JP2012198282A - λ/4 PLATE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, POLARIZING PLATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND STEREOSCOPIC IMAGE DISPLAY DEVICE - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、1/4λ板とその製造方法に関する。また、当該λ/4板が具備された偏光板、液晶表示装置、及び立体画像表示装置に関する。 The present invention relates to a ¼λ plate and a manufacturing method thereof. The present invention also relates to a polarizing plate, a liquid crystal display device, and a stereoscopic image display device provided with the λ / 4 plate.
近年、立体(3D)画像の表示が可能なテレビなどの立体画像表示装置が提唱されている。この立体画像を表示させる方式の一つに、専用の立体画像視認用眼鏡を観測者が着用することで、2次元画像を立体画像として観測者に認識させる方式がある。この方式で現在有力視されているのが、画像を表示するディスプレイに視差画像である右眼用画像と左眼用画像とを時系列で交互に切り替えて映し出し、観測者は立体画像視認用眼鏡を着用して、ディスプレイの画像を見るという方式である(例えば特許文献1参照。)。 In recent years, stereoscopic image display devices such as televisions capable of displaying stereoscopic (3D) images have been proposed. As one of the methods for displaying the stereoscopic image, there is a method for allowing the observer to recognize the two-dimensional image as a stereoscopic image by wearing dedicated stereoscopic image viewing glasses by the observer. What is currently viewed as promising in this method is that the right-eye image and the left-eye image, which are parallax images, are alternately displayed in time series on the display that displays the image, and the observer uses glasses for viewing stereoscopic images. This is a method in which an image of a display is viewed while wearing (see, for example, Patent Document 1).
上記のディスプレイと立体画像視認用眼鏡からなる立体画像表示装置では、首を傾けた際に、クロストーク(二重に見える現象)、輝度低下、色味の変化という問題がある。このような首を傾けた際の問題の発生を防止するためには、液晶ディスプレイの視認側及び立体画像視認用眼鏡の目から遠い側の表面にそれぞれλ/4板を用いることが有効である。 The stereoscopic image display device including the display and the glasses for visually recognizing stereoscopic images has problems such as crosstalk (a phenomenon that appears double), a decrease in luminance, and a change in color when the head is tilted. In order to prevent the occurrence of such a problem when the head is tilted, it is effective to use λ / 4 plates on the surface on the viewing side of the liquid crystal display and the surface on the side far from the eyes of the stereoscopic image viewing glasses. .
一方、λ/4板は、液晶表示装置用の光学補償フィルムとして、有機EL表示用の反射防止膜としてなど多くの用途を有しているが、従来、実際に使用する場合には、λ/4板に各種機能を付与して高機能或いは高性能化するために表面加工層を設けたり、表面に直接的加工を施したりしている。また、このようなλ/4板としては、種々の化合物を含有させたλ/4板が提案されている(例えば、特許文献2及び3参照)。
On the other hand, the λ / 4 plate has many uses such as an optical compensation film for a liquid crystal display device and an antireflection film for an organic EL display. In order to give various functions to the four plates to achieve high performance or high performance, a surface processed layer is provided, or the surface is directly processed. As such λ / 4 plates, λ / 4 plates containing various compounds have been proposed (see, for example,
しかしながら、従来知られているλ/4板では、当該λ/4板と表面加工層の密着性や硬度が、湿度、熱、光等によって劣化してしまうという問題があった。また、この様なλ/4板を偏光板に用いた場合には、偏光子の劣化も招来するという問題があった。 However, the conventionally known λ / 4 plate has a problem that the adhesion and hardness between the λ / 4 plate and the surface processed layer are deteriorated by humidity, heat, light, and the like. Further, when such a λ / 4 plate is used for a polarizing plate, there is a problem that the polarizer is also deteriorated.
本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、表面加工適性及び偏光子耐久性に優れ、かつ位相差性、逆波長分散性等の光学特性に優れたλ/4板とその製造方法を提供することである。また、当該λ/4板が具備された偏光板、液晶表示装置、及び立体画像表示装置を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems and situations, and the problem to be solved is λ excellent in surface processing suitability and polarizer durability, and excellent in optical properties such as retardation and reverse wavelength dispersion. / 4 plate and its manufacturing method. Another object of the present invention is to provide a polarizing plate, a liquid crystal display device, and a stereoscopic image display device provided with the λ / 4 plate.
本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。 The above-mentioned problem according to the present invention is solved by the following means.
1.下記一般式(PEI)で表される化合物とセルロースエステル樹脂を含有するλ/4板であって、長手方向に対して斜交する方向に延伸されており、温度23℃・相対湿度55%RHにおいて、測定波長550nmで測定した面内リターデーションRo(550)が100〜160nmの範囲内にあり、配向角θが40〜50°の範囲内にあることを特徴とするλ/4板。
一般式(PEI):B−(G−A)n−G−B
(Bは、ベンゼンモノカルボン酸残基を表す。Gは、炭素数2〜12のアルキレングリコール残基、炭素数6〜12のアリールグリコール残基、又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基を表す。Aは、炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表す。また、nは、0以上の整数を表す。)
2.logP値が6.0以下であり、かつFedors法でのSP値が8.0〜12.0の範囲内にある化合物と、又はlogP値が6.1〜12.0の範囲内にあり、かつFedors法でのSP値が8.0〜10.0の範囲内にある化合物と、セルロースエステル樹脂とを含有するλ/4板であって、長手方向に対して斜交する方向に延伸されており、温度23℃・相対湿度55%RHにおいて、測定波長550nmで測定した面内リターデーションRo(550)が100〜160nmの範囲内であり、かつ配向角θが40〜50°の範囲内であることを特徴とするλ/4板。
1. A λ / 4 plate containing a compound represented by the following general formula (PEI) and a cellulose ester resin, which is stretched in a direction oblique to the longitudinal direction, and has a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH. The λ / 4 plate is characterized in that the in-plane retardation Ro (550) measured at a measurement wavelength of 550 nm is in the range of 100 to 160 nm and the orientation angle θ is in the range of 40 to 50 °.
Formula (PEI): B- (GA) n -GB
(B represents a benzene monocarboxylic acid residue. G represents an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an aryl glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12 carbon atoms. And A represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an aryl dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 0 or more.)
2. the log P value is 6.0 or less and the SP value in the Fedors method is in the range of 8.0 to 12.0, or the log P value is in the range of 6.1 to 12.0, And a λ / 4 plate containing a compound having an SP value in the range of 8.0 to 10.0 by the Fedors method and a cellulose ester resin, and is stretched in a direction oblique to the longitudinal direction. In-plane retardation Ro (550) measured at a measurement wavelength of 550 nm at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH is in the range of 100 to 160 nm, and the orientation angle θ is in the range of 40 to 50 °. A λ / 4 plate characterized by the above.
3.1,3,5−トリアジン環を有する化合物を含有していることを特徴とする前記第1項又は第2項に記載のλ/4板。
3. The λ / 4 plate according to
4.前記セルロースエステル樹脂のアセチル基置換度をX、プロピオニル基置換度をYとしたとき、X及びYが、下記式(1)及び式(2)を満たすことを特徴とする前記第1項から第3項までのいずれか一項に記載のλ/4板。
式(1):2.0≦(X+Y)≦2.8
式(2):0≦Y≦1.0
5.前記式(1)及び式(2)を満たすセルロースエステル樹脂が、下記式(1a)と前記式(2)を満たすセルロースエステル樹脂と下記式(1b)を満たすセルロースエステル樹脂とを含有するセルロースエステル樹脂であることを特徴とする前記第4項に記載のλ/4板。
式(1a):2.0≦(X+Y)<2.5
式(1b):2.5≦(X+Y)≦2.8
6.波長380nmの光の透過率が10%以下であることを特徴とする前記第1項から第5項までのいずれか一項に記載のλ/4板。
4). The first to second items, wherein X and Y satisfy the following formulas (1) and (2), where X is an acetyl group substitution degree and Y is a propionyl group substitution degree of the cellulose ester resin: The λ / 4 plate according to any one of items 3 to 3.
Formula (1): 2.0 ≦ (X + Y) ≦ 2.8
Formula (2): 0 ≦ Y ≦ 1.0
5. The cellulose ester resin in which the cellulose ester resin satisfying the formula (1) and the formula (2) contains a cellulose ester resin satisfying the following formula (1a) and the formula (2) and a cellulose ester resin satisfying the following formula (1b). The λ / 4 plate according to item 4, which is a resin.
Formula (1a): 2.0 ≦ (X + Y) <2.5
Formula (1b): 2.5 ≦ (X + Y) ≦ 2.8
6). The λ / 4 plate according to any one of
7.表面にクリアハードコート層又は防眩性ハードコート層を有することを特徴とする前記第1項から第6項までのいずれか一項に記載のλ/4板。
7). The λ / 4 plate according to any one of
8.前記防眩性ハードコート層が、微粒子を含有していないことを特徴とする前記第7項に記載のλ/4板。 8). The λ / 4 plate according to item 7, wherein the antiglare hard coat layer does not contain fine particles.
9.前記第1項から第8項までのいずれか一項に記載のλ/4板を製造するλ/4板の製造方法であって、原反フィルムを最初に巾手方向に延伸した後に延伸軸と垂直方向に収縮させながら搬送方向を湾曲させる工程を有することを特徴とするλ/4板の製造方法。
9. A method for producing a λ / 4 plate according to any one of
10.前記第1項から第8項までのいずれか一項に記載のλ/4板が具備されていることを特徴とする偏光板。
10. A polarizing plate comprising the λ / 4 plate according to any one of
11.前記第1項から第8項までのいずれか一項に記載のλ/4板が具備されていることを特徴とする液晶表示装置。
11. A liquid crystal display device comprising the λ / 4 plate according to any one of
12.前記第1項から第8項までのいずれか一項に記載のλ/4板が具備されていることを特徴とする立体画像表示装置。 12 A stereoscopic image display apparatus comprising the λ / 4 plate according to any one of the first to eighth aspects.
本発明の上記手段により、表面加工適性及び偏光子耐久性に優れ、かつ位相差性、逆波長分散性等の光学特性に優れたλ/4板とその製造方法を提供することができる。また、当該λ/4板が具備された偏光板、液晶表示装置、及び立体画像表示装置を提供することができる。 By the above means of the present invention, it is possible to provide a λ / 4 plate excellent in surface processing suitability and polarizer durability, and excellent in optical properties such as phase difference and reverse wavelength dispersion, and a method for producing the same. In addition, a polarizing plate, a liquid crystal display device, and a stereoscopic image display device provided with the λ / 4 plate can be provided.
本発明のλ/4板は、前記一般式(PEI)で表される化合物、又は、logP値が6.0以下であり、かつFedors法でのSP値が8.0〜12.0の範囲内にある化合物と、若しくはlogP値が6.1〜12.0の範囲内にあり、かつFedors法でのSP値が8.0〜10.0の範囲内にある化合物と、セルロースエステル樹脂とを含有するλ/4板であって、長手方向に対して斜交する方向に延伸されており、温度23℃・相対湿度55%RHにおいて、測定波長550nmで測定した面内リターデーションRo(550)が100〜160nmの範囲内にあり、配向角θが40〜50°の範囲内にあることを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項12までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
The λ / 4 plate of the present invention has a compound represented by the general formula (PEI) or a log P value of 6.0 or less and a SP value in the Fedors method of 8.0 to 12.0. A compound having a log P value in the range of 6.1 to 12.0, and an SP value in the range of Fedors method in the range of 8.0 to 10.0, and a cellulose ester resin, In-plane retardation Ro (550) measured at a measurement wavelength of 550 nm at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH. ) Is in the range of 100 to 160 nm, and the orientation angle θ is in the range of 40 to 50 °. This feature is a technical feature common to the inventions according to
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、1,3,5−トリアジン環を有する化合物を含有していることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that a compound having a 1,3,5-triazine ring is contained from the viewpoint of the effect of the present invention.
本発明においては、前記セルロースエステル樹脂のアセチル基置換度をX、プロピオニル基置換度をYとしたとき、X及びYが、前記式(1)及び式(2)を満たすことが好ましい。また、前記式(1)及び式(2)を満たすセルロースエステル樹脂が、前記式(1a)と前記式(2)を満たすセルロースエステル樹脂と前記式(1b)を満たすセルロースエステル樹脂とを含有するセルロースエステル樹脂であることが好ましい。 In the present invention, when the cellulose ester resin has an acetyl group substitution degree of X and a propionyl group substitution degree of Y, X and Y preferably satisfy the above formulas (1) and (2). Moreover, the cellulose ester resin satisfying the formula (1) and the formula (2) contains the cellulose ester resin satisfying the formula (1a) and the formula (2) and the cellulose ester resin satisfying the formula (1b). A cellulose ester resin is preferred.
本発明においては、波長380nmの光の透過率が10%以下であることが好ましい。また、本発明のλ/4板の表面にクリアハードコート層又は防眩性ハードコート層を有することが好ましい。この場合、当該防眩性ハードコート層が、微粒子を含有していない態様であることが好ましい。 In the present invention, the transmittance of light having a wavelength of 380 nm is preferably 10% or less. Further, it is preferable to have a clear hard coat layer or an antiglare hard coat layer on the surface of the λ / 4 plate of the present invention. In this case, it is preferable that the antiglare hard coat layer does not contain fine particles.
本発明のλ/4板の製造方法としては、原反フィルムを最初に巾手方向に延伸した後に延伸軸と垂直方向に収縮させながら搬送方向を湾曲させる工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。 The production method of the λ / 4 plate of the present invention is a production method of an embodiment having a step of curving the conveyance direction while first contracting the raw film in the width direction and then contracting in the direction perpendicular to the stretching axis. Is preferred.
本発明のλ/4板は、偏光板に好適に具備され得る。従って、液晶表示装置に用いることができる。特に、当該液晶表示装置のうち、立体画像表示装置に用いることができる。 The λ / 4 plate of the present invention can be suitably included in a polarizing plate. Therefore, it can be used for a liquid crystal display device. In particular, the liquid crystal display device can be used for a stereoscopic image display device.
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.
(本発明のλ/4板の概要)
本発明λ/4板は、長手方向に対して斜交する方向に延伸されており、温度23℃・相対湿度55%RHにおいて、測定波長550nmで測定した面内リターデーションRo(550)が100〜160nmの範囲内にあり、配向角θが40〜50°の範囲内にあることを特徴とする。
(Outline of λ / 4 plate of the present invention)
The λ / 4 plate of the present invention is stretched in a direction oblique to the longitudinal direction, and has an in-plane retardation Ro (550) of 100 measured at a measurement wavelength of 550 nm at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH. It is in the range of ˜160 nm, and the orientation angle θ is in the range of 40 to 50 °.
「λ/4板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に(又は、円偏光を直線偏光に)変換する機能を有するものをいう。λ/4板は、所定の光の波長(通常、可視光領域)に対して、層の面内の位相差値Roが約1/4となるように設計されている。温度23℃・相対湿度55%RHにおいて、波長550nmで測定したリターデーション値Ro(550)が100〜160nmの範囲内にあることを要し、110〜150nmであることが好ましい。 “Λ / 4 plate” means a plate having a function of converting linearly polarized light having a specific wavelength into circularly polarized light (or circularly polarized light into linearly polarized light). The λ / 4 plate is designed such that the in-plane retardation value Ro is about 1/4 with respect to a predetermined wavelength of light (usually in the visible light region). At a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH, the retardation value Ro (550) measured at a wavelength of 550 nm is required to be in the range of 100 to 160 nm, and preferably 110 to 150 nm.
また、λ/4板は、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の1/4のリターデーションを有する位相差板であることが好ましい。 Further, the λ / 4 plate is preferably a retardation plate having a retardation of approximately ¼ of the wavelength in the visible light wavelength range in order to obtain almost perfect circularly polarized light in the visible light wavelength range. .
「可視光の波長の範囲において概ね1/4のリターデーション」とは、波長400から700nmにおいて長波長ほどリターデーションが大きく、波長450nmで測定した下記式(i)で表されるリターデーション値であるRo(450)と波長590nmで測定したリターデーション値であるRo(590)が、1<Ro(590)/Ro(450)≦1.6を満たすことが好ましい。さらに、λ/4板として有効に機能するためには、Ro(450)が90〜125nmの範囲内であり、波長550nmで測定したリターデーション値Ro(550)が115〜142nmの範囲内であり、Ro(590)が120〜152nmの範囲内のλ/4板(位相差フィルム)であることがより好ましい。 The term “retardation of approximately ¼ in the wavelength range of visible light” means a retardation value represented by the following formula (i) measured at a wavelength of 450 nm, with a larger retardation at a wavelength of 400 to 700 nm. It is preferable that Ro (590) which is a retardation value measured at a certain Ro (450) and a wavelength of 590 nm satisfies 1 <Ro (590) / Ro (450) ≦ 1.6. Furthermore, in order to function effectively as a λ / 4 plate, Ro (450) is in the range of 90 to 125 nm, and the retardation value Ro (550) measured at a wavelength of 550 nm is in the range of 115 to 142 nm. , Ro (590) is more preferably a λ / 4 plate (retardation film) in the range of 120 to 152 nm.
式(i):Ro=(nx−ny)×d
式(ii):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
式中、nx、nyは、温度23℃・相対湿度55%RH、450nm、550nm、590nmの各々における屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。)、ny(フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率)であり、dはフィルムの厚さ(nm)である。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d
Formula (ii): Rt = {(n x + n y ) / 2−n z } × d
Wherein, n x, n y is a temperature 23 ° C. · RH 55% RH, 450 nm, 550 nm, maximum in-plane refractive index of the refractive index n x (film in each of the 590 nm, the refractive index in a slow axis direction also referred to.), an n y (refractive index in a direction perpendicular to the slow axis in the film plane), d is the film thickness (nm).
Ro、Rtは自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で、各波長での複屈折率測定によりRoを算出する。 Ro and Rt can be measured using an automatic birefringence meter. Using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), Ro is calculated by birefringence measurement at each wavelength in an environment of 23 ° C. and 55% RH.
λ/4板の遅相軸と後述する偏光子の透過軸との角度が実質的に45°になるように積層すると円偏光板が得られる。「実質的に45°」とは、40〜50°であることを意味する。λ/4板の面内の遅相軸と偏光子の透過軸との角度は、41〜49°であることが好ましく、42〜48°であることがより好ましく、43〜47°であることが更に好ましく、44〜46°であることが最も好ましい。 A circularly polarizing plate is obtained by laminating so that the angle between the slow axis of the λ / 4 plate and the transmission axis of the polarizer described later is substantially 45 °. “Substantially 45 °” means 40 to 50 °. The angle between the slow axis in the plane of the λ / 4 plate and the transmission axis of the polarizer is preferably 41 to 49 °, more preferably 42 to 48 °, and 43 to 47 °. Is more preferable, and it is most preferable that it is 44-46 degrees.
なお、本発明においては、配向角θが40〜50°の範囲内にあることを要する。当該配向角θをこのような範囲にすることで、偏光板の生産効率を高めるという効果を得ることができる。斜めに断裁する必要が無くなるので、フィルムのロスが減る、ロールからバネルへのオンライン貼合が可能、等の効果がある。 In the present invention, the orientation angle θ needs to be in the range of 40 to 50 °. By setting the orientation angle θ in such a range, an effect of increasing the production efficiency of the polarizing plate can be obtained. Since there is no need to cut diagonally, film loss is reduced, and online bonding from roll to panel is possible.
ここで、「配向角θ」とは、フィルムの延伸方向と遅相軸とがなす角度をいう。 Here, “orientation angle θ” refers to an angle formed by the stretching direction of the film and the slow axis.
本発明のλ/4板は、前記一般式(PEI)で表される化合物、又は、logP値が6.0以下であり、かつFedors法でのSP値が8.0〜12.0の範囲内にある化合物と、又はlogP値が6.1〜12.0の範囲内にあり、かつFedors法でのSP値が8.0〜10.0の範囲内にある化合物と、セルロースエステル樹脂とを含有することを特徴とする。 The λ / 4 plate of the present invention has a compound represented by the general formula (PEI) or a log P value of 6.0 or less and a SP value in the Fedors method of 8.0 to 12.0. A compound having a log P value in the range of 6.1 to 12.0 and an SP value in the range of Fedors method in the range of 8.0 to 10.0, and a cellulose ester resin It is characterized by containing.
ここで、「logP値」とは、有機化合物の水と1−オクタノールに対する親和性を示す係数である。1−オクタノール/水分配係数Pは、1−オクタノールと水の二液相の溶媒に微量の化合物が溶質として溶け込んだときの分配平衡で、それぞれの溶媒中における化合物の平衡濃度の比であり、底10に対するそれらの対数logPの形で示す。
Here, the “log P value” is a coefficient indicating the affinity of an organic compound for water and 1-octanol. 1-octanol / water partition coefficient P is a distribution equilibrium when a trace amount of compound is dissolved as a solute in a two-liquid solvent of 1-octanol and water, and is a ratio of the equilibrium concentration of the compound in each solvent. They are shown in the form of their logarithmic log P for
すなわち、「logP値」とは、オクタノール/水の分配係数の対数値であり、分子の親疎水性を表す重要なパラメータとして知られている。化合物のlogP値を求める方法としては、大別すると、実験的に実測して求める方法と、計算により求める方法とが知られている。 That is, the “log P value” is a logarithmic value of the octanol / water partition coefficient and is known as an important parameter representing the hydrophilicity / hydrophobicity of a molecule. As a method for obtaining the log P value of a compound, it can be roughly classified into a method for obtaining by experimental measurement and a method for obtaining by calculation.
logP値を実測する場合、下記文献に記載の方法により、実測して求めることができる。また、logP値の測定は、JIS日本工業規格Z7260−107(2000)に記載のフラスコ浸とう法により実施することもできる。 When the logP value is actually measured, it can be obtained by actual measurement by the method described in the following document. The logP value can also be measured by a flask soaking method described in JIS Japanese Industrial Standard Z7260-107 (2000).
計算によりlogP値を算出する場合、計算により算出したlogP値(「CLogP値」という。)は下記の文献記載のフラグメント法、又は下記市販のソフトウェアパッケージ1及び2を用いて計算により求めることができる。
When calculating a logP value by calculation, the logP value calculated by calculation (referred to as “CLogP value”) can be obtained by calculation using the fragment method described in the following literature or the following commercially
本願においては、logP値を議論するときはいつでも、このCLogP値のことを指し、明細書等中に記載したlogP値の数値は下記ソフトウェアパッケージ2を用いて計算した「CLogP値」の数値である。
文献:C.Hansch及びA.Leo、“Substituent Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology”(John Wiley & Sons, New York, 1969)
ソフトウェアパッケージ1:MedChem Software (Release 3.54,1991年8月、Medicinal Chemistry Project, Pomona College,Claremont,CA)
ソフトウェアパッケージ2:Chem Draw Ultra ver.8.0.(2003年4月、CambridgeSoft Corporation,USA)
本願において、「SP値」とは、Fedors法に基づく式から求められるSP値をいい、分子凝集エネルギーの平方根で表される値で、単位は(MPa)1/2であり、25℃における値である。
In the present application, whenever the logP value is discussed, this CLogP value is referred to. The numerical value of the logP value described in the specification etc. is the numerical value of the “ClogP value” calculated using the
Literature: C.I. Hansch and A.H. Leo, “Substitutants Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology” (John Wiley & Sons, New York, 1969).
Software Package 1: MedChem Software (Release 3.54, Aug. 1991, Medicinal Chemistry Project, Pomona College, Clarmont, CA)
Software package 2: Chem Draw Ultra ver. 8.0. (April 2003, CambridgeSoft Corporation, USA)
In the present application, the “SP value” refers to an SP value obtained from an equation based on the Fedors method, which is a value represented by the square root of the molecular cohesive energy, the unit is (MPa) 1/2 , and a value at 25 ° C. It is.
SP値は、POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE(1974年発刊、第14巻、NO.2、147〜154頁)に記載されているように、下記式で表される。
式:SP=(ΔEv/V)1/2
(式中、ΔEvはモル凝集エネルギー(the energy of vaporization at a given temperature)、Vはモル容積(molar volume)を表す。)
ここで、ΔEv及びVはそれぞれΔEv=ΣΔei及びV=ΣΔviで表され、ei及びviは上記POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE(1974年発刊、第14巻、NO.2、147〜154頁)中のTable 5に記載の値である。
The SP value is represented by the following formula, as described in POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE (published in 1974, Vol. 14, No. 2, pages 147 to 154).
Formula: SP = (ΔEv / V) 1/2
(In the formula, ΔEv represents the energy of vaporization at a give temperature, and V represents the molar volume.)
Here, Delta] Ev and V are respectively represented by ΔEv = ΣΔe i and V = ΣΔv i, e i and v i is the POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE (1974 year published, Vol. 14, pp. NO.2,147~154) It is a value as described in Table 5 in the inside.
logP値が6.0以下であり、かつFedors法でのSP値が8.0〜12.0の範囲内にある化合物と、又はlogP値が6.1〜12.0の範囲内にあり、かつFedors法でのSP値が8.0〜10.0の範囲内にある化合物の具体例としては、綜研化学製UMM1001、ダイカラック8080などのメチルアクリレート(MA)、メチルメタクリレート(MMA)、ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)を使用したアクリル系化合物、サッカロースオクタアセテート、グルコースペンタアセテートなどの糖エステル、トリフェニルホスフェート、アセチルクエンサントリブチル、等を挙げることができる。また、芳香族ポリエステル系化合物においても、分子構造中の芳香族含有率を小さくする、分子量を小さくする、などの方法で上記範囲に調整することは可能である。 the log P value is 6.0 or less and the SP value in the Fedors method is in the range of 8.0 to 12.0, or the log P value is in the range of 6.1 to 12.0, Specific examples of the compound having an SP value within the range of 8.0 to 10.0 by the Fedors method include methyl acrylate (MA), methyl methacrylate (MMA), hydroxyethyl such as UMM1001 manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. Examples include acrylic compounds using methacrylate (HEMA), sugar esters such as saccharose octaacetate and glucose pentaacetate, triphenyl phosphate, and acetyl citrate tributyl. In addition, the aromatic polyester compound can also be adjusted to the above range by a method such as reducing the aromatic content in the molecular structure or reducing the molecular weight.
当該化合物の含有量は、フィルム固形分質量に対し0.3〜10.0%の範囲内であることが好ましい。当該化合物を含有させると表面加工適性、特にハードコートや防眩性ハードコートの耐光密着が向上するという効果を得ることができる。 It is preferable that content of the said compound exists in the range of 0.3-10.0% with respect to film solid content mass. When the compound is contained, the effect of improving the surface processing suitability, particularly the light-resistant adhesion of the hard coat or the antiglare hard coat can be obtained.
本発明のλ/4板は、波長380nmの光の透過率が10%以下であることが好ましい。紫外線による劣化を防止するためである。このため、本発明のλ/4板は、後述する紫外線吸収剤を含有することが好ましい。 The λ / 4 plate of the present invention preferably has a light transmittance of 380 nm of 10% or less. This is to prevent deterioration due to ultraviolet rays. For this reason, it is preferable that the λ / 4 plate of the present invention contains an ultraviolet absorber described later.
〈フィルム基材〉
本発明のλ/4板は、セルロースエステル樹脂を含有することを特徴とするが、本発明に係るフィルム基材としては、種々の樹脂を用いることができる。主として熱可塑性樹脂が用いられる。ここで、「熱可塑性樹脂」とは、ガラス転移温度又は融点まで加熱することによって軟らかくなり、目的の形に成形できる樹脂のことをいう。
<Film substrate>
The λ / 4 plate of the present invention is characterized by containing a cellulose ester resin, and various resins can be used as the film substrate according to the present invention. A thermoplastic resin is mainly used. Here, the “thermoplastic resin” refers to a resin that becomes soft when heated to the glass transition temperature or melting point and can be molded into a desired shape.
一般的な位相差フィルム(光学フィルム)用樹脂としてのポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン等を用いることができる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、脂環式オレフィンポリマー、アクリル系ポリマー、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル等を用いてもよい。特にセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル、ラクトン環構造を有するアクリル系ポリマー等がより好ましい。これらの原料は単独で用いても良いし、異なる熱可塑性樹脂を混合して用いてもよい。混合して使用する場合は、セルロースエステルとアクリル系ポリマーの混合がより好ましい。 Polycarbonate, polyester, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, polyolefin, etc. can be used as a resin for a general retardation film (optical film). Also, cellulose terephthalate such as polyethylene terephthalate, polyimide, polymethyl methacrylate, polysulfone, polyethylene, polyvinyl chloride, alicyclic olefin polymer, acrylic polymer, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, etc. may be used. Good. In particular, cellulose esters such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate propionate, acrylic polymers having a lactone ring structure, and the like are more preferable. These raw materials may be used alone or in combination with different thermoplastic resins. When mixed and used, a mixture of cellulose ester and acrylic polymer is more preferable.
なお、本発明においては、本発明に係るフィルムが、正の固有複屈折値を有する樹脂を含有していることが好ましい。なお、「正の固有複屈折値を有する樹脂」とは、延伸した方向の屈折率が大きくなる樹脂をいう。正の固有複屈折値を有する樹脂としては、セルロースアシレート系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂を挙げることができる。 In the present invention, it is preferable that the film according to the present invention contains a resin having a positive intrinsic birefringence value. The “resin having a positive intrinsic birefringence value” refers to a resin having an increased refractive index in the stretched direction. Examples of the resin having a positive intrinsic birefringence value include cellulose acylate resins, cyclic olefin resins, and polycarbonate resins.
原料とする樹脂は、顔料や染料のごとき着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもよい。 The resin used as a raw material includes colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, UV absorbers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, and other compounding agents. It may be appropriately blended.
なお、フィルムは、単層フィルムであっても、多層フィルムであってもよい。 The film may be a single layer film or a multilayer film.
フィルムとしては、主として原反フィルムが用いられるが、既に縦延伸、横延伸、斜め延伸のいずれかを単独で、あるいは複数回実施したフィルムであっても構わない。 As the film, a raw film is mainly used, but it may be a film in which any one of longitudinal stretching, lateral stretching, and oblique stretching has already been carried out alone or multiple times.
<セルロースエステル樹脂>
本発明のλ/4板は、セルロースエステル樹脂(単に「セルロースエステル」ともいう。)を含有することを特徴とする。
<Cellulose ester resin>
The λ / 4 plate of the present invention is characterized by containing a cellulose ester resin (also simply referred to as “cellulose ester”).
本発明に用いることができるセルロースエステルは、セルロース(ジ、トリ)アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。 The cellulose ester that can be used in the present invention is at least selected from cellulose (di, tri) acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose phthalate. One type is preferred.
これらの中で特に好ましいセルロースエステルは、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。 Among these, particularly preferable cellulose esters include cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate.
本発明においては、前記セルロースエステル樹脂のアセチル基置換度をX、プロピオニル基置換度をYとしたとき、X及びYが、下記式(1)及び式(2)を満たすことが好ましい。
式(1):2.0≦(X+Y)≦2.8
式(2):0≦Y≦1.0
また、前記式(1)及び式(2)を満たすセルロースエステル樹脂が、下記式(1a)と前記式(2)を満たすセルロースエステル樹脂と下記式(1b)を満たすセルロースエステル樹脂とを含有するセルロースエステル樹脂であることが好ましい。
式(1a):2.0≦(X+Y)<2.5
式(1b):2.5≦(X+Y)≦2.8
なお、β−1,4−グリコシド結合でセルロースを構成しているグルコース単位は、2位、3位及び6位に遊離のヒドロキシル基(水酸基)を有している。本発明に係るセルロースエステル樹脂は、これらのヒドロキシル基(水酸基)の一部又は全部をアセチル基、プロピオニル基等のアシル基によりエステル化した重合体(ポリマー)である。
In the present invention, it is preferable that X and Y satisfy the following formulas (1) and (2), where X is the acetyl group substitution degree and Y is the propionyl group substitution degree of the cellulose ester resin.
Formula (1): 2.0 ≦ (X + Y) ≦ 2.8
Formula (2): 0 ≦ Y ≦ 1.0
Moreover, the cellulose ester resin which satisfy | fills said Formula (1) and Formula (2) contains the cellulose ester resin which satisfy | fills following formula (1a) and said Formula (2), and cellulose ester resin which satisfy | fills following Formula (1b). A cellulose ester resin is preferred.
Formula (1a): 2.0 ≦ (X + Y) <2.5
Formula (1b): 2.5 ≦ (X + Y) ≦ 2.8
In addition, the glucose unit which comprises cellulose with a β-1,4-glycoside bond has free hydroxyl groups (hydroxyl groups) at the 2nd, 3rd and 6th positions. The cellulose ester resin according to the present invention is a polymer (polymer) obtained by esterifying some or all of these hydroxyl groups (hydroxyl groups) with an acyl group such as an acetyl group or a propionyl group.
ここで、「アシル基置換度」とは、繰り返し単位のグルコースの2位、3位及び6位について、ヒドロキシル基(水酸基)がエステル化されている割合の合計を表す。具体的には、セルロースの2位、3位及び6位のそれぞれのヒドロキシル基(水酸基)が100%エステル化した場合をそれぞれ置換度1とする。したがって、セルロースの2位、3位及び6位のすべてが100%エステル化した場合、置換度は最大の3となる。 Here, “acyl group substitution degree” represents the total of the ratios of esterification of hydroxyl groups (hydroxyl groups) at the 2nd, 3rd and 6th positions of glucose as a repeating unit. Specifically, the degree of substitution is 1 when each of the hydroxyl groups (hydroxyl groups) at the 2nd, 3rd and 6th positions of cellulose is 100% esterified. Therefore, when all of the 2nd, 3rd and 6th positions of cellulose are 100% esterified, the degree of substitution is 3 at the maximum.
本願において、「平均アシル基置換度」とは、セルロースエステル樹脂を構成する複数のグルコース単位のアシル基置換度を、一単位当たりの平均値として表現したアシル基置換度をいう。 In the present application, the “average acyl group substitution degree” refers to an acyl group substitution degree in which the acyl group substitution degree of a plurality of glucose units constituting the cellulose ester resin is expressed as an average value per unit.
なお、アシル基置換度の測定方法は、ASTM−D817−96に準じて測定することができる。 In addition, the measuring method of acyl group substitution degree can be measured according to ASTM-D817-96.
アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、tert−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。 Examples of the acyl group include acetyl group, propionyl group, butanoyl group, heptanoyl group, hexanoyl group, octanoyl group, decanoyl group, dodecanoyl group, tridecanoyl group, tetradecanoyl group, hexadecanoyl group, octadecanoyl group, and isobutanoyl. Group, tert-butanoyl group, cyclohexanecarbonyl group, oleoyl group, benzoyl group, naphthylcarbonyl group, cinnamoyl group and the like.
さらに、本発明で用いられるセルロースエステル樹脂は、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.5〜5.5のものが好ましく用いられ、特に好ましくは2.0〜5.0であり、さらに好ましくは2.5〜5.0であり、更に好ましくは3.0〜5.0のセルロースエステル樹脂が好ましく用いられる。 Furthermore, as the cellulose ester resin used in the present invention, those having a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn ratio of 1.5 to 5.5 are preferably used, and particularly preferably 2.0 to 5.0, More preferably, it is 2.5-5.0, More preferably, 3.0-5.0 cellulose ester resin is used preferably.
本発明に係るセルロースエステル樹脂の原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステル樹脂はそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。 The raw material cellulose of the cellulose ester resin according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include cotton linter, wood pulp, and kenaf. Moreover, the cellulose ester resin obtained from them can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively.
