, and has an effect of improving wear resistance and mold release. The additive may be included at about 0.1 to about 7 parts by weight.

本発明に係る熱硬化型光反射用樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填剤、白色顔料、離型剤、及び添加剤の他に、各種添加剤をさらに含むことができる。例えば、樹脂と無機充填剤及び白色顔料との界面接着性を向上させるという観点で、必要に応じてカップリング剤を使用することができる。カップリング剤としては、特別に制限されることなく、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤を使用することができる。シランカップリング剤としては、エポキシシラン系、アミノシラン系、陽イオン性シラン系、ビニルシラン系、アクリルシラン系、メルカプトシラン系などを使用することができる。カップリング剤は、無機充填剤に対する表面被覆量を考慮して適宜調整することが望ましい。カップリング剤は、樹脂組成物中の約5重量%以下にすることが望ましい。カップリング剤の他に、酸化防止剤、イオン捕捉剤などの添加剤を含むことができる。 The thermosetting light reflecting resin composition according to the present invention further includes various additives in addition to the epoxy resin, the curing agent, the curing accelerator, the inorganic filler, the white pigment, the release agent, and the additive. Can do. For example, a coupling agent can be used as needed from the viewpoint of improving the interfacial adhesion between the resin, the inorganic filler, and the white pigment. The coupling agent is not particularly limited, and a silane coupling agent and a titanate coupling agent can be used. As the silane coupling agent, epoxy silane, amino silane, cationic silane, vinyl silane, acrylic silane, mercapto silane, or the like can be used. It is desirable that the coupling agent is appropriately adjusted in consideration of the surface coating amount on the inorganic filler. The coupling agent is desirably about 5% by weight or less in the resin composition. In addition to the coupling agent, additives such as an antioxidant and an ion scavenger can be included.

本発明の他の観点である熱硬化型光反射用樹脂組成物の製造方法を提供する。前記方法では、上述したエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填剤及び白色顔料を混合して製造することができ、混合手段や条件などは特別に制限されない。一般に、ミキシングロール、押出器、ニーダー、ロール、エクストルーダーなどの装置を使用して各種成分を混練し、得られた混練物を冷却及び粉砕する方法で製造することができる。混練方式は特別に制限されないが、溶融混練を行うことができ、使用する各種成分の種類や配合量に応じて溶融混練時の温度と時間を調節することができる。 A method for producing a thermosetting light reflecting resin composition according to another aspect of the present invention is provided. In the said method, the epoxy resin mentioned above, a hardening | curing agent, a hardening accelerator, an inorganic filler, and a white pigment can be mixed and manufactured, and a mixing means, conditions, etc. are not restrict | limited especially. In general, various components can be kneaded using an apparatus such as a mixing roll, an extruder, a kneader, a roll or an extruder, and the obtained kneaded product can be produced by cooling and pulverizing. The kneading method is not particularly limited, but melt kneading can be performed, and the temperature and time at the time of melt kneading can be adjusted according to the type and amount of various components used.

一具体例として、各成分の配合順序には制限がないが、エポキシ樹脂、硬化剤、離型剤及び添加剤が混合された混合物を溶融できるように所定の温度、例えば、約100℃ないし約150℃に維持させ、液体溶融混合物を得る。得られた溶融混合物を再び約30℃ないし約60℃に冷却させる。残りの原料である硬化促進剤及び各種の溶融されない固体粉末である添加剤、白色顔料及び無機充填剤などを投入し、溶融混練過程を進行する。溶融混練過程では、混合物を約30℃ないし約50℃、望ましくは約35℃ないし約45℃の温度に維持させ、約50rpmないし約300rpmで約30分ないし約180分間混練することができる。溶融混練時間が30分未満であると、混合物の分散性が低下し、180分を超えると、組成物の反応による反応熱が発生するため反応制御が難しく、混合物にゲルが発生し得る。各成分の配合順序には制限がないが、まず、エポキシ樹脂、硬化剤、離型剤及び各種添加剤を予備混合し、その次に、硬化促進剤、白色顔料、無機充填剤及び溶融されない固体添加剤を配合することが望ましい。 As a specific example, there is no limitation on the order of blending the components, but a predetermined temperature, for example, about 100 ° C. to about 100 ° C., so that the mixture of the epoxy resin, the curing agent, the release agent, and the additive can be melted. Maintain at 150 ° C. to obtain a liquid molten mixture. The resulting molten mixture is again cooled to about 30 ° C to about 60 ° C. The remaining raw material curing accelerator, various additives that are unmelted solid powder, white pigment, inorganic filler, and the like are added, and the melt-kneading process proceeds. In the melt kneading process, the mixture can be maintained at a temperature of about 30 ° C. to about 50 ° C., desirably about 35 ° C. to about 45 ° C., and kneaded at about 50 rpm to about 300 rpm for about 30 minutes to about 180 minutes. If the melt-kneading time is less than 30 minutes, the dispersibility of the mixture decreases, and if it exceeds 180 minutes, reaction heat is generated due to the reaction of the composition, so that the reaction control is difficult, and gel may be generated in the mixture. There are no restrictions on the order of blending the components, but first, an epoxy resin, a curing agent, a release agent and various additives are premixed, and then a curing accelerator, a white pigment, an inorganic filler, and an unmelted solid. It is desirable to add an additive.

