JP2012221766A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
荷電粒子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012221766A JP2012221766A JP2011086904A JP2011086904A JP2012221766A JP 2012221766 A JP2012221766 A JP 2012221766A JP 2011086904 A JP2011086904 A JP 2011086904A JP 2011086904 A JP2011086904 A JP 2011086904A JP 2012221766 A JP2012221766 A JP 2012221766A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- particle beam
- sample
- thin film
- beam apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 133
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 103
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 72
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 38
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 97
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 21
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 6
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012472 biological sample Substances 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
- H01J37/185—Means for transferring objects between different enclosures of different pressure or atmosphere
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/16—Vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/16—Vessels
- H01J2237/164—Particle-permeable windows
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
- H01J2237/1825—Evacuating means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2007—Holding mechanisms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2602—Details
- H01J2237/2605—Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
- H01J2237/2608—Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere with environmental specimen chamber
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】真空雰囲気と大気雰囲気(ないしガス雰囲気)を仕切る薄膜を採用する構成の荷電粒子線装置において、上記薄膜を保持でき、かつ内部を大気雰囲気あるいはガス雰囲気に維持可能なアタッチメントを高真空型荷電粒子顕微鏡の真空試料室に挿入して使用する。当該アタッチメントは、上記真空試料室の真空隔壁に真空シールされて固定される。アタッチメント内部をヘリウムや窒素あるいは水蒸気といった大気ガスよりも質量の軽い軽元素ガスで置換することにより、更に画質が向上する。
【選択図】 図2
Description
1 光学レンズ
2 電子光学(荷電粒子光学)鏡筒
3 検出器
4 真空ポンプ
5 試料ステージ
6 試料
7 第1の筐体
10 薄膜
11 第1の空間
12 第2の空間
14 リークバルブ
16 真空配管
18 支柱
19 板部材用支持部材
20 底板
35 パソコン
36 上位制御部
37 下位制御部
43,44 通信線
47 薄膜保持部材
50 操作用ウィンドウ
51 画像表示部
52 画像観察開始ボタン
53 画像観察停止ボタン
54 焦点調整ボタン
55 明るさ調整ボタン
56 コントラスト調整ボタン
57,59 真空排気ボタン
58,60 大気リークボタン
100 ガス供給管
101 ガス制御用バルブ
102 連結部
103 ガスボンベ
104 圧力調整弁
105 制限部材
106 カメラ
107 支持板
108,109 操作つまみ
112 ガス放出開始ボタン
113 ガス放出停止ボタン
114 SEM画像表示ボタン
115 カメラボタン
116 同時表示ボタン
117 ガス放出時間設定画面
118 子ウィンドウ
119 ガス放出実行チェックボックス
120 OKボタン
121 第2筐体
122,130 蓋部材
123,124,125,126,128,129 真空封止部材
131 本体部
132 合わせ部
Claims (23)
- 一次荷電粒子線を試料上に走査する荷電粒子光学鏡筒と、前記走査により得られる反射電子あるいは二次電子を検出する検出器と、真空ポンプとを備える荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線装置全体を装置設置面に対して支持され、内部が前記真空ポンプにより真空排気される第1の筐体と、
当該第1の筐体の側面または内壁面あるいは前記荷電粒子光学鏡筒に位置が固定される、前記試料を内部に格納する第2の筐体と、
当該第2の筐体の上面側に設けられる、前記一次荷電粒子線を透過あるいは通過させる薄膜とを備え、
前記第2の筐体内部の圧力を、前記第1の筐体内部の圧力よりも高い状態に維持できることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記第2の筐体内部の雰囲気を置換するための置換ガスを導入するガス導入部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置において、
前記第2の筐体内部の圧力を調整するための圧力調整弁を備え、
前記第2の筐体内部の圧力が所定値よりも高くなった場合に前記圧力調整弁が開くことにより、前記第2の筐体内部が減圧されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3に記載の荷電粒子線装置において、
前記第2の筐体の形状が1つの側面が開放された直方体形状であり、
前記ガス導入部または前記圧力調整弁が固定される、当該直方体の開放面を蓋う蓋部材を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置において、
前記置換ガスがヘリウムガスを含む軽元素ガスであることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガス導入部の前記板部材での取り付け位置が、前記圧力調整弁の前記板部材での取り付け位置よりも下に配置されたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項6に記載の荷電粒子線装置において、
前記圧力調整弁に替えて開口部が設けられたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置において、
前記第2の筐体または前記板部材は、前記第2の筐体の内部圧力を調整するための真空ポンプが接続される粗排気ポートを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置において、
