JP2012141279A - ガスセンサ用のセラミックヒータ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被測定ガス中の特定ガスの濃度を測定するためのガスセンサ素子2を加熱するためのガスセンサ用のセラミックヒータ1。Al2O3を主成分とする基材3と、基材3の表面に設けられた端子部4と、端子部4に対してその接合端50が立設した状態で接合されたNiを主成分とするリード部5と、リード部5を端子部4に接合するCuを主成分とするAu−Cu合金からなるろう材6とを備える。ろう材6のなすフィレット形状は、端子部4からの高さHと、リード部5の接合端50の外周からろう材6の外周端60までの径方向距離Mとが、H/M≦1.0且つ、H≧0.4mmを満たしている。
【選択図】図3
Description
また、図15に示すごとく、上記端子部94が外側になるように、上記ヒータ基板97を心棒98の表面に巻き付けてあり、上記端子部94には、リード部95がろう材951により接合されている。
Al2O3を主成分とする基材と、
該基材の表面に設けられた端子部と、
該端子部に対して、その接合端が立設した状態で接合されたNiを主成分とするリード部と、
該リード部を上記端子部に接合するCuを主成分とするAu−Cu合金からなるろう材とを備え、
該ろう材のなすフィレット形状は、上記端子部からの高さHと、上記リード部の上記接合端の外周から上記ろう材の外周端までの径方向距離Mとが、H/M≦1.0且つ、H≧0.4mmを満たしていることを特徴とするガスセンサ用のセラミックヒータ(請求項1)。
すなわち、H/M>1.0の場合には、上記端子部を介する上記基材と上記リード部との接合部分における熱応力を低減することが困難となり、上記ろう材及び上記基材に亀裂、剥離等が生じやすくなるおそれがある。一方、H<0.4mmの場合には、上記基材と上記リード部及び上記ろう材との接合強度の低下を招くおそれがある。
本発明の実施例にかかるガスセンサ用のセラミックヒータにつき、図1〜図4を用いて説明する。
ガスセンサ用のセラミックヒータ1は、図1に示すごとく、被測定ガス中の特定ガスの濃度を測定するためのガスセンサ素子2を加熱するためのものである。
また、図2、図3に示すごとく、セラミックヒータ1は、Al2O3(アルミナ)を主成分とする基材3と、基材3の表面に設けられた端子部4と、端子部4に対して、その接合端50が立設した状態で接合されたNiを主成分とするリード部5と、リード部5を端子部4に接合するCuを主成分とするAu−Cu(金−銅)合金からなるろう材6とを備えている。
なお、本例では、図3、図4に示すごとく、リード部5の接合端50は、端面51を端子部4の表面には当接させずに所定間隔を保持した状態で、ろう材6を介して端子部4に接合されているが、リード部5の接合端50の端面51と端子部4の表面とを当接させて形成してもよい。
これらの端子部4に対して、リード部5が略垂直に立設した状態で、ろう付けされている。リード部5は、長手方向に直交する断面が円形をなすように形成されると共に、基材3の軸方向に伸びる伸長部51と、その先端側において略直角に屈曲した接合端50とからなり、その接合端50が、端子部4に対して立設された状態で接合される。
そして、一対のリード部5は、基材3の側面に互いに180°反対側に接合端50を立設している。
ガスセンサ7について以下に説明する。
ここで、ガスセンサ7を、排ガス管等、測定部分へ挿入する側(図1の下方)を「先端側」とし、その反対側を「基端側」として説明する。
まず、ガスセンサ7は、筒型のハウジング71とハウジング71に挿通したコップ型(有底筒状)のガスセンサ素子2と、ハウジング71の先端側に設けた外側カバー721と内側カバー722とからなる被測定ガス側カバー72と、ハウジング71の基端側に設けた大気側カバー73とを有する。
大気側カバー73の基端側は撥水フィルタ732を介して外側カバー731がかしめ固定されている。大気側カバー73の最も基端側の内部には弾性絶縁部材743がかしめ固定されている。大気側カバー73の内部は大気雰囲気730を構成し、後述するガスセンサ素子2の大気室210に対しては、ここから大気が導入される。大気雰囲気730には、撥水フィルタ732を介して外気が導入される。
セラミックヒータ1は、リード部5が、端子部4に対してその接合端50を立設した状態で接合されている。これにより、リード部5の熱膨張の方向を、端子部4を含む基材3の軸方向に対して垂直方向に向かわせることができ、さらに、リード部5と端子部4との接合範囲を縮小することもできる。そのため、端子部4を介する基材3とリード部5との接合部分における、熱膨張差に起因する熱応力を低減させることができ、その結果、ろう材6、端子部4、基材3の亀裂、剥離等の発生を防止することができる。
すなわち、H/M>1.0の場合には、端子部4を介する基材3とリード部5との接合部分における熱応力を低減することが困難となり、ろう材6、端子部4、基材3に亀裂、剥離等が生じやすくなってしまうおそれがある。一方、H<0.4mmの場合には、基材3とリード部5及びろう材6との接合強度の低下を招くおそれがある。
本例は、図5に示すごとく、基材3に設けた端子部94に対して、リード部95をその接合端950が基材3の軸方向に平行となる状態で接合したセラミックヒータ90の例である。なお、リード部95の形状等、主な構成は、図14〜図16に示すセラミックヒータ9と同様である。
