JP2014215348A - 液晶パネル - Google Patents
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Abstract
【課題】FFS(Fringe Field Switching)モードの駆動方式の液晶パネルにおいて、低い電圧で駆動できるとともに高い透過率を得ること。
【解決手段】対向配置された第1基板14及び第2基板27と、前記第1基板及び第2基板の間に挟持された液晶層LCとを備えた液晶パネル10であって、前記第1基板は、互いに絶縁された状態でマトリクス状に形成された複数の信号線18及び走査線15と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素毎に形成された複数のスリット状開口25と断面曲面形状の突起状電極が交互に形成された上電極24と、前記上電極と絶縁層23を介して形成された下電極を備え、前記第2基板は、平面視で前記信号線及び走査線と重畳する遮光層28と、前記サブ画素毎に形成されたカラーフィルタ層29を備える。
【選択図】図1
【解決手段】対向配置された第1基板14及び第2基板27と、前記第1基板及び第2基板の間に挟持された液晶層LCとを備えた液晶パネル10であって、前記第1基板は、互いに絶縁された状態でマトリクス状に形成された複数の信号線18及び走査線15と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素毎に形成された複数のスリット状開口25と断面曲面形状の突起状電極が交互に形成された上電極24と、前記上電極と絶縁層23を介して形成された下電極を備え、前記第2基板は、平面視で前記信号線及び走査線と重畳する遮光層28と、前記サブ画素毎に形成されたカラーフィルタ層29を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶パネルに関し、特に、FFS(Fringe Field Switching)モードの駆動方式に好適な液晶パネルに関する。
液晶パネルはCRT(陰極線管)と比較して軽量、薄型、低消費電力という特徴があるため、表示用として多くの電子機器に使用されている。
液晶パネルは、所定方向に整列した液晶分子の向きを電界により変えて、液晶層の光の透過量を変化させて画像を表示させるものである。
液晶パネルは、所定方向に整列した液晶分子の向きを電界により変えて、液晶層の光の透過量を変化させて画像を表示させるものである。
これには外光が液晶層に入射し、反射板で反射されて再び液晶層を透過して出射される反射型のものと、バックライト装置からの入射光が液晶層を透過する透過型のものと、その両方の性質を備えた半透過型のものとがある。
また、液晶パネルの液晶層に電界を印加する方法として、縦電界方式のものと横電界方式のものとがある。
また、液晶パネルの液晶層に電界を印加する方法として、縦電界方式のものと横電界方式のものとがある。
縦電界方式の液晶パネルは、液晶層を挟んで配置される一対の電極により、概ね縦方向の電界を液晶分子に印加するものである。縦電界方式の液晶パネルとしては、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モード、MVA(Multi-domain Vertical Alignment)モード等のものが知られている。
横電界方式の液晶パネルは、液晶層を挟んで配置される一対の基板のうちの一方の基板内面側に一対の電極が互いに絶縁して設けられており、概ね横方向の電界を液晶分子に印加するものである。横電界方式の液晶パネルとしては、一対の電極が平面視で重ならないIPS(In-Plane Switching)モードのものと、一対の電極が平面視で重なるFFS(Fringe Field Switching)モードのものとが知られている。
横電界方式の液晶パネルは広い視野角を得ることができるので、近年多く用いられるようになってきている。
横電界方式の液晶パネルは広い視野角を得ることができるので、近年多く用いられるようになってきている。
従来、FFSモードで駆動される上下の基板を備えた液晶表示装置では、一方の基板に設けられた一対の電極である画素電極とカウンタ電極に0Vに相当するオフ電圧が、ある画素に印加されても他の画素をオンとするため、データバスラインには連続的に特定信号が印加される。
したがって、データバスラインと画素電極との間、あるいはデータバスラインとカウンタ電極との間にノイズフィールド(Noise Field)が形成され、これにより、液晶分子が偏光軸から離隔し、この部分で光が漏洩する。
この漏洩された光を遮断するために、他方の基板に広い領域のブラックマトリクスのパターニングが行なわれているが、パターニングを行う必要があり、また、液晶パネルにおける開口率の減少を誘発することとなり、輝度の低下となる問題があった。