前記板部材は、前記第2の筐体の側面に対して脱着可能に固定されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜が、当該薄膜を保持する薄膜保持部材を介して前記第2の筐体に脱着可能に固定され、
前記薄膜保持部材を前記第2の筐体から取り外すことにより、前記第1の筐体および第2の筐体内部を真空排気可能なことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項10に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜を保持する薄膜保持部材が、前記第2の筐体内部の天井面に固定されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記第2の筐体の底面に固定された、前記試料を面内方向あるいは高さ方向に移動する試料ステージを備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置において、
前記板部材に固定された、前記試料を面内方向あるいは高さ方向に移動可能な試料ステージを備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項10に記載の荷電粒子線装置において、
請求項1記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜保持部が、前記試料が前記薄膜に接近しすぎないように試料と薄膜間の距離を制限する制限部材を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜と前記試料の間隔を観察可能な観察装置を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料への前記荷電粒子線の走査によって放出されるイオン,電子,光子,X線のいずれか一つ以上を検出するための検出器、あるいは前記荷電粒子線の照射によって得られる透過電子を検出する検出器が、前記1の筐体内または第2の筐体内に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記第2の筐体内に備えられた、前記試料への前記荷電粒子線の走査によって前記試料に流れ込む電子または電流を検出できる試料台を有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記第1の筐体または第2の筐体内部の圧力、雰囲気の少なくとも一方の制御条件を設定する操作画面が表示されるモニタを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜の厚みが20μm以下であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜が、前記一次荷電粒子線が通過するための、面積1mm2以下の貫通孔を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 一次荷電粒子線を試料上に走査する荷電粒子光学鏡筒と、前記走査により得られる反射電子あるいは二次電子を検出する検出器と、真空ポンプとを備える荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子光学鏡筒を装置設置面に対して支持し、内部が前記真空ポンプにより真空排気される筐体部と、
内部の圧力を前記筐体部の圧力よりも高い状態に維持しつつ前記試料を格納できるアタッチメントとを備え、
前記アタッチメントは、前記一次荷電粒子線をアタッチメント内部に透過あるいは通過させる薄膜を保持し、
更に前記アタッチメントは、前記筐体部の側壁面または内壁面あるいは前記荷電粒子光学鏡筒に真空シールされて固定されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 内部が真空排気された荷電粒子光学鏡筒から放出される荷電粒子線を、薄膜を介して大気圧状態に維持された試料に照射し、得られる二次荷電粒子を検出して前記試料上の荷電粒子線の照射位置の画像を取得する観察方法において、
前記荷電粒子光学鏡筒を装置設置面に対して支持する筐体によって形成される第1の空間内を前記荷電粒子線を通過させ、
前記第1の空間に対し当該第1の空間の側面から挿入され、内部圧力が前記荷電粒子光学鏡筒内の圧力よりも高い状態に維持されたアタッチメント内に前記試料を格納し、
前記薄膜を介して前記アタッチメント内の試料に前記荷電粒子線を照射する観察方法。 - 請求項21に記載の観察方法において、
前記アタッチメント内部をヘリウムガスで置換することを特徴とする観察方法。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011086904A JP5699023B2 (ja) | 2011-04-11 | 2011-04-11 | 荷電粒子線装置 |
KR1020147032861A KR101688293B1 (ko) | 2011-04-11 | 2012-03-02 | 하전 입자선 장치 |
US14/111,174 US8710439B2 (en) | 2011-04-11 | 2012-03-02 | Charged particle beam apparatus |
CN201280017689.8A CN103477415B (zh) | 2011-04-11 | 2012-03-02 | 带电粒子束装置及利用带电粒子束装置进行观察的方法 |
KR1020147027512A KR101519315B1 (ko) | 2011-04-11 | 2012-03-02 | 하전 입자선 장치 |
KR1020137026494A KR101519283B1 (ko) | 2011-04-11 | 2012-03-02 | 하전 입자선 장치 |
DE112012001214.3T DE112012001214B4 (de) | 2011-04-11 | 2012-03-02 | Ladungsteilchenstrahlvorrichtung und betrachtungsverfahren mit einem ladungsteilchenstrahl |
PCT/JP2012/001431 WO2012140822A1 (ja) | 2011-04-11 | 2012-03-02 | 荷電粒子線装置 |
US14/191,769 US8921786B2 (en) | 2011-04-11 | 2014-02-27 | Charged particle beam apparatus |
US14/552,477 US9105442B2 (en) | 2011-04-11 | 2014-11-24 | Charged particle beam apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011086904A JP5699023B2 (ja) | 2011-04-11 | 2011-04-11 | 荷電粒子線装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015021710A Division JP5923632B2 (ja) | 2015-02-06 | 2015-02-06 | 荷電粒子線装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012221766A true JP2012221766A (ja) | 2012-11-12 |
JP2012221766A5 JP2012221766A5 (ja) | 2013-10-31 |
JP5699023B2 JP5699023B2 (ja) | 2015-04-08 |
Family
ID=47009019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011086904A Active JP5699023B2 (ja) | 2011-04-11 | 2011-04-11 | 荷電粒子線装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US8710439B2 (ja) |
JP (1) | JP5699023B2 (ja) |
KR (3) | KR101519315B1 (ja) |
CN (1) | CN103477415B (ja) |
DE (1) | DE112012001214B4 (ja) |
