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JP2012140479A - Composition for forming reflective coat and reflective substrate using the composition - Google Patents

Composition for forming reflective coat and reflective substrate using the composition Download PDF

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JP2012140479A
JP2012140479A JP2010291886A JP2010291886A JP2012140479A JP 2012140479 A JP2012140479 A JP 2012140479A JP 2010291886 A JP2010291886 A JP 2010291886A JP 2010291886 A JP2010291886 A JP 2010291886A JP 2012140479 A JP2012140479 A JP 2012140479A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition useful for forming a reflective coat excellent in reflectivity.SOLUTION: This composition is composed of a white pigment (e.g. titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide and others), glass containing at least zinc borosilicate glass, and a resin. In such the composition, the proportion of the white pigment and the glass is around the former/the latter (weight ratio)=95/5 to 5/95, and the proportion of the resin may be around 3-70 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the total of the white pigment and the glass.

Description

本発明は、反射膜などを形成するのに有用な組成物、この組成物を用いて反射性基板を製造する方法およびこの方法により得られる反射性基板に関する。   The present invention relates to a composition useful for forming a reflective film and the like, a method for producing a reflective substrate using this composition, and a reflective substrate obtained by this method.

発光ダイオード(LED)素子は、低消費電力で長寿命の光源として、各種照明装置、表示装置において普及が進んでいる。このようなLED素子は、自己発熱によってその輝度が低下する特性を有するため、素子を搭載する基板の放熱性を高めて、素子の温度を低下させる必要がある。   A light emitting diode (LED) element is widely used in various lighting devices and display devices as a light source with low power consumption and long life. Since such an LED element has a characteristic that its luminance is reduced by self-heating, it is necessary to increase the heat dissipation of the substrate on which the element is mounted and to reduce the temperature of the element.

このため、LED素子の基板材料として、熱伝導性に優れた窒化アルミニウムが用いられているが、窒化アルミニウムは透光性材料であるため、基板を通してLED素子の光が漏れるという問題がある。そのため、窒化アルミニウム基板表面に可視光を反射する反射膜を形成できれば、窒化アルミニウムの高熱伝導性を活かしながら、基板を通しての光の漏れを防止でき、発光効率を高めることができる。   For this reason, although aluminum nitride excellent in thermal conductivity is used as the substrate material of the LED element, since aluminum nitride is a light-transmitting material, there is a problem that light of the LED element leaks through the substrate. Therefore, if a reflective film that reflects visible light can be formed on the surface of the aluminum nitride substrate, light leakage through the substrate can be prevented and luminous efficiency can be improved while utilizing the high thermal conductivity of aluminum nitride.

例えば、特開2009−212134号公報(特許文献1)には、凹部が設けられた窒化アルミニウムパッケージにおいて、前記凹部の内の表面に、TiO、Al、MgO、およびSiOから選択される1種以上の無機顔料と、バインダー硬化物とからなる反射層が形成された窒化アルミニウムパッケージが開示されている。そして、この文献の実施例では、バインダー硬化物として、エチルセルロースを用いている。 For example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-212134 (Patent Document 1), in an aluminum nitride package provided with a recess, the surface inside the recess is selected from TiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, and SiO 2. An aluminum nitride package in which a reflective layer made of one or more inorganic pigments and a cured binder is formed is disclosed. And in the Example of this literature, ethylcellulose is used as binder hardened | cured material.

一方、LED素子と窒化アルミニウム基板表面の電極との接合材には、高い熱伝導性を有する金−スズ系はんだが用いられている。しかし、金−スズ系はんだは、融点が280℃と高いため、それを用いた場合のLED素子−電極間の接合には、300℃以上、場合によっては400℃に至る加熱が必要となり、反射膜にも300〜400℃の加熱に耐える耐熱性が要求される。   On the other hand, gold-tin solder having high thermal conductivity is used as a bonding material between the LED element and the electrode on the surface of the aluminum nitride substrate. However, since the melting point of gold-tin solder is as high as 280 ° C., the bonding between the LED element and the electrode when using it requires heating to 300 ° C. or higher, and sometimes 400 ° C. The film is also required to have heat resistance to withstand heating at 300 to 400 ° C.

しかし、特許文献1のようなバインダーを含む反射層は、容易に製造できるものの、加熱によりバインダーが変色して反射性が低下し、反射性基板として機能しなくなる虞がある。   However, although the reflective layer containing a binder like patent document 1 can be manufactured easily, there is a possibility that the binder is discolored by heating and the reflectivity is lowered, so that it does not function as a reflective substrate.

特開2009−212134号公報(特許請求の範囲、段落[0024]、[0028]、[0063])JP 2009-212134 A (claims, paragraphs [0024], [0028], [0063])

本発明の目的は、反射性に優れた反射膜などを形成するのに有用な組成物、この組成物を用いた反射性基板の製造方法およびこの方法により得られる反射性基板を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a composition useful for forming a reflective film having excellent reflectivity, a method for producing a reflective substrate using the composition, and a reflective substrate obtained by this method. is there.

本発明の他の目的は、高強度と高反射性とを両立できる反射膜を形成可能な組成物、この組成物を用いた反射性基板の製造方法およびこの方法により得られる反射性基板を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a composition capable of forming a reflective film capable of achieving both high strength and high reflectivity, a method for producing a reflective substrate using this composition, and a reflective substrate obtained by this method. There is to do.

本発明のさらに他の目的は、耐熱性に優れる反射膜を形成可能な組成物、この組成物を用いた反射性基板の製造方法およびこの方法により得られる反射性基板を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a composition capable of forming a reflective film having excellent heat resistance, a method for producing a reflective substrate using this composition, and a reflective substrate obtained by this method.

本発明者らは、樹脂と、バインダーとしてのガラスとを組み合わせることを試みた。ここで、バインダーとしてガラスを用いる場合には、基板に設ける電極(例えば、銅電極)の酸化を抑制することを考慮すると、非酸化性雰囲気(例えば、不活性ガス)中で、かつガラスを溶融させるための高熱(例えば、600℃以上)での加熱が必要となるが、このような非酸化性雰囲気中では、高熱での加熱によっても、樹脂の分解残渣が反射膜に残存するためか、反射性を向上することができなかった。   The present inventors tried to combine resin and glass as a binder. Here, when glass is used as the binder, the glass is melted in a non-oxidizing atmosphere (for example, an inert gas) in consideration of suppressing oxidation of an electrode (for example, a copper electrode) provided on the substrate. However, in such a non-oxidizing atmosphere, the decomposition residue of the resin may remain in the reflective film even when heated at a high temperature. The reflectivity could not be improved.