なお、接合端950の長さ(基材3の軸方向と略平行となる部分の長さ)は0.5〜1.5mmに設定されており、リード部95の直径は0.6mmに設定されている。
本例においては、図6に示すごとく、上記実施例1のセラミックヒータ1のろう材6のなすフィレット形状の高さHと、ろう材6の破断強度(以下、これを適宜にろう材破断強度という)との関係を調べた。
セラミックヒータ1のろう材6は、リード部5の破断強度以上の破断強度を確保することが望まれる。ここで、一般的なリード部5として、直径0.6mmのNiリードの破断強度を測定した結果、リード部5の破断強度は220Nであった。そのため、ろう材破断強度は220N以上確保することが望まれる。
そこで、本例においては、ろう材破断強度を220N以上得ることができるろう材6のフィレット高さHの条件を導くべく、以下の試験を行った。
以下、その詳細を説明する。
そして、上記試料1〜試料10のセラミックヒータ1のそれぞれにおける、ろう材破断強度の算出を行った。その結果を図6に示す。なお、図6における符号Dで示した直線は、基準となるろう材破断強度220Nを示す。
本例においては、図7、図8に示すごとく、上記実施例1のセラミックヒータ1における、ろう材6のフィレット形状による、ろう材6に生じる下記に示す熱歪の低減効果を調べた。
まず、ろう材6に生じる熱歪が、ろう材6の耐久性に与える影響を調べ、ろう材6に生じる熱歪の大きさの許容範囲を確保する試験を行った。すなわち、同材料のろう材6を異なるフィレット形状に形成した試料を試料E1〜E3として用意し、これらを室温から400℃に加熱した後、室温に戻すことにより、この1回の冷熱ストレスによって生じた歪(本例においては、これを「熱歪」という)を測定した。この熱歪の大きさが、図7のグラフにおいて、E1〜E3のプロットの縦軸方向の位置として示されている。
そして、これらの試料について上記の冷熱ストレスを、各試料が破断するまで繰り返し行う。そして、各試料が破断したときの冷熱ストレス回数が、図7のグラフにおいて、E1〜E3のプロットの横軸方向の位置として示されている。
また、同図のグラフにおいて、上記熱歪の値、4.32×10−3%を直線Jで示し、比較例1の上記熱歪の値、5.66×10−3%を直線Nで示す。
また、ろう材6の使用量を少なくすると、熱歪が大きくなる傾向にあるが、ろう材6の使用量が比較例1の70%である場合(●)、ろう材6の使用量が比較例1の50%である場合(○)についても、H/M≦1.0とすれば、少なくとも、比較例1の5.66×10−3%(直線N)よりも熱歪を小さくできることがわかる。
なお、ろう材6の使用量(mg)については、ろう材6の片側使用量、すなわち、一対のリード部5(端子部4)のうちの一方のリード部5の接合部分におけるろう材6の使用量である。
本例は、図9に示すごとく、ろう材6の表面にろう材6を保護するための保護メッキ層8を形成した例である。
保護メッキ層8は、Niを主成分とするNi層81を備えていると共に、Crを主成分とするCr層82を備えている。また、具体的には、図9に示すごとく、保護メッキ層8は、下層となるNi層81と上層となるCr層82との二層構造を有する。なお、図9に示すごとく、保護メッキ層8は、ろう材6の表面を含んだ状態で、端子部4とリード部5の接合端50との接合部分を覆うように形成されている。すなわち、リード部5の表面にも保護メッキ層8が形成されている。
その他は、実施例1と同様であり、本例の場合にも、実施例1と同様の作用効果を有する。
本例は、図10〜図12に示すごとく、基材3を、軸方向に直交する断面が長方形をなす四角柱形状に構成したセラミックヒータ1の例である。
基材3は、基端部における互いに反対側の平坦な両主面にそれぞれ端子部4を設けてなる。そして、各端子部4に対して、それぞれリード部5がろう材6によって接合されている。
その他は、実施例1と同様であり、本例の場合にも、実施例1と同様の作用効果を有する。
2 ガスセンサ素子
3 基材
4 端子部
5 リード部
50 接合端
6 ろう材
60 外周端
Claims (4)
- 被測定ガス中の特定ガスの濃度を測定するためのガスセンサ素子を加熱するためのガスセンサ用のセラミックヒータであって、
Al2O3を主成分とする基材と、
該基材の表面に設けられた端子部と、
該端子部に対して、その接合端が立設した状態で接合されたNiを主成分とするリード部と、
該リード部を上記端子部に接合するCuを主成分とするAu−Cu合金からなるろう材とを備え、
該ろう材のなすフィレット形状は、上記端子部からの高さHと、上記リード部の上記接合端の外周から上記ろう材の外周端までの径方向距離Mとが、H/M≦1.0且つ、H≧0.4mmを満たしていることを特徴とするガスセンサ用のセラミックヒータ。 - 請求項1に記載のガスセンサ用のセラミックヒータにおいて、上記端子部は、少なくともその表面にNiを主成分とするNi層を備えていることを特徴とするガスセンサ用のセラミックヒータ。
- 請求項1又は請求項2に記載のガスセンサ用のセラミックヒータにおいて、上記ろう材の表面には、ろう材を保護するための保護メッキ層が形成されており、該保護メッキ層は、少なくともNiを主成分とするNi層を備えていることを特徴とするガスセンサ用のセラミックヒータ。
- 請求項3に記載のガスセンサ用のセラミックヒータにおいて、上記保護メッキ層は、Crを主成分とするCr層を備えていることを特徴とするガスセンサ用のセラミックヒータ。
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