このような問題を解決するために、下記特許文献1には、ノーマリーブラック(Normally Black)モードであるIPSやFFSモードで駆動される液晶表示装置において、誘電率異方性(Δε)が正の液晶のラビング方向をノイズフィールドの方向と一致するようにし、その結果、液晶分子の長軸がノイズフィールドの方向と正確に一致させることにより、ノイズフィールドが作用しても、液晶分子は偏光板の偏光軸から離隔せず、常にダーク(Dark)状態を維持するようにしたことが開示されている。
また、下記特許文献2には、FFSモード等の半透過型液晶表示装置において、電圧無印加時、反射表示部及び透過表示部をツイスト配向及びホモジニアス配向とすることにより、高コントラストで色付きの少ない黒表示を確保するようにしたことが開示されている。
しかしながら、上記特許文献1の液晶表示装置の画素電極(上電極)は平板状であり、駆動電圧が高くなるという問題がある。
これをFFSモードの上、下の電極間の電気力線の概念図を示した図7に基づいて説明すると、上電極の側面の高さが低く、上電極の上面と側面との角部の存在により上電極の上面から下電極に伸びる電気力線が不均一になるため、均一な電気力線を得るために、高めの駆動電圧を印加しなければならず、また暗線の発生もあり、透過率の向上の妨げとなっていた。
これをFFSモードの上、下の電極間の電気力線の概念図を示した図7に基づいて説明すると、上電極の側面の高さが低く、上電極の上面と側面との角部の存在により上電極の上面から下電極に伸びる電気力線が不均一になるため、均一な電気力線を得るために、高めの駆動電圧を印加しなければならず、また暗線の発生もあり、透過率の向上の妨げとなっていた。
また、上記特許文献2の半透過型液晶表示装置は、色付きの少ない黒表示を確保することができるものの、反射表示部分についての最適化がなされているだけで、また、上記特許文献1と同様に、画素電極(上電極)は平板状であり、駆動電圧が高くなるという問題に加え、透過率の改善がなされない問題もあった。
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、FFSモードの駆動方式の液晶パネルにおいて、低い電圧で駆動できるとともに高い透過率を得ることを目的とする。
項1. 本発明に係る液晶パネルは、対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び第2基板の間に挟持された液晶層とを備えた液晶パネルであって、前記第1基板は、マトリクス状に形成された複数の信号線及び走査線と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素毎に形成された複数のスリット状開口と断面曲面形状の突起状電極が交互に形成された上電極と、前記上電極と絶縁層を介して形成された下電極を備え、前記第2基板は、平面視で前記信号線及び走査線と重畳する遮光層と、前記サブ画素毎に形成されたカラーフィルタ層を備えたことを特徴とする。
項2. 本発明に係る液晶パネルは、項1において前記上電極と下電極は平面視で互いに重なっていることを特徴とする。
項3. 本発明に係る液晶パネルは、項1または2において前記突起状電極は、半円形状、楕円形状、または台形状であることを特徴とする。
項4. 本発明に係る液晶パネルは、項1から3のいずれか1項において前記突起状電極は、有機物質で形成されていることを特徴とする。
項5. 本発明に係る液晶パネルは、項1から4のいずれか1項において前記液晶層は、誘電率異方性が負の少なくとも1つの化合物と誘電率異方性が正の少なくとも1つの化合物が混合されていることを特徴とする。
項6. 本発明に係る液晶パネルは、項5において前記負の化合物は、式(a)で表される構造を有し、誘電率異方性が−10以上−2以下であり、かつ前記正の化合物は、誘電率異方性が2以上30以下であることを特徴とする。
本発明によれば、FFSモードの駆動方式の液晶パネルにおいて、低電圧で駆動できるとともに高い透過率を得ることができる。
以下、本発明の液晶パネルに係る実施形態について、図面を参照して説明する。
[液晶パネルの構成]
図2は、本発明の実施形態に係る液晶パネルの平面図、図3は図2の液晶パネルのA−A断面図、図4は同じくB−B断面図を示す。
[液晶パネルの構成]
図2は、本発明の実施形態に係る液晶パネルの平面図、図3は図2の液晶パネルのA−A断面図、図4は同じくB−B断面図を示す。
本実施形態の液晶パネル10は横電界方式のFFSモードで駆動される。
液晶パネル10の要部について、図2〜図4を用いて説明する。
液晶パネル10は液晶層LCがアレイ基板ARとカラーフィルタ基板CFで挟持された構成となっている。
液晶パネル10の要部について、図2〜図4を用いて説明する。
液晶パネル10は液晶層LCがアレイ基板ARとカラーフィルタ基板CFで挟持された構成となっている。
アレイ基板ARは透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチック等からなり、第1透明基板14を基体としている。
第1透明基板14上には、液晶LCに面する側に、アルミニウムやモリブデン等の金属からなる走査線15が形成されている。
第1透明基板14上には、液晶LCに面する側に、アルミニウムやモリブデン等の金属からなる走査線15が形成されている。
また、走査線15とゲート電極Gを覆うようにして窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明なゲート絶縁膜16が積層されている。そして、平面視でゲート電極Gと重なるゲート絶縁膜16上には非晶質シリコンや多結晶シリコンなどからなる半導体層17が形成されている。ゲート絶縁膜16上にはアルミニウムやモリブデン等の金属からなる複数の信号線18が形成されている。
さらに、信号線18及びソース電極Sと同一の材料で同時に形成されたドレイン電極Dがゲート絶縁膜16上に設けられており、ドレイン電極Dはソース電極Sと近接配置されて半導体層17と部分的に接触している。
ゲート電極G、ゲート絶縁膜16、半導体層17、ソース電極S、ドレイン電極Dによってスイッチング素子となる薄膜トランジスターTFTが構成されている。
また、信号線18、TFT及びゲート絶縁膜16の露出部分を覆うようにして例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明なパッシベーション膜19が積層されている。
また、信号線18、TFT及びゲート絶縁膜16の露出部分を覆うようにして例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明なパッシベーション膜19が積層されている。
そして、パッシベーション膜19を覆うようにして、例えばフォトレジスト等の透明樹脂材料からなる平坦化樹脂層20が積層されている。
平坦化樹脂層20を覆うようにしてITO(Indium Thin Oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxide)等の透明導電性材料からなる下電極21が形成されている。
平坦化樹脂層20を覆うようにしてITO(Indium Thin Oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxide)等の透明導電性材料からなる下電極21が形成されている。
また、平坦化樹脂層20とパッシベーション膜19を貫通してドレイン電極Dに達するコンタクトホール22が形成されており、このコンタクトホール22を介して下電極21とドレイン電極Dとが電気的に接続されている。そのため、ここでは下電極21は画素電極として作動する。
下電極21を覆うようにして例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明な電極間絶縁膜23が積層されている。
下電極21を覆うようにして例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明な電極間絶縁膜23が積層されている。
そして、電極間絶縁膜23を覆うようにしてITOないしIZO等の透明導電性材料からなる上電極24が形成されている。
走査線15及び信号線18によって区画された各サブ画素上には、上電極24は一体に形成されて、共通電極として作動する。
走査線15及び信号線18によって区画された各サブ画素上には、上電極24は一体に形成されて、共通電極として作動する。
図2〜図4に示すように、上電極24には複数のスリット状開口25が形成されている。スリット状開口25は長円形状であり、その長手方向は走査線15の延在方向に対して右下がりに例えば5度傾斜している。
上電極24を覆ってポリイミドからなる配向膜26が積層されている。
配向膜26には信号線18の延在方向と平行に液晶方向配向処理(ラビング処理)が施されていて、スリット状開口25に対応する位置の下電極21と上電極24間の電界によって液晶層LCの液晶分子の配向が変化する。
配向膜26には信号線18の延在方向と平行に液晶方向配向処理(ラビング処理)が施されていて、スリット状開口25に対応する位置の下電極21と上電極24間の電界によって液晶層LCの液晶分子の配向が変化する。
カラーフィルタ基板CFは透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチック等からなる第2透明基板27を基体としている。
第2透明基板27には、図3、図4に示すように遮光層28と、サブ画素毎に異なる色の光(例えば、R、G、B)を透過するカラーフィルタ層29が形成されている。
第2透明基板27には、図3、図4に示すように遮光層28と、サブ画素毎に異なる色の光(例えば、R、G、B)を透過するカラーフィルタ層29が形成されている。
遮光層28とカラーフィルタ層29を覆うようにして、例えばフォトレジスト等の透明樹脂材料からなるオーバーコート層30が積層されている。
オーバーコート層30は異なる色のカラーフィルタ層29による段差を平坦にするとともに、遮光層28やカラーフィルタ層29から流出する不純物が液晶層LCに入らないように遮断するために設けられているものである。
オーバーコート層30は異なる色のカラーフィルタ層29による段差を平坦にするとともに、遮光層28やカラーフィルタ層29から流出する不純物が液晶層LCに入らないように遮断するために設けられているものである。
オーバーコート層30を覆うようにして例えばポリイミドからなる配向膜31が形成されていて、配向膜31には配向膜26と逆方向の液晶方向配向処理が施されている。
このようにして形成されたアレイ基板AR及びカラーフィルタ基板CFを互いに対向させ、両基板の周囲にシール材(不図示)を設けて両基板を貼り合せ、両基板間に液晶を充填する。
このようにして形成されたアレイ基板AR及びカラーフィルタ基板CFを互いに対向させ、両基板の周囲にシール材(不図示)を設けて両基板を貼り合せ、両基板間に液晶を充填する。
なお、液晶層LCを所定の厚みに保持するためのスペーサ(不図示)がカラーフィルタ基板CFに形成されている。
アレイ基板ARの外側には第1偏光板11が、またカラーフィルタ基板CFの外側には第2偏光板12がそれぞれ設けられている。
アレイ基板ARの外側には第1偏光板11が、またカラーフィルタ基板CFの外側には第2偏光板12がそれぞれ設けられている。
上述した構成において、TFTがON状態になって下電極21と上電極24間に電圧が印加されると、両電極21、24間に電界が発生して液晶層LCの液晶分子の配向が変化する。
これにより、液晶層LCの光透過率が変化して画像を表示することができる。そして、下電極21と上電極24と電極間絶縁膜23により補助容量が形成され、TFTがOFFになったときに両電極21、24間の電界を所定時間保持される。
図1には下電極21、断面円形状の上電極24及びこれら両電極間に設けられた電極間絶縁膜23が示されている。
ここで、下電極21と上電極24間に電圧が印加された時、図1のFFSモードの液晶パネルの電極間の電気力線の概念図に示すように、従来の図7とは異なり、本発明の上電極には断面半円形状の突起状電極が形成されているので、電極界面近傍に横(斜め)電界が発生しやすく、均一な電気力線を得ることができ、さらに暗線の発生を抑制して、透過率の向上が図れる。
ここで、下電極21と上電極24間に電圧が印加された時、図1のFFSモードの液晶パネルの電極間の電気力線の概念図に示すように、従来の図7とは異なり、本発明の上電極には断面半円形状の突起状電極が形成されているので、電極界面近傍に横(斜め)電界が発生しやすく、均一な電気力線を得ることができ、さらに暗線の発生を抑制して、透過率の向上が図れる。
なお、図5は本実施形態の変形例に係る図2の液晶パネルのB−B断面図であって、上電極の断面曲面形状を台形状とした以外は本実施形態と同様である。
[液晶材料]
本実施形態に用いられる液晶材料としては、従来公知の様々な液晶化合物が適用されるが、特に、誘電率異方性が負の少なくとも1つの化合物と誘電率異方性が正の少なくとも1つ化合物が混合されたものを適用すると、光学的に均一な自己補償が可能となり、白表示時の色差を小さくするとともに、さらに高い透過率を確保できる点で好適である。誘電率異方性が負及び正の液晶化合物は、それぞれ少なくとも1つの化合物からなり、好ましくは少なくとも2つの化合物の混合である。
本実施形態に用いられる液晶材料としては、従来公知の様々な液晶化合物が適用されるが、特に、誘電率異方性が負の少なくとも1つの化合物と誘電率異方性が正の少なくとも1つ化合物が混合されたものを適用すると、光学的に均一な自己補償が可能となり、白表示時の色差を小さくするとともに、さらに高い透過率を確保できる点で好適である。誘電率異方性が負及び正の液晶化合物は、それぞれ少なくとも1つの化合物からなり、好ましくは少なくとも2つの化合物の混合である。
すなわち、図6に示すように、電圧が無印加のとき液晶成分は、電極に概平行で配置されているが、電圧が印加されると電極に対して誘電率異方性(Δε)が正の化合物(黒色で示す。)はほぼ垂直の方向に、誘電率異方性(Δε)が負の化合物(白抜きで示す。)はほぼ平行の方向に変化する。
このとき、誘電率異方性(Δε)が負の化合物と誘電率異方性(Δε)が正の化合物とがほぼ垂直になり、電極の屈折領域を境にして空間的に分かれることがなく、どの部分においても誘電率異方性(Δε)が負の化合物と誘電率異方性(Δε)が正の化合物とが混合され、全体に均一な光学補償が行われるのである。
本実施形態では、液晶材料として誘電率異方性が負の少なくとも1つの化合物と誘電率異方性が正の少なくとも1つの化合物を用いた形態について説明する。
誘電率異方性が負の液晶化合物の一般例は以下の(1)〜(5)に示す化合物があげられ、それぞれの誘電率異方性は−10以上−2以下で、好ましくは−7以上−3以下である。
誘電率異方性が負の液晶化合物の混合割合は、自己光学補償は発揮させるために5%重量以上が好ましく、駆動電圧の上昇を抑えるために60重量%以下が好ましく、より好ましくは、10重量%以上、50重量%以下である。
FFSモードの液晶パネルでは、誘電率異方性(Δε)が負の化合物と誘電率異方性(Δε)が正の化合物とが混合され光学的に均一な自己補償を可能とする液晶層に使用する場合は、Δεの絶対値が適度に大きいほうが好ましい。
ここで、Rは炭素数2から7のアルキル基または炭素数2から7のアルケニル基である。
次に、誘電率異方性が正の液晶化合物の一般例は以下の(14)〜(21)の化合物があげられ、それぞれの誘電率異方性は、2以上30以下である。また、これらの誘電率異方性は、2〜15の中程度、及び15を超えて30以下の高位の程度と区分することができる。
さらに、誘電率異方性が15を超えて30以下の高位の程度のものに、式(b)で表される構造を有する化合物を適宜混合してもよい。この混合により、屈折率異方性Δnの上昇を抑えながらΔεを大きくすることができ、V90の上昇を抑えることができる。
FFSモードの液晶パネルでは、誘電率異方性(Δε)が負の化合物と誘電率異方性(Δε)が正の化合物とが混合された光学的に均一な自己補償を可能とする液晶層に使用する場合は、Δεの絶対値が適度に大きいほうが好ましい。
とりわけ、式(b)で表される構造を有する化合物である2−テトラヒドロピラン−1,4−イル、3−テトラヒドロピラン−1.4−イル、3,5−ジオキサン−1,4−イルを有する化合物は中程度の屈折率異方性(Δn)を有しながら、誘電率異方性(Δε)が上記高位の程度(15を超えて30以下)であることから屈折率異方性(Δn)と誘電率異方性(Δε)の比を調整する能力が優れている。
カラーフィルタ基板CFは、ガラス基板上に黒色の顔料分散レジストを用い、ブラックマトリクスパターンを形成し、その後、レッド、グリーン、ブルーの順で、スピンコート法により顔料分散型レジストの塗布、プリベーク、露光、エッチング、ポストベークを繰返し行ない、さらに、スパッタリング法によりITO膜を約1500Å、ポジ型レジストで高さ約3.5μmのフォトスペーサーを形成し、ポリイミド配向膜を約1000Åの膜厚で形成して作成した。
アレイ基板ARは、ガラス基板上に形成したTFT上に、通常の方法でパッシベーション膜、平坦化樹脂層、さらに下電極、絶縁膜、上電極を積層形成し、ポリイミド配向膜を約1000Åの膜厚で形成して作成した。
上電極における突起状電極は、例えば、ITOのエッチングにより作成できるが、有機材料で突起を作成し、ITOや金属酸化物をコーティングして作成してもよい。
カラーフィルタ基板CFとアレイ基板ARの間に液晶A〜Dを注入し、液晶セルA〜Dを作製した。
カラーフィルタ基板CFとアレイ基板ARの間に液晶A〜Dを注入し、液晶セルA〜Dを作製した。
液晶A〜Dは、誘電率異方性が負の化合物については、前記化合物(1)〜(13)の中から少なくとも1つの化合物を適宜選択できるが、具体的な化合物は表1に示したとおりである。また誘電率異方性が正の化合物については、前記化合物(14)〜(25)の中から少なくとも1つの化合物を適宜選択できるが、具体的には、JNC社のJC−5149XX(NI:91.6℃、Δn:0.105、Δε:14.0)を用いた。
液晶セルA〜Dの特性値の測定は次の方法にしたがった。
光学異方性(Δn;25℃で測定):波長が589nmの光によりアッベ屈折計を用いて測定した。
光学異方性(Δn;25℃で測定):波長が589nmの光によりアッベ屈折計を用いて測定した。
誘電率異方性(Δε;25℃で測定):2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が9μm、ツイスト角が80度のTN素子に試料を入れ、このセルに10ボルトを印加して、液晶分子の長軸方向における誘電率(ε//)を測定し、0.5ボルトを印加して、液晶分子の短軸方向における誘電率(ε⊥)を測定した。誘電率異方性の値は、Δε=ε//−ε⊥の式から計算した。
光透過率の最大値(Tmax ;25℃で測定):駆動電圧をしきい値から上昇させて、透過率−駆動電圧曲線がほぼ一定となる透過率をTmaxとして測定した。
光透過率の最大値(Tmax ;25℃で測定):駆動電圧をしきい値から上昇させて、透過率−駆動電圧曲線がほぼ一定となる透過率をTmaxとして測定した。
次に、偏光板と、ノルボルネン系フィルムを延伸処理して得た位相差板(Δn・d=(nx−ny)・d=50nm、Rth=(nx−nz)、 d=120nm)を、偏光板の吸収軸と位相差板の遅相軸(nx方向)が互いに直交するようにアクリル系粘着剤を介して貼り合せ、複合光学フィルムを得た。
位相差値は、王子計測機器(株)KOBRA−21ADHを用いて測定した。
位相差値は、王子計測機器(株)KOBRA−21ADHを用いて測定した。
次に、液晶セルA〜Dの両側に、偏光板吸収軸が互いに直交するように前述の複合光学フィルムを貼り合せ、液晶パネル1〜7を作製した。
液晶パネル1、3の電極形状は半円形状、パネル5は台形状とし、パネル2、4、6、7は長方形(平板形状)とした。
液晶パネル1、3の電極形状は半円形状、パネル5は台形状とし、パネル2、4、6、7は長方形(平板形状)とした。
なお、各パネルの白表示における色温度は、バックライトにより約10000Kに調整した。
各液晶パネルをFFSモードで駆動し、液晶パネル1〜7の透過率が90%のときの駆動電圧(V90)および透過率をトプコン社製色彩輝度計BM−5Aにて測定した。その結果を表2に示す。
各液晶パネルをFFSモードで駆動し、液晶パネル1〜7の透過率が90%のときの駆動電圧(V90)および透過率をトプコン社製色彩輝度計BM−5Aにて測定した。その結果を表2に示す。
表2によれば、同じ種類の液晶を使用した場合、電極の断面形状が半円形、あるいは台形状の曲面であるパネル1、3、5は、長方形状のものと比べてV90、透過率ともに改善されていることがわかる。特にパネル3、5については環(b)で表される構造を有する化合物が混合されているのでV90の値が格段に低くすることができたことがわかる。
また、パネル1、3、5については白表示時の色差が小さくなった点は実験で確認されている。
また、パネル1、3、5については白表示時の色差が小さくなった点は実験で確認されている。
以上、本実施例によればFFSモードの液晶パネルにおいて、上電極の断面形状を半円形、あるいは台形状とすることにより低電圧で駆動できるとともに高い透過率を得ることができた。
10…液晶パネル、11…第1偏光板、12…第2偏光板、13…バックライト装置、14…第1透明基板、15…走査線、16…ゲート絶縁膜、17…半導体層、18…信号線、19…パッシベーション膜、20…平坦化樹脂層、21…下電極、22…コンタクトホール、23…電極間絶縁膜(絶縁層)、24…上電極(突起状電極)、25…スリット状開口、26…配向膜、27…第2透明基板、28…遮光層、29…カラーフィルタ層、30…オーバーコート層、31…配向膜、LC…液晶層、AR…アレイ基板(第1基板)、CF…カラーフィルタ基板(第2基板)、S…ソース電極、G…ゲート電極、D…ドレイン電極。
Claims (7)
- 対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び第2基板の間に挟持された液晶層とを備えた液晶パネルであって、
前記第1基板は、マトリクス状に形成された複数の信号線及び走査線と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素毎に形成された複数のスリット状開口と断面曲面形状の突起状電極が交互に形成された上電極と、前記上電極と絶縁層を介して形成された下電極を備え、
前記第2基板は、平面視で前記信号線及び走査線と重畳する遮光層と、前記サブ画素毎に形成されたカラーフィルタ層を備えたことを特徴とする液晶パネル。 - 前記上電極と下電極は平面視で互いに重なっていることを特徴とする請求項1に記載された液晶パネル。
- 前記突起状電極は、半円形状、半楕円形状、または台形状であることを特徴とする請求項1または2に記載された液晶パネル。
- 前記突起状電極は、有機物質で形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載された液晶パネル。
- 前記液晶層は、誘電率異方性が負の少なくとも1つの化合物と誘電率異方性が正の少なくとも1つの化合物が混合されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載された液晶パネル。
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