本発明の更に他の観点は、光半導体素子搭載用反射板を提供する。前記光半導体素子搭載用反射板は、本発明に係る熱硬化型光反射用樹脂組成物を使用して構成することができる。具体的に、光半導体素子搭載用反射板は、1個以上の凹部を有し、少なくとも前記凹部の内部側面が本発明の熱硬化型光反射用樹脂組成物で構成される反射板を含むことができる。 Still another aspect of the present invention provides a reflector for mounting an optical semiconductor element. The said optical semiconductor element mounting reflector can be comprised using the thermosetting type light reflecting resin composition which concerns on this invention. Specifically, the optical semiconductor element mounting reflector includes one or more recesses, and at least an inner side surface of the recess includes a reflector made of the thermosetting light reflecting resin composition of the present invention. Can do.

本発明の更に他の観点は、光半導体素子搭載用反射板の製造方法を提供する。前記方法は、光半導体素子搭載用反射板の内部側面を前記熱硬化型光反射用樹脂組成物で形成する段階を含むことができる。具体的には、熱硬化型光反射用樹脂組成物又はそのタブレット成形体をトランスファー成形によって製造することができる。光半導体素子搭載用反射板は、金属箔からパンチングやエッチングなどの公知の方法によって金属配線を形成する。その金属配線(リードフレーム)にニッケル/銀めっきを実施する。その後、その金属配線を金型に配置し、金型の樹脂注入口に本発明の熱硬化型光反射用樹脂組成物、すなわち、タブレット成形体の溶解物を注入する。その後、注入した樹脂組成物を金型温度約145℃ないし約190℃、成形圧力約10Kgf/cmないし約80Kgf/cmで約100秒ないし約240秒にわたって硬化させてから金型から取り外し、硬化温度約120℃ないし約180℃で約1時間ないし約5時間にわたって熱硬化させる。また、光半導体装置の金属配線(リードフレーム)上のレジンバリなどの有機物汚染を除去する工程を経た後、光半導体反射率向上及び長時間維持の目的で、熱硬化型光反射用樹脂組成物の硬化物で構成される反射鏡によって取り囲まれ、光半導体素子搭載領域になる凹部の所定の位置にニッケル/銀めっきを再び実施することができる。 Still another aspect of the present invention provides a method for manufacturing a reflecting plate for mounting an optical semiconductor element. The method may include a step of forming an inner side surface of the optical semiconductor element mounting reflector with the thermosetting light reflecting resin composition. Specifically, a thermosetting light reflecting resin composition or a tablet molded body thereof can be produced by transfer molding. In the optical semiconductor element mounting reflector, metal wiring is formed from a metal foil by a known method such as punching or etching. Nickel / silver plating is performed on the metal wiring (lead frame). Thereafter, the metal wiring is arranged in a mold, and the thermosetting light reflecting resin composition of the present invention, that is, the dissolved product of the tablet molding is injected into the resin injection port of the mold. Thereafter, the injected resin composition is cured at a mold temperature of about 145 ° C. to about 190 ° C. and a molding pressure of about 10 Kgf / cm 2 to about 80 Kgf / cm 2 for about 100 seconds to about 240 seconds, and then removed from the mold. Heat curing is performed at a curing temperature of about 120 ° C. to about 180 ° C. for about 1 hour to about 5 hours. In addition, after undergoing a process of removing organic contamination such as resin burrs on the metal wiring (lead frame) of the optical semiconductor device, the thermosetting light reflecting resin composition is used for the purpose of improving the optical semiconductor reflectance and maintaining it for a long time. Nickel / silver plating can be performed again at a predetermined position of a recess surrounded by a reflecting mirror made of a cured product and serving as an optical semiconductor element mounting region.