本発明に係るセルロースエステル樹脂は、公知の方法により製造することができる。一般的には、原料のセルロースと所定の有機酸(酢酸、プロピオン酸など)と酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸など)、触媒(硫酸など)と混合して、セルロースをエステル化し、セルロースのトリエステルができるまで反応を進める。トリエステルにおいてはグルコース単位の三個のヒドロキシル基(水酸基)は、有機酸のアシル酸で置換されている。同時に二種類の有機酸を使用すると、混合エステル型のセルロースエステル、例えばセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートを作製することができる。次いで、セルロースのトリエステルを加水分解することで、所望のアシル置換度を有するセルロースエステルを合成する。その後、濾過、沈殿、水洗、脱水、乾燥などの工程を経て、セルロースエステルが出来あがる。 The cellulose ester resin according to the present invention can be produced by a known method. Generally, cellulose is esterified by mixing cellulose as a raw material, a predetermined organic acid (such as acetic acid or propionic acid), an acid anhydride (such as acetic anhydride or propionic anhydride), and a catalyst (such as sulfuric acid). The reaction proceeds until the triester is formed. In the triester, three hydroxyl groups (hydroxyl groups) of the glucose unit are substituted with an acyl acid of an organic acid. When two kinds of organic acids are used at the same time, a mixed ester type cellulose ester such as cellulose acetate propionate or cellulose acetate butyrate can be produced. Subsequently, the cellulose triester is hydrolyzed to synthesize a cellulose ester having a desired degree of acyl substitution. Thereafter, the cellulose ester is completed through steps such as filtration, precipitation, washing with water, dehydration, and drying.
具体的には特開平10−45804号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。 Specifically, it can be synthesized with reference to the method described in JP-A-10-45804.
本発明において、セルロースエステル樹脂は、20mlの純水(電気伝導度0.1μS/cm以下、pH6.8)に1g投入し、25℃、1hr、窒素雰囲気下にて攪拌した時のpHが6〜7、電気伝導度が1〜100μS/cmであることが好ましい。 In the present invention, 1 g of cellulose ester resin is added to 20 ml of pure water (electric conductivity 0.1 μS / cm or less, pH 6.8), and the pH is 6 when stirred in a nitrogen atmosphere at 25 ° C. for 1 hr. It is preferable that the electric conductivity is 1 to 100 μS / cm.
なお、本発明の用途にそって樹脂の種類、分子量の組み合わせを行うことが可能である。 In addition, it is possible to perform the kind of resin and the combination of molecular weight according to the use of this invention.
本発明のλ/4板は、後述するセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにした時の透過率が80%以上、更に好ましくは90%以上、更に好ましくは92%以上であることが好ましい。 The λ / 4 plate of the present invention may be obtained by appropriately mixing polymer components other than the cellulose ester described later. The polymer component to be mixed is preferably one having excellent compatibility with the cellulose ester, and the transmittance when formed into a film is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 92% or more.
〈アクリル樹脂〉
本発明のλ/4板や偏光板等に用いる樹脂フィルム基材に用いることができるアクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位50〜99質量%、及びこれと共重合可能な他の単量体単位1〜50質量%からなるものが好ましい。
<acrylic resin>
Methacrylic resin is also contained in the acrylic resin which can be used for the resin film base material used for (lambda) / 4 board of this invention, a polarizing plate, etc. Although it does not restrict | limit especially as resin, What consists of 50-99 mass% of methyl methacrylate units and 1-50 mass% of other monomer units copolymerizable with this is preferable.
共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が2〜18のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が1〜18のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα,β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα,β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、N−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上を併用して用いることができる。 Other monomers that can be copolymerized include alkyl methacrylates having 2 to 18 carbon atoms, alkyl acrylates having 1 to 18 carbon atoms, acrylic acid, methacrylic acid, and the like. Saturated acids, maleic acids, fumaric acids, unsaturated divalent carboxylic acids such as itaconic acid, aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, and nucleus-substituted styrene, α, β- such as acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Examples thereof include unsaturated nitrile, maleic anhydride, maleimide, N-substituted maleimide, glutaric anhydride, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、s−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやn−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。 Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferable, and methyl acrylate and n-butyl acrylate are particularly preferably used.
アクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット60N、80N(旭化成ケミカルズ(株)製)、ダイヤナールBR52、BR80、BR83、BR85、BR88(三菱レイヨン(株)製)、KT75(電気化学工業(株)製)等が挙げられる。 A commercially available thing can also be used as an acrylic resin. For example, Delpet 60N, 80N (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), Dianal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), KT75 (Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and the like can be mentioned. .
〈環状オレフィン樹脂〉
本発明においては、環状オレフィン樹脂を用いることも好ましい。環状オレフィン樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系樹脂は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
<Cyclic olefin resin>
In the present invention, it is also preferable to use a cyclic olefin resin. Examples of the cyclic olefin resin include norbornene resins, monocyclic olefin resins, cyclic conjugated diene resins, vinyl alicyclic hydrocarbon resins, and hydrides thereof. Among these, norbornene-based resins can be suitably used because of their good transparency and moldability.
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体又はそれらの水素化物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体又はそれらの水素化物等を挙げることができる。 Examples of the norbornene-based resin include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, a hydride thereof, and a norbornene structure. An addition polymer of a monomer having a monomer, an addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, or a hydride thereof.
これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環(共)重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。 Among these, a ring-opening (co) polymer hydride of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of transparency, moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. Can be used.
ノルボルネン構造を有する単量体としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、及びこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene) and tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene. (Common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4.0. 1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring). Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. In addition, these substituents may be the same or different and a plurality may be bonded to the ring. Monomers having a norbornene structure can be used singly or in combination of two or more.
極性基の種類としては、ヘテロ原子、又はヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン基などが挙げられる。 Examples of the polar group include a hetero atom or an atomic group having a hetero atom. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom, and a halogen atom. Specific examples of the polar group include a carboxyl group, a carbonyloxycarbonyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, an oxy group, an ester group, a silanol group, a silyl group, an amino group, a nitrile group, and a sulfone group.
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類及びその誘導体、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエン及びその誘導体などが挙げられる。 Other monomers capable of ring-opening copolymerization with monomers having a norbornene structure include monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof, cyclic conjugated dienes such as cyclohexadiene, cycloheptadiene, and the like. And derivatives thereof.
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に(共)重合することにより得ることができる。 A ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer copolymerizable with the monomer have a known ring-opening polymerization catalyst. It can be obtained by (co) polymerization in the presence.
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素数2〜20のα−オレフィン及びこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィン及びこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエンなどが挙げられる。これらの単量体は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。 Examples of other monomers that can be addition copolymerized with a monomer having a norbornene structure include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, and 1-butene, and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, Cycloolefins such as cyclohexene and derivatives thereof; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, and the like. These monomers can be used alone or in combination of two or more. Among these, α-olefin is preferable and ethylene is more preferable.
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。 An addition polymer of a monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of another monomer copolymerizable with a monomer having a norbornene structure can be used in the presence of a known addition polymerization catalyst. It can be obtained by polymerization.
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の水素添加物、及びノルボルネン構造を有する単量体とこれと付加共重合可能なその他の単量体との付加共重合体の水素添加物は、これらの重合体の溶液に、ニッケル、パラジウムなどの遷移金属を含む公知の水素添加触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは90%以上水素添加することによって得ることができる。 A hydrogenated product of a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a hydrogenated product of a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer capable of ring-opening copolymerization thereof, Hydrogenated products of addition polymers of monomers having a norbornene structure, and hydrogenated products of addition copolymers of monomers having a norbornene structure and other monomers capable of addition copolymerization with these A known hydrogenation catalyst containing a transition metal such as nickel or palladium is added to the polymer solution, and the carbon-carbon unsaturated bond is preferably hydrogenated by 90% or more.
ノルボルネン系樹脂の中でも、繰り返し単位として、X:ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4−ジイル−エチレン構造と、Y:トリシクロ[4.3.0.12,5]デカン−7,9−ジイル−エチレン構造とを有し、これらの繰り返し単位の含有量が、ノルボルネン系樹脂の繰り返し単位全体に対して90質量%以上であり、かつ、Xの含有割合とYの含有割合との比が、X:Yの質量比で100:0〜40:60であるものが好ましい。このような樹脂を用いることにより、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れる位相差フィルム(光学フィルム)を得ることができる。 Among norbornene-based resins, as repeating units, X: bicyclo [3.3.0] octane-2,4-diyl-ethylene structure and Y: tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] decane-7 , 9-diyl-ethylene structure, the content of these repeating units is 90% by mass or more based on the entire repeating units of the norbornene resin, and the content ratio of X and the content ratio of Y The ratio of X: Y is preferably 100: 0 to 40:60. By using such a resin, it is possible to obtain a retardation film (optical film) having no dimensional change over a long period of time and having excellent optical property stability.
本発明に用いる環状オレフィン樹脂の分子量は使用目的に応じて適宜選定される。溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いるゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常20,000〜150,000である。好ましくは25,000〜100,000、より好ましくは30,000〜80,000である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成型加工性とが高度にバランスされ好適である。 The molecular weight of the cyclic olefin resin used in the present invention is appropriately selected according to the purpose of use. Polyisoprene or polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography using cyclohexane (toluene if the polymer resin does not dissolve) as a solvent, usually 20,000 to 150,000. . Preferably it is 25,000-100,000, More preferably, it is 30,000-80,000. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and molding processability of the film are highly balanced and suitable.
環状オレフィン樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよい。耐久性及び延伸加工性の観点から、好ましくは130〜160℃、より好ましくは135〜150℃の範囲である。 The glass transition temperature of the cyclic olefin resin may be appropriately selected according to the purpose of use. From the viewpoint of durability and stretchability, it is preferably in the range of 130 to 160 ° C, more preferably 135 to 150 ° C.
環状オレフィン樹脂の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、緩和時間、生産性等の観点から、1.2〜3.5、好ましくは1.5〜3.0、さらに好ましくは1.8〜2.7である。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the cyclic olefin resin is 1.2 to 3.5, preferably 1.5 to 3.0, from the viewpoint of relaxation time, productivity, and the like. More preferably, it is 1.8 to 2.7.
本発明に用いる環状オレフィン樹脂は、光弾性係数の絶対値が10×10−12Pa−1以下であることが好ましく、7×10−12Pa−1以下であることがより好ましく、4×10−12Pa−1以下であることが特に好ましい。光弾性係数Cは、複屈折をΔn、応力をσとしたとき、C=Δn/σで表される値である。 The cyclic olefin resin used in the present invention preferably has an absolute value of photoelastic coefficient of 10 × 10 −12 Pa −1 or less, more preferably 7 × 10 −12 Pa −1 or less, and more preferably 4 × 10. It is particularly preferably −12 Pa −1 or less. The photoelastic coefficient C is a value represented by C = Δn / σ where birefringence is Δn and stress is σ.
本発明において、環状オレフィン樹脂には、実質的に粒子を含まないことが好ましい。ここで、実質的に粒子を含まないとは、環状オレフィン樹脂からなるフィルムへ粒子を添加しても、未添加状態からのヘイズの上昇巾が0.05%以下の範囲である量までは許容できることを意味する。特に、脂環式ポリオレフィン樹脂は、多くの有機粒子や無機粒子との親和性に欠けるため、上記範囲を超えた粒子を添加した環状オレフィン樹脂フィルムを延伸すると、空隙が発生しやすく、その結果として、ヘイズの著しい上昇が生じるおそれがある。 In the present invention, it is preferable that the cyclic olefin resin does not substantially contain particles. Here, “substantially free of particles” means that even if particles are added to a film made of a cyclic olefin resin, the amount of increase in haze from the non-added state is allowed to be in the range of 0.05% or less. Means you can. In particular, the alicyclic polyolefin resin lacks affinity with many organic particles and inorganic particles. Therefore, when a cyclic olefin resin film to which particles exceeding the above range are added is stretched, voids are easily generated, and as a result, There is a risk that a significant increase in haze may occur.
〈ポリカーボネート樹脂〉
本発明では、種々の公知のポリカーボネート樹脂も使用することができる。本発明においては、特に芳香族ポリカーボネートを用いることが好ましい。当該芳香族ポリカーボネートについて特に制約はなく、所望するフィルムの諸特性が得られる芳香族ポリカーボネートであれば特に制約はない。
<Polycarbonate resin>
In the present invention, various known polycarbonate resins can also be used. In the present invention, it is particularly preferable to use an aromatic polycarbonate. There is no restriction | limiting in particular about the said aromatic polycarbonate, and there will be no restriction | limiting in particular if it is an aromatic polycarbonate from which the various characteristics of a desired film are acquired.
一般に、ポリカーボネートと総称される高分子材料は、その合成手法において重縮合反応が用いられて、主鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称するが、これらの内でも、一般に、フェノール誘導体と、ホスゲン、ジフェニルカーボネートらから重縮合で得られるものを意味する。通常、ビスフェノール−Aと呼称されている2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンをビスフェノール成分とする繰り返し単位で表される芳香族ポリカーボネートが好ましく選ばれるが、適宜各種ビスフェノール誘導体を選択することで、芳香族ポリカーボネート共重合体を構成することができる。 In general, a polymer material collectively referred to as polycarbonate is a generic term for a polymer material in which a polycondensation reaction is used in its synthesis method and the main chain is linked by a carbonic acid bond. , Phosgene, diphenyl carbonate and the like obtained by polycondensation. Usually, an aromatic polycarbonate represented by a repeating unit having 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane called bisphenol-A as a bisphenol component is preferably selected, and various bisphenol derivatives should be appropriately selected. Thus, an aromatic polycarbonate copolymer can be constituted.
かかる共重合成分としてこのビスフェノール−A以外に、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフロロプロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)サルファイド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等を挙げることができる。 In addition to this bisphenol-A, bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 1,1 -Bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -2-phenyl Ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, bis ( 4-hydroxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-tri Mention may be made of a chill cyclohexane, and the like.
また、一部にテレフタル酸及び/又はイソフタル酸成分を含む芳香族ポリエステルカーボネートを使用することも可能である。このような構成単位をビスフェノール−Aからなる芳香族ポリカーボネートの構成成分の一部に使用することにより芳香族ポリカーボネートの性質、例えば耐熱性、溶解性を改良することができるが、このような共重合体についても本発明は有効である。 It is also possible to use an aromatic polyester carbonate partially containing terephthalic acid and / or isophthalic acid components. By using such a structural unit as a part of the structural component of the aromatic polycarbonate composed of bisphenol-A, the properties of the aromatic polycarbonate, such as heat resistance and solubility, can be improved. The present invention is also effective for coalescence.
ここで用いられる芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量は、10000以上、200000以下であれば好適に用いられる。粘度平均分子量20000〜120000が特に好ましい。粘度平均分子量が10000より低い樹脂を使用すると得られるフィルムの機械的強度が不足する場合があり、また400000以上の高分子量になるとドープの粘度が大きくなり過ぎ取扱い上問題を生じるので好ましくない。粘度平均分子量は市販の高速液体クロマトグラフィ等で測定することができる。 If the aromatic polycarbonate used here has a viscosity average molecular weight of 10,000 or more and 200,000 or less, it is suitably used. A viscosity average molecular weight of 20,000 to 120,000 is particularly preferred. If a resin having a viscosity average molecular weight lower than 10,000 is used, the mechanical strength of the resulting film may be insufficient, and if it has a high molecular weight of 400000 or more, the viscosity of the dope becomes too large, causing problems in handling. The viscosity average molecular weight can be measured by commercially available high performance liquid chromatography.
本発明に係る芳香族ポリカーボネートのガラス転移温度は200℃以上であることが高耐熱性のフィルムを得る上で好ましく、より好ましくは230℃以上である。これらは、上記共重合成分を適宜選択して得ることができる。ガラス転移温度は、DSC装置(示差走査熱量分析装置)にて測定することができ、例えばセイコー電子工業株式会社製:RDC220にて、10℃/分の昇温条件によって求められる、ベースラインが偏奇し始める温度である。 The glass transition temperature of the aromatic polycarbonate according to the present invention is preferably 200 ° C. or higher in order to obtain a highly heat-resistant film, and more preferably 230 ° C. or higher. These can be obtained by appropriately selecting the copolymerization component. The glass transition temperature can be measured with a DSC apparatus (differential scanning calorimetric analyzer). For example, the baseline is unevenly determined by a temperature rising condition of 10 ° C./min with RDC220 manufactured by Seiko Instruments Inc. It is the temperature that starts
本発明において、上記芳香族ポリカーボネートを含むドープ組成物に用いる溶媒は、メチレンクロライド、及び炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを4〜14質量部含有する混合溶媒であることが好ましい。 In the present invention, the solvent used for the dope composition containing the aromatic polycarbonate is a mixed solvent containing 4 to 14 parts by mass of methylene chloride and a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 6 carbon atoms. It is preferable.
上記炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールの混合量は、好ましくは4〜12質量部である。このような混合溶媒を用い、従来よりも高い残留溶媒濃度でウェブを剥離することにより、ウェブ剥離時の強い静電気の発生を抑制し、これによりベルトが損傷したり、フィルムのスジやムラ、微小傷の発生を防止することができる。 The mixing amount of the linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 6 carbon atoms is preferably 4 to 12 parts by mass. By using such a mixed solvent, the web is peeled off at a higher residual solvent concentration than before, thereby suppressing the generation of strong static electricity when the web is peeled off, thereby causing damage to the belt, film streaks, unevenness, and minuteness. Scratches can be prevented from occurring.
加えるアルコールの種類は用いる溶媒により制限される。アルコールと当該溶媒とが相溶性があることが必要条件である。これらは単独で加えても良いし、二種類以上組み合わせても問題ない。本発明におけるアルコールとしては、炭素数1〜6、好ましくは1〜4、より好ましくは2〜4の鎖状、或いは分岐した脂肪族アルコールが好ましい。具体的にはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ターシャリーブタノールなどが挙げられる。これらのうちエタノール、イソプロパノール、ターシャリーブタノールはほぼ同等の効果が得られるが、メタノールはやや効果が低い。理由は明らかでないが溶媒の沸点、即ち乾燥時の飛び易さが関係しているものと推測している。それ以上の高級アルコールは、高沸点であるためフィルム製膜後も残留しやすくなるので好ましくない。 The type of alcohol added is limited by the solvent used. It is a necessary condition that the alcohol and the solvent are compatible. These may be added alone or in combination of two or more. The alcohol in the present invention is preferably a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 6, preferably 1 to 4, more preferably 2 to 4 carbon atoms. Specific examples include methanol, ethanol, isopropanol, and tertiary butanol. Of these, ethanol, isopropanol, and tertiary butanol can achieve almost the same effect, but methanol is slightly less effective. Although the reason is not clear, it is presumed that the boiling point of the solvent, that is, the ease of flying during drying is related. Higher alcohols higher than that are not preferred because they have a high boiling point and are likely to remain after film formation.
アルコールの添加量は慎重に選択されなければならない。これらのアルコールは芳香族ポリカーボネートに対する溶解性には全く乏しく、完全な貧溶媒である。従ってあまり多く加えることはできず、満足すべき剥離性が得られる最少量とすべきである。前述したようにメチレンクロライドに対して4〜14質量部、好ましくは4〜12質量部である。メチレンクロライド量に対しては、添加量が4〜14質量部の範囲であると、当該溶媒のポリマーに対する溶解性、ドープ安定性が向上し、剥離性改善の効果が大きくなる。 The amount of alcohol added must be carefully selected. These alcohols are completely poor in solubility in aromatic polycarbonate and are completely poor solvents. Therefore, it cannot be added too much, and should be the minimum amount that provides satisfactory peelability. As mentioned above, it is 4-14 mass parts with respect to a methylene chloride, Preferably it is 4-12 mass parts. When the addition amount is in the range of 4 to 14 parts by mass with respect to the amount of methylene chloride, the solubility of the solvent in the polymer and the dope stability are improved, and the effect of improving the peelability is increased.
本発明はドープ組成物中、上記メチレンクロライドと脂肪族アルコールで構成されるが、他の溶媒を使用することもできる。その他残りの溶媒としては芳香族ポリカーボネートを高濃度に溶解し、かつアルコールと相溶性があること、さらに低沸点溶媒であれば特に限定はない。例えば、芳香族ポリカーボネートに対して溶解力のある溶媒として、塩化メチレン以外にクロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エーテル系の溶媒、シクロヘキサノン等のケトン系の溶媒が挙げられる。 The present invention comprises the above methylene chloride and aliphatic alcohol in the dope composition, but other solvents can also be used. The remaining solvent is not particularly limited as long as it dissolves the aromatic polycarbonate at a high concentration and is compatible with alcohol, and is a low-boiling solvent. For example, as a solvent having a solubility in aromatic polycarbonate, in addition to methylene chloride, halogen solvents such as chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, chlorobenzene, 1,3-dioxolane, 1, Examples include cyclic ether solvents such as 4-dioxane and tetrahydrofuran, and ketone solvents such as cyclohexanone.
他の溶媒を使用する場合は特に限定はなく、効果を勘案して用いればよい。ここでいう効果とは、溶解性や安定性を犠牲にしない範囲で溶媒を混合することによる、たとえば溶液流延法により製膜したフィルムの表面性の改善(レベリング効果)、蒸発速度や系の粘度調節、結晶化抑制効果などである。これらの効果の度合により混合する溶媒の種類や添加量を決定すればよく、また混合する溶媒として一種又は二種以上用いてもかまわない。 When using other solvent, there is no limitation in particular and it may use it in consideration of an effect. The effects here include mixing the solvent without sacrificing solubility and stability, for example, improving the surface properties of the film formed by the solution casting method (leveling effect), evaporation rate and system These include viscosity adjustment and crystallization suppression effects. What is necessary is just to determine the kind and addition amount of the solvent to mix by the degree of these effects, and you may use 1 type, or 2 or more types as a solvent to mix.
好適に用いられる他の溶媒としてはクロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、エチレングリコールジメチルエーテル、メトキシエチルアセテートなどのエーテル系溶媒が挙げられる。 Other solvents preferably used include halogen solvents such as chloroform and 1,2-dichloroethane, hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, and ethyl acetate and butyl acetate. Examples include ester solvents, ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether and methoxyethyl acetate.
本発明に係るドープ組成物は、結果としてヘイズの低い透明な溶液が得られればいかなる方法で調製してもよい。あらかじめある溶媒に溶解させた芳香族ポリカーボネート溶液に、アルコールを所定量添加してもよいし、アルコールを含む混合溶媒に芳香族ポリカーボネートを溶解させてもよい。ただ先にも述べた様にアルコールは貧溶媒であるため、前者の後から添加する方法ではポリマーの析出によるドープ白濁の可能性があるため、後者の混合溶媒に溶解させる方法が好ましい。 The dope composition according to the present invention may be prepared by any method as long as a transparent solution having a low haze is obtained as a result. A predetermined amount of alcohol may be added to the aromatic polycarbonate solution dissolved in a certain solvent in advance, or the aromatic polycarbonate may be dissolved in a mixed solvent containing alcohol. However, as described above, since alcohol is a poor solvent, the method of adding the latter after the former may cause clouding of the dope due to the precipitation of the polymer. Therefore, the method of dissolving in the latter mixed solvent is preferable.
〈ポリエステル樹脂〉
本発明において用いることができるポリエステル樹脂は、ジカルボン酸とジオールを重合することにより得られ、ジカルボン酸構成単位(ジカルボン酸に由来する構成単位)の70%以上が芳香族ジカルボン酸に由来し、かつジオール構成単位(ジオールに由来する構成単位)の70%以上が脂肪族ジオールに由来する。
<Polyester resin>
The polyester resin that can be used in the present invention is obtained by polymerizing a dicarboxylic acid and a diol, and 70% or more of dicarboxylic acid structural units (constituent units derived from dicarboxylic acid) are derived from aromatic dicarboxylic acid, and 70% or more of the diol constituent units (constituent units derived from the diol) are derived from the aliphatic diol.
芳香族ジカルボン酸に由来する構成単位の割合は70%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。 The proportion of the structural unit derived from the aromatic dicarboxylic acid is 70% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more.
脂肪族ジオールに由来する構成単位の割合は70%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。ポリエステル樹脂は、二種以上を併用してもよい。 The proportion of the structural unit derived from the aliphatic diol is 70% or more, preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Two or more polyester resins may be used in combination.
前記芳香族ジカルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレンジカルボン酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、3,4′−ビフェニルジカルボン酸等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。 Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, naphthalenedicarboxylic acid such as 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and 4,4′-biphenyldicarboxylic acid. 3,4'-biphenyldicarboxylic acid and the like and ester-forming derivatives thereof.
ポリエステル樹脂には本発明の目的を損なわない範囲でアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸や安息香酸、プロピオン酸、酪酸等のモノカルボン酸を用いることができる。 As the polyester resin, aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid, azelaic acid, and sebacic acid, and monocarboxylic acids such as benzoic acid, propionic acid, and butyric acid can be used without departing from the object of the present invention.
前記脂肪族ジオールとして、エチレングリコール、1,3−プロピレンジオール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオール等及びこれらのエステル形成性誘導体が例示できる。 Examples of the aliphatic diol include ethylene glycol, 1,3-propylene diol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,6-hexanediol, and the like, and ester-forming derivatives thereof.
ポリエステル樹脂には本発明の目的を損なわない範囲でブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール等のモノアルコール類や、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類を用いることもできる。 As the polyester resin, monoalcohols such as butyl alcohol, hexyl alcohol, and octyl alcohol, and polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol can be used as long as the object of the present invention is not impaired.
ポリエステル樹脂の製造には、公知の方法である直接エステル化法やエステル交換法を適用することができる。ポリエステル樹脂の製造時に使用する重縮合触媒としては、公知の三酸化アンチモン、五酸化アンチモン等のアンチモン化合物、酸化ゲルマニウム等のゲルマニウム化合物、酢酸チタン等のチタン化合物、塩化アルミニウム等のアルミニウム化合物等が例示できるが、これらに限定されない。 A known esterification method or transesterification method can be applied to the production of the polyester resin. Examples of the polycondensation catalyst used in the production of the polyester resin include known antimony compounds such as antimony trioxide and antimony pentoxide, germanium compounds such as germanium oxide, titanium compounds such as titanium acetate, and aluminum compounds such as aluminum chloride. Although it can, it is not limited to these.
好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−1,4−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキレート樹脂、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート−テレフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−テレフタレート−4,4′−ビフェニルジカルボキシレート樹脂、ポリ−1,3−プロピレン−テレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート樹脂等がある。 Preferred polyester resins include polyethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer resin, polyethylene-1,4-cyclohexanedimethylene-terephthalate copolymer resin, polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate resin, polyethylene-2, 6-naphthalene dicarboxylate-terephthalate copolymer resin, polyethylene-terephthalate-4,4'-biphenyldicarboxylate resin, poly-1,3-propylene-terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polybutylene-2,6-naphthalene There are dicarboxylate resins and the like.
より好ましいポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエチレン−1,4−シクロヘキサンジメチレン−テレフタレート共重合樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂及びポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート樹脂が挙げられる。 More preferable polyester resins include polyethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer resin, polyethylene-1,4-cyclohexanedimethylene-terephthalate copolymer resin, polybutylene terephthalate resin, and polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate. Resin.
ポリエステル樹脂の固有粘度(フェノール/1,1,2,2−テトラクロロエタン=60/40質量比混合溶媒中、25℃で測定した値)は、0.7〜2.0dl/gが好ましく、より好ましくは0.8〜1.5dl/gである。固有粘度が0.7以上であるとポリエステル樹脂の分子量が充分に高いために、これを使用して得られるポリエステル樹脂組成物からなる成形物が成形物として必要な機械的性質を有すると共に、透明性が良好となる。固有粘度が2.0以下の場合、成形性が良好となる。 The intrinsic viscosity of the polyester resin (phenol / 1,1,2,2-tetrachloroethane = value measured at 25 ° C. in a 60/40 mass ratio mixed solvent) is preferably 0.7 to 2.0 dl / g, more Preferably it is 0.8-1.5 dl / g. Since the molecular weight of the polyester resin is sufficiently high when the intrinsic viscosity is 0.7 or more, the molded product comprising the polyester resin composition obtained by using the polyester resin has mechanical properties necessary for the molded product and is transparent. Property is improved. When the intrinsic viscosity is 2.0 or less, the moldability is good.
〈一般式(PEI)で表される化合物:芳香族基末端ポリエステル系化合物〉
本発明のλ/4板は、下記一般式(PEI)で表される化合物(以下、「芳香族基末端ポリエステル系化合物」ともいう。)とセルロースエステル樹脂を含有することを特徴とする。本発明においては、当該一般式(PEI)で表される化合物を含有させることにより、位相差を自在にコントロールすることができてλ/4目的の位相差へのコントロールが容易、フィルムに硬度を付与しハードコートや防眩性ハードコートを表面加工した際の硬度が向上するという効果が得られる。
一般式(PEI):B−(G−A)n−G−B
(Bは、ベンゼンモノカルボン酸残基を表す。Gは、炭素数2〜12のアルキレングリコール残基、炭素数6〜12のアリールグリコール残基、又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基を表す。Aは、炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表す。また、nは、0以上の整数を表す。)
一般式(PEI)中、Bで表されるアリールカルボン酸残基とGで表されるアルキレングリコール残基又はオキシアルキレングリコール残基又はアリールグリコール残基、Aで表されるアルキレンジカルボン酸残基又はアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系化合物と同様の反応により得られる。
<Compound represented by formula (PEI): aromatic group-terminated polyester compound>
The λ / 4 plate of the present invention is characterized by containing a compound represented by the following general formula (PEI) (hereinafter also referred to as “aromatic group-terminated polyester compound”) and a cellulose ester resin. In the present invention, by containing the compound represented by the general formula (PEI), the phase difference can be freely controlled, the control of the λ / 4 target phase difference is easy, and the hardness of the film is increased. The effect of improving the hardness when the applied hard coat or antiglare hard coat is surface-treated is obtained.
Formula (PEI): B- (GA) n -GB
(B represents a benzene monocarboxylic acid residue. G represents an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an aryl glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12 carbon atoms. And A represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an aryl dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 0 or more.)
In the general formula (PEI), an arylcarboxylic acid residue represented by B and an alkylene glycol residue or oxyalkylene glycol residue or arylglycol residue represented by G, an alkylenedicarboxylic acid residue represented by A or It is composed of an aryl dicarboxylic acid residue, and can be obtained by the same reaction as a normal polyester compound.
本発明で使用される芳香族基末端ポリエステル系化合物のアリールカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ一種又は二種以上の混合物として使用することができる。 As the arylcarboxylic acid component of the aromatic group-terminated polyester-based compound used in the present invention, for example, benzoic acid, p-tert-butylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, p-toluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, There are normal propyl benzoic acid, aminobenzoic acid, acetoxybenzoic acid and the like, and these can be used as one kind or a mixture of two or more kinds, respectively.
本発明に用いることのできる芳香族基末端ポリエステル系化合物の炭素数2〜12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル1,3−ペンタンジオール、2−エチル1,3−ヘキサンジオール、2−メチル1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用される。
Examples of the alkylene glycol component having 2 to 12 carbon atoms of the aromatic group-terminated polyester compound that can be used in the present invention include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, and 1,2-butanediol. 1,3-butanediol, 1,2-propanediol, 2-
特に炭素数2〜12のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。 In particular, an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms is particularly preferable because of excellent compatibility with a cellulose ester.
また、上記芳香族基末端ポリエステル系化合物の炭素数4〜12のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用できる。 Examples of the oxyalkylene glycol component having 4 to 12 carbon atoms of the aromatic group-terminated polyester compound include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol. Can be used as one or a mixture of two or more.
芳香族基末端ポリエステル系化合物の炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ1種又は2種以上の混合物として使用される。 Examples of the alkylene dicarboxylic acid component having 4 to 12 carbon atoms of the aromatic group-terminated polyester compound include succinic acid, maleic acid, fumaric acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedicarboxylic acid. These are each used as one kind or a mixture of two or more kinds.
炭素数6〜12のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,5ナフタレンジカルボン酸、1,4ナフタレンジカルボン酸等がある。 Examples of the arylene dicarboxylic acid component having 6 to 12 carbon atoms include phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 1,5 naphthalene dicarboxylic acid, and 1,4 naphthalene dicarboxylic acid.
本発明で使用される芳香族基末端ポリエステル系化合物は、nが1以上100以下であることが好ましく、数平均分子量が、好ましくは300〜1500、より好ましくは400〜1000の範囲が好適である。 In the aromatic group-terminated polyester compound used in the present invention, n is preferably 1 or more and 100 or less, and the number average molecular weight is preferably 300 to 1500, more preferably 400 to 1000. .
また、その酸価は、0.5mgKOH/g以下、ヒドロキシル(水酸基)価は25mgKOH/g以下、より好ましくは酸価0.3mgKOH/g以下、ヒドロキシル(水酸基)価は15mgKOH/g以下のものである。 The acid value is 0.5 mgKOH / g or less, the hydroxyl (hydroxyl) value is 25 mgKOH / g or less, more preferably the acid value is 0.3 mgKOH / g or less, and the hydroxyl (hydroxyl) value is 15 mgKOH / g or less. is there.
本発明に係る一般式(PEI)で表される芳香族基末端ポリエステル系化合物は、セルロースエステル樹脂に対して、0.5〜30質量%含有させることが好ましい。 The aromatic group-terminated polyester compound represented by the general formula (PEI) according to the present invention is preferably contained in an amount of 0.5 to 30% by mass with respect to the cellulose ester resin.
以下に、本発明に用いることのできる芳香族基末端ポリエステル系化合物の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。 Specific examples of the aromatic group-terminated polyester compound that can be used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、位相差値の変動を抑制して、表示品位を安定化する為に、本発明に係る糖エステル化合物を、セルロースエステルフィルムの0.5〜30質量%含むことが好ましく、特には、5〜30質量%含むことが好ましい。 The cellulose ester film according to the present invention contains the sugar ester compound according to the present invention in an amount of 0.5 to 30% by mass of the cellulose ester film in order to suppress the fluctuation of the retardation value and stabilize the display quality. It is preferable to contain 5-30 mass% especially.
本発明に係る一般式(PEI)で表される芳香族基末端ポリエステル系化合物と糖エステル化合物の含有量は、質量比で99:1〜1:99の範囲で選択することができ、両化合物の全体量は、セルロースエステル樹脂に対して、1〜40質量%であることが好ましい。 The content of the aromatic group-terminated polyester compound represented by the general formula (PEI) according to the present invention and the sugar ester compound can be selected in a mass ratio of 99: 1 to 1:99, both compounds The total amount of is preferably 1 to 40% by mass relative to the cellulose ester resin.
〈一般式(PEII)で表される化合物:ヒドロキシル基末端ポリエステル〉
本発明においては、従来、光学フィルムに含有されている種々のポリエステル化合物を用いることができる。例えば、ポリエステル化合物として、下記一般式(PEII)で表される様に化学構造式の末端部分にヒドロキシル基を有するポリエステル(「ヒドロキシル基末端ポリエステル」という。)を用いることもできる。
<Compound represented by formula (PEII): hydroxyl group-terminated polyester>
In the present invention, various polyester compounds conventionally contained in optical films can be used. For example, as the polyester compound, a polyester having a hydroxyl group at the terminal portion of the chemical structural formula as represented by the following general formula (PEII) (referred to as “hydroxyl-terminated polyester”) can also be used.
(式中、Bは、炭素数が2〜6の直鎖若しくは分岐のアルキレン、又はシクロアルキレン基を表す。Aは、炭素数が6〜14の芳香族環を表す。nは、1以上の自然数を表す。)
上式で表される化合物は、芳香環を有するジカルボン酸(「芳香族ジカルボン酸」ともいう。)と、炭素数が2〜6の直鎖若しくは分岐のアルキレン又はシクロアルキレンジオールから得られ、両末端がモノカルボン酸で封止されていないことが特徴である。
(In the formula, B represents a linear or branched alkylene having 2 to 6 carbon atoms or a cycloalkylene group. A represents an aromatic ring having 6 to 14 carbon atoms. N represents one or more. Represents a natural number.)
The compound represented by the above formula is obtained from a dicarboxylic acid having an aromatic ring (also referred to as “aromatic dicarboxylic acid”) and a linear or branched alkylene or cycloalkylene diol having 2 to 6 carbon atoms. The terminal is not sealed with a monocarboxylic acid.
