JP2013122518A - 偏光膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の偏光膜の製造方法は、結晶化度が7%以下の熱可塑性樹脂基材11上にポリビニルアルコール系樹脂層12を形成して積層体10を作製し、湿式処理を施した積層体10に熱ロールを用いた乾燥処理を施す。
【選択図】図1
Description
好ましい実施形態においては、上記熱可塑性樹脂基材が、ポリエチレンテレフタレート系樹脂から構成されている。
好ましい実施形態においては、上記ポリエチレンテレフタレート系樹脂がイソフタル酸ユニットを有する。
好ましい実施形態においては、上記イソフタル酸ユニットの含有割合が、全繰り返し単位の合計に対して、0.1モル%以上、20モル%以下である。
好ましい実施形態においては、上記熱ロールの温度が50℃以上である。
好ましい実施形態においては、上記乾燥処理後の熱可塑性樹脂基材の結晶化度が15%以上である。
好ましい実施形態においては、上記湿式処理が、ホウ酸水溶液中に積層体を浸漬させて延伸する処理を含む。
本発明の別の局面によれば、偏光膜が提供される。この偏光膜は、上記製造方法により得られる。
本発明のさらに別の局面によれば、光学積層体が提供される。この光学積層体は、上記偏光膜を有する。
好ましい実施形態においては、上記光学積層体は上記熱可塑性樹脂基材を有する。
A.製造方法
本発明の偏光膜の製造方法は、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成して積層体を作製し、この積層体に湿式処理および乾燥処理を施す。積層体は、代表的には、長尺状とされている。
図1は、本発明の好ましい実施形態による積層体の概略断面図である。積層体10は、熱可塑性樹脂基材11とPVA系樹脂層12とを有し、熱可塑性樹脂基材にPVA系樹脂層12を形成することにより作製される。PVA系樹脂層12の形成方法は、任意の適切な方法を採用し得る。好ましくは、熱可塑性樹脂基材11上に、PVA系樹脂を含む塗布液を塗布し、乾燥することにより、PVA系樹脂層12を形成する。
上記湿式処理は、代表的には、水溶液中に上記積層体を浸漬させる処理である。湿式処理としては、例えば、染色処理、延伸処理、不溶化処理、架橋処理、洗浄処理等が挙げられる。これらの処理は、目的に応じて選択することができる。また、処理順序、処理のタイミング、処理回数等の処理条件を、適宜設定することができる。以下、各々の処理について説明する。
上記乾燥処理は、搬送ロールを加熱する(いわゆる熱ロールを用いる)ことにより行う(熱ロール乾燥方式)。熱ロールを用いて乾燥させることにより、カールを抑制して、外観に優れた偏光膜を製造することができる。具体的には、熱ロールに積層体を沿わせた状態で乾燥することにより、上記熱可塑性樹脂基材の結晶化を効率的に促進させて結晶化度を増加させることができ、比較的低い乾燥温度であっても、熱可塑性樹脂基材の結晶化度を良好に増加させることができる。その結果、熱可塑性樹脂基材は、その剛性が増加して、乾燥によるPVA系樹脂層の収縮に耐え得る状態となり、カールが抑制される。また、熱ロールを用いることにより、積層体を平らな状態に維持しながら乾燥できるので、カールだけでなくシワの発生も抑制することができる。
本発明の偏光膜の製造方法では、積層体(PVA系樹脂層)に対し、上記以外に任意の適切な処理を施し得る。具体例としては、空中延伸処理、上記熱ロールを用いた乾燥処理とは別の乾燥処理等が挙げられる。空中延伸処理の延伸温度は、好ましくは熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度(Tg)以上である。空中延伸による延伸倍率は、代表的には1.0倍〜3.5倍である。延伸方法は、上記水中延伸と同様である。空中延伸処理のタイミング、延伸方向等は、適宜、決定され得る。
本発明の偏光膜は、上記製造方法により得られる。本発明の偏光膜は、実質的には、二色性物質が吸着配向されたPVA系樹脂膜である。偏光膜の厚みは、代表的には25μm以下であり、好ましくは15μm以下、より好ましくは10μm以下、さらに好ましくは7μm以下、特に好ましくは5μm以下である。一方、偏光膜の厚みは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.5μm以上である。偏光膜は、好ましくは、波長380nm〜780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光膜の単体透過率は、好ましくは40.0%以上、より好ましくは41.0%以上、さらに好ましくは42.0%以上、特に好ましくは43.0%以上である。偏光膜の偏光度は、好ましくは99.8%以上、より好ましくは99.9%以上、さらに好ましくは99.95%以上である。
本発明の光学積層体は、上記偏光膜を有する。図4(a)および(b)は、本発明の好ましい実施形態による光学フィルム積層体の概略断面図である。光学フィルム積層体100は、熱可塑性樹脂基材11’と偏光膜12’と粘着剤層13とセパレータ14とをこの順で有する。光学フィルム積層体200は、熱可塑性樹脂基材11’と偏光膜12’と接着剤層15と光学機能フィルム16と粘着剤層13とセパレータ14とをこの順で有する。本実施形態では、上記熱可塑性樹脂基材を、得られた偏光膜12’から剥離せずに、そのまま光学部材として用いている。熱可塑性樹脂基材11’は、例えば、偏光膜12’の保護フィルムとして機能し得る。
1.厚み
デジタルマイクロメーター(アンリツ社製、製品名「KC−351C」)を用いて測定した。
2.熱可塑性樹脂基材の結晶化度
DSC装置(セイコーインスツル社製、EXSTAR DSC6000)を用いて、昇温速度10℃/minで結晶融解熱量を測定し、この結晶融解熱量と測定時の結晶生成熱量との差を、完全結晶の融解熱量(PET:140J/g)で除することにより算出した。