本発明の更に他の観点は、前記光半導体素子搭載用反射板を含む光半導体装置に関する。前記光半導体装置は、前記光半導体素子搭載用反射板、光半導体素子搭載用反射板の凹部底面に搭載される光半導体素子、及び光半導体素子を覆うように凹部内に形成される蛍光体含有透明封止樹脂層を含むことができる。前記光半導体素子としてはLEDを使用することができる。 Still another aspect of the present invention relates to an optical semiconductor device including the optical semiconductor element mounting reflector. The optical semiconductor device includes a reflection plate for mounting an optical semiconductor element, an optical semiconductor element mounted on a bottom surface of the recess of the reflection plate for mounting an optical semiconductor element, and a phosphor containing the phosphor formed in the recess so as to cover the optical semiconductor element A transparent sealing resin layer can be included. An LED can be used as the optical semiconductor element.

以下、本発明の望ましい実施例を通して本発明の構成及び作用をより詳細に説明する。ただし、これは、本発明の望ましい例示として提示されたもので、如何なる意味でも、これによって本発明が制限されると解釈することはできない。 Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail through preferred embodiments of the present invention. However, this is provided as a preferred example of the present invention and cannot be construed as limiting the present invention in any way.

ここに記載していない内容は、この技術分野で熟練した者であれば十分に技術的に類推できるので、それについての説明は省略する。 The contents not described here can be sufficiently technically analogized by those skilled in this technical field, and the description thereof will be omitted.

下記の実施例と比較例で使用された成分の具体的な仕様は、下記に示す通りである。 Specific specifications of the components used in the following examples and comparative examples are as shown below.

(1)エポキシ樹脂としてTEPIC―S(日産化学工業(株))を使用した。 (1) TEPIC-S (Nissan Chemical Industry Co., Ltd.) was used as an epoxy resin.

(2)硬化剤としてMH―700G(新日本理化学(株))を使用した。 (2) MH-700G (Shin Nihon Rikagaku) was used as a curing agent.

(3―1)硬化促進剤としてPEP550(4価アルコール)(BASFコーポレーション)を使用した。 (3-1) PEP550 (tetrahydric alcohol) (BASF Corporation) was used as a curing accelerator.

(3―2)硬化促進剤としてTPP―PB(北興化学工業(株))(リン系触媒)を使用した。 (3-2) TPP-PB (Hokuko Chemical Co., Ltd.) (phosphorus catalyst) was used as a curing accelerator.

(4)無機充填剤としてSiO(平均粒径(D50)1μmと平均粒径(D50)22μmの1:1重量比の混合物)を使用した。 (4) SiO 2 (a 1: 1 weight ratio mixture of average particle diameter (D50) 1 μm and average particle diameter (D50) 22 μm) was used as the inorganic filler.

(5)白色顔料としてTiO(平均粒径0.17μm)を使用した。 (5) TiO 2 (average particle size 0.17 μm) was used as a white pigment.

(6)離型剤としてPED―522(クラリアント社)を使用した。 (6) PED-522 (Clariant) was used as a release agent.

(7)添加剤としてKBM―403(エポキシシラン)(信越化学(株))を使用した。 (7) KBM-403 (epoxysilane) (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used as an additive.

(8)熱可塑性樹脂1としてPA―9T TA―112(クラレ社)、熱可塑性樹脂2としてPA―9T TA―113(クラレ社)、熱可塑性樹脂3としてPA―9T TA―124(クラレ社)を使用した。 (8) PA-9T TA-112 (Kuraray) as the thermoplastic resin 1, PA-9T TA-113 (Kuraray) as the thermoplastic resin 2, PA-9T TA-124 (Kuraray) as the thermoplastic resin 3 It was used.