このような状況の中、本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、白色顔料とガラスと樹脂とを組み合わせた組成物において、さらに、ガラスにホウケイ酸亜鉛ガラスを含有させ、このような組成物を焼結処理(高温加熱処理)することで、非酸化性雰囲気中であっても、ガラスの溶融とともに樹脂(さらにはペースト状組成物における溶媒)の分解が促進されるためか、反射性に優れるとともに、焼結により高強度の膜が得られること、さらには、このような方法により得られる膜は、白色顔料とガラスとの焼結体により形成されており、高温条件下に曝されても反射性を損なわない耐熱性に優れた膜であることを見出し、本発明を完成した。   In such a situation, as a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have combined a white pigment, glass and resin, further containing zinc borosilicate glass in the glass, By sintering such a composition (high-temperature heat treatment), the decomposition of the resin (and also the solvent in the paste-like composition) is promoted as the glass melts even in a non-oxidizing atmosphere. In addition to being excellent in reflectivity, a high-strength film can be obtained by sintering. Further, the film obtained by such a method is formed of a sintered body of white pigment and glass, and is subjected to high temperature conditions. The present invention was completed by discovering that the film is excellent in heat resistance and does not impair reflectivity even when exposed underneath.

すなわち、本発明の組成物は、白色顔料、ガラス、および樹脂を含む組成物であって、ガラスがホウケイ酸亜鉛ガラスを含む。   That is, the composition of the present invention is a composition containing a white pigment, glass, and a resin, and the glass contains zinc borosilicate glass.

白色顔料は、例えば、チタン化合物、ジルコニウム化合物、及びアルミニウム化合物から選択された少なくとも1種を含んでいてもよい。また、白色顔料は、平均粒径(D50)0.05〜20μmの粒子であってもよい。   The white pigment may contain at least one selected from, for example, a titanium compound, a zirconium compound, and an aluminum compound. The white pigment may be particles having an average particle diameter (D50) of 0.05 to 20 μm.

前記ガラスは、例えば、亜鉛(又は亜鉛成分)をZnO換算で10重量%以上含むホウケイ酸亜鉛ガラスを含んでいてもよい。   The glass may contain, for example, zinc borosilicate glass containing 10% by weight or more of zinc (or zinc component) in terms of ZnO.

前記組成物において、白色顔料とガラスとの割合は、例えば、前者/後者(重量比)=95/5〜5/95程度であってもよく、樹脂の割合は、例えば、白色顔料及びガラスの総量100重量部に対して3〜70重量部程度であってもよい。   In the composition, the ratio between the white pigment and the glass may be, for example, the former / the latter (weight ratio) = about 95/5 to 5/95, and the ratio of the resin is, for example, between the white pigment and the glass About 3-70 weight part may be sufficient with respect to 100 weight part of total amounts.

代表的な本発明の組成物には、白色顔料が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、および酸化アルミニウムから選択された少なくとも1種を含む平均粒径(D50)0.1〜10μmの粒子であり、ガラスが亜鉛をZnO換算で15〜75重量%含むホウケイ酸亜鉛ガラスを含み、白色顔料とガラスとの割合が前者/後者(重量比)=80/20〜20/80であり、樹脂の割合が、白色顔料及びガラスの総量100重量部に対して、10〜50重量部である組成物などが含まれる。   In a typical composition of the present invention, the white pigment is a particle having an average particle diameter (D50) of 0.1 to 10 μm containing at least one selected from titanium oxide, zirconium oxide, and aluminum oxide, and glass. Includes zinc borosilicate glass containing 15 to 75% by weight of zinc in terms of ZnO, the ratio of white pigment to glass is the former / the latter (weight ratio) = 80/20 to 20/80, and the ratio of the resin is The composition etc. which are 10-50 weight part with respect to 100 weight part of total amounts of a white pigment and glass are contained.

本発明の組成物において、亜鉛の割合は、樹脂100重量部に対して、ZnO換算で5〜300重量部程度であってもよい。また、本発明の組成物は、さらに、溶媒を含むペースト状組成物であってもよい。   In the composition of the present invention, the proportion of zinc may be about 5 to 300 parts by weight in terms of ZnO with respect to 100 parts by weight of the resin. Further, the composition of the present invention may be a paste composition further containing a solvent.

このような本発明の組成物は、特に、基板(例えば、窒化アルミニウム基板)に反射膜を形成するための反射膜形成用組成物であってもよい。   Such a composition of the present invention may be a reflective film forming composition for forming a reflective film on a substrate (for example, an aluminum nitride substrate).

本発明には、基板(例えば、窒化アルミニウム基板)に、前記組成物で膜を形成したのち、焼成処理する反射性基板の製造方法も含まれる。すなわち、焼成処理により、基板(基板上)に、前記組成物の焼結膜が形成される。このような方法では、代表的には、窒化アルミニウム基板を用い、非酸化性雰囲気下、600℃以上で焼成処理してもよい。   The present invention also includes a method for manufacturing a reflective substrate in which a film is formed on a substrate (for example, an aluminum nitride substrate) with the composition and then fired. That is, a sintered film of the composition is formed on the substrate (on the substrate) by the firing treatment. In such a method, typically, an aluminum nitride substrate may be used and fired at 600 ° C. or higher in a non-oxidizing atmosphere.

また、本発明には、前記方法により得られる反射性基板も含まれる。   The present invention also includes a reflective substrate obtained by the above method.

