JP2012173677A - Phase difference film and method for manufacturing the same, elongated polarizing plate, and liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、位相差フィルムとその製造方法、当該位相差フィルムが具備された長尺状偏光板及び液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a retardation film, a method for producing the same, a long polarizing plate provided with the retardation film, and a liquid crystal display device.
より詳しくは、スジ故障の発生がなく、かつ環境耐久試験(テスト)において幅手方向の光学特性の変動が殆ど無い位相差フィルム及び当該位相差フィルムを長尺状延伸フィルムとして製造する製造方法に関する。また、当該延伸フィルムが具備された長尺状偏光板及び液晶表示装置に関する。 More specifically, the present invention relates to a retardation film in which no streak failure occurs and there is almost no variation in optical characteristics in the width direction in an environmental durability test (test), and a manufacturing method for manufacturing the retardation film as a long stretched film. . The present invention also relates to a long polarizing plate and a liquid crystal display device provided with the stretched film.
樹脂フィルムを延伸してなる延伸フィルムは、その光学異方性を利用して、ディスプレイ装置の構成要素等の光学材料として用いられている。例えば、液晶表示装置において、該延伸フィルムを着色防止、視野角拡大などの光学補償などのための位相差フィルムとして用いたり、当該延伸フィルムと偏光子とを貼り合わせて偏光板として用いたりすることが知られている。一般的に、液晶表示装置に用いられる偏光板及び位相差フィルムは長方形で用いられるが、用途によってはそれを構成する延伸フィルムがその長方形の辺に対して傾斜した方向に面内の遅相軸を有することが求められる場合がある。このような液晶表示装置では、位相差フィルムの面内遅相軸と偏光子の透過軸とが所望の角度となるように配置させる必要がある。 A stretched film formed by stretching a resin film is used as an optical material such as a component of a display device by utilizing its optical anisotropy. For example, in a liquid crystal display device, the stretched film may be used as a retardation film for optical compensation such as anti-coloring and viewing angle expansion, or the stretched film and a polarizer may be bonded together to be used as a polarizing plate. It has been known. In general, a polarizing plate and a retardation film used in a liquid crystal display device are used in a rectangular shape. May be required. In such a liquid crystal display device, the in-plane slow axis of the retardation film and the transmission axis of the polarizer need to be arranged at a desired angle.
従来の位相差フィルムは、縦延伸、又は横延伸で製造されているため、原理的に面内の遅相軸がフィルムの長尺方向に対し0°又は90°方向になるため、上記所望の角度にするには長尺状の延伸フィルムロールから特定の角度で切り出したフィルム片同士を一枚ずつ貼り合せるバッチ式で行われていたが、生産性や切り屑等のロスが多く問題があった。 Since the conventional retardation film is produced by longitudinal stretching or transverse stretching, the slow axis in the plane is in principle 0 ° or 90 ° with respect to the longitudinal direction of the film, so that the desired film In order to make the angle, it was performed by a batch method in which film pieces cut at a specific angle from a long stretched film roll were bonded one by one, but there were many problems with productivity and loss of chips. It was.
これに対し、所望の角度で斜め方向に延伸し、遅相軸がフィルムの長尺方向に対し、0°でも90°でもない方向に自在に制御可能な長尺状の位相差フィルムの製造方法が種々提案されている(例えば特許文献1〜3参照。)。このような遅相軸が傾斜した延伸フィルムを使用することにより、従来のバッチ式の貼り合せではなく、ロール・to・ロールの貼合が可能になることから生産性は飛躍的に向上し、ロスも大幅に低下する。 On the other hand, a method for producing a long retardation film that is stretched obliquely at a desired angle and can be freely controlled in a direction in which the slow axis is neither 0 ° nor 90 ° with respect to the longitudinal direction of the film Have been proposed (see, for example, Patent Documents 1 to 3). By using a stretched film with such a slow axis inclined, productivity can be improved dramatically because roll-to-roll bonding is possible instead of conventional batch bonding. Loss is also greatly reduced.
しかし、問題として、延伸後のフィルムでは現れないが、表面加工層を塗布、硬化することによって顕著に表れるスジがある。 However, as a problem, there is a streak that does not appear in the stretched film but appears remarkably by applying and curing the surface-treated layer.
また、斜め方向に延伸すすると、両端の延伸倍率が異なるため、環境耐久試験(テスト)を行ったときにフィルムの幅手方向で光学特性の変動値が異なってしまう。これらの問題は、当該フィルムを表示装置に具備したときに表示品質を著しく劣化させる原因となる。 In addition, when the film is stretched in an oblique direction, the stretching ratios at both ends are different, so that when the environmental durability test (test) is performed, the variation value of the optical characteristics varies in the width direction of the film. These problems cause the display quality to deteriorate significantly when the display device is provided with the film.
しかしながら、前記特許文献1〜3に開示されている技術では、スジ故障や幅手方向の環境耐久試験(テスト)における光学特性の変動の問題を解決することができず、斜め延伸による位相差フィルムの解決すべき課題となっていた。 However, the techniques disclosed in Patent Documents 1 to 3 cannot solve the problem of fluctuations in optical characteristics in streak failures and environmental durability tests (tests) in the width direction, and are retardation films by oblique stretching. It was a problem to be solved.
本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、スジ故障の発生がなく、かつ環境耐久試験(テスト)において幅手方向の光学特性の変動が殆ど無い位相差フィルムを提供すること、及び当該位相差フィルムを長尺状延伸フィルムとして製造する製造方法を提供することである。また、当該延伸フィルムが具備された長尺状偏光板及び液晶表示装置を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems and situations, and the problem to be solved is a phase difference in which no streak failure occurs and there is almost no fluctuation in the optical characteristics in the lateral direction in an environmental durability test (test). It is to provide a film and to provide a production method for producing the retardation film as a long stretched film. Moreover, it is providing the elongate polarizing plate and liquid crystal display device with which the said stretched film was comprised.
本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。 The above-mentioned problem according to the present invention is solved by the following means.
1.ハードコート層が設けられた位相差フィルムであって、(1)当該位相差フィルムの遅相軸の方向が、フィルムの長尺方向と幅手方向とは異なり、両方向の間に存在し、(2)温度23℃・相対湿度55%RHにおいて測定波長590nmで測定した面内位相差値Roが120〜170nmの範囲内にあり、かつ、(3)当該位相差フィルムを温度60℃・相対湿度90%RHである環境下に500時間保存し、保存後の当該位相差フィルムについて前記測定と同一条件下で横手方向の面内位相差値Roを測定したとき、保存前の面内位相差値Roを基準とした変動値の最大値と最小値の差が1〜10nmの範囲内であることを特徴とする位相差フィルム。 1. A retardation film provided with a hard coat layer, wherein (1) the direction of the slow axis of the retardation film is different from the long direction and the width direction of the film, and exists between both directions, 2) The in-plane retardation value Ro measured at a measurement wavelength of 590 nm at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH is in the range of 120 to 170 nm, and (3) the retardation film is heated to a temperature of 60 ° C. and a relative humidity. When the in-plane retardation value Ro in the transverse direction is measured under the same conditions as the above measurement for the retardation film after storage in an environment of 90% RH for 500 hours, the in-plane retardation value before storage A retardation film, wherein a difference between a maximum value and a minimum value of fluctuation values based on Ro is in a range of 1 to 10 nm.
2.前記ハードコート層が、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する樹脂を用いて形成されたことを特徴とする前記第1項に記載の位相差フィルム。 2. 2. The retardation film according to item 1, wherein the hard coat layer is formed using a resin containing an active energy ray-curable resin.
3.前記ハードコート層が、三個又は四個のアクリロイル基を有するアクリル酸エステルを含有する塗布液を用いて形成されたことを特徴とする前記第1項又は第2項に記載の位相差フィルム。 3. 3. The retardation film according to item 1 or 2, wherein the hard coat layer is formed using a coating solution containing an acrylate ester having three or four acryloyl groups.
4.前記塗布液が含有する溶媒量が、10質量%未満であることを特徴とする前記第3項に記載の位相差フィルム。 4). 4. The retardation film according to item 3, wherein the amount of solvent contained in the coating solution is less than 10% by mass.
5.前記塗布液が含有する溶媒が、エタノール又はメタノールであることを特徴とする前記第3項又は第4項に記載の位相差フィルム。 5). The retardation film according to item 3 or 4, wherein the solvent contained in the coating solution is ethanol or methanol.
6.前記塗布液が、有機溶媒を含有していないことを特徴とする前記第3項又は第4項に記載の位相差フィルム。 6). The retardation film according to item 3 or 4, wherein the coating liquid does not contain an organic solvent.
7.前記位相差フィルムが、アセチル基置換度が2.0〜2.6の範囲内にあるセルロースエステルを含有していることを特徴とする前記第1項から第6項までのいずれか一項に記載の位相差フィルム。 7). The retardation film contains a cellulose ester having a substitution degree of acetyl group in the range of 2.0 to 2.6, according to any one of items 1 to 6 above. The retardation film described.
8.前記第1項から第7項までのいずれか一項に記載の位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造方法であって、長尺状フィルムの搬送方向に対して10〜45°の範囲内の角度で面内遅相軸を有するように斜め方向に延伸した後に、把持手段により、当該長尺状フィルムの両端を搬送方向に対して−90〜−70°の範囲内の角度で、かつ0〜20%の範囲内の延伸率で、延伸することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。 8). It is a manufacturing method of the retardation film which manufactures the retardation film as described in any one of said 1st term to 7th term, Comprising: It exists in the range of 10-45 degrees with respect to the conveyance direction of a long film. After stretching in an oblique direction so as to have an in-plane slow axis at an angle of, the gripping means causes both ends of the long film to be at an angle in the range of −90 to −70 ° with respect to the transport direction, and A method for producing a retardation film, wherein the film is stretched at a stretching ratio in the range of 0 to 20%.
9.前記第1項から第7項までのいずれか一項に記載の位相差フィルムを、長尺状の偏光子の少なくとも一方の面に積層して形成されたことを特徴とする長尺状偏光板。 9. A long polarizing plate formed by laminating the retardation film according to any one of items 1 to 7 on at least one surface of a long polarizer. .
10.前記第1項から第7項までのいずれか一項に記載の位相差フィルムを断栽して形成された枚葉状フィルム、又は前記第9項に記載の長尺状偏光板を断栽して形成された枚葉状偏光板が具備されていることを特徴とする液晶表示装置。 10. The sheet-like film formed by cutting the retardation film according to any one of Items 1 to 7 or the long polarizing plate according to Item 9 is cut. A liquid crystal display device comprising a formed sheet polarizing plate.
11.前記液晶表示装置が、立体画像表示装置であることを特徴とする前記第10項に記載の液晶表示装置。
11. 11. The liquid crystal display device according to
本発明の上記手段により、スジ故障の発生がなく、かつ環境耐久試験(テスト)において幅手方向の光学特性の変動が殆ど無い位相差フィルムを提供すること、及び当該位相差フィルムを長尺状延伸フィルムとして製造する製造方法を提供することができる。また、当該延伸フィルムが具備された長尺状偏光板及び液晶表示装置を提供することができる。 According to the above-mentioned means of the present invention, there is provided a retardation film in which no streak failure is caused and there is almost no variation in the optical characteristics in the width direction in an environmental durability test (test), and the retardation film is elongated. The manufacturing method manufactured as a stretched film can be provided. Moreover, the elongate polarizing plate and liquid crystal display device which were equipped with the said stretched film can be provided.
本発明の位相差フィルムは、ハードコート層が設けられた位相差フィルムであって、(1)当該位相差フィルムの遅相軸の方向が、フィルムの長尺方向と幅手方向とは異なり、両方向の間に存在し、(2)温度23℃・相対湿度55%RHにおいて測定波長590nmで測定した面内位相差値Roが120〜170nmの範囲内にあり、かつ、(3)当該位相差フィルムを温度60℃・相対湿度90%RHである環境下に500時間保存し、保存後の当該位相差フィルムについて前記測定と同一条件下で横手方向の面内位相差値Roを測定したとき、保存前の面内位相差値Roを基準とした変動値の最大値と最小値の差が1〜10nmの範囲内であることを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項11までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。 The retardation film of the present invention is a retardation film provided with a hard coat layer, and (1) the direction of the slow axis of the retardation film is different from the long direction and the width direction of the film, Exists in both directions, (2) the in-plane retardation value Ro measured at a measurement wavelength of 590 nm at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH is in the range of 120 to 170 nm, and (3) the phase difference When the film was stored for 500 hours in an environment at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% RH, and the in-plane retardation value Ro in the transverse direction was measured under the same conditions as the measurement for the retardation film after storage, The difference between the maximum value and the minimum value of the fluctuation value based on the in-plane retardation value Ro before storage is in the range of 1 to 10 nm. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 11.
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記ハードコート層が、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する樹脂を用いて形成された態様のハードコート層であることが好ましい。さらに、当該ハードコート層が、三個又は四個のアクリロイル(acryloyl)基を有するアクリル酸エステル(acrylate)を含有する塗布液を用いて形成されたものであることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the hard coat layer is a hard coat layer formed using a resin containing an active energy ray-curable resin from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention. Furthermore, it is preferable that the hard coat layer is formed using a coating solution containing an acrylate ester having three or four acryloyl groups.
当該ハードコート層が塗布液を用いて形成されたものである場合、当該塗布液が含有する溶媒量が、10質量%未満であることが好ましい。また、当該塗布液が含有する溶媒が、エタノール又はメタノールであることが好ましい。一方、前記塗布液が、(水及び)有機溶媒を含有していないことも好ましい。 When the hard coat layer is formed using a coating solution, the amount of solvent contained in the coating solution is preferably less than 10% by mass. Moreover, it is preferable that the solvent which the said coating liquid contains is ethanol or methanol. On the other hand, it is also preferable that the coating solution does not contain (water and) an organic solvent.
本発明においては、前記位相差フィルムが、アセチル基置換度が2.0〜2.6の範囲内にあるセルロースエステルを含有していることが好ましい。 In this invention, it is preferable that the said retardation film contains the cellulose ester which has an acetyl group substitution degree in the range of 2.0-2.6.
本発明の位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造方法としては、長尺状フィルムの搬送方向に対して10〜45°の範囲内の角度で面内遅相軸を有するように斜め方向に延伸した後に、把持手段により、当該長尺状フィルムの両端を搬送方向に対して−90〜−70°の範囲内の角度で、かつ0〜20%の範囲内の延伸率で、延伸する態様の製造方法であることが好ましい。 As a method for producing a retardation film for producing the retardation film of the present invention, the retardation film is inclined so as to have an in-plane slow axis at an angle within a range of 10 to 45 ° with respect to the conveying direction of the long film. After extending | stretching, the aspect which extends | stretches the both ends of the said elongate film with the angle | corner in the range of -90-70 degree with respect to a conveyance direction, and the extending | stretching rate in the range of 0-20% with a holding means. It is preferable that it is a manufacturing method.
本発明の位相差フィルムを、長尺状の偏光子の少なくとも一方の面に積層して長尺状偏光板を形成することができる。 The retardation film of the present invention can be laminated on at least one surface of a long polarizer to form a long polarizing plate.
上記位相差フィルムを断栽して形成された枚葉状フィルム、又は上記長尺状偏光板を断栽して形成された枚葉状偏光板は、液晶表示装置に好適に用いることができる。特に、当該液晶表示装置は、立体画像表示装置であることが好ましい。 The sheet-like film formed by cutting the retardation film or the sheet-like polarizing plate formed by cutting the long polarizing plate can be suitably used for a liquid crystal display device. In particular, the liquid crystal display device is preferably a stereoscopic image display device.
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.
(本発明の位相差フィルムの概要)
本発明の位相差フィルムは、ハードコート層が設けられた位相差フィルムであることを特徴とする。
(Outline of retardation film of the present invention)
The retardation film of the present invention is a retardation film provided with a hard coat layer.
また、下記要件を満たしていることを特徴とする。 In addition, the following requirements are satisfied.
(1)当該位相差フィルムの遅相軸の方向が、フィルムの長尺方向と幅手方向とは異なり、両方向の間に存在し、
(2)温度23℃・相対湿度55%RHにおいて測定波長590nmで測定した面内位相差値Roが120〜170nmの範囲内にあり、かつ、
(3)当該位相差フィルムを温度60℃・相対湿度90%RHである環境下に500時間保存し、保存後の当該位相差フィルムについて前記測定と同一条件下で横手方向の面内位相差値Roを測定したとき、保存前の面内位相差値Roを基準とした変動値の最大値と最小値の差が1〜10nmの範囲内である。
(1) The direction of the slow axis of the retardation film is different from the long direction and the width direction of the film, and exists between both directions.
(2) The in-plane retardation value Ro measured at a measurement wavelength of 590 nm at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH is in the range of 120 to 170 nm, and
(3) The retardation film is stored in an environment at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% RH for 500 hours. When Ro is measured, the difference between the maximum value and the minimum value of the fluctuation value based on the in-plane retardation value Ro before storage is in the range of 1 to 10 nm.
本発明の位相差フィルムは、後述するようにλ/4板として用いることができる。 The retardation film of the present invention can be used as a λ / 4 plate as described later.
本発明の位相差フィルムの平均厚さは、機械的強度などの観点から、好ましくは20〜80μm、さらに好ましくは30〜60μm、特に好ましくは30〜40μmである。 The average thickness of the retardation film of the present invention is preferably 20 to 80 μm, more preferably 30 to 60 μm, and particularly preferably 30 to 40 μm from the viewpoint of mechanical strength and the like.
また、幅方向の厚さムラは、巻取りの可否に影響を与えるため、3μm以下であることが好ましく、2μm以下であることがより好ましい。 Moreover, since the thickness unevenness in the width direction affects the availability of winding, it is preferably 3 μm or less, and more preferably 2 μm or less.
<フィルム基材>
フィルム基材としては、種々の樹脂を用いる主として熱可塑性樹脂が用いられる。ここで、「熱可塑性樹脂」とは、ガラス転移温度又は融点まで加熱することによって軟らかくなり、目的の形に成形できる樹脂のことをいう。
<Film base>
As the film substrate, thermoplastic resins using various resins are mainly used. Here, the “thermoplastic resin” refers to a resin that becomes soft when heated to the glass transition temperature or melting point and can be molded into a desired shape.
一般的な位相差フィルム(光学フィルム)用樹脂としてのポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン等を用いることができる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、脂環式オレフィンポリマー、アクリル系ポリマー、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル等を用いてもよい。特にセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル、ラクトン環構造を有するアクリル系ポリマー等がより好ましい。これらの原料は単独で用いても良いし、異なる熱可塑性樹脂を混合して用いてもよい。混合して使用する場合は、セルロースエステルとアクリル系ポリマーの混合がより好ましい。 Polycarbonate, polyester, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, polyolefin, etc. can be used as a resin for a general retardation film (optical film). Also, cellulose terephthalate such as polyethylene terephthalate, polyimide, polymethyl methacrylate, polysulfone, polyethylene, polyvinyl chloride, alicyclic olefin polymer, acrylic polymer, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, etc. may be used. Good. In particular, cellulose esters such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate propionate, acrylic polymers having a lactone ring structure, and the like are more preferable. These raw materials may be used alone or in combination with different thermoplastic resins. When mixed and used, a mixture of cellulose ester and acrylic polymer is more preferable.
なお、本発明においては、本発明に係るフィルムが、正の固有複屈折値を有する樹脂を含有していることが好ましい。なお、「正の固有複屈折値を有する樹脂」とは、延伸した方向の屈折率が大きくなる樹脂をいう。正の固有複屈折値を有する樹脂としては、セルロースアシレート系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂を挙げることができる。 In the present invention, it is preferable that the film according to the present invention contains a resin having a positive intrinsic birefringence value. The “resin having a positive intrinsic birefringence value” refers to a resin having an increased refractive index in the stretched direction. Examples of the resin having a positive intrinsic birefringence value include cellulose acylate resins, cyclic olefin resins, and polycarbonate resins.
原料とする樹脂は、顔料や染料のごとき着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもよい。 The resin used as a raw material includes colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, UV absorbers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, and other compounding agents. It may be appropriately blended.
なお、フィルムは、単層フィルムであっても、多層フィルムであってもよい。 The film may be a single layer film or a multilayer film.
フィルムとしては、主として原反フィルムが用いられるが、既に縦延伸、横延伸、斜め延伸のいずれかを単独で、あるいは複数回実施したフィルムであっても構わない。 As the film, a raw film is mainly used, but it may be a film in which any one of longitudinal stretching, lateral stretching, and oblique stretching has already been carried out alone or multiple times.
<セルロースエステル>
本発明の位相差フィルムは、種々の樹脂基材を用いて作製することができるが、セルロースエステルを含有する態様であることが好ましい。従って、以下において、本発明の位相差フィルムをセルロースエステルフィルムと呼称する場合がある。
<Cellulose ester>
Although the retardation film of this invention can be produced using various resin base materials, it is preferable that it is an aspect containing a cellulose ester. Therefore, hereinafter, the retardation film of the present invention may be referred to as a cellulose ester film.
本発明に用いることができるセルロースエステルは、セルロース(ジ、トリ)アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。 The cellulose ester that can be used in the present invention is at least selected from cellulose (di, tri) acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose phthalate. One type is preferred.
これらの中で特に好ましいセルロースエステルは、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。 Among these, particularly preferable cellulose esters include cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate.
混合脂肪酸エステルの置換度として、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有している場合、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルであることが好ましい。すなわち、本発明の相差フィルムは、特に、アセチル基置換度が2.0〜2.6の範囲内にあるセルロースエステルを含有していることが好ましい。 As a substitution degree of the mixed fatty acid ester, when having an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, when the substitution degree of the acetyl group is X and the substitution degree of the propionyl group or butyryl group is Y, A cellulose ester that simultaneously satisfies the following formulas (I) and (II) is preferred. That is, the retardation film of the present invention preferably contains a cellulose ester having an acetyl group substitution degree in the range of 2.0 to 2.6.
式(I): 2.0≦X+Y≦3.0
式(II): 2.0≦X≦2.6
さらに、本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.5〜5.5のものが好ましく用いられ、特に好ましくは2.0〜5.0であり、さらに好ましくは2.5〜5.0であり、更に好ましくは3.0〜5.0のセルロースエステルが好ましく用いられる。
Formula (I): 2.0 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II): 2.0 ≦ X ≦ 2.6
Furthermore, the cellulose ester used in the present invention preferably has a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn ratio of 1.5 to 5.5, particularly preferably 2.0 to 5.0, Preferably it is 2.5-5.0, More preferably, the cellulose ester of 3.0-5.0 is used preferably.
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。 The cellulose ester raw material cellulose used in the present invention may be wood pulp or cotton linter, and the wood pulp may be softwood or hardwood, but softwood is more preferred. A cotton linter is preferably used from the viewpoint of peelability during film formation. The cellulose ester made from these can be mixed suitably or can be used independently.
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエステル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエステルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15、40:30:30で用いることができる。 For example, the ratio of cellulose ester derived from cellulose linter: cellulose ester derived from wood pulp (coniferous): cellulose ester derived from wood pulp (hardwood) is 100: 0: 0, 90: 10: 0, 85: 15: 0, 50:50: 0, 20: 80: 0, 10: 90: 0, 0: 100: 0, 0: 0: 100, 80:10:10, 85: 0: 15, 40:30:30.
本発明において、セルロースエステルは、20mlの純水(電気伝導度0.1μS/cm以下、pH6.8)に1g投入し、25℃、1hr、窒素雰囲気下にて攪拌した時のpHが6〜7、電気伝導度が1〜100μS/cmであることが好ましい。 In the present invention, 1 g of cellulose ester is added to 20 ml of pure water (electric conductivity of 0.1 μS / cm or less, pH 6.8), and the pH when stirred in a nitrogen atmosphere at 25 ° C. for 1 hr is 6 to 6. 7. It is preferable that the electric conductivity is 1 to 100 μS / cm.
また、セルロースエステルは、工業的には、硫酸を触媒として合成されているが、この硫酸は完全には除去されておらず、残留する硫酸が溶融製膜時に各種の分解反応を引き起こし、得られるセルロースエステルフィルムの品質に影響を与えるため、本発明に用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で0.1〜40ppmの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。残留硫酸含有量が40ppmを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着物が増加するため好ましくない。また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなるため好ましくない。少ない方が好ましいが、0.1未満とするにはセルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるため好ましくないだけでなく、逆に破断しやすくなることがあり好ましくない。これは洗浄回数が増えることが樹脂に影響を与えているのかもしれないがよく分かっていない。更に0.1〜30ppmの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、同様にASTM−D817−96により測定することができる。 In addition, cellulose ester is industrially synthesized using sulfuric acid as a catalyst, but this sulfuric acid is not completely removed, and the remaining sulfuric acid causes various decomposition reactions during melt film formation, and is obtained. In order to affect the quality of the cellulose ester film, the residual sulfuric acid content in the cellulose ester used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 40 ppm in terms of elemental sulfur. These are considered to be contained in the form of salts. If the residual sulfuric acid content exceeds 40 ppm, the deposit on the die lip during heat melting increases, such being undesirable. Moreover, since it becomes easy to fracture | rupture at the time of slitting at the time of hot drawing or after hot drawing, it is not preferable. A smaller amount is preferable, but if it is less than 0.1, it is not preferable because the load of the cellulose ester washing process becomes too large, and it is not preferable because it may easily break. This is not well understood, although an increase in the number of washings may affect the resin. Furthermore, the range of 0.1-30 ppm is preferable. The residual sulfuric acid content can be similarly measured by ASTM-D817-96.
また、その他(酢酸等)の残留酸を含めたトータル残留酸量は1000ppm以下が好ましく、500ppm以下が更に好ましく、100ppm以下がより好ましい。 Further, the total residual acid amount including other (such as acetic acid) residual acids is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and even more preferably 100 ppm or less.
セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去することができる。 For washing cellulose ester, in addition to water, a poor solvent such as methanol or ethanol, or, as a result, a mixed solvent of a poor solvent and a good solvent can be used as long as it is a poor solvent. Organic impurities can be removed.
また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去することができる。更に、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマー或いは低分子化合物を添加してもよい。 In order to improve the heat resistance, mechanical properties, optical properties, etc. of cellulose ester, it can be dissolved in a good solvent of cellulose ester and then reprecipitated in a poor solvent to remove low molecular weight components and other impurities of cellulose ester. it can. Furthermore, another polymer or a low molecular weight compound may be added after the cellulose ester reprecipitation treatment.
また、本発明で用いられるセルロースエステルはフィルムにした時の輝点異物が少ないものであることが好ましい。輝点異物とは、二枚の偏光板を直交に配置し(クロスニコル)、この間にセルロースエステルフィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面からセルロースエステルフィルムを観察した時に、光源の光が漏れて見える点のことである。このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物はセルロースエステルに含まれる未酢化もしくは低酢化度のセルロースがその原因の1つと考えられ、輝点異物の少ないセルロースエステルを用いることと、溶融したセルロースエステルもしくはセルロースエステル溶液を濾過すること、或いはセルロースエステルの合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少なくともいずれかにおいて、一度溶液状態として同様に濾過工程を経由して輝点異物を除去することもできる。溶融樹脂は粘度が高いため、後者の方法のほうが効率がよい。 Moreover, it is preferable that the cellulose ester used by this invention is a thing with few bright spot foreign materials when it is made into a film. A bright spot foreign material is an arrangement in which two polarizing plates are arranged orthogonally (crossed Nicols), a cellulose ester film is placed between them, light from the light source is applied from one side, and the cellulose ester film is applied from the other side. This is the point where the light from the light source appears to leak when observed. At this time, the polarizing plate used for the evaluation is desirably composed of a protective film having no bright spot foreign matter, and a polarizing plate using a glass plate for protecting the polarizer is preferably used. The cause of bright spot foreign matter is considered to be one of the causes of unacetylated or low acetylated cellulose contained in the cellulose ester. Use a cellulose ester with little bright spot foreign matter and filter the melted cellulose ester or cellulose ester solution. In at least one of the later stage of synthesis of cellulose ester and the process of obtaining a precipitate, the bright spot foreign matter can be removed once again in the solution state via the filtration step. Since the molten resin has a high viscosity, the latter method is more efficient.
なお、本発明の位相差フィルムには、本発明の効果を害しない限りにおいて、上記セルロースアセテート以外の熱可塑性樹脂を併用することもできる。 In addition, unless the effect of this invention is impaired, thermoplastic resins other than the said cellulose acetate can also be used together for the retardation film of this invention.
熱可塑性樹脂としては、一般的汎用樹脂としては、ポリエチレン(PE)、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン(PS)、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、テフロン(登録商標)(ポリテトラフルオロエチレン、PTFE)、ABS樹脂(アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂)、AS樹脂、アクリル樹脂(PMMA)等を用いることができる。 General thermoplastic resins include polyethylene (PE), high density polyethylene, medium density polyethylene, low density polyethylene, polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride, polystyrene (PS). Polyvinyl acetate (PVAc), Teflon (registered trademark) (polytetrafluoroethylene, PTFE), ABS resin (acrylonitrile butadiene styrene resin), AS resin, acrylic resin (PMMA), and the like can be used.
また、強度や壊れにくさを特に要求される場合、ポリアミド(PA)、ナイロン、ポリアセタール(POM)、ポリカーボネート(PC)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE、変性PPE、PPO)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、グラスファイバー強化ポリエチレンテレフタレート(GF−PET)、環状ポリオレフィン(COP)等を用いることができる。 When strength and resistance to breakage are particularly required, polyamide (PA), nylon, polyacetal (POM), polycarbonate (PC), modified polyphenylene ether (m-PPE, modified PPE, PPO), polybutylene terephthalate (PBT) ), Polyethylene terephthalate (PET), glass fiber reinforced polyethylene terephthalate (GF-PET), cyclic polyolefin (COP), and the like.
さらに、高い熱変形温度と長期使用できる特性を要求される場合は、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)、ポリスルホン、ポリエーテルサルフォン、非晶ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)等を用いることができる。 Furthermore, when high heat distortion temperature and long-term use characteristics are required, polyphenylene sulfide (PPS), polytetrafluoroethylene (PTFE), polysulfone, polyethersulfone, amorphous polyarylate, liquid crystal polymer, polyether Ether ketone, thermoplastic polyimide (PI), polyamideimide (PAI), or the like can be used.
なお、本発明の用途にそって樹脂の種類、分子量の組み合わせを行うことが可能である。 In addition, it is possible to perform the kind of resin and the combination of molecular weight according to the use of this invention.
本発明の位相差フィルムは、後述するセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにした時の透過率が80%以上、更に好ましくは90%以上、更に好ましくは92%以上であることが好ましい。 The retardation film of the present invention may be appropriately mixed with polymer components other than the cellulose ester described later. The polymer component to be mixed is preferably one having excellent compatibility with the cellulose ester, and the transmittance when formed into a film is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 92% or more.
<添加剤>
ドープ中に添加される添加剤としては、可塑剤、紫外線吸収剤、リターデーション調整剤、酸化防止剤、劣化防止剤、剥離助剤、界面活性剤、染料、微粒子等がある。本発明において、微粒子以外の添加剤についてはセルロースエステル溶液の調製の際に添加してもよいし、微粒子分散液の調製の際に添加してもよい。液晶画像表示装置に使用する偏光板には耐熱耐湿性を付与する可塑剤、酸化防止剤や紫外線吸収剤等を添加することが好ましい。以下に添加剤を説明する。
<Additives>
Additives added to the dope include plasticizers, ultraviolet absorbers, retardation adjusters, antioxidants, deterioration inhibitors, peeling aids, surfactants, dyes, fine particles, and the like. In the present invention, additives other than fine particles may be added during the preparation of the cellulose ester solution, or may be added during the preparation of the fine particle dispersion. It is preferable to add a plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, or the like that imparts heat and moisture resistance to the polarizing plate used in the liquid crystal image display device. The additive will be described below.
(一般式A(1)で表される化合物)
本発明に好ましく用いられる下記一般式A(1)で表される化合物、及び参考化合物を、以下に記載するが本発明はこれらに限定されない。
(Compound represented by Formula A (1))
A compound represented by the following formula A (1) and a reference compound that are preferably used in the present invention are described below, but the present invention is not limited thereto.
一般式A(1)中、R1〜R8は、各々独立に、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、若しくは、置換又は無置換のアリールカルボニル基を表し、R1〜R8は相互に同じであっても、異なっていてもよい。なお、下表中に記載のRは、R1〜R8のうちのいずれかを表す。アルキルカルボニル基及びアリールカルボニル基の置換基としては、下表に示すアルキルカルボニル基及びアリールカルボニル基が有するフェニル基、アルコキシ基等の置換基が好ましい。 In General Formula A (1), R 1 to R 8 each independently represent a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group or a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group, and R 1 to R 8 are the same as each other. Or different. In addition, R described in the following table represents any one of R 1 to R 8 . As the substituent for the alkylcarbonyl group and the arylcarbonyl group, substituents such as a phenyl group and an alkoxy group included in the alkylcarbonyl group and the arylcarbonyl group shown in the following table are preferable.
(合成例:本発明に用いられる化合物の合成) (Synthesis Example: Synthesis of Compound Used in the Present Invention)
撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖34.2g(0.1モル)、無水安息香酸180.8g(0.8モル)、ピリジン379.7g(4.8モル)を仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、70℃で5時間エステル化反応を行った。次に、コルベン内を4×102Pa以下に減圧し、60℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を1.3×10Pa以下に減圧し、120℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン1L、0.5質量%の炭酸ナトリウム水溶液300gを添加し、50℃で30分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水100gを添加し、常温で30分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下(4×102Pa以下)、60℃でトルエンを留去させ、化合物A−1、A−2、A−3、A−4及びA−5の混合物を得た。得られた混合物をHPLC及びLC−MASSで解析したところ、A−1が7質量%、A−2が58質量%、A−3が23質量%、A−4が9質量%、A−5が3質量%であった。なお、得られた混合物の一部をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度100%のA−1、A−2、A−3、A−4及びA−5を得た。 A four-headed colben equipped with a stirrer, a reflux condenser, a thermometer, and a nitrogen gas inlet tube was mixed with 34.2 g (0.1 mol) of sucrose, 180.8 g (0.8 mol) of benzoic anhydride, 379. 7 g (4.8 mol) was charged, the temperature was raised while bubbling nitrogen gas from a nitrogen gas introduction tube with stirring, and an esterification reaction was carried out at 70 ° C. for 5 hours. Next, the inside of the Kolben was depressurized to 4 × 10 2 Pa or less, and after excess pyridine was distilled off at 60 ° C., the inside of the Kolben was depressurized to 1.3 × 10 Pa or less and the temperature was raised to 120 ° C. Most of the acid and benzoic acid formed were distilled off. Then, 1 L of toluene and 300 g of a 0.5% by mass aqueous sodium carbonate solution were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 30 minutes and then allowed to stand to separate a toluene layer. Finally, 100 g of water is added to the collected toluene layer, and after washing with water at room temperature for 30 minutes, the toluene layer is separated, and toluene is distilled off at 60 ° C. under reduced pressure (4 × 10 2 Pa or less). A mixture of A-1, A-2, A-3, A-4 and A-5 was obtained. When the obtained mixture was analyzed by HPLC and LC-MASS, A-1 was 7% by mass, A-2 was 58% by mass, A-3 was 23% by mass, A-4 was 9% by mass, A-5. Was 3% by mass. A part of the obtained mixture was purified by column chromatography using silica gel to obtain A-1, A-2, A-3, A-4 and A-5 having a purity of 100%, respectively. .
本発明の位相差フィルムに添加される、一般式A(1)で表される化合物の総平均置換度は6.1〜6.9であるが、当該置換度の範囲は4.0〜8.0であることが好ましい。置換度分布は、エステル化反応時間の調節、又は置換度違いの化合物を混合することにより目的の置換度に調整してもよい。 The total average substitution degree of the compound represented by the general formula A (1) added to the retardation film of the present invention is 6.1 to 6.9, and the range of the substitution degree is 4.0 to 8. 0.0 is preferred. The substitution degree distribution may be adjusted to the desired substitution degree by adjusting the esterification reaction time or mixing compounds having different substitution degrees.
(可塑剤)
本発明の位相差フィルムには、所謂可塑剤として知られる化合物を、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、リターデーション調整等の目的で添加することが好ましく、例えばリン酸エステルやカルボン酸エステルが好ましく用いられる。
(Plasticizer)
It is preferable to add a compound known as a so-called plasticizer to the retardation film of the present invention for the purpose of improving mechanical properties, imparting flexibility, imparting water absorption resistance, reducing water vapor permeability, adjusting retardation, and the like. For example, phosphoric acid esters and carboxylic acid esters are preferably used.
可塑剤はセルロースエステルフィルム中に1〜40質量%、特に1〜30質量%含有することが好ましい。 The plasticizer is preferably contained in the cellulose ester film in an amount of 1 to 40% by mass, particularly 1 to 30% by mass.
リン酸エステルとしては、例えばトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることができる。 Examples of phosphate esters include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, phenyl diphenyl phosphate, and the like.
カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル酸エステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエチルホスフェート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等、またクエン酸エステルとしてはクエン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチルを挙げることができる。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル、トリアセチン等も挙げられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートもこの目的で好ましく用いられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートのアルキルは炭素原子数1〜8のアルキル基である。アルキルフタリルアルキルグリコレートとしてはメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることができ、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートが好ましく用いられる。またこれらアルキルフタリルアルキルグリコレートを二種以上混合して使用してもよい。 Examples of the carboxylic acid ester include phthalic acid ester and citric acid ester. Examples of the phthalic acid ester include dimethyl phthalate, diethyl phosphate, dioctyl phthalate and diethyl hexyl phthalate. Mention may be made of tributyl. Other examples include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and triacetin. Alkylphthalylalkyl glycolates are also preferably used for this purpose. The alkyl in the alkylphthalylalkyl glycolate is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, Ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, propyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl Phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl Collate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalyl ethyl glycolate and the like can be mentioned, such as methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, Octyl phthalyl octyl glycolate is preferably used. These alkyl phthalyl alkyl glycolates may be used in combination of two or more.
また、可塑剤として特許第3793184号公報記載の下記一般式(1)〜(3)で表されるクエン酸エステル系可塑剤を用いることも好ましい。 Moreover, it is also preferable to use the citrate plasticizer represented by the following general formulas (1) to (3) described in Japanese Patent No. 3793184 as a plasticizer.
また、多価アルコールエステルも好ましく用いられる。 Polyhydric alcohol esters are also preferably used.
本発明の位相差フィルムに用いられる多価アルコールは次の一般式(4)で表される。 The polyhydric alcohol used in the retardation film of the present invention is represented by the following general formula (4).
一般式(4):R1−(OH)n
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/又はフェノール性ヒドロキシル基(水酸基)を表す。
General formula (4): R < 1 > -(OH) n
However, R 1 represents an n-valent organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and an OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group (hydroxyl group).
多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。 The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。 Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, xylitol and the like. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for polyhydric alcohol ester, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。 Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。 As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。 Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。 Examples of preferred alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentane carboxylic acid, cyclohexane carboxylic acid, cyclooctane carboxylic acid, or derivatives thereof.
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を二個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。 Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. The aromatic monocarboxylic acid which has, or those derivatives can be mentioned. Benzoic acid is particularly preferable.
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。 The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A higher molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。 The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.
以下に、本発明に用いられる多価アルコールエステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。 Although the specific compound of the polyhydric alcohol ester plasticizer used for this invention is shown below, this invention is not limited to this.
これらの化合物は、セルロースエステルに対して1〜30質量%、好ましくは1〜20質量%となるように含まれていることが好ましい。また、延伸及び乾燥中のブリードアウト等を抑制させるため、200℃における蒸気圧が1400Pa以下の化合物であることが好ましい。 It is preferable that these compounds are contained so that it may become 1-30 mass% with respect to a cellulose ester, Preferably it is 1-20 mass%. In order to suppress bleeding out during stretching and drying, a compound having a vapor pressure at 200 ° C. of 1400 Pa or less is preferable.
これらの化合物は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。 These compounds may be added together with the cellulose ester or the solvent during the preparation of the cellulose ester solution, or may be added during or after the solution preparation.
更に本発明では、下記一般式(5)で表される芳香族末端エステル系可塑剤を用いることが好ましい。 Furthermore, in this invention, it is preferable to use the aromatic terminal ester plasticizer represented by following General formula (5).
一般式(5):B−(G−A)n−G−B
(式中、Bはベンゼンモノカルボン酸残基、Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基又は炭素数6〜12のアリールグリコール残基又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表し、またnは1以上の整数を表す。)
一般式(5)中、Bで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とGで示されるアルキレングリコール残基又はオキシアルキレングリコール残基又はアリールグリコール残基、Aで示されるアルキレンジカルボン酸残基又はアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
General formula (5): B- (GA) n-GB
(In the formula, B is a benzene monocarboxylic acid residue, G is an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an aryl glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12 carbon atoms, A represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an aryl dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)
In general formula (5), a benzene monocarboxylic acid residue represented by B and an alkylene glycol residue, an oxyalkylene glycol residue or an aryl glycol residue represented by G, an alkylene dicarboxylic acid residue or aryl dicarboxylic group represented by A It is composed of an acid residue and can be obtained by a reaction similar to that of a normal polyester plasticizer.
本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ一種又は二種以上の混合物として使用することができる。 Examples of the benzene monocarboxylic acid component of the aromatic terminal ester plasticizer used in the present invention include, for example, benzoic acid, para-tert-butylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, p-toluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, There are normal propyl benzoic acid, aminobenzoic acid, acetoxybenzoic acid and the like, and these can be used as one kind or a mixture of two or more kinds, respectively.
本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤の炭素数2〜12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2−メチル1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロ−ルペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル1,3−ペンタンジオール、2−エチル1,3−ヘキサンジオール、2−メチル1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用される。 Examples of the alkylene glycol component having 2 to 12 carbon atoms of the aromatic terminal ester plasticizer used in the present invention include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, , 3-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2, 2-diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl-1 , 5-pentanediol 1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl 1,3-pentanediol, 2-ethyl 1,3 There are hexanediol, 2-methyl 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-octadecanediol, etc., and these glycols are used as one kind or a mixture of two or more kinds. used.
また、芳香族末端エステルの炭素数4〜12のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用できる。 Examples of the oxyalkylene glycol component having 4 to 12 carbon atoms of the aromatic terminal ester include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and the like. It can be used as a mixture of two or more.
また、芳香族末端エステルの炭素数6〜12のアリールグリコール成分としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用できる。 Examples of the aryl glycol component having 6 to 12 carbon atoms of the aromatic terminal ester include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol, and these glycols are used as one kind or a mixture of two or more kinds. it can.
芳香族末端エステルの炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ一種又は二種以上の混合物として使用される。炭素数6〜12のアリールジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、1,5ナフタレンジカルボン酸、1,4ナフタレンジカルボン酸等がある。 Examples of the alkylene dicarboxylic acid component having 4 to 12 carbon atoms of the aromatic terminal ester include succinic acid, maleic acid, fumaric acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedicarboxylic acid. These are used as one kind or a mixture of two or more kinds. Examples of the aryl dicarboxylic acid component having 6 to 12 carbon atoms include phthalic acid, terephthalic acid, 1,5 naphthalene dicarboxylic acid, and 1,4 naphthalene dicarboxylic acid.
芳香族末端エステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは300〜2000、より好ましくは500〜1500の範囲が好適である。また、その酸価は、0.5mgKOH/g以下、ヒドロキシル(水酸基)価は25mgKOH/g以下、より好ましくは酸価0.3mgKOH/g以下、ヒドロキシル(水酸基)価は15mgKOH/g以下のものが好適である。 The aromatic terminal ester plasticizer has a number average molecular weight of preferably 300 to 2000, more preferably 500 to 1500. The acid value is 0.5 mgKOH / g or less, the hydroxyl (hydroxyl) value is 25 mgKOH / g or less, more preferably the acid value is 0.3 mgKOH / g or less, and the hydroxyl (hydroxyl) value is 15 mgKOH / g or less. Is preferred.
〈芳香族末端エステルの酸価、ヒドロキシル(水酸基)価〉
酸価とは、試料1g中に含まれる酸(分子末端に存在するカルボキシル基)を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価及びヒドロキシル(水酸基)価はJIS K0070(1992)に準拠して測定したものである。
<Acid value of hydroxyl terminal ester, hydroxyl value>
The acid value means the number of milligrams of potassium hydroxide necessary for neutralizing the acid (carboxyl group present at the molecular end) contained in 1 g of the sample. The acid value and hydroxyl (hydroxyl group) value are measured according to JIS K0070 (1992).
以下、本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。 Hereinafter, the synthesis example of the aromatic terminal ester plasticizer used for this invention is shown.
〈サンプルNo.1(芳香族末端エステルサンプル)〉
反応容器に、フタル酸820部(5モル)、1,2−プロピレングリコール608部(8モル)、安息香酸610部(5モル)及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.30部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の1価アルコールを還流させながら、酸価が2以下になるまで130〜250℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで200〜230℃で6.65×103Pa〜最終的に4×102Pa以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
<Sample No. 1 (Aromatic terminal ester sample)>
Into a reaction vessel, 820 parts (5 moles) of phthalic acid, 608 parts (8 moles) of 1,2-propylene glycol, 610 parts (5 moles) of benzoic acid and 0.30 parts of tetraisopropyl titanate as a catalyst are charged all at once. While stirring in an air stream, a reflux condenser was attached to reflux excess monohydric alcohol, and heating was continued at 130 to 250 ° C. until the acid value became 2 or less, and water produced was continuously removed. Next, the distillate is removed under reduced pressure of 6.65 × 10 3 Pa to 4 × 10 2 Pa or less at 200 to 230 ° C., followed by filtration to obtain an aromatic terminal ester having the following properties. It was.
粘度(25℃、mPa・s);19815
酸価 ;0.4
〈サンプルNo.2(芳香族末端エステルサンプル)〉
反応容器に、アジピン酸500部(3.5モル)、安息香酸305部(2.5モル)、ジエチレングリコール583部(5.5モル)及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.45部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
Viscosity (25 ° C., mPa · s); 19815
Acid value: 0.4
<Sample No. 2 (Aromatic terminal ester sample)>
A sample was used except that 500 parts (3.5 moles) of adipic acid, 305 parts (2.5 moles) of benzoic acid, 583 parts (5.5 moles) of diethylene glycol, and 0.45 parts of tetraisopropyl titanate as a catalyst were used in the reaction vessel. No. In the same manner as in No. 1, an aromatic terminal ester having the following properties was obtained.