実施例1〜3 Examples 1-3

下記の表1に記載した含量で添加されたエポキシ樹脂、硬化剤、離型剤及び添加剤の混合物を120℃まで昇温させて溶融混合した。得られた混合物の温度を40℃まで冷却させた。白色顔料、硬化促進剤及び無機充填剤を下記の表1に記載した含量で添加した。得られた混合物を35℃の温度に維持させながら、rpm100で80分間混練した。得られた混合物をトレイに入れて70℃のオーブンで3時間熟成させ、150℃で240秒間トランスファー成形機を用いて各試片を製作した。 A mixture of the epoxy resin, the curing agent, the release agent, and the additive added in the contents shown in Table 1 below was heated to 120 ° C. and melt mixed. The temperature of the resulting mixture was allowed to cool to 40 ° C. White pigments, curing accelerators and inorganic fillers were added in the amounts listed in Table 1 below. The resulting mixture was kneaded for 80 minutes at rpm 100 while maintaining the temperature at 35 ° C. The obtained mixture was put in a tray and aged in an oven at 70 ° C. for 3 hours, and each specimen was produced using a transfer molding machine at 150 ° C. for 240 seconds.

比較例1〜4 Comparative Examples 1-4

下記の表1で各成分の含量を変更したことを除いては、前記実施例と同一の方法で組成物を製造し、試片を製作した。 Except having changed the content of each component in the following Table 1, the composition was manufactured by the same method as the said Example, and the test piece was manufactured.

Figure 2014517110
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比較例5 Comparative Example 5

0.5ワット級のLEDに、光反射用反射板として業界で適用可能な高耐熱性を有しているポリアミド系列の熱可塑性樹脂1を300℃の金型で射出成形方法によって射出し、試片を製造した。   A polyamide-based thermoplastic resin 1 having high heat resistance that can be applied in the industry as a reflector for light reflection is injected into a 0.5 watt LED by an injection molding method using a 300 ° C. mold. Pieces were produced.

比較例6〜7 Comparative Examples 6-7

比較例6〜7は、熱可塑性樹脂1の代わりに熱可塑性樹脂2〜3をそれぞれ使用したことを除いては、比較例5と同一の方法で試片を製造した。 In Comparative Examples 6 to 7, specimens were produced in the same manner as in Comparative Example 5 except that the thermoplastic resins 2 to 3 were used in place of the thermoplastic resin 1, respectively.

実験例:物性評価 Example: Physical property evaluation

前記実施例と比較例で製造された試片に対して下記の物性を評価し、その結果を下記の表2に示した。 The following physical properties were evaluated for the specimens produced in the above Examples and Comparative Examples, and the results are shown in Table 2 below.

<物性測定方法> <Method for measuring physical properties>

(1)S/F(Spiral flow length)(インチ):前記実施例と比較例で製造された組成物に対してEMMI標準金型を用い、金型温度150℃でトランスファー成形時の流動性を測定した。また、70℃で熟成させながら熟成時間によってS/Fを測定した。 (1) S / F (Spiral flow length) (inch): The flowability at the time of transfer molding at a mold temperature of 150 ° C. using an EMMI standard mold for the compositions produced in the examples and comparative examples. It was measured. In addition, S / F was measured by aging time while aging at 70 ° C.

(2)G/T(Gelation time)(sec):前記実施例と比較例で製造された組成物を150℃のホットプレート上に一定量だけ置いて反応させ、ゲル化されるまでの時間を測定した。また、70℃で熟成させながら熟成時間によってG/Tを測定した。 (2) G / T (Gelation time) (sec): The amount of time required for gelation is determined by placing a certain amount of the compositions produced in the examples and comparative examples on a hot plate at 150 ° C. It was measured. Further, G / T was measured by aging time while aging at 70 ° C.