本発明の組成物は、反射性に優れた反射膜を形成するのに有用である。特に、このような本発明の組成物は、反射膜において、樹脂と、バインダーとしてのガラスとを組み合わせるため、不活性ガス中での焼結処理によっても、高強度と高反射性とを両立できる。また、本発明の組成物では、焼結により白色顔料とガラスとで反射膜を形成できるため、耐熱性に優れた反射膜を形成できる。そのため、反射膜の形成後において、高温が作用する条件に反射膜を供しても、反射膜の優れた反射性(さらには、高い強度)を維持できる。   The composition of the present invention is useful for forming a reflective film having excellent reflectivity. In particular, since the composition of the present invention combines a resin and glass as a binder in a reflective film, both high strength and high reflectivity can be achieved even by sintering treatment in an inert gas. . Moreover, in the composition of this invention, since a reflective film can be formed with a white pigment and glass by sintering, the reflective film excellent in heat resistance can be formed. For this reason, even after the reflective film is formed, even if the reflective film is subjected to conditions under which high temperature acts, the excellent reflectivity (and high strength) of the reflective film can be maintained.

図1は、実施例2で得られたベタパターン、実施例7で得られたベタパターン、および窒化アルミニウム基板のそれぞれの可視光域での反射率(熱処理前)を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the reflectance (before heat treatment) in the visible light region of the solid pattern obtained in Example 2, the solid pattern obtained in Example 7, and the aluminum nitride substrate.

[組成物]
本発明の組成物は、白色顔料、ガラス、および樹脂を含む。
[Composition]
The composition of the present invention includes a white pigment, glass, and a resin.

(白色顔料)
白色顔料としては、有機系顔料を使用してもよいが、通常、無機系顔料を好適に使用できる。白色顔料は、複合白色顔料であってもよく、体質顔料を含んでいてもよい。このような白色顔料としては、例えば、アルカリ又はアルカリ土類金属化合物[例えば、マグネシウム化合物(例えば、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、硫酸マグネシウムなど)、カルシウム化合物(例えば、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウムなど)、バリウム化合物(例えば、硫酸バリウムなど)]、遷移金属化合物{例えば、周期表第3族金属化合物[例えば、セリウム化合物(例えば、酸化セリウムなど)など]、周期表第4族金属化合物{例えば、チタン化合物[例えば、酸化チタン(二酸化チタン)、チタン酸塩(例えば、チタン酸カリウムなどのチタン酸アルカリ金属塩;チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムなどのチタン酸アルカリ土類金属塩などのチタン酸金属塩)、リン酸チタンなど]、ジルコニウム化合物(例えば、酸化ジルコニウムなど)など}、周期表第12族金属化合物[例えば、亜鉛化合物(例えば、酸化亜鉛、硫化亜鉛、リトポンなど)など]など}、周期表第13族金属化合物{例えば、アルミニウム化合物[例えば、酸化アルミニウム(アルミナ白)、水酸化アルミニウムなど]など}、周期表第14族金属化合物[例えば、鉛化合物(例えば、鉛白)など]、周期表第15族化合物[例えば、アンチモン化合物(例えば、酸化アンチモン)など]、その他の白色顔料(体質顔料)[例えば、ホウ素化合物(例えば、窒化ホウ素など)、ケイ酸塩(例えば、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸アルミニウムマグネシウム)、鉱物質類(タルク、カオリン、クレー、ゼオライト、ベントナイトなど)など]などが含まれる。なお、酸化チタンの結晶構造は、ルチル型、アナターゼ型、ブルカイト型などのいずれであってもよく、白色度(隠蔽度)の観点からは、ルチル型構造を有する酸化チタンを好適に使用してもよい。
(White pigment)
As the white pigment, an organic pigment may be used, but usually an inorganic pigment can be preferably used. The white pigment may be a composite white pigment or may contain an extender pigment. Examples of such white pigments include alkali or alkaline earth metal compounds [eg, magnesium compounds (eg, magnesium oxide, magnesium hydroxide, magnesium carbonate, magnesium sulfate), calcium compounds (eg, calcium carbonate, calcium sulfate]). , Calcium phosphate, etc.), barium compounds (eg, barium sulfate, etc.)], transition metal compounds {eg, periodic table Group 3 metal compounds [eg, cerium compounds (eg, cerium oxide, etc.)], periodic table Group 4 metals Compound {for example, titanium compound [for example, titanium oxide (titanium dioxide), titanate (for example, alkali metal titanate such as potassium titanate; magnesium titanate, calcium titanate, strontium titanate, barium titanate, etc. Titanic acid Metal titanates such as Lucari earth metal salts), titanium phosphates, etc.], zirconium compounds (eg, zirconium oxide, etc.)}, periodic table Group 12 metal compounds [eg, zinc compounds (eg, zinc oxide, sulfides) Zinc, lithopone, etc.)], etc.], periodic table group 13 metal compounds {eg, aluminum compounds [eg, aluminum oxide (alumina white), aluminum hydroxide, etc.]}, periodic table group 14 metal compounds [eg, Lead compounds (for example, lead white), etc., Periodic Table Group 15 compounds [for example, antimony compounds (for example, antimony oxide), etc.], other white pigments (for example, extender pigments) [for example, boron compounds (for example, boron nitride, etc.) ), Silicates (eg, magnesium silicate, calcium silicate, barium silicate, aluminum silicate, Magnesium aluminum), mineral acids (talc, kaolin, clay, zeolite, etc. bentonite, etc.), etc.]. The crystal structure of titanium oxide may be any of rutile type, anatase type, brookite type, etc., and from the viewpoint of whiteness (hiding degree), titanium oxide having a rutile type structure is preferably used. Also good.

白色顔料は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   White pigments may be used alone or in combination of two or more.

代表的な白色顔料には、白色度に優れる点から、周期表第4族金属化合物[例えば、チタン化合物(例えば、酸化チタン、チタン酸塩)、ジルコニウム化合物(酸化ジルコニウムなど)]、周期表第13族金属化合物[例えば、アルミニウム化合物(酸化アルミニウムなど)]などが含まれる。そのため、白色顔料は、これらの化合物[例えば、チタン化合物(特に、酸化チタン)、ジルコニウム化合物(特に、酸化ジルコニウム)、およびアルミニウム化合物(特に、酸化アルミニウム)から選択された少なくとも1種]を少なくとも含んでいてもよい。   Typical white pigments include a Group 4 metal compound of the periodic table [for example, a titanium compound (for example, titanium oxide, titanate), a zirconium compound (such as zirconium oxide)], a periodic table, because of its excellent whiteness. Group 13 metal compounds [for example, aluminum compounds (such as aluminum oxide)] and the like are included. Therefore, the white pigment includes at least these compounds [for example, at least one selected from titanium compounds (particularly titanium oxide), zirconium compounds (particularly zirconium oxide), and aluminum compounds (particularly aluminum oxide)). You may go out.