粘度(25℃、mPa・s);90
酸価 ;0.05
〈サンプルNo.3(芳香族末端エステルサンプル)〉
反応容器にフタル酸410部(2.5モル)、安息香酸610部(5モル)、ジプロピレングリコール737部(5.5モル)及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.40部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。
Viscosity (25 ° C., mPa · s); 90
Acid value: 0.05
<Sample No. 3 (Aromatic terminal ester sample)>
Sample No. except that 410 parts (2.5 moles) of phthalic acid, 610 parts (5 moles) of benzoic acid, 737 parts (5.5 moles) of dipropylene glycol and 0.40 parts of tetraisopropyl titanate as the catalyst were used in the reaction vessel. . In the same manner as in No. 1, an aromatic terminal ester plasticizer having the following properties was obtained.
粘度(25℃、mPa・s);43400
酸価 ;0.2
以下に、本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
Viscosity (25 ° C., mPa · s); 43400
Acid value: 0.2
Although the specific compound of the aromatic terminal ester plasticizer used for this invention below is shown, this invention is not limited to this.
本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤の含有量は、セルロースエステルフィルム中に1〜20質量%含有することが好ましく、特に3〜11質量%含有することが好ましい。 The content of the aromatic terminal ester plasticizer used in the present invention is preferably 1 to 20% by mass, and particularly preferably 3 to 11% by mass in the cellulose ester film.
(ポリエステルポリオール)
本発明で用いられるポリエステルポリオールは、二塩基酸又はこれらのエステル形成性誘導体とグリコールとの縮合反応により得ることができる末端がヒドロキシル基(水酸基)となる重合体である。ここで言うエステル形成性誘導体とは、二塩基酸のエステル化物、二塩基酸クロライド、二塩基酸の無水物のことである。
(Polyester polyol)
The polyester polyol used in the present invention is a polymer having a hydroxyl group (hydroxyl group) at the end that can be obtained by a condensation reaction between a dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and glycol. The ester-forming derivatives referred to here are esterified products of dibasic acids, dibasic acid chlorides, and anhydrides of dibasic acids.
前記ポリエステルポリオールは、芳香族二塩基酸とグリコールとの脱水縮合反応、芳香族無水二塩基酸へのグリコールの付加及び脱水縮合反応、又は芳香族二塩基酸のエステル化物とグリコールとの脱アルコールによる縮合反応により得ることができる。 The polyester polyol is obtained by dehydration condensation reaction of aromatic dibasic acid and glycol, addition of glycol to aromatic anhydride dibasic acid and dehydration condensation reaction, or by alcohol removal of esterified product of aromatic dibasic acid and glycol. It can be obtained by a condensation reaction.
前記芳香族二塩基酸又はこれらのエステル形成性誘導体として、単独で10〜16個の炭素原子を有する芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体を使用できるが、例えばベンゼン環構造、ナフタレン環構造、アントラセン環構造等の芳香族環式構造を有するジカルボン酸やそのエステル形成性誘導体を使用することができ、例えば置換基を有するオルソフタル酸、置換基を有するイソフタル酸、置換基を有するテレフタル酸、置換基を有する無水フタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,8−ナフタレンジカルボン酸、2,6−アントラセンジカルボン酸等やこれらのエステル化物、及び酸塩化物、1,8−ナフタレンジカルボン酸の酸無水物等を挙げることができ、これらは芳香族環に置換基を有していても良く、これらを単独で使用又は二種以上併用できる。好ましくは、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,8−ナフタレンジカルボン酸及びそのエステル化物であり、更に好ましくは、2,3−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸及びそのエステル化物であり、特に好ましくは、2,6−ナフタレンジカルボン酸及びそのエステル化物である。 As the aromatic dibasic acid or an ester-forming derivative thereof, an aromatic dicarboxylic acid having 10 to 16 carbon atoms or an ester-forming derivative thereof can be used. For example, a benzene ring structure, a naphthalene ring structure, Dicarboxylic acids having an aromatic ring structure such as anthracene ring structure and ester-forming derivatives thereof can be used. For example, orthophthalic acid having a substituent, isophthalic acid having a substituent, terephthalic acid having a substituent, substituted Group-containing phthalic anhydride, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6 -Anthracene dicarboxylic acid and the like, esterified products thereof, acid chlorides, 1,8-naphtha Etc. can be mentioned acid anhydrides Njikarubon acid, they may have a substituent on the aromatic ring, it can be used in combination used or two or more of these alone. 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid and esterified products thereof, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and esterified products thereof are preferable, and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and esterified products thereof are particularly preferable.
前記ポリエステルポリオールの二塩基酸の炭素数の平均とは、単一の二塩基酸を用いてポリエステルポリオールを重合する場合は当該二塩基酸の炭素数を意味するが、二種以上の二塩基酸を用いてポリエステルポリオールを重合する場合、それぞれの二塩基酸の炭素数とその二塩基酸のモル分率の積の合計を意味する。 The average number of carbon atoms of the dibasic acid of the polyester polyol means the number of carbon atoms of the dibasic acid when the polyester polyol is polymerized using a single dibasic acid. When the polyester polyol is polymerized using, it means the sum of the products of the carbon number of each dibasic acid and the molar fraction of the dibasic acid.
本発明において、ポリエステルポリオールの原料として使用する二塩基酸の炭素数の平均が10〜16の範囲であることが重要である。かかる二塩基酸の炭素数の平均が10以上であれば、リターデーションの発現性に優れ、炭素数の平均が16以下であれば、セルロースエステルとの相溶性が著しく優れる。二塩基酸として、好ましくは炭素数の平均が10〜14であり、更に好ましくは炭素数の平均が10〜12である。 In the present invention, it is important that the average number of carbon atoms of the dibasic acid used as a raw material for the polyester polyol is in the range of 10 to 16. If the average carbon number of the dibasic acid is 10 or more, the retardation is excellent. If the average carbon number is 16 or less, the compatibility with the cellulose ester is remarkably excellent. As a dibasic acid, Preferably the average of carbon number is 10-14, More preferably, the average of carbon number is 10-12.
前記炭素数の平均が10〜16であれば、前記10〜16個の炭素原子を有する芳香族二塩基酸とそれ以外の二塩基酸を併用することができる。 If the average carbon number is 10 to 16, the aromatic dibasic acid having 10 to 16 carbon atoms and the other dibasic acid can be used in combination.
併用できる二塩基酸として、4〜9個の炭素原子を有するジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体が好ましく、例えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、オルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、無水フタル酸等やこれらのエステル化物、及び酸塩化物を挙げることができる。 The dibasic acid that can be used in combination is preferably a dicarboxylic acid having 4 to 9 carbon atoms or an ester-forming derivative thereof. For example, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, maleic acid, succinic anhydride, maleic anhydride, orthophthalic acid Examples thereof include acids, isophthalic acid, terephthalic acid, phthalic anhydride and the like, esterified products, and acid chlorides thereof.
前記グリコールとしては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、2−メチル1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,2−シクロペンタンジオール、1,3−シクロペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール等を単独で使用又は二種以上併用することができ、なかでもエチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、2−メチル1,3−プロパンジオールが好ましく、更に好ましくは、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2−プロピレングリコールである。 Examples of the glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propanediol, 2-methyl 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,2-cyclopentanediol, 1,3-cyclopentanediol, 1,4-cyclohexanediol Etc. can be used alone or in combination of two or more, among which ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 2-methyl 1,3-propanediol are preferred, more preferably ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2- Russia is propylene glycol.
本発明に用いられるポリエステルポリオールは、前記二塩基酸又はそれらのエステル形成性誘導体とグリコールを必要に応じてエステル化触媒の存在下で、例えば、180〜250℃の温度範囲内で、10〜25時間、周知慣用の方法でエステル化反応させることによって製造することができる。 The polyester polyol used in the present invention comprises the dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and a glycol, if necessary, in the presence of an esterification catalyst, for example, within a temperature range of 180 to 250 ° C. It can be produced by an esterification reaction in a well-known and conventional manner for a time.
エステル化反応を行う際に、トルエン、キシレン等の溶媒を用いても良いが、無溶媒若しくは原料として使用するグリコールを溶媒として用いる方法が好ましい。 In conducting the esterification reaction, a solvent such as toluene or xylene may be used, but a method using no solvent or glycol used as a raw material as a solvent is preferable.
前記エステル化触媒としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、p−トルエンスルホン酸、ジブチル錫オキサイド等を使用することができる。前記エステル化触媒は、二塩基酸又はそれらのエステル形成性誘導体の全量100質量部に対して0.01〜0.5質量部使用することが好ましい。 As the esterification catalyst, for example, tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, p-toluenesulfonic acid, dibutyltin oxide and the like can be used. The esterification catalyst is preferably used in an amount of 0.01 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of dibasic acids or their ester-forming derivatives.
二塩基酸又はそれらのエステル形成性誘導体とグリコールを反応させる際のモル比は、ポリエステルの末端基がヒドロキシル基(水酸基)となるモル比でなければならず、そのため二塩基酸又はそれらのエステル形成性誘導体1モルに対してグリコールは1.1〜10モルである。好ましくは、二塩基酸又はそれらのエステル形成性誘導体1モルに対して、グリコールが1.5〜7モルであり、更に好ましくは、二塩基酸又はそれらのエステル形成性誘導体1モルに対して、グリコールが2〜5モルである。 The molar ratio in reacting the dibasic acid or their ester-forming derivative with glycol must be such that the terminal group of the polyester becomes a hydroxyl group (hydroxyl group), and therefore the dibasic acid or their ester formation. The glycol is 1.1 to 10 moles per mole of the functional derivative. Preferably, glycol is 1.5 to 7 moles with respect to 1 mole of dibasic acid or an ester-forming derivative thereof, and more preferably with respect to 1 mole of dibasic acid or an ester-forming derivative thereof. 2-5 moles of glycol.
一方、前記ポリエステルポリオール中に於けるカルボキシル基末端は、湿度安定性を低下させるため、その含有量は低い方が好ましい。具体的には、酸価5.0以下が好ましく、更に好ましくは1.0以下であり、特に好ましくは0.5以下である。 On the other hand, the carboxyl group terminal in the polyester polyol lowers the humidity stability, so the content is preferably low. Specifically, the acid value is preferably 5.0 or less, more preferably 1.0 or less, and particularly preferably 0.5 or less.
ここで言う酸価とは、試料1g中に含まれる酸(試料中に存在するカルボキシル基)を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はJIS K0070に準拠して測定したものである。 The acid value as used herein refers to the number of milligrams of potassium hydroxide necessary to neutralize the acid (carboxyl group present in the sample) contained in 1 g of the sample. The acid value is measured according to JIS K0070.
前記ポリエステルポリオールは、ヒドロキシル(水酸基)価(OHV)が35mg/g〜220mg/gの範囲であることが好ましい。ここで言うヒドロキシル(水酸基)価とは、試料1g中に含まれるOH基をアセチル化したときに、ヒドロキシル基(水酸基)と結合した酢酸を中和するために要する水酸化カリウムのミリグラム数をいう。無水酢酸を用いて試料中のOH基をアセチル化し、使われなかった酢酸を水酸化カリウム溶液で滴定し、初期の無水酢酸の滴定値との差より求める。 The polyester polyol preferably has a hydroxyl (hydroxyl) value (OHV) in the range of 35 mg / g to 220 mg / g. The hydroxyl (hydroxyl group) value as used herein refers to the number of milligrams of potassium hydroxide required to neutralize acetic acid bonded to a hydroxyl group (hydroxyl group) when OH groups contained in 1 g of a sample are acetylated. . Acetic anhydride is used to acetylate OH groups in the sample, and unused acetic acid is titrated with a potassium hydroxide solution, and obtained from the difference from the initial titration value of acetic anhydride.
前記ポリエステルポリオールのヒドロキシル基(水酸基)含有量は、70%以上であることが好ましい。ヒドロキシル基(水酸基)含有量が少ない場合、ポリエステルポリオールとセルロースエステルとの相溶性が低下する。このため、ヒドロキシル基(水酸基)含有量は、70%以上が好ましく、更に好ましくは90%以上であり、最も好ましくは99%以上である。 The polyester polyol preferably has a hydroxyl group (hydroxyl group) content of 70% or more. When the hydroxyl group (hydroxyl group) content is low, the compatibility between the polyester polyol and the cellulose ester is lowered. For this reason, the hydroxyl group (hydroxyl group) content is preferably 70% or more, more preferably 90% or more, and most preferably 99% or more.
本発明において、ヒドロキシル基(水酸基)含有量が50%以下の化合物は、末端基の一方がヒドロキシル基(水酸基)以外の基で置換されているためヒドロキシル基(水酸基)ポリエステルポリオールには含まれない。 In the present invention, a compound having a hydroxyl group (hydroxyl group) content of 50% or less is not included in the hydroxyl group (hydroxyl group) polyester polyol because one of the end groups is substituted with a group other than the hydroxyl group (hydroxyl group). .
前記ヒドロキシル基(水酸基)含有量は、下記の式(A)により求めることができる。式(A):Y/X×100=ヒドロキシル基(水酸基)含有量(%)
X:前記ポリエステルポリオールのヒドロキシル(水酸基)価(OHV)
Y:1/(数平均分子量(Mn))×56×2×1000
前記ポリエステルポリオールは、300〜3000の範囲内の数平均分子量を有することが好ましく、350〜2000の数平均分子量を有することがより好ましい。
The hydroxyl group (hydroxyl group) content can be determined by the following formula (A). Formula (A): Y / X × 100 = hydroxyl group (hydroxyl group) content (%)
X: hydroxyl value (OHV) of the polyester polyol
Y: 1 / (number average molecular weight (Mn)) × 56 × 2 × 1000
The polyester polyol preferably has a number average molecular weight within a range of 300 to 3,000, and more preferably has a number average molecular weight of 350 to 2,000.
また、本発明に用いられるポリエステルポリオールの分子量の分散度は1.0〜3.0であることが好ましく、1.0〜2.0であることが更に好ましい。分散度が上記範囲以内であれば、セルロースエステルとの相溶性に優れたポリエステルポリオールを得ることができる。また、前記ポリエステルポリオールは、分子量が300〜1800の成分を50%以上含有することが好ましい。数平均分子量を前記範囲とすることにより、相溶性を大幅に向上させることができる。 Moreover, it is preferable that the dispersion degree of the molecular weight of the polyester polyol used for this invention is 1.0-3.0, and it is still more preferable that it is 1.0-2.0. If the degree of dispersion is within the above range, a polyester polyol having excellent compatibility with the cellulose ester can be obtained. The polyester polyol preferably contains 50% or more of a component having a molecular weight of 300 to 1800. By setting the number average molecular weight within the above range, the compatibility can be greatly improved.
数平均分子量、分散度及び成分含有率を上記の好ましい範囲に制御する方法として、二塩基酸又はそれらのエステル形成性誘導体1モルに対してグリコールを2〜5モル使用し、未反応のグリコールを減圧留去する方法が好ましい。減圧留去する温度は、100〜200℃が好ましく、更に好ましくは120〜180℃であり、特に好ましくは130〜170℃が好ましい。減圧留去する際の減圧度は、0.01〜67kPa(0.1〜500Torr)が好ましく、更に好ましくは0.06〜27kPa(0.5〜200Torr)であり、最も好ましくは0.13〜13kPa(1〜100Torr)である。 As a method for controlling the number average molecular weight, the degree of dispersion, and the component content within the above preferred range, 2 to 5 mol of glycol is used per 1 mol of dibasic acid or ester-forming derivative thereof, and unreacted glycol is used. A method of distilling off under reduced pressure is preferred. The temperature at which the solvent is distilled off under reduced pressure is preferably 100 to 200 ° C, more preferably 120 to 180 ° C, and particularly preferably 130 to 170 ° C. The degree of reduced pressure when distilled off under reduced pressure is preferably 0.01 to 67 kPa (0.1 to 500 Torr), more preferably 0.06 to 27 kPa (0.5 to 200 Torr), and most preferably 0.13 to 13 kPa (1 to 100 Torr).
ポリエステルポリオール数平均分子量(Mn)及び分散度は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定することができる。 The polyester polyol number average molecular weight (Mn) and dispersity can be measured using gel permeation chromatography (GPC).
測定条件の一例は以下の通りであるが、これに限られることはなく、同等の測定方法を用いることも可能である。 An example of measurement conditions is as follows, but is not limited to this, and an equivalent measurement method can be used.
溶媒: テトラヒドロフラン(THF)
カラム: TSKgel G2000HXL(東ソー(株)製を2本接続して使用する。)
カラム温度:40℃
試料濃度: 0.1質量%
装置: HLC−8220(東ソー(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: PStQuick F(東ソー(株)製)による校正曲線を使用する。
Solvent: Tetrahydrofuran (THF)
Column: TSKgel G2000HXL (Tosoh Co., Ltd., two connected and used)
Column temperature: 40 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Apparatus: HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corporation)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: A calibration curve by PStQuick F (manufactured by Tosoh Corporation) is used.
本発明の効果を得る上で、ポリエステルポリオールをフィルム中に5〜30質量%含有することが好ましい。より好ましくは5〜20質量%である。 In obtaining the effects of the present invention, the polyester polyol is preferably contained in the film in an amount of 5 to 30% by mass. More preferably, it is 5-20 mass%.
以下に、炭素数が10〜16である二塩基酸の具体例を示すが、本発明はこれに限定されない。 Specific examples of dibasic acids having 10 to 16 carbon atoms are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(1)2,6−ナフタレンジカルボン酸
(2)2,3−ナフタレンジカルボン酸
(3)2,6−アントラセンジカルボン酸
(4)2,6−ナフタレンジカルボン酸:コハク酸(75:25〜99:1 モル比)
(5)2,6−ナフタレンジカルボン酸:テレフタル酸(50:50〜99:1 モル比)
(6)2,3−ナフタレンジカルボン酸:コハク酸(75:25〜99:1 モル比)
(7)2,3−ナフタレンジカルボン酸:テレフタル酸(50:50〜99:1 モル比)
(8)2,6−アントラセンジカルボン酸:コハク酸(50:50〜99:1 モル比)
(9)2,6−アントラセンジカルボン酸:テレフタル酸(25:75〜99:1 モル比)
(10)2,6−ナフタレンジカルボン酸:アジピン酸(67:33〜99:1 モル比)
(11)2,3−ナフタレンジカルボン酸:アジピン酸(67:33〜99:1 モル比)
(12)2,6−アントラセンジカルボン酸:アジピン酸(40:60〜99:1 モル比)
(紫外線吸収剤)
本発明の位相差フィルムには、紫外線吸収剤を含有させることができる。使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号、同8−337574号、特開2001−72782号記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号、特開2002−31715号、同2002−169020号、同2002−47357号、同2002−363420号、同2003−113317号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ、液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
(1) 2,6-naphthalenedicarboxylic acid (2) 2,3-naphthalenedicarboxylic acid (3) 2,6-anthracenedicarboxylic acid (4) 2,6-naphthalenedicarboxylic acid: succinic acid (75: 25-99: 1 molar ratio)
(5) 2,6-naphthalenedicarboxylic acid: terephthalic acid (50:50 to 99: 1 molar ratio)
(6) 2,3-naphthalenedicarboxylic acid: succinic acid (75:25 to 99: 1 molar ratio)
(7) 2,3-naphthalenedicarboxylic acid: terephthalic acid (50:50 to 99: 1 molar ratio)
(8) 2,6-anthracene dicarboxylic acid: succinic acid (50:50 to 99: 1 molar ratio)
(9) 2,6-anthracene dicarboxylic acid: terephthalic acid (25:75 to 99: 1 molar ratio)
(10) 2,6-naphthalenedicarboxylic acid: adipic acid (67:33 to 99: 1 molar ratio)
(11) 2,3-naphthalenedicarboxylic acid: adipic acid (67:33 to 99: 1 molar ratio)
(12) 2,6-anthracene dicarboxylic acid: adipic acid (40:60 to 99: 1 molar ratio)
(UV absorber)
The retardation film of the present invention can contain an ultraviolet absorber. Examples of the ultraviolet absorber that can be used include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, triazine compounds, and the like. A benzotriazole-based compound with little coloring is preferable. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A-10-182621, JP-A-8-337574, JP-A-2001-72782, JP-A-6-148430, JP-A-2002-31715, JP-A-2002-169020, 2002-2002. Polymer ultraviolet absorbers described in 47357, 2002-363420, and 2003-113317 are also preferably used. As an ultraviolet absorber, from the viewpoint of preventing the deterioration of polarizers and liquid crystals, it is excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less, and from the viewpoint of liquid crystal display properties, the absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more is small. Is preferred.
本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例として、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン(TINUVIN)109、チヌビン(TINUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)326(何れもBASFジャパン社製)を好ましく使用できる。高分子紫外線吸収剤としては、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤RUVA−93を例として挙げることができる。 Specific examples of UV absorbers useful in the present invention include 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) ) Benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ″, 6 ″ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis ( 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy-3'- ert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5 -Chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and the like can be mentioned, but not limited thereto. As commercially available products, TINUVIN 109, TINUVIN 171 and TINUVIN 326 (all manufactured by BASF Japan) can be preferably used. An example of the polymeric ultraviolet absorber is a reactive ultraviolet absorber RUVA-93 manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)等を挙げることができるが、これらに限定されない。 Specific examples of benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy- 5-benzoylphenylmethane) and the like, but is not limited thereto.
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。 The ultraviolet absorber described above preferably used in the present invention is preferably a benzotriazole-based ultraviolet absorber or a benzophenone-based ultraviolet absorber, which has high transparency and is excellent in the effect of preventing the deterioration of the polarizing plate and the liquid crystal element, and unnecessary coloring. A benzotriazole-based ultraviolet absorber with a lower content is particularly preferably used.
紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、ドープ中で紫外線吸収剤を溶解するようなものであれば制限なく使用できるが、本発明においては紫外線吸収剤をメチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等のセルロースエステルに対する良溶媒、又は良溶媒と低級脂肪族アルコール(メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等)のような貧溶媒との混合有機溶媒に溶解し紫外線吸収剤溶液としてセルロースエステル溶液に添加してドープとする方法が好ましい。この場合できるだけドープ溶媒組成と紫外線吸収剤溶液の溶媒組成とを同じとするか近づけることが好ましい。紫外線吸収剤の含有量は0.01〜5質量%、特に0.5〜3質量%である。 The ultraviolet absorber can be added to the dope without limitation as long as it dissolves the ultraviolet absorber in the dope. In the present invention, the ultraviolet absorber is cellulose such as methylene chloride, methyl acetate, dioxolane and the like. Dope by dissolving in a good solvent for the ester, or a mixed solvent of a good solvent and a poor solvent such as a lower aliphatic alcohol (methanol, ethanol, propanol, butanol, etc.) and adding it to the cellulose ester solution as an ultraviolet absorber solution Is preferred. In this case, it is preferable to make the dope solvent composition and the solvent composition of the ultraviolet absorber solution the same or close as possible. The content of the ultraviolet absorber is 0.01 to 5% by mass, particularly 0.5 to 3% by mass.
(酸化防止剤)
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト等が挙げられる。特に2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
(Antioxidant)
As the antioxidant, hindered phenol compounds are preferably used. For example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3 , 5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3 (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3 , 5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanate Examples include nurate. In particular, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is preferred. Further, for example, hydrazine-based metal deactivators such as N, N′-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine and tris (2,4-di-t A phosphorus-based processing stabilizer such as -butylphenyl) phosphite may be used in combination.
これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000ppmが更に好ましい。 The amount of these compounds added is preferably 1 ppm to 1.0%, more preferably 10 to 1000 ppm in terms of mass ratio with respect to the cellulose ester.
また、下記一般式(L)で表される化合物を用いることも好ましい。 Moreover, it is also preferable to use the compound represented by the following general formula (L).
〔式中、R2〜R5は、各々、互いに独立して水素原子又は置換基を表し、R6は水素原子又は置換基を表し、nは1又は2を表す。nが1であるとき、R1は置換基を表し、nが2であるとき、R1は2価の連結基を表す。〕
前記一般式(L)において、R2〜R5はおのおの互いに独立して水素原子又は置換基を表す。R2〜R5で表される置換基は、特に制限はないが、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、4−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基等)、複素環基(例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基(例えば、フェニルスルフィニル基等)、ホスホノ基、アシル基(例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基(例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。
[Wherein, R 2 to R 5 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, R 6 represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents 1 or 2. When n is 1, R 1 represents a substituent, and when n is 2, R 1 represents a divalent linking group. ]
In the general formula (L), R 2 to R 5 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. The substituent represented by R 2 to R 5 is not particularly limited, and examples thereof include alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group). Group, dodecyl group, trifluoromethyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), acylamino group (eg, acetylamino group, benzoylamino) Group), alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1- Methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 4-hexenyl , Cyclohexenyl group etc.), halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom etc.), alkynyl group (eg propargyl group etc.), heterocyclic group (eg pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group) , Imidazolyl group, etc.), alkylsulfonyl group (eg, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (eg, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, etc.), alkylsulfinyl group (eg, methylsulfinyl group, etc.), An arylsulfinyl group (for example, phenylsulfinyl group), a phosphono group, an acyl group (for example, acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, etc.), a carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, Butyl Minocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group) , Cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc., sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.) ), Cyano group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.) , Heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy group (for example, acetyloxy group, benzoyloxy group, etc.), sulfonic acid group, sulfonic acid salt, aminocarbonyloxy group, amino group (for example, amino group, ethylamino group, Dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, etc.), anilino group (for example, phenylamino group, chlorophenylamino group, toluidino group, anisidino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group) Group), imide group, ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc. ) Coxycarbonylamino group (eg methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group etc.), alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl etc.), aryloxycarbonyl group (eg phenoxycarbonyl group etc.) ), Heterocyclic thio group, thioureido group, carboxyl group, carboxylic acid salt, hydroxyl group, mercapto group, nitro group and the like. These substituents may be further substituted with the same substituent.
前記一般式(L)において、R2〜R5は、水素原子又はアルキル基が好ましい。 In the general formula (L), R 2 to R 5 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
前記一般式(L)において、R6は水素原子又は置換基を表し、R6で表される置換基は、R2〜R5が表す置換基と同様な基を挙げることができる。 In the general formula (L), R 6 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent represented by R 6 include the same groups as the substituents represented by R 2 to R 5 .
前記一般式(L)において、R6は水素原子が好ましい。 In the general formula (L), R 6 is preferably a hydrogen atom.
前記一般式(L)において、nは1又は2を表す。 In the general formula (L), n represents 1 or 2.
前記一般式(L)において、nが1であるとき、R1は置換基を表し、nが2であるとき、R1は2価の連結基を表す。R1が置換基を表すとき、置換基としては、R2〜R5が表す置換基と同様な基を挙げることができる。R1は2価の連結基を表すとき、2価の連結基として例えば、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、或いはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができる。 In the general formula (L), when n is 1, R 1 represents a substituent, and when n is 2, R 1 represents a divalent linking group. When R 1 represents a substituent, examples of the substituent include the same groups as the substituents represented by R 2 to R 5 . When R 1 represents a divalent linking group, examples of the divalent linking group include an alkylene group that may have a substituent, an arylene group that may have a substituent, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. Or a combination of these linking groups.
前記一般式(L)において、nは1が好ましく、その時のR1は置換又は無置換のフェニル基が好ましく、アルキル基が置換したフェニル基が更に好ましい。 In the general formula (L), n is preferably 1, and R 1 at that time is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, and more preferably a phenyl group substituted with an alkyl group.
次に、本発明における前記一般式(L)で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって限定されるものではない。 Next, although the specific example of a compound represented by the said general formula (L) in this invention is shown, this invention is not limited by the following specific examples.
これらの化合物は、それぞれ一種或いは二種以上組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、セルロースエステル100質量部に対して、通常0.001〜10.0質量部、好ましくは0.01〜5.0質量部、更に好ましくは、0.1〜3.0質量部である。 These compounds can be used singly or in combination of two or more, and the blending amount is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention, but is usually 0.001 per 100 parts by mass of the cellulose ester. -10.0 mass parts, Preferably it is 0.01-5.0 mass parts, More preferably, it is 0.1-3.0 mass parts.
(リターデーション調整剤)
リターデーションを調整するために添加する化合物は、欧州特許911,656A2号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を使用することができる。
(Retardation adjuster)
As the compound to be added for adjusting the retardation, an aromatic compound having two or more aromatic rings as described in EP 911,656A2 can be used.
また、二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。当該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。中でも1,3,5−トリアジン環が特に好ましい。 Two or more aromatic compounds may be used in combination. The aromatic ring of the aromatic compound includes an aromatic hetero ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring. Particularly preferred is an aromatic heterocycle, and the aromatic heterocycle is generally an unsaturated heterocycle. Of these, a 1,3,5-triazine ring is particularly preferred.
芳香族化合物が有する芳香族環の数は2〜20であることが好ましく、2〜12であることがより好ましく、2〜8であることが更に好ましく、3〜6であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、(a)縮合環を形成する場合、(b)単結合で直結する場合及び(c)連結基を介して結合する場合に分類できる(芳香族環のため、スピロ結合は形成できない)。結合関係は、(a)〜(c)のいずれでもよい。 The number of aromatic rings contained in the aromatic compound is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 12, still more preferably 2 to 8, and most preferably 3 to 6. The bonding relationship between two aromatic rings can be classified into (a) when forming a condensed ring, (b) when directly connecting with a single bond, and (c) when connecting via a linking group (for aromatic rings). , Spiro bonds cannot be formed). The connection relationship may be any of (a) to (c).
(a)の縮合環(二つ以上の芳香族環の縮合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環及びチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環及びキノリン環が好ましい。 Examples of the condensed ring of (a) (condensed ring of two or more aromatic rings) include an indene ring, a naphthalene ring, an azulene ring, a fluorene ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring, an acenaphthylene ring, a naphthacene ring, a pyrene ring, Indole ring, isoindole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, indolizine ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, purine ring, indazole ring, chromene ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinolidine Ring, quinazoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, phthalazine ring, pteridine ring, carbazole ring, acridine ring, phenanthridine ring, xanthene ring, phenazine ring, phenothiazine ring, phenoxathiin ring, phenoxazine ring and thianthrene ring It is. Naphthalene ring, azulene ring, indole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring and quinoline ring are preferred.
(b)の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環又は非芳香族性複素環を形成してもよい。 The single bond (b) is preferably a bond between carbon atoms of two aromatic rings. Two aromatic rings may be bonded by two or more single bonds to form an aliphatic ring or a non-aromatic heterocyclic ring between the two aromatic rings.
(c)の連結基も二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O−、−NH−、−S−又はそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。 The linking group in (c) is also preferably bonded to carbon atoms of two aromatic rings. The linking group is preferably an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, —CO—, —O—, —NH—, —S—, or a combination thereof. Examples of linking groups composed of combinations are shown below. In addition, the relationship between the left and right in the following examples of the linking group may be reversed.
−CO−O−、−CO−NH−、−アルキレン−O−、−NH−CO−NH−、−NH−CO−O−、−O−CO−O−、−O−アルキレン−O−、−CO−アルケニレン−、−CO−アルケニレン−NH−、−CO−アルケニレン−O−、−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO−アルキレン−、−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO−アルキレン−O−、−O−CO−アルキレン−CO−O−、−NH−CO−アルケニレン−、−O−CO−アルケニレン−。 -CO-O-, -CO-NH-, -alkylene-O-, -NH-CO-NH-, -NH-CO-O-, -O-CO-O-, -O-alkylene-O-, -CO-alkenylene-, -CO-alkenylene-NH-, -CO-alkenylene-O-, -alkylene-CO-O-alkylene-O-CO-alkylene-, -O-alkylene-CO-O-alkylene-O -CO-alkylene-O-, -O-CO-alkylene-CO-O-, -NH-CO-alkenylene-, -O-CO-alkenylene-.
芳香族環及び連結基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。 The aromatic ring and the linking group may have a substituent. Examples of the substituent include halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxyl, carboxyl, cyano, amino, nitro, sulfo, carbamoyl, sulfamoyl, ureido, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aliphatic acyl group , Aliphatic acyloxy group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, alkoxycarbonylamino group, alkylthio group, alkylsulfonyl group, aliphatic amide group, aliphatic sulfonamido group, aliphatic substituted amino group, aliphatic substituted carbamoyl group, aliphatic Substituted sulfamoyl groups, aliphatic substituted ureido groups and non-aromatic heterocyclic groups are included.
アルキル基の炭素原子数は1〜8であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、更に置換基(例、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有していてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む。)例には、メチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、2−ヒドロキシエチル、4−カルボキシブチル、2−メトキシエチル及び2−ジエチルアミノエチルが含まれる。アルケニル基の炭素原子数は、2〜8であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、更に置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル、アリル及び1−ヘキセニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、2〜8であることが好ましい。環状アルキニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、更に置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、1−ブチニル及び1−ヘキシニルが含まれる。 It is preferable that the alkyl group has 1 to 8 carbon atoms. A chain alkyl group is preferable to a cyclic alkyl group, and a linear alkyl group is particularly preferable. The alkyl group may further have a substituent (eg, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group, alkyl-substituted amino group). Examples of the alkyl group (including a substituted alkyl group) include methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, 2-hydroxyethyl, 4-carboxybutyl, 2-methoxyethyl and 2-diethylaminoethyl. The alkenyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkenyl group is preferable to a cyclic alkenyl group, and a linear alkenyl group is particularly preferable. The alkenyl group may further have a substituent. Examples of alkenyl groups include vinyl, allyl and 1-hexenyl. The alkynyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkynyl group is preferable to a cyclic alkynyl group, and a linear alkynyl group is particularly preferable. The alkynyl group may further have a substituent. Examples of alkynyl groups include ethynyl, 1-butynyl and 1-hexynyl.
脂肪族アシル基の炭素原子数は1〜10であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル、プロパノイル及びブタノイルが含まれる。脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は1〜8であることが好ましい。アルコキシ基は、更に置換基(例、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコキシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキシ、エトキシ、ブトキシ及びメトキシエトキシが含まれる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は2〜10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル及びエトキシカルボニルが含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ及びエトキシカルボニルアミノが含まれる。 The aliphatic acyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic acyl group include acetyl, propanoyl and butanoyl. The number of carbon atoms in the aliphatic acyloxy group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic acyloxy group include acetoxy. The alkoxy group preferably has 1 to 8 carbon atoms. The alkoxy group may further have a substituent (eg, an alkoxy group). Examples of alkoxy groups (including substituted alkoxy groups) include methoxy, ethoxy, butoxy and methoxyethoxy. The alkoxycarbonyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl. The number of carbon atoms of the alkoxycarbonylamino group is preferably 2-10. Examples of the alkoxycarbonylamino group include methoxycarbonylamino and ethoxycarbonylamino.
アルキルチオ基の炭素原子数は1〜12であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ及びオクチルチオが含まれる。アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル及びエタンスルホニルが含まれる。脂肪族アミド基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド及びn−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ及び2−カルボキシエチルアミノが含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は2〜10であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル及びジエチルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル及びジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ及びモルホリノが含まれる。 The alkylthio group preferably has 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylthio group include methylthio, ethylthio and octylthio. The alkylsulfonyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyl group include methanesulfonyl and ethanesulfonyl. The number of carbon atoms in the aliphatic amide group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic amide group include acetamide. The number of carbon atoms of the aliphatic sulfonamide group is preferably 1-8. Examples of the aliphatic sulfonamido group include methanesulfonamido, butanesulfonamido and n-octanesulfonamido. The number of carbon atoms of the aliphatic substituted amino group is preferably 1-10. Examples of the aliphatic substituted amino group include dimethylamino, diethylamino and 2-carboxyethylamino. The aliphatic substituted carbamoyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic substituted carbamoyl group include methylcarbamoyl and diethylcarbamoyl. The number of carbon atoms in the aliphatic substituted sulfamoyl group is preferably 1-8. Examples of the aliphatic substituted sulfamoyl group include methylsulfamoyl and diethylsulfamoyl. The number of carbon atoms in the aliphatic substituted ureido group is preferably 2-10. Examples of the aliphatic substituted ureido group include methylureido. Examples of non-aromatic heterocyclic groups include piperidino and morpholino.
リターデーション調整剤の分子量は、300以上800以下であることが好ましい。これは、使用時及び偏光板加工時における流出抑制の観点から、任意に分子構造の極性を選択することができる。 The molecular weight of the retardation adjusting agent is preferably 300 or more and 800 or less. This can arbitrarily select the polarity of the molecular structure from the viewpoint of suppressing the outflow at the time of use and processing of the polarizing plate.
1,3,5−トリアジン環を有する化合物は、中でも、下記一般式(R)で表される化合物が好ましい。 Among them, the compound having a 1,3,5-triazine ring is preferably a compound represented by the following general formula (R).
一般式(R)において、X1は、単結合、−NR4−、−O−又は−S−であり;X2は単結合、−NR5−、−O−又は−S−であり;X3は単結合、−NR6−、−O−又は−S−であり;R1、R2及びR3はアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基であり;そして、R4、R5及びR6は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。一般式(R)で表される化合物は、メラミン化合物であることが特に好ましい。 In the general formula (R), X 1 is a single bond, —NR 4 —, —O— or —S—; X 2 is a single bond, —NR 5 —, —O— or —S—; X 3 is a single bond, —NR 6 —, —O— or —S—; R 1 , R 2 and R 3 are an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group; and R 4 , R 5 and R 6 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. The compound represented by the general formula (R) is particularly preferably a melamine compound.
メラミン化合物では、一般式(R)において、X1、X2及びX3が、それぞれ、−NR4−、−NR5−及び−NR6−であるか、或いは、X1、X2及びX3が単結合であり、かつ、R1、R2及びR3が窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基である。−X1−R1、−X2−R2及び−X3−R3は、同一の置換基であることが好ましい。R1、R2及びR3は、アリール基であることが特に好ましい。R4、R5及びR6は、水素原子であることが特に好ましい。 In the melamine compound, in the general formula (R), X 1 , X 2 and X 3 are —NR 4 —, —NR 5 — and —NR 6 —, respectively, or X 1 , X 2 and X 3 3 is a single bond, and R 1 , R 2 and R 3 are heterocyclic groups having a free valence on the nitrogen atom. -X 1 -R 1, -X 2 -R 2 and -X 3 -R 3 are preferably the same substituents. R 1 , R 2 and R 3 are particularly preferably aryl groups. R 4 , R 5 and R 6 are particularly preferably hydrogen atoms.
上記アルキル基は、環状アルキル基よりも鎖状アルキル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基の方が好ましい。 The alkyl group is preferably a chain alkyl group rather than a cyclic alkyl group. A linear alkyl group is preferred to a branched alkyl group.
アルキル基の炭素原子数は、1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、1〜10であることが更に好ましく、1〜8であることが更にまた好ましく、1〜6であることが最も好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。 The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-20, still more preferably 1-10, still more preferably 1-8, 6 is most preferred. The alkyl group may have a substituent.
置換基の具体例としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基)及びアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ)等が挙げられる。上記アルケニル基は、環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基の方が好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、2〜30であることが好ましく、2〜20であることがより好ましく、2〜10であることが更に好ましく、2〜8であることが更にまた好ましく、2〜6であることが最も好ましい。アルケニル基は、置換基を有していてもよい。 Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, each group such as methoxy, ethoxy, and epoxyethyloxy) and an acyloxy group (for example, acryloyloxy, methacryloyloxy). The alkenyl group is preferably a chain alkenyl group rather than a cyclic alkenyl group. A linear alkenyl group is preferable to a branched chain alkenyl group. The number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, still more preferably 2 to 10, still more preferably 2 to 8, 6 is most preferred. The alkenyl group may have a substituent.
置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基)又はアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等の各基)が挙げられる。 Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, each group such as methoxy, ethoxy, and epoxyethyloxy) or an acyloxy group (for example, each group such as acryloyloxy and methacryloyloxy).
上記アリール基は、フェニル基又はナフチル基であることが好ましく、フェニル基であることが特に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。 The aryl group is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and particularly preferably a phenyl group. The aryl group may have a substituent.
置換基の具体例としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。上記アルキル基は、前述したアルキル基と同義である。 Specific examples of the substituent include, for example, a halogen atom, hydroxyl, cyano, nitro, carboxyl, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkenyloxy Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfamoyl, alkyl-substituted sulfamoyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, carbamoyl, alkyl-substituted carbamoyl group, alkenyl-substituted carbamoyl group, aryl-substituted carbamoyl group, amide group, alkylthio Groups, alkenylthio groups, arylthio groups and acyl groups are included. The said alkyl group is synonymous with the alkyl group mentioned above.
アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルキル置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基とアシル基のアルキル部分も、前述したアルキル基と同義である。 The alkyl group of the alkoxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkyl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, alkyl-substituted carbamoyl group, amide group, alkylthio group and acyl group is also synonymous with the alkyl group described above.
上記アルケニル基は、前述したアルケニル基と同義である。 The said alkenyl group is synonymous with the alkenyl group mentioned above.
アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシカルボニル基、アルケニル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルケニル置換カルバモイル基、アミド基、アルケニルチオ基及びアシル基のアルケニル部分も、前述したアルケニル基と同義である。 The alkenyl part of the alkenyloxy group, acyloxy group, alkenyloxycarbonyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, alkenyl-substituted carbamoyl group, amide group, alkenylthio group and acyl group is also synonymous with the alkenyl group described above.
上記アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、4−メトキシフェニル、3,4−ジエトキシフェニル、4−オクチルオキシフェニル又は4−ドデシルオキシフェニル等の各基が挙げられる。 Specific examples of the aryl group include phenyl, α-naphthyl, β-naphthyl, 4-methoxyphenyl, 3,4-diethoxyphenyl, 4-octyloxyphenyl, and 4-dodecyloxyphenyl. Can be mentioned.
アリールオキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アリールチオ基及びアシル基の部分の例は、上記アリール基と同義である。 Examples of the aryloxy group, acyloxy group, aryloxycarbonyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, aryl-substituted carbamoyl group, amide group, arylthio group, and acyl group are the same as the above aryl group.
X1、X2又はX3が−NR−、−O−又は−S−である場合の複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。 The heterocyclic group in the case where X 1 , X 2 or X 3 is —NR—, —O— or —S— preferably has aromaticity.
芳香族性を有する複素環基中の複素環としては、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることが更に好ましく、6員環であることが最も好ましい。 The heterocyclic ring in the heterocyclic group having aromaticity is generally an unsaturated heterocyclic ring, preferably a heterocyclic ring having the largest number of double bonds. The heterocyclic ring is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and most preferably a 6-membered ring.
複素環中のヘテロ原子は、N、S又はO等の各原子であることが好ましく、N原子であることが特に好ましい。 The hetero atom in the heterocyclic ring is preferably an atom such as N, S or O, and particularly preferably an N atom.
芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環(複素環基としては、例えば、2−ピリジル又は4−ピリジル等の各基)が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。 As the heterocyclic ring having aromaticity, a pyridine ring (as the heterocyclic group, for example, each group such as 2-pyridyl or 4-pyridyl) is particularly preferable. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the aryl moiety.
X1、X2又はX3が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることが更に好ましく、5員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。 When X 1 , X 2 or X 3 is a single bond, the heterocyclic group is preferably a heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom. The heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and a 5-membered ring. Is most preferred. The heterocyclic group may have a plurality of nitrogen atoms.
また、複素環基中のヘテロ原子は、窒素原子以外のヘテロ原子(例えば、O原子、S原子)を有していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の具体例は、上記アリール部分の置換基の具体例と同義である。 Moreover, the hetero atom in a heterocyclic group may have hetero atoms other than a nitrogen atom (for example, O atom, S atom). The heterocyclic group may have a substituent. Specific examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the specific examples of the substituent of the aryl moiety.
以下に、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基の具体例を示す。 Specific examples of the heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom are shown below.
以下に、1,3,5−トリアジン環を有する化合物の具体例を示す。 Specific examples of the compound having a 1,3,5-triazine ring are shown below.
なお、以下に示す複数のRは同一の基を表す。 In addition, several R shown below represents the same group.