WO (1) | WO2012140822A1 (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014157772A (ja) * | 2013-02-18 | 2014-08-28 | Horon:Kk | 走査型電子顕微鏡および検査装置 |
KR101524215B1 (ko) * | 2013-11-29 | 2015-05-29 | (주)코셈 | 전자현미경 |
JP2016001629A (ja) * | 2015-10-07 | 2016-01-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察方法 |
KR20160020483A (ko) | 2013-09-06 | 2016-02-23 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자선 장치 및 시료 화상 취득 방법 |
WO2016035493A1 (ja) * | 2014-09-05 | 2016-03-10 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子線装置および電子線装置用ガス供給装置 |
WO2016084872A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
KR20160079010A (ko) | 2014-01-27 | 2016-07-05 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전입자선 장치, 시료 화상 취득 방법, 및 프로그램 기록 매체 |
KR20160103034A (ko) | 2014-02-27 | 2016-08-31 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 주사 전자 현미경 및 화상 생성 방법 |
WO2016166825A1 (ja) * | 2015-04-15 | 2016-10-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、およびその真空排気方法 |
WO2017002152A1 (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-05 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 試料高さ調整方法及び観察システム |
WO2017033219A1 (ja) * | 2015-08-21 | 2017-03-02 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子顕微鏡の観察支援ユニットおよびこれを用いた試料観察方法 |
US9633817B2 (en) | 2013-08-23 | 2017-04-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | Diaphragm mounting member and charged particle beam device |
JP2018137231A (ja) * | 2018-03-23 | 2018-08-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、試料観察方法、試料台、観察システム、および発光部材 |
WO2022264809A1 (ja) * | 2021-06-14 | 2022-12-22 | NanoSuit株式会社 | イムノクロマトテストストリップの検査装置および検査方法、ならびに検査システム |
US11538659B2 (en) | 2018-10-25 | 2022-12-27 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device, autofocus processing method of charged particle beam device, and detector |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5699023B2 (ja) * | 2011-04-11 | 2015-04-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5936484B2 (ja) * | 2012-08-20 | 2016-06-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
JP5923412B2 (ja) * | 2012-08-24 | 2016-05-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 観察装置および光軸調整方法 |
GB2505517B (en) * | 2012-09-04 | 2017-08-09 | Restranaut Ltd | System for monitoring evacuation of a facility |
JP2014053073A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置用部材、荷電粒子線装置および隔膜部材 |
JP5909431B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2016-04-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP6051014B2 (ja) * | 2012-10-29 | 2016-12-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料格納用容器、荷電粒子線装置、及び画像取得方法 |
JP6035602B2 (ja) * | 2012-11-21 | 2016-11-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 |
WO2014192361A1 (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-04 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、試料観察方法 |
JP6117070B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2017-04-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
CN105593966B (zh) * | 2013-10-08 | 2017-05-24 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子束装置、带电粒子束装置的控制方法 |
US10202353B2 (en) | 2014-02-28 | 2019-02-12 | Gilead Sciences, Inc. | Therapeutic compounds |
KR20170101265A (ko) * | 2014-12-22 | 2017-09-05 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판을 검사하기 위한 장치, 기판을 검사하기 위한 방법, 대면적 기판 검사 장치 및 그 동작 방법 |
WO2016174921A1 (ja) * | 2015-04-28 | 2016-11-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、設置方法 |
EP3171163B1 (en) * | 2015-11-18 | 2022-05-04 | FEI Company | X-ray imaging technique |
CN106783493B (zh) | 2016-12-01 | 2018-07-10 | 聚束科技(北京)有限公司 | 一种真空气氛处理装置、样品观测系统及方法 |
JP6928943B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-09-01 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
KR20200002884A (ko) * | 2017-04-24 | 2020-01-08 | 몰레큘라 비스타 인크. | 헬륨 분위기를 가지는 힘 현미경 |