そのため、白色顔料をこれらの化合物で少なくとも構成してもよく、白色顔料は、これらの化合物のみで構成してもよく、他の白色顔料(体質顔料など)と組み合わせてもよい。なお、他の白色顔料と組み合わせる場合、白色顔料全体に対する他の白色顔料の割合は、例えば、50重量%以下(例えば、0.1〜40重量%)、好ましくは30重量%以下(例えば、0.2〜20重量%)、さらに好ましくは10重量%以下(例えば、0.5〜8重量%)であってもよい。   Therefore, the white pigment may be composed of at least these compounds, and the white pigment may be composed of only these compounds, or may be combined with other white pigments (such as extender pigments). When combined with another white pigment, the ratio of the other white pigment to the whole white pigment is, for example, 50% by weight or less (for example, 0.1 to 40% by weight), preferably 30% by weight or less (for example, 0 0.2 to 20% by weight), more preferably 10% by weight or less (for example, 0.5 to 8% by weight).

白色顔料の屈折率(25℃)は、例えば、1.7以上(例えば、1.8〜4)、好ましくは1.9以上(例えば、2〜3.5)、さらに好ましくは2.1以上(例えば、2.1〜3)、特に2.2以上(例えば、2.3〜2.9)程度であってもよい。   The refractive index (25 ° C.) of the white pigment is, for example, 1.7 or more (for example, 1.8 to 4), preferably 1.9 or more (for example, 2 to 3.5), more preferably 2.1 or more. (For example, 2.1 to 3), particularly about 2.2 or more (for example, 2.3 to 2.9).

なお、白色顔料は、樹脂やガラスに対する分散性を向上させるため、必要に応じて、表面処理(例えば、金属酸化物やカップリング剤などによる表面処理)された白色顔料を用いてもよい。   In addition, in order to improve the dispersibility with respect to resin or glass, you may use the white pigment surface-treated (for example, surface treatment by a metal oxide, a coupling agent, etc.) as needed.

なお、白色顔料の純度は、白色度の観点から高いのが好ましい。このような白色顔料の純度は、白色顔料の種類にもよるが、概ね、80重量%以上(例えば、83〜100重量%)、好ましくは85重量%以上(例えば、87〜100重量%)、さらに好ましくは88重量%以上(例えば、90〜100重量%)であってもよい。代表的な白色顔料の純度として、酸化チタンの純度で、例えば、85重量%以上[例えば、87〜100重量%、好ましくは88重量%以上(例えば、90〜100重量%)程度]、酸化アルミニウムの純度で、例えば、90重量%以上[例えば、95〜100重量%、好ましくは98重量%以上(例えば、99〜100重量%)、さらに好ましくは99.5重量%以上(例えば、99.7〜100重量%)程度]であってもよい。   The purity of the white pigment is preferably high from the viewpoint of whiteness. The purity of such a white pigment depends on the type of white pigment, but is generally 80% by weight or more (for example, 83 to 100% by weight), preferably 85% by weight or more (for example, 87 to 100% by weight), More preferably, it may be 88% by weight or more (for example, 90 to 100% by weight). As the purity of a typical white pigment, the purity of titanium oxide is, for example, 85% by weight or more [for example, about 87 to 100% by weight, preferably about 88% by weight or more (for example, about 90 to 100% by weight)], aluminum oxide The purity of, for example, 90% by weight or more [for example, 95 to 100% by weight, preferably 98% by weight or more (for example, 99 to 100% by weight), more preferably 99.5% by weight or more (for example, 99.7%). About 100% by weight).

白色顔料の形態(又は形状)は、特に限定されず、繊維状、粒子状などであってもよいが、粒子状の白色顔料を好適に使用してもよい。粒子状の白色顔料(白色顔料粒子)において、平均粒径(D50)は、例えば、0.01〜50μm、好ましくは0.05〜20μm、さらに好ましくは0.1〜10μm程度であってもよい。粒径をこのような範囲に調整することにより、粒子間の間隙を小さくでき、また、組成物の過度の粘度上昇を抑えて白色顔料の濃度を大きくしやすいため、効率よく反射膜における反射率を向上できる。   The form (or shape) of the white pigment is not particularly limited and may be fibrous, particulate, or the like, but a particulate white pigment may be suitably used. In the particulate white pigment (white pigment particles), the average particle diameter (D50) may be, for example, 0.01 to 50 μm, preferably 0.05 to 20 μm, and more preferably about 0.1 to 10 μm. . By adjusting the particle size to such a range, the gap between the particles can be reduced, and the concentration of the white pigment can be easily increased by suppressing an excessive increase in the viscosity of the composition. Can be improved.

(ガラス)
ガラスは、少なくともホウケイ酸亜鉛ガラスを含んでいる。ホウケイ酸亜鉛ガラスは、ホウ素(B)とケイ素(SiO)と亜鉛(ZnO)を少なくとも含むガラスである。ホウケイ酸亜鉛ガラスにおいて、ホウ素の割合は、B換算で、例えば、5〜50重量%、好ましくは7〜40重量%、さらに好ましくは10〜30重量%程度であってもよい。また、ホウ素を含むガラスにおいて、ケイ素の割合は、SiO換算で、例えば、5〜50重量%、好ましくは7〜40重量%、さらに好ましくは10〜35重量%程度であってもよい。
(Glass)
The glass includes at least zinc borosilicate glass. The zinc borosilicate glass is a glass containing at least boron (B 2 O 3 ), silicon (SiO 2 ), and zinc (ZnO). In the borosilicate glass, the ratio of boron may be, for example, 5 to 50% by weight, preferably 7 to 40% by weight, and more preferably about 10 to 30% by weight in terms of B 2 O 3 . In the glass containing boron, the ratio of silicon may be, for example, 5 to 50% by weight, preferably 7 to 40% by weight, and more preferably about 10 to 35% by weight in terms of SiO 2 .