(1)ブチル
(2)2−メトキシ−2−エトキシエチル
(3)5−ウンデセニル
(4)フェニル
(5)4−エトキシカルボニルフェニル
(6)4−ブトキシフェニル
(7)p−ビフェニリル
(8)4−ピリジル
(9)2−ナフチル
(10)2−メチルフェニル
(11)3,4−ジメトキシフェニル
(12)2−フリル
(1) Butyl (2) 2-Methoxy-2-ethoxyethyl (3) 5-Undecenyl (4) Phenyl (5) 4-Ethoxycarbonylphenyl (6) 4-Butoxyphenyl (7) p-Biphenylyl (8) 4 -Pyridyl (9) 2-naphthyl (10) 2-methylphenyl (11) 3,4-dimethoxyphenyl (12) 2-furyl
(14)フェニル
(15)3−エトキシカルボニルフェニル
(16)3−ブトキシフェニル
(17)m−ビフェニリル
(18)3−フェニルチオフェニル
(19)3−クロロフェニル
(20)3−ベンゾイルフェニル
(21)3−アセトキシフェニル
(22)3−ベンゾイルオキシフェニル
(23)3−フェノキシカルボニルフェニル
(24)3−メトキシフェニル
(25)3−アニリノフェニル
(26)3−イソブチリルアミノフェニル
(27)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(28)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(29)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(30)3−メチルフェニル
(31)3−フェノキシフェニル
(32)3−ヒドロキシフェニル
(33)4−エトキシカルボニルフェニル
(34)4−ブトキシフェニル
(35)p−ビフェニリル
(36)4−フェニルチオフェニル
(37)4−クロロフェニル
(38)4−ベンゾイルフェニル
(39)4−アセトキシフェニル
(40)4−ベンゾイルオキシフェニル
(41)4−フェノキシカルボニルフェニル
(42)4−メトキシフェニル
(43)4−アニリノフェニル
(44)4−イソブチリルアミノフェニル
(45)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(46)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(47)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(48)4−メチルフェニル
(49)4−フェノキシフェニル
(50)4−ヒドロキシフェニル
(51)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(52)3,4−ジブトキシフェニル
(53)3,4−ジフェニルフェニル
(54)3,4−ジフェニルチオフェニル
(55)3,4−ジクロロフェニル
(56)3,4−ジベンゾイルフェニル
(57)3,4−ジアセトキシフェニル
(58)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(59)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(60)3,4−ジメトキシフェニル
(61)3,4−ジアニリノフェニル
(62)3,4−ジメチルフェニル
(63)3,4−ジフェノキシフェニル
(64)3,4−ジヒドロキシフェニル
(65)2−ナフチル
(66)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(67)3,4,5−トリブトキシフェニル
(68)3,4,5−トリフェニルフェニル
(69)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(70)3,4,5−トリクロロフェニル
(71)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(72)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(73)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(74)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(75)3,4,5−トリメトキシフェニル
(76)3,4,5−トリアニリノフェニル
(77)3,4,5−トリメチルフェニル
(78)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(79)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(14) phenyl (15) 3-ethoxycarbonylphenyl (16) 3-butoxyphenyl (17) m-biphenylyl (18) 3-phenylthiophenyl (19) 3-chlorophenyl (20) 3-benzoylphenyl (21) 3 -Acetoxyphenyl (22) 3-benzoyloxyphenyl (23) 3-phenoxycarbonylphenyl (24) 3-methoxyphenyl (25) 3-anilinophenyl (26) 3-isobutyrylaminophenyl (27) 3-phenoxy Carbonylaminophenyl (28) 3- (3-ethylureido) phenyl (29) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (30) 3-methylphenyl (31) 3-phenoxyphenyl (32) 3-hydroxyphenyl (33) 4-Ethoxycarbonylphenyl (34) 4-butoxyphenyl (35) p-biphenylyl (36) 4-phenylthiophenyl (37) 4-chlorophenyl (38) 4-benzoylphenyl (39) 4-acetoxyphenyl (40) 4-benzoyloxyphenyl ( 41) 4-phenoxycarbonylphenyl (42) 4-methoxyphenyl (43) 4-anilinophenyl (44) 4-isobutyrylaminophenyl (45) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (46) 4- (3-ethyl (Ureido) phenyl (47) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (48) 4-methylphenyl (49) 4-phenoxyphenyl (50) 4-hydroxyphenyl (51) 3,4-diethoxycarbonylphenyl ( 52) 3,4-dibutoxyphenyl (53) 3 -Diphenylphenyl (54) 3,4-diphenylthiophenyl (55) 3,4-dichlorophenyl (56) 3,4-dibenzoylphenyl (57) 3,4-diacetoxyphenyl (58) 3,4-dibenzoyl Oxyphenyl (59) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (60) 3,4-dimethoxyphenyl (61) 3,4-dianilinophenyl (62) 3,4-dimethylphenyl (63) 3,4-diphenoxy Phenyl (64) 3,4-dihydroxyphenyl (65) 2-naphthyl (66) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (67) 3,4,5-tributoxyphenyl (68) 3,4,5- Triphenylphenyl (69) 3,4,5-triphenylthiophenyl (70) 3,4,5-trichlorophenyl (71) 3,4,5-tribenzoylphenyl (72) 3,4,5-triacetoxyphenyl (73) 3,4,5-tribenzoyloxyphenyl (74) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (75) 3,4,5-trimethoxyphenyl (76) 3,4,5-trianilinophenyl (77) 3,4,5-trimethylphenyl (78) 3,4,5-triphenoxyphenyl (79 ) 3,4,5-trihydroxyphenyl
(80)フェニル
(81)3−エトキシカルボニルフェニル
(82)3−ブトキシフェニル
(83)m−ビフェニリル
(84)3−フェニルチオフェニル
(85)3−クロロフェニル
(86)3−ベンゾイルフェニル
(87)3−アセトキシフェニル
(88)3−ベンゾイルオキシフェニル
(89)3−フェノキシカルボニルフェニル
(90)3−メトキシフェニル
(91)3−アニリノフェニル
(92)3−イソブチリルアミノフェニル
(93)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(94)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(95)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(96)3−メチルフェニル
(97)3−フェノキシフェニル
(98)3−ヒドロキシフェニル
(99)4−エトキシカルボニルフェニル
(100)4−ブトキシフェニル
(101)p−ビフェニリル
(102)4−フェニルチオフェニル
(103)4−クロロフェニル
(104)4−ベンゾイルフェニル
(105)4−アセトキシフェニル
(106)4−ベンゾイルオキシフェニル
(107)4−フェノキシカルボニルフェニル
(108)4−メトキシフェニル
(109)4−アニリノフェニル
(110)4−イソブチリルアミノフェニル
(111)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(112)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(113)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(114)4−メチルフェニル
(115)4−フェノキシフェニル
(116)4−ヒドロキシフェニル
(117)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(118)3,4−ジブトキシフェニル
(119)3,4−ジフェニルフェニル
(120)3,4−ジフェニルチオフェニル
(121)3,4−ジクロロフェニル
(122)3,4−ジベンゾイルフェニル
(123)3,4−ジアセトキシフェニル
(124)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(125)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(126)3,4−ジメトキシフェニル
(127)3,4−ジアニリノフェニル
(128)3,4−ジメチルフェニル
(129)3,4−ジフェノキシフェニル
(130)3,4−ジヒドロキシフェニル
(131)2−ナフチル
(132)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(133)3,4,5−トリブトキシフェニル
(134)3,4,5−トリフェニルフェニル
(135)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(136)3,4,5−トリクロロフェニル
(137)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(138)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(139)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(140)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(141)3,4,5−トリメトキシフェニル
(142)3,4,5−トリアニリノフェニル
(143)3,4,5−トリメチルフェニル
(144)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(145)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(80) phenyl (81) 3-ethoxycarbonylphenyl (82) 3-butoxyphenyl (83) m-biphenylyl (84) 3-phenylthiophenyl (85) 3-chlorophenyl (86) 3-benzoylphenyl (87) 3 -Acetoxyphenyl (88) 3-benzoyloxyphenyl (89) 3-phenoxycarbonylphenyl (90) 3-methoxyphenyl (91) 3-anilinophenyl (92) 3-isobutyrylaminophenyl (93) 3-phenoxy Carbonylaminophenyl (94) 3- (3-ethylureido) phenyl (95) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (96) 3-methylphenyl (97) 3-phenoxyphenyl (98) 3-hydroxyphenyl (99) 4-Ethoxycarbonylphenyl (100) 4-butoxyphenyl (101) p-biphenylyl (102) 4-phenylthiophenyl (103) 4-chlorophenyl (104) 4-benzoylphenyl (105) 4-acetoxyphenyl (106) 4-benzoyloxyphenyl ( 107) 4-phenoxycarbonylphenyl (108) 4-methoxyphenyl (109) 4-anilinophenyl (110) 4-isobutyrylaminophenyl (111) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (112) 4- (3-ethyl (Ureido) phenyl (113) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (114) 4-methylphenyl (115) 4-phenoxyphenyl (116) 4-hydroxyphenyl (117) 3,4-diethoxycarbonylphenyl ( 118) 3 , 4-dibutoxyphenyl (119) 3,4-diphenylphenyl (120) 3,4-diphenylthiophenyl (121) 3,4-dichlorophenyl (122) 3,4-dibenzoylphenyl (123) 3,4- Diacetoxyphenyl (124) 3,4-dibenzoyloxyphenyl (125) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (126) 3,4-dimethoxyphenyl (127) 3,4-dianilinophenyl (128) 3,4 -Dimethylphenyl (129) 3,4-diphenoxyphenyl (130) 3,4-dihydroxyphenyl (131) 2-naphthyl (132) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (133) 3,4,5- Tributoxyphenyl (134) 3,4,5-triphenylphenyl (135) 3 4,5-triphenylthiophenyl (136) 3,4,5-trichlorophenyl (137) 3,4,5-tribenzoylphenyl (138) 3,4,5-triacetoxyphenyl (139) 3,4 5-tribenzoyloxyphenyl (140) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (141) 3,4,5-trimethoxyphenyl (142) 3,4,5-trianilinophenyl (143) 3,4 , 5-trimethylphenyl (144) 3,4,5-triphenoxyphenyl (145) 3,4,5-trihydroxyphenyl
(146)フェニル
(147)4−エトキシカルボニルフェニル
(148)4−ブトキシフェニル
(149)p−ビフェニリル
(150)4−フェニルチオフェニル
(151)4−クロロフェニル
(152)4−ベンゾイルフェニル
(153)4−アセトキシフェニル
(154)4−ベンゾイルオキシフェニル
(155)4−フェノキシカルボニルフェニル
(156)4−メトキシフェニル
(157)4−アニリノフェニル
(158)4−イソブチリルアミノフェニル
(159)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(160)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(161)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(162)4−メチルフェニル
(163)4−フェノキシフェニル
(164)4−ヒドロキシフェニル
(146) phenyl (147) 4-ethoxycarbonylphenyl (148) 4-butoxyphenyl (149) p-biphenylyl (150) 4-phenylthiophenyl (151) 4-chlorophenyl (152) 4-benzoylphenyl (153) 4 -Acetoxyphenyl (154) 4-benzoyloxyphenyl (155) 4-phenoxycarbonylphenyl (156) 4-methoxyphenyl (157) 4-anilinophenyl (158) 4-isobutyrylaminophenyl (159) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (160) 4- (3-ethylureido) phenyl (161) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (162) 4-methylphenyl (163) 4-phenoxyphenyl (164) 4-hydroxyphenyl
(165)フェニル
(166)4−エトキシカルボニルフェニル
(167)4−ブトキシフェニル
(168)p−ビフェニリル
(169)4−フェニルチオフェニル
(170)4−クロロフェニル
(171)4−ベンゾイルフェニル
(172)4−アセトキシフェニル
(173)4−ベンゾイルオキシフェニル
(174)4−フェノキシカルボニルフェニル
(175)4−メトキシフェニル
(176)4−アニリノフェニル
(177)4−イソブチリルアミノフェニル
(178)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(179)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(180)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(181)4−メチルフェニル
(182)4−フェノキシフェニル
(183)4−ヒドロキシフェニル
(165) phenyl (166) 4-ethoxycarbonylphenyl (167) 4-butoxyphenyl (168) p-biphenylyl (169) 4-phenylthiophenyl (170) 4-chlorophenyl (171) 4-benzoylphenyl (172) 4 -Acetoxyphenyl (173) 4-benzoyloxyphenyl (174) 4-phenoxycarbonylphenyl (175) 4-methoxyphenyl (176) 4-anilinophenyl (177) 4-isobutyrylaminophenyl (178) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (179) 4- (3-ethylureido) phenyl (180) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (181) 4-methylphenyl (182) 4-phenoxyphenyl (183) 4-hydroxyphenyl
(184)フェニル
(185)4−エトキシカルボニルフェニル
(186)4−ブトキシフェニル
(187)p−ビフェニリル
(188)4−フェニルチオフェニル
(189)4−クロロフェニル
(190)4−ベンゾイルフェニル
(191)4−アセトキシフェニル
(192)4−ベンゾイルオキシフェニル
(193)4−フェノキシカルボニルフェニル
(194)4−メトキシフェニル
(195)4−アニリノフェニル
(196)4−イソブチリルアミノフェニル
(197)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(198)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(199)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(200)4−メチルフェニル
(201)4−フェノキシフェニル
(202)4−ヒドロキシフェニル
(184) phenyl (185) 4-ethoxycarbonylphenyl (186) 4-butoxyphenyl (187) p-biphenylyl (188) 4-phenylthiophenyl (189) 4-chlorophenyl (190) 4-benzoylphenyl (191) 4 -Acetoxyphenyl (192) 4-benzoyloxyphenyl (193) 4-phenoxycarbonylphenyl (194) 4-methoxyphenyl (195) 4-anilinophenyl (196) 4-isobutyrylaminophenyl (197) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (198) 4- (3-ethylureido) phenyl (199) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (200) 4-methylphenyl (201) 4-phenoxyphenyl (202) 4-hydroxyphenyl
(203)フェニル
(204)4−エトキシカルボニルフェニル
(205)4−ブトキシフェニル
(206)p−ビフェニリル
(207)4−フェニルチオフェニル
(208)4−クロロフェニル
(209)4−ベンゾイルフェニル
(210)4−アセトキシフェニル
(211)4−ベンゾイルオキシフェニル
(212)4−フェノキシカルボニルフェニル
(213)4−メトキシフェニル
(214)4−アニリノフェニル
(215)4−イソブチリルアミノフェニル
(216)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(217)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(218)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(219)4−メチルフェニル
(220)4−フェノキシフェニル
(221)4−ヒドロキシフェニル
(203) phenyl (204) 4-ethoxycarbonylphenyl (205) 4-butoxyphenyl (206) p-biphenylyl (207) 4-phenylthiophenyl (208) 4-chlorophenyl (209) 4-benzoylphenyl (210) 4 -Acetoxyphenyl (211) 4-benzoyloxyphenyl (212) 4-phenoxycarbonylphenyl (213) 4-methoxyphenyl (214) 4-anilinophenyl (215) 4-isobutyrylaminophenyl (216) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (217) 4- (3-ethylureido) phenyl (218) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (219) 4-methylphenyl (220) 4-phenoxyphenyl (221) 4-hydroxyphenyl
(222)フェニル
(223)4−ブチルフェニル
(224)4−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(225)4−(5−ノネニル)フェニル
(226)p−ビフェニリル
(227)4−エトキシカルボニルフェニル
(228)4−ブトキシフェニル
(229)4−メチルフェニル
(230)4−クロロフェニル
(231)4−フェニルチオフェニル
(232)4−ベンゾイルフェニル
(233)4−アセトキシフェニル
(234)4−ベンゾイルオキシフェニル
(235)4−フェノキシカルボニルフェニル
(236)4−メトキシフェニル
(237)4−アニリノフェニル
(238)4−イソブチリルアミノフェニル
(239)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(240)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(241)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(242)4−フェノキシフェニル
(243)4−ヒドロキシフェニル
(244)3−ブチルフェニル
(245)3−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(246)3−(5−ノネニル)フェニル
(247)m−ビフェニリル
(248)3−エトキシカルボニルフェニル
(249)3−ブトキシフェニル
(250)3−メチルフェニル
(251)3−クロロフェニル
(252)3−フェニルチオフェニル
(253)3−ベンゾイルフェニル
(254)3−アセトキシフェニル
(255)3−ベンゾイルオキシフェニル
(256)3−フェノキシカルボニルフェニル
(257)3−メトキシフェニル
(258)3−アニリノフェニル
(259)3−イソブチリルアミノフェニル
(260)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(261)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(262)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(263)3−フェノキシフェニル
(264)3−ヒドロキシフェニル
(265)2−ブチルフェニル
(266)2−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(267)2−(5−ノネニル)フェニル
(268)o−ビフェニリル
(269)2−エトキシカルボニルフェニル
(270)2−ブトキシフェニル
(271)2−メチルフェニル
(272)2−クロロフェニル
(273)2−フェニルチオフェニル
(274)2−ベンゾイルフェニル
(275)2−アセトキシフェニル
(276)2−ベンゾイルオキシフェニル
(277)2−フェノキシカルボニルフェニル
(278)2−メトキシフェニル
(279)2−アニリノフェニル
(280)2−イソブチリルアミノフェニル
(281)2−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(282)2−(3−エチルウレイド)フェニル
(283)2−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(284)2−フェノキシフェニル
(285)2−ヒドロキシフェニル
(286)3,4−ジブチルフェニル
(287)3,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(288)3,4−ジフェニルフェニル
(289)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(290)3,4−ジドデシルオキシフェニル
(291)3,4−ジメチルフェニル
(292)3,4−ジクロロフェニル
(293)3,4−ジベンゾイルフェニル
(294)3,4−ジアセトキシフェニル
(295)3,4−ジメトキシフェニル
(296)3,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(297)3,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(298)3,4−ジフェノキシフェニル
(299)3,4−ジヒドロキシフェニル
(300)3,5−ジブチルフェニル
(301)3,5−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(302)3,5−ジフェニルフェニル
(303)3,5−ジエトキシカルボニルフェニル
(304)3,5−ジドデシルオキシフェニル
(305)3,5−ジメチルフェニル
(306)3,5−ジクロロフェニル
(307)3,5−ジベンゾイルフェニル
(308)3,5−ジアセトキシフェニル
(309)3,5−ジメトキシフェニル
(310)3,5−ジ−N−メチルアミノフェニル
(311)3,5−ジイソブチリルアミノフェニル
(312)3,5−ジフェノキシフェニル
(313)3,5−ジヒドロキシフェニル
(314)2,4−ジブチルフェニル
(315)2,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(316)2,4−ジフェニルフェニル
(317)2,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(318)2,4−ジドデシルオキシフェニル
(319)2,4−ジメチルフェニル
(320)2,4−ジクロロフェニル
(321)2,4−ジベンゾイルフェニル
(322)2,4−ジアセトキシフェニル
(323)2,4−ジメトキシフェニル
(324)2,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(325)2,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(326)2,4−ジフェノキシフェニル
(327)2,4−ジヒドロキシフェニル
(328)2,3−ジブチルフェニル
(329)2,3−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(330)2,3−ジフェニルフェニル
(331)2,3−ジエトキシカルボニルフェニル
(332)2,3−ジドデシルオキシフェニル
(333)2,3−ジメチルフェニル
(334)2,3−ジクロロフェニル
(335)2,3−ジベンゾイルフェニル
(336)2,3−ジアセトキシフェニル
(337)2,3−ジメトキシフェニル
(338)2,3−ジ−N−メチルアミノフェニル
(339)2,3−ジイソブチリルアミノフェニル
(340)2,3−ジフェノキシフェニル
(341)2,3−ジヒドロキシフェニル
(342)2,6−ジブチルフェニル
(343)2,6−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(344)2,6−ジフェニルフェニル
(345)2,6−ジエトキシカルボニルフェニル
(346)2,6−ジドデシルオキシフェニル
(347)2,6−ジメチルフェニル
(348)2,6−ジクロロフェニル
(349)2,6−ジベンゾイルフェニル
(350)2,6−ジアセトキシフェニル
(351)2,6−ジメトキシフェニル
(352)2,6−ジ−N−メチルアミノフェニル
(353)2,6−ジイソブチリルアミノフェニル
(354)2,6−ジフェノキシフェニル
(355)2,6−ジヒドロキシフェニル
(356)3,4,5−トリブチルフェニル
(357)3,4,5−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(358)3,4,5−トリフェニルフェニル
(359)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(360)3,4,5−トリドデシルオキシフェニル
(361)3,4,5−トリメチルフェニル
(362)3,4,5−トリクロロフェニル
(363)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(364)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(365)3,4,5−トリメトキシフェニル
(366)3,4,5−トリ−N−メチルアミノフェニル
(367)3,4,5−トリイソブチリルアミノフェニル
(368)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(369)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(370)2,4,6−トリブチルフェニル
(371)2,4,6−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(372)2,4,6−トリフェニルフェニル
(373)2,4,6−トリエトキシカルボニルフェニル
(374)2,4,6−トリドデシルオキシフェニル
(375)2,4,6−トリメチルフェニル
(376)2,4,6−トリクロロフェニル
(377)2,4,6−トリベンゾイルフェニル
(378)2,4,6−トリアセトキシフェニル
(379)2,4,6−トリメトキシフェニル
(380)2,4,6−トリ−N−メチルアミノフェニル
(381)2,4,6−トリイソブチリルアミノフェニル
(382)2,4,6−トリフェノキシフェニル
(383)2,4,6−トリヒドロキシフェニル
(384)ペンタフルオロフェニル
(385)ペンタクロロフェニル
(386)ペンタメトキシフェニル
(387)6−N−メチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(388)5−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(389)6−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(390)5−エトキシ−7−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(391)3−メトキシ−2−ナフチル
(392)1−エトキシ−2−ナフチル
(393)6−N−フェニルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(394)5−メトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(395)1−(4−メチルフェニル)−2−ナフチル
(396)6,8−ジ−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(397)6−N−2−アセトキシエチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(398)5−アセトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(399)3−ベンゾイルオキシ−2−ナフチル
(400)5−アセチルアミノ−1−ナフチル
(401)2−メトキシ−1−ナフチル
(402)4−フェノキシ−1−ナフチル
(403)5−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(404)3−N−メチルカルバモイル−4−ヒドロキシ−1−ナフチル
(405)5−メトキシ−6−N−エチルスルファモイル−1−ナフチル
(406)7−テトラデシルオキシ−1−ナフチル
(407)4−(4−メチルフェノキシ)−1−ナフチル
(408)6−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(409)3−N,N−ジメチルカルバモイル−4−メトキシ−1−ナフチル
(410)5−メトキシ−6−N−ベンジルスルファモイル−1−ナフチル
(411)3,6−ジ−N−フェニルスルファモイル−1−ナフチル
(412)メチル
(413)エチル
(414)ブチル
(415)オクチル
(416)ドデシル
(417)2−ブトキシ−2−エトキシエチル
(418)ベンジル
(419)4−メトキシベンジル
(222) phenyl (223) 4-butylphenyl (224) 4- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (225) 4- (5-nonenyl) phenyl (226) p-biphenylyl (227) 4-ethoxy Carbonylphenyl (228) 4-butoxyphenyl (229) 4-methylphenyl (230) 4-chlorophenyl (231) 4-phenylthiophenyl (232) 4-benzoylphenyl (233) 4-acetoxyphenyl (234) 4-benzoyl Oxyphenyl (235) 4-phenoxycarbonylphenyl (236) 4-methoxyphenyl (237) 4-anilinophenyl (238) 4-isobutyrylaminophenyl (239) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (240) 4- ( 3-ethylureido Phenyl (241) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (242) 4-phenoxyphenyl (243) 4-hydroxyphenyl (244) 3-butylphenyl (245) 3- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) ) Phenyl (246) 3- (5-nonenyl) phenyl (247) m-biphenylyl (248) 3-ethoxycarbonylphenyl (249) 3-butoxyphenyl (250) 3-methylphenyl (251) 3-chlorophenyl (252) 3-phenylthiophenyl (253) 3-benzoylphenyl (254) 3-acetoxyphenyl (255) 3-benzoyloxyphenyl (256) 3-phenoxycarbonylphenyl (257) 3-methoxyphenyl (258) 3-anilinophenyl (259) 3-I Butyrylaminophenyl (260) 3-phenoxycarbonylaminophenyl (261) 3- (3-ethylureido) phenyl (262) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (263) 3-phenoxyphenyl (264) 3 -Hydroxyphenyl (265) 2-butylphenyl (266) 2- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (267) 2- (5-nonenyl) phenyl (268) o-biphenylyl (269) 2-ethoxycarbonyl Phenyl (270) 2-Butoxyphenyl (271) 2-Methylphenyl (272) 2-Chlorophenyl (273) 2-Phenylthiophenyl (274) 2-Benzoylphenyl (275) 2-Acetoxyphenyl (276) 2-Benzoyloxy Phenyl (277) 2 Phenoxycarbonylphenyl (278) 2-methoxyphenyl (279) 2-anilinophenyl (280) 2-isobutyrylaminophenyl (281) 2-phenoxycarbonylaminophenyl (282) 2- (3-ethylureido) phenyl ( 283) 2- (3,3-diethylureido) phenyl (284) 2-phenoxyphenyl (285) 2-hydroxyphenyl (286) 3,4-dibutylphenyl (287) 3,4-di (2-methoxy-2) -Ethoxyethyl) phenyl (288) 3,4-diphenylphenyl (289) 3,4-diethoxycarbonylphenyl (290) 3,4-didodecyloxyphenyl (291) 3,4-dimethylphenyl (292) 3, 4-dichlorophenyl (293) 3,4-dibenzoyl Enyl (294) 3,4-diacetoxyphenyl (295) 3,4-dimethoxyphenyl (296) 3,4-di-N-methylaminophenyl (297) 3,4-diisobutyrylaminophenyl (298) 3 , 4-diphenoxyphenyl (299) 3,4-dihydroxyphenyl (300) 3,5-dibutylphenyl (301) 3,5-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (302) 3,5- Diphenylphenyl (303) 3,5-diethoxycarbonylphenyl (304) 3,5-didodecyloxyphenyl (305) 3,5-dimethylphenyl (306) 3,5-dichlorophenyl (307) 3,5-dibenzoyl Phenyl (308) 3,5-diacetoxyphenyl (309) 3,5-dimethoxyphenyl (3 0) 3,5-di-N-methylaminophenyl (311) 3,5-diisobutyrylaminophenyl (312) 3,5-diphenoxyphenyl (313) 3,5-dihydroxyphenyl (314) 2,4 -Dibutylphenyl (315) 2,4-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (316) 2,4-diphenylphenyl (317) 2,4-diethoxycarbonylphenyl (318) 2,4-di Dodecyloxyphenyl (319) 2,4-dimethylphenyl (320) 2,4-dichlorophenyl (321) 2,4-dibenzoylphenyl (322) 2,4-diacetoxyphenyl (323) 2,4-dimethoxyphenyl ( 324) 2,4-di-N-methylaminophenyl (325) 2,4-diisobutyrylaminopheny (326) 2,4-diphenoxyphenyl (327) 2,4-dihydroxyphenyl (328) 2,3-dibutylphenyl (329) 2,3-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (330) 2,3-diphenylphenyl (331) 2,3-diethoxycarbonylphenyl (332) 2,3-didodecyloxyphenyl (333) 2,3-dimethylphenyl (334) 2,3-dichlorophenyl (335) 2, 3-dibenzoylphenyl (336) 2,3-diacetoxyphenyl (337) 2,3-dimethoxyphenyl (338) 2,3-di-N-methylaminophenyl (339) 2,3-diisobutyrylaminophenyl (340) 2,3-diphenoxyphenyl (341) 2,3-dihydroxyphenyl (342 2,6-dibutylphenyl (343) 2,6-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (344) 2,6-diphenylphenyl (345) 2,6-diethoxycarbonylphenyl (346) 2, 6-didodecyloxyphenyl (347) 2,6-dimethylphenyl (348) 2,6-dichlorophenyl (349) 2,6-dibenzoylphenyl (350) 2,6-diacetoxyphenyl (351) 2,6- Dimethoxyphenyl (352) 2,6-di-N-methylaminophenyl (353) 2,6-diisobutyrylaminophenyl (354) 2,6-diphenoxyphenyl (355) 2,6-dihydroxyphenyl (356) 3,4,5-tributylphenyl (357) 3,4,5-tri (2-methoxy-2-ethoxy) Til) phenyl (358) 3,4,5-triphenylphenyl (359) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (360) 3,4,5-tridodecyloxyphenyl (361) 3,4,5- Trimethylphenyl (362) 3,4,5-trichlorophenyl (363) 3,4,5-tribenzoylphenyl (364) 3,4,5-triacetoxyphenyl (365) 3,4,5-trimethoxyphenyl ( 366) 3,4,5-tri-N-methylaminophenyl (367) 3,4,5-triisobutyrylaminophenyl (368) 3,4,5-triphenoxyphenyl (369) 3,4,5 -Trihydroxyphenyl (370) 2,4,6-tributylphenyl (371) 2,4,6-tri (2-methoxy-2-ethoxyethyl) ) Phenyl (372) 2,4,6-triphenylphenyl (373) 2,4,6-triethoxycarbonylphenyl (374) 2,4,6-tridodecyloxyphenyl (375) 2,4,6-trimethyl Phenyl (376) 2,4,6-trichlorophenyl (377) 2,4,6-tribenzoylphenyl (378) 2,4,6-triacetoxyphenyl (379) 2,4,6-trimethoxyphenyl (380 ) 2,4,6-tri-N-methylaminophenyl (381) 2,4,6-triisobutyrylaminophenyl (382) 2,4,6-triphenoxyphenyl (383) 2,4,6- Trihydroxyphenyl (384) Pentafluorophenyl (385) Pentachlorophenyl (386) Pentamethoxyphenyl (38 ) 6-N-methylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (388) 5-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (389) 6-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (390) 5-Ethoxy-7-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (391) 3-methoxy-2-naphthyl (392) 1-ethoxy-2-naphthyl (393) 6-N-phenylsulfamoyl-8- Methoxy-2-naphthyl (394) 5-methoxy-7-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (395) 1- (4-methylphenyl) -2-naphthyl (396) 6,8-di-N- Methylsulfamoyl-2-naphthyl (397) 6-N-2-acetoxyethylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (398) 5-acetoxy-7- N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (399) 3-benzoyloxy-2-naphthyl (400) 5-acetylamino-1-naphthyl (401) 2-methoxy-1-naphthyl (402) 4-phenoxy-1 -Naphtyl (403) 5-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (404) 3-N-methylcarbamoyl-4-hydroxy-1-naphthyl (405) 5-methoxy-6-N-ethylsulfamoyl- 1-naphthyl (406) 7-tetradecyloxy-1-naphthyl (407) 4- (4-methylphenoxy) -1-naphthyl (408) 6-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (409) 3- N, N-dimethylcarbamoyl-4-methoxy-1-naphthyl (410) 5-methoxy-6-N-benzylsulfamoyl 1-naphthyl (411) 3,6-di-N-phenylsulfamoyl-1-naphthyl (412) methyl (413) ethyl (414) butyl (415) octyl (416) dodecyl (417) 2-butoxy-2 -Ethoxyethyl (418) benzyl (419) 4-methoxybenzyl
(424)メチル
(425)フェニル
(426)ブチル
(424) Methyl (425) Phenyl (426) Butyl
(430)メチル
(431)エチル
(432)ブチル
(433)オクチル
(434)ドデシル
(435)2−ブトキシ−2−エトキシエチル
(436)ベンジル
(437)4−メトキシベンジル
(430) methyl (431) ethyl (432) butyl (433) octyl (434) dodecyl (435) 2-butoxy-2-ethoxyethyl (436) benzyl (437) 4-methoxybenzyl
本発明においては、1,3,5−トリアジン環を有する化合物として、メラミンポリマーを用いてもよい。メラミンポリマーは、下記一般式(M)で示すメラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応により合成することが好ましい。 In the present invention, a melamine polymer may be used as the compound having a 1,3,5-triazine ring. The melamine polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction between a melamine compound represented by the following general formula (M) and a carbonyl compound.
上記合成反応スキームにおいて、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。 In the above synthetic reaction scheme, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
上記アルキル基、アルケニル基、アリール基及び複素環基及びこれらの置換基は前記一般式(R)で説明した各基、それらの置換基と同義である。 The alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, and substituents thereof have the same meanings as the groups and substituents described in the general formula (R).
メラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応は、通常のメラミン樹脂(例えば、メラミンホルムアルデヒド樹脂等)の合成方法と同様である。また、市販のメラミンポリマー(メラミン樹脂)を用いてもよい。 The polymerization reaction between the melamine compound and the carbonyl compound is the same as the method for synthesizing a normal melamine resin (for example, melamine formaldehyde resin). Moreover, you may use a commercially available melamine polymer (melamine resin).
メラミンポリマーの分子量は、2千〜40万であることが好ましい。メラミンポリマーの繰り返し単位の具体例を以下に示す。 The molecular weight of the melamine polymer is preferably 2,000 to 400,000. Specific examples of the repeating unit of the melamine polymer are shown below.
MP−1:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−2:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−3:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−4:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−5:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−6:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−7:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−8:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−9:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−10:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−11:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−12:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−13:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−14:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C4H9
MP−15:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C4H9
MP−16:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−17:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C4H9
MP−18:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−19:R13、R14、R16:CH2O−i−C4H9;R15:CH2OH
MP−20:R13、R16:CH2O−i−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−21:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−22:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−23:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−24:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9
MP−25:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−26:R13、R14、R16:CH2O−n−C4H9;R15:CH2OH
MP−27:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−28:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−29:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−30:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−31:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−32:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−33:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−34:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−35:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−36:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−37:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−38:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−39:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−
C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−40:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−41:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C4H9;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−42:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−43:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−44:R13:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−45:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−46:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−47:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−48:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−49:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−50:R13:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP-1: R 13 , R 14 , R 15 , R 16 : CH 2 OH
MP-2: R 13 , R 14 , R 15 , R 16 : CH 2 OCH 3
MP-3: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-4: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-5: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-6: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-7: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-8: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-9: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-10: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-11: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-12: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-13: R 13 , R 16 : CH 2 OCH 3 ; R 14 , R 15 : CH 2 OH
MP-14: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-15: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-16: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-17: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-18: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-19: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-20: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-21: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-22: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-23: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-24: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-25: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-26: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-27: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-28: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-29: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-30: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-31: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-32: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-33: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-34: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-35: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-36: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-37: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-38: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-39: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-
C 4 H 9 ; R 16 : CH 2 NHCOCH═CH 2
MP-40: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-41: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-42: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-43: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-44: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-45: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-46: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-47: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-48: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-49: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-50: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP−51:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−52:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−53:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−54:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−55:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−56:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−57:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−58:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−59:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−60:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−61:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−62:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−63:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−64:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C4H9
MP−65:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C4H9
MP−66:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−67:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C4H9
MP−68:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−69:R13、R14、R16:CH2O−i−C4H9;R15:CH2OH
MP−70:R13、R16:CH2O−i−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−71:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−72:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−73:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−74:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9
MP−75:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−76:R13、R14、R16:CH2O−n−C4H9;R15:CH2OH
MP−77:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−78:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−79:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−80:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−81:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−82:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−83:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−84:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−85:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−86:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−87:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−88:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−89:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−90:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−91:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C4H9;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−92:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−93:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−94:R13:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−95:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−96:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−97:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−98:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−99:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−100:R13:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP-51: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OH
MP-52: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-53: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-54: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-55: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-56: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-57: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-58: R 13 , R 14 , R 16 : CH 2 OH; R 15 : CH 2 OCH 3
MP-59: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-60: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-61: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-62: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-63: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-64: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-65: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-66: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-67: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-68: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-69: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-70: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-71: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-72: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-73: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-74: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-75: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-76: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-77: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
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MP-96: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
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MP-104: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
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MP-106: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-107: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-108: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-109: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-110: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-111: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-112: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-113: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-114: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-115: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-116: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-117: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-118: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-119: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-120: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-121: R 13 , R 14 , R 15 : CH 2 OH; R 16 : CH 2 On -C 4 H 9
MP-122: R 13 , R 14 , R 16 : CH 2 OH; R 15 : CH 2 On -C 4 H 9
MP-123: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-124: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-125: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-126: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-127: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-128: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-129: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-130: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-131: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-132: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-133: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-134: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
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MP-145: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-146: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-147: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-148: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-149: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-150: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
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MP−159:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−160:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−161:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−162:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
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MP−181:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
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MP−194:R13:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−195:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−196:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−197:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−198:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−199:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−200:R13:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
本発明においては、上記繰り返し単位を二種類以上組み合わせたコポリマーを用いてもよい。二種類以上のホモポリマー又はコポリマーを併用してもよい。
MP-151: R 13 , R 14 , R 15 , R 16 : CH 2 OH
MP-152: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-153: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-154: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-155: R 13 , R 14 , R 15 , R 16 : CH 2 NHCOCH═CH 2
MP-156: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-157: R 13 , R 14 , R 15 : CH 2 OH; R 16 : CH 2 OCH 3
MP-158: R 13 , R 14 , R 16 : CH 2 OH; R 15 : CH 2 OCH 3
MP-159: R 13 , R 14 : CH 2 OH; R 15 , R 16 : CH 2 OCH 3
MP-160: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-161: R 13 : CH 2 OH; R 14 , R 15 , R 16 : CH 2 OCH 3
MP-162: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-163: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-164: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-165: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-166: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-167: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-168: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-169: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-170: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-171: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-172: R 13 , R 14 , R 16 : CH 2 OH; R 15 : CH 2 On -C 4 H 9
MP-173: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-174: R 13 , R 16 : CH 2 OH; R 14 , R 15 : CH 2 On -C 4 H 9
MP-175: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-176: R 13 , R 14 , R 16 : CH 2 On -C 4 H 9 ; R 15 : CH 2 OH
MP-177: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-178: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-179: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-180: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-181: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-182: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-183: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-184: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-185: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-186: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-187: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-188: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-189: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-190: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-191: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-192: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-193: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-194: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-195: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-196: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-197: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-198: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-199: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-200: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
In the present invention, a copolymer obtained by combining two or more of the above repeating units may be used. Two or more homopolymers or copolymers may be used in combination.
また、二種類以上の1,3,5−トリアジン環を有する化合物を併用してもよい。二種類以上の円盤状化合物(例えば、1,3,5−トリアジン環を有する化合物とポルフィリン骨格を有する化合物)を併用してもよい。 Moreover, you may use together the compound which has a 2 or more types of 1,3,5- triazine ring. Two or more kinds of discotic compounds (for example, a compound having a 1,3,5-triazine ring and a compound having a porphyrin skeleton) may be used in combination.
本発明では、安息香酸フェニルエステル化合物の少なくとも一種をリターデーション調整剤として用いることが好ましく、中でも下記一般式(6)で示される安息香酸フェニルエステル化合物をセルロースエステルに添加することが好ましい。 In this invention, it is preferable to use at least 1 type of a benzoic acid phenylester compound as a retardation regulator, and it is preferable to add the benzoic acid phenylester compound shown by following General formula (6) to a cellulose ester especially.
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R9及びR10は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、R1、R2、R3、R4及びR5のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。R8は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。)
一般式(6)の式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R9及びR10は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基を表し、置換基は後述の置換基Tが適用できる。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 1 , R 2 , At least one of R 3 , R 4 and R 5 represents an electron donating group, R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or 2 to 2 carbon atoms. 6 alkynyl groups, aryl groups having 6 to 12 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, aryloxy groups having 6 to 12 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 12 carbon atoms, acylamino having 2 to 12 carbon atoms Represents a group, a cyano group or a halogen atom.)
In the general formula (6), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, Substituent T described later can be applied as the substituent.
R1、R2、R3、R4及びR5のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。好ましくはR1、R3又はR5のうちの1つが電子供与性基であり、R3が電子供与性基であることがより好ましい。 At least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represents an electron donating group. Preferably, one of R 1 , R 3 or R 5 is an electron donating group, and R 3 is more preferably an electron donating group.
電子供与性基とは、Hammetのσp値が0以下のものを表し、Chem.Rev.,91,165(1991)記載のHammetのσp値が0以下のものが好ましく適用でき、より好ましくは、−0.85〜0のものが用いられる。例えば、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基(水酸基)などが挙げられる。 The electron donating group is one having Hammet's σp value of 0 or less. Rev. , 91, 165 (1991), and those having Hammet's σp value of 0 or less are preferably applicable, and those having −0.85 to 0 are more preferably used. Examples thereof include an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, and a hydroxyl group (hydroxyl group).
電子供与性基として好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6特に好ましくは炭素数1〜4である)である。 The electron donating group is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms). Having 1 to 4 carbon atoms).
R1として、好ましくは、水素原子又は電子供与性基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基(水酸基)であり、更に好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)であり、最も好ましくはメトキシ基である。 R 1 is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group (hydroxyl group), still more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to carbon atoms). 4), and most preferably a methoxy group.
R2として、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基(水酸基)であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4、より好ましくはメチル基である。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。 R 2 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group or a hydroxyl group (hydroxyl group), more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, still more preferably a hydrogen atom or an alkyl group. (Preferably 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group), an alkoxy group (preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably Is carbon number 1-4. Particularly preferred are a hydrogen atom, a methyl group and a methoxy group.
R3として、好ましくは、水素原子又は電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基(水酸基)であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)である。最も好ましくはn−プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である。 R 3 is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group (hydroxyl group), still more preferably an alkyl group or an alkoxy group. And particularly preferably an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). Most preferred are n-propoxy group, ethoxy group and methoxy group.
R4として、好ましくは、水素原子又は電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基(水酸基)であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)であり、特に好ましくは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。 R 4 is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group (hydroxyl group), still more preferably a hydrogen atom or a carbon number of 1 Alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). Particularly preferred are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and most preferred are a hydrogen atom, a methyl group and a methoxy group.
R5として、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基(水酸基)であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4、より好ましくはメチル基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6特に好ましくは炭素数1〜4)である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。 R 5 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group or a hydroxyl group (hydroxyl group), more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, still more preferably a hydrogen atom or an alkyl group. (Preferably 1 to 4 carbon atoms, more preferably methyl group), alkoxy groups (preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably 1 carbon atom). ~ 4). Particularly preferred are a hydrogen atom, a methyl group and a methoxy group.
R6、R7、R9及びR10として、好ましくは水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子である。 R 6 , R 7 , R 9 and R 10 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen atom, and more preferably a hydrogen atom or a halogen atom. And more preferably a hydrogen atom.
R8は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Tが適用できる。また、置換基が更に置換してもよい。 R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl having 6 to 12 carbon atoms. Represents an oxy group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group or a halogen atom, and if possible, may have a substituent. Substituent T can be applied. Further, the substituent may be further substituted.
R8として、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくは炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、シアノ基であり、更に好ましくは、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、シアノ基であり、特に好ましくは、炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニル基、p−シアノフェニル基、p−メトキシフェニル基、炭素数2〜4のアルコキシカルボニル基、シアノ基である。 R 8 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl having 2 to 12 carbon atoms. A cyano group, more preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, and a cyano group, and more preferably 1 carbon atom. An alkoxy group having 6 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, and a cyano group, particularly preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, and p-cyanophenyl. Group, a p-methoxyphenyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, and a cyano group.
一般式(6)で表される化合物のうち、より好ましい化合物は下記一般式(6−A)で表される化合物ある。 Among the compounds represented by the general formula (6), a more preferable compound is a compound represented by the following general formula (6-A).
一般式(6−A)中、R1、R2、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ一般式(6)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。 In general formula (6-A), R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meanings as those in general formula (6), The preferred range is also the same.
R11は、炭素数1〜12のアルキル基を表す。R11で表されるアルキル基は直鎖でも分岐があってもよく、また更に置換基を有してもよいが、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜8アルキル基、更に好ましくは炭素数1〜6アルキル基、特に好ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる)を表す。 R 11 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. The alkyl group represented by R 11 may be linear or branched, and may further have a substituent, but is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso group). -Butyl group, tert-butyl group and the like).
一般式(6)で表される化合物のうち、更に好ましい化合物は下記一般式(6−B)で表される化合物ある。 Among the compounds represented by the general formula (6), a more preferable compound is a compound represented by the following general formula (6-B).
一般式(6−B)中、R1、R2、R4、R5、R6、R7、R9、R10は一般式(6)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。 In general formula (6-B), R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 have the same meanings as those in general formula (6), and the preferred ranges are also the same. It is.
R11は、一般式(6−A)におけるそれと同義であり、また好ましい範囲も同様である。 R 11 has the same meaning as that in formula (6-A), and the preferred range is also the same.
Xは、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。 X is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, carbon An alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom is represented.
R1、R2、R4、R5がすべて水素原子の場合には、Xとして好ましくはアルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、より好ましくは、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4である。)であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基である。 When R 1 , R 2 , R 4 and R 5 are all hydrogen atoms, X is preferably an alkyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxy group or aryloxy group, more preferably an aryl group or alkoxy group. Group, aryloxy group, more preferably alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). And particularly preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group or an n-butoxy group.
R1、R2、R4、R5のうち少なくとも1つが置換基の場合には、Xとして好ましくはアルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、であり、より好ましくはアリール基(好ましくは炭素数6〜12)、シアノ基、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜12)であり、更に好ましくはアリール基(好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、より好ましくはフェニル基、p−シアノフェニル基、p−メトキシフェニルである)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素2〜12、より好ましくは炭素数2〜6、更に好ましくは炭素数2〜4、特に好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニルである)、シアノ基であり、特に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。 When at least one of R 1 , R 2 , R 4 , and R 5 is a substituent, X is preferably an alkynyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, or a cyano group, more preferably an aryl group (preferably Is a cyano group or an alkoxycarbonyl group (preferably a carbon number of 2 to 12), more preferably an aryl group (preferably an aryl group of 6 to 12 carbon atoms, more preferably a phenyl group). , P-cyanophenyl group and p-methoxyphenyl), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 12, more preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4 carbon atoms, particularly preferably methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl), cyano group, particularly preferably phenyl group, methoxy group A carbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propoxycarbonyl group, and a cyano group.
一般式(6)で表される化合物のうち、更に好ましい化合物は下記一般式(6−C)で表される化合物ある。 Among the compounds represented by the general formula (6), a more preferable compound is a compound represented by the following general formula (6-C).
一般式(6−C)中、R1、R2、R4、R5、R11及びXは、一般式(6−B)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。 In general formula (6-C), R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 11 and X are synonymous with those in general formula (6-B), and preferred ranges are also the same.
一般式(6)で表される化合物の中で、特に好ましい化合物は下記一般式(6−D)で表される化合物である。 Among the compounds represented by the general formula (6), a particularly preferable compound is a compound represented by the following general formula (6-D).
一般式(6−D)中、R2、R4及びR5は、一般式(6−C)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。R21、R22は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基を表す。X1は、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、又はシアノ基を表す。 In general formula (6-D), R 2 , R 4 and R 5 have the same meanings as those in general formula (6-C), and the preferred ranges are also the same. R 21 and R 22 each independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. X1 represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or a cyano group.
R21は、炭素数1〜4のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基である。 R 21 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably an ethyl group or a methyl group.
R22は、炭素数1〜4のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。 R 22 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a methyl group, and still more preferably a methyl group.
X1は、炭素数6〜12のアリール基、炭素2〜12アルコキシカルボニル基、又はシアノ基であり、好ましくは炭素数6〜10のアリール基、炭素数2〜6アルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはフェニル基、p−シアノフェニル基、p−メトキシフェニル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、シアノ基であり、更に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。 X 1 is an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or a cyano group, preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a cyano group. More preferably a phenyl group, a p-cyanophenyl group, a p-methoxyphenyl group, a methoxycarbonyl, an ethoxycarbonyl, an n-propoxycarbonyl, a cyano group, and still more preferably a phenyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group. , N-propoxycarbonyl group and cyano group.
一般式(6)で表される化合物のうち、最も好ましい化合物は下記一般式(6−E)で表される化合物ある。 Among the compounds represented by the general formula (6), the most preferable compound is a compound represented by the following general formula (6-E).
一般式(6−E)中、R2、R4及びR5は一般式(6−D)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。但し、いずれか1つは−OR13で表される基である。ここで、R13は炭素数1〜4のアルキル基である。R21、R22、X1は一般式(6−D)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。 In general formula (6-E), R 2 , R 4 and R 5 have the same meanings as those in general formula (6-D), and the preferred ranges are also the same. However, any one is a group represented by —OR 13 . Here, R 13 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 21 , R 22 and X 1 have the same meanings as those in formula (6-D), and preferred ranges are also the same.
好ましくは、R4及びR5の少なくともいずれかが−OR13で表される基であり、より好ましくはR4が−OR13で表される基であることである。 Preferably, at least one of R 4 and R 5 is a group represented by —OR 13 , and more preferably, R 4 is a group represented by —OR 13 .
R13は炭素数1〜4のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。 R 13 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a methyl group, and still more preferably a methyl group.
以下において、前述の置換基Tについて説明する。 Hereinafter, the aforementioned substituent T will be described.