JP6808691B2 (ja) * | 2018-08-09 | 2021-01-06 | 日本電子株式会社 | 試料搬送装置及び電子顕微鏡 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004158364A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-03 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
JP2005175042A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Sony Corp | 異物検査装置および異物検査方法 |
JP2006179751A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Nsk Ltd | 駆動装置 |
JP2006318903A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-24 | Lee Bing Huan | 真空または低圧環境下で気体の操作および観察を可能にする装置 |
JP2008192616A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Fei Co | 粒子ビーム及び光を用いる顕微鏡で試料を観察する装置 |
JP2009245944A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fei Co | 粒子光学装置用環境セル |
JP2010509709A (ja) * | 2006-10-24 | 2010-03-25 | ビー・ナノ・リミテッド | インターフェース、非真空環境内で物体を観察する方法、および走査型電子顕微鏡 |
WO2010092747A1 (ja) * | 2009-02-16 | 2010-08-19 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子線装置および電子線装置用試料保持装置 |
JP2011014414A (ja) * | 2009-07-03 | 2011-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線画像を安定に取得する方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5142461A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-10 | Ryoji Takahashi | |
US7241993B2 (en) * | 2000-06-27 | 2007-07-10 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
WO2002001597A1 (fr) * | 2000-06-27 | 2002-01-03 | Ebara Corporation | Appareil d'inspection a faisceau de particules chargees et procede de fabrication d'un dispositif utilisant cet appareil d'inspection |
WO2002045125A1 (en) | 2000-12-01 | 2002-06-06 | Yeda Research And Development Co. Ltd. | Device and method for the examination of samples in a non-vacuum environment using a scanning electron microscope |
EP1339100A1 (en) * | 2000-12-01 | 2003-08-27 | Ebara Corporation | Inspection method and apparatus using electron beam, and device production method using it |
JP2006147430A (ja) | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Hokkaido Univ | 電子顕微鏡 |
JP4319636B2 (ja) * | 2005-03-16 | 2009-08-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 低真空走査電子顕微鏡 |
CN101461026B (zh) * | 2006-06-07 | 2012-01-18 | Fei公司 | 与包含真空室的装置一起使用的滑动轴承 |
JP5253800B2 (ja) | 2007-12-26 | 2013-07-31 | 日本電子株式会社 | 試料保持体及び観察・検査方法並びに観察・検査装置 |
WO2010001399A1 (en) | 2008-07-03 | 2010-01-07 | B-Nano | A scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment |
JP2010230417A (ja) | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Jeol Ltd | 試料の検査装置及び検査方法 |
JP5699023B2 (ja) * | 2011-04-11 | 2015-04-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5707286B2 (ja) * | 2011-09-21 | 2015-04-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置の調整方法、および試料の検査若しくは試料の観察方法。 |
JP5825964B2 (ja) * | 2011-10-05 | 2015-12-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査又は観察装置及び試料の検査又は観察方法 |
-
2011
- 2011-04-11 JP JP2011086904A patent/JP5699023B2/ja active Active
-
2012
- 2012-03-02 KR KR1020147027512A patent/KR101519315B1/ko active IP Right Grant
- 2012-03-02 WO PCT/JP2012/001431 patent/WO2012140822A1/ja active Application Filing
- 2012-03-02 DE DE112012001214.3T patent/DE112012001214B4/de active Active
- 2012-03-02 US US14/111,174 patent/US8710439B2/en active Active
- 2012-03-02 CN CN201280017689.8A patent/CN103477415B/zh active Active
- 2012-03-02 KR KR1020137026494A patent/KR101519283B1/ko active IP Right Grant
- 2012-03-02 KR KR1020147032861A patent/KR101688293B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-02-27 US US14/191,769 patent/US8921786B2/en active Active
- 2014-11-24 US US14/552,477 patent/US9105442B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004158364A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-03 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