そして、ホウケイ酸亜鉛ガラスにおいて、亜鉛の割合は、ZnO換算で、例えば、7〜85重量%(例えば、10〜80重量%)、好ましくは12〜75重量%(例えば、15〜75重量%)、さらに好ましくは18〜72重量%(例えば、20〜70重量%)程度であってもよく、通常10重量%以上[例えば、10〜85重量%(例えば、15〜80重量%)程度]であってもよい。   And in zinc borosilicate glass, the ratio of zinc is 7-85 weight% (for example, 10-80 weight%), for example, preferably 12-75 weight% (for example, 15-75 weight%) in conversion of ZnO. More preferably, it may be about 18 to 72% by weight (for example, 20 to 70% by weight), and usually 10% by weight or more [for example, about 10 to 85% by weight (for example, about 15 to 80% by weight)]. There may be.

なお、ホウケイ酸亜鉛ガラスは、ホウ素(B)、ケイ素(SiO)および亜鉛(ZnO)の他に、金属酸化物[例えば、アルカリ金属酸化物(例えば、LiO、NaO、KOなど)、アルカリ土類金属(例えば、MgO、CaO、SrO、BaOなど)、遷移金属酸化物(例えば、MnO、ZnO)、周期表第13族金属酸化物(例えば、Al)、周期表第14族金属酸化物(例えば、PbO、Pb)、周期表第15族金属酸化物(例えば、Sb、Bi)など]を含んでいてもよい。 In addition, zinc borosilicate glass includes metal oxide [for example, alkali metal oxide (for example, Li 2 O, Na 2 O) in addition to boron (B 2 O 3 ), silicon (SiO 2 ), and zinc (ZnO). , K 2 O, etc.), alkaline earth metals (eg, MgO, CaO, SrO, BaO, etc.), transition metal oxides (eg, MnO 2 , ZnO), periodic table group 13 metal oxides (eg, Al 2). O 3 ), periodic table group 14 metal oxides (eg, PbO, Pb 2 O 5 ), periodic table group 15 metal oxides (eg, Sb 2 O 3 , Bi 2 O 3 ), etc.] Also good.

なお、ホウケイ酸亜鉛ガラスにおいて、ホウ素、ケイ素および亜鉛の総量の割合は、B、SiO、ZnO換算で、50重量%以上(例えば、60〜100重量%)、好ましくは70重量%以上(例えば、75〜99.9重量%)、さらに好ましくは80重量%以上(例えば、85〜99重量%)であってもよい。 In the zinc borosilicate glass, the ratio of the total amount of boron, silicon and zinc is 50% by weight or more (for example, 60 to 100% by weight), preferably 70% by weight in terms of B 2 O 3 , SiO 2 and ZnO. It may be more (for example, 75 to 99.9% by weight), more preferably 80% by weight or more (for example, 85 to 99% by weight).

ガラスは、ホウケイ酸亜鉛ガラスのみで構成してもよく、他のガラスを含んでいてもよい。他のガラスとしては、特に限定されず、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸亜鉛ガラス以外のホウ素(B)を含むガラス(例えば、ホウケイ酸ガラス、鉛ホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸バリウムガラス、ホウケイ酸ストロンチウムガラス、ホウケイ酸カリウムガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ビスマスガラスなど)、鉛ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、リン酸ガラス、石英ガラスなどが挙げられる。他のガラスは、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 The glass may be composed only of zinc borosilicate glass or may contain other glass. Other glass is not particularly limited, for example, soda lime glass, glass containing boron (B 2 O 3 ) other than zinc borosilicate glass (for example, borosilicate glass, lead borosilicate glass, borosilicate barium glass, Strontium borosilicate glass, potassium borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, bismuth borosilicate glass, etc.), lead glass, aluminosilicate glass, phosphate glass, quartz glass and the like. Other glasses may be used alone or in combination of two or more.

ガラスが、他のガラスを含む場合、ホウケイ酸亜鉛ガラスの割合は、ホウケイ酸亜鉛ガラスの亜鉛含量などにもよるが、例えば、40重量%以上(例えば、50〜99.5重量%)、好ましくは60重量%以上(例えば、65〜99重量%)、さらに好ましくは70重量%以上(例えば、75〜95重量%)であってもよい。なお、ガラスが他のガラスを含む場合、ガラス全体に対する亜鉛成分(ホウケイ酸亜鉛ガラス由来の亜鉛成分)の割合は、ZnO換算で、例えば、5〜85重量%、好ましくは8〜80重量%、さらに好ましくは10〜75重量%(例えば、15〜70重量%)程度であってもよい。   When the glass contains other glass, the proportion of the zinc borosilicate glass is, for example, 40% by weight or more (for example, 50 to 99.5% by weight), preferably depending on the zinc content of the zinc borosilicate glass. May be 60% by weight or more (for example, 65 to 99% by weight), more preferably 70% by weight or more (for example, 75 to 95% by weight). In addition, when glass contains other glass, the ratio of the zinc component with respect to the whole glass (zinc component derived from zinc borosilicate glass) is, for example, 5 to 85% by weight, preferably 8 to 80% by weight in terms of ZnO. More preferably, it may be about 10 to 75% by weight (for example, 15 to 70% by weight).

なお、ガラスの形状(又は形態)は、特に限定されないが、通常、粒子状(フリット状)であってもよい。粒子状のガラス(ガラス粒子、ガラスフリット)において、平均粒径(D50)は、例えば、0.1〜50μm、好ましくは0.5〜20μm、さらに好ましくは1〜10μm程度であってもよい。   In addition, although the shape (or form) of glass is not specifically limited, Usually, a particle form (frit shape) may be sufficient. In the particulate glass (glass particles, glass frit), the average particle diameter (D50) may be, for example, about 0.1 to 50 μm, preferably about 0.5 to 20 μm, and more preferably about 1 to 10 μm.