置換基Tとしては、例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、置換又は未置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。 Examples of the substituent T include an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert- Butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably C2-8, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl groups (preferably C2-20, more preferably C2-12, particularly preferably Has 2 to 8 carbon atoms, for example, propargyl, 3-pentynyl, etc.), aryl group (preferably 6 carbon atoms) 30, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), a substituted or unsubstituted amino group (preferably having a carbon number) 0 to 20, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms, such as amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, etc.), alkoxy groups (preferably C1-C20, More preferably, it is C1-C12, Most preferably, it is C1-C8, for example, a methoxy, an ethoxy, butoxy etc. are mentioned, and an aryloxy group (preferably C6-C20). More preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 2-naphthyloxy, etc. And an acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include acetyl, benzoyl, formyl, and pivaloyl. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl A group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 10 carbon atoms such as phenyloxycarbonyl), an acyloxy group (preferably having 2 to 2 carbon atoms). 20, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms. And benzoyloxy. ), An acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetylamino and benzoylamino), alkoxycarbonylamino group (Preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably having carbon number) 7 to 20, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino, and the like, and sulfonylamino groups (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably Has 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms. And sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl and methylsulfamoyl). , Dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as carbamoyl). , Methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), an alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio, Ethylthio etc.), arylthio group (preferably Has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenylthio, and a sulfonyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl, tosyl, etc.), sulfinyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably Has 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.), ureido group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). For example, ureido, methylureido, phenylureido, etc.), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms) More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is C1-C12, for example, diethyl phosphoric acid amide, phenylphosphoric acid amide etc. are mentioned. ), Hydroxyl group, mercapto group, halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group, Heterocyclic group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, specifically, for example, imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, piperidyl , Morpholino, benzoxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, etc.), silyl group (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 3 to 24 carbon atoms). For example, trimethylsilyl, triphenylsilyl, etc.) That. These substituents may be further substituted.
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。 Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be linked together to form a ring.
以下に一般式(6)で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。 Hereinafter, the compound represented by the general formula (6) will be described in detail with specific examples, but the present invention is not limited to the following specific examples.
本発明に用いられる一般式(6)で表される化合物は、置換安息香酸とフェノール誘導体の一般的なエステル反応によって合成でき、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法、縮合剤或いは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体を脱水縮合する方法など挙げられる。 The compound represented by the general formula (6) used in the present invention can be synthesized by a general ester reaction of a substituted benzoic acid and a phenol derivative, and any reaction may be used as long as it is an ester bond forming reaction. Examples thereof include a method of converting a substituted benzoic acid into an acid halide and then condensing with phenol, a method of dehydrating condensation of a substituted benzoic acid and a phenol derivative using a condensing agent or a catalyst, and the like.
製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法が好ましい。 In view of the production process and the like, a method in which the substituted benzoic acid is functionally converted to an acid halide and then condensed with phenol is preferable.
反応溶媒としては、炭化水素系溶媒(好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。)、エーテル系溶媒(好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる。)、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。 Examples of the reaction solvent include hydrocarbon solvents (preferably toluene and xylene), ether solvents (preferably dimethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like), ketone solvents, ester solvents, acetonitrile and dimethyl. Formamide, dimethylacetamide and the like can be used. These solvents may be used alone or in admixture of several kinds, and preferred reaction solvents are toluene, acetonitrile, dimethylformamide and dimethylacetamide.
反応温度は、好ましくは0〜150℃、より好ましくは0〜100℃、更に好ましくは0〜90℃であり、特に好ましくは20℃〜90℃である。 The reaction temperature is preferably 0 to 150 ° C, more preferably 0 to 100 ° C, still more preferably 0 to 90 ° C, and particularly preferably 20 ° C to 90 ° C.
本反応には塩基を用いないのが好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、3級アルキルアミン(好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる)である。 In this reaction, it is preferable not to use a base. When a base is used, either an organic base or an inorganic base may be used, preferably an organic base such as pyridine, tertiary alkylamine (preferably triethylamine, ethyldiisopropyl). Pyramine and the like).
更に、本発明の位相差フィルムは、溶液の紫外線吸収スペクトルの最大吸収波長(λmax)が250nmより短波長である棒状化合物をリターデーション調整剤として含有することが好ましい。 Furthermore, the retardation film of the present invention preferably contains a rod-like compound having a maximum absorption wavelength (λmax) of the ultraviolet absorption spectrum of the solution shorter than 250 nm as a retardation adjusting agent.
リターデーション調整剤の機能の観点では、棒状化合物は、少なくとも一つの芳香族環を有することが好ましく、少なくとも二つの芳香族環を有することが更に好ましい。棒状化合物は、直線的な分子構造を有することが好ましい。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析又は分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト(例、WinMOPAC2000、富士通(株)製)を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造の角度が140度以上であることを意味する。棒状化合物は、液晶性を示すことが好ましい。棒状化合物は、加熱により液晶性を示す(サーモトロピック液晶性を有する)ことが更に好ましい。液晶相は、ネマティック相又はスメクティック相が好ましい。 From the viewpoint of the function of the retardation adjusting agent, the rod-like compound preferably has at least one aromatic ring, and more preferably has at least two aromatic rings. The rod-like compound preferably has a linear molecular structure. The linear molecular structure means that the molecular structure of the rod-like compound is linear in the most thermodynamically stable structure. The most thermodynamically stable structure can be obtained by crystal structure analysis or molecular orbital calculation. For example, molecular orbital calculation can be performed using molecular orbital calculation software (eg, WinMOPAC2000, manufactured by Fujitsu Limited) to obtain a molecular structure that minimizes the heat of formation of a compound. The molecular structure being linear means that the angle of the molecular structure is 140 degrees or more in the thermodynamically most stable structure obtained by calculation as described above. The rod-shaped compound preferably exhibits liquid crystallinity. More preferably, the rod-like compound exhibits liquid crystallinity upon heating (has thermotropic liquid crystallinity). The liquid crystal phase is preferably a nematic phase or a smectic phase.
棒状化合物としては、下記一般式(7)で表されるトランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸エステル化合物が好ましい。 The rod-like compound is preferably a trans-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid ester compound represented by the following general formula (7).
一般式(7):Ar1−L1−Ar2
一般式(7)において、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。本明細書において、芳香族基は、アリール基(芳香族性炭化水素基)、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。アリール基及び置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性ヘテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることが更に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましく、窒素原子又は硫黄原子が更に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、及び1,3,5−トリアジン環が含まれる。芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
Formula (7): Ar 1 -L 1 -Ar 2
In the general formula (7), Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group. In the present specification, the aromatic group includes an aryl group (aromatic hydrocarbon group), a substituted aryl group, an aromatic heterocyclic group, and a substituted aromatic heterocyclic group. An aryl group and a substituted aryl group are more preferable than an aromatic heterocyclic group and a substituted aromatic heterocyclic group. The heterocyclic ring of the aromatic heterocyclic group is generally unsaturated. The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As a hetero atom, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom is preferable, and a nitrogen atom or a sulfur atom is more preferable. Examples of aromatic heterocycles include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring , A pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a 1,3,5-triazine ring. As the aromatic ring of the aromatic group, a benzene ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring and a pyrazine ring are preferable, and a benzene ring is particularly preferable. .
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基(例、メチルアミノ、エチルアミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ)、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基(例、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル)、スルファモイル、アルキルスルファモイル基(例、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル)、ウレイド、アルキルウレイド基(例、N−メチルウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N,N,N′−トリメチルウレイド)、アルキル基(例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、オクチル、イソプロピル、s−ブチル、t−アミル、シクロヘキシル、シクロペンチル)、アルケニル基(例、ビニル、アリル、ヘキセニル)、アルキニル基(例、エチニル、ブチニル)、アシル基(例、ホルミル、アセチル、ブチリル、ヘキサノイル、ラウリル)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ラウリルオキシ)、アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ)、アリールオキシ基(例、フェノキシ)、アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(例、フェノキシカルボニル)、アルコキシカルボニルアミノ基(例、ブトキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニルアミノ)、アルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ)、アリールチオ基(例、フェニルチオ)、アルキルスルホニル基(例、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘプチルスルホニル、オクチルスルホニル)、アミド基(例、アセトアミド、ブチルアミド基、ヘキシルアミド、ラウリルアミド)及び非芳香族性複素環基(例、モルホリル、ピラジニル)が含まれる。 Examples of substituents for substituted aryl groups and substituted aromatic heterocyclic groups include halogen atoms (F, Cl, Br, I), hydroxyl, carboxyl, cyano, amino, alkylamino groups (eg, methylamino, ethylamino) , Butylamino, dimethylamino), nitro, sulfo, carbamoyl, alkylcarbamoyl groups (eg, N-methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl), sulfamoyl, alkylsulfamoyl groups (eg, N- Methylsulfamoyl, N-ethylsulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl), ureido, alkylureido groups (eg, N-methylureido, N, N-dimethylureido, N, N, N′-trimethyl) Ureido), alkyl groups (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, Butyl, octyl, isopropyl, s-butyl, t-amyl, cyclohexyl, cyclopentyl), alkenyl groups (eg, vinyl, allyl, hexenyl), alkynyl groups (eg, ethynyl, butynyl), acyl groups (eg, formyl, acetyl, Butyryl, hexanoyl, lauryl), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, lauryloxy), alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, heptyloxy, octyloxy), aryloxy groups (Eg, phenoxy), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, heptyloxycarbonyl), aryloxycarbo Group (eg, phenoxycarbonyl), alkoxycarbonylamino group (eg, butoxycarbonylamino, hexyloxycarbonylamino), alkylthio group (eg, methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, pentylthio, heptylthio, octylthio), arylthio group (eg, , Phenylthio), alkylsulfonyl groups (eg, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, butylsulfonyl, pentylsulfonyl, heptylsulfonyl, octylsulfonyl), amide groups (eg, acetamide, butylamide group, hexylamide, laurylamide) and non- Aromatic heterocyclic groups (eg, morpholyl, pyrazinyl) are included.
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、アミノ、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル基が好ましい。アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、更に置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。 Substituents for substituted aryl groups and substituted aromatic heterocyclic groups include halogen atoms, cyano, carboxyl, hydroxyl, amino, alkyl-substituted amino groups, acyl groups, acyloxy groups, amide groups, alkoxycarbonyl groups, alkoxy groups, alkylthios. And groups and alkyl groups are preferred. The alkyl moiety of the alkylamino group, alkoxycarbonyl group, alkoxy group, and alkylthio group and the alkyl group may further have a substituent. Examples of alkyl moieties and substituents of alkyl groups include halogen atoms, hydroxyl, carboxyl, cyano, amino, alkylamino groups, nitro, sulfo, carbamoyl, alkylcarbamoyl groups, sulfamoyl, alkylsulfamoyl groups, ureido, alkylureido Group, alkenyl group, alkynyl group, acyl group, acyloxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonylamino group, alkylthio group, arylthio group, alkylsulfonyl group, amide group and non-aromatic An aromatic heterocyclic group is included. As the substituent for the alkyl moiety and the alkyl group, a halogen atom, hydroxyl, amino, alkylamino group, acyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonyl group and alkoxy group are preferable.
一般式(7)において、L1は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、二価の飽和ヘテロ環基、−O−、−CO−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、1,4−シクロヘキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、1〜20であることが好ましく、1〜15であることがより好ましく、1〜10であることが更に好ましく、1〜8であることが更にまた好ましく、1〜6であることが最も好ましい。 In General Formula (7), L 1 is a divalent linking group selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, a divalent saturated heterocyclic group, —O—, —CO—, and combinations thereof. It is. The alkylene group may have a cyclic structure. As the cyclic alkylene group, cyclohexylene is preferable, and 1,4-cyclohexylene is particularly preferable. As the chain alkylene group, a linear alkylene group is more preferable than a branched alkylene group. The number of carbon atoms of the alkylene group is preferably 1-20, more preferably 1-15, still more preferably 1-10, still more preferably 1-8, 6 is most preferred.
アルケニレン基及びアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することが更に好ましい。アルケニレン基及びアルキニレン基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましく、2〜8であることがより好ましく、2〜6であることが更に好ましく、2〜4であることが更にまた好ましく、2(ビニレン又はエチニレン)であることが最も好ましい。二価の飽和ヘテロ環基は、3員〜9員のヘテロ環を有することが好ましい。ヘテロ環のヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子、ホウ素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子又はゲルマニウム原子が好ましい。飽和ヘテロ環の例には、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピロリジン環、イミダゾリジン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、1,3−ジオキサン環、1,4−ジオキサン環、テトラヒドロチオフェン環、1,3−チアゾリジン環、1,3−オキサゾリジン環、1,3−ジオキソラン環、1,3−ジチオラン環及び1,3,2−ジオキサボロランが含まれる。特に好ましい二価の飽和ヘテロ環基は、ピペラジン−1,4−ジイレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイレン及び1,3,2−ジオキサボロラン−2,5−ジイレンである。 The alkenylene group and the alkynylene group preferably have a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably have a linear structure rather than a branched chain structure. The number of carbon atoms in the alkenylene group and the alkynylene group is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 8, still more preferably 2 to 6, and still more preferably 2 to 4. 2 (vinylene or ethynylene) is most preferred. The divalent saturated heterocyclic group preferably has a 3- to 9-membered heterocyclic ring. The hetero atom of the hetero ring is preferably an oxygen atom, a nitrogen atom, a boron atom, a sulfur atom, a silicon atom, a phosphorus atom or a germanium atom. Examples of saturated heterocycles include piperidine ring, piperazine ring, morpholine ring, pyrrolidine ring, imidazolidine ring, tetrahydrofuran ring, tetrahydropyran ring, 1,3-dioxane ring, 1,4-dioxane ring, tetrahydrothiophene ring, 1 , 3-thiazolidine ring, 1,3-oxazolidine ring, 1,3-dioxolane ring, 1,3-dithiolane ring and 1,3,2-dioxaborolane. Particularly preferred divalent saturated heterocyclic groups are piperazine-1,4-diylene, 1,3-dioxane-2,5-diylene and 1,3,2-dioxaborolane-2,5-diylene.
組み合わせからなる二価の連結基の例を示す。 The example of the bivalent coupling group which consists of a combination is shown.
L−1:−O−CO−アルキレン基−CO−O−
L−2:−CO−O−アルキレン基−O−CO−
L−3:−O−CO−アルケニレン基−CO−O−
L−4:−CO−O−アルケニレン基−O−CO−
L−5:−O−CO−アルキニレン基−CO−O−
L−6:−CO−O−アルキニレン基−O−CO−
L−7:−O−CO−二価の飽和ヘテロ環基−CO−O−
L−8:−CO−O−二価の飽和ヘテロ環基−O−CO−
一般式(7)の分子構造において、L1を挟んで、Ar1とAr2とが形成する角度は、140度以上であることが好ましい。棒状化合物としては、下記一般式(8)で表される化合物が更に好ましい。
L-1: —O—CO-alkylene group —CO—O—
L-2: -CO-O-alkylene group -O-CO-
L-3: —O—CO—alkenylene group —CO—O—
L-4: -CO-O-alkenylene group -O-CO-
L-5: -O-CO-alkynylene group -CO-O-
L-6: -CO-O-alkynylene group -O-CO-
L-7: -O-CO-divalent saturated heterocyclic group -CO-O-
L-8: -CO-O-divalent saturated heterocyclic group -O-CO-
In the molecular structure of the general formula (7), the angle formed by Ar 1 and Ar 2 across L 1 is preferably 140 degrees or more. As the rod-like compound, a compound represented by the following general formula (8) is more preferable.
一般式(8):Ar1−L2−X−L3−Ar2
一般式(8)において、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義及び例は、一般式(7)のAr1及びAr2と同様である。
Formula (8): Ar 1 -L 2 -X-L 3 -Ar 2
In the general formula (8), Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group. The definition and examples of the aromatic group are the same as those of Ar 1 and Ar 2 in the general formula (7).
一般式(8)において、L2及びL3は、それぞれ独立に、アルキレン基、−O−、−CO−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することが更に好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましく、1〜8であることがより好ましく、1〜6であることが更に好ましく、1〜4であることが更にまた好ましく、1又は2(メチレン又はエチレン)であることが最も好ましい。L2及びL3は、−O−CO−又は−CO−O−であることが特に好ましい。 In General Formula (8), L 2 and L 3 are each independently a divalent linking group selected from the group consisting of an alkylene group, —O—, —CO—, and combinations thereof. The alkylene group preferably has a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably has a linear structure rather than a branched chain structure. The number of carbon atoms of the alkylene group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8, still more preferably 1 to 6, still more preferably 1 to 4, and 1 or Most preferred is 2 (methylene or ethylene). L 2 and L 3 are particularly preferably —O—CO— or —CO—O—.
一般式(8)において、Xは、1,4−シクロヘキシレン、ビニレン又はエチニレンである。以下に、一般式(7)で表される化合物の具体例を示す。 In General formula (8), X is 1, 4- cyclohexylene, vinylene, or ethynylene. The specific example of a compound represented by General formula (7) below is shown.
具体例(1)〜(34)、(41)、(42)、(46)、(47)、(52)、(53)は、シクロヘキサン環の1位と4位とに二つの不斉炭素原子を有する。但し、具体例(1)、(4)〜(34)、(41)、(42)、(46)、(47)、(52)、(53)は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体(光学活性)はなく、幾何異性体(トランス型とシス型)のみ存在する。具体例(1)のトランス型(1−trans)とシス型(1−cis)とを、以下に示す。 Specific examples (1) to (34), (41), (42), (46), (47), (52), (53) are two asymmetric carbons at the 1st and 4th positions of the cyclohexane ring. Has atoms. However, the specific examples (1), (4) to (34), (41), (42), (46), (47), (52), (53) have a symmetric meso type molecular structure. Therefore, there is no optical isomer (optical activity) and only geometric isomers (trans and cis forms) exist. The trans type (1-trans) and cis type (1-cis) of specific example (1) are shown below.
前述したように、棒状化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。具体例(2)及び(3)は、幾何異性体に加えて光学異性体(合計4種の異性体)を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、D、L或いはラセミ体のいずれでもよい。具体例(43)〜(45)では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。 As described above, the rod-like compound preferably has a linear molecular structure. Therefore, the trans type is preferable to the cis type. Specific examples (2) and (3) have optical isomers (a total of four isomers) in addition to geometric isomers. As for geometric isomers, the trans type is similarly preferable to the cis type. The optical isomer is not particularly superior or inferior, and may be D, L, or a racemate. In specific examples (43) to (45), the central vinylene bond includes a trans type and a cis type. For the same reason as above, the trans type is preferable to the cis type.
溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長(λmax)が250nmより短波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。棒状化合物は、文献記載の方法を参照して合成できる。文献としては、Mol.Cryst.Liq.Cryst.,53巻、229頁(1979年)、同89巻、93頁(1982年)、同145巻、111頁(1987年)、同170巻、43頁(1989年)、J.Am.Chem.Soc.,113巻、1349頁(1991年)、同118巻、5346頁(1996年)、同92巻、1582頁(1970年)、J.Org.Chem.,40巻、420頁(1975年)、Tetrahedron、48巻16号、3437頁(1992年)を挙げることができる。 Two or more rod-shaped compounds having a maximum absorption wavelength (λmax) shorter than 250 nm in the ultraviolet absorption spectrum of the solution may be used in combination. The rod-like compound can be synthesized with reference to methods described in literature. As literature, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 53, 229 (1979), 89, 93 (1982), 145, 111 (1987), 170, 43 (1989); Am. Chem. Soc. 113, p. 1349 (1991), p. 118, p. 5346 (1996), p. 92, p. 1582 (1970). Org. Chem. 40, 420 (1975), Tetrahedron, 48, 16, 3437 (1992).
<ポリマー又はオリゴマー>
本発明の位相差フィルムは、セルロースエステルと、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アミド基、及びスルホン酸基から選ばれる置換基を有しかつ重量平均分子量が500〜200,000の範囲内であるビニル系化合物のポリマー又はオリゴマーとを含有することが好ましい。当該セルロースエステルと、当該ポリマー又はオリゴマーとの含有量の質量比が、95:5〜50:50の範囲内であることが好ましい。
<Polymer or oligomer>
The retardation film of the present invention has a cellulose ester and a substituent selected from a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, an amide group, and a sulfonic acid group and has a weight average molecular weight in the range of 500 to 200,000. It preferably contains a polymer or oligomer of a certain vinyl compound. The mass ratio of the content of the cellulose ester and the polymer or oligomer is preferably in the range of 95: 5 to 50:50.
以下において、本発明に用いられるポリマー又はオリゴマーについて説明する。 Hereinafter, the polymer or oligomer used in the present invention will be described.
前記カルボキシル基は−COO−の構造を有する基である。アミノ基は−NR1、R2、R3の構造を有する基であり、R1、R2、R3は各々水素原子、アルキル基、フェニル基等の置換基を表す。アミド基は−NHCO−の構造を有する基であり、アルキル基、フェニル基等の置換基が連結していても良い。 The carboxyl group is a group having a structure of —COO—. The amino group is a group having a structure of —NR 1 , R 2 , R 3 , and R 1 , R 2 , R 3 each represents a substituent such as a hydrogen atom, an alkyl group, or a phenyl group. The amide group is a group having a structure of —NHCO—, and a substituent such as an alkyl group or a phenyl group may be linked thereto.
本発明に用いられる前記ポリマー及びオリゴマーとしては、例えば下記のアクリル系ポリマー及びオリゴマー等が挙げられる。 Examples of the polymer and oligomer used in the present invention include the following acrylic polymers and oligomers.
これらの化合物は、セルロースエステルに対し5〜50質量%の範囲内で使用し、また相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの全可視域(400nm〜800nm)に渡り透過率が80%以上、好ましくは90%以上、さらに好ましくは92%以上が得られるようにする。 These compounds are preferably used in the range of 5 to 50% by mass with respect to the cellulose ester, and are preferably excellent in compatibility. The transmittance is 80% over the entire visible range (400 nm to 800 nm) when formed into a film. Thus, 90% or more, more preferably 92% or more is obtained.
<アクリル系ポリマー及びオリゴマー>
本発明に用いられるアクリル系ポリマー及びオリゴマーとしては、特に構造が限定されるものではないが、エチレン性不飽和モノマーを重合して得られた重量平均分子量が500以上200,000以下である重合体であることが好ましい。
<Acrylic polymer and oligomer>
The acrylic polymer and oligomer used in the present invention are not particularly limited in structure, but a polymer having a weight average molecular weight of 500 or more and 200,000 or less obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer. It is preferable that
本発明に用いられるアクリル系ポリマー及びオリゴマーは、単一のモノマーから構成されていても複数種のモノマーから構成されていてもかまわない。モノマーはアクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステルから選択されることが好ましいが、作製するフィルムのリターデーション特性、波長分散特性、耐熱性に応じて適宜他のモノマー、例えば無水マレイン酸、スチレン等を含んでいてもかまわない。 The acrylic polymer and oligomer used in the present invention may be composed of a single monomer or a plurality of types of monomers. The monomer is preferably selected from acrylic acid ester or methacrylic acid ester, but appropriately contains other monomers such as maleic anhydride, styrene, etc. depending on the retardation characteristics, wavelength dispersion characteristics, and heat resistance of the film to be produced. It does not matter.
以下、本発明に用いられるアクリル系ポリマー及びオリゴマーをポリマーXとして説明する。 Hereinafter, the acrylic polymer and oligomer used in the present invention will be described as polymer X.
<ポリマーX>
本発明に用いられるポリマーXは、分子内に芳香環と極性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、極性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとを共重合して得られた重量平均分子量500以上200,000以下の下記一般式(1)で表されるポリマーであることが好ましい。更に30℃下にて固体であるか、もしくはガラス転移温度が35℃以上であることが好ましい。
<Polymer X>
The polymer X used in the present invention comprises an ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and a polar group in the molecule and an ethylenically unsaturated monomer Xb having no aromatic ring and a polar group in the molecule. A polymer represented by the following general formula (1) having a weight average molecular weight of 500 or more and 200,000 or less obtained by polymerization is preferred. Further, it is preferably solid at 30 ° C. or glass transition temperature of 35 ° C. or higher.
重量平均分子量は、500以上、200,000以下であるとセルロースエステルとの相溶性と透明性に優れる。 When the weight average molecular weight is 500 or more and 200,000 or less, the compatibility with the cellulose ester and the transparency are excellent.
一般式(1): −[Xa]m−[Xb]n−
(m及びnは、モル組成比を表し、m+n=100である。)
本発明に用いられるポリマーXを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。
General formula (1):-[Xa] m- [Xb] n-
(M and n represent molar composition ratios, and m + n = 100.)
Although the monomer as a monomer unit which comprises the polymer X used for this invention is mentioned below, it is not limited to this.
分子内に芳香環と極性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−エトキシエチル)等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル(i−、n−)であることが好ましい。 Examples of the ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and no polar group in the molecule include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), and butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl) , Acrylic acid (2-ethoxyethyl), or the like, or those obtained by replacing the acrylic ester with a methacrylic ester. Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and propyl methacrylate (i-, n-) are preferable.
分子内に芳香環を有せず、極性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbは、ヒドロキシル基(水酸基)を有するモノマー単位として、アクリル酸又はメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリルや(4−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)−メチルアクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー;(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマー;アクリル酸のカプロラクトン付加物;スチレンスルホン酸やアリルスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー;2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどの燐酸基含有モノマーなどがあげられる。
The ethylenically unsaturated monomer Xb having no polar ring in the molecule and having a polar group is preferably acrylic acid or methacrylic acid ester as a monomer unit having a hydroxyl group (hydroxyl group). For example, (meth) acrylic acid 2 -Hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, (meth)
また、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミドやN−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メチロールプロパン(メタ)アクリルアミドなどの(N−置換)アミド系モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t−ブチルアミノエチルなどの(メタ)アクリル酸アルキルアミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチルなどの(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;N−(メタ)アクリロイルオキシメチレンスクシンイミドやN−(メタ)アクリロイル−6−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、N−(メタ)アクリロイル−8−オキシオクタメチレンスクシンイミド、N−アクリロイルモルホリンなどのスクシンイミド系モノマーなども改質目的のモノマー例としてあげられる。 In addition, (N-substituted) amides such as (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methylolpropane (meth) acrylamide, etc. Monomer; (Meth) acrylic acid aminoethyl, (meth) acrylic acid N, N-dimethylaminoethyl, (meth) acrylic acid t-butylaminoethyl (meth) acrylic acid alkylaminoalkyl monomer; (Meth) acrylic acid alkoxyalkyl monomers such as methoxyethyl acid and ethoxyethyl (meth) acrylate; N- (meth) acryloyloxymethylenesuccinimide, N- (meth) acryloyl-6-oxyhexamethylenesuccinimide, N- ( (Meta) acryloyl- - oxy octamethylene succinimide, also including succinimide-based monomers such as N- acryloyl morpholine and the like as a monomer Examples of the reforming purposes.
さらに、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、N−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、N−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、N−ビニルカプロラクタムなどのビニル系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノアクリレート系モノマー;(メタ)アクリル酸グリシジルなどのエポキシ基含有アクリル系モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコールなどのグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートや2−メトキシエチルアクリレートなどのアクリル酸エステル系モノマーなども使用することができる。 Further, vinyl acetate, vinyl propionate, N-vinyl pyrrolidone, methyl vinyl pyrrolidone, vinyl pyridine, vinyl piperidone, vinyl pyrimidine, vinyl piperazine, vinyl pyrazine, vinyl pyrrole, vinyl imidazole, vinyl oxazole, vinyl morpholine, N-vinyl carboxylic acid amide , Vinyl monomers such as styrene, α-methylstyrene, N-vinylcaprolactam; cyanoacrylate monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; epoxy group-containing acrylic monomers such as glycidyl (meth) acrylate; (meth) acrylic Polyethylene glycol acid, polypropylene glycol (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene (meth) acrylate Glycol acrylic ester monomers such as recall; (meth) acrylic acid tetrahydrofurfuryl, fluorine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate and acrylic acid ester monomers such as 2-methoxyethyl acrylate, etc. may also be used.
本発明では、上記疎水性モノマーXaと極性モノマーXbを用いて共重合によりポリマーXを合成する。また上記に記載した疎水性モノマー、又は極性モノマーをモノマーXcとして三元共重合体とすることもできる。 In the present invention, the polymer X is synthesized by copolymerization using the hydrophobic monomer Xa and the polar monomer Xb. Further, the above-described hydrophobic monomer or polar monomer can be used as the monomer Xc to form a terpolymer.
疎水性モノマーXaと極性モノマーXbの合成時の使用比率は99:1〜50:50の範囲が好ましく、更に好ましくは95:5〜60:40の範囲である。疎水性モノマーXaの使用比率が多いとセルロースエステルとの相溶性が低下するが、位相差値の環境湿度に対する変動を低減させる効果が高い。極性モノマーXbの使用比率が多いとセルロースエステルとの相溶性が良化するが位相差値の環境湿度に対する変動が大きくなる。また、極性モノマーXbの使用比率が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る為好ましくない。 The use ratio in the synthesis of the hydrophobic monomer Xa and the polar monomer Xb is preferably in the range of 99: 1 to 50:50, more preferably in the range of 95: 5 to 60:40. When the use ratio of the hydrophobic monomer Xa is large, the compatibility with the cellulose ester is lowered, but the effect of reducing the fluctuation of the retardation value with respect to the environmental humidity is high. When the use ratio of the polar monomer Xb is large, the compatibility with the cellulose ester is improved, but the fluctuation of the retardation value with respect to the environmental humidity is increased. Moreover, since the haze comes out at the time of film forming when the usage-amount of polar monomer Xb exceeds the said range, it is unpreferable.
このようなポリマーを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量をあまり大きくしない方法で、できるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやt−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開2000−128911号又は同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級のヒドロキシル基(水酸基)とを有する化合物、或いは、当該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられる。 In order to synthesize such a polymer, it is difficult to control the molecular weight in normal polymerization, and it is desirable to use a method that can align the molecular weight as much as possible without increasing the molecular weight. Such polymerization methods include a method using a peroxide polymerization initiator such as cumene peroxide and t-butyl hydroperoxide, a method using a polymerization initiator in a larger amount than normal polymerization, and a mercapto compound in addition to the polymerization initiator. And a method using a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, a method using a polymerization terminator such as benzoquinone and dinitrobenzene in addition to the polymerization initiator, and further disclosed in JP-A No. 2000-128911 or 2000-344823. Examples thereof include a compound having one thiol group and a secondary hydroxyl group (hydroxyl group), or a bulk polymerization method using a polymerization catalyst in which the compound and an organometallic compound are used in combination. It is preferably used in the present invention.
本発明に用いられるポリマーXの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することができる。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。また、重合温度は通常室温から130℃、好ましくは50℃から100℃で行われるが、この温度又は重合反応時間を調整することで可能である。 The weight average molecular weight of the polymer X used in the present invention can be adjusted by a known molecular weight adjusting method. Examples of such a molecular weight adjusting method include a method of adding a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, lauryl mercaptan, octyl thioglycolate, and the like. The polymerization temperature is usually from room temperature to 130 ° C., preferably from 50 ° C. to 100 ° C., but this temperature or the polymerization reaction time can be adjusted.
重量平均分子量の測定方法は前記分子量測定方法によることができる。 The measuring method of a weight average molecular weight can be based on the said molecular weight measuring method.
ポリマーXの添加量は、フィルムに所望の性能を持たせるために適宜調製される。光弾性係数、位相差値の環境湿度に対する変動を低減させるためには添加し、位相差性能を大きくするためには少量添加すればよいが、少な過ぎると位相差フィルムとして液晶テレビに用いた場合、画面のコーナー部の色が変わるコーナームラや、さらには位相差値が製造当初設定した値から変化してしまうことによる視野角の変動、色味の変化が生じてしまい、多過ぎると必要な位相差性能が得られないため、5質量%以上50質量%以下が好ましい。 The amount of the polymer X added is appropriately adjusted so that the film has a desired performance. Addition to reduce fluctuation of photoelastic coefficient and retardation value with respect to environmental humidity. Addition of small amount to increase retardation performance. , Corner irregularities that change the color of the corners of the screen, and even if the phase difference value changes from the initially set value, the viewing angle fluctuates and the color changes. Since phase difference performance cannot be obtained, 5 mass% or more and 50 mass% or less are preferable.
<ラクトン環構造を有するアクリル系重合体>
アクリル系重合体は、(メタ)アクリル酸エステルを主成分として含有する単量体組成物を重合した樹脂であれば特には限定されない。また、二種類以上のアクリル系重合体を主成分とするものでもよい。
<Acrylic polymer having a lactone ring structure>
The acrylic polymer is not particularly limited as long as it is a resin obtained by polymerizing a monomer composition containing (meth) acrylic acid ester as a main component. Moreover, what has two or more types of acrylic polymers as a main component may be used.
上記(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、下記一般式(I) Examples of the (meth) acrylic acid ester include the following general formula (I):
(式中、R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を示す。)
で表される構造を有する化合物(単量体)、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル;などが挙げられ、これらは一種のみ用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、上記一般式(I)で表される構造を有する化合物、メタクリル酸メチルがより好ましい。また、正の複屈折性(正の位相差)を大きくする点で、(メタ)アクリル酸ベンジルが好ましい。
(In the formula, R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms.)
A compound (monomer) having a structure represented by the formula: Acrylic acid esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate, etc. Methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate and benzyl methacrylate; May be used alone, or two or more of them may be used in combination. Among these, a compound having a structure represented by the above general formula (I) and methyl methacrylate are more preferable because of excellent heat resistance and transparency. In addition, benzyl (meth) acrylate is preferred in terms of increasing positive birefringence (positive phase difference).
なお、(メタ)アクリル酸ベンジル単量体構造単位を導入する場合には、アクリル系重合体における(メタ)アクリル酸ベンジル単量体構造単位の好ましい含有量は、5〜50質量%であり、より好ましくは10〜40質量%であり、更に好ましくは15〜30質量%である。 In addition, when introduce | transducing a methacrylic acid benzyl monomer structural unit, the preferable content of the (meth) acrylic acid benzyl monomer structural unit in an acrylic polymer is 5-50 mass%, More preferably, it is 10-40 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%.
一般式(I)で表される構造を有する化合物としては、例えば、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸ノルマルブチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸ターシャリーブチルなどが挙げられる。これらの中でも、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性向上効果が高い点で、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチルが特に好ましい。一般式(I)で表される化合物は、一種のみ用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。 Examples of the compound having a structure represented by the general formula (I) include methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, ethyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, isopropyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2- (Hydroxymethyl) normal butyl acrylate, 2- (hydroxymethyl) tert-butyl acrylate, and the like. Among these, methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate and 2- (hydroxymethyl) ethyl acrylate are preferable, and methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate is particularly preferable in that the effect of improving heat resistance is high. As for the compound represented by general formula (I), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記アクリル系重合体は、上述した(メタ)アクリル酸エステルを重合した構造以外の構造を有していてもよい。(メタ)アクリル酸エステルを重合した構造以外の構造としては、特には限定されないが、ヒドロキシル基(水酸基)含有単量体、不飽和カルボン酸、下記一般式(II) The acrylic polymer may have a structure other than the structure obtained by polymerizing the (meth) acrylic acid ester described above. The structure other than the structure obtained by polymerizing (meth) acrylic acid ester is not particularly limited, but includes a hydroxyl group (hydroxyl group) -containing monomer, an unsaturated carboxylic acid, the following general formula (II)
(式中、R6は水素原子又はメチル基を表し、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、−OAc基、−CN基、−CO−R7基、又は−C−O−R8基を表し、Ac基はアセチル基を表し、R7及びR8は水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。)
で表される単量体から選ばれる少なくとも一種を重合して構築される重合体構造単位(繰り返し構造単位)が好ましい。
(Wherein R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an —OAc group, a —CN group, a —CO—R 7 group, or —C It represents -O-R 8 group, Ac group represents an acetyl group, R 7 and R 8 represents a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms.)
The polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing at least one selected from the monomers represented by
ヒドロキシル基(水酸基)含有単量体としては、一般式(I)で表される単量体以外のヒドロキシル基(水酸基)含有単量体であれば特に限定されないが、例えば、メタリルアルコール、アリルアルコール、2−ヒドロキシメチル−1−ブテンなどのアリルアルコール、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチルなどの2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸エステル;2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸などの2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸;などが挙げられ、これらは一種のみ用いても良いし、二種以上を併用してもよい。 The hydroxyl group (hydroxyl group) -containing monomer is not particularly limited as long as it is a hydroxyl group (hydroxyl group) -containing monomer other than the monomer represented by formula (I). For example, methallyl alcohol, allyl 2- (hydroxyalkyl) acrylic acid esters such as alcohol, allyl alcohol such as 2-hydroxymethyl-1-butene, α-hydroxymethylstyrene, α-hydroxyethylstyrene, methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate; 2- (Hydroxyalkyl) acrylic acid such as (hydroxyethyl) acrylic acid; and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは一種のみ用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。 Examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-substituted acrylic acid, α-substituted methacrylic acid and the like. These may be used alone or in combination of two or more. May be. Among these, acrylic acid and methacrylic acid are preferable in that the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
一般式(II)で表される化合物としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは一種のみ用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。 Examples of the compound represented by the general formula (II) include styrene, vinyl toluene, α-methyl styrene, acrylonitrile, methyl vinyl ketone, ethylene, propylene, and vinyl acetate. These may be used alone. Two or more kinds may be used in combination. Among these, styrene and α-methylstyrene are particularly preferable in that the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
重合方法は特に限定されず、公知の重合方法を用いることができる。使用する単量体(単量体組成物)の種類、使用比率等に応じて、適宜適した方法を採用すればよい。 The polymerization method is not particularly limited, and a known polymerization method can be used. A suitable method may be employed depending on the type of monomer (monomer composition) to be used, the use ratio, and the like.
本発明に用いられるアクリル系重合体は、ガラス転移温度(Tg)が、好ましくは110℃〜200℃、より好ましくは115℃〜200℃、さらに好ましくは120℃〜200℃、特に好ましくは125℃〜190℃、最も好ましくは130℃〜180℃である。 The acrylic polymer used in the present invention has a glass transition temperature (Tg) of preferably 110 ° C to 200 ° C, more preferably 115 ° C to 200 ° C, still more preferably 120 ° C to 200 ° C, and particularly preferably 125 ° C. It is -190 degreeC, Most preferably, it is 130 to 180 degreeC.
耐熱性を挙げる点で、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、メチルマレイミドなどのN−置換マレイミドを共重合してもよいし、分子鎖中(重合体の主骨格中、又は主鎖中ともいう。)にラクトン環構造、グルタル酸無水物構造、グルタルイミド構造などを導入してもよい。中でも、フィルムの着色(黄変)し難さの点で、窒素原子を含まない単量体が好ましく、また、正の複屈折性(正の位相差)を発現させやすい点で、主鎖にラクトン環構造を持つものが好ましい。主鎖中のラクトン環構造に関しては、4〜8員環でもよいが、構造の安定性から5〜6員環の方がより好ましく、6員環が更に好ましい。また、主鎖中のラクトン環構造が6員環である場合、一般式(III)や特開2004−168882号公報で表される構造などが挙げられるが、主鎖にラクトン環構造を導入する前の重合体を合成する上において重合収率が高い点や、ラクトン環構造の含有割合の高い重合体を高い重合収率で得易い点や、メタクリル酸メチルなどの(メタ)アクリル酸エステルとの共重合性が良い点で、一般式(III)で表される構造であることが好ましい。 In terms of heat resistance, N-substituted maleimides such as phenylmaleimide, cyclohexylmaleimide, and methylmaleimide may be copolymerized in the molecular chain (also referred to as the main skeleton of the polymer or the main chain). A lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, a glutarimide structure, or the like may be introduced. Among them, a monomer that does not contain a nitrogen atom is preferable from the viewpoint of difficulty in coloring (yellowing) the film, and positive birefringence (positive phase difference) is easily expressed in the main chain. Those having a lactone ring structure are preferred. Regarding the lactone ring structure in the main chain, a 4- to 8-membered ring may be used, but a 5- to 6-membered ring is more preferable, and a 6-membered ring is more preferable in view of the stability of the structure. Further, when the lactone ring structure in the main chain is a 6-membered ring, examples include the structure represented by the general formula (III) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-168882, and the lactone ring structure is introduced into the main chain. The point of high polymerization yield in the synthesis of the previous polymer, the point that a polymer with a high content of lactone ring structure is easily obtained with high polymerization yield, and (meth) acrylic acid esters such as methyl methacrylate From the viewpoint of good copolymerizability, a structure represented by the general formula (III) is preferable.
上記アクリル系重合体が、上記一般式(I)で表される構造を有する化合物を含有する単量体を重合した樹脂である場合、上記アクリル系重合体はラクトン環構造を有していることがより好ましい(以下、ラクトン環構造を有するアクリル系重合体を「ラクトン環含有重合体」と記す)。以下、ラクトン環含有重合体について説明する。 When the acrylic polymer is a resin obtained by polymerizing a monomer containing a compound having a structure represented by the general formula (I), the acrylic polymer has a lactone ring structure. Is more preferable (hereinafter, an acrylic polymer having a lactone ring structure is referred to as a “lactone ring-containing polymer”). Hereinafter, the lactone ring-containing polymer will be described.
本発明の位相差フィルムは、ラクトン環構造を有する化合物を用いることも好ましい。 In the retardation film of the present invention, it is also preferable to use a compound having a lactone ring structure.
ラクトン環構造としては、例えば、下記一般式(III) Examples of the lactone ring structure include the following general formula (III)
(式中、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。)
で表される構造が挙げられる。
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms. The organic residue may contain an oxygen atom.)
The structure represented by is mentioned.
なお、上記一般式(III)における有機残基は、炭素数が1〜20の範囲内であれば、特には限定されないが、例えば、直鎖若しくは分岐状のアルキル基、直鎖若しくは分岐状のアルキレン基、アリール基、−OAc基、−CN基などが挙げられる。 The organic residue in the general formula (III) is not particularly limited as long as it has a carbon number in the range of 1 to 20, but for example, a linear or branched alkyl group, a linear or branched alkyl group, and the like. An alkylene group, an aryl group, -OAc group, -CN group, etc. are mentioned.
上記アクリル系重合体中の上記ラクトン環構造の含有割合は、好ましくは5〜90質量%の範囲内、より好ましくは20〜90質量%の範囲内、さらに好ましくは30〜90質量%の範囲内、さらに好ましくは35〜90質量%の範囲内、特に好ましくは40〜80質量%の範囲内、最も好ましくは45〜75質量%の範囲内である。上記ラクトン環構造の含有割合が90質量%よりも多いと、成形加工性に乏しくなる。また、得られたフィルムの可撓性が低下する傾向があり、好ましくない。上記ラクトン環構造の含有割合が5質量%よりも少ないと、フィルムに成形したときに必要な位相差を得ることが難しく、また耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が不十分になることがあり、好ましくない。 The content of the lactone ring structure in the acrylic polymer is preferably in the range of 5 to 90% by mass, more preferably in the range of 20 to 90% by mass, and still more preferably in the range of 30 to 90% by mass. More preferably, it is in the range of 35 to 90% by mass, particularly preferably in the range of 40 to 80% by mass, and most preferably in the range of 45 to 75% by mass. If the content of the lactone ring structure is more than 90% by mass, the moldability becomes poor. Moreover, there exists a tendency for the flexibility of the obtained film to fall, and it is not preferable. When the content of the lactone ring structure is less than 5% by mass, it is difficult to obtain a necessary retardation when formed into a film, and heat resistance, solvent resistance, and surface hardness may be insufficient. It is not preferable.
ラクトン環含有重合体において、一般式(III)で表されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、(メタ)アクリル酸エステルを重合して構築される重合体構造単位(繰り返し構造単位)の場合、好ましくは10〜95質量%の範囲内、より好ましくは10〜80質量%の範囲内、さらに好ましくは10〜65質量%の範囲内、特に好ましくは20〜60質量%の範囲内、最も好ましくは25〜55質量%の範囲内である。ヒドロキシル基(水酸基)含有単量体を重合して構築される重合体構造単位(繰り返し構造単位)の場合、好ましくは0〜30質量%の範囲内、より好ましくは0〜20質量%の範囲内、さらに好ましくは0〜15質量%の範囲内、特に好ましくは0〜10質量%の範囲内である。不飽和カルボン酸を重合して構築される重合体構造単位(繰り返し構造単位)の場合、好ましくは0〜30質量%の範囲内、より好ましくは0〜20質量%の範囲内、さらに好ましくは0〜15質量%の範囲内、特に好ましくは0〜10質量%の範囲内である。 In the lactone ring-containing polymer, the content ratio of the structure other than the lactone ring structure represented by the general formula (III) is that of a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing (meth) acrylic acid ester. In the range of 10 to 95% by mass, more preferably in the range of 10 to 80% by mass, further preferably in the range of 10 to 65% by mass, particularly preferably in the range of 20 to 60% by mass, Preferably it exists in the range of 25-55 mass%. In the case of a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing a hydroxyl group (hydroxyl group) -containing monomer, it is preferably in the range of 0 to 30% by mass, more preferably in the range of 0 to 20% by mass. More preferably, it is in the range of 0 to 15% by mass, particularly preferably in the range of 0 to 10% by mass. In the case of a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing an unsaturated carboxylic acid, it is preferably in the range of 0 to 30% by mass, more preferably in the range of 0 to 20% by mass, and still more preferably 0. It is in the range of ˜15% by mass, particularly preferably in the range of 0 to 10% by mass.
一般式(III)で表される単量体を重合して構築される重合体構造単位(繰り返し構造単位)の場合、好ましくは0〜30質量%の範囲内、より好ましくは0〜20質量%の範囲内、さらに好ましくは0〜15質量%の範囲内、特に好ましくは0〜10質量%の範囲内である。 In the case of a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing the monomer represented by formula (III), it is preferably in the range of 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 20% by mass. Is more preferably in the range of 0 to 15% by mass, particularly preferably in the range of 0 to 10% by mass.
ラクトン環含有重合体の製造方法については、特に限定はされないが、好ましくは、重合工程によって分子鎖中にヒドロキシル基(水酸基)とエステル基とを有する重合体を得た後に、得られた重合体を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによってラクトン環含有重合体を得ることができる。 The method for producing the lactone ring-containing polymer is not particularly limited, but preferably the polymer obtained after obtaining a polymer having a hydroxyl group (hydroxyl group) and an ester group in the molecular chain by a polymerization step. A lactone ring-containing polymer can be obtained by performing a lactone cyclization condensation step of introducing a lactone ring structure into the polymer by heat treatment.
(マット剤)
本発明では、マット剤として微粒子を位相差フィルム中に含有させることができ、これによって、位相差フィルムが長尺状フィルムの場合、搬送や巻き取りをしやすくすることができる。
(Matting agent)
In this invention, microparticles | fine-particles can be contained in a phase difference film as a mat agent, and when this phase difference film is a elongate film, conveyance and winding can be made easy.
マット剤の粒径は、10nm〜0.1μmの1次粒子もしくは2次粒子であることが好ましい。1次粒子の針状比は1.1以下の略球状のマット剤が好ましく用いられる。 The particle size of the matting agent is preferably 10 nm to 0.1 μm of primary particles or secondary particles. A substantially spherical matting agent having a primary particle acicular ratio of 1.1 or less is preferably used.
微粒子としては、ケイ素を含むものが好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。本発明に好ましい二酸化珪素の微粒子としては、例えば、日本アエロジル(株)製のアエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されているものを挙げることができ、アエロジル200V、R972、R972V、R974、R202、R812を好ましく用いることができる。ポリマーの微粒子の例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(東芝シリコーン(株)製)を挙げることができる。 As the fine particles, those containing silicon are preferable, and silicon dioxide is particularly preferable. Preferred fine particles of silicon dioxide for the present invention include, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (Nippon Aerosil Co., Ltd.) manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. What is marketed by a brand name can be mentioned, Aerosil 200V, R972, R972V, R974, R202, R812 can be used preferably. Examples of polymer fine particles include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. Examples include Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.). Can do.