3.熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度(Tg)
JIS K 7121に準じて測定した。
熱可塑性樹脂基材として、結晶化度0〜3.9%、Tg70℃でイソフタル酸ユニットを7モル%有する非晶質のポリエチレンテレフタレート(IPA共重合PET)フィルム(厚み:100μm)を用いた。
熱可塑性樹脂基材の片面に、重合度2600、ケン化度99.9%のポリビニルアルコール(PVA)樹脂(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセノール(登録商標)NH−26」)の水溶液を60℃で塗布および乾燥して、厚み10μmのPVA系樹脂層を形成した。このようにして積層体を作製した。
次に、積層体を、液温30℃の不溶化浴(水100重量部に対して、ホウ酸を3重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴(水100重量部に対して、ヨウ素を0.1重量部配合し、ヨウ化カリウムを0.7重量部配合して得られたヨウ素水溶液)に、最終的に得られる偏光膜の単体透過率(Ts)が40〜44%となるように浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温30℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を3重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に60秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温65℃のホウ酸水溶液(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合し、ヨウ化カリウムを5重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向に一軸延伸を行った(水中延伸処理)。このときの延伸倍率を3.22倍とした。
その後、積層体を洗浄浴(水100重量に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に5秒間浸漬させた(洗浄処理)。
その後、図2に示すようにオーブン内に設けられた熱ロールで搬送させながら、積層体を乾燥させた。ここで、上流側から1番目のロールR1および2番目のロールR2の温調を切り、R3〜R6の温度を60℃に設定した。また、オーブン内に、温度60℃で風速19m/sの熱風を送風させた。全乾燥時間は101秒間であり、熱ロールとの接触時間は54秒(全乾燥時間の約1/2)であった。
このようにして、熱可塑性樹脂基材上に厚み3μmの偏光膜を作製した。なお、水中延伸処理後の熱可塑性樹脂基材の結晶化度は約14%であった。
乾燥処理において、搬送ロールR3〜R6の温度を85℃に設定したこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を作製した。
乾燥処理において、搬送ロールR3〜R6の温度を90℃に設定したこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を作製した。
乾燥処理において、熱ロールと接触させなかったこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を作製した。なお、熱ロールを用いずにオーブン内をストレートパスとしたことにより、乾燥時間は36秒であった。
乾燥処理において、熱風の温度を90℃としたこと以外は、比較例1と同様にして偏光膜を作製した。
1.カール
得られた光学積層体から試験片(縦10cm×横10cm)を切り出した。得られた試験片をその凸面が下側になるようにガラス板に載置して、ガラス板から試験片の4つの角の高さをそれぞれ測定した。4角のうち一番大きい値で評価した。
2.耐久性
得られた光学積層体を80℃の恒温槽および60℃、90%RHの恒温恒湿槽に500時間投入し、熱可塑性樹脂基材が偏光膜から剥離するか否かを観察した。
(耐久性の評価基準)
○:剥離が確認された
×:剥離は確認されなかった
乾燥処理による結晶化度の増加が大きかった実施例2および実施例3の光学積層体は、耐久性に極めて優れていた。
11 熱可塑性樹脂基材
12 ポリビニルアルコール系樹脂層
Claims (10)
- 結晶化度が7%以下の熱可塑性樹脂基材上にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体を作製し、
湿式処理を施した該積層体に、熱ロールを用いた乾燥処理を施す、偏光膜の製造方法。 - 前記熱可塑性樹脂基材が、ポリエチレンテレフタレート系樹脂から構成されている、請求項1に記載の偏光膜の製造方法。
- 前記ポリエチレンテレフタレート系樹脂がイソフタル酸ユニットを有する、請求項2に記載の偏光膜の製造方法。
- 前記イソフタル酸ユニットの含有割合が、全繰り返し単位の合計に対して、0.1モル%以上、20モル%以下である、請求項3に記載の偏光膜の製造方法。
- 前記熱ロールの温度が50℃以上である、請求項1から4のいずれかに記載の偏光膜の製造方法。
- 前記乾燥処理後の熱可塑性樹脂基材の結晶化度が15%以上である、請求項1から5のいずれかに記載の偏光膜の製造方法。
- 前記湿式処理が、ホウ酸水溶液中に積層体を浸漬させて延伸する処理を含む、請求項1から6のいずれかに記載の偏光膜の製造方法。
- 請求項1から7のいずれかに記載の偏光膜の製造方法により得られた、偏光膜。
- 請求項8に記載の偏光膜を有する、光学積層体。
- 前記熱可塑性樹脂基材を有する、請求項9に記載の光学積層体。
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