(樹脂)
樹脂としては、特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂などが挙げられる。代表的な樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂[例えば、ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体などのスチレンと(メタ)アクリル系単量体との共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体など]、(メタ)アクリル系樹脂{例えば、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート、ポリイソブチルメタクリレートなど)、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリル系単量体[例えば、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸アルキル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチルなどの(メタ)アクリル酸C1−20アルキル、好ましくは(メタ)アクリル酸C1−10アルキルなど)などの(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリルアミドなど]の単独又は共重合体;熱又は光硬化性アクリル系樹脂など}、オレフィン系樹脂(例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体など)、ビニルエステル系樹脂(例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)、ハロゲン含有樹脂(ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体など)、ポリエステル系樹脂(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレートなどの芳香族ポリエステル系樹脂;脂肪族ポリエステル系樹脂など)、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、多糖類又はその誘導体[例えば、セルロース誘導体(例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースエステル類;メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどのセルロースエーテル類;ニトロセルロースなど)、デンプン、グアガム、アラビアガム、アルギン酸ナトリウムなど]、ゴム又はエラストマー(例えば、アクリルゴム、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴムなど)などが挙げられる。
(resin)
Although it does not specifically limit as resin, For example, a thermoplastic resin etc. are mentioned. Typical resins include, for example, styrene resins [for example, copolymers of styrene and (meth) acrylic monomers such as polystyrene and styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymers, etc. ] (Meth) acrylic resin {for example, poly (meth) acrylic acid ester (for example, polymethyl methacrylate, polybutyl (meth) acrylate, polyisobutyl methacrylate, etc.), methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer, (Meth) acrylic monomers such as methyl methacrylate-acrylic acid ester copolymer and poly (meth) acrylamide [e.g., (meth) acrylic acid; alkyl (meth) acrylate (e.g., methyl (meth) acrylate) , Ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (me ), Such as isobutyl acrylate (meth) acrylic acid C 1-20 alkyl, preferably (meth) acrylic acid C 1-10 alkyl) (meth) acrylic acid esters and the like; either alone or co-of (meth) acrylamide, etc.] Polymer; heat or photo-curable acrylic resin}, olefin resin (for example, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer, etc.), Vinyl ester resins (eg, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, etc.), halogen-containing resins (polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, etc.), polyester resins (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polybutylene naphthalate) Aromatic polyester resins such as aliphatic Polyester resins, etc.), polyurethane resins, polyamide resins, polyimide resins, polysaccharides or derivatives thereof [for example, cellulose derivatives (eg, cellulose esters such as cellulose acetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate; Cellulose ethers such as methylcellulose, ethylcellulose, sodium carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose; nitrocellulose, starch, guar gum, gum arabic, sodium alginate, etc.], rubber or elastomer (for example, acrylic rubber, Butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, etc.).

樹脂は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The resins may be used alone or in combination of two or more.

(各成分および亜鉛成分の割合)
本発明の組成物において、白色顔料とガラスとの割合は、前者/後者(重量比)=99/1〜1/99(例えば、95/5〜5/95)の範囲から選択でき、例えば、90/10〜10/90、好ましくは80/20〜20/80、さらに好ましくは75/25〜25/75(例えば、70/30〜30/70)程度であってもよく、特に65/35〜25/75(例えば、65/35〜30/70、好ましくは60/40〜35/65、さらに好ましくは55/45〜40/60)程度であってもよい。
(Ratio of each component and zinc component)
In the composition of the present invention, the ratio between the white pigment and the glass can be selected from the range of the former / the latter (weight ratio) = 99/1 to 1/99 (for example, 95/5 to 5/95). It may be 90/10 to 10/90, preferably 80/20 to 20/80, more preferably about 75/25 to 25/75 (for example, 70/30 to 30/70), particularly 65/35. To about 25/75 (for example, 65/35 to 30/70, preferably 60/40 to 35/65, and more preferably 55/45 to 40/60).

樹脂の割合は、白色顔料及びガラスの総量100重量部に対して、例えば、1〜100重量部(例えば、2〜80重量部)、好ましくは3〜70重量部(例えば、5〜60重量部)、さらに好ましくは10〜50重量部(例えば、20〜40重量部)程度であってもよい。   The ratio of the resin is, for example, 1 to 100 parts by weight (for example, 2 to 80 parts by weight), preferably 3 to 70 parts by weight (for example, 5 to 60 parts by weight) with respect to 100 parts by weight of the total amount of white pigment and glass. ), More preferably about 10 to 50 parts by weight (for example, 20 to 40 parts by weight).

本発明の組成物は、前記のように、ガラスが少なくともホウケイ酸亜鉛ガラスを含む。このようなガラス中(ホウケイ酸亜鉛ガラス)の亜鉛の割合は、白色顔料およびガラスの総量に対して、ZnO換算で、例えば、1重量%以上(例えば、1〜90重量%程度)の範囲から選択でき、例えば、1.5重量%以上(例えば、1.5〜80重量%)、好ましくは2重量%以上(例えば、2〜60重量%)、さらに好ましくは3重量%以上(例えば、3〜50重量%)、特に4重量%以上(例えば、4〜40重量%、好ましくは5〜35重量%)程度であってもよい。   In the composition of the present invention, as described above, the glass contains at least zinc borosilicate glass. The ratio of zinc in such glass (zinc borosilicate glass) is, for example, in the range of 1% by weight or more (for example, about 1 to 90% by weight) in terms of ZnO with respect to the total amount of white pigment and glass. For example, 1.5% by weight or more (for example, 1.5 to 80% by weight), preferably 2% by weight or more (for example, 2 to 60% by weight), more preferably 3% by weight or more (for example, 3% ˜50 wt%), in particular, about 4 wt% or more (eg, 4 to 40 wt%, preferably 5 to 35 wt%).

また、ホウケイ酸亜鉛ガラス中の亜鉛の割合は、樹脂100重量部に対して、ZnO換算で、例えば、1〜500重量部(例えば、3〜400重量部)、好ましくは5〜300重量部(例えば、8〜250重量部)、さらに好ましくは10〜200重量部(例えば、15〜150重量部)程度であってもよく、通常5〜200重量部(例えば、8〜180重量部、好ましくは10〜150重量部)程度であってもよい。   Moreover, the ratio of zinc in the zinc borosilicate glass is, for example, 1 to 500 parts by weight (for example, 3 to 400 parts by weight), preferably 5 to 300 parts by weight (in terms of ZnO) with respect to 100 parts by weight of the resin. For example, it may be about 8 to 250 parts by weight), more preferably about 10 to 200 parts by weight (for example, 15 to 150 parts by weight), and usually 5 to 200 parts by weight (for example, 8 to 180 parts by weight, preferably 10 to 150 parts by weight).

(他の成分)
本発明の組成物は、特に、容易に膜を形成するため、溶媒(又は分散媒)を含む組成物であってもよい。溶媒としては、樹脂の種類などに応じて選択でき、組成物に適度な粘度を与え、容易に乾燥処理などにより除去できる(揮発する)溶媒を好適に使用できる。
(Other ingredients)
In particular, the composition of the present invention may be a composition containing a solvent (or a dispersion medium) in order to easily form a film. The solvent can be selected according to the type of resin and the like, and a solvent that gives an appropriate viscosity to the composition and can be easily removed (volatilized) by a drying treatment or the like can be suitably used.

代表的な溶媒としては、例えば、アルコール類{例えば、脂肪族アルコール類(例えば、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、ラウリルアルコール、テトラデシルアルコール、セチルアルコール、オクタデシルアルコール、ヘキサデセノール、オレイルアルコールなどの飽和又は不飽和C6−30脂肪族アルコール、好ましくは飽和又は不飽和C8−24脂肪族アルコールなど)、脂環族アルコール類[例えば、シクロヘキサノールなどのシクロアルカノール類;テルピネオール、ジヒドロテルピネオールなどのテルペンアルコール類(例えば、モノテルペンアルコールなど)など]、芳香脂肪族アルコール(例えば、ベンジルアルコール、フェネチルアルコールなど)、フェノール類[例えば、クレゾール(メタクレゾールなど)など]、多価アルコール類(エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコールなどの(ポリ)C2−4アルキレングリコールなどのグリコール類;グリセリンなどの3以上のヒドロキシル基を有する多価アルコールなど)など}、グリコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールブチルエーテルなどの(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル;2−フェノキシエタノールなどの(ポリ)アルキレングリコールモノアリールエーテルなど)、グリコールエーテルエステル類(例えば、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート)、炭化水素類[例えば、脂肪族炭化水素類(例えば、テトラデカン、オクタデカン、ヘプタメチルノナン、テトラメチルペンタデカンなどの飽和又は不飽和脂肪族炭化水素類)、芳香族炭化水素類(例えば、トルエン、キシレン(パラキシレンなど)など)など]、ケトン類(例えば、アセトン、ジアセトンアルコールなどの鎖状ケトン;イソホロンなどの環状ケトン)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類)、エステル類[例えば、乳酸エステル(乳酸エチルなど)、酢酸エステル(例えば、酢酸ベンジル、酢酸イソボルネオール)などの脂肪酸エステル;安息香酸エステル(安息香酸メチル、安息香酸エチルなど)などの芳香族カルボン酸エステル]、窒素含有溶媒[例えば、アミド類(例えば、ジメチルホルムアミドなどのホルムアミド類)、イミダゾール類(例えば、ジメチルイミダゾールなど)、ジメチルイミダゾリジノンなど]などが挙げられる。 Typical solvents include, for example, alcohols {eg, saturated or unsaturated fatty alcohols (eg, heptanol, octanol, decanol, lauryl alcohol, tetradecyl alcohol, cetyl alcohol, octadecyl alcohol, hexadecenol, oleyl alcohol). C 6-30 aliphatic alcohols, preferably saturated or unsaturated C 8-24 aliphatic alcohols), alicyclic alcohols [eg, cycloalkanols such as cyclohexanol; terpene alcohols such as terpineol and dihydroterpineol ( For example, monoterpene alcohol etc.), araliphatic alcohols (eg benzyl alcohol, phenethyl alcohol etc.), phenols [eg cresol (metacresol etc.) Etc.], polyhydric alcohols (ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycols such as (poly) C 2-4 alkylene glycols such as triethylene glycol; multi having 3 or more hydroxyl groups such as glycerin Etc.}, glycol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol) Monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, triplicate (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as pyrene glycol butyl ether; (poly) alkylene glycol monoaryl ethers such as 2-phenoxyethanol), glycol ether esters (eg, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate), hydrocarbons [eg aliphatic hydrocarbons (eg tetradecane, octadecane, heptamethylnonane) , Saturated or unsaturated aliphatic such as tetramethylpentadecane Hydrocarbons), aromatic hydrocarbons (eg, toluene, xylene (paraxylene, etc.), etc.), ketones (eg, chain ketones, such as acetone and diacetone alcohol; cyclic ketones, such as isophorone), ethers (For example, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane), esters [for example, lactic acid esters (for example, ethyl lactate), fatty acid esters such as acetic acid esters (for example, benzyl acetate, isoborneol acetate); benzoic acid esters (benzoic acid) Aromatic carboxylic acid esters such as methyl and ethyl benzoate], nitrogen-containing solvents [eg, amides (eg, formamides such as dimethylformamide), imidazoles (eg, dimethylimidazole, etc.), dimethylimidazolidinone, etc. ] Etc. are mentioned.

溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The solvents may be used alone or in combination of two or more.

好ましい溶媒としては、沸点が高く、蒸気圧が低いため、印刷中に蒸発しにくいという点で、テルペンアルコール類、グリコールエーテル類、グリコールエーテルエステル類などが挙げられる。   Preferred solvents include terpene alcohols, glycol ethers, glycol ether esters and the like because they have a high boiling point and a low vapor pressure, and thus are difficult to evaporate during printing.