二酸化珪素の微粒子は、1次平均粒子径が20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/L以上であるものが好ましい。1次粒子の平均径が5〜16nmがより好ましく、5〜12nmが更に好ましい。1次粒子の平均径が小さい方が、ヘイズが低く好ましい。見かけ比重は90〜200g/L以上が好ましく、100〜200g/L以上がより好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の微粒子分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が発生せず好ましい。 The fine particles of silicon dioxide preferably have a primary average particle size of 20 nm or less and an apparent specific gravity of 70 g / L or more. The average diameter of the primary particles is more preferably 5 to 16 nm, further preferably 5 to 12 nm. A smaller primary particle average diameter is preferred because haze is low. The apparent specific gravity is preferably 90 to 200 g / L or more, and more preferably 100 to 200 g / L or more. Higher apparent specific gravity makes it possible to produce a high-concentration fine particle dispersion, which is preferable because no haze or aggregates are generated.
本発明におけるマット剤の添加量は、位相差フィルム1m2当たり0.01〜1.0gが好ましく、0.03〜0.3gがより好ましく、0.08〜0.16gが更に好ましい。 The addition amount of the matting agent in the present invention is preferably 0.01 to 1.0 g, more preferably 0.03 to 0.3 g, and still more preferably 0.08 to 0.16 g per 1 m 2 of the retardation film.
(その他の添加剤)
この他、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属の塩等の熱安定剤を加えてもよい。更に界面活性剤、剥離促進剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等も加えてもよい。
(Other additives)
In addition, thermal stabilizers such as inorganic fine particles such as kaolin, talc, diatomaceous earth, quartz, calcium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, and alumina, and alkaline earth metal salts such as calcium and magnesium may be added. Further, a surfactant, a peeling accelerator, an antistatic agent, a flame retardant, a lubricant, an oil agent and the like may be added.
<原反フィルムの製造>
本願においては、斜め延伸前のフィルムを「原反フィルム」と呼称する。また、長尺状フィルムの搬送方向に対して斜め方向に面内遅相軸を有するように斜め方向に延伸した長尺状フィルムを「位相差フィルム」と呼称する。
<Manufacture of raw film>
In the present application, the film before oblique stretching is referred to as “raw film”. A long film stretched in an oblique direction so as to have an in-plane slow axis in an oblique direction with respect to the conveying direction of the long film is referred to as a “retardation film”.
本発明に係る原反フィルムは、溶液流延法、溶融流延法のいずれの方法で製造されてもよい。以下溶液流延法について説明する。フィルム原料としては、前述の熱可塑性樹脂を用いることができるが、以下では、代表的例として、セルロースエステルを主成分とする位相差フィルムの製造方法について説明をする。 The raw film according to the present invention may be produced by either a solution casting method or a melt casting method. Hereinafter, the solution casting method will be described. As the film raw material, the above-described thermoplastic resin can be used. In the following, a method for producing a retardation film containing cellulose ester as a main component will be described as a representative example.
本発明に係る原反フィルムの製造は、セルロースエステル及び前記可塑剤などの添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸する工程、更に乾燥する工程、必要であれば得られたフィルムを更に熱処理する工程、冷却後巻き取る工程により行われる。本発明に係る原反フィルムは固形分中に好ましくはセルロースエステルを60〜95質量%含有するものであることが好ましい。 The production of the raw film according to the present invention is a step of preparing a dope by dissolving an additive such as cellulose ester and the plasticizer in a solvent, and a step of casting the dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support. , A process of drying the cast dope as a web, a process of peeling from the metal support, a process of stretching, a process of further drying, a process of further heat treating the obtained film if necessary, and a process of winding after cooling. Is called. The raw film according to the present invention preferably contains 60 to 95% by mass of cellulose ester in the solid content.
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。 The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy increases. Becomes worse. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.
セルロースエステルを溶解しセルロースエステル溶液又はドープ形成に有用な有機溶媒としては、塩素系有機溶媒と非塩素系有機溶媒がある。塩素系の有機溶媒としてメチレンクロライド(塩化メチレン)を挙げることができ、セルロースエステル、特にセルローストリアセテートの溶解に適している。昨今の環境問題から非塩素系有機溶媒の使用が検討されている。非塩素系有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができる。これらの有機溶媒をセルローストリアセテートに対して使用する場合には、常温での溶解方法も使用可能であるが、高温溶解方法、冷却溶解方法、高圧溶解方法等の溶解方法を用いることにより不溶解物を少なくすることができるので好ましい。セルローストリアセテート以外のセルロースエステルに対しては、メチレンクロライドを用いることはできるが、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンが好ましく使用される。特に酢酸メチルが好ましい。本発明において、上記セルロースエステルに対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主(有機)溶媒又は主たる(有機)溶媒という。 Organic solvents that dissolve cellulose esters and are useful for forming cellulose ester solutions or dopes include chlorinated organic solvents and non-chlorinated organic solvents. Methylene chloride (methylene chloride) can be mentioned as a chlorinated organic solvent, and it is suitable for dissolving cellulose esters, particularly cellulose triacetate. Due to recent environmental problems, the use of non-chlorine organic solvents has been studied. Examples of the non-chlorine organic solvent include methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1, Examples include 1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, and the like. When these organic solvents are used for cellulose triacetate, a dissolution method at room temperature can be used, but an insoluble material can be obtained by using a dissolution method such as a high-temperature dissolution method, a cooling dissolution method, or a high-pressure dissolution method. Can be reduced, which is preferable. Methylene chloride can be used for cellulose esters other than cellulose triacetate, but methyl acetate, ethyl acetate, and acetone are preferably used. Particularly preferred is methyl acetate. In the present invention, an organic solvent having good solubility with respect to the cellulose ester is referred to as a good solvent, and has a main effect on dissolution, and an organic solvent used in a large amount among them is a main (organic) solvent or a main ( Organic) solvent.
本発明に用いられるドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。これらはドープを金属支持体に流延後溶媒が蒸発をし始めアルコールの比率が多くなるとドープ膜(ウェブ)がゲル化し、ウェブを丈夫にし金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることができる。これらのうちドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は単独ではセルロースエステルに対して溶解性を有していないので貧溶媒という。 The dope used in the present invention preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms in addition to the organic solvent. These are gelling solvents that make dope film (web) gel when the dope is cast on a metal support and the solvent starts to evaporate and the ratio of alcohol increases, making the web strong and easy to peel off from the metal support. When these ratios are small, there is also a role of promoting the dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine organic solvent. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Of these, ethanol is preferred because it has excellent dope stability, has a relatively low boiling point, and has good drying properties. These organic solvents are called poor solvents because they are not soluble in cellulose esters alone.
ドープ中のセルロースエステルの濃度は15〜30質量%、ドープ粘度は100〜500Pa・sの範囲に調製されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。 It is preferable that the concentration of the cellulose ester in the dope is adjusted to 15 to 30% by mass and the dope viscosity is adjusted to a range of 100 to 500 Pa · s in order to obtain good film surface quality.
上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。 A general method can be used as a dissolution method of the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamaco. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。 The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。 The heating temperature with the addition of a solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.
若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。 Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.
次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材が更に好ましい。 Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like. However, if the absolute filtration accuracy is too small, there is a problem that the filter medium is likely to be clogged. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is still more preferable.
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。 There are no particular restrictions on the material of the filter medium, and ordinary filter media can be used. However, plastic filter media such as polypropylene and Teflon (registered trademark), and metal filter media such as stainless steel do not drop off fibers. preferable. It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.
輝点異物とは、二枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 A bright spot foreign material is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably, it is 100 pieces / cm < 2 > or less, More preferably, it is 50 pieces / m < 2 > or less, More preferably, it is 0-10 pieces / cm < 2 > or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることが更に好ましい。 The dope can be filtered by a normal method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C.
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。 A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.
ここで、ドープの流延について説明する。 Here, the dope casting will be described.
流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。 The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. The preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing warm air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.
セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%又は60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%又は70〜120質量%である。また、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃とするのが好ましく、10〜40℃がより好ましく、15〜30℃とするのが最も好ましい。 In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%. The temperature at the peeling position on the metal support is preferably −50 to 40 ° C., more preferably 10 to 40 ° C., and most preferably 15 to 30 ° C.
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。 In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.
残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Note that M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量が0.5質量%以下となるまで乾燥される。 Moreover, in the drying process of the cellulose ester film, the web is peeled off from the metal support, further dried, and dried until the residual solvent amount is 0.5% by mass or less.
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。 In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.
前記金属支持体から剥離する際に、剥離張力及びその後の搬送張力によってウェブは縦方向に延伸する為、本発明においては流延支持体からウェブを剥離する際は剥離及び搬送張力をできるだけ下げた状態で行うことが好ましい。具体的には、例えば50〜170N/m以下にすることが効果的である。その際、20℃以下の冷風を当て、ウェブを急速に固定化することが好ましい。 When peeling from the metal support, the web is stretched in the longitudinal direction due to the peeling tension and the subsequent conveying tension. Therefore, in the present invention, when peeling the web from the casting support, the peeling and conveying tensions are reduced as much as possible. It is preferable to carry out in the state. Specifically, for example, it is effective to set it to 50 to 170 N / m or less. At that time, it is preferable to apply a cold air of 20 ° C. or less to fix the web rapidly.
次いで、上記乾燥したフィルムを本発明に係る原反フィルム(原反フィルム)として、前述の本発明に係る斜め延伸テンターにより所望の角度に延伸を行い位相差フィルムとすることができる。 Next, the dried film can be used as a raw film (raw film) according to the present invention, and stretched at a desired angle by the above-described oblique stretching tenter according to the present invention to obtain a retardation film.
<位相差フィルムの製造方法>
本発明の位相差フィルムの製造方法としては、種々の方法を採用し得るが、長尺状フィルムの搬送方向に対して10〜45°の範囲内の角度で面内遅相軸を有するように斜め方向に延伸した後に、把持手段により、当該長尺状フィルムの両端を搬送方向に対して−90〜−70°の範囲内の角度で、かつ0〜20%の範囲内の延伸率で、延伸する態様の製造方法であることが好ましい。
<Method for producing retardation film>
As a method for producing the retardation film of the present invention, various methods can be adopted, so as to have an in-plane slow axis at an angle within a range of 10 to 45 ° with respect to the conveying direction of the long film. After stretching in the oblique direction, the grip means causes the both ends of the long film to be at an angle in the range of −90 to −70 ° with respect to the transport direction and at a stretch ratio in the range of 0 to 20%. It is preferable that it is the manufacturing method of the aspect extended | stretched.
また、面内遅相軸がフィルム幅手方向に対して±0.5°の範囲内の角度バラつきを有する長尺状位相差フィルムとなるように制御した製造方法であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that it is a manufacturing method controlled so that it may become the elongate phase difference film in which an in-plane slow axis has an angle variation in the range of +/- 0.5 degree with respect to the film width direction.
なお、本願においては、斜め延伸前のフィルムを「原反フィルム」と呼称する。また、長尺状フィルムの搬送方向に対して斜め方向に面内遅相軸を有するように斜め方向に延伸した長尺状フィルムを「フィルムF」と呼称する。 In the present application, the film before oblique stretching is referred to as “raw film”. A long film stretched in an oblique direction so as to have an in-plane slow axis in an oblique direction with respect to the conveying direction of the long film is referred to as “film F”.
また、「把持手段により、フィルムの両端を搬送方向に対して−90〜−70°の範囲内の角度で、かつ0〜20%の範囲内の延伸率で、延伸する」際の搬送方向とは、長尺のフィルムを斜め延伸することによって、フィルムの搬送方向に対して10〜45°の範囲に面内遅相軸を付与したあとの搬送方向であり、図2におけるDR2の方向を意味する。 In addition, the conveyance direction when “stretching both ends of the film at an angle within a range of −90 to −70 ° with respect to the conveyance direction and a stretching ratio within a range of 0 to 20% by the gripping means” Is a transport direction after giving an in-plane slow axis in a range of 10 to 45 ° with respect to the transport direction of the film by obliquely stretching a long film, and means the direction of DR2 in FIG. To do.
さらに、搬送方向に対してフィルム面上で時計回り、あるいは反時計回りになす角度に正あるいは負の符号をつけているが、正の符号が時計回りか反時計回りのどちらかに限定しない。 Furthermore, a positive or negative sign is attached to an angle formed clockwise or counterclockwise on the film surface with respect to the transport direction, but the positive sign is not limited to either clockwise or counterclockwise.
「フィルムの両端を搬送方向に対して−90〜−70°の範囲内の角度で、延伸する」とは、例えば、搬送方向に対して時計回りを正方向とした場合において、斜め延伸によって、搬送方向に対してフィルム面上で時計回りに10〜45°の範囲に面内遅相軸をフィルムに付与した場合、搬送方向に対して反時計回りに70〜90°の方向に延伸することを意味する。一方、搬送方向に対して時計回りを負方向とした場合において、斜め延伸によって、搬送方向に対してフィルム面上で反時計回りに10〜45°の範囲に面内遅相軸をフィルムに付与した場合、斜め延伸の後は、搬送方向に対して時計回りに70〜90°の方向に延伸することになる。 “Stretching both ends of the film at an angle in the range of −90 to −70 ° with respect to the conveyance direction” means, for example, when the clockwise direction is the positive direction with respect to the conveyance direction, When an in-plane slow axis is given to the film in the range of 10 to 45 ° clockwise on the film surface with respect to the transport direction, the film is stretched in a direction of 70 to 90 ° counterclockwise with respect to the transport direction. Means. On the other hand, when the clockwise direction is negative with respect to the transport direction, an in-plane slow axis is imparted to the film in the range of 10 to 45 ° counterclockwise on the film surface with respect to the transport direction by oblique stretching. In this case, after oblique stretching, the film is stretched in the direction of 70 to 90 ° clockwise with respect to the transport direction.
本願において、「長尺状」とは、フィルムの幅に対し、少なくとも5倍程度以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍もしくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻回されて保管又は運搬される程度の長さを有するもの(フィルムロール)としうる。 In the present application, the “long shape” means a film having a length of at least about 5 times the width of the film, preferably a length of 10 times or more, specifically a roll. It can be a film roll having a length that can be stored or transported by being wound into a shape.
長尺状のフィルムの製造方法では、フィルムを連続的に製造することにより、所望の任意の長さにフィルムを製造しうる。なお、位相差フィルムの製造方法は、製膜後一度巻芯に巻き取り、巻回体にしてから斜め延伸工程に供給するようにしてもよいし、製膜後フィルムを巻き取ることなく、製膜工程から連続して斜め延伸工程に供給してもよい。製膜工程と斜め延伸工程を連続して行うことは、延伸後の膜厚や光学値の結果をフィードバックして製膜条件を変更し、所望の位相差フィルムを得ることができるので好ましい。 In the manufacturing method of a long film, a film can be manufactured to desired arbitrary length by manufacturing a film continuously. The method for producing a retardation film may be wound around a core once after film formation and supplied to an oblique stretching process after forming a wound body, or without being wound up after film formation. You may supply to the diagonal stretch process continuously from a film | membrane process. It is preferable to perform the film forming step and the oblique stretching step continuously because the film thickness after the stretching and the result of the optical value are fed back to change the film forming conditions to obtain a desired retardation film.
本発明に係るフィルムFは、長尺状フィルムの搬送方向でも、その直交方向でもない方向に面内遅相軸を有するように斜め方向に延伸されたものであるが、フィルムの搬送方向に対して0°を超え90°未満の角度に延伸することで得られる。ここで、フィルムの搬送方向に対する角度とは、フィルム面内における遅相軸方向の角度である。 The film F according to the present invention is stretched in an oblique direction so as to have an in-plane slow axis in a direction that is neither the orthogonal direction nor the orthogonal direction of the long film. It is obtained by stretching at an angle exceeding 0 ° and less than 90 °. Here, the angle with respect to the film conveyance direction is an angle in the slow axis direction in the film plane.
遅相軸は、通常延伸方向又は延伸方向に直角な方向に発現するので、本発明の製造方法では、フィルムの延長方向に対して0°を超え90°未満の角度で延伸を行うことにより、かかる面内遅相軸を有するフィルムFを製造しうる。 Since the slow axis is usually expressed in the stretching direction or a direction perpendicular to the stretching direction, in the production method of the present invention, by stretching at an angle of more than 0 ° and less than 90 ° with respect to the film extension direction, A film F having such an in-plane slow axis can be produced.
フィルムFの搬送方向と面内遅相軸とがなす角度(θ)は、10〜45°の範囲内で所望の角度に任意に設定することができるが、より好ましくは20〜40°、更に好ましくは25°〜35°である。 The angle (θ) formed between the transport direction of the film F and the in-plane slow axis can be arbitrarily set within a range of 10 to 45 °, more preferably 20 to 40 °, and more preferably Preferably it is 25 degrees-35 degrees.
本発明の位相差フィルムは、長尺状でロール状に巻き取られ、フィルムの面内遅相軸は長尺方向に対して15〜75°の方向を向いており、好ましくは30〜60°、さらに好ましくは45°±5°の方向を向いている態様であることが好ましい。 The retardation film of the present invention is long and rolled up, and the in-plane slow axis of the film faces 15 to 75 ° with respect to the long direction, preferably 30 to 60 °. Further, it is preferable that the surface is oriented in the direction of 45 ° ± 5 °.
前記原反フィルムは、公知の方法、例えば、溶液キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などによって得ることができる。これらのうち溶液キャスト成形法はフィルムの平面性、透明度に優れ、押出成形法は斜め延伸後の厚さ方向のリターデーションRtを小さくすることが容易となり、残留揮発性成分量が少なくフィルムの寸法安定性にも優れるので好ましい。この原反フィルムは、単層若しくは二層以上の積層フィルムであってもよい。積層フィルムは共押出成形法、共流延成形法、フィルムラミネイション法、塗布法などの公知の方法で得ることができる。これらのうち共押出成形法、共流延成形法が好ましい。 The raw film can be obtained by a known method, for example, a solution cast molding method, an extrusion molding method, an inflation molding method, or the like. Among these, the solution cast molding method is excellent in the flatness and transparency of the film, and the extrusion molding method makes it easy to reduce the retardation Rt in the thickness direction after oblique stretching, and the amount of residual volatile components is small and the film dimensions are small. It is preferable because it is excellent in stability. This raw film may be a single layer or a laminated film of two or more layers. The laminated film can be obtained by a known method such as a coextrusion molding method, a co-casting molding method, a film lamination method, or a coating method. Of these, the coextrusion molding method and the co-casting molding method are preferable.
延伸に供される長尺状の原反フィルムの流れ方向の厚さムラσmは、斜め延伸テンター入口でのフィルムの引取張力を一定に保ち、面内遅相軸方向やリターデーションといった光学特性を安定させる観点から、0.30μm未満、好ましくは0.25μm未満、さらに好ましくは0.20μm未満である必要がある。σmが0.30μm以上となると位相差フィルムのリターデーションや面内遅相軸方向といった光学特性のバラツキが顕著に悪化する。 The thickness unevenness σm in the flow direction of the elongated raw film subjected to stretching maintains the film take-up tension at the entrance of the oblique stretching tenter, and has optical characteristics such as in-plane slow axis direction and retardation. From the viewpoint of stabilization, it is necessary to be less than 0.30 μm, preferably less than 0.25 μm, more preferably less than 0.20 μm. When σm is 0.30 μm or more, variations in optical properties such as retardation of the retardation film and in-plane slow axis direction are remarkably deteriorated.
また、原反フィルムとして、幅方向の厚さ勾配を有するフィルムが供給されてもよい。延伸が完了した位置におけるフィルム厚さを最も均一なものとしうるような原反フィルムの厚さの勾配は、実験的に厚さ勾配を様々に変化させたフィルムを延伸することにより、経験的に求めることができる。原反フィルムの厚さの勾配は、例えば、厚さの厚い側の端部の厚さが、厚さの薄い側の端部よりも0.5〜3%程度厚くなるように調整することができる。 Moreover, the film which has the thickness gradient of the width direction may be supplied as a raw film. The thickness gradient of the raw film so that the film thickness can be made the most uniform at the position where stretching has been completed is empirically determined by stretching films with various thickness gradients experimentally. Can be sought. The gradient of the thickness of the raw film can be adjusted, for example, so that the thickness of the end portion on the thick side is about 0.5 to 3% thicker than the end portion on the thin side. it can.
原反フィルムの幅は、特に限定されないが、500〜4000mm、好ましくは1000〜2000mmとすることができる。また、フィルムの総厚さは、特に限定されないが、20〜400μm、好ましくは20〜200μmの範囲内であることが好ましい。 Although the width | variety of a raw film is not specifically limited, 500-4000 mm, Preferably it can be 1000-2000 mm. The total thickness of the film is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 to 400 μm, preferably 20 to 200 μm.
原反フィルムの斜め延伸時の延伸温度での好ましい弾性率は、ヤング率で表して、0.01Mpa以上5000Mpa以下、更に好ましくは0.1Mpa以上500Mpa以下である。弾性率が低すぎると延伸時・延伸後の収縮率が低くなり、シワが消えにくくなり、また高すぎると延伸時にかかる張力が大きくなり、フィルムの両側縁部を保持する部分の強度を高くする必要が生じ、テンターに対する負荷が大きくなる。 A preferable elastic modulus at a stretching temperature at the time of oblique stretching of the raw film is 0.01 Mpa or more and 5000 Mpa or less, more preferably 0.1 Mpa or more and 500 Mpa or less, expressed as Young's modulus. If the elastic modulus is too low, the shrinkage rate during stretching and after stretching will be low and wrinkles will be difficult to disappear, and if it is too high, the tension applied during stretching will increase, increasing the strength of the part holding both side edges of the film. This necessitates an increase in the load on the tenter.
<斜め延伸テンターによる延伸>
本発明の延伸に供される長尺状の原反フィルムに配向を付与するためには、斜め延伸装置(斜め延伸テンター)を用いる。本発明の斜め延伸テンターはレールパターンを多様に変化させることにより、フィルムの面内遅相軸方向を自在に設定でき、さらに、フィルムの配向軸をフィルム幅方向に渡って左右均等に高精度に配向させることができ、かつ、高精度でフィルム厚さやリターデーションを制御できるフィルム延伸装置であることが好ましい。
<Stretching with an oblique stretching tenter>
An oblique stretching apparatus (obliquely stretched tenter) is used in order to impart orientation to the long original film subjected to stretching of the present invention. The obliquely stretched tenter of the present invention can freely set the in-plane slow axis direction of the film by changing the rail pattern in various ways. A film stretching apparatus that can be oriented and can control the film thickness and retardation with high accuracy is preferable.
図1は、本発明の位相差フィルムの製造方法に用いられる斜め延伸可能なテンターの模式図である。但し、これは一例であって本発明はこれに限定されるものではない。 FIG. 1 is a schematic diagram of a tenter capable of oblique stretching used in the method for producing a retardation film of the present invention. However, this is an example, and the present invention is not limited to this.
テンター入り口側のガイドロール8−1によって方向を制御された原反フィルム1は、右側のフィルム保持開始点2−1、左側のフィルム保持開始点2−2の位置で把持具(クリップつかみ部ともいう)によって担持され、テンター4にて右側のフィルム保持手段の軌跡3−1、左側のフィルム保持手段の軌跡3−2で示される斜め方向に搬送、延伸され、右側のフィルム保持終了点5−1、左側のフィルム保持終了点5−2によって把持を解放され、テンター出口側のガイドロール8−2によって搬送を制御されて斜め延伸フィルム6が形成される。図中、原反フィルムは、フィルムの送り方向7−1に対して、フィルムの延伸方向9の角度で斜め延伸される。 The original film 1 whose direction is controlled by the guide roll 8-1 on the tenter entrance side is held at the position of the film holding start point 2-1 on the right side and the film holding start point 2-2 on the left side. The film is conveyed and stretched by the tenter 4 in the oblique direction indicated by the locus 3-1 of the right film holding means and the locus 3-2 of the left film holding means, and the right film holding end point 5- 1. Grasping is released by the film holding end point 5-2 on the left side, and conveyance is controlled by the guide roll 8-2 on the tenter outlet side, so that the obliquely stretched film 6 is formed. In the figure, the original film is stretched obliquely at an angle of the film stretching direction 9 with respect to the film feeding direction 7-1.
本発明では、斜め延伸テンターの入口部に最も近いガイドロール8−1の主軸位置と斜め延伸テンターの入り口部の把持具との距離X1、X2は、20〜100cmであることが必要であり、当該距離を保つことによってフィルムをつかむ際にフィルムの平面を保ち、長手方向の延伸フィルムの面内遅相軸方向θsやリターデーションといった光学特性を安定させることができる。好ましくは20〜60cm、さらに好ましくは20〜40cmである。ここで、X1は、ガイドロール8−1の主軸位置と右側のフィルム保持開始点2−1にある把持具(クリップつかみ部)の距離であり、X2は、ガイドロール8−1の主軸位置と左側のフィルム保持開始点2−2にある把持具(クリップつかみ部)の距離である。 In the present invention, the distances X 1 and X 2 between the main shaft position of the guide roll 8-1 closest to the entrance of the obliquely stretched tenter and the gripping tool at the entrance of the obliquely stretched tenter need to be 20 to 100 cm. Yes, by maintaining the distance, the plane of the film can be maintained when the film is gripped, and the optical characteristics such as the in-plane slow axis direction θs and retardation of the stretched film in the longitudinal direction can be stabilized. Preferably it is 20-60 cm, More preferably, it is 20-40 cm. Wherein, X 1 is the distance of the main shaft position of the guide roll 8-1 and the right film holding start point 2-1 gripper in (clip gripping portion), X 2 is a guide roll 8-1 spindle It is the distance between the position and the gripping tool (clip gripping portion) at the film holding start point 2-2 on the left side.
X1、X2はX1=X2でも、X1≠X2でもどちらでもよいが、好ましくはX1=X2である。本発明では、X1、X2は共に上記20〜100cmの範囲内にあることが必要である。 X 1 and X 2 may be either X 1 = X 2 or X 1 ≠ X 2 , but preferably X 1 = X 2 . In the present invention, both X 1 and X 2 need to be in the range of 20 to 100 cm.
斜め延伸テンターの入口部に最も近いガイドロール8−1の主軸位置と斜め延伸テンターの入り口部の把持具との距離が100cmより長くなると、位相差フィルムの長手方向の面内遅相軸方向θsやリターデーションといった光学特性のバラツキが顕著に悪化する。 When the distance between the main shaft position of the guide roll 8-1 closest to the entrance portion of the obliquely stretched tenter and the gripping tool at the entrance portion of the obliquely stretched tenter becomes longer than 100 cm, the in-plane slow axis direction θs in the longitudinal direction of the retardation film Variation in optical properties such as retardation and retardation is significantly deteriorated.
斜め延伸テンターの入口部に最も近いガイドロール8−1の主軸位置と斜め延伸テンターの把持具との距離を上記範囲とするためには、ガイドロール及びクリップつかみ部を位置調整が可能な機構とすること、把持具の搬送方向の長さを1〜5インチ(1インチは2.54cm)とすること、斜め延伸テンターの入口部に最も近いガイドロール8−1の直径を1〜20cmとすること、斜め延伸テンターの入口部近傍に更にロールを設置可能な機構とすること、等が挙げられる。 In order to set the distance between the main shaft position of the guide roll 8-1 closest to the entrance of the obliquely stretched tenter and the gripping tool of the obliquely stretched tenter to the above range, a mechanism capable of adjusting the position of the guide roll and the clip gripping part; The length of the gripping tool in the conveying direction is 1 to 5 inches (1 inch is 2.54 cm), and the diameter of the guide roll 8-1 closest to the entrance portion of the obliquely stretched tenter is 1 to 20 cm. And a mechanism that can further install a roll in the vicinity of the entrance of the obliquely stretched tenter.
本発明の位相差フィルムの製造は、上記斜め延伸可能なテンターを用いて行うが、このテンターは、長尺状フィルムを、オーブンによる加熱環境下で、その進行方向(フィルム幅方向の中点の移動方向)に対して斜め方向に拡幅する装置である。このテンターは、オーブンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、当該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。フィルムロールから繰り出され、テンターの入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、オーブン内にフィルムを導き、テンターの出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、テンターの出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。 The retardation film of the present invention is produced using the above-mentioned tenter that can be stretched obliquely. This tenter is prepared by subjecting a long film to an advancing direction (the middle point in the film width direction) in an oven heating environment. It is a device that widens in an oblique direction with respect to (moving direction). This tenter includes an oven, a pair of rails on the left and right on which a gripping tool for transporting the film travels, and a number of gripping tools that travel on the rails. Both ends of the film fed out from the film roll and sequentially supplied to the entrance portion of the tenter are gripped by a gripping tool, the film is guided into the oven, and the film is released from the gripping tool at the exit portion of the tenter. The film released from the gripping tool is wound around the core. Each of the pair of rails has an endless continuous track, and the gripping tool which has released the grip of the film at the exit portion of the tenter travels outside and is sequentially returned to the entrance portion.
なお、テンターのレール形状は、製造すべき位相差フィルムに与える面内遅相軸方向θs、延伸倍率等に応じて、左右で非対称な形状となっており、手動で又は自動で微調整できるようになっている。本発明においては、長尺状の熱可塑性樹脂フィルムを延伸し、面内遅相軸方向θsが延伸後の巻取り方向に対して、任意の角度に設定できるようになっている。本発明において、テンターの把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って、一定速度で走行するようになっている。 The rail shape of the tenter has an asymmetric shape on the left and right depending on the in-plane slow axis direction θs, the draw ratio, etc. given to the retardation film to be manufactured, and can be finely adjusted manually or automatically. It has become. In the present invention, a long thermoplastic resin film is stretched, and the in-plane slow axis direction θs can be set at an arbitrary angle with respect to the winding direction after stretching. In the present invention, the gripping tool of the tenter is configured to travel at a constant speed with a certain distance from the front and rear gripping tools.
把持具の走行速度は適宜選択できるが、通常、10〜100m/分である。左右一対の把持具の走行速度の差は、走行速度の通常1%以下、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.1%以下である。これは、延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度差があると、延伸工程出口におけるシワ、寄りが発生するため、左右の把持具の速度差は、実質的に同速度であることが求められるためである。一般的なテンター装置等では、チェーンを駆動するスプロケットの歯の周期、駆動モータの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度ムラがあり、しばしば数%のムラを生ずるが、これらは本発明で述べる速度差には該当しない。 The traveling speed of the gripping tool can be selected as appropriate, but is usually 10 to 100 m / min. The difference in travel speed between the pair of left and right grippers is usually 1% or less, preferably 0.5% or less, more preferably 0.1% or less of the travel speed. This is because if there is a difference in the traveling speed between the left and right sides of the film at the exit of the stretching process, wrinkles and shifts will occur at the exit of the stretching process, so the speed difference between the right and left gripping tools is required to be substantially the same speed. Because. In general tenter devices, etc., there are speed irregularities that occur on the order of seconds or less depending on the period of the sprocket teeth that drive the chain, the frequency of the drive motor, etc. This does not correspond to the speed difference described in the invention.
また、本発明に用いられる斜め延伸テンターでは、各レール部及びレール連結部の位置を自由に設定できることが好ましく、したがって、任意の入り口幅及び出口幅を設定すると、これに応じた延伸倍率にすることができる。(下記、図2の○部は連結部の一例である。)
本発明に用いられる斜め延伸テンターにおいて、把持具の軌跡を規制するレールには、しばしば大きい屈曲率が求められる。急激な屈曲による把持具同士の干渉、あるいは局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持具の軌跡が円弧を描くようにすることが望ましい。
Moreover, in the diagonally stretched tenter used in the present invention, it is preferable that the positions of the rail portions and the rail connecting portions can be freely set. Therefore, when an arbitrary entrance width and exit width are set, the stretch ratio corresponding to this is set. be able to. (The circled portion in FIG. 2 below is an example of a connecting portion.)
In the obliquely stretched tenter used in the present invention, a large bending rate is often required for the rail that regulates the trajectory of the gripping tool. In order to avoid interference between gripping tools due to sudden bending or local stress concentration, it is desirable that the trajectory of the gripping tool draws an arc at the bent portion.
図2は、本発明の製造方法に用いるテンターのレールの軌道(レールパターン)を示している。原反フィルムのテンター入口での進行方向DR1は、延伸後のフィルムのテンター出側での進行方向DR2と異なっており、これにより、広幅で均一な光学特性を得ることが可能となっている。繰出し角度θiは、テンター入口での進行方向D1と延伸後のフィルムのテンター出側での進行方向DR2とのなす角度である。本発明においては、上述のように延長方向と遅相軸とがなす角度が0を超え90°未満°の面内遅相軸方向θsを持つ位相差フィルムを製造するため、繰出し角度θiは、10°<θi<60°、好ましくは15°<θi<50°で設定される。繰出し角度θiを前記範囲とすることにより、得られるフィルムの幅方向の光学特性のバラツキが良好となる(小さくなる)。 FIG. 2 shows a rail track (rail pattern) of a tenter used in the manufacturing method of the present invention. The travel direction DR1 at the tenter inlet of the original film is different from the travel direction DR2 at the tenter exit side of the stretched film, which makes it possible to obtain a wide and uniform optical characteristic. The feeding angle θi is an angle formed by the traveling direction D1 at the tenter entrance and the traveling direction DR2 on the tenter exit side of the stretched film. In the present invention, as described above, in order to produce a retardation film having an in-plane slow axis direction θs in which the angle between the extension direction and the slow axis exceeds 0 and less than 90 °, the feeding angle θi is 10 ° <θi <60 °, preferably 15 ° <θi <50 °. By setting the feeding angle θi in the above range, the variation in the optical characteristics in the width direction of the obtained film becomes good (smaller).
長尺状フィルムは、テンター入口(符号aの位置)において、その両端(両側)を左右の把持具によって順次把持されて、把持具の走行に伴い走行される。テンター入口(符号aの位置)で、フィルム進行方向(DR1)に対して略垂直な方向に相対している左右の把持具CL,CRは、左右非対称なレール上を走行し、予熱ゾーン、延伸ゾーン、冷却ゾーンを有するオーブンを通過する。ここで、略垂直とは、前述の向かい合う把持具CL,CR同士を結んだ直線とフィルム繰出し方向DR1とがなす角度が、90±1°以内にあることを示す。 The long film is sequentially gripped at both ends (both sides) by the left and right grippers at the tenter entrance (position a), and travels as the grippers travel. The left and right grips CL, CR facing the direction of the film travel (DR1) at the tenter entrance (position a) run on the left-right asymmetric rail, preheating zone, stretching Pass through an oven with zones and cooling zones. Here, “substantially perpendicular” indicates that the angle formed by the straight line connecting the aforementioned gripping tools CL and CR and the film feeding direction DR1 is within 90 ± 1 °.
予熱ゾーンとは、オーブン入口部において、両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、再び一定となるまでの区間をさす。また、冷却ゾーンとは、延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、ゾーン内の温度がフィルムを構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tg℃以下に設定される区間をさす。 The preheating zone refers to a section in which the vehicle travels while maintaining a constant interval between the gripping tools gripping both ends at the oven entrance. The stretching zone refers to an interval until the gap between the gripping tools gripping both ends starts to become constant again. In addition, the cooling zone refers to a section in which the temperature in the zone is set to be equal to or lower than the glass transition temperature Tg ° C. of the thermoplastic resin constituting the film during a period in which the interval between the gripping tools after the stretching zone becomes constant again. .
各ゾーンの温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgに対し、予熱ゾーンの温度はTg〜Tg+30℃、延伸ゾーンの温度はTg〜Tg+30℃、冷却ゾーンの温度はTg−30〜Tg℃に設定することが好ましい。 The temperature of each zone is set to Tg to Tg + 30 ° C., the temperature of the stretching zone is set to Tg to Tg + 30 ° C., and the temperature of the cooling zone is set to Tg−30 to Tg ° C. with respect to the glass transition temperature Tg of the thermoplastic resin. It is preferable to do.
なお、幅方向の厚さムラの制御のために延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差を付けてもよい。延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけるには、温風を恒温室内に送り込むノズルの開度を幅方向で差を付けるように調整する方法や、ヒーターを幅方向に並べて加熱制御するなどの公知の手法を用いることができる。予熱ゾーン、延伸ゾーン及び冷却ゾーンの長さは適宜選択でき、延伸ゾーンの長さに対して、予熱ゾーンの長さが通常100〜150%、固定ゾーンの長さが通常50〜100%である。 In order to control the thickness unevenness in the width direction, a temperature difference may be given in the width direction in the stretching zone. In order to create a temperature difference in the width direction in the stretching zone, a method of adjusting the opening degree of the nozzle for sending warm air into the temperature-controlled room so as to make a difference in the width direction, or controlling the heating by arranging the heaters in the width direction is known. Can be used. The length of the preheating zone, the stretching zone and the cooling zone can be appropriately selected. The length of the preheating zone is usually 100 to 150% and the length of the fixed zone is usually 50 to 100% with respect to the length of the stretching zone. .
さらに、前記位相差フィルムのシワ、寄りの発生を解決するために、延伸時にフィルムの支持性を保ち、揮発分率が5体積%以上の状態を存在させて延伸した後、収縮させながら揮発分率を低下させることも好ましい。フィルムの支持性を保つとは、フィルムの膜性を損なうことなく両側縁を把持することを意味する。揮発分率については、延伸操作工程において常に5体積%以上の状態を維持していてもよいし、延伸操作工程の一部の区間に限って揮発分率が5体積%以上の状態を維持してもよい。後者の場合、入り口位置を起算点として全延伸区間の50%以上の区間、揮発分率が12体積%以上の状態となっていることが好ましい。いずれにせよ、延伸前に揮発分率が12体積%以上の状態を存在させておくことが好ましい。ここで、揮発分率(単位;体積%)とは、フィルムの単位体積あたりに含まれる揮発成分の体積を表し、揮発成分体積をフィルム体積で除した値とする。 Further, in order to solve the occurrence of wrinkles and shifts in the retardation film, the support of the film is maintained at the time of stretching, and the film is stretched in the state where the volatile content is 5% by volume or more, and then the volatile content is reduced while shrinking. It is also preferable to reduce the rate. To maintain the support of the film means to grip both side edges without impairing the film property of the film. As for the volatile content, the state of 5% by volume or more may always be maintained in the stretching operation process, and the state of the volatile content is maintained at 5% by volume or more only in a part of the stretching operation process. May be. In the latter case, it is preferable that the entrance position is a starting point, and that the section of 50% or more of the entire stretching section and the volatile content rate are 12% by volume or more. In any case, it is preferable to have a volatile content of 12% by volume or more before stretching. Here, the volatile fraction (unit: volume%) represents the volume of the volatile component contained per unit volume of the film, and is a value obtained by dividing the volatile component volume by the film volume.
延伸工程における延伸倍率R(W/W0)は、好ましくは1.3〜3.0、より好ましくは1.5〜2.5である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向厚さムラが小さくなるので好ましい。斜め延伸テンターの延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差を付けると幅方向厚さムラをさらに良好なレベルにすることが可能になる。なお、W0は延伸前のフィルムの幅、Wは延伸後のフィルムの幅をあらわす。 The draw ratio R (W / W0) in the drawing step is preferably 1.3 to 3.0, more preferably 1.5 to 2.5. If the draw ratio is within this range, the thickness unevenness in the width direction is preferably reduced. In the stretching zone of the oblique stretching tenter, if the stretching temperature is differentiated in the width direction, the thickness unevenness in the width direction can be further improved. W0 represents the width of the film before stretching, and W represents the width of the film after stretching.
テンターの入口に最も近いガイドロールは、フィルムの走行を案内する従動ロールであり、不図示の軸受部を介してそれぞれ回転自在に軸支されている。ロールの材質は公知のものを用いることが可能であるが、フィルムの傷つきを防止するためにセラミックコートを施したり、アルミニウム等の軽金属にクロームメッキを施す等、軽量化を図るのが好適である。このロールは、フィルムの走行時の軌道を安定させるために設けられるものである。 The guide roll closest to the entrance of the tenter is a follower roll that guides the travel of the film, and is rotatably supported by bearings (not shown). A known material can be used for the roll, but it is preferable to reduce the weight by applying a ceramic coat to prevent the film from being damaged or by applying chrome plating to a light metal such as aluminum. . This roll is provided in order to stabilize the track when the film travels.
また、このロールの上流側のロールのうちの一本は、ゴムロールを圧接させてニップすることが好ましい。このようなニップロールにすることで、フィルムの流れ方向における繰出張力の変動を抑えることが可能だからである。 Moreover, it is preferable that one of the rolls on the upstream side of the roll is nipped by pressing the rubber roll. This is because such a nip roll can suppress fluctuations in the drawing tension in the film flow direction.
テンターの入口に最も近いガイドロールの両端(左右)の一対の軸受部には、当該ロールにおいてフィルムに生じている張力を検出するための第1張力検出装置、第2フィルム張力検出装置がそれぞれ設けられている。フィルム張力検出装置としては、例えばロードセルを用いることができる。ロードセルとしては、引張又は圧縮型の公知のものを用いることができる。ロードセルは、着力点に作用する荷重を起歪体に取り付けられた歪ゲージにより電気信号に変換して検出する装置である。 A pair of bearing portions at both ends (left and right) of the guide roll closest to the entrance of the tenter are provided with a first tension detecting device and a second film tension detecting device for detecting the tension generated in the film in the roll. It has been. For example, a load cell can be used as the film tension detection device. As the load cell, a known tensile or compression type can be used. A load cell is a device that detects a load acting on an applied point by converting it into an electrical signal using a strain gauge attached to the strain generating body.
ロードセルは斜め延伸テンターの入口に最も近いガイドロールの左右の軸受部に設置されることにより、走行中のフィルムがロールに及ぼす力、即ちフィルムの両側縁近傍に生じているフィルム進行方向における張力を左右独立に検出するものである。なお、ロールの軸受部を構成する支持体に歪ゲージを直接取り付けて、当該支持体に生じる歪に基づいて荷重、即ちフィルム張力を検出するようにしてもよい。発生する歪とフィルム張力との関係は、予め計測され、既知であるものとする。 The load cell is installed on the left and right bearings of the guide roll closest to the entrance of the diagonally stretched tenter, so that the force exerted on the roll by the running film, i.e., the tension in the film traveling direction that is generated near both side edges of the film, is measured. It is detected independently on the left and right. In addition, a strain gauge may be directly attached to the support that constitutes the bearing portion of the roll, and the load, that is, the film tension may be detected based on the strain generated in the support. The relationship between the generated strain and the film tension is measured in advance and is known.
上述したようなフィルム張力検出装置を設けて、斜め延伸テンターの入口に最も近いガイドロールにおけるフィルムの両側縁近傍の張力を検出するようにしたのは、フィルムの位置及び方向が、フィルム延伸装置の入口部の位置及び方向に対してズレが生じている場合、このズレ量に応じて、斜め延伸テンターの入口に最も近いガイドロールにおけるフィルムの両側縁近傍の張力に差を生じることになるため、この張力差を検出することによって、当該ズレの程度を判別するためである。フィルムの位置及び方向が、フィルム延伸装置の入口部の位置及び方向との関係で適正であれば、ロールに作用する荷重は左右で粗均等になり、互いの位置がズレていれば左右のフィルム張力に差が生じるのである。 The film tension detection device as described above is provided so that the tension in the vicinity of both side edges of the film in the guide roll closest to the entrance of the oblique stretching tenter is detected because the position and direction of the film is the same as that of the film stretching device. If there is a deviation with respect to the position and direction of the entrance, depending on the amount of deviation, there will be a difference in the tension in the vicinity of both side edges of the film in the guide roll closest to the entrance of the obliquely stretched tenter. This is because the degree of deviation is determined by detecting this tension difference. If the position and direction of the film are appropriate in relation to the position and direction of the inlet portion of the film stretching apparatus, the load acting on the roll will be roughly equal on the left and right, and if the positions are misaligned, the left and right films There is a difference in tension.
従って、斜め延伸テンターの入口に最も近いガイドロールにおける左右のフィルム張力差が等しくなるように、フィルムの位置及び角度を、適切に調整すれば、フィルム延伸装置の入口部における把持具による把持が安定し、把持具外れ等の障害の発生を少なくでき、更に、フィルム延伸装置による斜め延伸後のフィルムの幅方向における物性を安定させることができる。 Therefore, if the film position and angle are adjusted appropriately so that the difference in film tension between the left and right sides of the guide roll closest to the entrance of the oblique stretching tenter is equal, gripping by the gripping tool at the entrance of the film stretching apparatus is stable. In addition, the occurrence of obstacles such as removal of the gripping tool can be reduced, and the physical properties in the width direction of the film after oblique stretching by the film stretching apparatus can be stabilized.
面内遅相軸方向の微調整や製品バリエーションに対応するために斜め延伸テンター入口でのフィルム進行方向と斜め延伸テンター出口でのフィルム進行方向とがなす角度の調整が必要となる。その際、製膜及び斜め延伸を連続して行うことが、生産性や収率の点で好ましい。製膜工程、斜め延伸工程、巻取工程を連続して行う場合、製膜工程と巻取工程でのフィルムの進行方向が一致していることが、工程の幅を小さくできる点で好ましい。そのような工程とするには、製膜したフィルムを斜め延伸テンター入口に導くためにフィルムの搬送方向を変更する、及び/又は斜め延伸テンター出口から出たフィルムを巻取装置方向に戻すためにフィルムの搬送方向を変更する方法が必要となる。フィルムの搬送方向を変更する装置としては、エアーフローロールなどを用いるなど公知の方法を実施することができる。斜め延伸テンター出口以降の装置(ワインダー装置、アキューム装置、ドライブ装置など)は横方向にスライドできる構造が好ましい。 In order to cope with fine adjustments in the in-plane slow axis direction and product variations, it is necessary to adjust the angle between the film traveling direction at the entrance of the oblique stretching tenter and the film traveling direction at the exit of the oblique stretching tenter. In that case, it is preferable from a viewpoint of productivity or a yield to perform film forming and diagonal stretch continuously. When the film forming process, the oblique stretching process, and the winding process are successively performed, it is preferable that the film traveling direction in the film forming process and the winding process coincide with each other in that the width of the process can be reduced. For such a process, in order to change the film transport direction in order to guide the formed film to the oblique stretching tenter inlet and / or to return the film exiting from the oblique stretching tenter outlet to the winder direction. A method for changing the film transport direction is required. As a device for changing the film transport direction, a known method such as an air flow roll can be used. It is preferable that the apparatus (winder apparatus, accumulator apparatus, drive apparatus, etc.) after the obliquely extending tenter exit is slidable in the lateral direction.
上記種々な本発明に係る斜め延伸の製造パターンについて、図3、図4に示した。 FIGS. 3 and 4 show manufacturing patterns of the oblique stretching according to the various inventions described above.
図中、フィルム繰り出し装置10、搬送方向変更装置11、巻き取り装置12、製膜装置13を各々示した。
In the drawing, a
フィルム繰り出し装置10、は、斜め延伸テンター入口に対して所定角度で前記フィルムを送り出せるように、スライド及び旋回可能となっているか、フィルム繰り出し装置10はスライド可能となっており、搬送方向変更装置11により斜め延伸テンター入口に前記フィルムを送り出せるようになっていることが好ましい。前記フィルム繰り出し装置、搬送方向変更装置をこのような構成とすることにより、より製造装置全体の幅を狭くすることが可能となるほか、フィルムの送り出し位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい位相差フィルムを得ることが可能となる。また、前記フィルム繰り出し装置、搬送方向変更装置を移動可能とすることにより、前記左右のクリップのフィルムへの噛込み不良を有効に防止することができる。
The
巻き取り装置12は、斜め延伸テンター出口に対して所定角度でフィルムを引き取れるように形成することにより、フィルムの引き取り位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい位相差フィルムを得ることが可能となる。そのため、フィルムのシワの発生を有効に防止することができるとともに、フィルムの巻き取り性が向上するため、フィルムを長尺で巻き取ることが可能となる。本発明において、延伸後のフィルムの引取り張力T(N/m)は、100N/m<T<300N/m、好ましくは150N/m<T<250N/mの間で調整する必要がある。
By forming the winding
前記引取張力が100N/m以下ではフィルムのたるみや皺が発生しやすく、リターデーション、面内遅相軸方向θsの幅方向のプロファイルも悪化する。逆に引取張力が300N/m以上となると幅方向の面内遅相軸方向θのバラツキが悪化し、幅収率(幅方向の取り効率)を悪化させてしまう。 When the take-up tension is 100 N / m or less, sagging and wrinkles of the film are likely to occur, and the retardation and the profile in the width direction of the in-plane slow axis direction θs also deteriorate. On the other hand, when the take-up tension is 300 N / m or more, the variation in the in-plane slow axis direction θ in the width direction is deteriorated, and the width yield (taking efficiency in the width direction) is deteriorated.
また、本発明においては、上記引取張力Tの変動を±5%未満、好ましくは±3%未満の精度で制御する必要がある。上記引取張力Tの変動が±5%以上であると、幅方向及び流れ方向の光学特性のバラツキが大きくなる。上記引取張力Tの変動を上記範囲内に制御する方法としては、テンター出口部の最初のロールにかかる荷重、すなわちフィルムの張力を測定し、その値を一定とするように、一般的なPID制御方式により引取ロールの回転速度を制御する方法が挙げられる。前記荷重を測定する方法としては、ロールの軸受部にロードセルを取り付け、ロールに加わる荷重、すなわちフィルムの張力を測定する方法が挙げられる。ロードセルとしては、引張型や圧縮型の公知のものを用いることができる。 In the present invention, it is necessary to control the fluctuation of the take-up tension T with an accuracy of less than ± 5%, preferably less than ± 3%. When the fluctuation of the take-up tension T is ± 5% or more, the variation in the optical characteristics in the width direction and the flow direction becomes large. As a method for controlling the fluctuation of the take-up tension T within the above range, general PID control is performed so that the load applied to the first roll at the tenter outlet, that is, the film tension is measured and the value is kept constant. A method of controlling the rotation speed of the take-up roll by a method is mentioned. Examples of the method for measuring the load include a method in which a load cell is attached to a bearing portion of a roll and a load applied to the roll, that is, a film tension is measured. As the load cell, a known tensile type or compression type can be used.
〈搬送方向に対して所定角度の方向への延伸〉
本発明では、長尺状フィルムの搬送方向に対して10〜45°の範囲内の角度で面内遅相軸を有するように斜め方向に延伸した後に、把持手段により、フィルムの両端を搬送方向に対して−90〜−70°の範囲内の角度で、かつ0〜20%の範囲内の延伸率で、延伸してもよい。そのために、本発明においては、搬送方向に直交する方向、又は斜め方向に延伸できる延伸装置を用いる場合がある。
<Stretching in a direction at a predetermined angle with respect to the transport direction>
In the present invention, after stretching in an oblique direction so as to have an in-plane slow axis at an angle in the range of 10 to 45 ° with respect to the transport direction of the long film, both ends of the film are transported in the transport direction by gripping means. The film may be stretched at an angle in the range of -90 to -70 ° with respect to the stretching ratio and in a stretch ratio of 0 to 20%. Therefore, in the present invention, a stretching apparatus that can stretch in a direction orthogonal to the transport direction or in an oblique direction may be used.
当該延伸装置は、レールパターンを多様に変化させることにより、フィルムの面内遅相軸方向を自在に設定でき、さらに、フィルムの面内遅相軸方向をフィルム幅方向に渡って左右均等に高精度に配向させることができ、かつ、高精度でフィルム厚さやリターデーションを制御できるフィルム延伸装置であることが好ましい。 The stretching device can change the in-plane slow axis direction of the film freely by changing the rail pattern in various ways. A film stretching apparatus that can be oriented with high precision and that can control film thickness and retardation with high precision is preferable.
延伸後のフィルムは、把持具による把持が開放され、テンター出口から排出され、フィルムの両端(両側)がトリミングされた後に、順次巻芯(巻取りロール)に巻き取られて、位相差フィルム(延伸フィルム)の巻回体にすることができる。 The stretched film is released from the tenter outlet after being gripped by the gripper, and after being trimmed at both ends (both sides) of the film, the film is sequentially wound on a winding core (winding roll) to form a retardation film ( A stretched film).
また、必要に応じて、巻取ロールに巻き取る前に、テンターの把持具で把持されていたフィルムの両端をトリミングしてもよい。また、巻き取る前に、フィルム同士のブロッキングを防止する目的で、マスキングフィルムを重ねて同時に巻き取ってもよいし、位相差フィルム(延伸フィルム)の少なくとも一方、好ましくは両方の端にテープ等を張り合わせながら巻き取ってもよい。マスキングフィルムとしては、上記フィルムを保護することができるものであれば特に制限されず、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどがあげられる。 Moreover, you may trim the both ends of the film currently hold | gripped with the holding tool of a tenter before winding up to a winding roll as needed. Moreover, before winding up, in order to prevent blocking between films, a masking film may be piled up and wound up at the same time, or at least one of the retardation film (stretched film), preferably tape or the like at both ends. You may wind up while bonding. The masking film is not particularly limited as long as it can protect the film, and examples thereof include a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, and a polypropylene film.
本発明の位相差フィルム(延伸フィルム)の面内リターデーションRoのバラツキは、幅方向の少なくとも1300mmにおいて、0.5nm以下、好ましくは0.3nm以下である。面内リターデーションRoのバラツキを、上記範囲にすることにより、液晶表示装置用の位相差フィルム(延伸フィルム)として用いた場合に表示品質を良好なものにすることが可能になる。 The variation of the in-plane retardation Ro of the retardation film (stretched film) of the present invention is 0.5 nm or less, preferably 0.3 nm or less, in at least 1300 mm in the width direction. By setting the variation of the in-plane retardation Ro within the above range, the display quality can be improved when used as a retardation film (stretched film) for a liquid crystal display device.
本発明の位相差フィルム(延伸フィルム)の面内リターデーションRoは、用いられる表示装置の設計によって最適値が選択される。なお、前記Roは、面内遅相軸方向の屈折率nxと面内で前記遅相軸に直交する方向の屈折率nyとの差にフィルムの平均厚さdを乗算した値(Ro=(nx−ny)×d)である。 The optimum value of the in-plane retardation Ro of the retardation film (stretched film) of the present invention is selected depending on the design of the display device used. Incidentally, the Ro-plane slow axis direction of the refractive indices n x and plane by a value obtained by multiplying the average thickness d of the film to the difference between the refractive index n y in the direction perpendicular to the slow axis (Ro = (N x -n y ) × d).
立体画像表示装置に本発明の長尺状位相差フィルム(延伸フィルム)を組み込む場合、下記特徴と有するλ/4板であることが好ましい。 When incorporating the long retardation film (stretched film) of the present invention into a stereoscopic image display device, a λ / 4 plate having the following characteristics is preferable.
(表面加工層)
本発明の位相差フィルムは、その表面にハードコート層が設けられていることを特徴とする。
(Surface processed layer)
The retardation film of the present invention is characterized in that a hard coat layer is provided on the surface thereof.
また、本発明においては、表面加工層として、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を設けることができる。 In the present invention, functional layers such as an antistatic layer, a backcoat layer, an antireflection layer, a slippery layer, an adhesive layer, an antiglare layer, and a barrier layer can be provided as the surface treatment layer.
<ハードコート層>
本発明の位相差フィルムは、その表面にハードコート層が設けられていることを特徴とする。当該ハードコート層は、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層のいずれかであることが好ましい。
<Hard coat layer>
The retardation film of the present invention is characterized in that a hard coat layer is provided on the surface thereof. The hard coat layer is preferably either a clear hard coat layer or an antiglare hard coat layer.
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、当該ハードコート層が、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する樹脂を用いて形成された態様のハードコート層であることが好ましい。さらに、当該ハードコート層が、三個又は四個のアクリロイル(acryloyl)基を有するアクリル酸エステル(acrylate)を含有する塗布液を用いて形成されたものであることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the hard coat layer is a hard coat layer formed using a resin containing an active energy ray-curable resin from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention. Furthermore, it is preferable that the hard coat layer is formed using a coating solution containing an acrylate ester having three or four acryloyl groups.
当該ハードコート層が塗布液を用いて形成されたものである場合、当該塗布液が含有する溶媒量が、10質量%未満であることが好ましい。また、当該塗布液が含有する溶媒が、エタノール又はメタノールであることが好ましい。一方、前記塗布液が、水及び有機溶媒を含有していないことも好ましい。 When the hard coat layer is formed using a coating solution, the amount of solvent contained in the coating solution is preferably less than 10% by mass. Moreover, it is preferable that the solvent which the said coating liquid contains is ethanol or methanol. On the other hand, it is also preferable that the coating liquid does not contain water and an organic solvent.
本発明に用いられるハードコート層は、少なくとも位相差フィルムの一方の面に設けられる。本発明においては、当該ハードコート層上に、少なくとも低屈折率層を含む反射防止層が設けられることも好ましい。特に、車載カーナビゲーション用の場合では、より視認性を向上させる為に、防眩性ハードコート層の上に反射防止層が設けられることが好ましい。 The hard coat layer used in the present invention is provided on at least one surface of the retardation film. In the present invention, it is also preferable that an antireflection layer including at least a low refractive index layer is provided on the hard coat layer. In particular, in the case of in-vehicle car navigation, in order to further improve the visibility, it is preferable to provide an antireflection layer on the antiglare hard coat layer.
本発明に用いられるハードコート層が防眩性である場合は、表面に微細な凹凸形状を有するが、当該微細凹凸形状は、ハードコート層に微粒子を含有させることで形成し、下記のような平均粒径0.01〜4μmの微粒子をハードコート層中に含有させることで形成できる。また、後述するように、当該防眩性ハードコート層上に設けられた反射防止層の最表面の表面粗さとして、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.08〜0.5μmの範囲に調整されることが好ましい。 When the hard coat layer used in the present invention is anti-glare, it has a fine uneven shape on the surface. The fine uneven shape is formed by containing fine particles in the hard coat layer, and is as follows. It can be formed by containing fine particles having an average particle size of 0.01 to 4 μm in the hard coat layer. Further, as will be described later, as the surface roughness of the outermost surface of the antireflection layer provided on the antiglare hard coat layer, the centerline average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 is 0.08. It is preferable to adjust to a range of ˜0.5 μm.
クリアハードコート層の場合は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのクリアハードコート層であり、Raが0.002〜0.05μmであることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えば、WYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定することができる。 In the case of the clear hard coat layer, it is a clear hard coat layer having a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.001 to 0.1 μm, and Ra is 0.002 to 0.05 μm. It is preferable. The center line average roughness (Ra) is preferably measured by an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured, for example, using a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000 manufactured by WYKO.
本発明に用いられる防眩性ハードコート層中に含有される粒子としては、例えば、無機又は有機の微粒子が用いられる。 As particles contained in the antiglare hard coat layer used in the present invention, for example, inorganic or organic fine particles are used.
無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。 Examples of the inorganic fine particles include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, zinc oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, and calcium sulfate.
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、又はポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。 The organic fine particles include polymethyl methacrylate methyl acrylate resin fine particles, acrylic styrene resin fine particles, polymethyl methacrylate resin fine particles, silicone resin fine particles, polystyrene resin fine particles, polycarbonate resin fine particles, benzoguanamine resin fine particles, and melamine resin. Examples thereof include fine particles, polyolefin resin fine particles, polyester resin fine particles, polyamide resin fine particles, polyimide resin fine particles, and polyfluoroethylene resin fine particles.
本発明では特に、酸化ケイ素微粒子又はポリスチレン系樹脂微粒子であることが好ましい。 In the present invention, silicon oxide fine particles or polystyrene resin fine particles are particularly preferable.
上記記載の無機又は有機の微粒子は、防眩性ハードコート層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加えて用いることが好ましい。 The inorganic or organic fine particles described above are preferably used in addition to a coating composition containing a resin or the like used for producing an antiglare hard coat layer.
本発明に用いられる防眩性ハードコート層に防眩性を付与するためには、無機又は有機微粒子の含有量は、防眩性ハードコート層作製用の樹脂100質量部に対して、0.1質量部〜30質量部が好ましく、更に好ましくは、0.1質量部〜20質量部となるように配合することである。より好ましい防眩効果を付与するには、平均粒径0.1μm〜1μmの微粒子を防眩性ハードコート層作製用の樹脂100質量部に対して1質量部〜15質量部を用いるのが好ましい。又、異なる平均粒径の微粒子を二種以上用いることも好ましい。 In order to impart anti-glare properties to the anti-glare hard coat layer used in the present invention, the content of the inorganic or organic fine particles is set to 0.100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin for preparing the anti-glare hard coat layer. 1 mass part-30 mass parts are preferable, More preferably, it is mix | blending so that it may become 0.1 mass part-20 mass parts. In order to give a more preferable antiglare effect, it is preferable to use 1 part by mass to 15 parts by mass of fine particles having an average particle size of 0.1 μm to 1 μm with respect to 100 parts by mass of the resin for preparing the antiglare hard coat layer. . It is also preferable to use two or more kinds of fine particles having different average particle diameters.
また、本発明に用いられる防眩性ハードコート層には、帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、Sn、Ti、In、Al、Zn、Si、Mg、Ba、Mo、W及びVからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が107Ω・cm以下であるような導電性材料が好ましい。 The antiglare hard coat layer used in the present invention preferably contains an antistatic agent, and examples of the antistatic agent include Sn, Ti, In, Al, Zn, Si, Mg, Ba, Mo, A conductive material containing at least one element selected from the group consisting of W and V as a main component and having a volume resistivity of 10 7 Ω · cm or less is preferable.
前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。 Examples of the antistatic agent include metal oxides and composite oxides having the above elements.
金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V2O5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、In2O3、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加、またSnO2に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜25mol%の範囲が好ましいが、0.1〜15mol%の範囲が特に好ましい。 Examples of metal oxides are preferably ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 2 , V 2 O 5 , or a composite oxide thereof. In particular, ZnO, In 2 O 3 , TiO 2 and SnO 2 are preferred. Examples of containing different atoms include, for example, addition of Al, In, etc. to ZnO, addition of Nb, Ta, etc. to TiO 2 , and addition of Sb, Nb, halogen elements, etc. to SnO 2 . Addition is effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 25 mol%, particularly preferably in the range of 0.1 to 15 mol%.
また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は107Ω・cm以下、特に105Ω・cm以下である。 In addition, the volume resistivity of these metal oxide powders having conductivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less.
十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層の膜厚は0.5〜15μmの範囲が好ましく、更に好ましくは、1.0〜7μmである。 From the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance, the film thickness of the clear hard coat layer or the antiglare hard coat layer is preferably in the range of 0.5 to 15 μm, more preferably 1.0 to 7 μm. .
(活性エネルギー線硬化樹脂)
本発明に用いられるハードコート層は、紫外線等活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することが好ましい。
(Active energy ray curable resin)
The hard coat layer used in the present invention preferably contains an active energy ray-curable resin that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。 The active energy ray-curable resin is a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but a resin that is cured by irradiation with an active energy ray other than an ultraviolet ray or an electron beam may be used.
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。 Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. be able to.
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する。)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシル基(水酸基)を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号公報に記載の、ユニディック17−806(DIC(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。 UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as methacrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. Only acrylates are displayed as such), and can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group (hydroxyl group) such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (manufactured by DIC Corporation) and 1 part of Coronate L (manufactured by Nippon Polyurethane Corporation) described in JP-A-59-151110 is preferably used.
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端のヒドロキシル基(水酸基)やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる(例えば、特開昭59−151112号)。 The UV curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, or acrylic acid with a hydroxyl group (hydroxyl group) or a carboxyl group at the end of the polyester. JP, 59-151112, A).
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシル基(水酸基)にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。 The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group (hydroxyl group) of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。 Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples include erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示す。 As examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin and the ultraviolet curable epoxy resin, useful epoxy-based active energy ray reactive compounds are shown.
(a)ビスフェノールAのグリシジルエーテル(この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールAとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる)
(b)ビスフェノールA等のフェノール性OHを二個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
(c)4,4′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
(d)ノボラック樹脂又はレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
(e)脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)オキザレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−1′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−6′−メチル−1′−シクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5′,5′−スピロ−3″,4″−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
(f)2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
(g)グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)ジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
(h)ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
(i)多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
(j)2−フルオロアルキル−1,2−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
(k)含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
(A) Glycidyl ether of bisphenol A (this compound is obtained as a mixture having different degrees of polymerization by reaction of epichlorohydrin and bisphenol A)
(B) a compound having a glycidyl ether group by reacting epichlorohydrin, ethylene oxide and / or propylene oxide with a compound having two phenolic OHs such as bisphenol A (c) glycidyl ether of 4,4'-methylenebisphenol (D) Epoxy compound of phenol formaldehyde resin of novolak resin or resol resin (e) Compound having alicyclic epoxide, for example, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) oxalate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ) Adipate, bis (3,4-epoxy-6-cyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl pimelate), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclo Xanthcarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-1 ' -Methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methyl-cyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxy-6'-methyl-1'-cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5 ', 5'-spiro-3 ", 4" -epoxy) cyclohexane-meta-dioxane (f) diglycidyl ethers of dibasic acids such as diglycidyl oxalate, diglycidyl adipate, diglycidyl tetrahydrophthalate, diglycidyl Hexahydrophthalate, diglycidylf (G) Diglycidyl ether of glycol, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, copoly (ethylene glycol-propylene glycol) di Glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether (h) Glycidyl ester of polymer acid, for example, polyglycidyl ester of polyacrylic acid, polyester diglycidyl ester (i) Polyhydric alcohol Glycidyl ethers such as glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl Ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, glucose triglycidyl ether (j) As the diglycidyl ether of 2-fluoroalkyl-1,2-diol, Similar to the compound examples given for the fluorine-containing epoxy compound of the fluorine-containing resin (k) As the fluorine-containing alkane-terminated diol glycidyl ether, the fluorine-containing epoxy compound of the fluorine-containing resin of the low refractive index substance can be exemplified. .
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として2000以下で、好ましくは1000以下である。 The molecular weight of the said epoxy compound is 2000 or less as an average molecular weight, Preferably it is 1000 or less.
上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、(h)又は(i)の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。 In the case where the above epoxy compound is cured with active energy rays, it is effective to use a compound having a polyfunctional epoxy group (h) or (i) in order to increase the hardness.
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。 The photopolymerization initiator or photosensitizer for cationically polymerizing an epoxy-based active energy ray-reactive compound is a compound capable of releasing a cationic polymerization initiator by irradiation with active energy rays, and particularly preferably a cation by irradiation. It is a group of double salts of onium salts that release Lewis acids capable of initiating polymerization.
活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。 The active energy ray-reactive compound epoxy resin forms a polymerized, crosslinked structure or network structure not by radical polymerization but by cationic polymerization. Unlike radical polymerization, it is not affected by oxygen in the reaction system, and is therefore a preferred active energy ray reactive resin.
本発明に有用な活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤又は光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。 The active energy ray-reactive epoxy resin useful in the present invention is polymerized by a photopolymerization initiator or a photosensitizer that releases a substance that initiates cationic polymerization upon irradiation with active energy rays. As the photopolymerization initiator, a group of double salts of onium salts that release a Lewis acid that initiates cationic polymerization by light irradiation is particularly preferable.
かかる代表的なものは下記一般式(a)で表される化合物である。 A typical example is a compound represented by the following general formula (a).
一般式(a):〔(R1)a(R2)b(R3)c(R4)dZ〕w+〔MeXv〕w−
式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン(例えばI、Br、Cl)、又はN=N(ジアゾ)であり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0〜3の整数であって、a+b+c+dはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属(metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
General formula (a): [(R 1 ) a (R 2 ) b (R 3 ) c (R 4 ) d Z] w + [MeX v ] w−
Wherein cation is onium, Z is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, halogen (eg, I, Br, Cl), or N = N (diazo), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are organic groups which may be the same or different. a, b, c, and d are each an integer of 0 to 3, and a + b + c + d is equal to the valence of Z. Me is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is halogen, w is the net charge of the halogenated complex ion, and v is the number of halogen atoms in the halogenated complex ion.
上記一般式(a)の陰イオン〔MeXv〕w−の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF4 −)、テトラフルオロホスフェート(PF4 −)、テトラフルオロアンチモネート(SbF4 −)、テトラフルオロアルセネート(AsF4 −)、テトラクロロアンチモネート(SbCl4 −)等を挙げることができる。 Specific examples of the anion [MeX v ] w− of the general formula (a) include tetrafluoroborate (BF 4 − ), tetrafluorophosphate (PF 4 − ), tetrafluoroantimonate (SbF 4 − ), tetra Examples thereof include fluoroarsenate (AsF 4 − ) and tetrachloroantimonate (SbCl 4 − ).
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン(ClO4 −)、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO3 −)、フルオロスルホン酸イオン(FSO3 −)、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。 Other anions include perchlorate ion (ClO 4 − ), trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 − ), fluorosulfonate ion (FSO 3 − ), toluenesulfonate ion, and trinitrobenzene acid anion. An ion etc. can be mentioned.
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭50−151996号、同50−158680号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号、同52−30899号、同59−55420号、同55−125105号等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号、同56−149402号、同57−192429号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭49−17040号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号等に記載のチオピリリューム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。 Among these onium salts, it is particularly effective to use an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator. Among them, aromatic halonium salts described in JP-A Nos. 50-151996 and 50-158680 are particularly useful. VIA group aromatic onium salts described in Kaikai 50-151997, 52-30899, 59-55420, 55-125105, JP-A-56-8428, 56-149402, Preference is given to oxosulfoxonium salts described in 57-192429 and the like, aromatic diazonium salts described in JP-B-49-17040, thiopyridium salts described in US Pat. No. 4,139,655 and the like. Moreover, an aluminum complex, a photodegradable silicon compound type | system | group polymerization initiator, etc. can be mentioned. The cationic polymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as benzophenone, benzoin isopropyl ether, or thioxanthone.
また、エポキシアクリレート基を有する活性エネルギー線反応性化合物の場合は、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物100質量部に対して0.1〜15質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは1〜10質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。 In the case of an active energy ray-reactive compound having an epoxy acrylate group, a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photosensitizer and photoinitiator used for the active energy ray-reactive compound are sufficient to initiate the photoreaction at 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet-reactive compound, and preferably Is 1 to 10 parts by mass. The sensitizer preferably has an absorption maximum from the near ultraviolet region to the visible light region.
本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネルギー線硬化性エポキシ樹脂(プレポリマー)100質量部に対して0.1〜15質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、1〜10質量部の範囲の添加が好ましい。 In the active energy ray-curable resin composition useful in the present invention, the polymerization initiator is generally used in an amount of 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable epoxy resin (prepolymer). More preferably, addition in the range of 1 to 10 parts by mass is preferable.
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。 An epoxy resin can be used in combination with the urethane acrylate type resin, polyether acrylate type resin, or the like. In this case, it is preferable to use an active energy ray radical polymerization initiator and an active energy ray cationic polymerization initiator in combination.
また、本発明に用いられるハードコート層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素又は硫黄を含む3員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、3,3−ビス(クロルメチル)オキセタン、3,3−ビス(ヨードメチル)オキセタン、3,3−ビス(メトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、3−メチル−3クロルメチルオキセタン、3,3−ビス(アセトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フルオロメチル)オキセタン、3,3−ビス(ブロモメチル)オキセタン、3,3−ジメチルオキセタン等が挙げられる。なお、本発明では、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。 Moreover, an oxetane compound can also be used for the hard-coat layer used for this invention. The oxetane compound used is a compound having a three-membered oxetane ring containing oxygen or sulfur. Among them, a compound having an oxetane ring containing oxygen is preferable. The oxetane ring may be substituted with a halogen atom, a haloalkyl group, an arylalkyl group, an alkoxyl group, an allyloxy group, or an acetoxy group. Specifically, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (iodomethyl) oxetane, 3,3-bis (methoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (phenoxymethyl) oxetane, 3-methyl -3 chloromethyloxetane, 3,3-bis (acetoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (fluoromethyl) oxetane, 3,3-bis (bromomethyl) oxetane, 3,3-dimethyloxetane and the like. In the present invention, any of a monomer, an oligomer and a polymer may be used.
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、ハードコート層が、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する樹脂を用いて形成された態様のハードコート層であることが好ましい。さらに、当該ハードコート層が、三個又は四個のアクリロイル(acryloyl)基を有するアクリル酸エステル(acrylate)を含有する塗布液を用いて形成されたものであることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the hard coat layer is a hard coat layer formed using a resin containing an active energy ray-curable resin from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention. Furthermore, it is preferable that the hard coat layer is formed using a coating solution containing an acrylate ester having three or four acryloyl groups.
本発明に用いられるハードコート層が活性エネルギー線硬化型樹脂を含む場合、活性エネルギー線の照射方法としては、支持体上に、防眩性ハードコート層、反射防止層(中〜高屈折率層及び低屈折率層)等の塗設後に活性エネルギー線を照射してもよいが、ハードコート層塗設時に活性エネルギー線を照射することが好ましい。 When the hard coat layer used in the present invention contains an active energy ray-curable resin, the active energy ray irradiation method includes an antiglare hard coat layer and an antireflection layer (medium to high refractive index layer) on a support. In addition, the active energy ray may be irradiated after the coating of the low refractive index layer or the like, but the active energy ray is preferably irradiated when the hard coat layer is coated.
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、50〜10000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50〜2000mJ/cm2である。 The active energy ray used in the present invention can be used without limitation as long as it is an energy source that activates a compound such as ultraviolet ray, electron beam, γ ray, etc., but ultraviolet ray and electron beam are preferable, especially easy handling and high energy. UV rays are preferred in that they can be easily obtained. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated is preferably 20 mJ / cm 2 or more, more preferably, a 50~10000mJ / cm 2, particularly preferably 50~2000mJ / cm 2.
紫外線照射は、ハードコート層と後述する反射防止層を構成する複数の層(中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層)それぞれに対して1層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。或いはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。 The ultraviolet irradiation may be performed every time one layer is provided for each of a plurality of layers (medium refractive index layer, high refractive index layer, low refractive index layer) constituting the hard coat layer and the antireflection layer described later. The film may be irradiated after lamination. Or you may irradiate combining these. From the viewpoint of productivity, it is preferable to irradiate ultraviolet rays after laminating multiple layers.
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。 Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.
本発明に使用する上記活性エネルギー線反応性化合物を光重合又は光架橋反応を開始させるには、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。 In order to initiate the photopolymerization or photocrosslinking reaction of the active energy ray-reactive compound used in the present invention, the active energy ray-reactive compound alone is initiated, but the polymerization induction period is long or the polymerization start is slow. Therefore, it is preferable to use a photosensitizer or a photoinitiator, which can accelerate the polymerization.
本発明に用いられるハードコート層が活性エネルギー線硬化樹脂を含有する場合、活性エネルギー線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。 When the hard coat layer used in the present invention contains an active energy ray-curable resin, a photoreaction initiator and a photosensitizer can be used during irradiation with active energy rays.
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び/又は光増感剤の使用量は、組成物の1〜10質量%が好ましく、特に好ましくは2.5〜6質量%である。 Specific examples include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. Moreover, when using a photoreactant for the synthesis | combination of an epoxy acrylate-type resin, sensitizers, such as n-butylamine, a triethylamine, a tri-n-butylphosphine, can be used. The amount of the photoreaction initiator and / or photosensitizer contained in the ultraviolet curable resin composition excluding the solvent component that volatilizes after coating and drying is preferably 1 to 10% by mass, particularly preferably 2%. .5 to 6% by mass.
また、活性エネルギー線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。 Moreover, when using ultraviolet curable resin as active energy ray curable resin, you may include the ultraviolet absorber mentioned later in the ultraviolet curable resin composition to such an extent that the photocuring of the said ultraviolet curable resin is not prevented.
ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。 In order to increase the heat resistance of the hard coat layer, an antioxidant that does not inhibit the photocuring reaction can be selected and used. Examples include hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives, and the like. Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-tert-3-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4- Examples thereof include hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphate.
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーKR、BYシリーズのKR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(以上、(株)ADEKA製)、コーエイハードのA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化学工業(株)製)、セイカビームのPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大日精化工業(株)製)、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上、ダイセル・ユーシービー(株))、RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上、DIC(株)製)、オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製)、サンラッド H−601(三洋化成工業(株)製)、SP−1509、SP−1507(以上、昭和高分子(株)製)、RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成(株)製)、又はその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。 Examples of the ultraviolet curable resin include ADEKA OPTMER KR, BY series KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (above, manufactured by ADEKA Corporation), Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS-101, FT -102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), Seika Beam PHC2210 (S), PHCX-9 (K-3), PHC2213, DP- 10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 )), KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UC Corporation), RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102 RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by DIC Corporation), Aulex No. 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.), Sun Rad H-601 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), SP-1509, SP-1507 (above, Showa Polymer Co., Ltd.), RCC-15C (Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), or other commercially available products can be used as appropriate.
活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は10〜95質量%であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。 The coating composition containing the active energy ray-curable resin preferably has a solid content concentration of 10 to 95% by mass, and an appropriate concentration is selected depending on the coating method.
本発明に用いられるハードコート層、及び反射防止層は界面活性剤を含有することも好ましく、界面活性剤としては、シリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。 The hard coat layer and antireflection layer used in the present invention also preferably contain a surfactant, and the surfactant is preferably a silicone-based or fluorine-based surfactant.
シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。 As the silicone-based surfactant, a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene is preferable.
非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類のヒドロキシル基(水酸基)、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性ヒドロキシル基(水酸基)の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。 A nonionic surfactant is a generic term for a system surfactant that does not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydroxyl group (hydroxyl group) of a polyhydric alcohol is used as a hydrophilic group. It has an oxyalkylene chain (polyoxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity increases as the number of alcoholic hydroxyl groups (hydroxyl groups) increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. The nonionic surfactant according to the present invention is characterized by having dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group.
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。 When a nonionic surfactant composed of a dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is used, unevenness of the antiglare hard coat layer and the low refractive index layer and antifouling property of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled. This effect cannot be obtained by using other surfactants.
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191等が挙げられる。 Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191 and the like.
また、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。 Moreover, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, etc. are mentioned.
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を一つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。 In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. It is preferably a linear block copolymer. Since the main chain skeleton has a long chain length and a linear structure, it is excellent. This is considered to be due to the fact that one activator molecule can be adsorbed on the surface of the silica fine particle so as to cover the surface of the silica fine particle at a plurality of locations by being a block copolymer in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are alternately repeated.
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。 Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.
フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、N−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−(フルオロアルキルオキシ)−1−アルキルスルホン酸ナトリウム、3−(ω−フルオロアルカノイル−N−エチルアミノ)−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、N−(3−パーフルオロオクタンスルホンアミド)プロピル−N,N−ジメチル−N−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、N−プロピル−N−(2−ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−N−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス(N−パーフルオロオクチルスルホニル−N−エチルアミノエチル)等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。 As the fluorine-based surfactant, a surfactant having a hydrophobic group having a perfluorocarbon chain can be used. As types, fluoroalkylcarboxylic acid, N-perfluorooctanesulfonyl glutamate disodium, sodium 3- (fluoroalkyloxy) -1-alkylsulfonate, 3- (ω-fluoroalkanoyl-N-ethylamino) -1- Sodium propanesulfonate, N- (3-perfluorooctanesulfonamido) propyl-N, N-dimethyl-N-carboxymethyleneammonium betaine, perfluoroalkylcarboxylic acid, perfluorooctanesulfonic acid diethanolamide, perfluoroalkylsulfonic acid Salt, N-propyl-N- (2-hydroxyethyl) perfluorooctanesulfonamide, perfluoroalkylsulfonamidopropyltrimethylammonium salt, perfluoroalkyl-N-ethyl Ruhonirugurishin salts, phosphoric acid bis (N- perfluorooctylsulfonyl -N- ethylamino ethyl) and the like. In the present invention, nonionic surfactants are preferred.
これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。 These fluorosurfactants are commercially available under the trade names such as Megafac, F-Top, Surflon, Footagen, Unidyne, Florard, Zonyl and the like.
好ましい添加量はハードコート層、及び反射防止層の塗布液に含まれる固形分当たり0.01〜3.0%であり、より好ましくは0.02〜1.0%である。 A preferable addition amount is 0.01 to 3.0%, more preferably 0.02 to 1.0% per solid content contained in the coating liquid of the hard coat layer and the antireflection layer.
他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。 Other surfactants can be used in combination. For example, anionic surfactants such as sulfonates, sulfates, phosphates, etc., and ethers having polyoxyethylene chain hydrophilic groups Type, ether ester type nonionic surfactants and the like may be used in combination.
本発明に係るハードコート層を塗設する際の溶媒としては、ハードコート層塗設のために従来使用されている種々の溶媒を用いることができる。本発明において、特に好ましい溶媒は、エタノール又はメタノールである。 As the solvent for coating the hard coat layer according to the present invention, various solvents conventionally used for coating the hard coat layer can be used. In the present invention, a particularly preferred solvent is ethanol or methanol.
溶媒量は10質量%未満であることが好ましい。更に好ましくは、5〜8質量%の範囲であるが、あるいは上記溶媒を全く使用しない、無溶媒であることも好ましい。 The amount of solvent is preferably less than 10% by mass. More preferably, it is in the range of 5 to 8% by mass, or it is also preferred that no solvent is used and no solvent is used.
アクリル基が5個以上のモノマーをハードコート層として用いると、斜め延伸した位相差フィルムの面上のスジをさらに強調させてしまう。また、アセトンやPGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)、酢酸エチルなどの非極性溶媒を用いると、斜め延伸した位相差フィルムに残る、斜め方向の残留応力を強めて、フィルム面上にスジを誘発させる。また、ハードコート層を設けたフィルムに湿熱耐久試験を行ったときに、アクリル基5個以上のモノマー、あるいは上記の様な非極性溶媒を用いると、面内位相差Roの変動値(最大値−最小値)の値が幅手で10nmよりも大きい値になる。このことは、作製したフィルムを表示装置に具備したときに、表示品質を著しく劣化させることになる。 When a monomer having 5 or more acrylic groups is used as the hard coat layer, streaks on the surface of the obliquely stretched retardation film are further emphasized. Further, when a nonpolar solvent such as acetone, PGME (propylene glycol monomethyl ether) or ethyl acetate is used, the residual stress in the oblique direction remaining in the obliquely stretched retardation film is strengthened to induce streaks on the film surface. In addition, when a wet heat durability test is performed on a film provided with a hard coat layer, a fluctuation value (maximum value) of the in-plane retardation Ro is obtained when a monomer having 5 or more acrylic groups or a nonpolar solvent as described above is used. The value of (minimum value) is wide and larger than 10 nm. This significantly deteriorates the display quality when the produced film is provided in a display device.
ハードコート層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター、スプレーコート、インクジェット法等公知の方法を用いることができる。塗布量はウエット膜厚で5〜30μmが適当で、好ましくは10〜20μmである。塗布速度は10〜200m/分が好ましい。 As a coating method of the hard coat layer composition coating solution, a known method such as a gravure coater, a spinner coater, a wire bar coater, a roll coater, a reverse coater, an extrusion coater, an air doctor coater, a spray coat, an ink jet method can be used. . The coating amount is suitably 5 to 30 μm, preferably 10 to 20 μm in terms of wet film thickness. The coating speed is preferably 10 to 200 m / min.
ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性エネルギー線の照射時間は0.5秒〜5分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、3秒〜2分である。 The hard coat layer composition is preferably applied and dried, and then irradiated with an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam and cured, but the irradiation time of the active energy ray is preferably 0.5 seconds to 5 minutes. More preferably, it is 3 seconds to 2 minutes in view of the curing efficiency, work efficiency, etc. of the ultraviolet curable resin.
<反射防止層>
本発明に用いられる反射防止層は、低屈折率層のみの単層構成でもよいが、多層の屈折率層を設けることも好ましい。位相差フィルム上にハードコート層を有し、その表面上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層できる。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成したり、特に好ましくは、三層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる三層を、中屈折率層(支持体又は防眩性ハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。
<Antireflection layer>
The antireflection layer used in the present invention may have a single-layer structure composed of only a low refractive index layer, but it is also preferable to provide a multilayer refractive index layer. It has a hard coat layer on the retardation film, and can be laminated on the surface in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, etc. so that the reflectance is reduced by optical interference. The antireflection layer is composed of a combination of a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the support and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the support, and particularly preferably from three or more refractive index layers. An anti-reflection layer comprising three layers having different refractive indexes from the support side, a medium refractive index layer (having a higher refractive index than the support or the antiglare hard coat layer, and having a higher refractive index than the high refractive index layer). It is preferable that the layers are laminated in the order of (low layer) / high refractive index layer / low refractive index layer.
又は、二層以上の高屈折率層と二層以上の低屈折率層とを交互に積層した四層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。 Alternatively, an antireflection layer having a layer structure of four or more layers in which two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are alternately laminated is also preferably used.
本発明に用いられる反射防止層の好ましい層構成の例を下記に示す。ここで/は積層配置されていることを示している。 Examples of preferred layer structures of the antireflection layer used in the present invention are shown below. Here, / indicates that the layers are arranged in layers.
位相差フィルム/クリアハードコート層/低屈折率層
位相差フィルム/クリアハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
位相差フィルム/クリアハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
位相差フィルム/防眩性ハードコート層/低屈折率層
位相差フィルム/防眩性ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
位相差フィルム/防眩性ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、更に防汚層を設けることもできる。防汚層としては、含フッ素有機化合物が好ましく用いられる。
Retardation film / Clear hard coat layer / Low refractive index layer Retardation film / Clear hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Retardation film / Clear hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Retardation film / Anti-glare hard coat layer / Low refractive index layer Retardation film / Anti-glare hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Retardation film / Anti-glare hard coat layer / Medium Refractive Index Layer / High Refractive Index Layer / Low Refractive Index Layer An antifouling layer may be further provided on the outermost low refractive index layer so that dirt and fingerprints can be easily wiped off. As the antifouling layer, fluorine-containing organic compounds are preferably used.
光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、上記層構成では、適宜中間層を設けてもよく、例えば導電性ポリマー微粒子(例えば架橋カチオン微粒子)又は金属酸化物微粒子(例えば、SnO2、ITO等)を含む帯電防止層等は好ましい。 As long as the reflectance can be reduced by optical interference, it is not limited to these layer configurations. In the above layer structure, an intermediate layer may be provided as appropriate. For example, an antistatic layer containing conductive polymer fine particles (for example, crosslinked cation fine particles) or metal oxide fine particles (for example, SnO 2 , ITO) is preferable.
〈低屈折率層〉
本発明に用いられる低屈折率層では以下の中空球状シリカ系微粒子が好適に用いられる。
<Low refractive index layer>
In the low refractive index layer used in the present invention, the following hollow spherical silica-based fine particles are preferably used.
(中空球状シリカ系微粒子)
中空球状微粒子は、(I)多孔質粒子と当該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又は(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子である。なお、低屈折率層には(I)複合粒子又は(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
(Hollow spherical silica-based fine particles)
The hollow spherical fine particles are: (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having a cavity inside, and the content is a solvent, gas or porous Cavity particles filled with a substance. Note that the low refractive index layer only needs to contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or both.
なお、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体又は多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空球状微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空球状微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空球状微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。 The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle diameter of such hollow spherical fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The hollow spherical fine particles used are appropriately selected according to the thickness of the transparent film to be formed, and are in the range of 2/3 to 1/10 of the film thickness of the transparent film such as the low refractive index layer to be formed. Is desirable. These hollow spherical fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.
複合粒子の被覆層の厚さ又は空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。 The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use a silicate monomer or oligomer having a low polymerization degree, which is a coating liquid component described later. The inside of the composite particles may enter and the internal porosity may decrease, and the low refractive index effect may not be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. .
複合粒子の被覆層又は空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等との一種又は二種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. Moreover, components other than silica may be contained, and specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3. , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 and WO 3. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, a pore volume is small and particles having a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a material having a lower refractive index. is there.
このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。 The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.
なお、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。 In addition, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Examples of the porous substance include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.
このような中空球状微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から中空球状微粒子は製造される。 As a method for producing such hollow spherical fine particles, for example, the method for preparing complex oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, hollow spherical fine particles are produced from the following first to third steps.
第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、又は、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.
シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウム又は有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。なお、アンモニウムのケイ酸塩又は有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。 As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound, or the like to a silicate solution.
また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、W等から選ばれる元素のオキソ酸、当該オキソ酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。 In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium And salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.
これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO2、Al2O3、TiO2又はZrO2等の無機酸化物又はこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。更に前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整した後、当該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. Can do. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When using the seed particle dispersion, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or more, and then the aqueous solution of the compound is added to the alkaline aqueous solution with stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. When seed particles are used in this way, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.
上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、又は、シード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。 The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.
第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOX)に換算し、MOX/SiO2のモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MOX/SiO2のモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of silica and an inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to an oxide (MO X ), and the molar ratio of MO X / SiO 2 is 0.05 to 2.0, Preferably it is in the range of 0.2-2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing the hollow particles, the molar ratio of MO X / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.
第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、又は、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.
なお、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。 The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded through oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.
また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液又は加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。なおシリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。 In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, fluorine-substituted, obtained by dealkalizing an alkali metal salt of silica into the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. It is preferable to add a silicic acid solution containing an alkyl group-containing silane compound or a hydrolyzable organosilicon compound to form a silica protective film. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.
このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することができる。なお、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。 By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. Can do. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.
また、空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、当該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、当該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。 Further, when preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor comprising a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid, and the hollow particles When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.
上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR′)4−n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2又は3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica protective film formed of the general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, such as acrylic group An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as fluorine-substituted tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリ又は酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。 As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.
多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、又は有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。なお、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。 When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or the ratio of water to the organic solvent is high, it is possible to form a silica protective film using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.
第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物又はケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物又はケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third step: Formation of silica coating layer In the third step, the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor dispersion) contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound. By adding a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution, the surface of the particles is coated with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.
シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RnSi(OR′)4−n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2又は3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica coating layer formed, the above-mentioned such general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group such as an acryl group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリ又は酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。 As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilanes, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.
多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、又は有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。 When the dispersion medium of the porous particles (cavity particle precursor in the case of hollow particles) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.
ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。なお、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物又はケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物又はケイ酸液は添加される。 The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. In addition, you may use a silicic acid liquid for the coating layer formation in combination with the said alkoxysilane. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the silica coating layer finally obtained has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor) in a dispersion. When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.
次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体又は多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。 Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of the hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.
このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。 The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.
このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、1.42未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。本発明に用いられる低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.50であることが好ましく、1.35〜1.44であることが更に好ましい。 The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.42. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow. The refractive index of the low refractive index layer used in the present invention is preferably 1.30 to 1.50, and more preferably 1.35 to 1.44.
本発明では市販の上記SiO2微粒子を用いることができる。市販の粒子の具体例としては、触媒化成工業社製P−4等が挙げられる。 In the present invention, the commercially available SiO 2 fine particles can be used. Specific examples of commercially available particles include P-4 manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd.
外殻層を有し、内部が多孔質又は空洞である中空球状シリカ系微粒子Aの低屈折率層塗布液中の含量(質量)は、10〜80質量%が好ましく、更に好ましくは20〜60質量%である。 The content (mass) of the hollow spherical silica-based fine particles A having an outer shell layer and having a porous or hollow interior in the low refractive index layer coating solution is preferably 10 to 80% by mass, and more preferably 20 to 60% by mass. % By mass.
(テトラアルコキシシラン化合物又はその加水分解物)
本発明に用いられる低屈折率層には、ゾルゲル素材としてテトラアルコキシシラン化合物又はその加水分解物が含有されることが好ましい。
(Tetraalkoxysilane compound or hydrolyzate thereof)
The low refractive index layer used in the present invention preferably contains a tetraalkoxysilane compound or a hydrolyzate thereof as a sol-gel material.
本発明に用いられる低屈折率層用の素材として、前記無機珪素酸化物以外に有機基を有する珪素酸化物を用いることも好ましい。これらは一般にゾルゲル素材と呼ばれるが、金属アルコレート、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。特にテトラアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。 As a material for the low refractive index layer used in the present invention, it is also preferable to use a silicon oxide having an organic group in addition to the inorganic silicon oxide. These are generally called sol-gel materials, but metal alcoholates, organoalkoxy metal compounds and hydrolysates thereof can be used. In particular, alkoxysilane, organoalkoxysilane and its hydrolyzate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilane (phenyltrimethoxysilane, etc.), dialkyl. Examples thereof include dialkoxysilane and diaryl dialkoxysilane. Tetraalkoxysilane and its hydrolyzate are particularly preferable.
また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましい。 In addition, organoalkoxysilanes having various functional groups (vinyl trialkoxysilane, methylvinyl dialkoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrialkoxysilane, γ-glycidyloxypropylmethyl dialkoxysilane, β- (3,4-epoxy) Dicyclohexyl) ethyltrialkoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, etc.), perfluoroalkyl group-containing silane compounds ( For example, it is also preferable to use (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, etc.). In particular, the use of a fluorine-containing silane compound is preferable in terms of lowering the refractive index of the layer and imparting water and oil repellency.
上記テトラアルコキシシランを加水分解する際には、前記無機微粒子を混合することが膜強度を高める上で好ましい。 When hydrolyzing the tetraalkoxysilane, it is preferable to mix the inorganic fine particles in order to increase the film strength.
本発明に用いられる低屈折率層は前記珪素酸化物と下記シランカップリング剤を含むことが好ましい。 The low refractive index layer used in the present invention preferably contains the silicon oxide and the following silane coupling agent.
具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane. Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxy Propyltriethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, Examples include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.
また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。 Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。 Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.
シランカップリング剤の具体例としては、信越化学工業株式会社製KBM−303、KBM−403、KBM−402、KBM−403、KBM−1403、KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503、KBM−603、KBE−603、KBM−903、KBE−903、KBE−9103、KBM−802、KBM−803等が挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent include: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-303, KBM-403, KBM-402, KBM-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE- 503, KBM-603, KBE-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-802, KBM-803 and the like.
二種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。 Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.
カップリング剤による表面処理の具体的方法は、下記に示す。 A specific method of surface treatment with a coupling agent is shown below.
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の珪素酸化物粒子及び有機基を有する珪素酸化物の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えてもよい。 These silane coupling agents are preferably hydrolyzed with a necessary amount of water in advance. When the silane coupling agent is hydrolyzed, the above-described silicon oxide particles and the surface of the silicon oxide having an organic group easily react, and a stronger film is formed. Moreover, you may add the hydrolyzed silane coupling agent in a coating liquid previously.
また、低屈折率層は、5〜50質量%の量のポリマーを含むこともできる。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の10〜30質量%であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、或いは(3)微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ましい。(1)の表面処理剤に結合させるポリマーは、(2)のシェルポリマー又は(3)のバインダーポリマーであることが好ましい。(2)のポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。(3)のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時又は塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記(1)〜(3)のうちの二つ又は全てを組み合わせて実施することが好ましく、(1)と(3)の組み合わせ、又は(1)〜(3)全ての組み合わせで実施することが特に好ましい。(1)表面処理、(2)シェル及び(3)バインダーについて順次説明する。 The low refractive index layer can also contain a polymer in an amount of 5 to 50% by weight. The polymer has a function of adhering fine particles and maintaining the structure of a low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the voids. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) the polymer is bonded to the surface treatment agent of the fine particles, (2) the fine particles are used as a core, and a polymer shell is formed around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder. The polymer to be bonded to the surface treating agent (1) is preferably the shell polymer (2) or the binder polymer (3). The polymer (2) is preferably formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the coating solution for the low refractive index layer. The polymer (3) is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer, and by polymerization reaction simultaneously with or after the coating of the low refractive index layer. It is preferable to carry out by combining two or all of the above (1) to (3), and to carry out by combining (1) and (3) or (1) to (3) all combinations. Particularly preferred. (1) Surface treatment, (2) shell, and (3) binder will be described sequentially.
(1)表面処理
微粒子(特に無機微粒子)には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、又は物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。微粒子がSiO2からなる場合は、前述のシランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施できる。
(1) Surface treatment It is preferable that the fine particles (particularly inorganic fine particles) are subjected to a surface treatment to improve the affinity with the polymer. The surface treatment can be classified into physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out by chemical surface treatment alone or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. When the fine particles are made of SiO 2, the surface treatment with the above-described silane coupling agent can be carried out particularly effectively.
カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、又はこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。 The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the dispersion of fine particles and leaving the dispersion at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.
(2)シェル
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖又は側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーが更に好ましい。ポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸又はポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは35〜80質量%のフッ素原子を含むことが好ましく、45〜75質量%のフッ素原子を含むことが更に好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、フッ素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
(2) Shell The polymer forming the shell is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. A polymer containing a fluorine atom in the main chain or side chain is preferred, and a polymer containing a fluorine atom in the side chain is more preferred. Polyacrylic acid esters or polymethacrylic acid esters are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic acid or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by mass of fluorine atoms, and more preferably contains 45 to 75% by mass of fluorine atoms. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Examples thereof include esters of fluorinated vinyl ethers and fluorine-substituted alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.
シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン(例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート)、スチレン及びその誘導体(例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル(例えば、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例えば、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド及びアクリロニトリルが挙げられる。 The polymer forming the shell may be a copolymer composed of a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit not containing a fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic acid esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (for example, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether), vinyl esters (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (for example, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylic) Amides), methacrylamide and acrylonitrile.
後述する(3)のバインダーポリマーを併用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。但し、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合は、後述する(3)のバインダーポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが5〜90体積%含まれていることが好ましく、15〜80体積%含まれていることが更に好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。 When the binder polymer (3) described later is used in combination, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer to chemically bond the shell polymer and the binder polymer by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, it is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if Tg is higher than the temperature at which the low refractive index layer is formed, the fine particles are not fused, and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (resulting in a decrease in strength). In that case, it is desirable to use a binder polymer (3) described later in combination, and form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain 5 to 90% by volume of a core composed of inorganic fine particles, and more preferably 15 to 80% by volume. Two or more kinds of core-shell fine particles may be used in combination. Further, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.
(3)バインダー
バインダーポリマーは、飽和炭化水素又はポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例えば、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例えば、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミドが挙げられる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わり又はそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、架橋基は、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダーポリマーの重合反応及び架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン及び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが挙げられる。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例としては、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン及びp−クロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド類の例としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。
(3) Binder The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives For example, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylene bisacrylamide) and methacrylamide Can be mentioned. The polymer having a polyether as the main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by the reaction of a crosslinkable group. Examples of crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine groups, carboxyl groups, methylol groups, and active methylene groups. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. The cross-linking group is not limited to the above compound, and may be one that exhibits reactivity as a result of decomposition of the functional group. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the binder polymer, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator is used, and the photopolymerization initiator is more preferable. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時又は塗布後に重合反応(必要ならば更に架橋反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー(例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂)を添加してもよい。 The binder polymer is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer, and at the same time as or after the coating of the low refractive index layer, by a polymerization reaction (further crosslinking reaction if necessary). Even if a small amount of polymer (for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) is added to the coating solution for the low refractive index layer Good.
また、本発明に用いられる低屈折率層が、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう。)の架橋からなる低屈折率層であってもよい。 Further, even if the low refractive index layer used in the present invention is a low refractive index layer formed by crosslinking a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter also referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”). Good.
架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることができる。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう一つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入できることが、特開平10−25388号公報及び同10−147739号公報に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の組み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光(好ましくは紫外線、電子ビーム等)の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。 Preferred examples of the fluorine-containing resin before crosslinking include a fluorine-containing copolymer formed from a fluorine-containing vinyl monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group. Specific examples of the fluorine-containing vinyl monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3 -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Is mentioned. As monomers for imparting a crosslinkable group, glycidyl methacrylate, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyl glycidyl ether, and other vinyl monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule. , Vinyl monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl) Ether, etc.). In the latter case, it is possible to introduce a crosslinked structure by adding a compound having a group that reacts with a functional group in the polymer and one or more reactive groups after copolymerization. -147739. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene group. When the fluorine-containing copolymer is crosslinked by heating with a crosslinking group that reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, it is a thermosetting type. In the case of crosslinking by irradiation with light (preferably ultraviolet rays, electron beams, etc.) by a combination of an ethylenically unsaturated group and a photo radical generator, or an epoxy group and a photo acid generator, the ionizing radiation curable type is used.
また、上記モノマーに加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば、末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。 In addition to the above monomers, a fluorine-containing copolymer formed by using a monomer other than the fluorine-containing vinyl monomer and the monomer for imparting a crosslinkable group may be used as the fluorine-containing resin before crosslinking. The monomer that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) Etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Ronitoriru derivatives and the like. Moreover, it is also preferable to introduce a polyorganosiloxane skeleton or a perfluoropolyether skeleton into the fluorinated copolymer in order to impart slipperiness and antifouling properties. For example, polyorganosiloxane or perfluoropolyether having an acrylic group, methacrylic group, vinyl ether group, styryl group or the like at the terminal is polymerized with the above monomer, and polyorganosiloxane or perfluoro having a radical generating group at the terminal. It can be obtained by polymerization of the above monomer with a polyether, reaction of a polyorganosiloxane or perfluoropolyether having a functional group with a fluorine-containing copolymer, or the like.
架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合については、含フッ素ビニルモノマーは、好ましくは20〜70モル%、より好ましくは40〜70モル%の割合である。架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは、1〜20モル%、より好ましくは5〜20モル%の割合である。さらに、併用されるその他のモノマーが好ましくは10〜70モル%、より好ましくは10〜50モル%の割合である。 About the usage-amount of each said monomer used in order to form the fluorine-containing copolymer before bridge | crosslinking, a fluorine-containing vinyl monomer becomes like this. Preferably it is 20-70 mol%, More preferably, it is a ratio of 40-70 mol%. . The monomer for imparting a crosslinkable group is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%. Furthermore, the other monomer used together is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.
含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることができる。 The fluorine-containing copolymer can be obtained by polymerizing these monomers in the presence of a radical polymerization initiator by means such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization.
架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することができる。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ(旭硝子製)、テフロン(登録商標)AF(デュポン製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭硝子製)、オプスター(JSR製)等が挙げられる。 The fluorine-containing resin before crosslinking is commercially available and can be used. Examples of commercially available fluorine-containing resins before cross-linking include Cytop (Asahi Glass), Teflon (registered trademark) AF (DuPont), polyvinylidene fluoride, Lumiflon (Asahi Glass), Opstar (JSR), etc. Can be mentioned.
架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は、動摩擦係数が0.03〜0.15の範囲、水に対する接触角が90〜120度の範囲にあることが好ましい。 The low refractive index layer containing a cross-linked fluororesin as a constituent component preferably has a dynamic friction coefficient in the range of 0.03 to 0.15 and a contact angle with water in the range of 90 to 120 degrees.
本発明に用いられる低屈折率層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号)により、塗布により形成することができる。また、二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許2,761,791号、同2,941,898号、同3,508,947号、同3,526,528号及び原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。 The low refractive index layer used in the present invention is applied by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating or extrusion coating (US Pat. No. 2,681,294). Can be formed. Two or more layers may be applied simultaneously. For the method of simultaneous application, US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, It is described in Asakura Shoten (1973).
本発明に用いられる低屈折率層の膜厚は50〜200nmであることが好ましく、60〜150nmであることがより好ましい。 The film thickness of the low refractive index layer used in the present invention is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 60 to 150 nm.
〈高屈折率層及び中屈折率層〉
本発明においては、反射率の低減のために、ハードコート層と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることが好ましい。又はドコート層と高屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、更に好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜100nmであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
<High refractive index layer and medium refractive index layer>
In the present invention, it is preferable to provide a high refractive index layer between the hard coat layer and the low refractive index layer in order to reduce the reflectance. Alternatively, it is more preferable to provide a middle refractive index layer between the docoat layer and the high refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The thickness of the high refractive index layer and the middle refractive index layer is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 100 nm. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher, with a pencil hardness of 1 kg.
本発明に用いられる中、高屈折率層は下記一般式(9)で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率1.55〜2.5の層であることが好ましい。 The refractive index formed by applying and drying a coating solution containing a monomer, oligomer or hydrolyzate of an organotitanium compound represented by the following general formula (9) in the high refractive index layer used in the present invention. A layer having a rate of 1.55 to 2.5 is preferred.
一般式(9):Ti(OR1)4
式中、R1としては炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ti−O−Ti−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。
General formula (9): Ti (OR 1 ) 4
In the formula, R 1 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. Moreover, the monomer, oligomer, or hydrolyzate thereof of an organic titanium compound reacts like -Ti-O-Ti- when an alkoxide group is hydrolyzed to form a crosslinked structure, thereby forming a cured layer.
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ti(OCH3)4、Ti(OC2H5)4、Ti(O−n−C3H7)4、Ti(O−i−C3H7)4、Ti(O−n−C4H9)4、Ti(O−n−C3H7)4の2〜10量体、Ti(O−i−C3H7)4の2〜10量体、Ti(O−n−C4H9)4の2〜10量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、又は二種以上組み合わせて用いることができる。中でもTi(O−n−C3H7)4、Ti(O−i−C3H7)4、Ti(O−n−C4H9)4、Ti(O−n−C3H7)4の2〜10量体、Ti(O−n−C4H9)4の2〜10量体が特に好ましい。 Examples of the monomer or oligomer of the organic titanium compound used in the present invention include Ti (OCH 3 ) 4 , Ti (OC 2 H 5 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 , and Ti (Oi−). C 3 H 7 ) 4 , Ti (On-C 4 H 9 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 dimer to 10-mer, Ti (Oi-C 3 H 7 ) Preferred examples include 4 to 10 mer of 4 and 2 to 10 mer of Ti (On-C 4 H 9 ) 4 . These can be used alone or in combination of two or more. Of these Ti (O-n-C 3 H 7) 4, Ti (O-i-C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7 ) 4 2-10 mer, 2-10 mer Ti (O-n-C 4 H 9) 4 are particularly preferred.
本発明に用いられる中、高屈折率層用塗布液は、水と後述する有機溶媒が順次添加された溶液中に上記有機チタン化合物を添加することが好ましい。水を後から添加した場合は、加水分解/重合が均一に進行せず、白濁が発生したり、膜強度が低下する。水と有機溶媒は添加された後、良く混合させるために攪拌し混合溶解されていることが好ましい。 Among the coating solutions for the high refractive index layer used in the present invention, it is preferable to add the organic titanium compound to a solution in which water and an organic solvent described later are sequentially added. When water is added later, hydrolysis / polymerization does not proceed uniformly, and white turbidity occurs or film strength decreases. After the water and the organic solvent are added, it is preferable that they are stirred and mixed and dissolved in order to mix well.
また、別法として有機チタン化合物と有機溶媒を混合させておき、この混合溶液を、上記水と有機溶媒の混合攪拌された溶液中に添加することも好ましい態様である。 Further, as another method, it is also a preferred embodiment that an organic titanium compound and an organic solvent are mixed and this mixed solution is added to the mixed and stirred solution of water and the organic solvent.
また、水の量は、加水分解、重合の進行等の観点から、有機チタン化合物1モルに対して、0.25〜3モルの範囲であることが好ましい。従って、水の量は上記範囲で調整する必要がある。 Moreover, it is preferable that the quantity of water is the range of 0.25-3 mol with respect to 1 mol of organic titanium compounds from viewpoints, such as a hydrolysis and progress of superposition | polymerization. Therefore, the amount of water needs to be adjusted within the above range.
また、水の含有率は、塗布液の経時安定性の観点から、塗布液総量に対して10質量%未満であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the content rate of water is less than 10 mass% with respect to the coating liquid total amount from a viewpoint of the temporal stability of a coating liquid.
本発明に用いられる有機溶媒としては、水混和性の有機溶媒であることが好ましい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。これらの有機溶媒の使用量は、前述したように、水の含有率が塗布液総量に対して10質量%未満であるように、水と有機溶媒のトータルの使用量を調整すればよい。 The organic solvent used in the present invention is preferably a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), many Monohydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyvalent Alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether) , Ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono Phenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (eg, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine) , Triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), heterocyclic rings (For example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.), sulfones (for example, , Sulfolane and the like), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable. The amount of these organic solvents used may be adjusted as described above so that the water content is less than 10% by mass with respect to the total amount of the coating solution.
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の50〜98質量%を占めていることが望ましい。固形分比率は50〜90質量%がより好ましく、55〜90質量%が更に好ましい。この他、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー(予め有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの)或いは酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。 The organic titanium compound monomer, oligomer or hydrolyzate thereof used in the present invention preferably accounts for 50 to 98% by mass in the solid content contained in the coating solution. The solid content ratio is more preferably 50 to 90% by mass, and further preferably 55 to 90% by mass. In addition, it is also preferable to add to the coating composition a polymer of an organic titanium compound (a product obtained by crosslinking the organic titanium compound in advance by hydrolysis) or titanium oxide fine particles.
本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、微粒子として金属酸化物粒子を含み、更にバインダーポリマーを含むことが好ましい。 The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably contain metal oxide particles as fine particles, and further contain a binder polymer.
上記塗布液調製法で加水分解/重合した有機チタン化合物と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解/重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子のもつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることができる。 When the organic titanium compound hydrolyzed / polymerized by the coating liquid preparation method and the metal oxide particles are combined, the metal oxide particles and the hydrolyzed / polymerized organic titanium compound are firmly bonded, and the hardness and uniform film of the particles It is possible to obtain a strong coating film having both flexibility.
高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。金属酸化物粒子の1次粒子の重量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の重量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The metal oxide particles used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, and more preferably 1.90 to 2.80. The weight average diameter of the primary particles of the metal oxide particles is preferably 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The weight average diameter of the metal oxide particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 80 nm. Most preferred. The average particle diameter of the metal oxide particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more, and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of metal oxide particles, as measured values by the BET method is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, with 30 to 150 m 2 / g Most preferably it is.
金属酸化物粒子の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びS等が挙げられる。 Examples of the metal oxide particles include at least one selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S. Specific examples of the metal oxide include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide. Of these, titanium oxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The metal oxide particles are mainly composed of oxides of these metals and can further contain other elements. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.
金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物又は有機化合物を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、前記シランカップリング剤が最も好ましい。 The metal oxide particles are preferably surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Among these, the silane coupling agent is most preferable.
二種類以上のカップリング剤を併用してもよく、前記シランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。 Two or more types of coupling agents may be used in combination, and in addition to the silane coupling agent, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.
カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、又はこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。 The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the dispersion of fine particles and leaving the dispersion at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の有機チタン化合物及び金属酸化物粒子の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えることも好ましい。この加水分解に用いた水も有機チタン化合物の加水分解/重合に用いることができる。 These silane coupling agents are preferably hydrolyzed with a necessary amount of water in advance. When the silane coupling agent is hydrolyzed, the surfaces of the organic titanium compound and the metal oxide particles described above are easy to react and a stronger film is formed. It is also preferable to add a hydrolyzed silane coupling agent to the coating solution in advance. The water used for this hydrolysis can also be used for the hydrolysis / polymerization of the organic titanium compound.
本発明では二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。二種類以上の金属酸化物粒子を高屈折率層及び中屈折率層に併用してもよい。 In this invention, you may process by combining 2 or more types of surface treatment. The shape of the metal oxide particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape. Two or more kinds of metal oxide particles may be used in combination in the high refractive index layer and the middle refractive index layer.
高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化物粒子の割合は、5〜65体積%であることが好ましく、より好ましくは10〜60体積%であり、更に好ましくは20〜55体積%である。 The ratio of the metal oxide particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 to 65% by volume, more preferably 10 to 60% by volume, and still more preferably 20 to 55% by volume. is there.
上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。 The metal oxide particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.
また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。 The metal oxide particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、架橋構造を有するポリマー(以下、架橋ポリマーともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー(以下、「ポリオレフィン」と総称する。)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーがアニオン性基を有することは更に好ましい。アニオン性基は無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造はポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。 The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably use a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as a crosslinked polymer) as a binder polymer. Examples of crosslinked polymers include polymers having saturated hydrocarbon chains such as polyolefin (hereinafter collectively referred to as “polyolefins”), crosslinked products such as polyethers, polyureas, polyurethanes, polyesters, polyamines, polyamides, and melamine resins. . Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred. Further, it is further preferable that the crosslinked polymer has an anionic group. The anionic group has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked structure has a function of imparting a film forming ability to the polymer and strengthening the film. The anionic group may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded to the polymer chain via a linking group, but is bonded to the main chain as a side chain via the linking group. Is preferred.
アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)及びリン酸基(ホスホノ)が挙げられる。中でも、スルホン酸基及びリン酸基が好ましい。ここで、アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。アニオン性基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。好ましいバインダーポリマーである架橋ポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。この場合、コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好ましく、4〜94質量%であることが更に好ましく、6〜92質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。 Examples of the anionic group include a carboxylic acid group (carboxyl), a sulfonic acid group (sulfo), and a phosphoric acid group (phosphono). Of these, sulfonic acid groups and phosphoric acid groups are preferred. Here, the anionic group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the anionic group is preferably an alkali metal ion. Moreover, the proton of the anionic group may be dissociated. The linking group that binds the anionic group and the polymer chain is preferably a divalent group selected from —CO—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. The crosslinked polymer which is a preferable binder polymer is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked structure. In this case, the ratio of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96% by mass, more preferably 4 to 94% by mass, and most preferably 6 to 92% by mass. preferable. The repeating unit may have two or more anionic groups.
アニオン性基を有する架橋ポリマーには、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造も有しない繰り返し単位)が含まれていてもよい。その他の繰り返し単位としては、アミノ基又は4級アンモニウム基を有する繰り返し単位及びベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基又は4級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈折率を高くする機能を有する。なお、アミノ基、4級アンモニウム基及びベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位或いは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。 The crosslinked polymer having an anionic group may contain other repeating units (a repeating unit having neither an anionic group nor a crosslinked structure). Other repeating units are preferably a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group and a repeating unit having a benzene ring. The amino group or the quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic fine particles, like the anionic group. The benzene ring has a function of increasing the refractive index of the high refractive index layer. The amino group, the quaternary ammonium group, and the benzene ring can obtain the same effect even if they are contained in a repeating unit having an anionic group or a repeating unit having a crosslinked structure.
上記アミノ基又は4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を構成単位として含有する架橋ポリマーにおいて、アミノ基又は4級アンモニウム基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、或いは連結基を介し側鎖としてポリマー鎖に結合していてもよいが、後者がより好ましい。アミノ基又は4級アンモニウム基は、2級アミノ基、3級アミノ基又は4級アンモニウム基であることが好ましく、3級アミノ基又は4級アンモニウム基であることが更に好ましい。2級アミノ基、3級アミノ基又は4級アンモニウム基の窒素原子に結合している基としては、アルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜12のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。4級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基又は4級アンモニウム基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる2価の基であることが好ましい。架橋ポリマーが、アミノ基又は4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、0.06〜32質量%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることが更に好ましく、0.1〜28質量%であることが最も好ましい。 In the crosslinked polymer containing a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group as a constituent unit, the amino group or quaternary ammonium group may be directly bonded to the polymer chain, or may be a side chain via a linking group. May be bonded to the polymer chain, but the latter is more preferred. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, and more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, still more preferably a carbon number. 1 to 6 alkyl groups. The counter ion of the quaternary ammonium group is preferably a halide ion. The linking group that connects the amino group or quaternary ammonium group to the polymer chain is a divalent group selected from —CO—, —NH—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. Is preferred. When the crosslinked polymer includes a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the ratio is preferably 0.06 to 32% by mass, more preferably 0.08 to 30% by mass, Most preferably, it is 0.1-28 mass%.
架橋ポリマーは、架橋ポリマーを生成するためのモノマーを配合して高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布液を調製し、塗布液の塗布と同時又は塗布後に、重合反応によって生成させることが好ましい。架橋ポリマーの生成と共に、各層が形成される。アニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒子の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノマーは、無機微粒子に対して、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは5〜40質量%、更に好ましくは10〜30質量%使用される。また、アミノ基又は4級アンモニウム基を有するモノマーは、塗布液中で分散助剤として機能する。アミノ基又は4級アンモニウム基を有するモノマーは、アニオン性基を有するモノマーに対して、好ましくは3〜33質量%使用される。塗布液の塗布と同時又は塗布後に、重合反応によって架橋ポリマーを生成する方法により、塗布液の塗布前にこれらのモノマーを有効に機能させることができる。 The cross-linked polymer is prepared by a polymerization reaction at the same time as or after application of the coating solution by preparing a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer by blending a monomer for generating a crosslinked polymer. Is preferred. Each layer is formed with the production of the crosslinked polymer. The monomer having an anionic group functions as a dispersant for inorganic fine particles in the coating solution. The monomer having an anionic group is preferably used in an amount of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 10 to 30% by mass with respect to the inorganic fine particles. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group functions as a dispersion aid in the coating solution. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group is preferably used in an amount of 3 to 33% by mass based on the monomer having an anionic group. These monomers can be made to function effectively before application of the coating liquid by a method of forming a crosslinked polymer by polymerization reaction simultaneously with or after application of the coating liquid.
本発明に用いられるモノマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが最も好ましいが、その例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミド等が挙げられる。アニオン性基を有するモノマー、及びアミノ基又は4級アンモニウム基を有するモノマーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いられる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、KAYAMARPM−21、PM−2(日本化薬(株)製)、AntoxMS−60、MS−2N、MS−NH4(日本乳化剤(株)製)、アロニックスM−5000、M−6000、M−8000シリーズ(東亞合成(株)製)、ビスコート#2000シリーズ(大阪有機化学工業(株)製)、ニューフロンティアGX−8289(第一工業製薬(株)製)、NKエステルCB−1、A−SA(新中村化学工業(株)製)、AR−100、MR−100、MR−200(第八化学工業(株)製)等が挙げられる。また、好ましく用いられる市販のアミノ基又は4級アンモニウム基を有するモノマーとしてはDMAA(大阪有機化学工業(株)製)、DMAEA,DMAPAA(興人(株)製)、ブレンマーQA(日本油脂(株)製)、ニューフロンティアC−1615(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。 As the monomer used in the present invention, a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups is most preferable, and examples thereof include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di ( (Meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester Terpolyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (E.g., methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Commercially available monomers may be used as the monomer having an anionic group and the monomer having an amino group or a quaternary ammonium group. As a commercially available monomer having a commercially available anionic group, KAYAMAPMPM-21, PM-2 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Antox MS-60, MS-2N, MS-NH4 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) , Aronix M-5000, M-6000, M-8000 series (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Biscote # 2000 series (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), New Frontier GX-8289 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) ) Ester, NK ester CB-1, A-SA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AR-100, MR-100, MR-200 (manufactured by Eighth Chemical Industry Co., Ltd.) and the like. Examples of commercially available monomers having a commercially available amino group or quaternary ammonium group include DMAA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), DMAEA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.), and Bremer QA (Nippon Yushi Co., Ltd.). ) And New Frontier C-1615 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
ポリマーの重合反応は、光重合反応又は熱重合反応を用いることができる。特に光重合反応が好ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ましい。例えば、防眩性ハードコート層のバインダーポリマーを形成するために用いられる後述する熱重合開始剤、及び光重合開始剤が挙げられる。 For the polymerization reaction of the polymer, a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. A photopolymerization reaction is particularly preferable. A polymerization initiator is preferably used for the polymerization reaction. For example, the thermal polymerization initiator mentioned later used in order to form the binder polymer of an anti-glare hard-coat layer, and a photoinitiator are mentioned.
重合開始剤として市販の重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の0.2〜10質量%の範囲であることが好ましい。塗布液(モノマーを含む無機微粒子の分散液)を加熱して、モノマー(又はオリゴマー)の重合を促進してもよい。また、塗布後の光重合反応の後に加熱して、形成されたポリマーの熱硬化反応を追加処理してもよい。 A commercially available polymerization initiator may be used as the polymerization initiator. In addition to the polymerization initiator, a polymerization accelerator may be used. The addition amount of the polymerization initiator and the polymerization accelerator is preferably in the range of 0.2 to 10% by mass of the total amount of monomers. The coating liquid (dispersion of inorganic fine particles containing monomer) may be heated to promote polymerization of the monomer (or oligomer). Moreover, it may heat after the photopolymerization reaction after application | coating, and may additionally process the thermosetting reaction of the formed polymer.
中屈折率層及び高屈折率層には、比較的屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率が高いポリマーの例としては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状(脂環式又は芳香族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが挙げられる。その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高く用いることができる。 For the medium refractive index layer and the high refractive index layer, it is preferable to use a polymer having a relatively high refractive index. Examples of the polymer having a high refractive index include polystyrene, styrene copolymer, polycarbonate, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, and polyurethane obtained by reaction of cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanate and polyol. . Polymers having other cyclic (aromatic, heterocyclic, and alicyclic) groups and polymers having halogen atoms other than fluorine as substituents can also be used with a high refractive index.
反射防止層の各層又はその塗布液には、前述した成分(金属酸化物粒子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤)以外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与剤を添加してもよい。 In addition to the above-described components (metal oxide particles, polymer, dispersion medium, polymerization initiator, polymerization accelerator), each layer of the antireflection layer or coating liquid thereof includes a polymerization inhibitor, a leveling agent, a thickener, and an anti-coloring agent. An agent, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, an antistatic agent or an adhesion promoter may be added.
本発明に用いられる中〜高屈折率層及び低屈折率層の塗設後、金属アルコキシドを含む組成物の加水分解又は硬化を促進するため、活性エネルギー線を照射することが好ましい。より好ましくは、各層を塗設するごとに活性エネルギー線を照射することである。 In order to promote hydrolysis or hardening of the composition containing a metal alkoxide after coating of the medium to high refractive index layer and the low refractive index layer used in the present invention, it is preferable to irradiate active energy rays. More preferably, the active energy ray is irradiated every time each layer is coated.
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10,000mJ/cm2が好ましく、更に好ましくは、100〜2,000mJ/cm2であり、特に好ましくは、400〜2,000mJ/cm2である。 The active energy ray used in the present invention can be used without limitation as long as it is an energy source that activates a compound such as ultraviolet ray, electron beam, and γ ray, but ultraviolet ray and electron beam are preferable, and handling is particularly simple and high energy. Ultraviolet rays are preferred because they can be easily obtained. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is preferably 20 to 10,000 mJ / cm 2 , more preferably 100 to 2,000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 400 to 2,000 mJ / cm 2. 2 .
紫外線を用いる場合、多層の反射防止層を1層ずつ照射してもよいし、積層後照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。 When ultraviolet rays are used, the multilayer antireflection layer may be irradiated one by one, or may be irradiated after lamination. From the viewpoint of productivity, it is preferable to irradiate ultraviolet rays after laminating multiple layers.
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。 Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.
(反射防止層の膜厚)
反射防止層を構成する各屈折率層の膜厚としては、各々1〜200nmの範囲が好ましく、更に好ましくは、5〜150nmであるが、各層の屈折率に応じて、各々適切な膜厚を選択することが好ましい。
(Antireflection layer thickness)
The thickness of each refractive index layer constituting the antireflection layer is preferably in the range of 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, but each film has an appropriate thickness depending on the refractive index of each layer. It is preferable to select.
(反射防止層の反射率)
本発明に用いられる反射防止層は、450〜650nmにおける平均反射率が1%以下であることが好ましく、特に好ましくは0.5%以下である。また、この範囲における最低反射率は0.0〜0.3%にあることが特に好ましい。
(Reflectivity of antireflection layer)
The antireflection layer used in the present invention preferably has an average reflectance at 450 to 650 nm of 1% or less, particularly preferably 0.5% or less. Further, the minimum reflectance in this range is particularly preferably from 0.0 to 0.3%.
反射防止層の屈折率と膜厚は、分光反射率の測定より計算して算出することができる。また、作製した低反射フィルムの反射光学特性は、分光光度計を用い、5度正反射の条件にて反射率を測定することができる。この測定法において、反射防止層が塗布されていない側の基板面を粗面化した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率が測定される。 The refractive index and film thickness of the antireflection layer can be calculated and calculated by measuring the spectral reflectance. Moreover, the reflective optical characteristic of the produced low reflection film can measure a reflectance on the conditions of a 5-degree regular reflection using a spectrophotometer. In this measurement method, after roughening the substrate surface on which the antireflection layer is not applied, a light absorption treatment is performed using a black spray to prevent reflection of light on the back surface of the film and reflectivity. Is measured.
測定に際しては、透過率550nmにおける透過率を分光光度計を用いて空気を参照として測定を行う。 In the measurement, the transmittance at a transmittance of 550 nm is measured using a spectrophotometer with reference to air.
<偏光板>
本発明においては、長尺状位相差フィルム(延伸フィルム)を、長尺状の偏光子の少なくとも一方の面に積層して形成される長尺状偏光板とすることが好ましい。
<Polarizing plate>
In the present invention, it is preferable to use a long polarizing plate formed by laminating a long retardation film (stretched film) on at least one surface of a long polarizer.
また、本発明の位相差フィルム(延伸フィルム)は、下記特徴と有するλ/4板であることが好ましい。 The retardation film (stretched film) of the present invention is preferably a λ / 4 plate having the following characteristics.
(λ/4板)
λ/4板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に(又は、円偏光を直線偏光に)変換する機能を有するものをいう。λ/4板は、所定の光の波長(通常、可視光領域)に対して、層の面内の位相差値Roが約1/4となるように設計されている。波長550nmで測定したリターデーション値Ro(550)が100〜160nmの範囲であることが好ましく、120〜150nmであることがより好ましい。
(Λ / 4 plate)
The λ / 4 plate refers to a plate having a function of converting linearly polarized light having a specific wavelength into circularly polarized light (or circularly polarized light into linearly polarized light). The λ / 4 plate is designed such that the in-plane retardation value Ro is about 1/4 with respect to a predetermined wavelength of light (usually in the visible light region). The retardation value Ro (550) measured at a wavelength of 550 nm is preferably in the range of 100 to 160 nm, more preferably 120 to 150 nm.
また、λ/4板は、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の1/4のリターデーションを有する位相差板であることが好ましい。 Further, the λ / 4 plate is preferably a retardation plate having a retardation of approximately ¼ of the wavelength in the visible light wavelength range in order to obtain almost perfect circularly polarized light in the visible light wavelength range. .
「可視光の波長の範囲において概ね1/4のリターデーション」とは、波長400から700nmにおいて長波長ほどリターデーションが大きく、波長450nmで測定した下記式(i)で表されるリターデーション値であるRo(450)と波長590nmで測定したリターデーション値であるRo(590)が、1<Ro(590)/Ro(450)≦1.6を満たすことが好ましい。さらにλ/4板として有効に機能するためには、Ro(450)が100〜125nmの範囲内であり、波長550nmで測定したリターデーション値Ro(550)が125〜142nmの範囲内であり、Ro(590)が130〜152nmの範囲内の位相差フィルムであることがより好ましい。 The term “retardation of approximately ¼ in the wavelength range of visible light” means a retardation value represented by the following formula (i) measured at a wavelength of 450 nm, with a larger retardation at a wavelength of 400 to 700 nm. It is preferable that Ro (590) which is a retardation value measured at a certain Ro (450) and a wavelength of 590 nm satisfies 1 <Ro (590) / Ro (450) ≦ 1.6. Furthermore, in order to function effectively as a λ / 4 plate, Ro (450) is in the range of 100 to 125 nm, the retardation value Ro (550) measured at a wavelength of 550 nm is in the range of 125 to 142 nm, It is more preferable that Ro (590) is a retardation film in the range of 130 to 152 nm.
式(i):Ro=(nx−ny)×d
式(ii):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
式中、nx、nyは、23℃・55%RH、450nm、550nm、590nmの各々における屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。)、ny(フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率)であり、dはフィルムの厚さ(nm)である。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d
Formula (ii): Rt = {(n x + n y ) / 2−n z } × d
Wherein, n x, n y is, 23 ℃ · 55% RH, 450nm, say 550 nm, the maximum of the refractive index in the plane of the refractive index n x (film in each of the 590 nm, also the slow axis direction of the refractive index. ), Ny (refractive index in the direction orthogonal to the slow axis in the film plane), and d is the thickness (nm) of the film.
Ro、Rtは自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で、各波長での複屈折率測定によりRoを算出する。 Ro and Rt can be measured using an automatic birefringence meter. Using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), Ro is calculated by birefringence measurement at each wavelength in an environment of 23 ° C. and 55% RH.
λ/4板の遅相軸と後述する偏光子の透過軸との角度が実質的に45°になるように積層すると円偏光板が得られる。「実質的に45°」とは、40〜50°であることを意味する。λ/4板の面内の遅相軸と偏光子の透過軸との角度は、41〜49°であることが好ましく、42〜48°であることがより好ましく、43〜47°であることが更に好ましく、44〜46°であることが最も好ましい。 A circularly polarizing plate is obtained by laminating so that the angle between the slow axis of the λ / 4 plate and the transmission axis of the polarizer described later is substantially 45 °. “Substantially 45 °” means 40 to 50 °. The angle between the slow axis in the plane of the λ / 4 plate and the transmission axis of the polarizer is preferably 41 to 49 °, more preferably 42 to 48 °, and 43 to 47 °. Is more preferable, and it is most preferable that it is 44-46 degrees.
本発明の偏光板は、偏光子としてヨウ素、又は二色性染料をドープしたポリビニルアルコールを延伸したものを使用し、本発明の位相差フィルム(延伸フィルム)であるλ/4板/偏光子/位相差フィルムの構成で貼合して製造することができる。 The polarizing plate of the present invention uses a stretched polyvinyl alcohol doped with iodine or a dichroic dye as a polarizer, and is a retardation film (stretched film) of the present invention, λ / 4 plate / polarizer / It can be manufactured by bonding with the configuration of a retardation film.
なお、立体映像表示装置である液晶表示装置に本発明の偏光板を使用する場合、上記λ/4板は視認側に貼合する。 In addition, when using the polarizing plate of this invention for the liquid crystal display device which is a stereoscopic video display device, the said (lambda) / 4 board is bonded by the visual recognition side.
前記位相差フィルムは、ポリマーフィルムであることが好ましく、製造が容易であること、光学的に均一性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリビニルアセタール系樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。 The retardation film is preferably a polymer film, preferably manufactured easily, optically uniform, and optically transparent. Any of these may be used, for example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate. Polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin Film, polymethylpentene film, polyetherketone film, Polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, a cycloolefin polymer film, a polyvinyl acetal resin film, there may be mentioned polymethyl methacrylate film, or an acrylic film or the like, but are not limited to.
セルロースエステル系フィルムの場合は、前述の位相差フィルム(延伸フィルム)で用いられるセルロースアセテート、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、リターデーション調整剤、マット剤、劣化防止剤、剥離助剤、界面活性剤等を好ましく用いることができる。 In the case of a cellulose ester film, cellulose acetate, plasticizer, ultraviolet absorber, antioxidant, retardation adjusting agent, matting agent, deterioration inhibitor, peeling aid used in the above-mentioned retardation film (stretched film), A surfactant or the like can be preferably used.
偏光子に対して前記λ/4板を貼合した面と反対側の面に貼合される位相差フィルムは、上記式で定義されるリターデーション値Ro、Rtが各々20〜150nm、70〜400nmである位相差フィルム、又は0nm≦Ro≦2nm、かつ−15nm≦Rt≦15nmであることが好ましい。 Retardation films Ro and Rt defined by the above formula are 20 to 150 nm and 70 to 70 respectively for retardation films bonded to the surface opposite to the surface on which the λ / 4 plate is bonded to the polarizer. It is preferable that the retardation film is 400 nm, or 0 nm ≦ Ro ≦ 2 nm and −15 nm ≦ Rt ≦ 15 nm.
上記位相差フィルムとして、例えば、負の一軸性を有する化合物であるディスコティック液晶性化合物を支持体上に担持させる方法(例えば、特開平7−325221号公報参照。)、正の光学異方性を有するネマティック型高分子液晶性化合物を深さ方向に液晶分子のプレチルト角が変化するハイブリッド配向をさせたものを支持体上に担持させる方法(例えば、特開平10−186356号公報参照。)、正の光学異方性を有するネマティック型液晶性化合物を支持体上に二層構成にして各々の層の配向方向を略90°とすることにより擬似的に負の一軸性類似の光学特性を付与させる方法(例えば、特開平8−15681号公報参照。)等による光学異方性層を支持体上に設けた位相差フィルム、又は、従来のTACフィルムの代わりにセルロース誘導体フィルムを延伸により位相差を発現させ、これをケン化処理してPVA偏光子をラミネートすることにより位相差フィルムの機能を併せ持つ位相差フィルム(例えば、特開2003−270442号公報参照。)、セルロースエステルフィルムにリターデーション調整剤を添加し、位相差フィルムを得る方法(例えば、特開2000−275434号公報及び特開2003−344655号公報参照。)等による光学補償フィルムが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 As the retardation film, for example, a method of supporting a discotic liquid crystalline compound, which is a compound having negative uniaxiality, on a support (for example, see JP-A-7-325221), positive optical anisotropy. A method of supporting a nematic polymer liquid crystal compound having a hybrid orientation in which a pretilt angle of liquid crystal molecules changes in the depth direction on a support (see, for example, JP-A-10-186356), A nematic liquid crystal compound having positive optical anisotropy is formed into a two-layer structure on a support, and the orientation direction of each layer is set to approximately 90 ° to give pseudo-uniaxially similar optical characteristics. In place of a retardation film provided with an optically anisotropic layer on a support or a conventional TAC film (for example, see JP-A-8-15681) A retardation film having a retardation film function by stretching a cellulose derivative film, saponifying the cellulose derivative film, and laminating a PVA polarizer (see, for example, JP-A-2003-270442). In addition, an optical compensation film by a method of adding a retardation adjusting agent to a cellulose ester film to obtain a retardation film (see, for example, JP 2000-275434 A and JP 2003-344655 A) can be mentioned. It is not limited to these.
例えば、市販のセルロースエステルフィルムとして、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC16UR、KC4UE、KC8UE、KC4FR−1、KC4FR−2(以上コニカミノルタオプト(株)製)なども好ましく用いられる。 For example, as a commercially available cellulose ester film, Konica Minoltak KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC4UY, KC12UR, KC16UR, KC4UE, KC4UE, KC4FR, KC4FR-1 And the like) are also preferably used.
偏光子の膜厚は、5〜40μm、好ましくは5〜30μmであり、特に好ましくは5〜20μmである。 The film thickness of the polarizer is 5 to 40 μm, preferably 5 to 30 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm.
偏光板は、一般的な方法で作製することができる。アルカリ鹸化処理した本発明に係る延伸フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には、前記位相差フィルムを貼合することが好ましい。 The polarizing plate can be produced by a general method. The stretched film according to the present invention subjected to alkali saponification treatment is preferably bonded to at least one surface of a polarizer produced by immersing and stretching a polyvinyl alcohol film in an iodine solution by using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. . It is preferable to paste the retardation film on the other surface.
偏光板は、更に当該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。 The polarizing plate can be constructed by further bonding a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the other surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection.
<液晶表示装置>
本発明においては、長尺状位相差フィルム(延伸フィルム)を断栽して形成された枚葉状フィルム、前記長尺状偏光板を断栽して形成された枚葉状偏光板が具備されている態様の液晶表示装置とすることができる。例えば、本発明に係る偏光板を液晶セルの視認側の面に貼合した液晶表示装置とすることによって、本発明の液晶表示装置を作製することができる。
<Liquid crystal display device>
In the present invention, a sheet-like film formed by cutting a long retardation film (stretched film), and a sheet-like polarizing plate formed by cutting the long polarizing plate are provided. It can be set as the liquid crystal display device of an aspect. For example, the liquid crystal display device of the present invention can be produced by using the liquid crystal display device in which the polarizing plate according to the present invention is bonded to the surface on the viewing side of the liquid crystal cell.
本発明に係る偏光板は反射型、透過型、半透過型LCD或いは、スーパーツイステッドネマティック(STN)モード、ツイステッドネマティック(TN)モード、インプレーンスイッチング(IPS)モード、垂直配向(VA)モード、ベンドネマチック(OCB:Optically Aligned Birefringence)モード及びハイブリッド配向(HAN:Hybrid Aligned Nematic)モードの液晶表示装置に好ましく用いられる。 The polarizing plate according to the present invention is a reflective, transmissive, transflective LCD, super twisted nematic (STN) mode, twisted nematic (TN) mode, in-plane switching (IPS) mode, vertical alignment (VA) mode, bend. It is preferably used for a liquid crystal display device in a nematic (OCB: Optically Aligned Birefringence) mode and a hybrid alignment (HAN: Hybrid Aligned Nematic) mode.
本発明においては、特に、当該液晶表示装置は、立体画像表示装置であることが好ましい。すなわち、本発明の位相差フィルム(延伸フィルム)であるλ/4板は、立体画像表示装置において、種々の態様において用いることができる。例えば、液晶表示装置と液晶シャッタメガネとからなる立体画像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、(1)λ/4板、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている(図5)、又は(2)λ/4板、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている(図6)液晶シャッタメガネであることを特徴とする態様の立体画像表示装置において用いることができる。 In the present invention, in particular, the liquid crystal display device is preferably a stereoscopic image display device. That is, the λ / 4 plate which is the retardation film (stretched film) of the present invention can be used in various modes in a stereoscopic image display device. For example, a stereoscopic image display device comprising a liquid crystal display device and liquid crystal shutter glasses, wherein the liquid crystal shutter glasses are provided with (1) a λ / 4 plate, a liquid crystal cell, and a polarizer in this order (FIG. 5). ), Or (2) a λ / 4 plate, a polarizer, a liquid crystal cell, and a polarizer are provided in this order (FIG. 6). Can do.
なお、いずれの態様の場合も、液晶表示装置の前側偏光板は、λ/4板、偏光子、及び位相差フィルム、セル、及び偏光子がこの順に設けられている構成になっている。 In any case, the front polarizing plate of the liquid crystal display device has a configuration in which a λ / 4 plate, a polarizer, a retardation film, a cell, and a polarizer are provided in this order.
本発明においては、上記の態様・構成により、立体(3D)画像観賞時に首を傾けた際のクロストーク若しくは輝度低下及び色味変化を低減でき、使用環境に対して優れた視認性を保つことが可能で、使用環境に対してより耐久性が高い立体画像表示装置とすることができる。 In the present invention, with the above-described aspect and configuration, crosstalk or luminance reduction and color change when tilting the head when viewing a stereoscopic (3D) image can be reduced, and excellent visibility with respect to the use environment can be maintained. Therefore, a stereoscopic image display device with higher durability against the use environment can be obtained.
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
(アクリル系ポリマーの合成)
攪拌機、二個の滴下ロート、ガス導入管及び温度計の付いたガラスフラスコに、メチルメタクリレート28g、N−ビニルピロリドン12g、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸2g及びトルエン30gを仕込み、90℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、メチルメタクリレート42gとN−ビニルピロリドン18gの混合液60gを3時間かけて滴下すると共に、同時にもう一方のロートからトルエン14gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル0.4gを3時間かけて滴下した。その後さらに、トルエン56gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル0.6gを2時間かけて滴下した後、さらに2時間反応を継続させ、ポリマーを得た。得られたポリマーは常温で固体であった。次いで連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸の添加量、アゾビスイソブチロニトリルの添加速度を変更して分子量の異なるポリマーを作製した。当該ポリマーの重量平均分子量は下記測定法により10000であった。
(Synthesis of acrylic polymer)
A glass flask equipped with a stirrer, two dropping funnels, a gas introduction tube and a thermometer was charged with 28 g of methyl methacrylate, 12 g of N-vinylpyrrolidone, 2 g of mercaptopropionic acid as a chain transfer agent and 30 g of toluene, and the temperature was raised to 90 ° C. did. Thereafter, from one dropping funnel, 60 g of a mixed solution of 42 g of methyl methacrylate and 18 g of N-vinylpyrrolidone was dropped over 3 hours, and simultaneously 0.4 g of azobisisobutyronitrile dissolved in 14 g of toluene from the other funnel. Was added dropwise over 3 hours. Thereafter, 0.6 g of azobisisobutyronitrile dissolved in 56 g of toluene was added dropwise over 2 hours, and the reaction was further continued for 2 hours to obtain a polymer. The obtained polymer was solid at room temperature. Next, polymers having different molecular weights were prepared by changing the addition amount of the chain transfer agent mercaptopropionic acid and the addition rate of azobisisobutyronitrile. The weight average molecular weight of the polymer was 10,000 by the following measurement method.