炭素数6〜16の芳香族ジカルボン酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,8−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,8−ナフタレンジカルボン酸、2,2′−ビフェニルジカルボン酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、等が挙げられる。その中でも好ましくは、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸である。 Examples of the aromatic dicarboxylic acid having 6 to 16 carbon atoms include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, 2,3- And naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,8-naphthalenedicarboxylic acid, 2,2'-biphenyldicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, and the like. Among these, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 4,4′-biphenyldicarboxylic acid are preferable.
炭素数が2〜6の直鎖もしくは分岐のアルキレンもしくはシクロアルキレンジオールとしては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。その中でも、好ましくはエタンジオール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオールである。
Examples of the linear or branched alkylene or cycloalkylene diol having 2 to 6 carbon atoms include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, and 1,3-butanediol. 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,4-
中でも、Aが置換基を有していてもよいナフタレン環もしくはビフェニル環であることが本発明の効果を得る上で好ましい。ここで置換基とは、炭素数1以上6以下のアルキル基、アルケニル機、アルコキシル基である。 Among these, A is preferably a naphthalene ring or a biphenyl ring which may have a substituent, from the viewpoint of obtaining the effects of the present invention. Here, the substituent is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, or an alkoxyl group.
本発明に係るポリエステル化合物のヒドロキシル(水酸基)価(OH価)としては、100mgKOH/g以上500mgKOH/g以下であることが望ましく、170mgKOH/g〜400mgKOH/gであることがさらに望ましい。ヒドロキシル(水酸基)価がこの範囲より大きくても小さくても、低アセチル置換度のセルロースアセテートとの相溶性が低下する。 The hydroxyl (hydroxyl) value (OH value) of the polyester compound according to the present invention is preferably 100 mgKOH / g or more and 500 mgKOH / g or less, and more preferably 170 mgKOH / g to 400 mgKOH / g. Whether the hydroxyl (hydroxyl) value is larger or smaller than this range, the compatibility with cellulose acetate having a low acetyl substitution degree is lowered.
この範囲より大きい場合はポリエステル化合物の疎水性が大きくなる為、この範囲より小さい場合はポリエステル化合物同士の分子間相互作用(水素結合等)が強くなるため、フィルム中での析出が進行するためだと考えられる。 If it is larger than this range, the hydrophobicity of the polyester compound becomes larger. If it is smaller than this range, the intermolecular interaction (hydrogen bonding, etc.) between the polyester compounds becomes stronger, so that precipitation in the film proceeds. it is conceivable that.
またヒドロキシル(水酸基)価の測定は、日本工業規格 JIS K1557−1:2007に記載の無水酢酸法等を適用できる。 Moreover, the measurement of a hydroxyl (hydroxyl group) value can apply the acetic anhydride method etc. of Japanese Industrial Standard JISK1557-1: 2007.
本発明に係るポリエステル化合物の数平均分子量(Mn)は、下記式から計算することができる。 The number average molecular weight (Mn) of the polyester compound according to the present invention can be calculated from the following formula.
Mn=(分子中のヒドロキシル基(水酸基)の数)×56110/(ヒドロキシル(水酸基)価)
=2×56110/(ヒドロキシル(水酸基)価)
本発明に係るポリエステル化合物は、常法により上記ジカルボン酸とジオールとのポリエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成できる。
Mn = (number of hydroxyl groups (hydroxyl groups) in the molecule) × 56110 / (hydroxyl (hydroxyl group) value)
= 2 × 56110 / (hydroxyl (hydroxyl group) value)
The polyester compound according to the present invention is either a hot melt condensation method by a polyesterification reaction or transesterification reaction of the above dicarboxylic acid and a diol by a conventional method, or an interfacial condensation method of an acid chloride of these acids and glycols. It can be easily synthesized by a method.
以下に、本発明に係るポリエステル化合物を例示する。 Below, the polyester compound which concerns on this invention is illustrated.
一般式(PEII)で表される化合物はセルロースアセテートに対し、1質量%以上5質量%未満添加することが好ましい。 The compound represented by the general formula (PEII) is preferably added in an amount of 1% by mass to less than 5% by mass with respect to cellulose acetate.
(カルボン酸糖エステル化合物)
本発明のλ/4板には、その構成成分の一つとして、カルボン酸糖エステル化合物を含有させることも好ましい。当該化合物はセルロースとの相溶性が優れ含有させることで、耐水性が向上するという効果を得ることができる。多量に含有させることができるので、他の添加剤で耐水性が不十分な場合はこの化合物で補完する。
(Carboxylic acid sugar ester compound)
The λ / 4 plate of the present invention preferably contains a carboxylic acid sugar ester compound as one of its constituent components. The said compound can acquire the effect that water resistance improves by containing compatibility with a cellulose excellently. Since it can be contained in a large amount, it is supplemented with this compound when water resistance is insufficient with other additives.
なお、本願において、「カルボン酸糖エステル化合物」とは、糖類のヒドロキシル基(水酸基)とカルボン酸のカルボキシル基から導かれるエステル結合を有する化合物をいう。 In the present application, the “carboxylic acid sugar ester compound” refers to a compound having an ester bond derived from a hydroxyl group (hydroxyl group) of a saccharide and a carboxyl group of a carboxylic acid.
カルボン酸糖エステル化合物を構成するカルボン酸構造単位としては、例えば、メチル安息香酸(トルイル酸)等の芳香族カルボン酸、フェニル酢酸等の芳香族置換脂肪族カルボン酸、ステアリン酸等の脂肪酸が挙げられ、これらカルボン酸は、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基で置換されていても良い。 Examples of the carboxylic acid structural unit constituting the carboxylic acid sugar ester compound include aromatic carboxylic acids such as methylbenzoic acid (toluic acid), aromatic substituted aliphatic carboxylic acids such as phenylacetic acid, and fatty acids such as stearic acid. These carboxylic acids may be substituted with an alkoxy group, an alkylthio group, a halogen atom, a cyano group, or a nitro group.
好ましい芳香族カルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を二個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができ、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、o−アニス酸、m−アニス酸、p−アニス酸、クレオソート酸、o−ホモサリチル酸、m−ホモサリチル酸、p−ホモサリチル酸、o−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、o−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、o−ホモベラトルム酸、フタロン酸、p−クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。 Examples of preferred aromatic carboxylic acids include aromatic monocarboxylic acids, cinnamic acid, benzylic acid, biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid having an alkyl group or alkoxy group introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid or toluic acid. An aromatic monocarboxylic acid having two or more benzene rings such as acid and tetralincarboxylic acid, or a derivative thereof can be mentioned, and more specifically, xylyl acid, hemelic acid, mesitylene acid, prenylic acid, γ -Isoduric acid, duryl acid, mesitic acid, α-isoduric acid, cumic acid, α-toluic acid, hydroatropic acid, atropic acid, hydrocinnamic acid, salicylic acid, o-anisic acid, m-anisic acid, p-anisic acid, Creosote acid, o-homosalicylic acid, m-homosalicylic acid, p-homosalicylic acid, o-pyrocatechuic acid β-resorcylic acid, vanillic acid, isovanillic acid, veratromic acid, o-veratrumic acid, gallic acid, asaronic acid, mandelic acid, homoanisic acid, homovanillic acid, homoveratrumic acid, o-homoveratormic acid, phthalonic acid, p-coumaric acid Among them, benzoic acid is particularly preferable.
好ましい脂肪族カルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。 Preferred aliphatic carboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid, Tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, mellicic acid, laccellic acid, etc., undecylen Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, oleic acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid and octenoic acid.
カルボン酸糖エステル化合物を構成する糖類としては、通常、単糖類(monosaccharide)、二糖類(disaccharides)、3〜6個の単糖類が結合したオリゴ糖類があげられ、これらの内、炭素数が6〜48の糖類が好ましく、単糖類及び二糖類が更に好ましい。単糖類としては具体的には例えば、グルコース、果糖、アラビノース、マンノース、ソルビトールが挙げられ、二糖類としては、ショ糖、マルトースが挙げられる。原料の供給面から、グルコース、果糖、ショ糖が特に好ましく、ショ糖が最も好ましい。 The saccharides constituting the carboxylic acid sugar ester compound usually include monosaccharides (monosaccharides), disaccharides (disaccharides), and oligosaccharides bonded with 3 to 6 monosaccharides, and among them, the number of carbon atoms is 6 ~ 48 saccharides are preferred, and monosaccharides and disaccharides are more preferred. Specific examples of monosaccharides include glucose, fructose, arabinose, mannose, and sorbitol, and examples of disaccharides include sucrose and maltose. From the viewpoint of supplying raw materials, glucose, fructose and sucrose are particularly preferable, and sucrose is most preferable.
これら糖類は分子内に複数個のヒドロキシル基(水酸基)を有しており、前述のカルボン酸構造単位とエステル結合を形成することができる。 These saccharides have a plurality of hydroxyl groups (hydroxyl groups) in the molecule, and can form ester bonds with the aforementioned carboxylic acid structural units.
特に、糖類としてショ糖を用いる場合、ショ糖分子内には8個のヒドロキシル基(水酸基)が存在するが、平均のエステル結合の数(「平均エステル置換度」ともいう。)としては、1.0以上あればよく、好ましくは3.0〜7.5であり、更に好ましくは3.0〜6.0である。 In particular, when sucrose is used as a saccharide, there are 8 hydroxyl groups (hydroxyl groups) in the sucrose molecule, but the average number of ester bonds (also referred to as “average ester substitution degree”) is 1. 0.0 or more, preferably 3.0 to 7.5, and more preferably 3.0 to 6.0.
本発明においては、特に、下記一般式(1)で表される、総平均置換度が3.0〜7.5の範囲内である化合物を含有させることが好ましい。 In the present invention, it is particularly preferable to contain a compound represented by the following general formula (1) and having a total average substitution degree in the range of 3.0 to 7.5.
なお、一般式(1)中、R1〜R8は、水素原子、置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は、置換若しくは無置換のアリールカルボニル基を表し、R1〜R8は、同じであっても、異なっていてもよい。 In general formula (1), R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group, or a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group, and R 1 to R 8 are the same. It may or may not be.
一般式(1)で表される化合物の好ましい具体例としては、表1に示す化合物が挙げられる。なお、下表中に記載のRは、R1〜R8のうちのいずれかを表す。アルキルカルボニル基及びアリールカルボニル基の置換基としては、下表に示すアルキルカルボニル基及びアリールカルボニル基が有するフェニル基、アルコキシ基等の置換基が好ましい。 Preferable specific examples of the compound represented by the general formula (1) include compounds shown in Table 1. In addition, R described in the following table represents any one of R 1 to R 8 . As the substituent for the alkylcarbonyl group and the arylcarbonyl group, substituents such as a phenyl group and an alkoxy group included in the alkylcarbonyl group and the arylcarbonyl group shown in the following table are preferable.
当該一般式(1)で表される化合物、及び参考化合物を、以下に記載するが、これらに限定されない。 Although the compound represented by the said General formula (1) and a reference compound are described below, it is not limited to these.
(合成例:本発明に係る化合物の合成) (Synthesis Example: Synthesis of Compound According to the Present Invention)
撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖34.2g(0.1モル)、無水安息香酸180.8g(0.8モル)、ピリジン379.7g(4.8モル)を仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、70℃で5時間エステル化反応を行った。次に、コルベン内を4×102Pa以下に減圧し、60℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を1.3×10Pa以下に減圧し、120℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン1L、0.5質量%の炭酸ナトリウム水溶液300gを添加し、50℃で30分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水100gを添加し、常温で30分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下(4×102Pa以下)、60℃でトルエンを留去させ、化合物A−1、A−2、A−3、A−4及びA−5の混合物を得た。得られた混合物をHPLC及びLC−MASSで解析したところ、A−1が7質量%、A−2が58質量%、A−3が23質量%、A−4が9質量%、A−5が3質量%であった。なお、得られた混合物の一部を、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度100%のA−1、A−2、A−3、A−4及びA−5を得た。 A four-headed colben equipped with a stirrer, a reflux condenser, a thermometer, and a nitrogen gas inlet tube was mixed with 34.2 g (0.1 mol) of sucrose, 180.8 g (0.8 mol) of benzoic anhydride, 379. 7 g (4.8 mol) was charged, the temperature was raised while bubbling nitrogen gas from a nitrogen gas introduction tube with stirring, and an esterification reaction was carried out at 70 ° C. for 5 hours. Next, the inside of the Kolben was depressurized to 4 × 10 2 Pa or less, and after excess pyridine was distilled off at 60 ° C., the inside of the Kolben was depressurized to 1.3 × 10 Pa or less and the temperature was raised to 120 ° C. Most of the acid and benzoic acid formed were distilled off. Then, 1 L of toluene and 300 g of a 0.5% by mass aqueous sodium carbonate solution were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 30 minutes and then allowed to stand to separate a toluene layer. Finally, 100 g of water is added to the collected toluene layer, and after washing with water at room temperature for 30 minutes, the toluene layer is separated, and toluene is distilled off at 60 ° C. under reduced pressure (4 × 10 2 Pa or less). A mixture of A-1, A-2, A-3, A-4 and A-5 was obtained. When the obtained mixture was analyzed by HPLC and LC-MASS, A-1 was 7% by mass, A-2 was 58% by mass, A-3 was 23% by mass, A-4 was 9% by mass, A-5. Was 3% by mass. A part of the obtained mixture was purified by column chromatography using silica gel to obtain A-1, A-2, A-3, A-4 and A-5 having a purity of 100%, respectively. It was.
本発明でλ/4板(位相差フィルム)に添加される、一般式(1)で表される化合物の総平均置換度は3.0〜7.5であるが、当該置換度の範囲は3.0〜6.0であることが好ましい。置換度分布は、エステル化反応時間の調節、又は置換度違いの化合物を混合することにより目的の置換度に調整してもよい。 The total average substitution degree of the compound represented by the general formula (1) added to the λ / 4 plate (retardation film) in the present invention is 3.0 to 7.5. It is preferable that it is 3.0-6.0. The substitution degree distribution may be adjusted to the desired substitution degree by adjusting the esterification reaction time or mixing compounds having different substitution degrees.
(位相差発現剤)
本発明では、位相差(「リターデーション」ともいう。)発現剤を含んでいてもよい。位相差(リターデーション)発現剤は、例えば、0.5〜10質量%の割合で含有させることができ、さらには、2〜6質量%の割合で含有させることが好ましい。位相差(リターデーション)発現剤を採用することにより、低延伸倍率で高いRe発現性を得られる。位相差(リターデーション)発現剤の種類としては、特に定めるものではないが、棒状又は円盤状化合物からなるものを挙げることができる。上記棒状又は円盤状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を位相差(リターデーション)発現剤として好ましく用いることができる。棒状化合物からなる位相差(リターデーション)発現剤の添加量は、セルロースエステルを含むポリマー成分100質量部に対して0.5〜10質量部であることが好ましく、2〜6質量部であることがさらに好ましい。
(Phase difference agent)
In the present invention, a retardation (also referred to as “retardation”) developing agent may be included. The phase difference (retardation) developing agent can be contained, for example, in a proportion of 0.5 to 10% by mass, and more preferably in a proportion of 2 to 6% by mass. By adopting a retardation developing agent, high Re developability can be obtained at a low draw ratio. The type of retardation developing agent is not particularly defined, but examples thereof include those made of rod-like or discotic compounds. As the rod-like or discotic compound, a compound having at least two aromatic rings can be preferably used as a retardation developing agent. The addition amount of the retardation developing agent composed of the rod-shaped compound is preferably 0.5 to 10 parts by mass, and 2 to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer component containing the cellulose ester. Is more preferable.
円盤状の位相差(リターデーション)発現剤は、前記セルロースエステルを含むポリマー成分100質量部に対して、0.5〜10質量部の範囲で使用することが好ましく、1〜8質量部の範囲で使用することがより好ましく、2〜6質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。 The discotic retardation developing agent is preferably used in a range of 0.5 to 10 parts by mass, and in a range of 1 to 8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer component containing the cellulose ester. It is more preferable to use in the range of 2 to 6 parts by mass.
二種類以上の位相差(リターデーション)発現剤を併用してもよい。 Two or more kinds of retardation developing agents may be used in combination.
位相差(リターデーション)発現剤は、250〜400nmの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。 The phase difference (retardation) developing agent preferably has maximum absorption in the wavelength region of 250 to 400 nm, and preferably has substantially no absorption in the visible region.
円盤状化合物について説明する。円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。 The discotic compound will be described. As the discotic compound, a compound having at least two aromatic rings can be used.
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。 In the present specification, the “aromatic ring” includes an aromatic hetero ring in addition to an aromatic hydrocarbon ring.
芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。 The aromatic hydrocarbon ring is particularly preferably a 6-membered ring (that is, a benzene ring).
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び1,3,5−トリアジン環が含まれる。 The aromatic heterocycle is generally an unsaturated heterocycle. The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As the hetero atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and a nitrogen atom is particularly preferable. Examples of aromatic heterocycles include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring , Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring and 1,3,5-triazine ring.
芳香族環としては、ベンゼン環、縮合ベンゼン環、ビフェニール類が好ましい。特に1,3,5−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開2001−166144号公報に開示の化合物が好ましく用いられる。 As the aromatic ring, a benzene ring, a condensed benzene ring, and biphenyls are preferable. In particular, a 1,3,5-triazine ring is preferably used. Specifically, for example, compounds disclosed in JP-A No. 2001-166144 are preferably used.
位相差(リターデーション)発現剤が有する芳香族環の炭素数は、2〜20であることが好ましく、2〜12であることがより好ましく、2〜8であることがさらに好ましく、2〜6であることが最も好ましい。 The number of carbon atoms of the aromatic ring contained in the retardation developing agent is preferably 2-20, more preferably 2-12, further preferably 2-8, and 2-6. Most preferably.
二つの芳香族環の結合関係は、(a)縮合環を形成する場合、(b)単結合で直結する場合及び(c)連結基を介して結合する場合に分類できる(芳香族環のため、スピロ結合は形成できない)。結合関係は、(a)〜(c)のいずれでもよい。 The bonding relationship between two aromatic rings can be classified into (a) when forming a condensed ring, (b) when directly connecting with a single bond, and (c) when connecting via a linking group (for aromatic rings). , Spiro bonds cannot be formed). The connection relationship may be any of (a) to (c).
(a)の縮合環(二つ以上の芳香族環の縮合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環及びチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環及びキノリン環が好ましい。 Examples of the condensed ring (a condensed ring of two or more aromatic rings) include an indene ring, a naphthalene ring, an azulene ring, a fluorene ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring, an acenaphthylene ring, a biphenylene ring, a naphthacene ring, Pyrene ring, indole ring, isoindole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, indolizine ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, purine ring, indazole ring, chromene ring, quinoline ring, isoquinoline Ring, quinolidine ring, quinazoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, phthalazine ring, pteridine ring, carbazole ring, acridine ring, phenanthridine ring, xanthene ring, phenazine ring, phenothiazine ring, phenoxathiin ring, phenoxazine ring and thiantole Ring is included. Naphthalene ring, azulene ring, indole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring and quinoline ring are preferred.
(b)の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環又は非芳香族性複素環を形成してもよい。 The single bond (b) is preferably a bond between carbon atoms of two aromatic rings. Two aromatic rings may be bonded by two or more single bonds to form an aliphatic ring or a non-aromatic heterocyclic ring between the two aromatic rings.
(c)の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O−、−NH−、−S−又はそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
c1:−CO−O−
c2:−CO−NH−
c3:−アルキレン−O−
c4:−NH−CO−NH−
c5:−NH−CO−O−
c6:−O−CO−O−
c7:−O−アルキレン−O−
c8:−CO−アルケニレン−
c9:−CO−アルケニレン−NH−
c10:−CO−アルケニレン−O−
c11:−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO−アルキレン−
c12:−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO−アルキレン−O−
c13:−O−CO−アルキレン−CO−O−
c14:−NH−CO−アルケニレン−
c15:−O−CO−アルケニレン−
芳香族環及び連結基は、置換基を有していてもよい。
The linking group in (c) is also preferably bonded to carbon atoms of two aromatic rings. The linking group is preferably an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, —CO—, —O—, —NH—, —S—, or a combination thereof. Examples of linking groups composed of combinations are shown below. In addition, the relationship between the left and right in the following examples of the linking group may be reversed.
c1: -CO-O-
c2: —CO—NH—
c3: -alkylene-O-
c4: —NH—CO—NH—
c5: —NH—CO—O—
c6: —O—CO—O—
c7: -O-alkylene-O-
c8: -CO-alkenylene-
c9: -CO-alkenylene-NH-
c10: -CO-alkenylene-O-
c11: -alkylene-CO-O-alkylene-O-CO-alkylene-
c12: -O-alkylene-CO-O-alkylene-O-CO-alkylene-O-
c13: -O-CO-alkylene-CO-O-
c14: -NH-CO-alkenylene-
c15: -O-CO-alkenylene-
The aromatic ring and the linking group may have a substituent.
置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。 Examples of substituents include halogen atoms (F, Cl, Br, I), hydroxyl groups, carboxyl groups, cyano groups, amino groups, nitro groups, sulfo groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, ureido groups, alkyl groups, alkenyls. Group, alkynyl group, aliphatic acyl group, aliphatic acyloxy group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, alkoxycarbonylamino group, alkylthio group, alkylsulfonyl group, aliphatic amide group, aliphatic sulfonamido group, aliphatic substituted amino group An aliphatic substituted carbamoyl group, an aliphatic substituted sulfamoyl group, an aliphatic substituted ureido group, and a non-aromatic heterocyclic group.
アルキル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基(例えば、ヒドロキシル基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有していてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む)例には、メチル基、エチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、2−ヒドロキシエチル基、4−カルボキシブチル基、2−メトキシエチル基及び2−ジエチルアミノエチル基の各基が含まれる。 It is preferable that the alkyl group has 1 to 8 carbon atoms. A chain alkyl group is preferable to a cyclic alkyl group, and a linear alkyl group is particularly preferable. The alkyl group may further have a substituent (for example, a hydroxyl group, a carboxy group, an alkoxy group, an alkyl-substituted amino group). Examples of alkyl groups (including substituted alkyl groups) include methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, 2-hydroxyethyl, 4-carboxybutyl, 2-methoxyethyl and 2-methoxyethyl. Each group of a diethylaminoethyl group is included.
アルケニル基の炭素原子数は、2〜8であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基及び1−ヘキセニル基が含まれる。 The alkenyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkenyl group is preferable to a cyclic alkenyl group, and a linear alkenyl group is particularly preferable. The alkenyl group may further have a substituent. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, and a 1-hexenyl group.
アルキニル基の炭素原子数は、2〜8であることが好ましい。環状アルキニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、1−ブチニル基及び1−ヘキシニル基が含まれる。 The alkynyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkynyl group is preferable to a cyclic alkynyl group, and a linear alkynyl group is particularly preferable. The alkynyl group may further have a substituent. Examples of the alkynyl group include ethynyl group, 1-butynyl group and 1-hexynyl group.
脂肪族アシル基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基及びブタノイル基が含まれる。 The number of carbon atoms in the aliphatic acyl group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, and a butanoyl group.
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。 The number of carbon atoms in the aliphatic acyloxy group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic acyloxy group include an acetoxy group.
アルコキシ基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基(例えば、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコキシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基及びメトキシエトキシ基が含まれる。 The number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1-8. The alkoxy group may further have a substituent (for example, an alkoxy group). Examples of the alkoxy group (including a substituted alkoxy group) include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, and a methoxyethoxy group.
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基が含まれる。 The number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-10. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基及びエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。 The number of carbon atoms of the alkoxycarbonylamino group is preferably 2-10. Examples of the alkoxycarbonylamino group include a methoxycarbonylamino group and an ethoxycarbonylamino group.
アルキルチオ基の炭素原子数は、1〜12であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基及びオクチルチオ基が含まれる。 The alkylthio group preferably has 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, and an octylthio group.
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基及びエタンスルホニル基が含まれる。 The alkylsulfonyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyl group include a methanesulfonyl group and an ethanesulfonyl group.
脂肪族アミド基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。 The number of carbon atoms in the aliphatic amide group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic amide group include acetamide.
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基及びn−オクタンスルホンアミド基が含まれる。 The number of carbon atoms of the aliphatic sulfonamide group is preferably 1-8. Examples of the aliphatic sulfonamide group include a methane sulfonamide group, a butane sulfonamide group, and an n-octane sulfonamide group.
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及び2−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。 The number of carbon atoms of the aliphatic substituted amino group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic substituted amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, and a 2-carboxyethylamino group.
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基及びジエチルカルバモイル基が含まれる。 The number of carbon atoms in the aliphatic substituted carbamoyl group is preferably 2-10. Examples of the aliphatic substituted carbamoyl group include a methylcarbamoyl group and a diethylcarbamoyl group.
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基及びジエチルスルファモイル基が含まれる。 The number of carbon atoms in the aliphatic substituted sulfamoyl group is preferably 1-8. Examples of the aliphatic substituted sulfamoyl group include a methylsulfamoyl group and a diethylsulfamoyl group.
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。 The number of carbon atoms in the aliphatic substituted ureido group is preferably 2-10. Examples of the aliphatic substituted ureido group include a methylureido group.
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基及びモルホリノ基が含まれる。 Examples of the non-aromatic heterocyclic group include a piperidino group and a morpholino group.
位相差(リターデーション)発現剤の分子量は、300〜800であることが好ましい。 The molecular weight of the retardation developing agent is preferably 300 to 800.
円盤状化合物として下記一般式(I)で表されるトリアジン化合物を用いることが好ましい。 As the discotic compound, a triazine compound represented by the following general formula (I) is preferably used.
上記一般式(I)中:
R1は、各々独立に、オルト位、メタ位及びパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環又は複素環を表す。
In the above general formula (I):
R 1 independently represents an aromatic ring or a heterocyclic ring having a substituent in at least one of the ortho position, the meta position, and the para position.
Xは、各々独立に、単結合又はNR2−を表す。ここで、R2は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。 X represents each independently a single bond or NR < 2 >-. Here, each R 2 independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
R1が表す芳香族環は、フェニル又はナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。R1が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有してもよい。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。 The aromatic ring represented by R 1 is preferably phenyl or naphthyl, and particularly preferably phenyl. The aromatic ring represented by R 1 may have at least one substituent at any substitution position. Examples of the substituent include halogen atom, hydroxyl group, cyano group, nitro group, carboxyl group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, Alkenyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfamoyl group, alkyl-substituted sulfamoyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamide group, carbamoyl, alkyl-substituted carbamoyl group, alkenyl-substituted carbamoyl group, aryl-substituted carbamoyl group, amide Groups, alkylthio groups, alkenylthio groups, arylthio groups and acyl groups.
R1が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましく、6員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環(複素環基としては、2−ピリジル又は4−ピリジル)が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。 The heterocyclic group represented by R 1 preferably has aromaticity. The heterocycle having aromaticity is generally an unsaturated heterocycle, preferably a heterocycle having the largest number of double bonds. The heterocyclic ring is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and most preferably a 6-membered ring. The hetero atom of the heterocyclic ring is preferably a nitrogen atom, a sulfur atom or an oxygen atom, and particularly preferably a nitrogen atom. As the heterocyclic ring having aromaticity, a pyridine ring (2-pyridyl or 4-pyridyl as the heterocyclic group) is particularly preferable. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the aryl moiety.
Xが単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましく、5員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子(例えば、O、S)を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。 When X is a single bond, the heterocyclic group is preferably a heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom. The heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and a 5-membered ring. Is most preferred. The heterocyclic group may have a plurality of nitrogen atoms. Further, the heterocyclic group may have a hetero atom other than the nitrogen atom (for example, O, S). Examples of heterocyclic groups having free valences on nitrogen atoms are shown below.
R2が表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基がより好ましい。 The alkyl group represented by R 2 may be a cyclic alkyl group or a chain alkyl group, but a chain alkyl group is preferable, and a linear alkyl group is more preferable than a branched chain alkyl group. preferable.
アルキル基の炭素原子数は、1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、1〜10であることがさらに好ましく、1〜8がさらにまた好ましく、1〜6であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)及びアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基)が含まれる。 The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-20, further preferably 1-10, still more preferably 1-8, and 1-6. Most preferred. The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group) and an acyloxy group (for example, acryloyloxy group, methacryloyloxy group).
R2が表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、2〜30であることが好ましく、2〜20であることがより好ましく、2〜10であることがさらに好ましく、2〜8であることがさらにまた好ましく、2〜6であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。 The alkenyl group represented by R 2 may be a cyclic alkenyl group or a chain alkenyl group, but preferably represents a chain alkenyl group, and is a straight chain alkenyl group rather than a branched chain alkenyl group. More preferably it represents a group. The number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, still more preferably 2 to 10, still more preferably 2 to 8, 6 is most preferred. The alkenyl group may have a substituent. Examples of the substituent are the same as those of the alkyl group described above.
R2が表す芳香族環基及び複素環基は、R1が表す芳香族環及び複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基及び複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはR1の芳香族環及び複素環の置換基と同様である。 The aromatic ring group and heterocyclic group represented by R 2 are the same as the aromatic ring and heterocyclic ring represented by R 1 , and the preferred range is also the same. The aromatic ring group and the heterocyclic group may further have a substituent, and examples of the substituent are the same as those of the aromatic ring and heterocyclic ring of R 1 .
円盤状化合物としては下記一般式(II)で表されるトリフェニレン化合物を好ましく用いることもできる。 As the discotic compound, a triphenylene compound represented by the following general formula (II) can also be preferably used.
上記一般式(II)中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。 In the general formula (II), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
R1、R2、R3、R4、R5及びR6が各々表す置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる)、アルケニル基(好ましくは、炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる)、アルキニル基(好ましくは、炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えば、フェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる)、置換もしくは無置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜40、より好ましくは炭素数0〜30、特に好ましくは炭素数0〜20のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる)、
アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜40、より好ましくは炭素数6〜30、特に好ましくは炭素数6〜20のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる)、アシル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜40、より好ましくは炭素数7〜30、特に好ましくは炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜40、より好ましくは炭素数7〜30、特に好ましくは炭素数7〜20のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜40、より好ましくは炭素数0〜30、特に好ましくは炭素数0〜20のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる)、
アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基などが挙げられる)、アリールチオ基(好ましくは、炭素数6〜40、より好ましくは炭素数6〜30、特に好ましくは炭素数1〜20、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる)、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、1,3,5−トリアジル基などが挙げられる)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる)が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
The substituent represented by each of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 is an alkyl group (preferably having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably carbon number). 1-20 alkyl groups, such as methyl, ethyl, isopropyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc. ), An alkenyl group (preferably an alkenyl group having 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, particularly preferably 2 to 20 carbon atoms, such as a vinyl group, an allyl group, 2- Butenyl group, 3-pentenyl group and the like), alkynyl group (preferably 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, particularly preferably 2 carbon atoms). -20 alkynyl group, for example, propargyl group, 3-pentynyl group, etc., aryl group (preferably 6-30 carbon atoms, more preferably 6-20 carbon atoms, particularly preferably 6-6 carbon atoms). 12 aryl groups, for example, phenyl group, p-methylphenyl group, naphthyl group, etc., substituted or unsubstituted amino group (preferably having 0 to 40 carbon atoms, more preferably 0 to 30 carbon atoms). And particularly preferably an amino group having 0 to 20 carbon atoms, such as an unsubstituted amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, and an anilino group).
An alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group). Aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 40 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms, particularly preferably 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyloxy group and a 2-naphthyloxy group. An acyl group (preferably an acyl group having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 20 carbon atoms, such as an acetyl group, a benzoyl group, a formyl group, and a pivaloyl group. Etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and particularly preferably carbon number) To 20 alkoxy groups such as methoxycarbonyl group and ethoxycarbonyl group), aryloxycarbonyl groups (preferably having 7 to 40 carbon atoms, more preferably having 7 to 30 carbon atoms, and particularly preferably carbon atoms). An aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, such as a phenyloxycarbonyl group, and an acyloxy group (preferably having 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 2 carbon atoms). To 20 acyloxy groups, such as an acetoxy group and a benzoyloxy group, and acylamino groups (preferably having 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 20 carbon atoms). Acylamino groups such as acetylamino group, benzoylamino group, etc. And an alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, particularly preferably 2 to 20 carbon atoms, such as a methoxycarbonylamino group) An aryloxycarbonylamino group (preferably 7 to 40 carbon atoms, more preferably 7 to 30 carbon atoms, particularly preferably 7 to 20 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino group). Group), a sulfonylamino group (preferably a sulfonylamino group having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 20 carbon atoms, such as a methanesulfonylamino group, Benzenesulfonylamino group), sulfamoyl A group (preferably a sulfamoyl group having 0 to 40 carbon atoms, more preferably 0 to 30 carbon atoms, particularly preferably 0 to 20 carbon atoms, such as a sulfamoyl group, a methylsulfamoyl group, a dimethylsulfamoyl group, A phenylsulfamoyl group), a carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 20 carbon atoms. Carbamoyl group, methylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, etc.),
Alkylthio group (preferably having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 20 carbon atoms, for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group , Heptylthio group, octylthio group and the like), arylthio group (preferably having 6 to 40 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 20 carbon atoms, for example, phenylthio group). ), A sulfonyl group (preferably a sulfonyl group having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a mesyl group and a tosyl group), sulfinyl Group (preferably having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 2 carbon atoms) Sulfinyl group, for example, methanesulfinyl group, benzenesulfinyl group, etc.), ureido group (preferably having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 20 carbon atoms). A ureido group, for example, an unsubstituted ureido group, a methylureido group, a phenylureido group, and the like, a phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably Is a phosphoric acid amide group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a diethylphosphoric acid amide group and a phenylphosphoric acid amide group, a hydroxyl group, a mercapto group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, bromine). Atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino , A hydrazino group, an imino group, a heterocyclic group (preferably a heterocyclic group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12, for example, a heterocyclic ring having a hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, etc. A imidazolyl group, a pyridyl group, a quinolyl group, a furyl group, a piperidyl group, a morpholino group, a benzoxazolyl group, a benzimidazolyl group, a benzthiazolyl group, a 1,3,5-triazyl group, etc.) A silyl group (preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group. ) Is included. These substituents may be further substituted with these substituents. Moreover, when it has two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be bonded to each other to form a ring.
R1、R2、R3、R4、R5及びR6が各々表す置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基又はハロゲン原子である。 The substituent represented by each of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 is preferably an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, an alkoxy group, an alkylthio group or a halogen atom. is there.
以下に一般式(II)で表される化合物の具体例を挙げるが、こられに限定されない。 Although the specific example of a compound represented by general formula (II) below is given, it is not limited to this.
一般式(I)で表される化合物は、例えば特開2003−344655号公報に記載の方法、一般式(II)で表される化合物は、例えば特開2005−134884号公報に記載の方法等、公知の方法により合成することができる。 The compound represented by the general formula (I) is, for example, a method described in JP-A No. 2003-344655, and the compound represented by the general formula (II) is, for example, a method described in JP-A-2005-134484. Can be synthesized by a known method.
本発明では前述の円盤状化合物の他に直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析又は分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト(例えば、WinMOPAC2000、富士通(株)製)を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が140度以上であることを意味する。 In the present invention, rod-like compounds having a linear molecular structure can be preferably used in addition to the above-mentioned discotic compounds. The linear molecular structure means that the molecular structure of the rod-like compound is linear in the most thermodynamically stable structure. The most thermodynamically stable structure can be obtained by crystal structure analysis or molecular orbital calculation. For example, molecular orbital calculation is performed using molecular orbital calculation software (for example, WinMOPAC2000, manufactured by Fujitsu Limited), and a molecular structure that minimizes the heat of formation of a compound can be obtained. The molecular structure being linear means that in the thermodynamically most stable structure obtained by calculation as described above, the angle of the main chain constituting the molecular structure is 140 degrees or more.