(3)高温硬度(Shore―A):前記実施例と比較例で製造された組成物に対して金型温度150℃でトランスファー成形機を用いて50mm×50mm×3mm(長さ×幅×厚さ)の試片をトランスファー成形し、240秒経過した後で150℃の金型上で硬度を測定した。 (3) High-temperature hardness (Shore-A): 50 mm × 50 mm × 3 mm (length × width × thickness) using a transfer molding machine at a mold temperature of 150 ° C. with respect to the compositions produced in the above examples and comparative examples. The sample of No. 3) was transfer molded, and after 240 seconds had passed, the hardness was measured on a 150 ° C. mold.

(4)光反射率(Reflectance、R)(%):50mm×50mm×1mm(長さ×幅×厚さ)の試片を150℃で240秒間トランスファー成形し、150℃で3時間硬化させた。V―670 spectrometer(JASCO社)を用いて430nmで初期光反射率を測定した。初期光反射率を測定した後、180℃で168時間熱処理し、430nmで再び光反射率を測定した。図1は、実施例1〜3の組成物と比較例4の組成物で製造された試片に対して180℃で168時間熱処理した後、熟成時間によって430nmでの光反射率を示したものである。図2は、実施例1〜3の組成物と比較例5〜7の組成物で製造された試片に対して180℃で168時間熱処理した後、熟成時間によって430nmでの光反射率を示したものである。 (4) Light reflectance (Reflectance, R) (%): 50 mm × 50 mm × 1 mm (length × width × thickness) specimen was transfer molded at 150 ° C. for 240 seconds and cured at 150 ° C. for 3 hours. . The initial light reflectance was measured at 430 nm using a V-670 spectrometer (JASCO). After measuring the initial light reflectivity, heat treatment was performed at 180 ° C. for 168 hours, and the light reflectivity was measured again at 430 nm. FIG. 1 shows the light reflectance at 430 nm depending on the aging time after heat treatment at 180 ° C. for 168 hours on the specimens prepared with the compositions of Examples 1 to 3 and the composition of Comparative Example 4. It is. FIG. 2 shows the light reflectance at 430 nm depending on the aging time after heat treatment at 180 ° C. for 168 hours on the specimens produced with the compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 5 to 7. It is a thing.

(5)耐変色性(光反射率維持率)(%):前記の測定した光反射率及び下記の式を用いて耐変色性(光反射率維持率)を計算した。 (5) Discoloration resistance (light reflectivity maintenance rate) (%): Color change resistance (light reflectivity maintenance rate) was calculated using the measured light reflectivity and the following formula.

光反射率維持率(%)=180℃で168時間熱処理した後の光反射率/熱処理前の光反射率×100 Light reflectance maintenance ratio (%) = light reflectance after heat treatment at 180 ° C. for 168 hours / light reflectance before heat treatment × 100

(6)剥離評価:3mm×2.5mm×2mm(長さ×幅×厚さ)のカップ状の成形品の接触部位を水性インクに浸し、毛細管現象によるインク侵入の有無を確認した。インクが染み込んだ場合は○で表示し、インクが染み込まない場合は×で表示した。 (6) Peeling evaluation: A contact portion of a cup-shaped molded product having a size of 3 mm × 2.5 mm × 2 mm (length × width × thickness) was immersed in water-based ink, and the presence or absence of ink intrusion due to capillary action was confirmed. When the ink soaked, it was indicated by ○, and when the ink did not soak, it was indicated by ×.