JP2005175042A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Sony Corp | 異物検査装置および異物検査方法 |
JP2006179751A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Nsk Ltd | 駆動装置 |
JP2006318903A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-24 | Lee Bing Huan | 真空または低圧環境下で気体の操作および観察を可能にする装置 |
JP2010509709A (ja) * | 2006-10-24 | 2010-03-25 | ビー・ナノ・リミテッド | インターフェース、非真空環境内で物体を観察する方法、および走査型電子顕微鏡 |
JP2008192616A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Fei Co | 粒子ビーム及び光を用いる顕微鏡で試料を観察する装置 |
JP2009245944A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fei Co | 粒子光学装置用環境セル |
WO2010092747A1 (ja) * | 2009-02-16 | 2010-08-19 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子線装置および電子線装置用試料保持装置 |
JP2011014414A (ja) * | 2009-07-03 | 2011-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線画像を安定に取得する方法 |
Cited By (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014157772A (ja) * | 2013-02-18 | 2014-08-28 | Horon:Kk | 走査型電子顕微鏡および検査装置 |
US9633817B2 (en) | 2013-08-23 | 2017-04-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | Diaphragm mounting member and charged particle beam device |
DE112014003268B4 (de) | 2013-08-23 | 2018-05-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Membrananbringungselement, mit einem strahl geladener teilchen arbeitende vorrichtung, system, membrananbringungsverfahren sowie verfahren zum inspizieren der qualität |
KR20160020483A (ko) | 2013-09-06 | 2016-02-23 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자선 장치 및 시료 화상 취득 방법 |
DE112014003352B4 (de) | 2013-09-06 | 2023-02-02 | Hitachi High-Tech Corporation | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung und Probenbilderfassungsverfahren |
US9741526B2 (en) | 2013-09-06 | 2017-08-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus and sample image acquiring method |
KR101752164B1 (ko) | 2013-09-06 | 2017-06-29 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자선 장치 및 시료 화상 취득 방법 |
KR101524215B1 (ko) * | 2013-11-29 | 2015-05-29 | (주)코셈 | 전자현미경 |
KR20160079010A (ko) | 2014-01-27 | 2016-07-05 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전입자선 장치, 시료 화상 취득 방법, 및 프로그램 기록 매체 |
US9741530B2 (en) | 2014-01-27 | 2017-08-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged-particle-beam device, specimen-image acquisition method, and program recording medium |
DE112014005590B4 (de) | 2014-01-27 | 2018-05-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung, Probenbilderfassungsverfahren und Programmaufzeichnungsmedium |
US9875877B2 (en) | 2014-02-27 | 2018-01-23 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electron scanning microscope and image generation method |
US10157724B2 (en) | 2014-02-27 | 2018-12-18 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electron scanning microscope and image generation method |
KR20160103034A (ko) | 2014-02-27 | 2016-08-31 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 주사 전자 현미경 및 화상 생성 방법 |
WO2016035493A1 (ja) * | 2014-09-05 | 2016-03-10 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子線装置および電子線装置用ガス供給装置 |
JPWO2016035493A1 (ja) * | 2014-09-05 | 2017-06-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子線装置および電子線装置用ガス供給装置 |
US10134564B2 (en) | 2014-11-28 | 2018-11-20 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device |
WO2016084872A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
WO2016166825A1 (ja) * | 2015-04-15 | 2016-10-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、およびその真空排気方法 |
DE112015006315B4 (de) | 2015-04-15 | 2021-09-23 | Hitachi High-Tech Corporation | Ladungsteilchenstrahleinrichtung und Evakuierungsverfahren dafür |
US10304655B2 (en) | 2015-04-15 | 2019-05-28 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device and evacuation method for same |
JPWO2016166825A1 (ja) * | 2015-04-15 | 2018-02-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、およびその真空排気方法 |