少なくとも二つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式(III)で表される化合物が好ましい。 As the rod-shaped compound having at least two aromatic rings, a compound represented by the following general formula (III) is preferable.
一般式(III):Ar1−L1−Ar2
上記一般式(III)において、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。本明細書において、芳香族基は、アリール基(芳香族性炭化水素基)、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
Formula (III): Ar 1 -L 1 -Ar 2
In the general formula (III), Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group. In the present specification, the aromatic group includes an aryl group (aromatic hydrocarbon group), a substituted aryl group, an aromatic heterocyclic group, and a substituted aromatic heterocyclic group.
アリール基及び置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性ヘテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましく、窒素原子又は硫黄原子がさらに好ましい。 An aryl group and a substituted aryl group are more preferable than an aromatic heterocyclic group and a substituted aromatic heterocyclic group. The heterocyclic ring of the aromatic heterocyclic group is generally unsaturated. The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As a hetero atom, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom is preferable, and a nitrogen atom or a sulfur atom is more preferable.
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。 As the aromatic ring of the aromatic group, a benzene ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring and a pyrazine ring are preferable, and a benzene ring is particularly preferable. .
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基(例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基の各基)、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基(例えば、N−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基の各基)、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基(例えば、N−メチルスルファモイル基、N−エチルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基の各基)、ウレイド基、アルキルウレイド基(例えば、N−メチルウレイド基、N,N−ジメチルウレイド基、N,N,N′−トリメチルウレイド基の各基)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、s−ブチル基、tert−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基の各基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基の各基)、アルキニル基(例えば、エチニル基、ブチニル基)、アシル基(例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基の各基)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基の各基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基の各基)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基の各基)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基の各基)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基の各基)、アミド基(例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基の各基)及び非芳香族性複素環基(例えば、モルホリル基、ピラジニル基)が含まれる。 Examples of the substituent of the substituted aryl group and the substituted aromatic heterocyclic group include a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, an amino group, an alkylamino group (for example, methyl Amino group, ethylamino group, butylamino group, dimethylamino group), nitro group, sulfo group, carbamoyl group, alkylcarbamoyl group (for example, N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N, N-) Dimethylcarbamoyl group), sulfamoyl group, alkylsulfamoyl group (eg, N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group), ureido Group, alkylureido group (for example, N-methylureido group, N, N-dimethylureido group, N, N, N′-trimethyl group) Each group of a ureido group), an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, heptyl group, octyl group, isopropyl group, s-butyl group, tert-amyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl) Group), alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group, hexenyl group), alkynyl group (for example, ethynyl group, butynyl group), acyl group (for example, formyl group, acetyl group, butyryl group, Hexanoyl group, lauryl group), acyloxy group (for example, acetoxy group, butyryloxy group, hexanoyloxy group, lauryloxy group), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group) Pentyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group), arylo Si group (for example, phenoxy group), alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, pentyloxycarbonyl group, heptyloxycarbonyl group), aryloxycarbonyl group ( For example, phenoxycarbonyl group), alkoxycarbonylamino group (for example, butoxycarbonylamino group, hexyloxycarbonylamino group), alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, heptylthio group, octylthio group) Each group), arylthio group (for example, phenylthio group), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, butylsulfonyl group) Group, pentylsulfonyl group, heptylsulfonyl group, octylsulfonyl group), amide group (for example, acetamido group, butyramide group, hexylamide group, laurylamide group) and non-aromatic heterocyclic group ( For example, a morpholyl group and a pyrazinyl group) are included.
なかでも、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル基が挙げられる。 Among these, preferable substituents include a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, an alkylamino group, an acyl group, an acyloxy group, an amide group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, and an alkyl group. Can be mentioned.
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、ウレイド基、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。 The alkyl moiety of the alkylamino group, alkoxycarbonyl group, alkoxy group, and alkylthio group and the alkyl group may further have a substituent. Examples of the alkyl moiety and the substituent of the alkyl group include halogen atom, hydroxyl group, carboxyl group, cyano group, amino group, alkylamino group, nitro group, sulfo group, carbamoyl group, alkylcarbamoyl group, sulfamoyl group, alkylsulfur group. Famoyl group, ureido group, alkylureido group, alkenyl group, alkynyl group, acyl group, acyloxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonylamino group, alkylthio group, arylthio group, An alkylsulfonyl group, an amide group and a non-aromatic heterocyclic group are included. As the substituent for the alkyl moiety and the alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an alkylamino group, an acyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonyl group, and an alkoxy group are preferable.
一般式(III)において、L1は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−O−、−CO−及びそれらの組み合わせからなる基から選ばれる二価の連結基である。 In the general formula (III), L 1 is a divalent linking group selected from an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, —O—, —CO—, and a combination thereof.
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、1,4−シクロヘキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。 The alkylene group may have a cyclic structure. As the cyclic alkylene group, cyclohexylene is preferable, and 1,4-cyclohexylene is particularly preferable. As the chain alkylene group, a linear alkylene group is more preferable than a branched alkylene group.
アルキレン基の炭素原子数は、1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜15であり、さらに好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜8であり、最も好ましくは1〜6である。 The number of carbon atoms of the alkylene group is preferably 1-20, more preferably 1-15, still more preferably 1-10, still more preferably 1-8, and most preferably 1-6. It is.
アルケニレン基及びアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。 The alkenylene group and the alkynylene group preferably have a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably have a linear structure rather than a branched chain structure.
アルケニレン基及びアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは2〜10であり、より好ましくは2〜8であり、さらに好ましくは2〜6であり、さらに好ましくは2〜4であり、最も好ましくは2(ビニレン基又はエチニレン基)である。 The alkenylene group and the alkynylene group preferably have 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6, still more preferably 2 to 4, and most preferably 2. (Vinylene group or ethynylene group).
アリーレン基は、炭素原子数は6〜20であることが好ましく、より好ましくは6〜16であり、さらに好ましくは6〜12である。 The arylene group preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16, and still more preferably 6 to 12.
一般式(III)の分子構造において、L1を挟んで、Ar1とAr2とが形成する角度は、140度以上であることが好ましい。 In the molecular structure of the general formula (III), the angle formed by Ar 1 and Ar 2 across L 1 is preferably 140 degrees or more.
棒状化合物としては、下記式一般式(IV)で表される化合物がさらに好ましい。 As the rod-like compound, a compound represented by the following formula (IV) is more preferable.
一般式(IV):Ar1−L2−X−L3−Ar2
上記一般式(IV)において、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義及び例は、一般式(III)のAr1及びAr2と同様である。
Formula (IV): Ar 1 -L 2 -X-L 3 -
In the general formula (IV), Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group. The definition and examples of the aromatic group are the same as those of Ar 1 and Ar 2 in the general formula (III).
一般式(IV)において、L2及びL3は、それぞれ独立に、アルキレン基、−O−、−CO−及びそれらの組み合わせからなる基より選ばれる二価の連結基である。 In General Formula (IV), L 2 and L 3 are each independently a divalent linking group selected from an alkylene group, —O—, —CO—, and a group consisting of a combination thereof.
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。 The alkylene group preferably has a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably has a linear structure rather than a branched chain structure.
アルキレン基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましく、より好ましくは1〜8であり、さらに好ましくは1〜6であり、さらに好ましくは1〜4であり、1又は2(メチレン基又はエチレン基)であることが最も好ましい。 The alkylene group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6, still more preferably 1 to 4, and 1 or 2 (methylene group). Or an ethylene group) is most preferable.
L2及びL3は、−O−CO−又はCO−O−であることが特に好ましい。 L 2 and L 3 are particularly preferably —O—CO— or CO—O—.
一般式(IV)において、Xは、1,4−シクロヘキシレン基、ビニレン基又はエチニレン基である。 In the general formula (IV), X represents a 1,4-cyclohexylene group, a vinylene group or an ethynylene group.
一般式(III)又は(IV)で表される化合物の具体例としては、特開2004−109657号公報の〔化1〕〜〔化11〕に記載の化合物が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (III) or (IV) include compounds described in [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 11] of JP-A No. 2004-109657.
溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長(λmax)が250nmより長波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。 Two or more rod-shaped compounds whose maximum absorption wavelength (λmax) is longer than 250 nm in the ultraviolet absorption spectrum of the solution may be used in combination.
棒状化合物は、文献記載の方法を参照して合成できる。文献としては、Mol.Cryst.Liq.Cryst.,53巻、229ページ(1979年)、同89巻、93ページ(1982年)、同145巻、111ページ(1987年)、同170巻、43ページ(1989年)、J.Am.Chem.Soc.,113巻、1349ページ(1991年)、同118巻、5346ページ(1996年)、同92巻、1582ページ(1970年)、J.Org.Chem.,40巻、420ページ(1975年)、Tetrahedron、48巻16号、3437ページ(1992年)を挙げることができる。 The rod-like compound can be synthesized with reference to methods described in literature. As literature, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 53, 229 (1979), 89, 93 (1982), 145, 111 (1987), 170, 43 (1989), J. Am. Am. Chem. Soc. 113, p. 1349 (1991), p. 118, p. 5346 (1996), p. 92, p. 1582 (1970). Org. Chem. 40, 420 pages (1975), Tetrahedron, Vol. 48, No. 16, page 3437 (1992).
また、特開2004−50516号公報の11〜14頁に記載の棒状芳香族化合物を、前記位相差(リターデーション)発現剤として用いてもよい。 Moreover, you may use the rod-shaped aromatic compound of the 11-11 pages of Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-50516 as said retardation (retardation) developing agent.
前記セルロースエステルフィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記位相差(リターデーション)発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒に位相差(リターデーション)発現剤を溶解してから、セルロースエステル溶液(ドープ)に添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。 When the cellulose ester film is produced by a solvent cast method, the retardation (retardation) developing agent may be added to the dope. The addition may be performed at any timing. For example, a retardation developing agent may be dissolved in an organic solvent such as alcohol, methylene chloride, dioxolane, etc., and then added to the cellulose ester solution (dope). Or may be added directly into the dope composition.
その他、前記各公報に記載されている以外の棒状化合物の好ましい化合物の具体例を以下に示す。 In addition, specific examples of preferable compounds of rod-like compounds other than those described in the above-mentioned publications are shown below.
前記具体例(1)〜(34)、(41)、(42)は、シクロヘキサン環の1位と4位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、具体例(1)、(4)〜(34)、(41)、(42)は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体(光学活性)はなく、幾何異性体(トランス型とシス型)のみ存在する。具体例(1)のトランス型(1−trans)とシス型(1−cis)とを、以下に示す。 The specific examples (1) to (34), (41), and (42) have two asymmetric carbon atoms at the 1-position and the 4-position of the cyclohexane ring. However, since the specific examples (1), (4) to (34), (41), and (42) have a symmetrical meso type molecular structure, there are no optical isomers (optical activity), and geometric isomers (trans Type and cis type). The trans type (1-trans) and cis type (1-cis) of specific example (1) are shown below.
前述したように、棒状化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。 As described above, the rod-like compound preferably has a linear molecular structure. Therefore, the trans type is preferable to the cis type.
具体例(2)及び(3)は、幾何異性体に加えて光学異性体(合計4種の異性体)を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、D、Lあるいはラセミ体のいずれでもよい。 Specific examples (2) and (3) have optical isomers (a total of four isomers) in addition to geometric isomers. As for geometric isomers, the trans type is similarly preferable to the cis type. The optical isomer is not particularly superior or inferior, and may be D, L, or a racemate.
具体例(43)〜(45)では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。 In specific examples (43) to (45), the central vinylene bond includes a trans type and a cis type. For the same reason as above, the trans type is preferable to the cis type.
(その他添加剤)
本発明に係る熱可塑性樹脂基材には、目的に応じて種々の化合物等を添加剤として含有させることができる。例えば、位相差(リターデーション)上昇剤、可塑剤、酸化防止剤、酸捕捉剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光学異方性制御剤、マット剤、帯電防止剤、剥離剤、等を含有させることができる。
(Other additives)
The thermoplastic resin substrate according to the present invention can contain various compounds as additives depending on the purpose. For example, it contains retardation increasing agent, plasticizer, antioxidant, acid scavenger, light stabilizer, UV absorber, optical anisotropy control agent, matting agent, antistatic agent, release agent, etc. Can be made.
〈紫外線吸収剤〉
本発明のλ/4板は、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
<Ultraviolet absorber>
The λ / 4 plate of the present invention can also contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is intended to improve durability by absorbing ultraviolet rays of 400 nm or less, and in particular, the transmittance at a wavelength of 370 nm is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and further Preferably it is 2% or less.
前記紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。 The ultraviolet absorber is not particularly limited, and examples thereof include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, inorganic powders, and the like. It is done.
例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328、チヌビン928等のチヌビン類があり、これらはいずれもBASFジャパン社製の市販品であり好ましく使用できる。 For example, 5-chloro-2- (3,5-di-sec-butyl-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazole, (2-2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side Chain dodecyl) -4-methylphenol, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, etc., and tinuvin 109, tinuvin 171, tinuvin 234, tinuvin 326, tinuvin 327, tinuvin 328, There are tinuvins such as tinuvin 928, and these are all commercially available products from BASF Japan and can be preferably used.
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。 The UV absorbers preferably used in the present invention are benzotriazole UV absorbers, benzophenone UV absorbers, and triazine UV absorbers, particularly preferably benzotriazole UV absorbers and benzophenone UV absorbers. .
この他、1,3,5−トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。 In addition, a discotic compound such as a compound having a 1,3,5-triazine ring is also preferably used as the ultraviolet absorber.
本発明におけるセルロースエステル溶液は紫外線吸収剤を二種以上含有することが好ましい。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平6−148430号公報記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。 The cellulose ester solution in the present invention preferably contains two or more ultraviolet absorbers. As the UV absorber, a polymer UV absorber can also be preferably used, and in particular, a polymer type UV absorber described in JP-A-6-148430 is preferably used.
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。 The method of adding the UV absorber can be added to the dope after dissolving the UV absorber in an alcohol such as methanol, ethanol or butanol, an organic solvent such as methylene chloride, methyl acetate, acetone or dioxolane or a mixed solvent thereof. Or you may add directly in dope composition.
無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。 For an inorganic powder that does not dissolve in an organic solvent, a dissolver or a sand mill is used in the organic solvent and cellulose ester to disperse and then added to the dope.
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、λ/4板の乾燥膜厚が30〜200μmの場合は、λ/4板に対して0.5〜10質量%が好ましく、0.6〜4質量%が更に好ましい。 The amount of UV absorber used is not uniform depending on the type of UV absorber, operating conditions, etc., but when the dry film thickness of the λ / 4 plate is 30 to 200 μm, it is 0.5 relative to the λ / 4 plate. -10 mass% is preferable, and 0.6-4 mass% is still more preferable.
〈酸化防止剤〉
酸化防止剤は、例えば、λ/4板中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等によりλ/4板が分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前記λ/4板中に含有させるのが好ましい。
<Antioxidant>
The antioxidant has a role of delaying or preventing the decomposition of the λ / 4 plate by, for example, the residual solvent amount of halogen in the λ / 4 plate, phosphoric acid of a phosphoric acid plasticizer, etc. It is preferably contained in the λ / 4 plate.
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト等を挙げることができる。 As such an antioxidant, a hindered phenol compound is preferably used. For example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di- -T-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3 -(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)- 1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octa Sil-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide) 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy Benzyl) -isocyanurate and the like.
特に、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。 In particular, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3 -(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is preferred. Further, for example, hydrazine-based metal deactivators such as N, N′-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine and tris (2,4-di- A phosphorus processing stabilizer such as t-butylphenyl) phosphite may be used in combination.
これらの化合物の添加量は、前記重合体(A)とセルロースエステルの総質量に対して質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000ppmが更に好ましい。 The addition amount of these compounds is preferably 1 ppm to 1.0%, more preferably 10 to 1000 ppm in terms of mass ratio with respect to the total mass of the polymer (A) and the cellulose ester.
(マット剤)
本発明に係る熱可塑性樹脂基材には、作製されたフィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化することを防止するために、マット剤として、微粒子を添加することも好ましい。
(Matting agent)
The thermoplastic resin substrate according to the present invention may be added with fine particles as a matting agent in order to prevent scratching or deterioration of transportability when the produced film is handled. preferable.
微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。 As fine particles, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, Examples thereof include magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.
微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜400nmが好ましく、更に好ましいのは10〜300nmである。これらは主に粒径0.05〜0.3μmの2次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径80〜400nmの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。フィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.01〜1質量%であることが好ましく、特に0.05〜0.5質量%が好ましい。共流延法による多層構成のλ/4板(位相差フィルム)の場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。 The average primary particle diameter of the fine particles is preferably 5 to 400 nm, and more preferably 10 to 300 nm. These may be mainly contained as secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 0.3 μm, and may be contained as primary particles without being aggregated if the particles have an average particle size of 80 to 400 nm. preferable. The content of these fine particles in the film is preferably 0.01 to 1% by mass, particularly preferably 0.05 to 0.5% by mass. In the case of a λ / 4 plate (retardation film) having a multilayer structure formed by the co-casting method, it is preferable to contain fine particles of this addition amount on the surface.
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。 Silicon dioxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.). it can.
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。 Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.
樹脂の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。 Examples of the resin include a silicone resin, a fluororesin, and an acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.
これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがλ/4板(位相差フィルム)のヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明に係るλ/4板(位相差フィルム)においては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が0.2〜1.0であることが好ましい。 Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the haze of the λ / 4 plate (retardation film) low. In the λ / 4 plate (retardation film) according to the present invention, it is preferable that the dynamic friction coefficient of at least one surface is 0.2 to 1.0.
<原反フィルムの製造>
本願においては、斜め延伸前のフィルムを「原反フィルム」と呼称する。また、長尺状フィルムの搬送方向に対して斜め方向に面内遅相軸を有するように斜め方向に延伸した長尺状フィルムを「λ/4板(位相差フィルム)」と呼称する。
<Manufacture of raw film>
In the present application, the film before oblique stretching is referred to as “raw film”. A long film stretched in an oblique direction so as to have an in-plane slow axis in an oblique direction with respect to the conveying direction of the long film is referred to as a “λ / 4 plate (retardation film)”.
本発明に係る原反フィルムは、溶液流延法、溶融流延法のいずれの方法で製造されてもよい。以下溶液流延法について説明する。フィルム原料としては、前述の熱可塑性樹脂を用いることができるが、以下では、代表的例として、セルロースエステルを主成分とするλ/4板(位相差フィルム)の製造方法について説明をする。 The raw film according to the present invention may be produced by either a solution casting method or a melt casting method. Hereinafter, the solution casting method will be described. As the film raw material, the above-described thermoplastic resin can be used. Hereinafter, as a typical example, a method for producing a λ / 4 plate (retardation film) containing cellulose ester as a main component will be described.
本発明に係る原反フィルムの製造は、セルロースエステル及び前記可塑剤などの添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸する工程、更に乾燥する工程、必要であれば得られたフィルムを更に熱処理する工程、冷却後巻き取る工程により行われる。本発明に係る原反フィルムは固形分中に好ましくはセルロースエステル樹脂を60〜95質量%含有するものであることが好ましい。 The production of the raw film according to the present invention is a step of preparing a dope by dissolving an additive such as cellulose ester and the plasticizer in a solvent, and a step of casting the dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support. , A process of drying the cast dope as a web, a process of peeling from the metal support, a process of stretching, a process of further drying, a process of further heat treating the obtained film if necessary, and a process of winding after cooling. Is called. The raw film according to the present invention preferably contains 60 to 95% by mass of a cellulose ester resin in the solid content.
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。 The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy increases. Becomes worse. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.
セルロースエステルを溶解しセルロースエステル溶液又はドープ形成に有用な有機溶媒としては、塩素系有機溶媒と非塩素系有機溶媒がある。塩素系の有機溶媒としてメチレンクロライド(塩化メチレン)を挙げることができ、セルロースエステル、特にセルローストリアセテートの溶解に適している。昨今の環境問題から非塩素系有機溶媒の使用が検討されている。非塩素系有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができる。これらの有機溶媒をセルローストリアセテートに対して使用する場合には、常温での溶解方法も使用可能であるが、高温溶解方法、冷却溶解方法、高圧溶解方法等の溶解方法を用いることにより不溶解物を少なくすることができるので好ましい。セルローストリアセテート以外のセルロースエステルに対しては、メチレンクロライドを用いることはできるが、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンが好ましく使用される。特に酢酸メチルが好ましい。本発明において、上記セルロースエステルに対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主(有機)溶媒又は主たる(有機)溶媒という。 Organic solvents that dissolve cellulose esters and are useful for forming cellulose ester solutions or dopes include chlorinated organic solvents and non-chlorinated organic solvents. Methylene chloride (methylene chloride) can be mentioned as a chlorinated organic solvent, and it is suitable for dissolving cellulose esters, particularly cellulose triacetate. Due to recent environmental problems, the use of non-chlorine organic solvents has been studied. Examples of the non-chlorine organic solvent include methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1, Examples include 1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, and the like. When these organic solvents are used for cellulose triacetate, a dissolution method at room temperature can be used, but an insoluble material can be obtained by using a dissolution method such as a high-temperature dissolution method, a cooling dissolution method, or a high-pressure dissolution method. Can be reduced, which is preferable. Methylene chloride can be used for cellulose esters other than cellulose triacetate, but methyl acetate, ethyl acetate, and acetone are preferably used. Particularly preferred is methyl acetate. In the present invention, an organic solvent having good solubility with respect to the cellulose ester is referred to as a good solvent, and has a main effect on dissolution, and an organic solvent used in a large amount among them is a main (organic) solvent or a main ( Organic) solvent.
本発明に用いられるドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。これらはドープを金属支持体に流延後溶媒が蒸発をし始めアルコールの比率が多くなるとドープ膜(ウェブ)がゲル化し、ウェブを丈夫にし金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることができる。これらのうちドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は単独ではセルロースエステルに対して溶解性を有していないので貧溶媒という。 The dope used in the present invention preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms in addition to the organic solvent. These are gelling solvents that make dope film (web) gel when the dope is cast on a metal support and the solvent starts to evaporate and the ratio of alcohol increases, making the web strong and easy to peel off from the metal support. When these ratios are small, there is also a role of promoting the dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine organic solvent. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Of these, ethanol is preferred because it has excellent dope stability, has a relatively low boiling point, and has good drying properties. These organic solvents are called poor solvents because they are not soluble in cellulose esters alone.
ドープ中のセルロースエステルの濃度は15〜30質量%、ドープ粘度は100〜500Pa・sの範囲に調製されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。 It is preferable that the concentration of the cellulose ester in the dope is adjusted to 15 to 30% by mass and the dope viscosity is adjusted to a range of 100 to 500 Pa · s in order to obtain good film surface quality.
上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。 A general method can be used as a dissolution method of the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamaco. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。 The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。 The heating temperature with the addition of a solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.
若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。 Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.
次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材が更に好ましい。 Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like. However, if the absolute filtration accuracy is too small, there is a problem that the filter medium is likely to be clogged. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is still more preferable.
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。 There are no particular restrictions on the material of the filter medium, and ordinary filter media can be used. However, plastic filter media such as polypropylene and Teflon (registered trademark), and metal filter media such as stainless steel do not drop off fibers. preferable. It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.
輝点異物とは、二枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 A bright spot foreign material is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably, it is 100 pieces / cm < 2 > or less, More preferably, it is 50 pieces / m < 2 > or less, More preferably, it is 0-10 pieces / cm < 2 > or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることが更に好ましい。 The dope can be filtered by a normal method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C.
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。 A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.
ここで、ドープの流延について説明する。 Here, the dope casting will be described.
流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。 The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. The preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing warm air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air between casting and peeling.
セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%又は60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%又は70〜120質量%である。また、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃とするのが好ましく、10〜40℃がより好ましく、15〜30℃とするのが最も好ましい。 In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%. The temperature at the peeling position on the metal support is preferably −50 to 40 ° C., more preferably 10 to 40 ° C., and most preferably 15 to 30 ° C.
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。 In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.
残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Note that M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量が0.5質量%以下となるまで乾燥される。 Moreover, in the drying process of the cellulose ester film, the web is peeled off from the metal support, further dried, and dried until the residual solvent amount is 0.5% by mass or less.
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。 In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.
前記金属支持体から剥離する際に、剥離張力及びその後の搬送張力によってウェブは縦方向に延伸する為、本発明においては流延支持体からウェブを剥離する際は剥離及び搬送張力をできるだけ下げた状態で行うことが好ましい。具体的には、例えば50〜170N/m以下にすることが効果的である。その際、20℃以下の冷風を当て、ウェブを急速に固定化することが好ましい。 When peeling from the metal support, the web is stretched in the longitudinal direction due to the peeling tension and the subsequent conveying tension. Therefore, in the present invention, when peeling the web from the casting support, the peeling and conveying tensions are reduced as much as possible. It is preferable to carry out in the state. Specifically, for example, it is effective to set it to 50 to 170 N / m or less. At that time, it is preferable to apply a cold air of 20 ° C. or less to fix the web rapidly.
次いで、上記乾燥したフィルムを本発明に係る原反フィルム(原反フィルム)として、前述の本発明に係る斜め延伸テンターにより所望の角度に延伸を行いλ/4板(位相差フィルム)とすることができる。 Next, the dried film is used as a raw film (raw film) according to the present invention, and is stretched at a desired angle by the above-described oblique stretching tenter according to the present invention to obtain a λ / 4 plate (retardation film). Can do.
<λ/4板の製造方法>
本発明のλ/4板の製造方法としては、種々の方法を採用し得る。例えば、下記の態様の方法が好ましい。
<Manufacturing method of λ / 4 plate>
Various methods can be adopted as a method of manufacturing the λ / 4 plate of the present invention. For example, the method of the following aspect is preferable.
本発明のλ/4板の製造方法の好ましい態様としては、長尺の原反フィルムを斜め延伸することによって、フィルムの延長方向に対して任意の角度に面内遅相軸を付与する新規な延伸フィルムの製造方法である。 As a preferred embodiment of the method for producing a λ / 4 plate of the present invention, a novel raw material that gives an in-plane slow axis at an arbitrary angle with respect to the extending direction of the film by obliquely stretching a long original film. It is a manufacturing method of a stretched film.
ここで「長尺」とは、フィルムの幅に対し、少なくとも5倍程度以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍又はそれ以上の長さを有し、具体的には、ロール状に巻回されて保管又は運搬される程度の長さを有するもの(フィルムロール)をいう。 Here, the “long” means a film having a length of at least about 5 times the width of the film, preferably a length of 10 times or more, specifically a roll shape. It has a length (film roll) that is wound around and stored or transported.
長尺のフィルムの製造方法では、フィルムを連続的に製造することにより、所望の任意の長さにフィルムを製造しうる。 In the manufacturing method of a long film, a film can be manufactured to desired arbitrary length by manufacturing a film continuously.
なお、延伸フィルムの製造方法は、製膜後一度巻芯に巻き取り、巻回体にしてから斜め延伸工程に供給するようにしてもよいし、製膜後フィルムを巻き取ることなく、製膜工程から連続して斜め延伸工程に供給してもよい。製膜工程と斜め延伸工程を連続して行うことは、延伸後の膜厚や光学値の結果をフィードバックして製膜条件を変更し、所望の延伸フィルムを得ることができるので好ましい。 In addition, the manufacturing method of a stretched film may be wound around the core once after film formation, and may be supplied to the oblique stretching step after forming the wound body, or the film may be formed without winding up the film after film formation. You may supply to the diagonal stretch process continuously from the process. It is preferable to continuously perform the film forming step and the oblique stretching step because the film forming conditions can be changed by feeding back the film thickness after stretching and the results of optical values to obtain a desired stretched film.
本発明に係る延伸フィルムの製造方法では、フィルムの延長方向に対して0°を超え90°未満の角度に遅相軸を有する延伸フィルムを製造する。ここで、フィルムの延長方向に対する角度とは、フィルム面内における角度である。遅相軸は、通常、延伸方向又は延伸方向に直角な方向に発現するので、本発明に係る製造方法では、フィルムの延長方向に対して0°を超え90°未満の角度で延伸を行うことにより、かかる遅相軸を有する延伸フィルムを製造しうる。 In the method for producing a stretched film according to the present invention, a stretched film having a slow axis at an angle of more than 0 ° and less than 90 ° with respect to the extending direction of the film is produced. Here, the angle with respect to the extending direction of the film is an angle in the film plane. Since the slow axis is usually expressed in the stretching direction or a direction perpendicular to the stretching direction, in the production method according to the present invention, stretching is performed at an angle of more than 0 ° and less than 90 ° with respect to the extending direction of the film. Thus, a stretched film having such a slow axis can be produced.
フィルムの延長方向と遅相軸とがなす角度(配向角θは、0°を超え90°未満の範囲で、所望の角度に任意に設定することができるが、より好ましくは10°〜80°、更に好ましくは40°〜50°であり、具体例としては45°とすることができる。 Angle formed by the extension direction of the film and the slow axis (the orientation angle θ can be arbitrarily set to a desired angle in the range of more than 0 ° and less than 90 °, more preferably 10 ° to 80 °. More preferably, the angle is 40 ° to 50 °, and a specific example is 45 °.
前記原反フィルムは、公知の方法、例えば、溶液キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などによって得ることができる。これらのうち、溶液キャスト成形法はフィルムの平面性、透明度に優れ、押出成形法は斜め延伸後のRtを小さくすることが容易となり、残留揮発性成分量が少なくフィルムの寸法安定性にも優れるので好ましい。この原反フィルムは、単層又は二層以上の積層フィルムであってもよい。積層フィルムは、共押出成形法、共流延成形法、フィルムラミネイション法、塗布法などの公知の方法で得ることができる。これらのうち共押出成形法、共流延成形法が好ましい。 The raw film can be obtained by a known method, for example, a solution cast molding method, an extrusion molding method, an inflation molding method, or the like. Among these, the solution cast molding method is excellent in the flatness and transparency of the film, and the extrusion molding method makes it easy to reduce Rt after oblique stretching, and the amount of residual volatile components is small, and the dimensional stability of the film is also excellent. Therefore, it is preferable. This raw film may be a single layer or a laminated film of two or more layers. The laminated film can be obtained by a known method such as a coextrusion molding method, a co-casting molding method, a film lamination method, or a coating method. Of these, the coextrusion molding method and the co-casting molding method are preferable.
本発明では、延伸に供される長尺の原反フィルムの流れ方向の厚さムラσmは、後述する斜め延伸テンター入口でのフィルムの引取張力を一定に保ち、配向角やリターデーションといった光学特性を安定させる観点から、0.30μm未満、好ましくは0.25μm未満、更に好ましくは0.20μm未満である必要がある。 In the present invention, the thickness unevenness σm in the flow direction of a long original film subjected to stretching maintains a constant film take-up tension at the entrance of an oblique stretching tenter, which will be described later, and optical characteristics such as orientation angle and retardation. From the viewpoint of stabilizing the thickness, it is necessary to be less than 0.30 μm, preferably less than 0.25 μm, more preferably less than 0.20 μm.
長尺の原反フィルムの流れ方向の厚さムラσmを上記範囲とするためには、押出成形法の場合は、特開2004−233604号公報に記載されているような、冷却ドラムに密着させる時の溶融状態の熱可塑性樹脂を安定な状態に保つ方法により達成可能である。 In order to keep the thickness unevenness σm in the flow direction of the long original film in the above range, in the case of the extrusion molding method, it is brought into close contact with a cooling drum as described in JP-A-2004-233604. This can be achieved by a method of keeping the molten thermoplastic resin in a stable state.
具体的には、1)溶融押出法で原反フィルムを製造する際に、ダイスから押し出されたシート状の熱可塑性樹脂を50kPa以下の圧力下で冷却ドラムに密着させて引き取る方法;2)溶融押出法で原反フィルムを製造する際に、ダイス開口部から最初に密着する冷却ドラムまでを囲い部材で覆い、囲い部材からダイス開口部又は最初に密着する冷却ドラムまでの距離を100mm以下とする方法;3)溶融押出法で原反フィルムを製造する際に、ダイス開口部から押し出されたシート状の熱可塑性樹脂より10mm以内の雰囲気の温度を特定の温度に加温する方法;関係を満たすようにダイスから押し出されたシート状の熱可塑性樹脂を50kPa以下の圧力下で冷却ドラムに密着させて引き取る方法;4)溶融押出法で原反フィルムを製造する際に、ダイス開口部から押し出されたシート状の熱可塑性樹脂に、最初に密着する冷却ドラムの引取速度との速度差が0.2m/s以下の風を吹き付ける方法;が挙げられる。 Specifically, 1) A method in which a sheet-like thermoplastic resin extruded from a die is brought into close contact with a cooling drum under a pressure of 50 kPa or less when a raw film is produced by a melt extrusion method; When manufacturing the raw film by the extrusion method, the area from the die opening to the cooling drum that first adheres is covered with an enclosing member, and the distance from the enclosure member to the die opening or the first adhering cooling drum is 100 mm or less. Method: 3) Method of heating the temperature of the atmosphere within 10 mm to a specific temperature from the sheet-like thermoplastic resin extruded from the die opening when producing the raw film by the melt extrusion method; satisfying the relationship In this way, the sheet-like thermoplastic resin extruded from the die is taken into close contact with the cooling drum under a pressure of 50 kPa or less; 4) A raw film is produced by melt extrusion And the like; when, on the sheet-shaped thermoplastic resin extruded from the die opening, a method of speed difference between the take-up speed of the cooling drum to first contact blows following wind 0.2 m / s.
また、原反フィルムとして、幅方向の厚さの勾配を有するフィルムが供給されてもよい。延伸が完了した位置におけるフィルム厚さを最も均一なものとしうるような原反フィルムの厚さの勾配は、実験的に厚さの勾配を様々に変化させたフィルムを延伸することにより、経験的に求めることができる。原反フィルムの厚さの勾配は、例えば、厚さの厚い側の端部の厚さが、厚さの薄い側の端部よりも0.5〜3%程度厚くなるように調整することができる。 Moreover, the film which has the gradient of the thickness of the width direction may be supplied as a raw film. The thickness gradient of the raw film so that the film thickness can be made the most uniform at the position where stretching has been completed is empirically determined by stretching films with varying thickness gradients experimentally. Can be requested. The gradient of the thickness of the raw film can be adjusted, for example, so that the thickness of the end portion on the thick side is about 0.5 to 3% thicker than the end portion on the thin side. it can.
原反フィルムの幅は、特に限定されないが、500〜4000mm、好ましくは1000〜2000mmとすることができる。また、フィルムの総厚さは、特に限定されないが、20〜400μm、好ましくは20〜200μmの範囲内であることが好ましい。 Although the width | variety of a raw film is not specifically limited, 500-4000 mm, Preferably it can be 1000-2000 mm. The total thickness of the film is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 to 400 μm, preferably 20 to 200 μm.
原反フィルムの斜め延伸時の延伸温度での好ましい弾性率は、延伸時・延伸後の収縮率、延伸時にかかる張力等の観点から、ヤング率で表して、0.01〜5000Mpa、更に好ましくは0.1〜500Mpaである。 The preferred elastic modulus at the stretching temperature at the time of oblique stretching of the raw film is 0.01 to 5000 Mpa, more preferably expressed in terms of Young's modulus, from the viewpoint of the shrinkage rate during stretching and after stretching, the tension applied during stretching, and the like. 0.1 to 500 Mpa.
<斜め延伸テンターによる延伸>
本発明に係る延伸に供される長尺の原反フィルムに配向を付与するためには、斜め延伸装置(斜め延伸テンター)を用いる。
<Stretching with an oblique stretching tenter>
An oblique stretching apparatus (obliquely stretched tenter) is used for imparting orientation to the long original film subjected to stretching according to the present invention.