Figure 2014517110
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前記表2に示したように、本発明の硬化促進剤を添加しない比較例1の組成物は、70℃の熟成温度では反応が起きにくいため3時間後にも未硬化状態で存在し、Bステージの製作が難しかった。添加量としてエポキシ100重量部に対して2重量部を含ませた比較例2の組成物の場合は、硬化促進剤が含まれていない比較例1と異なり、70℃の温度で反応が起きたが、S/Fは103インチ以上、G/Tは100秒でBステージに製作された。しかし、トランスファー成形後の高温硬度が10であって金型にくっ付く現象が発生し、物性評価のための試片を製作しにくいため光反射率測定及び剥離評価が難しかった。エポキシ100重量部に硬化促進剤50重量部を含ませた場合、同一の熟成温度で反応は起きたが、組成物の十分な架橋反応が起きないため、トランスファー成形後の高温硬度が12と低く、同様にBステージの製作が難しいため光反射率測定及び剥離評価が難しかった。その一方、実施例1、2及び3の場合は、70℃の熟成温度で反応が起きるためBステージの製作に問題がなく、トランスファー成形後の高温での硬度が50以上であって試片の製作に何ら難しさもなかった。実施例1、2及び3のいずれにおいても初期光反射率が90%以上と高く測定され、180℃で168時間熱処理した後の光反射率を測定して耐変色性を判断した結果、実施例1、2及び3のいずれにおいても70%以上に示された。芳香族作用基を含むリン系硬化促進剤を使用した比較例4の場合、70℃の熟成温度で十分な反応が起き、30分後にBステージの製作が行われた。トランスファー成形時の高温での硬度も高いため試片の製作に何ら難しさもなく、剥離現象も発見されなかった。しかし、耐変色性の場合、初期光反射率は高く測定されたが、高温熱処理後の光反射率が本発明に比べて著しく低かった。すなわち、高温の熱処理後に黄変などの変色が発生し、初期光反射率を維持できないため耐変色性が良くなかった。また、比較例5〜7の結果及び図2に示したように、光反射用反射板として業界で適用可能な高耐熱性を有しているポリアミド系列の熱可塑性樹脂で製造された試片も、熱処理後の光反射率が急激に低下するため耐変色性が良くないことが分かる。 As shown in Table 2, the composition of Comparative Example 1 in which the curing accelerator of the present invention is not added is in an uncured state even after 3 hours because the reaction hardly occurs at an aging temperature of 70 ° C. It was difficult to make. In the case of the composition of Comparative Example 2 containing 2 parts by weight as an addition amount with respect to 100 parts by weight of epoxy, the reaction occurred at a temperature of 70 ° C., unlike Comparative Example 1 in which no curing accelerator was contained. However, S / F was 103 inches or more and G / T was manufactured on the B stage in 100 seconds. However, since the high temperature hardness after transfer molding is 10, a phenomenon of sticking to the mold occurs, and it is difficult to manufacture a specimen for evaluating physical properties, so that it is difficult to measure light reflectance and evaluate peeling. When 100 parts by weight of the epoxy contained 50 parts by weight of the curing accelerator, the reaction occurred at the same aging temperature, but sufficient crosslinking reaction of the composition did not occur, so the high temperature hardness after transfer molding was as low as 12. Similarly, since it is difficult to manufacture the B stage, it is difficult to measure the light reflectance and evaluate the peeling. On the other hand, in the case of Examples 1, 2 and 3, since the reaction occurs at the aging temperature of 70 ° C., there is no problem in the production of the B stage, and the hardness at the high temperature after transfer molding is 50 or more. There was no difficulty in production. In any of Examples 1, 2, and 3, the initial light reflectance was measured as high as 90% or more, and the light reflectance was measured after heat treatment at 180 ° C. for 168 hours. In all of 1, 2, and 3, it was shown to be 70% or more. In the case of Comparative Example 4 using a phosphorus curing accelerator containing an aromatic functional group, a sufficient reaction occurred at an aging temperature of 70 ° C., and a B stage was produced after 30 minutes. Since the hardness at high temperature at the time of transfer molding was high, there was no difficulty in the production of specimens, and no peeling phenomenon was found. However, in the case of discoloration resistance, the initial light reflectance was measured to be high, but the light reflectance after the high-temperature heat treatment was significantly lower than that of the present invention. That is, discoloration such as yellowing occurred after heat treatment at high temperature, and the initial light reflectance could not be maintained, so the discoloration resistance was not good. In addition, as shown in the results of Comparative Examples 5 to 7 and FIG. 2, specimens made of a polyamide series thermoplastic resin having high heat resistance that can be applied in the industry as a light reflecting reflector are also provided. It can be seen that the color reflectance is not good because the light reflectance after the heat treatment is abruptly lowered.

また、前記実施例と比較例で製造された組成物に対して70℃での熟成時間によってS/FとG/Tを測定し、その結果を下記の表3と4に示した。 Moreover, S / F and G / T were measured by the aging time at 70 ° C. for the compositions produced in the above Examples and Comparative Examples, and the results are shown in Tables 3 and 4 below.

Figure 2014517110
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Figure 2014517110
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上述したように、本発明の組成物は、適正なS/F値とG/T値を有するBステージに製作された一方、比較例1〜3の組成物は、組成物が未硬化状態であったりBステージに製作されたとしても、適正なS/F値とG/T値を有することはできなかった。しかし、比較例4の場合、0.5時間経過した後、比較的速い時間にBステージが適正なS/F値とG/T値を有し、その後は流動性がなく、既にゲル化が進行されたためG/Tを測定することはできなかった。 As described above, the composition of the present invention was manufactured on a B stage having an appropriate S / F value and G / T value, while the compositions of Comparative Examples 1 to 3 were in an uncured state. Even if it was manufactured on the B stage, it could not have proper S / F and G / T values. However, in the case of Comparative Example 4, after 0.5 hours, the B stage has appropriate S / F value and G / T value at a relatively fast time, and after that, there is no fluidity and gelation has already occurred. G / T could not be measured due to progress.

本発明は、耐変色性が良く、黄変又は変色が発生しない熱硬化型光反射用樹脂組成物を提供した。また、本発明は、長期間高温に晒されたときにも光反射率が低下しない熱硬化型光反射用樹脂組成物を提供した。 The present invention provides a thermosetting light-reflective resin composition that has good discoloration resistance and does not cause yellowing or discoloration. In addition, the present invention provides a thermosetting light reflecting resin composition in which the light reflectance does not decrease even when exposed to a high temperature for a long time.

以上、本発明の実施例と図面を説明したが、本発明は、前記実施例及び図面に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で製造することができ、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想や必須的な特徴を変更せずとも他の具体的な形態で実施可能であることを理解できるだろう。そのため、上述した各実施例は、全ての面で例示的なものであって、限定的なものでないことを理解すべきである。 Although the embodiments and drawings of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and drawings, and can be manufactured in various forms different from each other in the technical field to which the present invention belongs. Those skilled in the art will understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical idea and essential features of the present invention. Thus, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not limiting.

Claims (20)

ヒドロキシ基が2個以上の多価ポリオールを硬化促進剤として含む熱硬化型光反射用樹脂組成物であって、
前記組成物で製造された試片の下記の式1で表示される光反射率維持率が70%以上である熱硬化型光反射用樹脂組成物:
<式1>
光反射率維持率(%)=180℃で168時間熱処理した後の光反射率/熱処理する前の光反射率×100
A thermosetting light reflecting resin composition comprising a polyhydric polyol having two or more hydroxy groups as a curing accelerator,
Thermosetting light-reflective resin composition having a light reflectance maintenance ratio represented by the following formula 1 of the specimen produced from the composition of 70% or more:
<Formula 1>
Light reflectance maintenance rate (%) = light reflectance after heat treatment at 180 ° C. for 168 hours / light reflectance before heat treatment × 100
前記ヒドロキシ基は3個以上であることを特徴とする、請求項1に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 1, wherein the number of hydroxy groups is 3 or more. 前記組成物は、トランスファー成形し、150℃で3時間硬化させた後、180℃で168時間熱処理した後の光反射率維持率が70%以上であることを特徴とする、請求項1に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The composition according to claim 1, wherein the composition has a light reflectance maintenance ratio of 70% or more after transfer molding, curing at 150 ° C for 3 hours, and heat treatment at 180 ° C for 168 hours. Thermosetting light reflecting resin composition. 前記組成物は、トランスファー成形時のS/F(spiral flow length)が約15インチないし約45インチであることを特徴とする、請求項1に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 2. The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 1, wherein the composition has an S / F (spiral flow length) of about 15 inches to about 45 inches at the time of transfer molding. 前記組成物は、トランスファー成形時のG/T(Gelation time)が約30秒ないし約70秒であることを特徴とする、請求項1に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 1, wherein the composition has a G / T (Gelation time) of about 30 seconds to about 70 seconds at the time of transfer molding. 前記硬化促進剤は、ヒドロキシ基当量が30以上であることを特徴とする、請求項1に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light-reflecting resin composition according to claim 1, wherein the curing accelerator has a hydroxy group equivalent of 30 or more. 前記硬化促進剤は芳香族作用基を含まないことを特徴とする、請求項1に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 1, wherein the curing accelerator does not contain an aromatic functional group. 前記硬化促進剤は、下記の化学式3の構造を有することを特徴とする、請求項1に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物:
<化3>
OH―(CH―[CR1―OH]―(CH―OH
(前記式において、R1は、水素又は炭素数1〜30の線形又は分枝型のアルキル基で、nは0〜20の整数で、mとpは独立的に0〜10の整数である。ただし、n、m及びpが全て0である場合は除外する。)
The thermosetting light-reflecting resin composition according to claim 1, wherein the curing accelerator has a structure represented by the following chemical formula 3:
<Chemical Formula 3>
OH- (CH 2) m - [ CR1-OH] n - (CH 2) p -OH
(In the above formula, R1 is hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, n is an integer of 0 to 20, and m and p are independently integers of 0 to 10. (However, when n, m, and p are all 0, they are excluded.)
前記組成物は、前記硬化促進剤、エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填剤及び白色顔料を含むことを特徴とする、請求項1に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 1, wherein the composition includes the curing accelerator, an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, and a white pigment. 前記硬化促進剤は、前記エポキシ樹脂約100重量部に対して約3重量部ないし約45重量部で含まれることを特徴とする、請求項9に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物の製造方法。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 9, wherein the curing accelerator is included in an amount of about 3 parts by weight to about 45 parts by weight with respect to about 100 parts by weight of the epoxy resin. Production method. 前記エポキシ樹脂は芳香族作用基を含まないことを特徴とする、請求項9に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 9, wherein the epoxy resin does not contain an aromatic functional group. 前記硬化剤は芳香族作用基を含まないことを特徴とする、請求項9に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 9, wherein the curing agent does not contain an aromatic functional group. 前記組成物は、前記白色顔料と無機充填剤を1:0.1ないし1:4の重量比で含むことを特徴とする、請求項9に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 9, wherein the composition comprises the white pigment and the inorganic filler in a weight ratio of 1: 0.1 to 1: 4. 前記無機充填剤は、平均粒径(D50)が約10μm未満の無機充填剤と平均粒径(D50)が約10μmないし約35μmの無機充填剤との混合物として含まれることを特徴とする、請求項9に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The inorganic filler is included as a mixture of an inorganic filler having an average particle size (D50) of less than about 10 μm and an inorganic filler having an average particle size (D50) of about 10 μm to about 35 μm. Item 10. The thermosetting light reflecting resin composition according to Item 9. 前記組成物は、離型剤及び添加剤からなる群より選ばれる一つ以上をさらに含むことを特徴とする、請求項9に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light-reflecting resin composition according to claim 9, wherein the composition further comprises one or more selected from the group consisting of a release agent and an additive. 前記添加剤は、架橋された線形ジメチルポリシロキサン構造を有することを特徴とする、請求項15に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物。 The thermosetting light reflecting resin composition according to claim 15, wherein the additive has a crosslinked linear dimethylpolysiloxane structure. エポキシ樹脂及び硬化剤を溶融混合し;
前記混合物にヒドロキシ基が約2個以上の多価ポリオールを含む硬化促進剤、無機充填剤及び白色顔料を添加して溶融混練する;段階を含むことを特徴とする熱硬化型光反射用樹脂組成物の製造方法。
Melt mixing the epoxy resin and curing agent;
A thermosetting light-reflective resin composition comprising a step of adding a curing accelerator containing a polyhydric polyol having about 2 or more hydroxy groups, an inorganic filler, and a white pigment to the mixture and melt-kneading; Manufacturing method.
前記の溶融混練する段階は、約30℃ないし約50℃の温度で約30分ないし約180分間行われることを特徴とする、請求項17に記載の熱硬化型光反射用樹脂組成物の製造方法。 The method of claim 17, wherein the melt-kneading step is performed at a temperature of about 30 ° C to about 50 ° C for about 30 minutes to about 180 minutes. Method. 請求項1から16のいずれか1項の熱硬化型光反射用樹脂組成物を含む光半導体素子搭載用反射板。 A reflecting plate for mounting an optical semiconductor element, comprising the thermosetting light reflecting resin composition according to any one of claims 1 to 16. 請求項19の光半導体素子搭載用反射板を含む光半導体装置。 20. An optical semiconductor device comprising the optical semiconductor element mounting reflector according to claim 19.
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