(重量平均分子量)
重合体の重量平均分子量は、前記説明したGPCのポリスチレン換算により求めた。
(Weight average molecular weight)
The weight average molecular weight of the polymer was determined by GPC polystyrene conversion described above.
<製造例1>
<ロール状の長尺状フィルムAの作製>
下記のように、セルロースエステルと各種添加剤を用いて溶融流延によりロール状の長尺状フィルムAを作製した。
<Production Example 1>
<Preparation of roll-like long film A>
As described below, a roll-like long film A was prepared by melt casting using a cellulose ester and various additives.
セルロースエステル(DAC:アセチル基置換度2.4、総置換度2.4;数平均分子量Mn=59,500、重量平均分子量Mw=190,000、Mw/Mn=3.19)
70質量部
上記で作製したアクリル系ポリマー 27.5質量部
IRGANOX−1010(BASFジャパン社製) 0.5質量部
GSY−P101(堺化学工業社製) 0.25質量部
SumilizerGS(住友化学社製) 0.25質量部
TINUVIN928(BASFジャパン社製) 1.5質量部
セルロースエステルを70℃、3時間減圧下で乾燥を行い室温まで冷却した後、添加剤を混合した。以上の混合物を二軸式押出し機を用いて230℃で溶融混合しペレット化した。なお、このペレットのガラス転移温度Tgは135℃であった。
Cellulose ester (DAC: acetyl group substitution degree 2.4, total substitution degree 2.4; number average molecular weight Mn = 59,500, weight average molecular weight Mw = 190,000, Mw / Mn = 3.19)
70 parts by mass Acrylic polymer prepared above 27.5 parts by mass IRGANOX-1010 (manufactured by BASF Japan) 0.5 parts by mass GSY-P101 (manufactured by Sakai Chemical Industry) 0.25 parts by mass Sumilizer GS (manufactured by Sumitomo Chemical ) 0.25 parts by mass TINUVIN 928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 1.5 parts by mass The cellulose ester was dried under reduced pressure at 70 ° C. for 3 hours and cooled to room temperature, and then the additives were mixed. The above mixture was melt-mixed at 230 ° C. using a twin-screw extruder and pelletized. In addition, the glass transition temperature Tg of this pellet was 135 degreeC.
このペレットを用いて窒素雰囲気下、250℃にて溶融して溶融フィルム製造装置における流延ダイから第1冷却ロール上に押し出し、第1冷却ロールとタッチロールとの間にフィルムを挟圧して成形した。また押出し機中間部のホッパー開口部から、滑り剤としてシリカ粒子アエロジル200V(日本アエロジル社製)を、0.5質量部となるよう添加した。 Using this pellet, it is melted at 250 ° C. in a nitrogen atmosphere, extruded from the casting die in the molten film production apparatus onto the first cooling roll, and the film is sandwiched between the first cooling roll and the touch roll to form. did. Further, silica particle Aerosil 200V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was added as a slip agent from the hopper opening in the middle of the extruder so as to be 0.5 parts by mass.
流延ダイのギャップの幅が、フィルムの幅方向端部から30mm以内では、0.5mm、その他の場所では1mmとなるようにヒートボルトを調整した。タッチロールの内部に冷却水として80℃の水を流した。 The heat bolt was adjusted so that the gap width of the casting die was 0.5 mm within 30 mm from the width direction end of the film and 1 mm at other locations. Water at 80 ° C. was allowed to flow as cooling water inside the touch roll.
流延ダイから押し出された樹脂が、第1冷却ロールに接触する位置から第1冷却ロールとタッチロールとのニップの第1冷却ロール回転方向上流端の位置までの、第1冷却ローラの周面に沿った長さを20mmに設定した。その後、タッチロールを第1冷却ロールから離間させ、第1冷却ロールとタッチロールとのニップに挟圧される直前の溶融部の温度を測定した。 The peripheral surface of the first cooling roller from the position where the resin extruded from the casting die contacts the first cooling roll to the upstream end position in the first cooling roll rotation direction of the nip between the first cooling roll and the touch roll The length along was set to 20 mm. Thereafter, the touch roll was separated from the first cooling roll, and the temperature of the melted part immediately before being pressed between the nips of the first cooling roll and the touch roll was measured.
本実施例において、第1冷却ロールとタッチロールとのニップに挟圧される直前の溶融部の温度は、ニップ上流端よりも更に1mm上流側の位置で、温度計(安立計器株式会社製HA−200E)により測定した。 In the present embodiment, the temperature of the melted part immediately before being squeezed by the nip between the first cooling roll and the touch roll is 1 mm upstream from the nip upstream end, and a thermometer (HA manufactured by Anritsu Keiki Co., Ltd.). -200E).
本実施例では測定の結果、温度Tは141℃であった。タッチロールの第1冷却ロールに対する線圧は14.7N/cmとした。更に、テンターに導入し、巾方向に160℃で1.05倍延伸した後、巾方向に3%緩和しながら30℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落とし、フィルム両端に幅10mm、高さ5μmのナーリング加工を施し、巻き取り張力220N/m、テーパー40%で巻芯に巻き取った。 As a result of the measurement in this example, the temperature T was 141 ° C. The linear pressure of the touch roll against the first cooling roll was 14.7 N / cm. Furthermore, after introducing into a tenter and stretching 1.05 times in the width direction at 160 ° C, it was cooled to 30 ° C while relaxing 3% in the width direction, then released from the clip, the clip gripping part was cut off, and both ends of the film Was subjected to a knurling process with a width of 10 mm and a height of 5 μm, and wound on a winding core with a winding tension of 220 N / m and a taper of 40%.
なお、フィルムは、厚さが50μmとなるように、押し出し量及び引き取り速度を調整し、仕上がりのフィルム幅は、2000mm幅になるようにスリットしロール状の長尺状フィルムAを作製した。 In addition, the extrusion amount and the take-up speed were adjusted so that the film had a thickness of 50 μm, and the finished film width was slit so that the finished film width was 2000 mm, thereby producing a roll-like long film A.
得られた長尺状フィルムAの長手方向の厚さムラは0.15μm、幅手方向の厚さムラは0.15μmであった。Roは5nm、Roバラツキは1nm、厚さ方向リターデーションRtは3nmであった。 The obtained long film A had a thickness unevenness in the longitudinal direction of 0.15 μm and a thickness unevenness in the width direction of 0.15 μm. Ro was 5 nm, Ro variation was 1 nm, and thickness direction retardation Rt was 3 nm.
<実施例1>
ロール状の長尺状フィルムAを、図3(a)の装置のスライド可能な繰出装置にセットし、角度θi=60°となるようにレールパターンが設定された斜め延伸機に供給した。そのとき、斜め延伸装置の入口部に最も近いガイドロールの主軸と斜め延伸装置の把持具(クリップつかみ部)との距離を80cmとした。クリップは搬送方向の長さが2インチのものを、上記ガイドロールは直径10cmのものを使用した。斜め延伸テンターで延伸温度145℃、延伸倍率1.5倍で斜め延伸を行い、テンター出口における引取張力200N/m、フィルムFの面内遅相軸方向θが30°となるように斜め方向に延伸を行った。延伸後のフィルムは、斜め延伸テンター出口側第一ロールで測定した張力の変動を引取モーター回転数に反映させるフィードバック制御を行って、引取張力の変動が3%未満となるように制御した。その後、フィルム両端をトリミングして、エアーフローロールからなる搬送方向変更装置で搬送方向を変更し、スライド可能な巻取装置で巻き取り、2000mm幅のロール状の長尺状延伸位相差フィルムF1を得た。
<Example 1>
The roll-like long film A was set in a slidable feeding device of the device of FIG. 3A and supplied to an oblique stretching machine in which a rail pattern was set so that the angle θi = 60 °. At that time, the distance between the main shaft of the guide roll closest to the inlet of the oblique stretching apparatus and the gripping tool (clip gripping part) of the oblique stretching apparatus was 80 cm. A clip with a length of 2 inches in the conveying direction was used, and a guide roll with a diameter of 10 cm was used. Diagonal stretching is performed at a stretching temperature of 145 ° C. and a stretching ratio of 1.5 times with an oblique stretching tenter, and the oblique direction is such that the take-up tension at the tenter outlet is 200 N / m and the in-plane slow axis direction θ of the film F is 30 °. Stretching was performed. The stretched film was controlled so that the fluctuation in the take-up tension was less than 3% by performing feedback control in which the change in the tension measured with the first roll on the outlet side of the obliquely stretched tenter was reflected in the take-up motor rotation speed. Thereafter, both ends of the film are trimmed, the conveyance direction is changed by a conveyance direction changing device composed of an airflow roll, the film is wound by a slidable winding device, and a 2000 mm wide roll-like long stretched retardation film F1 is obtained. Obtained.
なお、加熱及び延伸する際におけるフィルム移動速度は20m/分とした。また、予熱ゾーンの温度を145℃、冷却ゾーンの温度を130℃とした。フィルムを加熱及び延伸する際には、いわゆる「ボーイング現象」を解消するとともに、位相差フィルムの面内遅相軸方向θが30°になるように、最適なレールパターンを組んで延伸を行った。 The film moving speed during heating and stretching was 20 m / min. The temperature of the preheating zone was 145 ° C., and the temperature of the cooling zone was 130 ° C. When heating and stretching the film, the so-called “Boeing phenomenon” was eliminated, and stretching was performed with an optimal rail pattern so that the in-plane slow axis direction θ of the retardation film was 30 °. .
その後、フィルムF1の両端をクリップでつかみながら、173℃、1.1倍の延伸条件で、フィルム面上で搬送方向に対して−90°方向に延伸し、位相差フィルム(延伸フィルム)1を得た。 Then, while holding both ends of the film F1 with clips, the film is stretched in the -90 ° direction with respect to the transport direction on the film surface at 173 ° C. and 1.1 times the stretching condition, and the retardation film (stretched film) 1 is obtained. Obtained.
また、フィルムの幅方向に渡って温度制御をするための加熱装置を使用して延伸を行った。加熱装置は延伸後のフィルム幅方向のフィルムの厚さが、延伸前の幅方向フィルム厚さ分布と同程度になるように温度制御を行った。 Moreover, it extended | stretched using the heating apparatus for temperature control over the width direction of a film. The heating device controlled the temperature so that the thickness of the film in the film width direction after stretching was approximately the same as the thickness direction film thickness distribution before stretching.
得られた長尺状の位相差フィルム(延伸フィルム)1は、フィルム長手方向に対し均一なものであった。得られた位相差フィルム(延伸フィルム)1の光学特性(面内遅相軸方向θs、面内リターデーションRo、厚さ方向リターデーションRt等)を表1に示す。 The obtained long retardation film (stretched film) 1 was uniform in the longitudinal direction of the film. Table 1 shows the optical properties (in-plane slow axis direction θs, in-plane retardation Ro, thickness direction retardation Rt, etc.) of the obtained retardation film (stretched film) 1.
得られた位相差フィルム(延伸フィルム)1の面上に、下記ハードコート層を設け、実施例1のフィルムを作製した。 The following hard coat layer was provided on the surface of the obtained retardation film (stretched film) 1 to produce a film of Example 1.
〈ハードコート層の塗布〉
下記ハードコート層塗布液1をダイコートし、80℃で乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して硬化後の膜厚が6μmになるようにクリアハードコート層を設けた。
<Application of hard coat layer>
The following hard coat layer coating solution 1 was die coated, dried at 80 ° C., and then irradiated with 120 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high pressure mercury lamp to provide a clear hard coat layer so that the film thickness after curing was 6 μm.
(ハードコート層用塗布液1)
エタノール 100質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 100質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、BASFジャパン社製) 5質量部
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノフォリノ−1−オン
(イルガキュア907、BASFジャパン社製) 3質量部
BYK−331(シリコーン界面活性剤、ビックケミー・ジャパン(株)製)
5質量部
得られた実施例1の位相差フィルムは、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が抑えられ、またハードコート層上のスジもなく、良好だった。
(Coating solution 1 for hard coat layer)
Ethanol 100 parts by mass Pentaerythritol triacrylate 100 parts by mass 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan Ltd.) 5 parts by mass 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-monoforino -1-one (Irgacure 907, manufactured by BASF Japan) 3 parts by weight BYK-331 (silicone surfactant, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.)
5 parts by mass As shown in Table 1, the obtained retardation film of Example 1 is excellent in that the Ro fluctuation value in the width direction after the wet heat durability test treatment is suppressed, and there are no streaks on the hard coat layer. It was.
<実施例2>
<製造例2>
製造例1において、セルロースエステルをセルロースアセテートプロピオネート:(CAP:アセチル基置換度1.5、プロピオニル基0.9、総置換度2.4;数平均分子量Mn=57,500、重量平均分子量Mw=190,000、Mw/Mn=3.30)のセルロースアセテートに変更した以外は製造例1と同様にロール状の長尺状フィルムBを得た。
<Example 2>
<Production Example 2>
In Production Example 1, cellulose ester was converted into cellulose acetate propionate: (CAP: acetyl group substitution degree 1.5, propionyl group 0.9, total substitution degree 2.4; number average molecular weight Mn = 57,500, weight average molecular weight. A roll-like long film B was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the cellulose acetate was changed to Mw = 190,000, Mw / Mn = 3.30).
実施例1において、ロール状の長尺状フィルムを長尺状フィルムBに変えた以外は同様にフィルムF2及び位相差フィルム2を作製した。得られた実施例2の位相差フィルム2は、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が抑えられ、またハードコート層上のスジもなく、良好だった。 In Example 1, the film F2 and the retardation film 2 were similarly produced except having changed the roll-like long film into the long film B. As shown in Table 1, the obtained retardation film 2 of Example 2 was excellent in that the fluctuation value of Ro in the width direction after the wet heat durability test treatment was suppressed, and there were no streaks on the hard coat layer.
<実施例3>
<製造例3>
<ロール状の長尺状フィルムCの作製>
(ポリエステルAの作製)
窒素雰囲気下、テレフタル酸ジメチル4.85g、1,2−プロピレングリコール4.4g、p−トルイル酸6.8g、テトライソプロピルチタネート10mgを混合し、140℃で2時間攪拌を行った後、更に210℃で16時間攪拌を行った。次に、170℃まで降温し、未反応物の1,2−プロピレングリコールを減圧留去することにより、比較ポリエステルAを得た。
<Example 3>
<Production Example 3>
<Preparation of roll-like long film C>
(Preparation of polyester A)
In a nitrogen atmosphere, 4.85 g of dimethyl terephthalate, 4.4 g of 1,2-propylene glycol, 6.8 g of p-toluic acid, and 10 mg of tetraisopropyl titanate were mixed and stirred at 140 ° C. for 2 hours. Stirring was carried out at ° C for 16 hours. Next, the temperature was lowered to 170 ° C., and unreacted 1,2-propylene glycol was distilled off under reduced pressure to obtain comparative polyester A.
酸価 :0.1
数平均分子量:490
分散度 :1.4
分子量300〜1800の成分含有率:90%
ヒドロキシル(水酸基)価:0.1
ヒドロキシル基(水酸基)含有量:0.04%
ポリエステルAはジカルボン酸に対してモノカルボン酸が2倍モル使用されているので末端がトルイル酸エステルになっている。
Acid value: 0.1
Number average molecular weight: 490
Dispersity: 1.4
Component content of molecular weight 300-1800: 90%
Hydroxyl (hydroxyl) value: 0.1
Hydroxyl group (hydroxyl group) content: 0.04%
Polyester A has a terminal toluic acid ester because the monocarboxylic acid is used in an amount twice as much as that of the dicarboxylic acid.
〈微粒子分散液1〉
微粒子(アエロジル R812 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
<Fine particle dispersion 1>
Fine particles (Aerosil R812 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 11 parts by weight Ethanol 89 parts by weight The above was stirred and mixed with a dissolver for 50 minutes, and then dispersed with Manton Gorin.
〈微粒子添加液1〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。
<Fine particle addition liquid 1>
The fine particle dispersion 1 was slowly added to the dissolution tank containing methylene chloride with sufficient stirring. Further, the particles were dispersed by an attritor so that the secondary particles had a predetermined particle size. This was filtered through Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle additive solution 1.
メチレンクロライド 99質量部
微粒子分散液1 5質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステル、糖エステル化合物、ポリエステルA、TINUVIN928、微粒子添加液1を攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
Methylene chloride 99 parts by mass Fine particle dispersion 1 5 parts by mass A main dope solution having the following composition was prepared. First, methylene chloride and ethanol were added to the pressure dissolution tank. Cellulose ester, sugar ester compound, polyester A, TINUVIN 928, and fine particle additive solution 1 were charged into a pressure dissolution tank containing a solvent while stirring. This is completely dissolved with heating and stirring. This was designated as Azumi Filter Paper No. The main dope solution was prepared by filtration using 244.
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルロースエステル(DAC:アセチル基置換度2.4、総置換度2.4;数平均分子量Mn=59,500、重量平均分子量Mw=190,000、Mw/Mn=3.19)
100質量部
糖エステル化合物(化2;1−22) 7.0質量部
ポリエステルA 2.5質量部
TINUVIN928(BASFジャパン社製) 1.5質量部
微粒子添加液1 1質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度33℃、2000mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30℃に制御した。
<Composition of main dope solution>
Methylene chloride 340 parts by mass Ethanol 64 parts by mass Cellulose ester (DAC: acetyl group substitution degree 2.4, total substitution degree 2.4; number average molecular weight Mn = 59,500, weight average molecular weight Mw = 190,000, Mw / Mn = 3.19)
100 parts by mass Sugar ester compound (Chemical Formula 2; 1-22) 7.0 parts by mass Polyester A 2.5 parts by mass TINUVIN 928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 1.5 parts by mass Fine particle additive solution 1 1 part by mass The dope solution was prepared by charging and dissolving with stirring. Next, an endless belt casting apparatus was used to uniformly cast the dope solution on a stainless steel belt support at a temperature of 33 ° C. and a width of 2000 mm. The temperature of the stainless steel belt was controlled at 30 ° C.
ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)したフィルム中の残留溶媒量が75%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力110N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。 On the stainless steel belt support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount in the cast (cast) film became 75%, and then peeled off from the stainless steel belt support with a peeling tension of 110 N / m.
剥離したセルロースエステルフィルムを、160℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に5%延伸した。延伸開始時の残留溶媒は15%であった。 The peeled cellulose ester film was stretched 5% in the width direction using a tenter while applying heat at 160 ° C. The residual solvent at the start of stretching was 15%.
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は130℃で、搬送張力は100N/mとした。 Next, drying was terminated while the drying zone was conveyed by a number of rolls. The drying temperature was 130 ° C. and the transport tension was 100 N / m.
以上のようにして、乾燥膜厚75μmのロール状の長尺状フィルムCを得た。 As described above, a roll-like long film C having a dry film thickness of 75 μm was obtained.
得られた長尺状フィルムCの長手方向の厚さムラは0.15μm、幅手方向の厚さムラは0.15μmであった。面内リターデーションは前述の方法で測定したところ、Roは10nm、Roバラツキは1nm、Rt(550)は120nmであった。フィルムのTgは165℃であった。 The obtained long film C had a thickness unevenness in the longitudinal direction of 0.15 μm and a thickness unevenness in the width direction of 0.15 μm. When the in-plane retardation was measured by the above-mentioned method, Ro was 10 nm, Ro variation was 1 nm, and Rt (550) was 120 nm. The Tg of the film was 165 ° C.
ロール状の長尺状フィルムを長尺状フィルムCを使い、繰り出し方向θiを80°に変更すること以外は、実施例1と同様の方法でフィルムF3及び実施例3の位相差フィルム3を作製した。 The film F3 and the retardation film 3 of Example 3 are produced in the same manner as in Example 1, except that the long film C is used as a roll-like long film and the feeding direction θi is changed to 80 °. did.
得られた実施例3の位相差フィルム3は、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が抑えられ、またハードコート層上のスジもなく、良好だった。 As shown in Table 1, the obtained retardation film 3 of Example 3 was excellent in that the Ro fluctuation value in the width direction after the wet heat durability test treatment was suppressed, and there were no streaks on the hard coat layer.
<実施例4>
<製造例4>
製造例3において、セルロースエステルをセルロースアセテートプロピオネート:(CAP:アセチル基置換度1.5、プロピオニル基0.9、総置換度2.4;数平均分子量Mn=57,500、重量平均分子量Mw=190,000、Mw/Mn=3.30)のセルロースアセテートに変更した以外は製造例2と同様にロール状の長尺状フィルムDを得た。
<Example 4>
<Production Example 4>
In Production Example 3, the cellulose ester was converted into cellulose acetate propionate: (CAP: acetyl group substitution degree 1.5, propionyl group 0.9, total substitution degree 2.4; number average molecular weight Mn = 57,500, weight average molecular weight. A roll-like long film D was obtained in the same manner as in Production Example 2, except that the cellulose acetate was changed to Mw = 190,000, Mw / Mn = 3.30).
ロール状の長尺状フィルムを、長尺状フィルムDを使うこと以外は、実施例1と同様の方法でフィルムF4及び実施例4の位相差フィルム4を作製した。 A film F4 and a retardation film 4 of Example 4 were produced in the same manner as in Example 1 except that the long film D was used as the roll-like long film.
得られた実施例4の位相差フィルム4は、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が抑えられ、またハードコート層上のスジもなく、良好だった。 As shown in Table 1, the obtained retardation film 4 of Example 4 was excellent in that the fluctuation value of Ro in the width direction after the wet heat durability test treatment was suppressed, and there were no streaks on the hard coat layer.
<実施例5>
実施例3において、位相差フィルム(延伸フィルム)3に塗布するハードコート層用塗布液のエタノールを無くすこと以外は、実施例1と同様の方法で実施例5の位相差フィルムを作製した。
<Example 5>
In Example 3, the retardation film of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the ethanol in the hard coat layer coating solution applied to the retardation film (stretched film) 3 was eliminated.
得られた実施例5の位相差フィルムは、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が抑えられ、またハードコート層上のスジもなく、良好だった。 As shown in Table 1, the obtained retardation film of Example 5 was excellent in that the Ro fluctuation value in the width direction after the wet heat durability test treatment was suppressed, and there were no streaks on the hard coat layer.
<実施例6>
実施例3において、位相差フィルム(延伸フィルム)3に塗布するハードコート層用塗布液のペンタエリスリトールトリアクリレートをペンタエリスリトールテトラアクリレートに変更すること以外は、実施例1と同様の方法で実施例6の位相差フィルムを作製した。
<Example 6>
In Example 3, Example 6 was carried out in the same manner as in Example 1 except that pentaerythritol triacrylate of the coating liquid for hard coat layer applied to the retardation film (stretched film) 3 was changed to pentaerythritol tetraacrylate. A retardation film was prepared.
得られた実施例6の位相差フィルムは、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が抑えられ、またハードコート層上のスジもなく、良好だった。 As shown in Table 1, the obtained retardation film of Example 6 was excellent in that the Ro fluctuation value in the width direction after the wet heat durability test treatment was suppressed, and there were no streaks on the hard coat layer.
<比較例1>
実施例3において、位相差フィルム(延伸フィルム)3に塗布するハードコート層用塗布液のペンタエリスリトールトリアクリレートをジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(質量比6:4;共栄社化学(株)製)に変更すること以外は、実施例1と同様の方法で比較例1の位相差フィルムを作製した。
<Comparative Example 1>
In Example 3, the pentaerythritol triacrylate of the hard coat layer coating solution applied to the retardation film (stretched film) 3 is a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (mass ratio 6: 4; Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). A retardation film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the product was changed to “made by Co., Ltd.”.
得られた比較例1の位相差フィルムは、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が大きく、またハードコート層上のスジ故障が見られた。 As shown in Table 1, the obtained retardation film of Comparative Example 1 had a large Ro fluctuation value in the width direction after the wet heat durability test treatment, and a streak failure on the hard coat layer was observed.
<比較例2>
比較例1において、位相差フィルム(延伸フィルム)3に塗布するハードコート層用塗布液を以下の塗布液2に変更すること以外は、比較例1と同様の方法で比較例2の位相差フィルムを作製した。
<Comparative example 2>
In Comparative Example 1, the retardation film of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the coating liquid for hard coat layer applied to the retardation film (stretched film) 3 was changed to the following coating liquid 2. Was made.
(ハードコート層用塗布液2)
アセトン 45質量部
酢酸エチル 45質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ートの混合物(質量比6:4;共栄社化学(株)製) 100質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、BASFジャパン社製) 5質量部
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノフォリノ−1−オン
(イルガキュア907、BASFジャパン社製) 3質量部
BYK−331(シリコーン界面活性剤、ビックケミー・ジャパン(株)製)
5質量部
得られた比較例2の位相差フィルムは、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が大きく、またハードコート層上のスジ故障が見られた。
(Coating solution 2 for hard coat layer)
Acetone 45 parts by mass Ethyl acetate 45 parts by mass Propylene glycol monomethyl
5 parts by mass As shown in Table 1, the obtained retardation film of Comparative Example 2 had a large Ro fluctuation value in the width direction after the wet heat durability test treatment, and a streak failure on the hard coat layer was observed.
<比較例3>
比較例2において、ハードコート層用塗布液2のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートをペンタエリスリトールトリアクリレートに変更すること以外は、比較例2と同様の方法で比較例3の位相差フィルムを作製した。
<Comparative Example 3>
In Comparative Example 2, a retardation film of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Comparative Example 2, except that dipentaerythritol hexaacrylate in hard coat layer coating solution 2 was changed to pentaerythritol triacrylate.
得られた比較例3の位相差フィルムは、表1に示すとおり、湿熱耐久試験処理後の幅手方向のRo変動値が大きく、またハードコート層上のスジ故障が見られた。 As shown in Table 1, the obtained retardation film of Comparative Example 3 had a large Ro fluctuation value in the width direction after the wet heat durability test treatment, and a streak failure on the hard coat layer was observed.
<評価条件>
フィルムFの面内遅相軸方向θ及び位相差フィルム(延伸フィルム)の面内遅相軸θs、フィルムの面内方向リターデーションRo、及び厚さ方向リターデーションRtの測定/評価は、位相差測定装置(王子計測社製、KOBRA−WXK)を用いて、フィルム流れ方向5m毎に幅方向にフィルムの50mmの間隔でRoの測定を行い、全データの平均値を面内方向リターデーションRoとした。
<Evaluation conditions>
The measurement / evaluation of the in-plane slow axis direction θ of the film F, the in-plane slow axis θs of the retardation film (stretched film), the in-plane direction retardation Ro of the film, and the thickness direction retardation Rt is measured by retardation. Using a measuring device (manufactured by Oji Scientific Co., Ltd., KOBRA-WXK), Ro is measured at intervals of 50 mm of the film in the width direction every 5 m in the film flow direction, and the average value of all data is calculated as the in-plane direction retardation Ro. did.
また、フィルム厚さ方向リターデーションRtは下記式を用いて算出した。 Moreover, film thickness direction retardation Rt was computed using the following formula.
式(i):Ro=(nx−ny)×d
式(ii):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
式中、nxとnyは、それぞれ、23℃・55%RH、590nmにおける屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。)、ny(フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率)であり、dはフィルムの厚さ(nm)である。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d
Formula (ii): Rt = {(n x + n y ) / 2−n z } × d
Wherein, n x and n y, respectively, 23 ℃ · 55% RH, the refractive indices n x at 590 nm (maximum refractive index in the plane of the film, also referred to as a slow axis direction of the refractive index.), N y (Refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the film plane), and d is the thickness (nm) of the film.
本発明に係るフィルムFの面内遅相軸方向θや位相差フィルム(延伸フィルム)の面内遅相軸方向θsを測定するには、フィルムの搬送方向を上記位相差測定装置の基準線(=0°)に合わせて位相差を測定する。面内遅相軸方向とは、上記の屈折率nxの方向である。よって上記の位相差測定装置を使い、フィルムの搬送方向と装置の基準線を合わせれば、nxの方向も測定することができる。 In order to measure the in-plane slow axis direction θ of the film F according to the present invention and the in-plane slow axis direction θs of the retardation film (stretched film), the film transport direction is set to the reference line ( = 0 °) and the phase difference is measured. The in-plane slow axis direction is the direction of the refractive index n x. Thus using the phase difference measuring device,, combined reference line in the conveying direction and the device of the film can be the direction of n x is measured.
<湿熱耐久性試験前後のリターデーション値Roの測定>
(鹸化処理)
作製した位相差フィルムを40℃の2モル/Lの水酸化カリウム溶液に30秒間浸漬し、次いで水洗し、60℃(ドライ)のオーブンで5分乾燥して、下記手順でリターデーションを測定し初期値とした。
<Measurement of retardation value Ro before and after wet heat durability test>
(Saponification treatment)
The prepared retardation film was immersed in a 2 mol / L potassium hydroxide solution at 40 ° C. for 30 seconds, then washed with water, dried in an oven at 60 ° C. (dry) for 5 minutes, and the retardation was measured by the following procedure. The initial value was used.
得られた位相差フィルムから試料35mm×35mmを切り出し、25℃,55%RHで2時間調湿し、自動複屈折計(KOBRAWR、王子計測(株))で、590nmにおける垂直方向から測定した値とフィルム面を傾けながら同様に測定したリターデーション値の外挿値から以下の式より算出した。 A sample of 35 mm × 35 mm was cut out from the obtained retardation film, conditioned at 25 ° C. and 55% RH for 2 hours, and measured with an automatic birefringence meter (KOBRAWR, Oji Scientific Co., Ltd.) from the vertical direction at 590 nm. From the extrapolation value of the retardation value measured in the same manner while tilting the film surface, the following formula was used.
式(i):Ro=(nx−ny)×d
(式中、nxは、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さ(nm)である。)
なお、リターデーション値Roは、KOBRA−21ADH(王子計測機器株式会社製)を用いて、温度23℃、湿度55%RHの環境下で、波長が590nmで測定した。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d
(Wherein, n x is a refractive index in a slow axis direction in the film plane, n y is a refractive index in a fast axis direction in the film plane, d is the thickness of the film (nm) .)
The retardation value Ro was measured using KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments) at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 55% RH at a wavelength of 590 nm.
(湿熱耐久試験処理)
上記鹸化処理した位相差フィルムを温度60℃・相対湿度90%RHに設定された恒温槽に入れ、500時間後に取り出し、その後、初期値の測定と同様に横手方向のリターデーションRoを1cm間隔で測定して、保存前の面内位相差値Roを基準とした変動値を横手方向の各点で算出し、その中での最大値と最小値の差を算出した。
(Wet heat durability test processing)
The saponified retardation film is placed in a thermostatic chamber set at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% RH, taken out after 500 hours, and then the transverse direction retardation Ro is set at 1 cm intervals in the same manner as the initial value measurement. Measurements were made to calculate fluctuation values based on the in-plane retardation value Ro before storage at each point in the lateral direction, and the difference between the maximum value and the minimum value was calculated.
<スジの評価方法>
作製した試料の5000mの内、巻き取り終了から5mの部分を取り出し、スジの有無を目視で以下の測定条件で測定した。
スジの評価ランク
◎:スジの発生が全くない
○:スジがわずかにある
△:スジがある
×:スジが非常に多数ある
以上の評価結果をまとめて表1に示す。
<Evaluation method of streaks>
A portion of 5 m from the end of winding was taken out of 5000 m of the prepared sample, and the presence or absence of streaks was visually measured under the following measurement conditions.
Evaluation rank of streak A: No generation of streak O: Slight streaking Δ: Streaking ×: Very large number of streaks The above evaluation results are summarized in Table 1.
表1に示す結果から明らかなように、本発明の位相差フィルムは、スジ故障の発生がなく、かつ環境耐久試験において幅手方向の光学特性の変動が殆ど無いことが分かる。 As is apparent from the results shown in Table 1, it can be seen that the retardation film of the present invention has no occurrence of streak failure and little change in the optical characteristics in the width direction in the environmental durability test.
(立体画像表示装置への適応性の検討)
後述する立体画像表示装置への適応性の評価実験に資するため、上記で作製した実施例3のフィルムと比較例3のフィルムのそれぞれのハードコート層の上に更に下記反射防止層を設け、位相差フィルムAarと位相差フィルムBarを得た。
(Examination of adaptability to stereoscopic image display device)
In order to contribute to an evaluation experiment of adaptability to a stereoscopic image display device to be described later, the following antireflection layer is further provided on each of the hard coat layers of the film of Example 3 and the film of Comparative Example 3 produced above. A retardation film Aar and a retardation film Bar were obtained.
<反射防止層の塗布>
(中屈折率層の塗布)
ハードコート層表面上に、下記中屈折率層塗布液をダイコートし、80℃で乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が110nmとなるように中屈折率層を設けた。屈折率は1.60であった。
<Application of antireflection layer>
(Application of medium refractive index layer)
The following medium refractive index layer coating solution is die-coated on the surface of the hard coat layer, dried at 80 ° C., and then irradiated with 120 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high-pressure mercury lamp so that the cured film thickness becomes 110 nm. A medium refractive index layer was provided. The refractive index was 1.60.
〈中屈折率層塗布液〉
〈粒子分散液Aの作製〉
メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド(固形分60%、日産化学工業(株)製アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名:セルナックスCX−Z610M−F2)6.0kgにイソプロピルアルコール12.0kgを攪拌しながら徐々に添加し、粒子分散液Aを調整した。
<Medium refractive index layer coating solution>
<Preparation of particle dispersion A>
Methanol-dispersed antimony double oxide colloid (solid content 60%, zinc antimonate sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name: Celnax CX-Z610M-F2) 6.0 kg of isopropyl alcohol was gradually stirred with stirring. To prepare a particle dispersion A.
PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル) 40質量部
イソプロピルアルコール 25質量部
メチルエチルケトン 25質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 0.9質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.0質量部
ウレタンアクリレート(商品名:U−4HA 新中村化学工業社製) 0.6質量部
粒子分散液A 20質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、BASFジャパン社製) 0.4質量部
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノフォリノプロパン
−1−オン(イルガキュア907、BASFジャパン社製) 0.2質量部
10%FZ−2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液
(日本ユニカー社製) 0.4質量部
(低屈折率層の塗布)
上記中屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布液をダイコートし、80℃で乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して膜厚が92nmになるように低屈折率層を設け、反射防止層を作製した。屈折率は1.38であった。
PGME (propylene glycol monomethyl ether) 40 parts by mass Isopropyl alcohol 25 parts by mass Methyl ethyl ketone 25 parts by mass Pentaerythritol triacrylate 0.9 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 1.0 part by mass Urethane acrylate (trade name: U-4HA Shin-Nakamura Chemical 0.6 parts by mass Particle dispersion A 20 parts by mass 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan Ltd.) 0.4 parts by mass 2-methyl-1- [4- (methylthio) Phenyl] -2-monoforinopropan-1-one (Irgacure 907, manufactured by BASF Japan) 0.2 parts by
On the medium refractive index layer, the following low refractive index layer coating solution is die-coated, dried at 80 ° C., and then irradiated with 120 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high pressure mercury lamp so that the film thickness becomes 92 nm. A rate layer was provided to prepare an antireflection layer. The refractive index was 1.38.
(低屈折率層塗布液)
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン230g(商品名:KBE04、信越化学工業社製)とエタノール440gを混合し、これに2%酢酸水溶液120gを添加した後に、室温(25℃)にて26時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
(Low refractive index layer coating solution)
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
After mixing 230 g of tetraethoxysilane (trade name: KBE04, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 440 g of ethanol and adding 120 g of a 2% aqueous acetic acid solution thereto, the mixture is stirred for 26 hours at room temperature (25 ° C.). Silane hydrolyzate A was prepared.
プロピレングリコールモノメチルエーテル 430質量部
イソプロピルアルコール 430質量部
テトラエトキシシラン加水分解物A 120質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
(商品名:KBM503、信越化学工業社製) 3.0質量部
イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル(固形分20%、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名:ELCOM V−8209) 40質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート
(川研ファインケミカル社製) 3.0質量部
10%FZ−2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液
(日本ユニカー社製) 3.0質量部
<位相差フィルム201の作製>
〈微粒子分散液1〉
微粒子(アエロジル R972V 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
Propylene glycol monomethyl ether 430 parts by mass Isopropyl alcohol 430 parts by mass Tetraethoxysilane hydrolyzate A 120 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name: KBM503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3.0 parts by mass Isopropyl alcohol dispersion Hollow silica sol (solid content 20%, silica sol manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: ELCOM V-8209) 40 parts by mass Aluminum ethyl acetoacetate diisopropylate (manufactured by Kawaken Fine Chemicals) 3.0 parts by
<Fine particle dispersion 1>
Fine particles (Aerosil R972V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 11 parts by weight Ethanol 89 parts by weight The above was stirred and mixed with a dissolver for 50 minutes, and then dispersed with Manton Gorin.
〈微粒子添加液1〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。
<Fine particle addition liquid 1>
The fine particle dispersion 1 was slowly added to the dissolution tank containing methylene chloride with sufficient stirring. Further, the particles were dispersed by an attritor so that the secondary particles had a predetermined particle size. This was filtered through Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle additive solution 1.
メチレンクロライド 99質量部
微粒子分散液1 5質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
Methylene chloride 99 parts by mass Fine particle dispersion 1 5 parts by mass A main dope solution having the following composition was prepared. First, methylene chloride and ethanol were added to the pressure dissolution tank. Cellulose acetate was added to a pressurized dissolution tank containing a solvent while stirring. This is completely dissolved with heating and stirring. This was designated as Azumi Filter Paper No. The main dope solution was prepared by filtration using 244.
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
アセチル基置換度が2.4のセルロースアセテート(DAC:アセチル基置換度2.4 、総置換度2.4;数平均分子量Mn=59,500、重量平均分子量Mw=190, 000、Mw/Mn=3.19) 100質量部
糖エステル化合物(化2;1−22) 10.0質量部
ポリエステルA 2.5質量部
紫外線吸収剤(チヌビン928(BASFジャパン(株)製)) 2.3質量部
微粒子添加液1 1質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度33℃、2000mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30℃に制御した。
<Composition of main dope solution>
Methylene chloride 340 parts by mass Ethanol 64 parts by mass Cellulose acetate having an acetyl group substitution degree of 2.4 (DAC: acetyl group substitution degree 2.4, total substitution degree 2.4; number average molecular weight Mn = 59,500, weight average molecular weight Mw = 190,000, Mw / Mn = 3.19) 100 parts by mass Sugar ester compound (Chemical Formula 2; 1-22) 10.0 parts by mass Polyester A 2.5 parts by mass Ultraviolet absorber (Tinbin 928 (BASF Japan ( Co., Ltd.))) 2.3 parts by mass Particulate additive liquid 1 1 part by mass The above composition was put into a closed container and dissolved while stirring to prepare a dope solution. Next, an endless belt casting apparatus was used to uniformly cast the dope solution on a stainless steel belt support at a temperature of 33 ° C. and a width of 2000 mm. The temperature of the stainless steel belt was controlled at 30 ° C.
ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)したフィルム中の残留溶媒量が75%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。 On the stainless steel belt support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount in the cast (cast) film was 75%, and then peeled off from the stainless steel belt support with a peeling tension of 130 N / m.
その後170℃に設定されたテンターにより幅手方向に1.4倍の延伸を行い、次いで130℃に設定された乾燥ゾーンで30分間搬送させて乾燥を行い、両端部のトリミングを行い、かつ端部に幅1cm、高さ8μmのナーリングを有する膜厚40μmの位相差フィルム201を作製し、幅2000mm、5000mで巻き取った。 Thereafter, the film is stretched 1.4 times in the width direction by a tenter set at 170 ° C., then dried by being transported in a drying zone set at 130 ° C. for 30 minutes, trimmed at both ends, A retardation film 201 having a thickness of 40 μm having a knurling having a width of 1 cm and a height of 8 μm was prepared, and the film was wound up with a width of 2000 mm and 5000 m.
位相差フィルム201の面内リターデーション値Ro(590)、厚さ方向リターデーションRt(590)は、各々50nm、130nmであった。 The in-plane retardation value Ro (590) and thickness direction retardation Rt (590) of the retardation film 201 were 50 nm and 130 nm, respectively.
<偏光板A及びBの作製>
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。
<Preparation of polarizing plates A and B>
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times).
これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光子を得た。 This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizer.
次いで、下記工程1〜5に従って偏光子と前記フィルムAar又はフィルムBarと、裏面側には位相差フィルム201を、長手方向を合わせるようにロール・to・ロールで貼り合わせて偏光板A、Bを作製した。 Next, in accordance with the following steps 1 to 5, the polarizer, the film Aar or film Bar, and the retardation film 201 on the back side are bonded with a roll-to-roll so as to match the longitudinal direction, and polarizing plates A and B are attached. Produced.
工程1:60℃の2モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したフィルムAar又はフィルムBarを得た。 Step 1: It was immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried to obtain a film Aar or a film Bar having a saponified side to be bonded to a polarizer.
工程2:前記偏光子を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。 Process 2: The said polarizer was immersed in the polyvinyl alcohol adhesive tank of 2 mass% of solid content for 1-2 seconds.
工程3:工程2で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理した位相差フィルムAar又は位相差フィルムBarの上にのせて配置した。 Step 3: Excess adhesive adhered to the polarizer in Step 2 was gently wiped off and placed on the retardation film Aar or retardation film Bar processed in Step 1.
工程4:工程3で積層した位相差フィルムAar又は位相差フィルムBarと偏光子と位相差フィルム201を圧力20〜30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。 Step 4: The retardation film Aar or retardation film Bar, the polarizer, and the retardation film 201 laminated in Step 3 were bonded at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a conveyance speed of about 2 m / min.
工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光子と位相差フィルムAar又は位相差フィルムBarと位相差フィルム201とを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、それぞれ、位相差フィルムAar又は位相差フィルムBarに対応する偏光板A、Bを作製した。 Step 5: A sample obtained by bonding the polarizer prepared in Step 4 and the retardation film Aar or the retardation film Bar and the retardation film 201 in a drier at 80 ° C. is dried for 2 minutes, and each of the retardation films Aar Alternatively, polarizing plates A and B corresponding to the retardation film Bar were prepared.
<液晶表示装置の作製>
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal panel for viewing angle measurement was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.
SONY製60型ディスプレイBRAVIA LX900の予め貼合されていた前面板を剥がして、パネル前面の偏光板と前面板の間にあった充填剤を除去し、予め貼合されていたパネル前側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板A、Bをそれぞれ液晶セルのガラス面の前面に貼合した。 Remove the pre-bonded front plate of Sony 60-type display BRAVIA LX900, remove the filler between the front plate and the polarizing plate on the front of the panel, and peel off the pre-bonded front polarizing plate of the panel And the produced said polarizing plates A and B were each bonded on the front surface of the glass surface of a liquid crystal cell.
その際、その偏光板の貼合の向きは、本発明の位相差フィルム(延伸フィルム)の面が、視認側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、それぞれ、偏光板A、Bに対応する液晶表示装置A、Bを各々作製した。 At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is absorbed so that the surface of the retardation film (stretched film) of the present invention is on the viewing side and in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display devices A and B corresponding to the polarizing plates A and B were respectively produced so that the axes were directed.
(3Dメガネ)
SONY製3DメガネTDG−BR100のパネル側にフィルムAarを貼合した。
(3D glasses)
The film Aar was bonded to the panel side of the Sony 3D glasses TDG-BR100.
作製した液晶表示装置について3D映像視聴時のスジを観測した。 Streaks during 3D video viewing were observed for the manufactured liquid crystal display device.
<3D映像視聴時のスジの評価>
23℃・55%RHの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを点灯させた直後、3Dメガネをかけて、3D映像を視聴し、スジを下記基準で評価した。
○:スジがまったくない
×:スジが見える
以上の評価結果を表2に示す。
<Evaluation of streaks when viewing 3D video>
Immediately after turning on the backlight of each liquid crystal display device in an environment of 23 ° C. and 55% RH, 3D glasses were worn and 3D images were viewed, and streaks were evaluated according to the following criteria.
○: No streak at all ×: Streak is visible Table 2 shows the above evaluation results.
表2に示す結果から明らかなように、本発明の位相差フィルム(延伸フィルム)を用いた液晶表示装置においては、スジ故障がまったく見られず優れていることが分かる。 As is clear from the results shown in Table 2, it can be seen that the liquid crystal display device using the retardation film (stretched film) of the present invention is excellent without any streak failure.
1 原反フィルム
2−1 右側のフィルム保持開始点
2−2 左側のフィルム保持開始点
3−1 右側のフィルム保持手段の軌跡
3−2 左側のフィルム保持手段の軌跡
4 テンター
5−1 右側のフィルム保持終了点
5−2 左側のフィルム保持終了点
6 斜め延伸フィルム
7−1 フィルムの送り方向
8−1 テンター入り口側のガイドロール
8−2 テンター出口側のガイドロール
9 フィルムの延伸方向
DR1 繰出し方向
DR2 巻取り方向
θi 繰出し角度(繰出し方向と巻取り方向のなす角度)
CR,CL 把持具
Wo 延伸前のフィルムの幅
W 延伸後のフィルムの幅
A 液晶シャッタメガネ
A1、A4 偏光子
A2 液晶セル
A3 λ/4板
B 液晶表示装置(例えばテレビジョン(TV))
C 偏光板
C1 λ/4板
C2 偏光子
C3 位相差フィルム
C4 偏光子保護フィルム
D 液晶セル
E 偏光板
F バックライト
HC ハードコート層
AR 反射防止層
a 吸収軸
b 遅相軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Original film 2-1 Right film holding start point 2-2 Left film holding start point 3-1 Trajectory of right film holding means 3-2 Trajectory of left film holding means 4 Tenter 5-1 Right film Holding end point 5-2 Left film holding end point 6 Obliquely stretched film 7-1 Film feeding direction 8-1 Tenter inlet side guide roll 8-2 Tenter outlet side guide roll 9 Film stretching direction DR1 Feeding direction DR2 Winding direction θi Feeding angle (angle formed by feeding direction and winding direction)
CR, CL Gripping device Wo Width of film before stretching W Width of film after stretching A Liquid crystal shutter glasses A1, A4 Polarizer A2 Liquid crystal cell A3 λ / 4 plate B Liquid crystal display device (for example, television (TV))
C polarizing plate C1 λ / 4 plate C2 polarizer C3 retardation film C4 polarizer protective film D liquid crystal cell E polarizing plate F backlight HC hard coat layer AR antireflection layer a absorption axis b slow axis
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