本発明に係る斜め延伸テンターは、レールパターンを多様に変化させることにより、フィルムの配向角を自在に設定でき、さらに、フィルムの配向軸をフィルム幅方向に渡って左右均等に高精度に配向させることができ、かつ、高精度でフィルム厚さやリターデーションを制御できるフィルム延伸装置であることが好ましい。 The obliquely stretched tenter according to the present invention can freely set the orientation angle of the film by changing the rail pattern in various ways, and further orients the orientation axis of the film horizontally and evenly with high precision over the film width direction. It is preferable that the film stretching apparatus be capable of controlling the film thickness and retardation with high accuracy.
図1は、本発明のλ/4板の製造方法に用いられる斜め延伸可能なテンターの模式図である。ただし、これは一例であって本発明はこれに限定されるものではない。 FIG. 1 is a schematic view of a tenter capable of oblique stretching used in the method for producing a λ / 4 plate of the present invention. However, this is an example, and the present invention is not limited to this.
テンター入り口側のガイドロール8−1によって方向を制御された原反フィルム1は、右側のフィルム保持開始点2−1、左側のフィルム保持開始点2−2の位置で把持具(クリップつかみ部ともいう)によって担持され、テンター4にて右側のフィルム保持手段の軌跡3−1、左側のフィルム保持手段の軌跡3−2で示される斜め方向に搬送、延伸され、右側のフィルム保持終了点5−1、左側のフィルム保持終了点5−2によって把持を解放され、テンター出口側のガイドロール8−2によって搬送を制御されて斜め延伸フィルム6が形成される。図中、原反フィルムは、フィルムの送り方向7−1に対して、フィルムの延伸方向9の角度(配向角θ)で斜め延伸される。
The
本発明では、斜め延伸テンターの入口部に最も近いガイドロール8−1の主軸位置と斜め延伸テンターの入り口部の把持具との距離X1、X2は、20〜100cmであることが必要であり、該距離を保つことによってフィルムをつかむ際にフィルムの平面を保ち、長手方向の配向角θやリターデーションといった光学特性を安定させることができる。好ましくは20〜60cm、更に好ましくは20〜40cmである。ここで、X1は、ガイドロール8−1の主軸位置と右側のフィルム保持開始点2−1にある把持具(クリップつかみ部)の距離であり、X2は、ガイドロール8−1の主軸位置と左側のフィルム保持開始点2−2にある把持具(クリップつかみ部)の距離である。 In the present invention, the distance X1, X2 between the main shaft position of the guide roll 8-1 closest to the entrance of the obliquely stretched tenter and the gripping tool at the entrance of the obliquely stretched tenter needs to be 20 to 100 cm. By maintaining the distance, the plane of the film can be maintained when the film is gripped, and optical characteristics such as the longitudinal orientation angle θ and retardation can be stabilized. Preferably it is 20-60 cm, More preferably, it is 20-40 cm. Here, X1 is the distance between the main shaft position of the guide roll 8-1 and the gripping tool (clip gripping portion) at the film holding start point 2-1 on the right side, and X2 is the main shaft position of the guide roll 8-1. This is the distance of the gripping tool (clip gripping portion) at the film holding start point 2-2 on the left side.
X1,X2はX1=X2でも、X1≠X2でもどちらでもよいが、好ましくはX1=X2である。 X1 and X2 may be either X1 = X2 or X1 ≠ X2, but preferably X1 = X2.
本発明では、延伸フィルムの長手方向の配向角θやリターデーションといった光学特性のバラツキ防止の観点から、X1、X2は、共に上記20〜100cmの範囲内にあることが好ましい。 In the present invention, X1 and X2 are preferably both in the range of 20 to 100 cm from the viewpoint of preventing variation in optical properties such as the orientation angle θ and retardation in the longitudinal direction of the stretched film.
斜め延伸テンターの入口部に最も近いガイドロール8−1の主軸位置と斜め延伸テンターの把持具との距離を上記範囲とするためには、ガイドロール及びクリップつかみ部を位置調整が可能な機構とすること、把持具の搬送方向の長さを1〜5インチ(1インチは2.54cm)とすること、斜め延伸テンターの入口部に最も近いガイドロール8−1の直径を1〜20cmとすること、斜め延伸テンターの入口部近傍に更にロールを設置可能な機構とすること、等が挙げられる。 In order to set the distance between the main shaft position of the guide roll 8-1 closest to the entrance of the obliquely stretched tenter and the gripping tool of the obliquely stretched tenter to the above range, a mechanism capable of adjusting the position of the guide roll and the clip gripping part; The length of the gripping tool in the conveying direction is 1 to 5 inches (1 inch is 2.54 cm), and the diameter of the guide roll 8-1 closest to the entrance portion of the obliquely stretched tenter is 1 to 20 cm. And a mechanism that can further install a roll in the vicinity of the entrance of the obliquely stretched tenter.
本発明に係る延伸フィルムの製造は、上記斜め延伸可能なテンターを用いて行うが、このテンターは、長尺フィルムを、オーブンによる加熱環境下で、その進行方向(フィルム幅方向の中点の移動方向)に対して斜め方向に拡幅する装置である。このテンターは、オーブンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、当該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。フィルムロールから繰り出され、テンターの入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、オーブン内にフィルムを導き、テンターの出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、テンターの出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。 Production of the stretched film according to the present invention is performed using the tenter capable of oblique stretching, and this tenter is a long film that is moved in the advancing direction (middle point in the film width direction) in an oven heating environment. It is a device that widens in an oblique direction with respect to (direction). This tenter includes an oven, a pair of rails on the left and right on which a gripping tool for transporting the film travels, and a number of gripping tools that travel on the rails. Both ends of the film fed out from the film roll and sequentially supplied to the entrance portion of the tenter are gripped by a gripping tool, the film is guided into the oven, and the film is released from the gripping tool at the exit portion of the tenter. The film released from the gripping tool is wound around the core. Each of the pair of rails has an endless continuous track, and the gripping tool which has released the grip of the film at the exit portion of the tenter travels outside and is sequentially returned to the entrance portion.
なお、テンターのレール形状は、製造すべき延伸フィルムに与える配向角θ、延伸倍率等に応じて、左右で非対称な形状となっており、手動で又は自動で微調整できるようになっている。本発明においては、長尺の熱可塑性樹脂フィルムを延伸し、配向角θが延伸後の巻取り方向に対して、好ましくは10°〜80°の範囲内で任意の角度に設定できるようになっている。本発明において、テンターの把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って、一定速度で走行するようになっている。 The rail shape of the tenter is asymmetrical on the left and right according to the orientation angle θ, the draw ratio, etc. given to the stretched film to be manufactured, and can be finely adjusted manually or automatically. In the present invention, a long thermoplastic resin film is stretched, and the orientation angle θ can be set to an arbitrary angle within a range of preferably 10 ° to 80 ° with respect to the winding direction after stretching. ing. In the present invention, the gripping tool of the tenter is configured to travel at a constant speed with a certain distance from the front and rear gripping tools.
把持具の走行速度は適宜選択できるが、通常、10〜100m/分である。左右一対の把持具の走行速度の差は、走行速度の通常1%以下、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.1%以下である。これは、延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度差があると、延伸工程出口におけるシワ、寄りが発生するため、左右の把持具の速度差は、実質的に同速度であることが求められるためである。 The traveling speed of the gripping tool can be selected as appropriate, but is usually 10 to 100 m / min. The difference in travel speed between the pair of left and right grippers is usually 1% or less, preferably 0.5% or less, more preferably 0.1% or less of the travel speed. This is because if there is a difference in the traveling speed between the left and right sides of the film at the exit of the stretching process, wrinkles and shifts will occur at the exit of the stretching process, so the speed difference between the right and left gripping tools is required to be substantially the same speed. Because.
一般的なテンター装置等では、チェーンを駆動するスプロケットの歯の周期、駆動モータの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度ムラがあり、しばしば数%のムラを生ずるが、これらは本発明で述べる速度差には該当しない。 In general tenter devices, etc., there are speed irregularities that occur on the order of seconds or less depending on the period of the sprocket teeth that drive the chain, the frequency of the drive motor, etc. This does not correspond to the speed difference described in the invention.
また、本発明に用いられる斜め延伸テンターでは、各レール部及びレール連結部の位置を自由に設定できることが好ましく、したがって、任意の入り口幅及び出口幅を設定すると、これに応じた延伸倍率にすることができる。(下記、図2の○部は連結部の一例である。)
本発明に用いられる斜め延伸テンターにおいて、把持具の軌跡を規制するレールには、しばしば大きい屈曲率が求められる。急激な屈曲による把持具同士の干渉、あるいは局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持具の軌跡が円弧を描くようにすることが望ましい。
Moreover, in the diagonally stretched tenter used in the present invention, it is preferable that the positions of the rail portions and the rail connecting portions can be freely set. Therefore, when an arbitrary entrance width and exit width are set, the stretch ratio corresponding to this is set. be able to. (The circled portion in FIG. 2 below is an example of a connecting portion.)
In the obliquely stretched tenter used in the present invention, a large bending rate is often required for the rail that regulates the trajectory of the gripping tool. In order to avoid interference between gripping tools due to sudden bending or local stress concentration, it is desirable that the trajectory of the gripping tool draws an arc at the bent portion.
図2は、本発明に係る製造方法に用いるテンターのレールの軌道(レールパターン)を示している。未延伸フィルムのテンター入口での進行方向DR1は、延伸後のフィルムのテンター出側での進行方向DR2と異なっており、これにより、比較的大きな配向角θをもつ延伸フィルムにおいても広幅で均一な光学特性を得ることが可能となっている。繰出し角度θiは、テンター入口での進行方向D1と延伸後のフィルムのテンター出側での進行方向DR2とのなす角度である。本発明においては、上述のように好ましくは10°〜80°の配向角θを持つフィルムを製造するため、繰出し角度θiは、10°<θi<60°、好ましくは15°<θi<50°で設定される。繰出し角度θiを前記範囲とすることにより、得られるフィルムの幅方向の光学特性のバラツキが良好となる(小さくなる)。 FIG. 2 shows a rail track (rail pattern) of a tenter used in the manufacturing method according to the present invention. The traveling direction DR1 at the tenter inlet of the unstretched film is different from the traveling direction DR2 at the tenter outlet side of the stretched film, and thus, even in a stretched film having a relatively large orientation angle θ, it is wide and uniform. Optical characteristics can be obtained. The feeding angle θi is an angle formed by the traveling direction D1 at the tenter entrance and the traveling direction DR2 on the tenter exit side of the stretched film. In the present invention, in order to produce a film having an orientation angle θ of preferably 10 ° to 80 ° as described above, the feeding angle θi is 10 ° <θi <60 °, preferably 15 ° <θi <50 °. Set by. By setting the feeding angle θi in the above range, the variation in the optical characteristics in the width direction of the obtained film becomes good (smaller).
長尺フィルムは、テンター入口(符号aの位置)において、その両端(両側)を左右の把持具によって順次把持されて、把持具の走行に伴い走行される。テンター入口(符号aの位置)で、フィルム進行方向(DR1)に対して略垂直な方向に相対している左右の把持具CL,CRは、左右非対称なレール上を走行し、予熱ゾーン、延伸ゾーン、冷却ゾーンを有するオーブンを通過する。ここで、略垂直とは、前述の向かい合う把持具CL,CR同士を結んだ直線とフィルム繰出し方向DR1とがなす角度が、90±1°以内にあることを示す。 The long film is sequentially gripped at both ends (both sides) by the left and right grippers at the tenter entrance (position a), and travels as the grippers travel. The left and right grips CL, CR facing the direction of the film travel (DR1) at the tenter entrance (position a) run on the left-right asymmetric rail, preheating zone, stretching Pass through an oven with zones and cooling zones. Here, “substantially perpendicular” indicates that the angle formed by the straight line connecting the aforementioned gripping tools CL and CR and the film feeding direction DR1 is within 90 ± 1 °.
予熱ゾーンとは、オーブン入口部において、両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、再び一定となるまでの区間をさす。また、冷却ゾーンとは、延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、ゾーン内の温度がフィルムを構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tg℃以下に設定される区間をさす。 The preheating zone refers to a section in which the vehicle travels while maintaining a constant interval between the gripping tools gripping both ends at the oven entrance. The stretching zone refers to an interval until the gap between the gripping tools gripping both ends starts to become constant again. In addition, the cooling zone refers to a section in which the temperature in the zone is set to be equal to or lower than the glass transition temperature Tg ° C. of the thermoplastic resin constituting the film during a period in which the interval between the gripping tools after the stretching zone becomes constant again. .
各ゾーンの温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgに対し、予熱ゾーンの温度はTg〜Tg+30℃、延伸ゾーンの温度はTg〜Tg+30℃、冷却ゾーンの温度はTg−30〜Tg℃に設定することが好ましい。 The temperature of each zone is set to Tg to Tg + 30 ° C., the temperature of the stretching zone is set to Tg to Tg + 30 ° C., and the temperature of the cooling zone is set to Tg−30 to Tg ° C. with respect to the glass transition temperature Tg of the thermoplastic resin. It is preferable to do.
なお、幅方向の厚さムラの制御のために延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差を付けてもよい。延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけるには、温風を恒温室内に送り込むノズルの開度を幅方向で差を付けるように調整する方法や、ヒーターを幅方向に並べて加熱制御するなどの公知の手法を用いることができる。予熱ゾーン、延伸ゾーン及び冷却ゾーンの長さは適宜選択でき、延伸ゾーンの長さに対して、予熱ゾーンの長さが通常100〜150%、固定ゾーンの長さが通常50〜100%である。 In order to control the thickness unevenness in the width direction, a temperature difference may be given in the width direction in the stretching zone. In order to create a temperature difference in the width direction in the stretching zone, a method of adjusting the opening degree of the nozzle for sending warm air into the temperature-controlled room so as to make a difference in the width direction, or controlling the heating by arranging the heaters in the width direction is known. Can be used. The length of the preheating zone, the stretching zone and the cooling zone can be appropriately selected. The length of the preheating zone is usually 100 to 150% and the length of the fixed zone is usually 50 to 100% with respect to the length of the stretching zone. .
さらに、前記延伸フィルムのシワ、セルを用いることができる。ロードセルとしては、引張又は圧縮型の公知のものを用いることができる。ロードセルは、着力点に作用する荷重を起歪体に取り付けられた歪ゲージにより電気信号に変換して検出する装置である。 Furthermore, wrinkles and cells of the stretched film can be used. As the load cell, a known tensile or compression type can be used. A load cell is a device that detects a load acting on an applied point by converting it into an electrical signal using a strain gauge attached to the strain generating body.
ロードセルは斜め延伸テンターの入口に最も近いガイドロールの左右の軸受部に設置されることにより、走行中のフィルムがロールに及ぼす力、すなわち、フィルムの両側縁近傍に生じているフィルム進行方向における張力を左右独立に検出するものである。なお、ロールの軸受部を構成する支持体に歪ゲージを直接取り付けて、当該支持体に生じる歪に基づいて荷重、すなわち、フィルム張力を検出するようにしてもよい。発生する歪とフィルム張力との関係は、予め計測され、既知であるものとする。 The load cell is installed on the left and right bearings of the guide roll closest to the entrance of the obliquely stretched tenter, so that the force that the running film exerts on the roll, that is, the tension in the film traveling direction that is generated near both side edges of the film Are detected independently on the left and right. Note that a strain gauge may be directly attached to a support that constitutes the bearing portion of the roll, and the load, that is, the film tension may be detected based on the strain generated in the support. The relationship between the generated strain and the film tension is measured in advance and is known.
上述したようなフィルム張力検出装置を設けて、斜め延伸テンターの入口に最も近いガイドロールにおけるフィルムの両側縁近傍の張力を検出するようにしたのは、フィルムの位置及び方向が、フィルム延伸装置の入口部の位置及び方向に対してズレが生じている場合、このズレ量に応じて、斜め延伸テンターの入口に最も近いガイドロールにおけるフィルムの両側縁近傍の張力に差を生じることになるため、この張力差を検出することによって、当該ズレの程度を判別するためである。 The film tension detection device as described above is provided so that the tension in the vicinity of both side edges of the film in the guide roll closest to the entrance of the oblique stretching tenter is detected because the position and direction of the film is the same as that of the film stretching device. If there is a deviation with respect to the position and direction of the entrance, depending on the amount of deviation, there will be a difference in the tension in the vicinity of both side edges of the film in the guide roll closest to the entrance of the obliquely stretched tenter. This is because the degree of deviation is determined by detecting this tension difference.
フィルムの位置及び方向が、フィルム延伸装置の入口部の位置及び方向との関係で適正であれば、ロールに作用する荷重は左右で粗均等になり、互いの位置がズレていれば、左右のフィルム張力に差が生じるのである。 If the position and direction of the film are appropriate in relation to the position and direction of the inlet portion of the film stretching apparatus, the load acting on the roll will be roughly equal on the left and right, and if the positions are misaligned, There is a difference in film tension.
寄りの発生を解決するために、延伸時にフィルムの支持性を保ち、揮発分率が5体積%以上の状態を存在させて延伸した後、収縮させながら揮発分率を低下させることも好ましい。フィルムの支持性を保つとは、フィルムの膜性を損なうことなく両側縁を把持することを意味する。揮発分率については、延伸操作工程において常に5体積%以上の状態を維持していてもよいし、延伸操作工程の一部の区間に限って揮発分率が5体積%以上の状態を維持してもよい。後者の場合、入り口位置を起算点として全延伸区間の50%以上の区間、揮発分率が12体積%以上の状態となっていることが好ましい。いずれにせよ、延伸前に揮発分率が12体積%以上の状態を存在させておくことが好ましい。ここで、揮発分率(単位;体積%)とは、フィルムの単位体積あたりに含まれる揮発成分の体積を表し、揮発成分体積をフィルム体積で除した値とする。 In order to solve the occurrence of the shift, it is also preferable to maintain the support of the film at the time of stretching, lower the volatile content rate while shrinking after stretching in a state where the volatile content rate is 5% by volume or more. To maintain the support of the film means to grip both side edges without impairing the film property of the film. As for the volatile content, the state of 5% by volume or more may always be maintained in the stretching operation process, and the state of the volatile content is maintained at 5% by volume or more only in a part of the stretching operation process. May be. In the latter case, it is preferable that the entrance position is a starting point, and that the section of 50% or more of the entire stretching section and the volatile content rate are 12% by volume or more. In any case, it is preferable to have a volatile content of 12% by volume or more before stretching. Here, the volatile fraction (unit: volume%) represents the volume of the volatile component contained per unit volume of the film, and is a value obtained by dividing the volatile component volume by the film volume.
延伸工程における延伸倍率R(W/W0)は、好ましくは1.3〜3.0、より好ましくは1.5〜2.5である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向厚さムラが小さくなるので好ましい。斜め延伸テンターの延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差を付けると幅方向厚みムラを更に良好なレベルにすることが可能になる。なお、W0は延伸前のフィルムの幅、Wは延伸後のフィルムの幅を表す。 The draw ratio R (W / W0) in the drawing step is preferably 1.3 to 3.0, more preferably 1.5 to 2.5. When the draw ratio is within this range, thickness unevenness in the width direction is reduced, which is preferable. In the stretching zone of the oblique stretching tenter, if the stretching temperature is made different in the width direction, the thickness unevenness in the width direction can be further improved. W0 represents the width of the film before stretching, and W represents the width of the film after stretching.
テンターの入口に最も近いガイドロールは、フィルムの走行を案内する従動ロールであり、不図示の軸受部を介してそれぞれ回転自在に軸支されている。ロールの材質は公知のものを用いることが可能であるが、フィルムの傷つきを防止するためにセラミックコートを施したり、アルミニウム等の軽金属にクロームメッキを施す等、軽量化を図るのが好適である。このロールは、フィルムの走行時の軌道を安定させるために設けられるものである。 The guide roll closest to the entrance of the tenter is a follower roll that guides the travel of the film, and is rotatably supported by bearings (not shown). A known material can be used for the roll, but it is preferable to reduce the weight by applying a ceramic coat to prevent the film from being damaged or by applying chrome plating to a light metal such as aluminum. . This roll is provided in order to stabilize the track when the film travels.
また、このロールの上流側のロールのうちの一本は、ゴムロールを圧接させてニップすることが好ましい。このようなニップロールにすることで、フィルムの流れ方向における繰出張力の変動を抑えることが可能だからである。 Moreover, it is preferable that one of the rolls on the upstream side of the roll is nipped by pressing the rubber roll. This is because such a nip roll can suppress fluctuations in the drawing tension in the film flow direction.
テンターの入口に最も近いガイドロールの両端(左右)の一対の軸受部には、当該ロールにおいてフィルムに生じている張力を検出するための第1張力検出装置、第2フィルム張力検出装置がそれぞれ設けられている。 A pair of bearing portions at both ends (left and right) of the guide roll closest to the entrance of the tenter are provided with a first tension detecting device and a second film tension detecting device for detecting the tension generated in the film in the roll. It has been.
従って、斜め延伸テンターの入口に最も近いガイドロールにおける左右のフィルム張力差が等しくなるように、フィルムの位置及び角度を、適切に調整すれば、フィルム延伸装置の入口部における把持具による把持が安定し、把持具外れ等の障害の発生を少なくでき、更に、フィルム延伸装置による斜め延伸後のフィルムの幅方向における物性を安定させることができる。 Therefore, if the film position and angle are adjusted appropriately so that the difference in film tension between the left and right sides of the guide roll closest to the entrance of the oblique stretching tenter is equal, gripping by the gripping tool at the entrance of the film stretching apparatus is stable. In addition, the occurrence of obstacles such as removal of the gripping tool can be reduced, and the physical properties in the width direction of the film after oblique stretching by the film stretching apparatus can be stabilized.
配向角の微調整や製品バリエーションに対応するために斜め延伸テンター入口でのフィルム進行方向と斜め延伸テンター出口でのフィルム進行方向とがなす角度の調整が必要となる。その際、製膜及び斜め延伸を連続して行うことが、生産性や収率の点で好ましい。製膜工程、斜め延伸工程、巻取工程を連続して行う場合、製膜工程と巻取工程でのフィルムの進行方向が一致していることが、工程の幅を小さくできる点で好ましい。そのような工程とするには、製膜したフィルムを斜め延伸テンター入口に導くためにフィルムの搬送方向を変更する、及び/又は斜め延伸テンター出口から出たフィルムを巻取装置方向に戻すためにフィルムの搬送方向を変更する方法が必要となる。フィルムの搬送方向を変更する装置としては、エアーフローロールなどを用いるなど公知の方法を実施することができる。斜め延伸テンター出口以降の装置(ワインダー装置、アキューム装置、ドライブ装置など)は横方向にスライドできる構造が好ましい。 In order to cope with fine adjustment of the orientation angle and product variations, it is necessary to adjust the angle formed by the film traveling direction at the entrance of the oblique stretching tenter and the film traveling direction at the exit of the oblique stretching tenter. In that case, it is preferable from a viewpoint of productivity or a yield to perform film forming and diagonal stretch continuously. When the film forming process, the oblique stretching process, and the winding process are successively performed, it is preferable that the film traveling direction in the film forming process and the winding process coincide with each other in that the width of the process can be reduced. For such a process, in order to change the film transport direction in order to guide the formed film to the oblique stretching tenter inlet and / or to return the film exiting from the oblique stretching tenter outlet to the winder direction. A method for changing the film transport direction is required. As a device for changing the film transport direction, a known method such as an air flow roll can be used. It is preferable that the apparatus (winder apparatus, accumulator apparatus, drive apparatus, etc.) after the obliquely extending tenter exit is slidable in the lateral direction.
上記種々な本発明に係る斜め延伸の製造パターンについて、図3、図4に示した。 FIGS. 3 and 4 show manufacturing patterns of the oblique stretching according to the various inventions described above.
図中、フィルム繰り出し装置10、搬送方向変更装置11、巻き取り装置12、製膜装置13を各々示した。
In the drawing, a
フィルム繰り出し装置10、は、斜め延伸テンター入口に対して所定角度で前記フィルムを送り出せるように、スライド及び旋回可能となっているか、フィルム繰り出し装置10はスライド可能となっており、搬送方向変更装置11により斜め延伸テンター入口に前記フィルムを送り出せるようになっていることが好ましい。前記フィルム繰り出し装置、搬送方向変更装置をこのような構成とすることにより、より製造装置全体の幅を狭くすることが可能となるほか、フィルムの送り出し位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい延伸フィルムを得ることが可能となる。また、前記フィルム繰り出し装置、搬送方向変更装置を移動可能とすることにより、前記左右のクリップのフィルムへの噛込み不良を有効に防止することができる。
The
巻き取り装置12は、斜め延伸テンター出口に対して所定角度でフィルムを引き取れるように形成することにより、フィルムの引き取り位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい延伸フィルムを得ることが可能となる。そのため、フィルムのシワの発生を有効に防止することができるとともに、フィルムの巻き取り性が向上するため、フィルムを長尺で巻き取ることが可能となる。
By forming the winding
本発明において、延伸後のフィルムの引取り張力T(N/m)は、フィルムのたるみや皺が発生防止、幅方向の配向角のバラツキ防止等の観点から、100N/m<T<300N/m、好ましくは150N/m<T<250N/mの間で調整する必要がある。 In the present invention, the take-up tension T (N / m) of the film after stretching is 100 N / m <T <300 N / from the viewpoints of preventing sagging and wrinkling of the film and preventing variation in the orientation angle in the width direction. m, preferably 150 N / m <T <250 N / m.
また、本発明においては、幅方向及び流れ方向の光学特性のバラツキ防止の観点から、上記引取張力Tの変動を±5%未満、好ましくは±3%未満の精度で制御することが好ましい。 In the present invention, from the viewpoint of preventing variations in the optical characteristics in the width direction and the flow direction, it is preferable to control the fluctuation of the take-up tension T with an accuracy of less than ± 5%, preferably less than ± 3%.
上記引取張力Tの変動を上記範囲内に制御する方法としては、テンター出口部の最初のロールにかかる荷重、すなわちフィルムの張力を測定し、その値を一定とするように、一般的なPID制御方式により引取ロールの回転速度を制御する方法が挙げられる。前記荷重を測定する方法としては、ロールの軸受部にロードセルを取り付け、ロールに加わる荷重、すなわちフィルムの張力を測定する方法が挙げられる。ロードセルとしては、引張型や圧縮型の公知のものを用いることができる。 As a method for controlling the fluctuation of the take-up tension T within the above range, general PID control is performed so that the load applied to the first roll at the tenter outlet, that is, the film tension is measured and the value is kept constant. A method of controlling the rotation speed of the take-up roll by a method is mentioned. Examples of the method for measuring the load include a method in which a load cell is attached to a bearing portion of a roll and a load applied to the roll, that is, a film tension is measured. As the load cell, a known tensile type or compression type can be used.
延伸後のフィルムは、把持具による把持が開放され、テンター出口から排出され、フィルムの両端(両側)がトリミングされた後に、順次巻芯(巻取りロール)に巻き取られて、延伸フィルムの巻回体にすることができる。 The stretched film is released from the tenter outlet after being gripped by the gripper, trimmed at both ends (both sides) of the film, and then wound around a winding core (winding roll) to wind the stretched film. It can be turned around.
また、必要に応じて、巻取ロールに巻き取る前に、テンターの把持具で把持されていたフィルムの両端をトリミングしてもよい。また、巻き取る前に、フィルム同士のブロッキングを防止する目的で、マスキングフィルムを重ねて同時に巻き取ってもよいし、延伸フィルムの少なくとも一方、好ましくは両方の端にテープ等を張り合わせながら巻き取ってもよい。マスキングフィルムとしては、上記フィルムを保護することができるものであれば特に制限されず、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどがあげられる。 Moreover, you may trim the both ends of the film currently hold | gripped with the holding tool of a tenter before winding up to a winding roll as needed. In addition, before winding, for the purpose of preventing blocking between the films, the masking film may be overlapped and wound up at the same time, or at least one of the stretched films, preferably wound up with tape or the like attached to both ends. Also good. The masking film is not particularly limited as long as it can protect the film, and examples thereof include a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, and a polypropylene film.
本発明に係る製造方法により得られた延伸フィルムは、配向角θが巻取り方向に対して、例えば10°〜80°の範囲に傾斜しており、少なくとも1300mmの幅において、幅方向の、面内リターデーションRoのバラツキが4nm以下、配向角θのバラツキが1.0°以下である。 The stretched film obtained by the production method according to the present invention has an orientation angle θ that is inclined in a range of, for example, 10 ° to 80 ° with respect to the winding direction. The variation of the inner retardation Ro is 4 nm or less, and the variation of the orientation angle θ is 1.0 ° or less.
本発明のλ/4板の面内リターデーションRoのバラツキは、幅方向の少なくとも1300mmにおいて、4nm以下、好ましくは3nm以下である。 The variation of the in-plane retardation Ro of the λ / 4 plate of the present invention is 4 nm or less, preferably 3 nm or less, at least 1300 mm in the width direction.
面内リターデーションRoのバラツキを、上記範囲にすることにより、液晶表示装置用の位相差フィルムとして用いた場合に表示品質を良好なものにすることが可能になる。 By setting the variation of the in-plane retardation Ro within the above range, the display quality can be improved when used as a retardation film for a liquid crystal display device.
本発明に係る延伸フィルムの配向角θのバラツキは、光漏れによるコントラスト低下を防止する観点から、幅方向の少なくとも1300mmにおいて、1.0°以下、好ましくは0.80°以下である。 The variation in the orientation angle θ of the stretched film according to the present invention is 1.0 ° or less, preferably 0.80 ° or less, at least 1300 mm in the width direction, from the viewpoint of preventing contrast reduction due to light leakage.
本発明のλ/4板の面内リターデーションRoは、用いられる表示装置の設計によって最適値が選択される。なお、前記Roは、面内遅相軸方向の屈折率nxと面内で前記遅相軸に直交する方向の屈折率nyとの差にフィルムの平均厚さdを乗算した値(Ro=(nx−ny)×d)である。 For the in-plane retardation Ro of the λ / 4 plate of the present invention, an optimum value is selected according to the design of the display device used. Incidentally, the Ro-plane slow axis direction of the refractive indices n x and plane by a value obtained by multiplying the average thickness d of the film to the difference between the refractive index n y in the direction perpendicular to the slow axis (Ro = (Nx-ny) * d).
本発明のλ/4板の平均厚さは、機械的強度などの観点から、好ましくは20〜80μm、さらに好ましくは30〜60μm、特に好ましくは30〜40μmである。 The average thickness of the λ / 4 plate of the present invention is preferably 20 to 80 μm, more preferably 30 to 60 μm, and particularly preferably 30 to 40 μm from the viewpoint of mechanical strength and the like.
また、幅方向の厚さムラは、巻取りの可否に影響を与えるため、3μm以下であることが好ましく、2μm以下であることがより好ましい。 Moreover, since the thickness unevenness in the width direction affects the availability of winding, it is preferably 3 μm or less, and more preferably 2 μm or less.
本発明のλ/4板の製造方法としては、原反フィルムを最初に巾手方向に延伸した後に延伸軸と垂直方向に収縮させながら搬送方向を湾曲させる工程を有する態様の製造方法であることも好ましい。 The production method of the λ / 4 plate of the present invention is a production method of an embodiment having a step of curving the conveyance direction while first contracting the raw film in the width direction and then contracting in the direction perpendicular to the stretching axis. Is also preferable.
(表面加工層)
本発明のλ/4板は、その表面にハードコート層が設けられていることを特徴とする。
(Surface processed layer)
The λ / 4 plate of the present invention is characterized in that a hard coat layer is provided on the surface thereof.
また、本発明においては、表面加工層として、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を設けることができる。 In the present invention, functional layers such as an antistatic layer, a backcoat layer, an antireflection layer, a slippery layer, an adhesive layer, an antiglare layer, and a barrier layer can be provided as the surface treatment layer.
<ハードコート層>
本発明のλ/4板は、その表面にハードコート層を設けることも好ましい。当該ハードコート層は、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層のいずれかであることが好ましい。
<Hard coat layer>
The λ / 4 plate of the present invention preferably has a hard coat layer on its surface. The hard coat layer is preferably either a clear hard coat layer or an antiglare hard coat layer.
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、当該ハードコート層が、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する樹脂を用いて形成された態様のハードコート層であることが好ましい。さらに、当該ハードコート層が、三個又は四個のアクリロイル(acryloyl)基を有するアクリル酸エステル(acrylate)を含有する塗布液を用いて形成されたものであることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the hard coat layer is a hard coat layer formed using a resin containing an active energy ray-curable resin from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention. Furthermore, it is preferable that the hard coat layer is formed using a coating solution containing an acrylate ester having three or four acryloyl groups.
当該ハードコート層が塗布液を用いて形成されたものである場合、当該塗布液が含有する溶媒量が、10質量%未満であることが好ましい。また、当該塗布液が含有する溶媒が、エタノール又はメタノールであることが好ましい。一方、前記塗布液が、水及び有機溶媒を含有していないことも好ましい。 When the hard coat layer is formed using a coating solution, the amount of solvent contained in the coating solution is preferably less than 10% by mass. Moreover, it is preferable that the solvent which the said coating liquid contains is ethanol or methanol. On the other hand, it is also preferable that the coating liquid does not contain water and an organic solvent.
本発明に用いられるハードコート層は、少なくともλ/4板の一方の面に設けられる。本発明においては、当該ハードコート層上に、少なくとも低屈折率層を含む反射防止層が設けられることも好ましい。特に、車載カーナビゲーション用の場合では、より視認性を向上させる為に、防眩性ハードコート層の上に反射防止層が設けられることが好ましい。 The hard coat layer used in the present invention is provided on at least one surface of the λ / 4 plate. In the present invention, it is also preferable that an antireflection layer including at least a low refractive index layer is provided on the hard coat layer. In particular, in the case of in-vehicle car navigation, in order to further improve the visibility, it is preferable to provide an antireflection layer on the antiglare hard coat layer.
本発明に用いられるハードコート層が防眩性である場合は、表面に微細な凹凸形状を有するが、当該微細凹凸形状は、ハードコート層に微粒子を含有させることで形成し、下記のような平均粒径0.01〜4μmの微粒子をハードコート層中に含有させることで形成できる。また、後述するように、当該防眩性ハードコート層上に設けられた反射防止層の最表面の表面粗さとして、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.08〜0.5μmの範囲に調整されることが好ましい。 When the hard coat layer used in the present invention is anti-glare, it has a fine uneven shape on the surface. The fine uneven shape is formed by containing fine particles in the hard coat layer, and is as follows. It can be formed by containing fine particles having an average particle size of 0.01 to 4 μm in the hard coat layer. Further, as will be described later, as the surface roughness of the outermost surface of the antireflection layer provided on the antiglare hard coat layer, the centerline average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 is 0.08. It is preferable to adjust to a range of ˜0.5 μm.
クリアハードコート層の場合は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのクリアハードコート層であり、Raが0.002〜0.05μmであることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えば、WYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定することができる。 In the case of the clear hard coat layer, it is a clear hard coat layer having a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.001 to 0.1 μm, and Ra is 0.002 to 0.05 μm. It is preferable. The center line average roughness (Ra) is preferably measured by an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured, for example, using a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000 manufactured by WYKO.
本発明に用いられる防眩性ハードコート層中に含有される粒子としては、例えば、無機又は有機の微粒子が用いられる。 As particles contained in the antiglare hard coat layer used in the present invention, for example, inorganic or organic fine particles are used.
無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。 Examples of the inorganic fine particles include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, zinc oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, and calcium sulfate.
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、又はポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。 The organic fine particles include polymethyl methacrylate methyl acrylate resin fine particles, acrylic styrene resin fine particles, polymethyl methacrylate resin fine particles, silicone resin fine particles, polystyrene resin fine particles, polycarbonate resin fine particles, benzoguanamine resin fine particles, and melamine resin. Examples thereof include fine particles, polyolefin resin fine particles, polyester resin fine particles, polyamide resin fine particles, polyimide resin fine particles, and polyfluoroethylene resin fine particles.
本発明では特に、酸化ケイ素微粒子又はポリスチレン系樹脂微粒子であることが好ましい。 In the present invention, silicon oxide fine particles or polystyrene resin fine particles are particularly preferable.