US10141157B2 (en) | 2015-06-29 | 2018-11-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method for adjusting height of sample and observation system |
WO2017002152A1 (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-05 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 試料高さ調整方法及び観察システム |
JPWO2017002152A1 (ja) * | 2015-06-29 | 2018-03-29 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料高さ調整方法及び観察システム |
DE112015006658B4 (de) | 2015-06-29 | 2022-11-17 | Hitachi High-Tech Corporation | Verfahren zum Anpassen der Höhe einer Probe und ein Beobachtungssystem |
WO2017033219A1 (ja) * | 2015-08-21 | 2017-03-02 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子顕微鏡の観察支援ユニットおよびこれを用いた試料観察方法 |
DE112015006731T5 (de) | 2015-08-21 | 2018-04-19 | Hitachi High-Technologies Corporation | Betrachtungsunterstützungseinheit für Ladungsteilchenmikroskop und dieses nutzendes Probenbetrachtungsverfahren |
US10431416B2 (en) | 2015-08-21 | 2019-10-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Observation support unit for charged particle microscope and sample observation method using same |
KR20180022907A (ko) | 2015-08-21 | 2018-03-06 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자 현미경의 관찰 지원 유닛 및 이것을 사용한 시료 관찰 방법 |
DE112015006731B4 (de) | 2015-08-21 | 2022-07-28 | Hitachi High-Tech Corporation | Betrachtungsunterstützungseinheit für ladungsteilchenmikroskop sowie ladungsteilchenmikroskop und dieses nutzendes probenbetrachtungsverfahren |
JP2016001629A (ja) * | 2015-10-07 | 2016-01-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察方法 |
JP2018137231A (ja) * | 2018-03-23 | 2018-08-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、試料観察方法、試料台、観察システム、および発光部材 |
US11538659B2 (en) | 2018-10-25 | 2022-12-27 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device, autofocus processing method of charged particle beam device, and detector |
WO2022264809A1 (ja) * | 2021-06-14 | 2022-12-22 | NanoSuit株式会社 | イムノクロマトテストストリップの検査装置および検査方法、ならびに検査システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103477415B (zh) | 2016-10-12 |
KR20140130531A (ko) | 2014-11-10 |
US20140175278A1 (en) | 2014-06-26 |
US8921786B2 (en) | 2014-12-30 |
KR101688293B1 (ko) | 2016-12-20 |
DE112012001214T5 (de) | 2014-01-30 |
KR101519283B1 (ko) | 2015-05-11 |
KR20140143462A (ko) | 2014-12-16 |
US20140021347A1 (en) | 2014-01-23 |
KR20130135341A (ko) | 2013-12-10 |
CN103477415A (zh) | 2013-12-25 |
US9105442B2 (en) | 2015-08-11 |
US8710439B2 (en) | 2014-04-29 |
JP5699023B2 (ja) | 2015-04-08 |
KR101519315B1 (ko) | 2015-05-11 |
DE112012001214B4 (de) | 2022-02-10 |
US20150076347A1 (en) | 2015-03-19 |
WO2012140822A1 (ja) | 2012-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5699023B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5825964B2 (ja) | 検査又は観察装置及び試料の検査又は観察方法 | |
KR101514190B1 (ko) | 하전 입자선 장치 | |
JP5936484B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP6207824B2 (ja) | 荷電粒子線装置、隔膜の位置調整方法および隔膜位置調整ジグ | |
JP6302702B2 (ja) | 走査電子顕微鏡および画像生成方法 | |
JP5909431B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5923412B2 (ja) | 観察装置および光軸調整方法 | |
WO2014041876A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP6272384B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5923632B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6118870B2 (ja) | 試料観察方法 | |
JP2015079765A (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130821 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130821 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130821 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140819 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140825 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5699023 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |