JP2013522259A - ジベンゾイルメタン系遮断剤と親水性又は水溶性のメロシアニン系uv遮断剤とを含有する組成物、及びジベンゾイルメタン系遮断剤を光安定化させる方法 - Google Patents
ジベンゾイルメタン系遮断剤と親水性又は水溶性のメロシアニン系uv遮断剤とを含有する組成物、及びジベンゾイルメタン系遮断剤を光安定化させる方法 Download PDFInfo
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Abstract
(式中、基のうち少なくとも1つ又は2つは、
- その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基、
- 又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基のいずれかを含有する)
のうちの1つに相当するものとの組合せを含有する化粧品組成物に関する。
本発明はさらに、ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも1種の遮断剤を、有効量の少なくとも1種の特定の親水性又は水溶性のメロシアニン系UV遮断剤、特に、式(I)又は(II)のうちの1つに相当するもので照射光安定化させる方法にも関する。
Description
(i)少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体と、
(ii)少なくとも1種の特定の親水性又は水溶性のメロシアニン系UV遮断剤(その定義は以下に示すこととする)と
を含むことを特徴とする少なくとも1種のUV遮断系を、化粧品として許容される担体中に含む組成物をここに提案する。
- 2-メチルジベンゾイルメタン、
- 4-メチルジベンゾイルメタン、
- 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
- 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
- 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
- 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
- 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
- 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
- 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン。
(1)下記の式(I)及び(II):
- R1及びR2は、同一であっても異なっていてもよく、H;1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C22アルキル基;置換されていない又はC1〜C4アルキル基で置換されているC3〜C8シクロアルキル基を表し;前記R1基及びR2基は、その酸若しくは塩化形態(salified form)のアルキルスルホネート基又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基を場合により含有し、
- R1及びR2は、窒素と一緒になって、中断されていない又は1個若しくは複数の-O-、-S-若しくは-NH-で中断されている-(CH2)m-基を含有する環を形成してもよく、
- R1は、該窒素のα炭素と共に、中断されていない又は1個若しくは複数の-O-、-S-若しくは-NH-で中断されている-(CH2)m-基を含有する環を形成してもよく、
- R3は、カルボキシル基、-COOR5基、-CONHR5基、-COR5基、-CONR5R1基、SO2R5基又は-CN基を表し、
- R4は、カルボキシル基、-COOR6基、-CONHR6基、-COR6基、-CONR6R2基又はSO2R6基を表し、
- R5及びR6は、同一であっても異なっていてもよく、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C22アルキル基;置換されていない又はC1〜C4アルキル基で置換されているC3〜C8シクロアルキル基を表し;前記R5基及びR6基は、その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基を場合により含有し、
- Zは、中断されていない又は-O-、-S-若しくは-NR7-で中断されている、及び/又は置換されていない又は1つ若しくは2つのC1〜C6アルキル基で置換されている、-(CH2)l-基を表し、
- R7は、その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基を場合により含有するC1〜C5アルキル基であり、
- nは1〜2であり、- mは1〜7であり、- lは1〜4であり、
R1基、R2基、R5基、R6基及びR7基のうち少なくとも1つ若しくは2つは、
- その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基、
- 又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基
のいずれかを含有し、
但し、
(i)n=2である場合、R1基、R5基若しくはR6基のうちの1つはアルキルジラジカルであるか、又は、R1及びR2は2個の窒素原子と一緒になって環状二価基-(CH2)m-を形成し、
(ii)R1及びR2は、同時に水素原子であることはなく、
(iii)R3が-CNである場合には、R1基、R2基又はR6基のうち少なくとも1つは、その酸又は塩化形態のアルキルスルホネート基を含有しなければならない]
のうちの1つに相当するもの及びその塩、
(2)以下の分子:
により形成される群から選ばれる。
R1は、水素;1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C8アルキル基を表し、
R2は、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状若しくは分枝状のC1〜C8アルキル基、又はC5〜C6シクロアルキル基を表し、
R3は、-COOR5基、-CN基又は-CONHR5基を表し、
R4は、-COOR6基、-CONHR6基又は-SO2R6基を表し、
R5は、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C12アルキル基を表し、
nは1又は2に等しく、
R1基、R2基、R5基、R6基のうち少なくとも1つ若しくは2つは、
- その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基、
- 又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基
のいずれかを含有する
が満足されるものである。
R1は、水素;1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C10アルキル基を表し、
R2は、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状若しくは分枝状のC1〜C10アルキル基;C5〜C6シクロアルキルを表し、
R3は、-COOR5基又はCN基を表し、
R4は、-COOR6基又は-SO2R6基を表し、
R5は、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C12アルキル基を表し、
Zは、2つのCH3基で置換されていてもいなくてもよい-(CH2)3-であり、
nは1又は2に等しく、
R1基、R2基、R5基、R6基のうち少なくとも1つ若しくは2つは、
- その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基、
- 又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基
のいずれかを含有する
が満足されるものである。
又は、特許WO00/07989に記載されている方法によって、また、以下のスキーム(経路2):
によって、調製できる。
に従い、IP.COM Journal、9(5A)、29〜30頁、(2009)に記載されている方法によって調製できる。
パラアミノ安息香酸誘導体:
PABA、
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
エチルヘキシルジメチルPABA(特に、ISPによりEscalol 507の名称で販売されている)、
グリセリルPABA、
PEG-25 PABA(BASFによりUvinul P25の名称で販売されている)、
サリチル酸誘導体:
ホモサレート(Rona/EM IndustriesによりEusolex HMSの名称で販売されている)、
サリチル酸エチルヘキシル(SymriseによりNeo Heliopan OSの名称で販売されている)、
サリチル酸ジプロピレングリコール(ScherによりDipsalの名称で販売されている)、
サリチル酸TEA(SymriseによりNeo Heliopan TSの名称で販売されている)、
ケイ皮酸誘導体:
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル(特に、DSM Nutritional Productsにより商品名Parsol MCXで販売されている)、
メトキシケイ皮酸イソプロピル、
メトキシケイ皮酸イソアミル(Symriseにより商品名Neo Heliopan E1000で販売されている)、
シノキセート、
メトキシケイ皮酸DEA、
メチルケイ皮酸ジイソプロピル、
ジメトキシケイ皮酸エチルヘキサン酸グリセリル、
β,β-ジフェニルアクリレート誘導体:
オクトクリレン(特に、BASFにより商品名Uvinul N539で販売されている)、
エトクリレン(特に、BASFにより商品名Uvinul N35で販売されている)、
ベンゾフェノン誘導体:
ベンゾフェノン-1(BASFにより商品名Uvinul400で販売されている)、
ベンゾフェノン-2(BASFにより商品名Uvinul D50で販売されている)、
ベンゾフェノン-3又はオキシベンゾン(BASFにより商品名Uvinul M40で販売されている)、
ベンゾフェノン-4(BASFにより商品名Uvinul MS40で販売されている)、
ベンゾフェノン-5、
ベンゾフェノン-6(Norquayにより商品名Helisorb 11で販売されている)、
ベンゾフェノン-8(American Cyanamidにより商品名Spectra-Sorb UV-24で販売されている)、
ベンゾフェノン-9(BASFにより商品名Uvinul DS-49で販売されている)、
ベンゾフェノン-12、
n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート[BASFにより、商品名Uvinul A+で、又はメトキシケイ皮酸オクチルとの混合物の形態にて商品名Uvinul A+Bで、販売されている]、
1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]メタノン(CAS 919803-06-8)、
ベンジリデンカンファー誘導体:
3-ベンジリデンカンファー(ChimexによりMexoryl SDの名称で製造されている)、
4-メチルベンジリデンカンファー(MerckによりEusolex 6300の名称で販売されている)、
ベンジリデンカンファースルホン酸(ChimexによりMexoryl SLの名称で製造されている)、
メト硫酸カンファーベンザルコニウム(ChimexによりMexoryl SOの名称で製造されている)、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸(ChimexによりMexoryl SXの名称で製造されている)、
ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー(ChimexによりMexoryl SWの名称で製造されている)、
フェニルベンゾイミダゾール誘導体:
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸(特に、Merckにより商品名Eusolex 232で販売されている)、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム(Symriseにより商品名Neo Heliopan APで販売されている)、
フェニルベンゾトリアゾール誘導体:
ドロメトリゾールトリシロキサン(Rhodia ChimieによりSilatrizoleの名称で販売されている)、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール(Fairmount Chemicalにより商品名Mixxim BB/100にて固体形態で、又は、Ciba Specialty Chemicalsにより商品名Tinosorb Mにて水性分散液として微粉化された形態で販売されている)、
トリアジン誘導体:
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン(Ciba Geigyにより商品名Tinosorb Sで販売されている)、
エチルヘキシルトリアゾン(特に、BASFにより商品名Uvinul T150で販売されている)、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン(Sigma 3Vにより商品名Uvasorb HEBで販売されている)、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-6-[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニルプロピル)アミノ]-s-トリアジン、
特許US6225467、特許出願WO2004/085412(化合物6及び9を参照)又は文献Symmetrical Triazine Derivatives、IP.COM Journal、IP.COM INC、West Henrietta、NY、US(2004年9月20日)に記載されている対称トリアジン遮断剤、特に、2,4,6-トリス(ビフェニル)-1,3,5-トリアジン類[特に2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル-1,3,5-トリアジン)]及び2,4,6-トリス(テルフェニル)-1,3,5-トリアジン(Beiersdorfの特許出願WO06/035000、WO06/034982、WO06/034991、WO06/035007、WO2006/034992及びWO2006/034985においても言及されている)、
アントラニル酸誘導体:
アントラニル酸メチル(Symriseにより商品名Neo Heliopan MAで販売されている)、
イミダゾリン誘導体:
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート、
ベンザルマロン酸誘導体:
ジネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、
ベンザルマロネート官能基を含有するポリオルガノシロキサン、例えばポリシリコーン-15(Hoffmann LaRocheにより商品名Parsol SLXで販売されている)、
4,4-ジアリールブタジエン誘導体:
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
ベンゾオキサゾール誘導体:
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)-イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン(Sigma 3VによりUvasorb K2Aの名称で販売されている)、
及びそれらの混合物。
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
ホモサレート、
サリチル酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、
1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]メタノン、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-6-[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニルプロピル)アミノ]-s-トリアジン、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
ジネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びこれらの混合物。
シリカで被覆されている酸化チタン、例えば、池田物産株式会社の製品Sunveil及びMerck社の製品Eusolex T-AVO、
シリカ及び酸化鉄で被覆されている酸化チタン、例えば、池田物産株式会社の製品Sunveil F、
シリカ及びアルミナで被覆されている酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 500 SA及びMicrotitanium Dioxide MT 100 SA、Tioxide社製のTioveil並びにRhodia社製のMirasun TiW 60、
アルミナで被覆されている酸化チタン、例えば、石原産業株式会社の製品Tipaque TTO-55(B)及びTipaque TTO-5 (A)並びにKemira社製のUVT 14/4、
アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆されている酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 100 TV、MT 100 TX、MT 100 Z及びMT-01、並びにUniqema社の製品Solaveil CT-10 W、Solaveil CT 100及びSolaveil CT 200、
シリカ、アルミナ及びアルギン酸で被覆されている酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品MT-100 AQ、
アルミナ及びラウリン酸アルミニウムで被覆されている酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 100 S、
酸化鉄及びステアリン酸鉄で被覆されている酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 100 F、
酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛で被覆されている酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品BR351、
シリカ及びアルミナで被覆されておりシリコーンで処理された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 600 SAS、Microtitanium Dioxide MT 500 SAS又はMicrotitanium Dioxide MT 100 SAS、
シリカ、アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆されておりシリコーンで処理された酸化チタン、例えば、チタン工業株式会社の製品STT-30-DS、
シリカで被覆されておりシリコーンで処理された酸化チタン、例えば、Kemira社の製品UV-Titan X 195、又はテイカ株式会社の製品SMT-100 WRS、
アルミナで被覆されておりシリコーンで処理された酸化チタン、例えば、石原産業株式会社の製品Tipaque TTO-55(S)、又はKemira社製のUV Titan M 262、
トリエタノールアミンで被覆されている酸化チタン、例えば、チタン工業株式会社の製品STT-65-S、
ステアリン酸で被覆されている酸化チタン、例えば、石原産業株式会社の製品Tipaque TTO-55(C)、
ヘキサメタリン酸ナトリウムで被覆されている酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品Microtitanium Dioxide MT 150 W。
- Sunsmart社によりZ-Coteの名称で販売されているもの、
- Elementis社によりNanoxの名称で販売されているもの、
- Nanophase Technologies社によりNanogard WCD 2025の名称で販売されているもの。
- Sunsmart社によりZ-Cote HP1の名称で販売されているもの(ジメチコーン被覆されたZnO)、
- Toshibi社によりZinc Oxide CS-5の名称で販売されているもの(ポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されたZnO)、
- Nanophase Technologies社によりNanogard Zinc Oxide FNの名称で販売されているもの(Finsolv TN、C12〜C15アルキルベンゾエート中の40%分散液として)、
- 大東化成株式会社によりDaitopersion ZN-30及びDaitopersion ZN-50の名称で販売されているもの(シリカ及びポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されたナノ亜鉛酸化物30%又は50%を含有する、シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散液)、
- Daikin社によりNFD Ultrafine ZnOの名称で販売されているもの(シクロペンタシロキサン中の分散液としての、ペルフルオロアルキルホスフェートとペルフルオロアルキルエチルベースのコポリマーとで被覆されたZnO)、
- 信越化学工業株式会社によりSPD-Z1の名称で販売されているもの(シクロジメチルシロキサン中に分散された、シリコーングラフトアクリルポリマーで被覆されたZnO)、
- ISP社によりEscalol Z100の名称で販売されているもの(メトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP-ヘキサデセン/メチコーンコポリマー混合物中に分散された、アルミナ処理したZnO)、
- 富士色素株式会社によりFuji ZnO-SMS-10の名称で販売されているもの(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたZnO)、
- Elementis社によりNanox Gel TNの名称で販売されているもの(ヒドロキシステアリン酸重縮合物を含むC12〜C15安息香酸アルキル中に55%の濃度で分散されたZnO)。
- ビタミン(A、C、E、K、PPなど)及びそれらの誘導体又は前駆体(単独又は混合物としての)、
- 老化防止剤、
- 酸化防止剤、
- フリーラジカルスカベンジャー、
- 抗糖化剤、
- 鎮静剤、
- NO-シンターゼ阻害剤、
- 真皮又は表皮巨大分子の合成を刺激し、且つ/又はそれらの分解を防止する作用剤、
- 線維芽細胞増殖を刺激する作用剤、
- ケラチノサイト増殖を刺激する作用剤、
- 皮膚弛緩剤(dermorelaxant)、
- テンショニング剤(tensioning agent)、
- 艶消剤、
- 角質溶解剤、
- 落屑剤(desquamating agent)、
- モイスチャライザー、例えばポリオール(グリセロール、ブチレングリコール又はプロピレングリコールなど)、
- 抗炎症剤、
- 細胞のエネルギー代謝に作用する作用剤、
- 昆虫忌避剤、
- サブスタンスP又はサブスタンスCRGPアンタゴニスト、
- 脱毛防止剤(hair-loss counteractant)及び/又は育毛剤、
- 抗皺剤(antiwrinkle agent)、
- 皮膚の色素沈着を修正する作用剤、
- 収斂剤、
- 脂漏調節剤(seboregulator)及び抗脂漏剤(seborrhoeic agent)。
本組成物は、即効性の視覚的効果を提供することを目的とした少なくとも1つの追加成分を含むこともできる。特に、皮膚の自然なピンクがかった着色を促す作用剤を挙げることができる。
ジヒドロキシアセトン(DHA)、
エリトルロース、及び
以下から形成される触媒系の組合せ:
マンガン及び/又は酸化亜鉛の塩、並びに
アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属の炭酸水素塩
を特に挙げることができる。
- CTFA名:CI 45380又はRed 21として公知のテトラブロモフルオレセイン又はエオシン、
- CTFA名:CI 45410又はRed 27として公知のフロキシンB、
- CTFA名:CI 45425又はOrange 10として公知のジヨードフルオレセイン、
- CTFA名:CI 45370又はOrange 5として公知のジブロモフルオレセイン、
- CTFA名:CI 45380(Na塩)又はRed 22として公知のテトラブロモフルオレセインのナトリウム塩、
- CTFA名:CI 45410(Na塩)又はRed 28として公知のフロキシンBのナトリウム塩、
- CTFA名:CI 45425(Na塩)又はOrange 11として公知のジヨードフルオレセインのナトリウム塩、
- CTFA名:CI 45430又はAcid Red 51として公知のエリトロシン、
- CTFA名:CI 45405又はAcid Red 98として公知のフロキシン。
(実施例1)
メチル(2Z,4E)-5-[ビス(2-ヒドロキシエチル)アミノ]-2-(メチルスルホニル)ペンタ-2,4-ジエノエートの調製:
3-アニリノアクロレインアニリン(2g、9×10-3mol)及び酢酸メチルメタンスルホニル(1.37ml、9×10-3mol)を、5mlの無水酢酸中で105℃にて2時間30分加熱する。冷却後、無水酢酸を真空下で蒸発により除去する。得られた茶色の固体を40mlのメタノール中に取り出し、還流させる。冷却後、得られた固体を濾別し、冷メタノールですすぎ、乾燥させる。メチル(2Z,4E)-5-[アセチル(フェニル)アミノ]-2-(メチルスルホニル)ペンタ-2,4-ジエノエートの1.6gの黄色の粉末(収率:55%)を回収し、さらに加工することなく次のステップで使用する。
5.5mlのアセトニトリル中の前記生成物(2.3g、7.1×10-3mol)とジエタノールアミン(10.33g、6.23×10-3mol)との溶液を、1時間15分還流する。冷却後、アセトニトリルを真空下で蒸発により除去する。得られた茶色の油をシリカカラムでのクロマトグラフィーにかける(溶離剤の勾配:CH2Cl2/MeOH、100:0から90:10へ)。実施例1の誘導体の清澄な画分0.36g(収率:26%)が、こうして、淡黄色の粉末の形態で得られる。
融点=73〜76℃。
UV(エタノール):λmax=367nm、E1%=2140
ビス(4-ヒドロキシブチル)[(2E)-3-(ジメチルアミノ)-プロパ-2-エン-1-イリデン]プロパンジオエートの調製:
4-ベンジルオキシ-1-ブタノール(9.5g、52.8×10-3mol)とマロン酸(2.5ml、24×10-3mol)との不均一混合物を、撹拌しながら50℃にする。触媒である濃H2SO4(131μL)を加え、その結果得られた混合物を40℃で1時間放置する。冷却後、灰色の残渣をジクロロメタン中に取り出す。有機相を水で洗浄する(大量の泡)。溶媒を蒸発により除去した後、得られた残渣をシリカカラムでのクロマトグラフィーにかけて、出発物質のアルコールを除去する(溶離剤:90/10、ヘプタン/EtOAc)。ビス[4-(ベンジルオキシ)ブチル]プロパンジオエートの清澄な画分7.5g(収率:74%)を淡黄色の油の形態で回収し、さらに加工することなくこれを次のステップで使用する。
350mlのエタノールに溶解した前記生成物(7.5g、0.0175mol)を、連続的な還元的水素化(H-cube:10% Pd/Cの70mmカートリッジ、フルH2、1ml/分、40℃)に供した。真空下でエタノールを蒸留により除去した後、4.31g(収率:99%)のビス(4-ヒドロキシブチル)プロパンジオエートが無色の油の形態で得られ、さらに加工することなくこれを次のステップで使用する。
20mlのトルエン中の、前記生成物(4.31g、0.0173mol)と触媒であるn-オクチルアミン(86μL、0.03当量)及び酢酸(199μL、0.2当量)とを、窒素で不活性化させ(inertize)ディーン・スターク装置を載せた反応器中で還流させる。10mlのトルエンに溶解したN,N-ジメチルアクロレイン(1.74ml、0.0173mol)を反応混合物に滴加する。反応混合物を3時間30分煮沸した後、同量の触媒を加え、還流を21時間続ける。冷却後、溶媒を真空下で蒸発により除去し、得られた茶色の油をシリカカラムでのクロマトグラフィーにかける(溶離剤の勾配:イソプロピルエーテル/アセトン、30:70から70:30へ)。実施例2の誘導体703mg(収率:12%)が、こうして、オレンジ色の油の形態で得られる:
UV(エタノール):λmax=374nm、E1%=1600
2-{[(2E,4E)-2-シアノ-5-(ジエチルアミノ)ペンタ-2,4-ジエノイル]オキシ}エタンスルホネートナトリウム塩の調製
塩化チオニル(15ml)を、撹拌しながら、シアノ酢酸(2g、0.024mol)と反応させ、40℃で2時間維持する。50mlのトルエンを加え、残りの体積が10mlになるまで、この混合物を真空下で濃縮する。イセチオン酸のナトリウム塩(3.48g、0.024mol)をそこに加え、この混合物をトルエンの還流点で維持する。この不均一混合物を20時間還流させる。冷却後、反応混合物を濾過する。固体を水中に取り出し、水相を酢酸エチルで洗浄する。2N水酸化ナトリウムを用いて、水相を中性のpHにする。約30質量%の塩を含有する1.6gのベージュ色の粉末を回収する。2-{[(2E,4E)-2-シアノ-5-(ジエチルアミノ)ペンタ-2,4-ジエノイル]オキシ}エタンスルホン酸のナトリウム塩がこうして得られ、さらに加工することなくこれを次のステップで使用する。
5mlのトルエン中の、前記生成物(1g、0.0032mol)と触媒であるジエチルアミン(34μL、0.1当量)及び酢酸(19μL、0.1当量)とを、窒素で不活性化させディーン・スターク装置を載せた反応器中で還流させる。N,N-ジエチルアクロレイン(0.41ml、0.0032mol)を反応混合物に滴加する。反応混合物を3時間30分煮沸した後、同量の触媒を加え、還流を21時間続ける。冷却後、反応混合物を濾過し、得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗浄する。逆相カラムでのクロマトグラフィーの後、実施例3の誘導体212mg(収率:22%)が、ベージュ色の固体の形態で得られる:
UV(H2O):λmax=370nm、E1%=1200
組成物A及びBを以下のように調製した:
Claims (17)
- (a)少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体と、
(b)
(1)下記の式(I)及び(II):
- R1及びR2は、同一であっても異なっていてもよく、H;1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C22アルキル基;置換されていない又はC1〜C4アルキル基で置換されているC3〜C8シクロアルキル基を表し;前記R1基及びR2基は、その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基を場合により含有し;
- R1及びR2は、窒素と一緒になって、中断されていない又は1個若しくは複数の-O-、-S-若しくは-NH-で中断されている-(CH2)m-基を含有する環を形成してもよく、
- R1は、窒素のα炭素と共に、中断されていない又は1個若しくは複数の-O-、-S-若しくは-NH-で中断されている-(CH2)m-基を含有する環を形成してもよく、
- R3は、カルボキシル基、-COOR5基、-CONHR5基、-COR5基、CONR5R1基、SO2R5基又は-CN基を表し、
- R4は、カルボキシル基、-COOR6基、-CONHR6基、-COR6基、CONR6R2基又はSO2R6基を表し、
- R5及びR6は、同一であっても異なっていてもよく、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C22アルキル基、置換されていない又はC1〜C4アルキル基で置換されているC3〜C8シクロアルキル基を表し;前記R5基及びR6基は、その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基を場合により含有し、
- Zは、中断されていない又は-O-、-S-若しくは-NR7-で中断されている、及び/又は置換されていない又は1つ若しくは2つのC1〜C6アルキル基で置換されている、-(CH2)l-基を表し、
- R7は、その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基を場合により含有するC1〜C5アルキル基であり、
- nは1〜2であり、- mは1〜7であり、- lは1〜4であり、
R1基、R2基、R5基、R6基及びR7基のうち少なくとも1つ若しくは2つは、
- その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基、
- 又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基
のいずれかを含有し、
但し、
(i)n=2である場合、R1基、R5基若しくはR6基のうちの1つはアルキルジラジカルであるか、又は、R1及びR2は2個の窒素原子と一緒になって環状二価基-(CH2)m-を形成し、
(ii)R1及びR2は、同時に水素原子であることはなく、
(iii)R3が-CNである場合には、R1基、R2基又はR6基のうち少なくとも1つは、その酸又は塩化形態のアルキルスルホネート基を含有しなければならない]
のうちの1つに相当するもの並びにその塩並びにそのE,E幾何異性体、E,Z幾何異性体又はZ,Z幾何異性体
(2)以下の分子:
により形成される群から選ばれる少なくとも1種の親水性又は水溶性のメロシアニン系UV遮断剤と
を含むことを特徴とする少なくとも1種のUV遮断系を、化粧品として許容される担体中に含む組成物。 - 前記式(I)の化合物が、以下の条件:
R1は、水素;1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C8アルキル基を表し、
R2は、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状若しくは分枝状のC1〜C8アルキル基、又はC5〜C6シクロアルキル基を表し、
R3は、-COOR5基、-CN基又は-CONHR5基を表し、
R4は、-COOR6基、-CONHR6基又は-SO2R6基を表し、
R5は、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C12アルキル基を表し、
nは1又は2に等しく、
R1基、R2基、R5基、R6基のうち少なくとも1つ若しくは2つは、
- その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基、
- 又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基
のいずれかを含有する
を満足するものから選ばれる、請求項1に記載の組成物。 - 前記式(II)の化合物が、以下の条件:
R1は、水素;1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C10アルキル基を表し、
R2は、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状若しくは分枝状のC1〜C10アルキル基;C5〜C6シクロアルキルを表し、
R3は、-COOR5基又はCN基を表し、
R4は、-COOR6基又は-SO2R6基を表し、
R5は、1〜3個の酸素原子を場合により含有する直鎖状又は分枝状のC1〜C12アルキル基を表し、
Zは、2つのCH3基で置換されていてもいなくてもよい-(CH2)3-であり、
nは1又は2に等しく、
R1基、R2基、R5基、R6基及びR7基のうち少なくとも1つ若しくは2つは、
- その酸若しくは塩化形態のアルキルスルホネート基、
- 又は1つ若しくは2つのヒドロキシル基
のいずれかを含有する
を満足するものから選ばれる、請求項1に記載の組成物。 - 水溶性若しくは脂溶性若しくはさらには通常使用される化粧品用溶媒中に不溶性の、UVA活性のある及び/又はUVB活性のある、他の有機又は無機遮断剤をさらに含有することを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の組成物。
- 追加の前記有機遮断剤が、アントラニレート;ケイ皮酸誘導体;サリチル酸誘導体;カンファー誘導体;ベンゾフェノン誘導体;β,β-ジフェニルアクリレート誘導体;トリアジン誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンザルマロネート誘導体;ベンズイミダゾール誘導体;イミダゾリン;ビス-ベンズアゾリル誘導体;p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体;メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;ベンゾオキサゾール誘導体;遮断ポリマー及び遮断シリコーン;α-アルキルスチレンベースのダイマー;4,4-ジアリールブタジエン;脂溶性のメロシアニン誘導体;並びにそれらの混合物から選ばれる、請求項9に記載の組成物。
- 前記有機UV遮断剤が、以下の化合物:
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
ホモサレート、
サリチル酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、
1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]メタノン、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-6-[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニルプロピル)アミノ]-s-トリアジン、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
ジネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びこれらの混合物
から選ばれることを特徴とする、請求項10に記載の組成物。 - 追加の前記無機遮断剤が、被覆又は非被覆金属酸化物顔料であることを特徴とする、請求項9に記載の組成物。
- 請求項1から12のいずれか一項に記載の少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体のUV照射に対する化学的安定性を改善する方法であって、前記ジベンゾイルメタン誘導体が、請求項1から7のいずれか一項に記載の少なくとも1種の親水性又は水溶性のメロシアニン系UV遮断剤又はその塩又はそのE,E異性体、E,Z異性体若しくはZ,Z-異性体の有効量の組合せと組み合わされることを特徴とする方法。
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