上記記載の無機又は有機の微粒子は、防眩性ハードコート層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加えて用いることが好ましい。 The inorganic or organic fine particles described above are preferably used in addition to a coating composition containing a resin or the like used for producing an antiglare hard coat layer.
本発明に用いられる防眩性ハードコート層に防眩性を付与するためには、無機又は有機微粒子の含有量は、防眩性ハードコート層作製用の樹脂100質量部に対して、0.1質量部〜30質量部が好ましく、更に好ましくは、0.1質量部〜20質量部となるように配合することである。より好ましい防眩効果を付与するには、平均粒径0.1μm〜1μmの微粒子を防眩性ハードコート層作製用の樹脂100質量部に対して1質量部〜15質量部を用いるのが好ましい。又、異なる平均粒径の微粒子を二種以上用いることも好ましい。 In order to impart anti-glare properties to the anti-glare hard coat layer used in the present invention, the content of the inorganic or organic fine particles is set to 0.100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin for preparing the anti-glare hard coat layer. 1 mass part-30 mass parts are preferable, More preferably, it is mix | blending so that it may become 0.1 mass part-20 mass parts. In order to give a more preferable antiglare effect, it is preferable to use 1 part by mass to 15 parts by mass of fine particles having an average particle size of 0.1 μm to 1 μm with respect to 100 parts by mass of the resin for preparing the antiglare hard coat layer. . It is also preferable to use two or more kinds of fine particles having different average particle diameters.
また、本発明に用いられる防眩性ハードコート層には、帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、Sn、Ti、In、Al、Zn、Si、Mg、Ba、Mo、W及びVからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が107Ω・cm以下であるような導電性材料が好ましい。 The antiglare hard coat layer used in the present invention preferably contains an antistatic agent, and examples of the antistatic agent include Sn, Ti, In, Al, Zn, Si, Mg, Ba, Mo, A conductive material containing at least one element selected from the group consisting of W and V as a main component and having a volume resistivity of 10 7 Ω · cm or less is preferable.
前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。 Examples of the antistatic agent include metal oxides and composite oxides having the above elements.
金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V2O5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、In2O3、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加、またSnO2に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜25mol%の範囲が好ましいが、0.1〜15mol%の範囲が特に好ましい。 Examples of metal oxides are preferably ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 2 , V 2 O 5 , or a composite oxide thereof. In particular, ZnO, In 2 O 3 , TiO 2 and SnO 2 are preferred. Examples of containing different atoms include, for example, addition of Al, In, etc. to ZnO, addition of Nb, Ta, etc. to TiO 2 , and addition of Sb, Nb, halogen elements, etc. to SnO 2 . Addition is effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 25 mol%, particularly preferably in the range of 0.1 to 15 mol%.
また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は107Ω・cm以下、特に105Ω・cm以下である。 In addition, the volume resistivity of these metal oxide powders having conductivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less.
十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層の膜厚は0.5〜15μmの範囲が好ましく、更に好ましくは、1.0〜7μmである。 From the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance, the film thickness of the clear hard coat layer or the antiglare hard coat layer is preferably in the range of 0.5 to 15 μm, more preferably 1.0 to 7 μm. .
(活性エネルギー線硬化樹脂)
本発明に用いられるハードコート層は、紫外線等活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することが好ましい。
(Active energy ray curable resin)
The hard coat layer used in the present invention preferably contains an active energy ray-curable resin that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。 The active energy ray-curable resin is a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but a resin that is cured by irradiation with an active energy ray other than an ultraviolet ray or an electron beam may be used.
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。 Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. be able to.
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する。)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシル基(水酸基)を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号公報に記載の、ユニディック17−806(DIC(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。 UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as methacrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. Only acrylates are displayed as such), and can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group (hydroxyl group) such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (manufactured by DIC Corporation) and 1 part of Coronate L (manufactured by Nippon Polyurethane Corporation) described in JP-A-59-151110 is preferably used.
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端のヒドロキシル基(水酸基)やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる(例えば、特開昭59−151112号)。 The UV curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, or acrylic acid with a hydroxyl group (hydroxyl group) or a carboxyl group at the end of the polyester. JP, 59-151112, A).
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシル基(水酸基)にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。 The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group (hydroxyl group) of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。 Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples include erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示す。 As examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin and the ultraviolet curable epoxy resin, useful epoxy-based active energy ray reactive compounds are shown.
(a)ビスフェノールAのグリシジルエーテル(この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールAとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる)
(b)ビスフェノールA等のフェノール性OHを二個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
(c)4,4′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
(d)ノボラック樹脂又はレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
(e)脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)オキザレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−1′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−6′−メチル−1′−シクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5′,5′−スピロ−3″,4″−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
(f)2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
(g)グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)ジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
(h)ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
(i)多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
(j)2−フルオロアルキル−1,2−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
(k)含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
(A) Glycidyl ether of bisphenol A (this compound is obtained as a mixture having different degrees of polymerization by reaction of epichlorohydrin and bisphenol A)
(B) a compound having a glycidyl ether group by reacting epichlorohydrin, ethylene oxide and / or propylene oxide with a compound having two phenolic OHs such as bisphenol A (c) glycidyl ether of 4,4'-methylenebisphenol (D) Epoxy compound of phenol formaldehyde resin of novolak resin or resol resin (e) Compound having alicyclic epoxide, for example, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) oxalate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ) Adipate, bis (3,4-epoxy-6-cyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl pimelate), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclo Xanthcarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-1 ' -Methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methyl-cyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxy-6'-methyl-1'-cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5 ', 5'-spiro-3 ", 4" -epoxy) cyclohexane-meta-dioxane (f) diglycidyl ethers of dibasic acids such as diglycidyl oxalate, diglycidyl adipate, diglycidyl tetrahydrophthalate, diglycidyl Hexahydrophthalate, diglycidylf (G) Diglycidyl ether of glycol, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, copoly (ethylene glycol-propylene glycol) di Glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether (h) Glycidyl ester of polymer acid, for example, polyglycidyl ester of polyacrylic acid, polyester diglycidyl ester (i) Polyhydric alcohol Glycidyl ethers such as glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl Ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, glucose triglycidyl ether (j) As the diglycidyl ether of 2-fluoroalkyl-1,2-diol, Similar to the compound examples given for the fluorine-containing epoxy compound of the fluorine-containing resin (k) As the fluorine-containing alkane-terminated diol glycidyl ether, the fluorine-containing epoxy compound of the fluorine-containing resin of the low refractive index substance can be exemplified. .
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として2000以下で、好ましくは1000以下である。 The molecular weight of the said epoxy compound is 2000 or less as an average molecular weight, Preferably it is 1000 or less.
上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、(h)又は(i)の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。 In the case where the above epoxy compound is cured with active energy rays, it is effective to use a compound having a polyfunctional epoxy group (h) or (i) in order to increase the hardness.
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。 The photopolymerization initiator or photosensitizer for cationically polymerizing an epoxy-based active energy ray-reactive compound is a compound capable of releasing a cationic polymerization initiator by irradiation with active energy rays, and particularly preferably a cation by irradiation. It is a group of double salts of onium salts that release Lewis acids capable of initiating polymerization.
活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。 The active energy ray-reactive compound epoxy resin forms a polymerized, crosslinked structure or network structure not by radical polymerization but by cationic polymerization. Unlike radical polymerization, it is not affected by oxygen in the reaction system, and is therefore a preferred active energy ray reactive resin.
本発明に有用な活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤又は光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。 The active energy ray-reactive epoxy resin useful in the present invention is polymerized by a photopolymerization initiator or a photosensitizer that releases a substance that initiates cationic polymerization upon irradiation with active energy rays. As the photopolymerization initiator, a group of double salts of onium salts that release a Lewis acid that initiates cationic polymerization by light irradiation is particularly preferable.
かかる代表的なものは下記一般式(a)で表される化合物である。 A typical example is a compound represented by the following general formula (a).
一般式(a):〔(R1)a(R2)b(R3)c(R4)dZ〕w+〔MeXv〕w−
式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン(例えばI、Br、Cl)、又はN=N(ジアゾ)であり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0〜3の整数であって、a+b+c+dはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属(metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
General formula (a): [(R 1 ) a (R 2 ) b (R 3 ) c (R 4 ) d Z] w + [MeX v ] w−
Wherein cation is onium, Z is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, halogen (eg, I, Br, Cl), or N = N (diazo), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are organic groups which may be the same or different. a, b, c, and d are each an integer of 0 to 3, and a + b + c + d is equal to the valence of Z. Me is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is halogen, w is the net charge of the halogenated complex ion, and v is the number of halogen atoms in the halogenated complex ion.
上記一般式(a)の陰イオン〔MeXv〕w−の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF4 −)、テトラフルオロホスフェート(PF4 −)、テトラフルオロアンチモネート(SbF4 −)、テトラフルオロアルセネート(AsF4 −)、テトラクロロアンチモネート(SbCl4 −)等を挙げることができる。 Specific examples of the anion [MeX v ] w− of the general formula (a) include tetrafluoroborate (BF 4 − ), tetrafluorophosphate (PF 4 − ), tetrafluoroantimonate (SbF 4 − ), tetra Examples thereof include fluoroarsenate (AsF 4 − ) and tetrachloroantimonate (SbCl 4 − ).
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン(ClO4 −)、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO3 −)、フルオロスルホン酸イオン(FSO3 −)、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。 Other anions include perchlorate ion (ClO 4 − ), trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 − ), fluorosulfonate ion (FSO 3 − ), toluenesulfonate ion, and trinitrobenzene acid anion. An ion etc. can be mentioned.
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭50−151996号、同50−158680号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号、同52−30899号、同59−55420号、同55−125105号等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号、同56−149402号、同57−192429号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭49−17040号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号等に記載のチオピリリューム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。 Among these onium salts, it is particularly effective to use an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator. Among them, aromatic halonium salts described in JP-A Nos. 50-151996 and 50-158680 are particularly useful. VIA group aromatic onium salts described in Kaikai 50-151997, 52-30899, 59-55420, 55-125105, JP-A-56-8428, 56-149402, Preference is given to oxosulfoxonium salts described in 57-192429 and the like, aromatic diazonium salts described in JP-B-49-17040, thiopyridium salts described in US Pat. No. 4,139,655 and the like. Moreover, an aluminum complex, a photodegradable silicon compound type | system | group polymerization initiator, etc. can be mentioned. The cationic polymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as benzophenone, benzoin isopropyl ether, or thioxanthone.
また、エポキシアクリレート基を有する活性エネルギー線反応性化合物の場合は、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物100質量部に対して0.1〜15質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは1〜10質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。 In the case of an active energy ray-reactive compound having an epoxy acrylate group, a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photosensitizer and photoinitiator used for the active energy ray-reactive compound are sufficient to initiate the photoreaction at 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet-reactive compound, and preferably Is 1 to 10 parts by mass. The sensitizer preferably has an absorption maximum from the near ultraviolet region to the visible light region.
本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネルギー線硬化性エポキシ樹脂(プレポリマー)100質量部に対して0.1〜15質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、1〜10質量部の範囲の添加が好ましい。 In the active energy ray-curable resin composition useful in the present invention, the polymerization initiator is generally used in an amount of 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable epoxy resin (prepolymer). More preferably, addition in the range of 1 to 10 parts by mass is preferable.
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。 An epoxy resin can be used in combination with the urethane acrylate type resin, polyether acrylate type resin, or the like. In this case, it is preferable to use an active energy ray radical polymerization initiator and an active energy ray cationic polymerization initiator in combination.
また、本発明に用いられるハードコート層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素又は硫黄を含む3員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、3,3−ビス(クロルメチル)オキセタン、3,3−ビス(ヨードメチル)オキセタン、3,3−ビス(メトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、3−メチル−3クロルメチルオキセタン、3,3−ビス(アセトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フルオロメチル)オキセタン、3,3−ビス(ブロモメチル)オキセタン、3,3−ジメチルオキセタン等が挙げられる。なお、本発明では、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。 Moreover, an oxetane compound can also be used for the hard-coat layer used for this invention. The oxetane compound used is a compound having a three-membered oxetane ring containing oxygen or sulfur. Among them, a compound having an oxetane ring containing oxygen is preferable. The oxetane ring may be substituted with a halogen atom, a haloalkyl group, an arylalkyl group, an alkoxyl group, an allyloxy group, or an acetoxy group. Specifically, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (iodomethyl) oxetane, 3,3-bis (methoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (phenoxymethyl) oxetane, 3-methyl -3 chloromethyloxetane, 3,3-bis (acetoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (fluoromethyl) oxetane, 3,3-bis (bromomethyl) oxetane, 3,3-dimethyloxetane and the like. In the present invention, any of a monomer, an oligomer and a polymer may be used.
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、ハードコート層が、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する樹脂を用いて形成された態様のハードコート層であることが好ましい。さらに、当該ハードコート層が、三個又は四個のアクリロイル(acryloyl)基を有するアクリル酸エステル(acrylate)を含有する塗布液を用いて形成されたものであることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the hard coat layer is a hard coat layer formed using a resin containing an active energy ray-curable resin from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention. Furthermore, it is preferable that the hard coat layer is formed using a coating solution containing an acrylate ester having three or four acryloyl groups.
本発明に用いられるハードコート層が活性エネルギー線硬化型樹脂を含む場合、活性エネルギー線の照射方法としては、支持体上に、防眩性ハードコート層、反射防止層(中〜高屈折率層及び低屈折率層)等の塗設後に活性エネルギー線を照射してもよいが、ハードコート層塗設時に活性エネルギー線を照射することが好ましい。 When the hard coat layer used in the present invention contains an active energy ray-curable resin, the active energy ray irradiation method includes an antiglare hard coat layer and an antireflection layer (medium to high refractive index layer) on a support. In addition, the active energy ray may be irradiated after the coating of the low refractive index layer or the like, but the active energy ray is preferably irradiated when the hard coat layer is coated.
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、50〜10000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50〜2000mJ/cm2である。 The active energy ray used in the present invention can be used without limitation as long as it is an energy source that activates a compound such as ultraviolet ray, electron beam, γ ray, etc., but ultraviolet ray and electron beam are preferable, especially easy handling and high energy. UV rays are preferred in that they can be easily obtained. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated is preferably 20 mJ / cm 2 or more, more preferably, a 50~10000mJ / cm 2, particularly preferably 50~2000mJ / cm 2.
紫外線照射は、ハードコート層と後述する反射防止層を構成する複数の層(中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層)それぞれに対して1層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。或いはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。 The ultraviolet irradiation may be performed every time one layer is provided for each of a plurality of layers (medium refractive index layer, high refractive index layer, low refractive index layer) constituting the hard coat layer and the antireflection layer described later. The film may be irradiated after lamination. Or you may irradiate combining these. From the viewpoint of productivity, it is preferable to irradiate ultraviolet rays after laminating multiple layers.
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。 Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.
本発明に使用する上記活性エネルギー線反応性化合物を光重合又は光架橋反応を開始させるには、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。 In order to initiate the photopolymerization or photocrosslinking reaction of the active energy ray-reactive compound used in the present invention, the active energy ray-reactive compound alone is initiated, but the polymerization induction period is long or the polymerization start is slow. Therefore, it is preferable to use a photosensitizer or a photoinitiator, which can accelerate the polymerization.
本発明に用いられるハードコート層が活性エネルギー線硬化樹脂を含有する場合、活性エネルギー線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。 When the hard coat layer used in the present invention contains an active energy ray-curable resin, a photoreaction initiator and a photosensitizer can be used during irradiation with active energy rays.
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び/又は光増感剤の使用量は、組成物の1〜10質量%が好ましく、特に好ましくは2.5〜6質量%である。 Specific examples include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. Moreover, when using a photoreactant for the synthesis | combination of an epoxy acrylate-type resin, sensitizers, such as n-butylamine, a triethylamine, tri-n-butylphosphine, can be used. The amount of the photoreaction initiator and / or photosensitizer contained in the ultraviolet curable resin composition excluding the solvent component that volatilizes after coating and drying is preferably 1 to 10% by mass, particularly preferably 2%. .5 to 6% by mass.
また、活性エネルギー線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。 Moreover, when using ultraviolet curable resin as active energy ray curable resin, you may include the ultraviolet absorber mentioned later in the ultraviolet curable resin composition to such an extent that the photocuring of the said ultraviolet curable resin is not prevented.
ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。 In order to increase the heat resistance of the hard coat layer, an antioxidant that does not inhibit the photocuring reaction can be selected and used. Examples include hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives, and the like. Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-tert-3-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4- Examples thereof include hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphate.
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーKR、BYシリーズのKR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(以上、(株)ADEKA製)、コーエイハードのA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化学工業(株)製)、セイカビームのPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大日精化工業(株)製)、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上、ダイセル・ユーシービー(株))、RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上、DIC(株)製)、オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製)、サンラッド H−601(三洋化成工業(株)製)、SP−1509、SP−1507(以上、昭和高分子(株)製)、RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成(株)製)、又はその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。 Examples of the ultraviolet curable resin include ADEKA OPTMER KR, BY series KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (above, manufactured by ADEKA Corporation), Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS-101, FT -102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), Seika Beam PHC2210 (S), PHCX-9 (K-3), PHC2213, DP- 10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 )), KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UC Corporation), RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102 RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by DIC Corporation), Aulex No. 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.), Sun Rad H-601 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), SP-1509, SP-1507 (above, Showa Polymer Co., Ltd.), RCC-15C (Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), or other commercially available products can be used as appropriate.
活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は10〜95質量%であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。 The coating composition containing the active energy ray-curable resin preferably has a solid content concentration of 10 to 95% by mass, and an appropriate concentration is selected depending on the coating method.
本発明に用いられるハードコート層、及び反射防止層は界面活性剤を含有することも好ましく、界面活性剤としては、シリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。 The hard coat layer and antireflection layer used in the present invention also preferably contain a surfactant, and the surfactant is preferably a silicone-based or fluorine-based surfactant.
シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。 As the silicone-based surfactant, a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene is preferable.
非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類のヒドロキシル基(水酸基)、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性ヒドロキシル基(水酸基)の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。 A nonionic surfactant is a generic term for a system surfactant that does not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydroxyl group (hydroxyl group) of a polyhydric alcohol is used as a hydrophilic group. It has an oxyalkylene chain (polyoxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity increases as the number of alcoholic hydroxyl groups (hydroxyl groups) increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. The nonionic surfactant according to the present invention is characterized by having dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group.
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。 When a nonionic surfactant composed of a dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is used, unevenness of the antiglare hard coat layer and the low refractive index layer and antifouling property of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled. This effect cannot be obtained by using other surfactants.
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191等が挙げられる。 Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191 and the like.
また、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。 Moreover, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, etc. are mentioned.
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を一つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。 In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. It is preferably a linear block copolymer. Since the main chain skeleton has a long chain length and a linear structure, it is excellent. This is considered to be due to the fact that one activator molecule can be adsorbed on the surface of the silica fine particle so as to cover the surface of the silica fine particle at a plurality of locations by being a block copolymer in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are alternately repeated.
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。 Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.
フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、N−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−(フルオロアルキルオキシ)−1−アルキルスルホン酸ナトリウム、3−(ω−フルオロアルカノイル−N−エチルアミノ)−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、N−(3−パーフルオロオクタンスルホンアミド)プロピル−N,N−ジメチル−N−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、N−プロピル−N−(2−ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−N−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス(N−パーフルオロオクチルスルホニル−N−エチルアミノエチル)等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。 As the fluorine-based surfactant, a surfactant having a hydrophobic group having a perfluorocarbon chain can be used. As types, fluoroalkylcarboxylic acid, N-perfluorooctanesulfonyl glutamate disodium, sodium 3- (fluoroalkyloxy) -1-alkylsulfonate, 3- (ω-fluoroalkanoyl-N-ethylamino) -1- Sodium propanesulfonate, N- (3-perfluorooctanesulfonamido) propyl-N, N-dimethyl-N-carboxymethyleneammonium betaine, perfluoroalkylcarboxylic acid, perfluorooctanesulfonic acid diethanolamide, perfluoroalkylsulfonic acid Salt, N-propyl-N- (2-hydroxyethyl) perfluorooctanesulfonamide, perfluoroalkylsulfonamidopropyltrimethylammonium salt, perfluoroalkyl-N-ethyl Ruhonirugurishin salts, phosphoric acid bis (N- perfluorooctylsulfonyl -N- ethylamino ethyl) and the like. In the present invention, nonionic surfactants are preferred.
これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。 These fluorosurfactants are commercially available under the trade names such as Megafac, F-Top, Surflon, Footagen, Unidyne, Florard, Zonyl and the like.
好ましい添加量はハードコート層、及び反射防止層の塗布液に含まれる固形分当たり0.01〜3.0%であり、より好ましくは0.02〜1.0%である。 A preferable addition amount is 0.01 to 3.0%, more preferably 0.02 to 1.0% per solid content contained in the coating liquid of the hard coat layer and the antireflection layer.
他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。 Other surfactants can be used in combination. For example, anionic surfactants such as sulfonates, sulfates, phosphates, etc., and ethers having polyoxyethylene chain hydrophilic groups Type, ether ester type nonionic surfactants and the like may be used in combination.
本発明に係るハードコート層を塗設する際の溶媒としては、ハードコート層塗設のために従来使用されている種々の溶媒を用いることができる。本発明において、特に好ましい溶媒は、エタノール又はメタノールである。 As the solvent for coating the hard coat layer according to the present invention, various solvents conventionally used for coating the hard coat layer can be used. In the present invention, a particularly preferred solvent is ethanol or methanol.
溶媒量は10質量%未満であることが好ましい。更に好ましくは、5〜8質量%の範囲であるが、あるいは上記溶媒を全く使用しない、無溶媒であることも好ましい。 The amount of solvent is preferably less than 10% by mass. More preferably, it is in the range of 5 to 8% by mass, or it is also preferred that no solvent is used and no solvent is used.
アクリル基が5個以上のモノマーをハードコート層として用いると、斜め延伸したλ/4板(位相差フィルム)の面上のスジをさらに強調させてしまう。また、アセトンやPGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)、酢酸エチルなどの非極性溶媒を用いると、斜め延伸したλ/4板(位相差フィルム)に残る、斜め方向の残留応力を強めて、フィルム面上にスジを誘発させる。又はドコート層を設けたフィルムに湿熱耐久試験を行ったときに、アクリル基5個以上のモノマー、あるいは上記の様な非極性溶媒を用いると、面内位相差Roの変動値(最大値−最小値)の値が幅手で10nmよりも大きい値になる。このことは、作製したフィルムを表示装置に具備したときに、表示品質を著しく劣化させることになる。 When a monomer having 5 or more acrylic groups is used as the hard coat layer, streaks on the surface of the obliquely stretched λ / 4 plate (retardation film) are further emphasized. In addition, using a nonpolar solvent such as acetone, PGME (propylene glycol monomethyl ether), or ethyl acetate increases the residual stress in the oblique direction that remains on the obliquely stretched λ / 4 plate (retardation film) and To induce streaks. Alternatively, when a wet heat durability test is performed on a film provided with a coat layer, if a monomer having 5 or more acrylic groups or a nonpolar solvent as described above is used, the fluctuation value of the in-plane retardation Ro (maximum value−minimum) Value) is wide and larger than 10 nm. This significantly deteriorates the display quality when the produced film is provided in a display device.
ハードコート層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター、スプレーコート、インクジェット法等公知の方法を用いることができる。塗布量はウエット膜厚で5〜30μmが適当で、好ましくは10〜20μmである。塗布速度は10〜200m/分が好ましい。 As a coating method of the hard coat layer composition coating solution, a known method such as a gravure coater, a spinner coater, a wire bar coater, a roll coater, a reverse coater, an extrusion coater, an air doctor coater, a spray coat, an ink jet method can be used. . The coating amount is suitably 5 to 30 μm, preferably 10 to 20 μm in terms of wet film thickness. The coating speed is preferably 10 to 200 m / min.
ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性エネルギー線の照射時間は0.5秒〜5分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、3秒〜2分である。 The hard coat layer composition is preferably applied and dried, and then irradiated with an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam and cured, but the irradiation time of the active energy ray is preferably 0.5 seconds to 5 minutes. More preferably, it is 3 seconds to 2 minutes in view of the curing efficiency, work efficiency, etc. of the ultraviolet curable resin.
<反射防止層>
本発明に用いられる反射防止層は、低屈折率層のみの単層構成でもよいが、多層の屈折率層を設けることも好ましい。λ/4板(位相差フィルム)上にハードコート層を有し、その表面上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層できる。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成したり、特に好ましくは、三層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる三層を、中屈折率層(支持体又は防眩性ハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。
<Antireflection layer>
The antireflection layer used in the present invention may have a single-layer structure composed of only a low refractive index layer, but it is also preferable to provide a multilayer refractive index layer. Have a hard coat layer on a λ / 4 plate (retardation film) and laminate on the surface in consideration of the refractive index, film thickness, number of layers, layer order, etc. so that the reflectivity decreases due to optical interference it can. The antireflection layer is composed of a combination of a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the support and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the support, and particularly preferably from three or more refractive index layers. An anti-reflection layer comprising three layers having different refractive indexes from the support side, a medium refractive index layer (having a higher refractive index than the support or the antiglare hard coat layer, and having a higher refractive index than the high refractive index layer). It is preferable that the layers are laminated in the order of (low layer) / high refractive index layer / low refractive index layer.
又は、二層以上の高屈折率層と二層以上の低屈折率層とを交互に積層した四層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。 Alternatively, an antireflection layer having a layer structure of four or more layers in which two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are alternately laminated is also preferably used.
本発明に用いられる反射防止層の好ましい層構成の例を下記に示す。ここで/は積層配置されていることを示している。 Examples of preferred layer structures of the antireflection layer used in the present invention are shown below. Here, / indicates that the layers are arranged in layers.
(λ/4板)/クリアハードコート層/低屈折率層
(λ/4板)/クリアハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
(λ/4板)/クリアハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
(λ/4板)/防眩性ハードコート層/低屈折率層
(λ/4板)/防眩性ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
(λ/4板)/防眩性ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、更に防汚層を設けることもできる。防汚層としては、含フッ素有機化合物が好ましく用いられる。
(Λ / 4 plate) / Clear hard coat layer / Low refractive index layer (λ / 4 plate) / Clear hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer (λ / 4 plate) / Clear hard coat layer / Medium Refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer (λ / 4 plate) / Anti-glare hard coat layer / Low refractive index layer (λ / 4 plate) / Anti-glare hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer (λ / 4 plate) / Anti-glare hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Low refractive index on the outermost surface so that dirt and fingerprints can be easily wiped off An antifouling layer can also be provided on the layer. As the antifouling layer, fluorine-containing organic compounds are preferably used.
光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、上記層構成では、適宜中間層を設けてもよく、例えば導電性ポリマー微粒子(例えば架橋カチオン微粒子)又は金属酸化物微粒子(例えば、SnO2、ITO等)を含む帯電防止層等は好ましい。 As long as the reflectance can be reduced by optical interference, it is not limited to these layer configurations. In the above layer structure, an intermediate layer may be provided as appropriate. For example, an antistatic layer containing conductive polymer fine particles (for example, crosslinked cation fine particles) or metal oxide fine particles (for example, SnO 2 , ITO) is preferable.
〈低屈折率層〉
本発明に用いられる低屈折率層では以下の中空球状シリカ系微粒子が好適に用いられる。
<Low refractive index layer>
In the low refractive index layer used in the present invention, the following hollow spherical silica-based fine particles are preferably used.
(中空球状シリカ系微粒子)
中空球状微粒子は、(I)多孔質粒子と当該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又は(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子である。なお、低屈折率層には(I)複合粒子又は(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
(Hollow spherical silica-based fine particles)
The hollow spherical fine particles are: (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having a cavity inside, and the content is a solvent, gas or porous Cavity particles filled with a substance. Note that the low refractive index layer only needs to contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or both.
なお、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体又は多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空球状微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空球状微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空球状微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。 The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle diameter of such hollow spherical fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The hollow spherical fine particles used are appropriately selected according to the thickness of the transparent film to be formed, and are in the range of 2/3 to 1/10 of the film thickness of the transparent film such as the low refractive index layer to be formed. Is desirable. These hollow spherical fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.
複合粒子の被覆層の厚さ又は空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。 The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use a silicate monomer or oligomer having a low polymerization degree, which is a coating liquid component described later. The inside of the composite particles may enter and the internal porosity may decrease, and the low refractive index effect may not be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. .
複合粒子の被覆層又は空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等との一種又は二種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. Moreover, components other than silica may be contained, and specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3. , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 and WO 3. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, a pore volume is small and particles having a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a material having a lower refractive index. is there.
このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。 The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.
なお、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。 In addition, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Examples of the porous substance include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.
このような中空球状微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から中空球状微粒子は製造される。 As a method for producing such hollow spherical fine particles, for example, the method for preparing complex oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, hollow spherical fine particles are produced from the following first to third steps.
第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、又は、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.
シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウム又は有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。なお、アンモニウムのケイ酸塩又は有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。 As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound, or the like to a silicate solution.
また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、W等から選ばれる元素のオキソ酸、当該オキソ酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。 In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium And salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.
これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO2、Al2O3、TiO2又はZrO2等の無機酸化物又はこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。更に前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整した後、当該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. Can do. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When using the seed particle dispersion, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or more, and then the aqueous solution of the compound is added to the alkaline aqueous solution with stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. When seed particles are used in this way, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.
上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、又は、シード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。 The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.
第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOX)に換算し、MOX/SiO2のモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MOX/SiO2のモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of silica and an inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to an oxide (MO X ), and the molar ratio of MO X / SiO 2 is 0.05 to 2.0, Preferably it is in the range of 0.2-2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing the hollow particles, the molar ratio of MO X / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.
第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、又は、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.
なお、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。 The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded through oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.
また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液又は加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。なおシリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。 In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, fluorine-substituted, obtained by dealkalizing an alkali metal salt of silica into the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. It is preferable to add a silicic acid solution containing an alkyl group-containing silane compound or a hydrolyzable organosilicon compound to form a silica protective film. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.
このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することができる。なお、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。 By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. Can do. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.
また、空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、当該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、当該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。 Further, when preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor comprising a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid, and the hollow particles When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.
上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR′)4−n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2又は3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica protective film formed of the general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, such as acrylic group An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as fluorine-substituted tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリ又は酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。 As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.
多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、又は有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。なお、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。 When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or the ratio of water to the organic solvent is high, it is possible to form a silica protective film using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.
第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物又はケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物又はケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third step: Formation of silica coating layer In the third step, the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor dispersion) contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound. By adding a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution, the surface of the particles is coated with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.
シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RnSi(OR′)4−n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2又は3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica coating layer formed, the above-mentioned such general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group such as an acryl group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリ又は酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。 As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilanes, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.
多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、又は有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。 When the dispersion medium of the porous particles (cavity particle precursor in the case of hollow particles) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.
ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。なお、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物又はケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物又はケイ酸液は添加される。 The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. In addition, you may use a silicic acid liquid for the coating layer formation in combination with the said alkoxysilane. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the silica coating layer finally obtained has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor) in a dispersion. When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.
次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体又は多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。 Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of the hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.
このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。 The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.
このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、1.42未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。本発明に用いられる低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.50であることが好ましく、1.35〜1.44であることが更に好ましい。 The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.42. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow. The refractive index of the low refractive index layer used in the present invention is preferably 1.30 to 1.50, and more preferably 1.35 to 1.44.
本発明では市販の上記SiO2微粒子を用いることができる。市販の粒子の具体例としては、触媒化成工業社製P−4等が挙げられる。 In the present invention, the commercially available SiO 2 fine particles can be used. Specific examples of commercially available particles include P-4 manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd.
外殻層を有し、内部が多孔質又は空洞である中空球状シリカ系微粒子Aの低屈折率層塗布液中の含量(質量)は、10〜80質量%が好ましく、更に好ましくは20〜60質量%である。 The content (mass) of the hollow spherical silica-based fine particles A having an outer shell layer and having a porous or hollow interior in the low refractive index layer coating solution is preferably 10 to 80% by mass, and more preferably 20 to 60% by mass. % By mass.
(テトラアルコキシシラン化合物又はその加水分解物)
本発明に用いられる低屈折率層には、ゾルゲル素材としてテトラアルコキシシラン化合物又はその加水分解物が含有されることが好ましい。
(Tetraalkoxysilane compound or hydrolyzate thereof)
The low refractive index layer used in the present invention preferably contains a tetraalkoxysilane compound or a hydrolyzate thereof as a sol-gel material.
本発明に用いられる低屈折率層用の素材として、前記無機珪素酸化物以外に有機基を有する珪素酸化物を用いることも好ましい。これらは一般にゾルゲル素材と呼ばれるが、金属アルコレート、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。特にテトラアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。 As a material for the low refractive index layer used in the present invention, it is also preferable to use a silicon oxide having an organic group in addition to the inorganic silicon oxide. These are generally called sol-gel materials, but metal alcoholates, organoalkoxy metal compounds and hydrolysates thereof can be used. In particular, alkoxysilane, organoalkoxysilane and its hydrolyzate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilane (phenyltrimethoxysilane, etc.), dialkyl. Examples thereof include dialkoxysilane and diaryl dialkoxysilane. Tetraalkoxysilane and its hydrolyzate are particularly preferable.
また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましい。 In addition, organoalkoxysilanes having various functional groups (vinyl trialkoxysilane, methylvinyl dialkoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrialkoxysilane, γ-glycidyloxypropylmethyl dialkoxysilane, β- (3,4-epoxy) Dicyclohexyl) ethyltrialkoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, etc.), perfluoroalkyl group-containing silane compounds ( For example, it is also preferable to use (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, etc.). In particular, the use of a fluorine-containing silane compound is preferable in terms of lowering the refractive index of the layer and imparting water and oil repellency.
上記テトラアルコキシシランを加水分解する際には、前記無機微粒子を混合することが膜強度を高める上で好ましい。 When hydrolyzing the tetraalkoxysilane, it is preferable to mix the inorganic fine particles in order to increase the film strength.
本発明に用いられる低屈折率層は前記珪素酸化物と下記シランカップリング剤を含むことが好ましい。 The low refractive index layer used in the present invention preferably contains the silicon oxide and the following silane coupling agent.
具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane. Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxy Propyltriethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, Examples include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.
また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。 Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。 Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.
シランカップリング剤の具体例としては、信越化学工業株式会社製KBM−303、KBM−403、KBM−402、KBM−403、KBM−1403、KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503、KBM−603、KBE−603、KBM−903、KBE−903、KBE−9103、KBM−802、KBM−803等が挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent include: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-303, KBM-403, KBM-402, KBM-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE- 503, KBM-603, KBE-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-802, KBM-803 and the like.
二種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。 Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.
カップリング剤による表面処理の具体的方法は、下記に示す。 A specific method of surface treatment with a coupling agent is shown below.
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の珪素酸化物粒子及び有機基を有する珪素酸化物の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えてもよい。 These silane coupling agents are preferably hydrolyzed with a necessary amount of water in advance. When the silane coupling agent is hydrolyzed, the above-described silicon oxide particles and the surface of the silicon oxide having an organic group easily react, and a stronger film is formed. Moreover, you may add the hydrolyzed silane coupling agent in a coating liquid previously.
また、低屈折率層は、5〜50質量%の量のポリマーを含むこともできる。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の10〜30質量%であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、或いは(3)微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ましい。(1)の表面処理剤に結合させるポリマーは、(2)のシェルポリマー又は(3)のバインダーポリマーであることが好ましい。(2)のポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。(3)のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時又は塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記(1)〜(3)のうちの二つ又は全てを組み合わせて実施することが好ましく、(1)と(3)の組み合わせ、又は(1)〜(3)全ての組み合わせで実施することが特に好ましい。(1)表面処理、(2)シェル及び(3)バインダーについて順次説明する。 The low refractive index layer can also contain a polymer in an amount of 5 to 50% by weight. The polymer has a function of adhering fine particles and maintaining the structure of a low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the voids. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) the polymer is bonded to the surface treatment agent of the fine particles, (2) the fine particles are used as a core, and a polymer shell is formed around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder. The polymer to be bonded to the surface treating agent (1) is preferably the shell polymer (2) or the binder polymer (3). The polymer (2) is preferably formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the coating solution for the low refractive index layer. The polymer (3) is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer, and by polymerization reaction simultaneously with or after the coating of the low refractive index layer. It is preferable to carry out by combining two or all of the above (1) to (3), and to carry out by combining (1) and (3) or (1) to (3) all combinations. Particularly preferred. (1) Surface treatment, (2) shell, and (3) binder will be described sequentially.
(1)表面処理
微粒子(特に無機微粒子)には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、又は物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。微粒子がSiO2からなる場合は、前述のシランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施できる。
(1) Surface treatment It is preferable that the fine particles (particularly inorganic fine particles) are subjected to a surface treatment to improve the affinity with the polymer. The surface treatment can be classified into physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out by chemical surface treatment alone or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. When the fine particles are made of SiO 2, the surface treatment with the above-described silane coupling agent can be carried out particularly effectively.
カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、又はこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。 The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the dispersion of fine particles and leaving the dispersion at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.
(2)シェル
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖又は側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーが更に好ましい。ポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸又はポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは35〜80質量%のフッ素原子を含むことが好ましく、45〜75質量%のフッ素原子を含むことが更に好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、フッ素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
(2) Shell The polymer forming the shell is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. A polymer containing a fluorine atom in the main chain or side chain is preferred, and a polymer containing a fluorine atom in the side chain is more preferred. Polyacrylic acid esters or polymethacrylic acid esters are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic acid or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by mass of fluorine atoms, and more preferably contains 45 to 75% by mass of fluorine atoms. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Examples thereof include esters of fluorinated vinyl ethers and fluorine-substituted alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.
シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン(例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート)、スチレン及びその誘導体(例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル(例えば、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例えば、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド及びアクリロニトリルが挙げられる。 The polymer forming the shell may be a copolymer composed of a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit not containing a fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic acid esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (for example, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether), vinyl esters (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (for example, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylic) Amides), methacrylamide and acrylonitrile.
後述する(3)のバインダーポリマーを併用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。但し、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合は、後述する(3)のバインダーポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが5〜90体積%含まれていることが好ましく、15〜80体積%含まれていることが更に好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。 When the binder polymer (3) described later is used in combination, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer to chemically bond the shell polymer and the binder polymer by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, it is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if Tg is higher than the temperature at which the low refractive index layer is formed, the fine particles are not fused, and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (resulting in a decrease in strength). In that case, it is desirable to use a binder polymer (3) described later in combination, and form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain 5 to 90% by volume of a core composed of inorganic fine particles, and more preferably 15 to 80% by volume. Two or more kinds of core-shell fine particles may be used in combination. Further, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.
(3)バインダー
バインダーポリマーは、飽和炭化水素又はポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例えば、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例えば、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミドが挙げられる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わり又はそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、架橋基は、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダーポリマーの重合反応及び架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン及び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが挙げられる。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例としては、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン及びp−クロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド類の例としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。
(3) Binder The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives For example, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylene bisacrylamide) and methacrylamide Can be mentioned. The polymer having a polyether as the main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by the reaction of a crosslinkable group. Examples of crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine groups, carboxyl groups, methylol groups, and active methylene groups. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. The cross-linking group is not limited to the above compound, and may be one that exhibits reactivity as a result of decomposition of the functional group. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the binder polymer, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator is used, and the photopolymerization initiator is more preferable. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時又は塗布後に重合反応(必要ならば更に架橋反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー(例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂)を添加してもよい。 The binder polymer is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer, and at the same time as or after the coating of the low refractive index layer, by a polymerization reaction (further crosslinking reaction if necessary). Even if a small amount of polymer (for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) is added to the coating solution for the low refractive index layer Good.
また、本発明に用いられる低屈折率層が、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう。)の架橋からなる低屈折率層であってもよい。 Further, even if the low refractive index layer used in the present invention is a low refractive index layer formed by crosslinking a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter also referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”). Good.
架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることができる。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう一つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入できることが、特開平10−25388号公報及び同10−147739号公報に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の組み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光(好ましくは紫外線、電子ビーム等)の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。 Preferred examples of the fluorine-containing resin before crosslinking include a fluorine-containing copolymer formed from a fluorine-containing vinyl monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group. Specific examples of the fluorine-containing vinyl monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3 -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Is mentioned. As monomers for imparting a crosslinkable group, glycidyl methacrylate, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyl glycidyl ether, and other vinyl monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule. , Vinyl monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl) Ether, etc.). In the latter case, it is possible to introduce a crosslinked structure by adding a compound having a group that reacts with a functional group in the polymer and one or more reactive groups after copolymerization. -147739. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene group. When the fluorine-containing copolymer is crosslinked by heating with a crosslinking group that reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, it is a thermosetting type. In the case of crosslinking by irradiation with light (preferably ultraviolet rays, electron beams, etc.) by a combination of an ethylenically unsaturated group and a photo radical generator, or an epoxy group and a photo acid generator, the ionizing radiation curable type is used.
また、上記モノマーに加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば、末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。 In addition to the above monomers, a fluorine-containing copolymer formed by using a monomer other than the fluorine-containing vinyl monomer and the monomer for imparting a crosslinkable group may be used as the fluorine-containing resin before crosslinking. The monomer that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) Etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Ronitoriru derivatives and the like. Moreover, it is also preferable to introduce a polyorganosiloxane skeleton or a perfluoropolyether skeleton into the fluorinated copolymer in order to impart slipperiness and antifouling properties. For example, polyorganosiloxane or perfluoropolyether having an acrylic group, methacrylic group, vinyl ether group, styryl group or the like at the terminal is polymerized with the above monomer, and polyorganosiloxane or perfluoro having a radical generating group at the terminal. It can be obtained by polymerization of the above monomer with a polyether, reaction of a polyorganosiloxane or perfluoropolyether having a functional group with a fluorine-containing copolymer, or the like.
架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合については、含フッ素ビニルモノマーは、好ましくは20〜70モル%、より好ましくは40〜70モル%の割合である。架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは、1〜20モル%、より好ましくは5〜20モル%の割合である。さらに、併用されるその他のモノマーが好ましくは10〜70モル%、より好ましくは10〜50モル%の割合である。 About the usage-amount of each said monomer used in order to form the fluorine-containing copolymer before bridge | crosslinking, a fluorine-containing vinyl monomer becomes like this. Preferably it is 20-70 mol%, More preferably, it is a ratio of 40-70 mol%. . The monomer for imparting a crosslinkable group is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%. Furthermore, the other monomer used together is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.
含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることができる。 The fluorine-containing copolymer can be obtained by polymerizing these monomers in the presence of a radical polymerization initiator by means such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization.
架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することができる。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ(旭硝子製)、テフロン(登録商標)AF(デュポン製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭硝子製)、オプスター(JSR製)等が挙げられる。 The fluorine-containing resin before crosslinking is commercially available and can be used. Examples of commercially available fluorine-containing resins before cross-linking include Cytop (Asahi Glass), Teflon (registered trademark) AF (DuPont), polyvinylidene fluoride, Lumiflon (Asahi Glass), Opstar (JSR), etc. Can be mentioned.
架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は、動摩擦係数が0.03〜0.15の範囲、水に対する接触角が90〜120度の範囲にあることが好ましい。 The low refractive index layer containing a cross-linked fluororesin as a constituent component preferably has a dynamic friction coefficient in the range of 0.03 to 0.15 and a contact angle with water in the range of 90 to 120 degrees.
本発明に用いられる低屈折率層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号)により、塗布により形成することができる。また、二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許2,761,791号、同2,941,898号、同3,508,947号、同3,526,528号及び原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。 The low refractive index layer used in the present invention is applied by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating or extrusion coating (US Pat. No. 2,681,294). Can be formed. Two or more layers may be applied simultaneously. For the method of simultaneous application, US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, It is described in Asakura Shoten (1973).
本発明に用いられる低屈折率層の膜厚は50〜200nmであることが好ましく、60〜150nmであることがより好ましい。 The film thickness of the low refractive index layer used in the present invention is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 60 to 150 nm.
〈高屈折率層及び中屈折率層〉
本発明においては、反射率の低減のために、ハードコート層と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることが好ましい。又はドコート層と高屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、更に好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜100nmであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
<High refractive index layer and medium refractive index layer>
In the present invention, it is preferable to provide a high refractive index layer between the hard coat layer and the low refractive index layer in order to reduce the reflectance. Alternatively, it is more preferable to provide a middle refractive index layer between the docoat layer and the high refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The thickness of the high refractive index layer and the middle refractive index layer is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 100 nm. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher, with a pencil hardness of 1 kg.
本発明に用いられる中、高屈折率層は下記一般式(9)で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率1.55〜2.5の層であることが好ましい。 The refractive index formed by applying and drying a coating solution containing a monomer, oligomer or hydrolyzate of an organotitanium compound represented by the following general formula (9) in the high refractive index layer used in the present invention. A layer having a rate of 1.55 to 2.5 is preferred.
一般式(9):Ti(OR1)4
式中、R1としては炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ti−O−Ti−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。
General formula (9): Ti (OR 1 ) 4
In the formula, R 1 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. Moreover, the monomer, oligomer, or hydrolyzate thereof of an organic titanium compound reacts like -Ti-O-Ti- when an alkoxide group is hydrolyzed to form a crosslinked structure, thereby forming a cured layer.
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ti(OCH3)4、Ti(OC2H5)4、Ti(O−n−C3H7)4、Ti(O−i−C3H7)4、Ti(O−n−C4H9)4、Ti(O−n−C3H7)4の2〜10量体、Ti(O−i−C3H7)4の2〜10量体、Ti(O−n−C4H9)4の2〜10量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、又は二種以上組み合わせて用いることができる。中でもTi(O−n−C3H7)4、Ti(O−i−C3H7)4、Ti(O−n−C4H9)4、Ti(O−n−C3H7)4の2〜10量体、Ti(O−n−C4H9)4の2〜10量体が特に好ましい。 Examples of the monomer or oligomer of the organic titanium compound used in the present invention include Ti (OCH 3 ) 4 , Ti (OC 2 H 5 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 , and Ti (Oi−). C 3 H 7 ) 4 , Ti (On-C 4 H 9 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 dimer to 10-mer, Ti (Oi-C 3 H 7 ) Preferred examples include 4 to 10 mer of 4 and 2 to 10 mer of Ti (On-C 4 H 9 ) 4 . These can be used alone or in combination of two or more. Of these Ti (O-n-C 3 H 7) 4, Ti (O-i-C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7 ) 4 2-10 mer, 2-10 mer Ti (O-n-C 4 H 9) 4 are particularly preferred.
本発明に用いられる中、高屈折率層用塗布液は、水と後述する有機溶媒が順次添加された溶液中に上記有機チタン化合物を添加することが好ましい。水を後から添加した場合は、加水分解/重合が均一に進行せず、白濁が発生したり、膜強度が低下する。水と有機溶媒は添加された後、良く混合させるために攪拌し混合溶解されていることが好ましい。 Among the coating solutions for the high refractive index layer used in the present invention, it is preferable to add the organic titanium compound to a solution in which water and an organic solvent described later are sequentially added. When water is added later, hydrolysis / polymerization does not proceed uniformly, and white turbidity occurs or film strength decreases. After the water and the organic solvent are added, it is preferable that they are stirred and mixed and dissolved in order to mix well.
また、別法として有機チタン化合物と有機溶媒を混合させておき、この混合溶液を、上記水と有機溶媒の混合攪拌された溶液中に添加することも好ましい態様である。 Further, as another method, it is also a preferred embodiment that an organic titanium compound and an organic solvent are mixed and this mixed solution is added to the mixed and stirred solution of water and the organic solvent.
また、水の量は、加水分解、重合の進行等の観点から、有機チタン化合物1モルに対して、0.25〜3モルの範囲であることが好ましい。従って、水の量は上記範囲で調整する必要がある。 Moreover, it is preferable that the quantity of water is the range of 0.25-3 mol with respect to 1 mol of organic titanium compounds from viewpoints, such as a hydrolysis and progress of superposition | polymerization. Therefore, the amount of water needs to be adjusted within the above range.
また、水の含有率は、塗布液の経時安定性の観点から、塗布液総量に対して10質量%未満であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the content rate of water is less than 10 mass% with respect to the coating liquid total amount from a viewpoint of the temporal stability of a coating liquid.
本発明に用いられる有機溶媒としては、水混和性の有機溶媒であることが好ましい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。これらの有機溶媒の使用量は、前述したように、水の含有率が塗布液総量に対して10質量%未満であるように、水と有機溶媒のトータルの使用量を調整すればよい。 The organic solvent used in the present invention is preferably a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), many Monohydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyvalent Alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether) , Ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono Phenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (eg, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine) , Triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), heterocyclic rings (For example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.), sulfones (for example, , Sulfolane and the like), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable. The amount of these organic solvents used may be adjusted as described above so that the water content is less than 10% by mass with respect to the total amount of the coating solution.
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の50〜98質量%を占めていることが望ましい。固形分比率は50〜90質量%がより好ましく、55〜90質量%が更に好ましい。この他、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー(予め有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの)或いは酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。 The organic titanium compound monomer, oligomer or hydrolyzate thereof used in the present invention preferably accounts for 50 to 98% by mass in the solid content contained in the coating solution. The solid content ratio is more preferably 50 to 90% by mass, and further preferably 55 to 90% by mass. In addition, it is also preferable to add to the coating composition a polymer of an organic titanium compound (a product obtained by crosslinking the organic titanium compound in advance by hydrolysis) or titanium oxide fine particles.
本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、微粒子として金属酸化物粒子を含み、更にバインダーポリマーを含むことが好ましい。 The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably contain metal oxide particles as fine particles, and further contain a binder polymer.
上記塗布液調製法で加水分解/重合した有機チタン化合物と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解/重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子のもつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることができる。 When the organic titanium compound hydrolyzed / polymerized by the coating liquid preparation method and the metal oxide particles are combined, the metal oxide particles and the hydrolyzed / polymerized organic titanium compound are firmly bonded, and the hardness and uniform film of the particles It is possible to obtain a strong coating film having both flexibility.
高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。金属酸化物粒子の1次粒子の重量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の重量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The metal oxide particles used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, and more preferably 1.90 to 2.80. The weight average diameter of the primary particles of the metal oxide particles is preferably 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The weight average diameter of the metal oxide particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 80 nm. Most preferred. The average particle diameter of the metal oxide particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more, and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of metal oxide particles, as measured values by the BET method is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, with 30 to 150 m 2 / g Most preferably it is.
金属酸化物粒子の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びS等が挙げられる。 Examples of the metal oxide particles include at least one selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S. Specific examples of the metal oxide include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide. Of these, titanium oxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The metal oxide particles are mainly composed of oxides of these metals and can further contain other elements. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.
金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物又は有機化合物を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、前記シランカップリング剤が最も好ましい。 The metal oxide particles are preferably surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Among these, the silane coupling agent is most preferable.
二種類以上のカップリング剤を併用してもよく、前記シランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。 Two or more types of coupling agents may be used in combination, and in addition to the silane coupling agent, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.
カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、又はこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。 The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the dispersion of fine particles and leaving the dispersion at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の有機チタン化合物及び金属酸化物粒子の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えることも好ましい。この加水分解に用いた水も有機チタン化合物の加水分解/重合に用いることができる。 These silane coupling agents are preferably hydrolyzed with a necessary amount of water in advance. When the silane coupling agent is hydrolyzed, the surfaces of the organic titanium compound and the metal oxide particles described above are easy to react and a stronger film is formed. It is also preferable to add a hydrolyzed silane coupling agent to the coating solution in advance. The water used for this hydrolysis can also be used for the hydrolysis / polymerization of the organic titanium compound.
本発明では二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。二種類以上の金属酸化物粒子を高屈折率層及び中屈折率層に併用してもよい。 In this invention, you may process by combining 2 or more types of surface treatment. The shape of the metal oxide particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape. Two or more kinds of metal oxide particles may be used in combination in the high refractive index layer and the middle refractive index layer.
高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化物粒子の割合は、5〜65体積%であることが好ましく、より好ましくは10〜60体積%であり、更に好ましくは20〜55体積%である。 The ratio of the metal oxide particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 to 65% by volume, more preferably 10 to 60% by volume, and still more preferably 20 to 55% by volume. is there.
上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。 The metal oxide particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.
また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。 The metal oxide particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、架橋構造を有するポリマー(以下、架橋ポリマーともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー(以下、「ポリオレフィン」と総称する。)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーがアニオン性基を有することは更に好ましい。アニオン性基は無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造はポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。 The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably use a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as a crosslinked polymer) as a binder polymer. Examples of crosslinked polymers include polymers having saturated hydrocarbon chains such as polyolefin (hereinafter collectively referred to as “polyolefins”), crosslinked products such as polyethers, polyureas, polyurethanes, polyesters, polyamines, polyamides, and melamine resins. . Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred. Further, it is further preferable that the crosslinked polymer has an anionic group. The anionic group has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked structure has a function of imparting a film forming ability to the polymer and strengthening the film. The anionic group may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded to the polymer chain via a linking group, but is bonded to the main chain as a side chain via the linking group. Is preferred.
アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)及びリン酸基(ホスホノ)が挙げられる。中でも、スルホン酸基及びリン酸基が好ましい。ここで、アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。アニオン性基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。好ましいバインダーポリマーである架橋ポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。この場合、コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好ましく、4〜94質量%であることが更に好ましく、6〜92質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。 Examples of the anionic group include a carboxylic acid group (carboxyl), a sulfonic acid group (sulfo), and a phosphoric acid group (phosphono). Of these, sulfonic acid groups and phosphoric acid groups are preferred. Here, the anionic group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the anionic group is preferably an alkali metal ion. Moreover, the proton of the anionic group may be dissociated. The linking group that binds the anionic group and the polymer chain is preferably a divalent group selected from —CO—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. The crosslinked polymer which is a preferable binder polymer is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked structure. In this case, the ratio of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96% by mass, more preferably 4 to 94% by mass, and most preferably 6 to 92% by mass. preferable. The repeating unit may have two or more anionic groups.
アニオン性基を有する架橋ポリマーには、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造も有しない繰り返し単位)が含まれていてもよい。その他の繰り返し単位としては、アミノ基又は4級アンモニウム基を有する繰り返し単位及びベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基又は4級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈折率を高くする機能を有する。なお、アミノ基、4級アンモニウム基及びベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位或いは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。 The crosslinked polymer having an anionic group may contain other repeating units (a repeating unit having neither an anionic group nor a crosslinked structure). Other repeating units are preferably a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group and a repeating unit having a benzene ring. The amino group or the quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic fine particles, like the anionic group. The benzene ring has a function of increasing the refractive index of the high refractive index layer. The amino group, the quaternary ammonium group, and the benzene ring can obtain the same effect even if they are contained in a repeating unit having an anionic group or a repeating unit having a crosslinked structure.
上記アミノ基又は4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を構成単位として含有する架橋ポリマーにおいて、アミノ基又は4級アンモニウム基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、或いは連結基を介し側鎖としてポリマー鎖に結合していてもよいが、後者がより好ましい。アミノ基又は4級アンモニウム基は、2級アミノ基、3級アミノ基又は4級アンモニウム基であることが好ましく、3級アミノ基又は4級アンモニウム基であることが更に好ましい。2級アミノ基、3級アミノ基又は4級アンモニウム基の窒素原子に結合している基としては、アルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜12のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。4級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基又は4級アンモニウム基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる2価の基であることが好ましい。架橋ポリマーが、アミノ基又は4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、0.06〜32質量%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることが更に好ましく、0.1〜28質量%であることが最も好ましい。 In the crosslinked polymer containing a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group as a constituent unit, the amino group or quaternary ammonium group may be directly bonded to the polymer chain, or may be a side chain via a linking group. May be bonded to the polymer chain, but the latter is more preferred. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, and more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, still more preferably a carbon number. 1 to 6 alkyl groups. The counter ion of the quaternary ammonium group is preferably a halide ion. The linking group that connects the amino group or quaternary ammonium group to the polymer chain is a divalent group selected from —CO—, —NH—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. Is preferred. When the crosslinked polymer includes a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the ratio is preferably 0.06 to 32% by mass, more preferably 0.08 to 30% by mass, Most preferably, it is 0.1-28 mass%.
架橋ポリマーは、架橋ポリマーを生成するためのモノマーを配合して高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布液を調製し、塗布液の塗布と同時又は塗布後に、重合反応によって生成させることが好ましい。架橋ポリマーの生成と共に、各層が形成される。アニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒子の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノマーは、無機微粒子に対して、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは5〜40質量%、更に好ましくは10〜30質量%使用される。また、アミノ基又は4級アンモニウム基を有するモノマーは、塗布液中で分散助剤として機能する。アミノ基又は4級アンモニウム基を有するモノマーは、アニオン性基を有するモノマーに対して、好ましくは3〜33質量%使用される。塗布液の塗布と同時又は塗布後に、重合反応によって架橋ポリマーを生成する方法により、塗布液の塗布前にこれらのモノマーを有効に機能させることができる。 The cross-linked polymer is prepared by a polymerization reaction at the same time as or after application of the coating solution by preparing a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer by blending a monomer for generating a crosslinked polymer. Is preferred. Each layer is formed with the production of the crosslinked polymer. The monomer having an anionic group functions as a dispersant for inorganic fine particles in the coating solution. The monomer having an anionic group is preferably used in an amount of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 10 to 30% by mass with respect to the inorganic fine particles. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group functions as a dispersion aid in the coating solution. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group is preferably used in an amount of 3 to 33% by mass based on the monomer having an anionic group. These monomers can be made to function effectively before application of the coating liquid by a method of forming a crosslinked polymer by polymerization reaction simultaneously with or after application of the coating liquid.
本発明に用いられるモノマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが最も好ましいが、その例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミド等が挙げられる。アニオン性基を有するモノマー、及びアミノ基又は4級アンモニウム基を有するモノマーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いられる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、KAYAMARPM−21、PM−2(日本化薬(株)製)、AntoxMS−60、MS−2N、MS−NH4(日本乳化剤(株)製)、アロニックスM−5000、M−6000、M−8000シリーズ(東亞合成(株)製)、ビスコート#2000シリーズ(大阪有機化学工業(株)製)、ニューフロンティアGX−8289(第一工業製薬(株)製)、NKエステルCB−1、A−SA(新中村化学工業(株)製)、AR−100、MR−100、MR−200(第八化学工業(株)製)等が挙げられる。また、好ましく用いられる市販のアミノ基又は4級アンモニウム基を有するモノマーとしてはDMAA(大阪有機化学工業(株)製)、DMAEA,DMAPAA(興人(株)製)、ブレンマーQA(日本油脂(株)製)、ニューフロンティアC−1615(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。 As the monomer used in the present invention, a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups is most preferable, and examples thereof include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di ( (Meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester Terpolyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (E.g., methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Commercially available monomers may be used as the monomer having an anionic group and the monomer having an amino group or a quaternary ammonium group. As a commercially available monomer having a commercially available anionic group, KAYAMAPMPM-21, PM-2 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Antox MS-60, MS-2N, MS-NH4 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) , Aronix M-5000, M-6000, M-8000 series (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Biscote # 2000 series (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), New Frontier GX-8289 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) ) Ester, NK ester CB-1, A-SA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AR-100, MR-100, MR-200 (manufactured by Eighth Chemical Industry Co., Ltd.) and the like. Examples of commercially available monomers having a commercially available amino group or quaternary ammonium group include DMAA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), DMAEA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.), and Bremer QA (Nippon Yushi Co., Ltd.). ) And New Frontier C-1615 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
ポリマーの重合反応は、光重合反応又は熱重合反応を用いることができる。特に光重合反応が好ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ましい。例えば、防眩性ハードコート層のバインダーポリマーを形成するために用いられる後述する熱重合開始剤、及び光重合開始剤が挙げられる。 For the polymerization reaction of the polymer, a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. A photopolymerization reaction is particularly preferable. A polymerization initiator is preferably used for the polymerization reaction. For example, the thermal polymerization initiator mentioned later used in order to form the binder polymer of an anti-glare hard-coat layer, and a photoinitiator are mentioned.
重合開始剤として市販の重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の0.2〜10質量%の範囲であることが好ましい。塗布液(モノマーを含む無機微粒子の分散液)を加熱して、モノマー(又はオリゴマー)の重合を促進してもよい。また、塗布後の光重合反応の後に加熱して、形成されたポリマーの熱硬化反応を追加処理してもよい。 A commercially available polymerization initiator may be used as the polymerization initiator. In addition to the polymerization initiator, a polymerization accelerator may be used. The addition amount of the polymerization initiator and the polymerization accelerator is preferably in the range of 0.2 to 10% by mass of the total amount of monomers. The coating liquid (dispersion of inorganic fine particles containing monomer) may be heated to promote polymerization of the monomer (or oligomer). Moreover, it may heat after the photopolymerization reaction after application | coating, and may additionally process the thermosetting reaction of the formed polymer.
中屈折率層及び高屈折率層には、比較的屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率が高いポリマーの例としては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状(脂環式又は芳香族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが挙げられる。その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高く用いることができる。 For the medium refractive index layer and the high refractive index layer, it is preferable to use a polymer having a relatively high refractive index. Examples of the polymer having a high refractive index include polystyrene, styrene copolymer, polycarbonate, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, and polyurethane obtained by reaction of cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanate and polyol. . Polymers having other cyclic (aromatic, heterocyclic, and alicyclic) groups and polymers having halogen atoms other than fluorine as substituents can also be used with a high refractive index.
反射防止層の各層又はその塗布液には、前述した成分(金属酸化物粒子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤)以外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与剤を添加してもよい。 In addition to the above-described components (metal oxide particles, polymer, dispersion medium, polymerization initiator, polymerization accelerator), each layer of the antireflection layer or coating liquid thereof includes a polymerization inhibitor, a leveling agent, a thickener, and an anti-coloring agent. An agent, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, an antistatic agent or an adhesion promoter may be added.
本発明に用いられる中〜高屈折率層及び低屈折率層の塗設後、金属アルコキシドを含む組成物の加水分解又は硬化を促進するため、活性エネルギー線を照射することが好ましい。より好ましくは、各層を塗設するごとに活性エネルギー線を照射することである。 In order to promote hydrolysis or hardening of the composition containing a metal alkoxide after coating of the medium to high refractive index layer and the low refractive index layer used in the present invention, it is preferable to irradiate active energy rays. More preferably, the active energy ray is irradiated every time each layer is coated.
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10,000mJ/cm2が好ましく、更に好ましくは、100〜2,000mJ/cm2であり、特に好ましくは、400〜2,000mJ/cm2である。 The active energy ray used in the present invention can be used without limitation as long as it is an energy source that activates a compound such as ultraviolet ray, electron beam, and γ ray, but ultraviolet ray and electron beam are preferable, and handling is particularly simple and high energy. Ultraviolet rays are preferred because they can be easily obtained. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is preferably 20 to 10,000 mJ / cm 2 , more preferably 100 to 2,000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 400 to 2,000 mJ / cm 2. 2 .
紫外線を用いる場合、多層の反射防止層を1層ずつ照射してもよいし、積層後照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。 When ultraviolet rays are used, the multilayer antireflection layer may be irradiated one by one, or may be irradiated after lamination. From the viewpoint of productivity, it is preferable to irradiate ultraviolet rays after laminating multiple layers.
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。 Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.
(反射防止層の膜厚)
反射防止層を構成する各屈折率層の膜厚としては、各々1〜200nmの範囲が好ましく、更に好ましくは、5〜150nmであるが、各層の屈折率に応じて、各々適切な膜厚を選択することが好ましい。
(Antireflection layer thickness)
The thickness of each refractive index layer constituting the antireflection layer is preferably in the range of 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, but each film has an appropriate thickness depending on the refractive index of each layer. It is preferable to select.
(反射防止層の反射率)
本発明に用いられる反射防止層は、450〜650nmにおける平均反射率が1%以下であることが好ましく、特に好ましくは0.5%以下である。また、この範囲における最低反射率は0.0〜0.3%にあることが特に好ましい。
(Reflectivity of antireflection layer)
The antireflection layer used in the present invention preferably has an average reflectance at 450 to 650 nm of 1% or less, particularly preferably 0.5% or less. Further, the minimum reflectance in this range is particularly preferably from 0.0 to 0.3%.
反射防止層の屈折率と膜厚は、分光反射率の測定より計算して算出することができる。また、作製した低反射フィルムの反射光学特性は、分光光度計を用い、5度正反射の条件にて反射率を測定することができる。この測定法において、反射防止層が塗布されていない側の基板面を粗面化した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率が測定される。 The refractive index and film thickness of the antireflection layer can be calculated and calculated by measuring the spectral reflectance. Moreover, the reflective optical characteristic of the produced low reflection film can measure a reflectance on the conditions of a 5-degree regular reflection using a spectrophotometer. In this measurement method, after roughening the substrate surface on which the antireflection layer is not applied, a light absorption treatment is performed using a black spray to prevent reflection of light on the back surface of the film and reflectivity. Is measured.
測定に際しては、透過率550nmにおける透過率を分光光度計を用いて空気を参照として測定を行う。 In the measurement, the transmittance at a transmittance of 550 nm is measured using a spectrophotometer with reference to air.
<偏光板>
本発明においては、長尺状λ/4板(延伸フィルム)を、長尺状の偏光子の少なくとも一方の面に積層して形成される長尺状偏光板とすることが好ましい。
<Polarizing plate>
In the present invention, it is preferable to use a long λ / 4 plate (stretched film) as a long polarizing plate formed by laminating at least one surface of a long polarizer.
本発明に係る偏光板は、偏光子としてヨウ素、又は二色性染料をドープしたポリビニルアルコールを延伸したものを使用し、本発明のλ/4板(延伸フィルム)であるλ/4板/偏光子/位相差フィルムの構成で貼合して製造することができる。 The polarizing plate according to the present invention uses a stretched polyvinyl alcohol doped with iodine or a dichroic dye as a polarizer, and is a λ / 4 plate (stretched film) of the present invention. It can bond and manufacture by the structure of a child / retardation film.
なお、立体映像表示装置である液晶表示装置に本発明に係る偏光板を使用する場合、上記λ/4板は視認側に貼合する。 In addition, when using the polarizing plate which concerns on this invention for the liquid crystal display device which is a stereoscopic video display apparatus, the said (lambda) / 4 board is bonded by the visual recognition side.
前記λ/4板(位相差フィルム)は、ポリマーフィルムであることが好ましく、製造が容易であること、光学的に均一性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリビニルアセタール系樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。 The λ / 4 plate (retardation film) is preferably a polymer film, and is preferably easy to manufacture, optically uniform, and optically transparent. Any of these may be used, for example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate. Polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin Film, polymethylpentene film, polyetherketone film, Polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, a cycloolefin polymer film, a polyvinyl acetal resin film, there may be mentioned polymethyl methacrylate film, or an acrylic film or the like, but are not limited to.
セルロースエステル系フィルムの場合は、前述の位相差フィルム(延伸フィルム)で用いられるセルロースアセテート、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、リターデーション調整剤、マット剤、劣化防止剤、剥離助剤、界面活性剤等を好ましく用いることができる。 In the case of a cellulose ester film, cellulose acetate, plasticizer, ultraviolet absorber, antioxidant, retardation adjusting agent, matting agent, deterioration inhibitor, peeling aid used in the above-mentioned retardation film (stretched film), A surfactant or the like can be preferably used.
偏光子に対して前記λ/4板を貼合した面と反対側の面に貼合される位相差フィルムは、上記式で定義されるリターデーション値Ro、Rtが各々20〜150nm、70〜400nmである位相差フィルム、又は0nm≦Ro≦2nm、かつ−15nm≦Rt≦15nmであることが好ましい。 Retardation films Ro and Rt defined by the above formula are 20 to 150 nm and 70 to 70 respectively for retardation films bonded to the surface opposite to the surface on which the λ / 4 plate is bonded to the polarizer. It is preferable that the retardation film is 400 nm, or 0 nm ≦ Ro ≦ 2 nm and −15 nm ≦ Rt ≦ 15 nm.
上記位相差フィルムとして、例えば、負の一軸性を有する化合物であるディスコティック液晶性化合物を支持体上に担持させる方法(例えば、特開平7−325221号公報参照。)、正の光学異方性を有するネマティック型高分子液晶性化合物を深さ方向に液晶分子のプレチルト角が変化するハイブリッド配向をさせたものを支持体上に担持させる方法(例えば、特開平10−186356号公報参照。)、正の光学異方性を有するネマティック型液晶性化合物を支持体上に二層構成にして各々の層の配向方向を略90°とすることにより擬似的に負の一軸性類似の光学特性を付与させる方法(例えば、特開平8−15681号公報参照。)等による光学異方性層を支持体上に設けた位相差フィルム、又は、従来のTACフィルムの代わりにセルロース誘導体フィルムを延伸により位相差を発現させ、これをケン化処理してPVA偏光子をラミネートすることにより位相差フィルムの機能を併せ持つ位相差フィルム(例えば、特開2003−270442号公報参照。)、セルロースエステルフィルムにリターデーション調整剤を添加し、位相差フィルムを得る方法(例えば、特開2000−275434号公報及び特開2003−344655号公報参照。)等による光学補償フィルムが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 As the retardation film, for example, a method of supporting a discotic liquid crystalline compound, which is a compound having negative uniaxiality, on a support (for example, see JP-A-7-325221), positive optical anisotropy. A method of supporting a nematic polymer liquid crystal compound having a hybrid orientation in which a pretilt angle of liquid crystal molecules changes in the depth direction on a support (see, for example, JP-A-10-186356), A nematic liquid crystal compound having positive optical anisotropy is formed into a two-layer structure on a support, and the orientation direction of each layer is set to approximately 90 ° to give pseudo-uniaxially similar optical characteristics. In place of a retardation film provided with an optically anisotropic layer on a support or a conventional TAC film (for example, see JP-A-8-15681) A retardation film having a retardation film function by stretching a cellulose derivative film, saponifying the cellulose derivative film, and laminating a PVA polarizer (see, for example, JP-A-2003-270442). In addition, an optical compensation film by a method of adding a retardation adjusting agent to a cellulose ester film to obtain a retardation film (see, for example, JP 2000-275434 A and JP 2003-344655 A) can be mentioned. It is not limited to these.
例えば、市販のセルロースエステルフィルムとして、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC16UR、KC4UE、KC8UE、KC4FR−1、KC4FR−2(以上コニカミノルタオプト(株)製)なども好ましく用いられる。 For example, as a commercially available cellulose ester film, Konica Minoltak KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC4UY, KC12UR, KC16UR, KC4UE, KC4UE, KC4FR, KC4FR-1 And the like) are also preferably used.
偏光子の膜厚は、5〜40μm、好ましくは5〜30μmであり、特に好ましくは5〜20μmである。 The film thickness of the polarizer is 5 to 40 μm, preferably 5 to 30 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm.
偏光板は、一般的な方法で作製することができる。アルカリ鹸化処理した本発明に係る延伸フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には、前記位相差フィルムを貼合することが好ましい。 The polarizing plate can be produced by a general method. The stretched film according to the present invention subjected to alkali saponification treatment is preferably bonded to at least one surface of a polarizer produced by immersing and stretching a polyvinyl alcohol film in an iodine solution by using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. . It is preferable to paste the retardation film on the other surface.
偏光板は、更に当該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。 The polarizing plate can be constructed by further bonding a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the other surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection.
<液晶表示装置>
本発明においては、長尺状位相差フィルム(延伸フィルム)を断栽して形成された枚葉状フィルム、前記長尺状偏光板を断栽して形成された枚葉状偏光板が具備されている態様の液晶表示装置とすることができる。例えば、本発明に係る偏光板を液晶セルの視認側の面に貼合した液晶表示装置とすることによって、本発明に係る液晶表示装置を作製することができる。
<Liquid crystal display device>
In the present invention, a sheet-like film formed by cutting a long retardation film (stretched film), and a sheet-like polarizing plate formed by cutting the long polarizing plate are provided. It can be set as the liquid crystal display device of an aspect. For example, the liquid crystal display device according to the present invention can be manufactured by using the liquid crystal display device in which the polarizing plate according to the present invention is bonded to the surface on the viewing side of the liquid crystal cell.
本発明に係る偏光板は反射型、透過型、半透過型LCD或いは、スーパーツイステッドネマティック(STN)モード、ツイステッドネマティック(TN)モード、インプレーンスイッチング(IPS)モード、垂直配向(VA)モード、ベンドネマチック(OCB:Optically Aligned Birefringence)モード及びハイブリッド配向(HAN:Hybrid Aligned Nematic)モードの液晶表示装置に好ましく用いられる。 The polarizing plate according to the present invention is a reflective, transmissive, transflective LCD, super twisted nematic (STN) mode, twisted nematic (TN) mode, in-plane switching (IPS) mode, vertical alignment (VA) mode, bend. It is preferably used for a liquid crystal display device in a nematic (OCB: Optically Aligned Birefringence) mode and a hybrid alignment (HAN: Hybrid Aligned Nematic) mode.
本発明においては、特に、当該液晶表示装置は、立体画像表示装置であることが好ましい。すなわち、本発明に係る位相差フィルム(延伸フィルム)であるλ/4板は、立体画像表示装置において、種々の態様において用いることができる。例えば、液晶表示装置と液晶シャッタメガネとからなる立体画像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、(1)λ/4板、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている(図5)、又は(2)λ/4板、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている(図6)液晶シャッタメガネであることを特徴とする態様の立体画像表示装置において用いることができる。 In the present invention, in particular, the liquid crystal display device is preferably a stereoscopic image display device. That is, the λ / 4 plate which is the retardation film (stretched film) according to the present invention can be used in various modes in a stereoscopic image display device. For example, a stereoscopic image display device comprising a liquid crystal display device and liquid crystal shutter glasses, wherein the liquid crystal shutter glasses are provided with (1) a λ / 4 plate, a liquid crystal cell, and a polarizer in this order (FIG. 5). ), Or (2) a λ / 4 plate, a polarizer, a liquid crystal cell, and a polarizer are provided in this order (FIG. 6). Can do.
なお、いずれの態様の場合も、液晶表示装置の前側偏光板は、λ/4板、偏光子、及び位相差フィルム、セル、及び偏光子がこの順に設けられている構成になっている。 In any case, the front polarizing plate of the liquid crystal display device has a configuration in which a λ / 4 plate, a polarizer, a retardation film, a cell, and a polarizer are provided in this order.
本発明においては、上記の態様・構成により、立体(3D)画像観賞時に首を傾けた際のクロストーク若しくは輝度低下及び色味変化を低減でき、使用環境に対して優れた視認性を保つことが可能で、使用環境に対してより耐久性が高い立体画像表示装置とすることができる。 In the present invention, with the above-described aspect and configuration, crosstalk or luminance reduction and color change when tilting the head when viewing a stereoscopic (3D) image can be reduced, and excellent visibility with respect to the use environment can be maintained. Therefore, a stereoscopic image display device with higher durability against the use environment can be obtained.
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
<実施例>
<フィルム1の作製>
<原反(ロール状の長尺フィルム)の作製>
(ポリエステル化合物Bの作製)
窒素雰囲気下、テレフタル酸ジメチル4.85g、1,2−プロピレングリコール4.4g、p−トルイル酸6.8g、テトライソプロピルチタネート10mgを混合し、140℃で2時間攪拌を行った後、更に210℃で16時間攪拌を行った。次に、170℃まで降温し、未反応物の1,2−プロピレングリコールを減圧留去することにより、比較ポリエステル化合物Bを得た。
<Example>
<Preparation of
<Preparation of raw fabric (roll-shaped long film)>
(Preparation of polyester compound B)
In a nitrogen atmosphere, 4.85 g of dimethyl terephthalate, 4.4 g of 1,2-propylene glycol, 6.8 g of p-toluic acid, and 10 mg of tetraisopropyl titanate were mixed and stirred at 140 ° C. for 2 hours. Stirring was carried out at ° C for 16 hours. Next, the temperature was lowered to 170 ° C., and unreacted 1,2-propylene glycol was distilled off under reduced pressure to obtain comparative polyester compound B.
酸価 :0.1
数平均分子量:490
分散度 :1.4
分子量300〜1800の成分含有率:90%
ヒドロキシル(水酸基)価:0.1
ヒドロキシル基(水酸基)含有量:0.04%
なお、ポリエステル化合物Bは、ジカルボン酸に対してモノカルボン酸が2倍モル使用されているので末端がトルイル酸エステルになっている。
Acid value: 0.1
Number average molecular weight: 490
Dispersity: 1.4
Component content of molecular weight 300-1800: 90%
Hydroxyl (hydroxyl) value: 0.1
Hydroxyl group (hydroxyl group) content: 0.04%
In addition, since the polyester compound B uses the
〈微粒子分散液1〉
微粒子(アエロジル R812 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
<
Fine particles (Aerosil R812 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 11 parts by weight Ethanol 89 parts by weight The above was stirred and mixed with a dissolver for 50 minutes, and then dispersed with Manton Gorin.
〈微粒子添加液1〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。
<Fine
The
メチレンクロライド 50質量部
微粒子分散液1 50質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステル、カルボン酸糖エステル化合物、ポリエステル、TINUVIN928、微粒子添加液1を攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
Methylene chloride 50 parts by mass
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート:アセチル基置換度1.5、プロピオニル基0.9、総置換度2.4;重量平均分子量19万) 100質量部
カルボン酸糖エステル化合物A(表3参照) 10.0質量部
ポリエステル化合物B(表3参照) 2.5質量部
TINUVIN928(BASFジャパン社製) 1.5質量部
微粒子添加液1 3.5質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度33℃、2000mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30℃に制御した。
<Composition of main dope solution>
Methylene chloride 340 parts by weight Ethanol 64 parts by weight Cellulose ester (cellulose acetate propionate: acetyl group substitution degree 1.5, propionyl group 0.9, total substitution degree 2.4; weight average molecular weight 190,000) 100 parts by weight carboxylic acid Sugar ester compound A (see Table 3) 10.0 parts by weight Polyester compound B (see Table 3) 2.5 parts by weight TINUVIN 928 (manufactured by BASF Japan) 1.5 parts by weight Fine
ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)したフィルム中の残留溶媒量が75%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力110N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。 On the stainless steel belt support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount in the cast (cast) film became 75%, and then peeled off from the stainless steel belt support with a peeling tension of 110 N / m.
剥離したセルロースエステルフィルムを、160℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に1%延伸した。延伸開始時の残留溶媒は15%であった。 The peeled cellulose ester film was stretched 1% in the width direction using a tenter while applying heat at 160 ° C. The residual solvent at the start of stretching was 15%.
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は130℃で、搬送張力は100N/mとした。 Next, drying was terminated while the drying zone was conveyed by a number of rolls. The drying temperature was 130 ° C. and the transport tension was 100 N / m.
以上のようにして、乾燥膜厚102μmのロール状の長尺フィルム1を得た。
As described above, a roll-shaped
<実施例1>
ロール状の長尺状原反フィルム1を、図3(a−2)の装置のスライド可能な繰出装置にセットし、斜め延伸機に供給した。そのとき、斜め延伸装置の入口部に最も近いガイドロールの主軸と斜め延伸装置の把持具(クリップつかみ部)との距離を80cmとした。クリップは搬送方向の長さが2インチのものを、上記ガイドロールは直径10cmのものを使用した。テンターで延伸温度190℃、延伸倍率1.8倍で巾手方向に延伸を行い、その後、レールが45°屈曲する際に延伸と垂直方向に0.71倍に収縮した。延伸後のフィルムは、斜め延伸テンター出口側第一ロールで測定した張力の変動を引取モーター回転数に反映させるフィードバック制御を行って、引取張力の変動が3%未満となるように制御した。その後、フィルム両端をトリミングして、エアーフローロールからなる搬送方向変更装置で搬送方向を変更し、スライド可能な巻取装置で巻き取り、2000mm幅のロール状の長尺状延伸位相差フィルム1を得た。
<Example 1>
The roll-shaped long
また、フィルムの幅方向に渡って温度制御をするための加熱装置を使用して延伸を行った。加熱装置は延伸後のフィルム幅方向のフィルムの厚さが、延伸前の幅方向フィルム厚さ分布と同程度になるように温度制御を行った。 Moreover, it extended | stretched using the heating apparatus for temperature control over the width direction of a film. The heating device controlled the temperature so that the thickness of the film in the film width direction after stretching was approximately the same as the thickness direction film thickness distribution before stretching.
得られた長尺状の位相差フィルム(λ/4板)1は、フィルム長手方向に対し均一なものであった。得られた位相差フィルム(λ/4板)1の特性(外観、巾収率、位相差、配向角、波長分散、ヘイズ、紫外線透過率、偏光子退色劣化、きしみ値、耐油性、熱収縮)を表1及び表2に示す。 The obtained long retardation film (λ / 4 plate) 1 was uniform in the longitudinal direction of the film. Properties of the obtained retardation film (λ / 4 plate) 1 (appearance, width yield, retardation, orientation angle, wavelength dispersion, haze, ultraviolet transmittance, deterioration of polarizer fading, squeak value, oil resistance, heat shrinkage Are shown in Tables 1 and 2.
得られた位相差フィルム(λ/4板)1の面上に、下記ハードコート層を設け、熱ジワ、密着、鉛筆硬度の評価を行った。表1及び表2に示す。この結果も表1及び表2に示す。 On the surface of the obtained retardation film (λ / 4 plate) 1, the following hard coat layer was provided, and thermal wrinkles, adhesion, and pencil hardness were evaluated. It shows in Table 1 and Table 2. The results are also shown in Tables 1 and 2.
〈ハードコート層の塗布〉
下記ハードコート層塗布液1をダイコートし、80℃で乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して硬化後の膜厚が6μmになるようにクリアハードコート層を設けた。
<Application of hard coat layer>
The following hard coat
(ハードコート層用塗布液1)
エタノール 100質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 100質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、BASFジャパン社製) 5質量部
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノフォリノ−1−オン
(イルガキュア907、BASFジャパン社製) 3質量部
BYK−331(シリコーン界面活性剤、ビックケミー・ジャパン(株)製)
5質量部
フィルム1の原反膜厚、添加剤の量と種類、延伸温度と倍率を表1及び表2のように変化させて、実施例フィルム2〜11を作製した。添加剤種類は表3に示す。
(
Ethanol 100 parts by mass Pentaerythritol triacrylate 100 parts by mass 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan Ltd.) 5 parts by mass 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-monoforino -1-one (Irgacure 907, manufactured by BASF Japan) 3 parts by weight BYK-331 (silicone surfactant, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.)
5 parts by
更に以下の方法で、比較例フィルム12〜15を作製した。
Further,
<フィルム12の作製>
特開2009−214441号公報の実施例1の方法でフィルム12を作製した。
<Preparation of
The
<フィルム13の作製>
特開2010−173261号公報の実施例を参考にしてフィルム13を作製した。延伸温度は145℃とした。
<Preparation of
A
<フィルム14の作製>
特許03734211号公報の実施例1の方法でフィルム14を作製した。
<Preparation of film 14>
The film 14 was produced by the method of Example 1 of Japanese Patent No. 03734211.
<フィルム15の作製>
特開2009−48204号公報の実施例1を参考にしてフィルム15を作製した。ただし、流延後、延伸せずに乾燥。その後、図3(a−2)の斜め延伸機でフィルム3と同条件で延伸した。
<Preparation of film 15>
A film 15 was produced with reference to Example 1 of JP2009-48204A. However, after casting, it is dried without stretching. Then, it extended | stretched on the same conditions as the film 3 with the diagonal extending | stretching machine of Fig.3 (a-2).
〈評価〉
(1)外観(ツレ、シワ)
広幅フィルム1m以上を黒い下地の上に置き、目視ツレやシワを確認し、下記基準に基づき評価した。
○:全くツレやシワが見られない
×:ツレかシワが見られる
(2)巾収率
延伸後のフィルムの搬送ラインにおいて、赤外線式膜厚計(クラボウ社製、RX−100)を用いて、幅方向5mmピッチのトラバース測定を行い、各々の位置については巾手方向に50mm間隔のそれぞれの位置で流れ方向に5m間隔で100点のデータを得た。
<Evaluation>
(1) Appearance (twill, wrinkles)
A wide film of 1 m or more was placed on a black base, visually confirmed and wrinkled, and evaluated based on the following criteria.
○: No creases or wrinkles are observed at all ×: creases or wrinkles are observed (2) Width yield In the film transport line after stretching, using an infrared film thickness meter (manufactured by Kurabo Industries, RX-100) The traverse measurement was performed at a pitch of 5 mm in the width direction, and for each position, 100 points of data were obtained at intervals of 50 mm in the width direction and at intervals of 5 m in the flow direction.
得られたデータについて各巾手位置の流れ方向100点の平均値、標準偏差σを算出した。標準偏差σが0.3μm以下の巾手を有効範囲とし、巾収率を以下に定義した。 With respect to the obtained data, an average value and a standard deviation σ of 100 points in the flow direction at each width position were calculated. A width having a standard deviation σ of 0.3 μm or less was defined as an effective range, and the width yield was defined as follows.
巾収率=巾手有効長さ÷延伸後の巾×100(%)
(3)配向角θ、面内方向リターデーションRo、波長分散
位相差測定装置(王子計測社製、KOBRA−WXK)を用いて、遅相軸の配向角θ、及び550nmにおけるRoを求めた。また、480〜630nmに於けるRoを測定し、波長分散を以下に定義した。
Width yield = hand length effective ÷ width after stretching x 100 (%)
(3) Orientation angle θ, in-plane retardation Ro, wavelength dispersion Using a phase difference measuring device (manufactured by Oji Scientific Co., Ltd., KOBRA-WXK), the orientation angle θ of the slow axis and Ro at 550 nm were determined. Further, Ro was measured at 480 to 630 nm, and chromatic dispersion was defined as follows.
波長分散=480nmにおけるRo(Ro(480))÷630nmにおけるRo(Ro(630))
(4)ヘイズ
(全ヘイズ)
ヘイズ計(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて測定した。
(内部ヘイズ)
フィルムの表面にグリセリン数滴を滴下し、厚さ1.3mmのガラス板(MICRO SLIDE GLASS品番S9213、MATSUNAMI製)二枚で両側から挟んだ状態で測定したヘイズ値から、ガラスに枚の間にグリセリンを数滴滴下した状態で測定したヘイズを引いた値。
(5)紫外線透過率
Spectrophotometer U−3200(日立製作所製)でフィルムの分光吸収スペクトルを測定し、380nmにおける透過率を求めた。
(6)偏光子退色劣化
(偏光板の作製)
厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを、沃素1kg、ホウ酸4kgを含む水溶液100kgに浸漬し50℃で6倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜を偏光子として、この両面に、以下のアルカリケン化処理を行った試料フィルムを、偏光子を挟持するように完全ケン化型ポリビニルアルコール5%水溶液を粘着剤として偏光子とそれぞれ貼り合わせ偏光板を作製した。
Chromatic dispersion = Ro (Ro (480)) at 480 nm ÷ Ro (Ro (630)) at 630 nm
(4) Haze (all haze)
It measured using the haze meter (1001DP type, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. product).
(Internal haze)
From a haze value measured in a state where two drops of glycerin were dropped on the surface of the film and sandwiched from both sides by two glass plates with a thickness of 1.3 mm (MICRO SLIDE GLASS part number S9213, manufactured by MATSANAMI), between the sheets The value obtained by subtracting the haze measured with several drops of glycerin.
(5) Ultraviolet transmittance The spectral absorption spectrum of the film was measured with Spectrophotometer U-3200 (manufactured by Hitachi, Ltd.), and the transmittance at 380 nm was determined.
(6) Polarizer fading deterioration (preparation of polarizing plate)
A 120 μm thick polyvinyl alcohol film was immersed in 100 kg of an aqueous solution containing 1 kg of iodine and 4 kg of boric acid and stretched 6 times at 50 ° C. to form a polarizing film. Using this polarizing film as a polarizer, a sample film having been subjected to the following alkali saponification treatment on both sides was attached to the polarizer using a completely saponified polyvinyl alcohol 5% aqueous solution as an adhesive so as to sandwich the polarizer. A laminated polarizing plate was produced.
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程 2N−NaOH 50℃ 90秒
水洗工程 水 30℃ 45秒
中和工程 10質量%HCl 30℃ 45秒
水洗工程 水 30℃ 45秒
上記条件でフィルム試料をケン化、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで80℃で乾燥を行った。
(湿熱耐久)
上記方法で作製した偏光板について先ず平行透過率と直行透過率を測定し、下記式にしたがって偏光度を算出した。その後各々の偏光板を80℃90%の条件下で300時間の強制劣化後、再度平行透過率と直行透過率を測定し、下記式に従って偏光度を算出した。偏光度変化量を下記式により求めた。
偏光度P=((H0−H90)/(H0+H90))1/2×100
偏光度変化量=P0−P300
H0:平行透過率
H90:直行透過率
P0:強制劣化前の偏光度
P300:強制劣化300時間後の偏光度
(耐光)
上記と同じ測定法で、耐候性試験機(アイスーパーUVテスター、岩崎電気株式会社製)にて、250時間光照射した後の偏光度変化量を下記式により求めた。
偏光度P=((H0−H90)/(H0+H90))1/2×100
偏光度変化量=P0−P250H
P250:光照射250時間後の偏光度
(7)きしみ値
フィルム表面と裏面間の動摩擦係数は、JIS−K−7125(1987)に準じ、フィルムの表裏面が接触するように切り出し、200gの重りを載せ、サンプル移動速度100mm/分、接触面積80mm×200mmの条件で重りを水平に引っ張り、重りが移動中の平均荷重(F)を測定し、下記式よりきしみ値(μ)を求めた。
きしみ値(μ)=F(g)/重りの重さ(g)
(8)耐油性
フィルム上にリモネン系洗剤を2〜3滴程度を滴下し、3時間放置する。その後柔らかい布でふき取り、滴下跡を目視確認し、下記基準に基づき評価した。
○:滴下跡が全く見られない
×:滴下跡が見られる
(9)熱収縮
フィルムを巾方向12cm×長手方向12cmに切出し、温度23℃、相対湿度55%に調湿された部屋で4時間調湿した後、幅手、長手それぞれに約10cm間隔にカッターにより目印をつけ、距離(L1)を測定した。次に、140℃のオーブンでフィルムを45分保管。再度、フィルムを温度23℃、相対湿度55%に調湿された部屋で4時間調湿した後、目印の距離(L2)を測定した。以下の式により寸法変化率を求め、巾方向寸法変化率と長手方向寸法変化率の平均値を熱収縮の目安とした。寸法変化率がマイナスになる程、熱収縮が大きい。
寸法変化率(%)={(L2−L1)/L1}×100
熱収縮=(巾方向寸法変化率+長手方向寸法変化率)÷2
(10)塗布時の熱ジワ
暗室にてグリーンランプで塗布後フィルムの裏面におけるシワの有無を目視観察した。
○:シワが全く見られない
△:シワが辛うじて見える
×:シワがはっきりと判る
××:明室で白色光でもシワが見える
(11)ハードコート密着、耐光密着、湿熱耐久密着
(即密着)
JIS K 5400に準拠する方法で、1mmの間隔で縦横に11本の切れ目を入れ、1mm角、100個の碁盤目を作製し、セロハンテープを貼り付けて90度の角度ですばやくはがし、剥れずに残っている碁盤目の数を数えた。
<Alkali saponification treatment>
Saponification step 2N-NaOH 50 ° C. 90 seconds water washing step Water 30 ° C. 45
(Damp heat durability)
For the polarizing plate produced by the above method, first, the parallel transmittance and the direct transmittance were measured, and the degree of polarization was calculated according to the following formula. Thereafter, each polarizing plate was forcedly deteriorated at 80 ° C. and 90% for 300 hours, and then the parallel transmittance and the direct transmittance were measured again, and the degree of polarization was calculated according to the following formula. The amount of change in polarization degree was determined by the following formula.
Polarization degree P = ((H0−H90) / (H0 + H90)) 1/2 × 100
Polarization degree change = P0−P300
H0: parallel transmittance H90: direct transmittance P0: degree of polarization before forced degradation P300: degree of polarization after 300 hours of forced degradation (light resistance)
Using the same measurement method as described above, the amount of change in polarization after light irradiation for 250 hours was determined by the following formula using a weather resistance tester (Isuper UV tester, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.).
Polarization degree P = ((H0−H90) / (H0 + H90)) 1/2 × 100
Polarization degree change = P0−P250H
P250: Degree of polarization after 250 hours of light irradiation (7) Squeaking value The dynamic friction coefficient between the film surface and the back surface is cut out so that the front and back surfaces of the film are in contact with each other according to JIS-K-7125 (1987), and the weight is 200 g. The weight was pulled horizontally under the conditions of a sample moving speed of 100 mm / min and a contact area of 80 mm × 200 mm, the average load (F) while the weight was moving was measured, and the squeak value (μ) was determined from the following formula.
Squeaking value (μ) = F (g) / weight of weight (g)
(8) Oil resistance About 2-3 drops of limonene detergent is dropped on the film and left for 3 hours. Thereafter, the sample was wiped off with a soft cloth, visually checked for dropping marks, and evaluated based on the following criteria.
○: No dripping traces are observed at all ×: Dripping traces are observed (9) Heat shrinkage 4 hours in a room where the film is cut out in the
Dimensional change rate (%) = {(L2-L1) / L1} × 100
Thermal shrinkage = (width direction dimensional change rate + longitudinal direction dimensional change rate) / 2
(10) Thermal wrinkles at the time of application The presence or absence of wrinkles on the back surface of the film was visually observed after coating with a green lamp in a dark room.
○: Wrinkles are not seen at all Δ: Wrinkles are barely visible ×: Wrinkles are clearly seen XX: Wrinkles are visible even in white light in a bright room (11) Hard coat adhesion, light-resistant adhesion, wet heat durability adhesion (immediate adhesion)
In accordance with JIS K 5400, make 11 cuts vertically and horizontally at intervals of 1 mm, make 1 mm square, 100 grids, apply cellophane tape, peel off quickly at an angle of 90 degrees, and do not peel off I counted the number of grids remaining in the board.
数が多い程、密着性は良好。 The greater the number, the better the adhesion.
(耐光)
ハードコート面を上にして、耐候性試験機(アイスーパーUVテスター、岩崎電気株式会社製)にて、250時間光照射した後、即密着と同じ方法で測定した。
(Light resistance)
With the hard coat surface facing up, the sample was irradiated with light for 250 hours with a weather resistance tester (eye super UV tester, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.), and then measured by the same method as that for immediate contact.
(湿熱耐久)
80℃90%の条件下で300時間の強制劣化後、即密着と同じ方法で測定した。
(12)鉛筆硬度
JIS K 5400が規定する鉛筆硬度評価法に従い、1kgのおもりを用いて各硬度の鉛筆で引っ掻きを5回繰り返し、傷が1本までの硬度を測定した。数字か高いほど、高硬度を示す。
(Damp heat durability)
After forced degradation for 300 hours under the condition of 80 ° C. and 90%, measurement was performed by the same method as that for immediate contact.
(12) Pencil Hardness According to the pencil hardness evaluation method specified by JIS K 5400, scratching was repeated 5 times with a pencil of each hardness using a 1 kg weight, and the hardness of up to one scratch was measured. The higher the number, the higher the hardness.
各フィルム(λ/4)の内容及び評価結果を表1〜表3に示す。 The contents and evaluation results of each film (λ / 4) are shown in Tables 1 to 3.
表1〜表3に示した結果から明らかなように、本発明に係るフィルム(λ/4板)は、フィルム特性、表面加工適性等において良好であることが分かる。 As is apparent from the results shown in Tables 1 to 3, it can be seen that the film (λ / 4 plate) according to the present invention is excellent in film properties, surface processing suitability, and the like.
なお、SONY製3DメガネTDG−BR100のパネル側に本発明に係るフィルム(λ/4板)貼合し、作製した液晶表示装置について3D映像視聴時のスジを観測したが、 本発明に係るフィルム(λ/4板)を用いた液晶表示装置においては、スジ故障がまったく見られず優れていることが分かった。 In addition, although the film ((lambda) / 4 board) based on this invention was bonded to the panel side of SONY 3D glasses TDG-BR100, and the stripe at the time of 3D image viewing was observed about the produced liquid crystal display device, the film based on this invention It was found that the liquid crystal display device using (λ / 4 plate) is excellent without any streak failure.
液晶表示装置は、SONY製60型ディスプレイBRAVIA LX900の予め貼合されていた前面板を剥がして、パネル前面の偏光板と前面板の間にあった充填剤を除去し、予め貼合されていたパネル前側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板をそれぞれ液晶セルのガラス面の前面に貼合した。その際、その偏光板の貼合の向きは、本発明のフィルム(λ/4板)の面が、視認側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い液晶表示装置を各々作製した。 The liquid crystal display device peels off the pre-bonded front plate of the 60-type display BRAVIA LX900 made by SONY, removes the filler between the polarizing plate on the front surface of the panel and the front plate, and the front side of the panel previously bonded The polarizing plate was peeled off, and the prepared polarizing plates were each bonded to the front surface of the glass surface of the liquid crystal cell. At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is absorbed so that the surface of the film (λ / 4 plate) of the present invention is on the viewing side and in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display devices were each manufactured in such a manner that the axes were directed.
1 原反フィルム
2−1 右側のフィルム保持開始点
2−2 左側のフィルム保持開始点
3−1 右側のフィルム保持手段の軌跡
3−2 左側のフィルム保持手段の軌跡
4 テンター
5−1 右側のフィルム保持終了点
5−2 左側のフィルム保持終了点
6 斜め延伸フィルム
7−1 フィルムの送り方向
8−1 テンター入り口側のガイドロール
8−2 テンター出口側のガイドロール
9 フィルムの延伸方向
DR1 繰出し方向
DR2 巻取り方向
θi 繰出し角度(繰出し方向と巻取り方向のなす角度)
CR,CL 把持具
Wo 延伸前のフィルムの幅
W 延伸後のフィルムの幅
A 液晶シャッタメガネ
A1、A4 偏光子
A2 液晶セル
A3 λ/4板
B 液晶表示装置(例えばテレビジョン(TV))
C 偏光板
C1 λ/4板
C2 偏光子
C3 位相差フィルム
C4 偏光子保護フィルム
D 液晶セル
E 偏光板
F バックライト
HC ハードコート層
AR 反射防止層
a 吸収軸
b 遅相軸
DESCRIPTION OF
CR, CL Gripping device Wo Width of film before stretching W Width of film after stretching A Liquid crystal shutter glasses A1, A4 Polarizer A2 Liquid crystal cell A3 λ / 4 plate B Liquid crystal display device (for example, television (TV))
C polarizing plate C1 λ / 4 plate C2 polarizer C3 retardation film C4 polarizer protective film D liquid crystal cell E polarizing plate F backlight HC hard coat layer AR antireflection layer a absorption axis b slow axis
Claims (12)
一般式(PEI):B−(G−A)n−G−B
(Bは、ベンゼンモノカルボン酸残基を表す。Gは、炭素数2〜12のアルキレングリコール残基、炭素数6〜12のアリールグリコール残基、又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基を表す。Aは、炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表す。また、nは、0以上の整数を表す。) A λ / 4 plate containing a compound represented by the following general formula (PEI) and a cellulose ester resin, which is stretched in a direction oblique to the longitudinal direction, and has a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH. The λ / 4 plate is characterized in that the in-plane retardation Ro (550) measured at a measurement wavelength of 550 nm is in the range of 100 to 160 nm and the orientation angle θ is in the range of 40 to 50 °.
Formula (PEI): B- (GA) n -GB
(B represents a benzene monocarboxylic acid residue. G represents an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an aryl glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12 carbon atoms. And A represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an aryl dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 0 or more.)
式(1):2.0≦(X+Y)≦2.8
式(2):0≦Y≦1.0 The acetyl group substitution degree of the cellulose ester resin is X and the propionyl group substitution degree is Y, and X and Y satisfy the following formulas (1) and (2). The λ / 4 plate according to any one of 3 to 3.
Formula (1): 2.0 ≦ (X + Y) ≦ 2.8
Formula (2): 0 ≦ Y ≦ 1.0
式(1a):2.0≦(X+Y)<2.5
式(1b):2.5≦(X+Y)≦2.8 The cellulose ester resin in which the cellulose ester resin satisfying the formula (1) and the formula (2) contains a cellulose ester resin satisfying the following formula (1a) and the formula (2) and a cellulose ester resin satisfying the following formula (1b). The λ / 4 plate according to claim 4, which is a resin.
Formula (1a): 2.0 ≦ (X + Y) <2.5
Formula (1b): 2.5 ≦ (X + Y) ≦ 2.8
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---|---|
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013147091A1 (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日東電工株式会社 | Long retardation film, circularly polarizing plate and organic el panel |
WO2014084687A1 (en) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | 주식회사 엘지화학 | Optical film |
WO2014087593A1 (en) * | 2012-12-07 | 2014-06-12 | コニカミノルタ株式会社 | Retardation film, circularly polarizing plate, and image display device |
JP2015125154A (en) * | 2013-12-25 | 2015-07-06 | コニカミノルタ株式会社 | Liquid crystal display device |
WO2016132771A1 (en) * | 2015-02-16 | 2016-08-25 | 富士フイルム株式会社 | Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display device |
JP2016176984A (en) * | 2015-03-18 | 2016-10-06 | 帝人株式会社 | Thermoplastic resin film |
JP2018205663A (en) * | 2017-06-09 | 2018-12-27 | 日東電工株式会社 | Polarizing plate with retardation layer and image display device |
CN109752579A (en) * | 2017-11-07 | 2019-05-14 | 许继集团有限公司 | A kind of novel all-fiber electronic current transformer and a kind of optical-fibre wave plate |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003207625A (en) * | 2002-01-10 | 2003-07-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Polarizing film and method for manufacturing the same |
JP2004279491A (en) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Konica Minolta Holdings Inc | Method for forming antiglare antireflection layer, antiglare antireflection film and its manufacturing method, display device using the film, and antiglare antireflection processing device |
JP2008083307A (en) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Konica Minolta Opto Inc | Polarizing plate, manufacturing method of polarizing plate, and liquid crystal display device |
WO2008050525A1 (en) * | 2006-09-29 | 2008-05-02 | Konica Minolta Opto, Inc. | Retardation film |
JP2008268419A (en) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Konica Minolta Opto Inc | Manufacturing method of retardation film, retardation film, polarizing plate, and liquid crystal display device |
JP2009109547A (en) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Konica Minolta Opto Inc | Retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device |
WO2009119142A1 (en) * | 2008-03-24 | 2009-10-01 | コニカミノルタオプト株式会社 | Cellulose ester film |
JP2009229501A (en) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Konica Minolta Opto Inc | Optical film and method of manufacturing same, a polarizing plate, and display |
JP2009251017A (en) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Konica Minolta Opto Inc | Elliptical polarizing plate, and liquid crystal display using same |
JP2010001383A (en) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Konica Minolta Opto Inc | Optical film and polarizing plate |
JP2010152309A (en) * | 2008-11-21 | 2010-07-08 | Fujifilm Corp | Film, method of manufacturing the same, polarizer, and liquid crystal display device |
WO2010106854A1 (en) * | 2009-03-19 | 2010-09-23 | コニカミノルタオプト株式会社 | Optical film and method for producing optical film |
JP2010217500A (en) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Konica Minolta Opto Inc | Retardation film |
JP2011008210A (en) * | 2009-05-26 | 2011-01-13 | Konica Minolta Opto Inc | Polarization control film, polarization control element, multi-layer polarization control element, ellipse polarization plate, light emission element, and method for controlling polarization property |
-
2011
- 2011-03-18 JP JP2011060762A patent/JP2012198282A/en active Pending
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003207625A (en) * | 2002-01-10 | 2003-07-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Polarizing film and method for manufacturing the same |
JP2004279491A (en) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Konica Minolta Holdings Inc | Method for forming antiglare antireflection layer, antiglare antireflection film and its manufacturing method, display device using the film, and antiglare antireflection processing device |
JP2008083307A (en) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Konica Minolta Opto Inc | Polarizing plate, manufacturing method of polarizing plate, and liquid crystal display device |
WO2008050525A1 (en) * | 2006-09-29 | 2008-05-02 | Konica Minolta Opto, Inc. | Retardation film |
JP2008268419A (en) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Konica Minolta Opto Inc | Manufacturing method of retardation film, retardation film, polarizing plate, and liquid crystal display device |
JP2009109547A (en) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Konica Minolta Opto Inc | Retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device |
JP2009229501A (en) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Konica Minolta Opto Inc | Optical film and method of manufacturing same, a polarizing plate, and display |
WO2009119142A1 (en) * | 2008-03-24 | 2009-10-01 | コニカミノルタオプト株式会社 | Cellulose ester film |
JP2009251017A (en) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Konica Minolta Opto Inc | Elliptical polarizing plate, and liquid crystal display using same |
JP2010001383A (en) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Konica Minolta Opto Inc | Optical film and polarizing plate |
JP2010152309A (en) * | 2008-11-21 | 2010-07-08 | Fujifilm Corp | Film, method of manufacturing the same, polarizer, and liquid crystal display device |
JP2010217500A (en) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Konica Minolta Opto Inc | Retardation film |
WO2010106854A1 (en) * | 2009-03-19 | 2010-09-23 | コニカミノルタオプト株式会社 | Optical film and method for producing optical film |
JP2011008210A (en) * | 2009-05-26 | 2011-01-13 | Konica Minolta Opto Inc | Polarization control film, polarization control element, multi-layer polarization control element, ellipse polarization plate, light emission element, and method for controlling polarization property |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013147091A1 (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日東電工株式会社 | Long retardation film, circularly polarizing plate and organic el panel |
JP2014044394A (en) * | 2012-03-30 | 2014-03-13 | Nitto Denko Corp | Long retardation film, circularly polarizing plate and organic electroluminescent (el) panel |
US9453951B2 (en) | 2012-03-30 | 2016-09-27 | Nitto Denko Corporation | Retardation film web, circularly polarizing plate and organic EL panel |
WO2014084687A1 (en) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | 주식회사 엘지화학 | Optical film |
US9891360B2 (en) | 2012-11-29 | 2018-02-13 | Lg Chem, Ltd. | Optical film |
WO2014087593A1 (en) * | 2012-12-07 | 2014-06-12 | コニカミノルタ株式会社 | Retardation film, circularly polarizing plate, and image display device |
JP2015125154A (en) * | 2013-12-25 | 2015-07-06 | コニカミノルタ株式会社 | Liquid crystal display device |
WO2016132771A1 (en) * | 2015-02-16 | 2016-08-25 | 富士フイルム株式会社 | Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display device |
JP2016176984A (en) * | 2015-03-18 | 2016-10-06 | 帝人株式会社 | Thermoplastic resin film |
JP2018205663A (en) * | 2017-06-09 | 2018-12-27 | 日東電工株式会社 | Polarizing plate with retardation layer and image display device |
US10983391B2 (en) | 2017-06-09 | 2021-04-20 | Nitto Denko Corporation | Polarizing plate with retardation layer and image display device |
CN109752579A (en) * | 2017-11-07 | 2019-05-14 | 许继集团有限公司 | A kind of novel all-fiber electronic current transformer and a kind of optical-fibre wave plate |
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