溶媒を含む組成物において、固形分(白色顔料、ガラスおよび樹脂の総量)の割合は、例えば、20重量%以上(例えば、25〜97重量%)、好ましくは30重量%以上(例えば、35〜95重量%)、さらに好ましくは40重量%以上(例えば、45〜90重量%)、特に50重量%以上(例えば、55〜85重量%)程度であってもよく、通常30〜90重量%(例えば、40〜85重量%、好ましくは50〜80重量%)程度であってもよい。特に、溶媒を含む組成物は、比較的高濃度で固形分を含む組成物(ペースト状組成物)であってもよい。   In the composition containing a solvent, the solid content (total amount of white pigment, glass and resin) is, for example, 20% by weight or more (for example, 25 to 97% by weight), preferably 30% by weight or more (for example, 35 to 35%). 95% by weight), more preferably 40% by weight or more (eg 45 to 90% by weight), particularly 50% by weight or more (eg 55 to 85% by weight), and usually 30 to 90% by weight ( For example, it may be about 40 to 85% by weight, preferably about 50 to 80% by weight. In particular, the composition containing a solvent may be a composition containing a solid content at a relatively high concentration (a paste-like composition).

溶媒を含む組成物(特に、ペースト状組成物)の粘度は、用途や適用するコーティング方法などに応じて選択できるが、通常、25℃において、0.5Pa・s以上(例えば、1〜400Pa・s)、好ましくは3Pa・s以上(例えば、5〜300Pa・s)、さらに好ましくは10〜250Pa・s(例えば、20〜200Pa・s)程度であってもよく、通常1〜300Pa・s程度であってもよい。   The viscosity of the composition containing the solvent (particularly the paste-like composition) can be selected according to the application, the coating method to be applied, etc., but usually at 25 ° C., 0.5 Pa · s or more (for example, 1 to 400 Pa · s). s), preferably 3 Pa · s or more (eg, 5 to 300 Pa · s), more preferably about 10 to 250 Pa · s (eg, 20 to 200 Pa · s), and usually about 1 to 300 Pa · s. It may be.

なお、本発明の組成物は、上記成分の他に、必要に応じて、各種添加剤[例えば、安定剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤など)、界面活性剤又は分散剤、分散安定化剤、増粘剤又は粘度調整剤、消泡剤など]などの他の成分を含んでいてもよい。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   In addition to the above components, the composition of the present invention may contain various additives [for example, stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, etc.), surfactants or dispersants, dispersion stabilizers as necessary. , Thickeners or viscosity modifiers, antifoaming agents, etc.]. These additives can be used alone or in combination of two or more.

[反射性基板およびその製造方法]
本発明の組成物は、基板(基板上)に、膜(塗膜又は被膜)、特に、反射膜(又は反射層)を形成するための組成物(反射膜形成用組成物)として好適である。以下に、反射膜(反射性基板)について詳述する。
[Reflective substrate and manufacturing method thereof]
The composition of the present invention is suitable as a composition (a composition for forming a reflective film) for forming a film (a coating film or a film), particularly a reflective film (or a reflective layer) on a substrate (on the substrate). . Hereinafter, the reflective film (reflective substrate) will be described in detail.

本発明の反射性基板は、基板に、本発明の組成物で膜を形成したのち、焼成処理(又は焼結処理)することにより得られる。すなわち、反射性基板は、基板(又は基材)と、この基板上に形成された前記組成物の焼結膜(反射膜)とで構成されている。なお、反射膜では、焼結処理により、樹脂が分解され、白色顔料とガラスとで緻密な膜を形成している。すなわち、基板に形成された焼結前の前記組成物の膜は、反射膜の前駆体(未焼結膜)とも言うことができる。   The reflective substrate of the present invention can be obtained by forming a film on the substrate with the composition of the present invention and then firing (or sintering) the substrate. That is, the reflective substrate is composed of a substrate (or base material) and a sintered film (reflective film) of the composition formed on the substrate. In the reflective film, the resin is decomposed by the sintering process, and a dense film is formed of the white pigment and the glass. That is, the film of the composition before sintering formed on the substrate can also be referred to as a precursor of the reflective film (unsintered film).

基板としては、焼成処理に耐えうる耐熱性を有していればよく、ガラスの種類(焼成又は焼結温度など)によっても選択可能である。このような基板としては、有機材料であってもよいが、通常、無機材料であってもよい。無機材料としては、例えば、金属窒化物(例えば、窒化アルミニウムなど)、金属酸化物(アルミナ、サファイア、ジルコニア、チタニア、酸化イットリウム、酸化インジウム−酸化錫系複合酸化物(ITO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)など)などが挙げられる。特に、窒化アルミニウムで形成された基板(窒化アルミニウム基板)を用いると、反射基板をLED素子(又はその構成材料)として利用できる。   The substrate only needs to have heat resistance capable of withstanding the baking treatment, and can be selected depending on the type of glass (such as baking or sintering temperature). Such a substrate may be an organic material, but may usually be an inorganic material. Examples of the inorganic material include metal nitride (for example, aluminum nitride), metal oxide (alumina, sapphire, zirconia, titania, yttrium oxide, indium oxide-tin oxide composite oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide, and the like. (FTO) etc.). In particular, when a substrate made of aluminum nitride (aluminum nitride substrate) is used, the reflective substrate can be used as an LED element (or a constituent material thereof).

基板の表面は、必要に応じて、酸化処理[表面酸化処理、例えば、放電処理(コロナ放電処理、グロー放電など)、酸処理(クロム酸処理など)、紫外線照射処理、焔処理など]、表面凹凸処理(溶剤処理、サンドブラスト処理など)などの表面処理がされていてもよい。   If necessary, the surface of the substrate is subjected to oxidation treatment [surface oxidation treatment, for example, discharge treatment (corona discharge treatment, glow discharge, etc.), acid treatment (chromic acid treatment, etc.), ultraviolet irradiation treatment, soot treatment, etc., surface Surface treatment such as uneven treatment (solvent treatment, sandblast treatment, etc.) may be performed.

なお、基板(特に、窒化アルミニウム基板)の可視光域(例えば、波長380〜800nmの領域)における反射率の最大値は、例えば、50%以下(例えば、10〜50%)、好ましくは45%以下(例えば、15〜45%)、さらに好ましくは40%以下(例えば、20〜35%)程度であってもよい。   In addition, the maximum value of the reflectance in a visible light region (for example, a region having a wavelength of 380 to 800 nm) of a substrate (particularly, an aluminum nitride substrate) is, for example, 50% or less (for example, 10 to 50%), preferably 45%. It may be below (for example, 15 to 45%), more preferably about 40% or less (for example, 20 to 35%).

基板の厚みは、用途に応じて適宜選択すればよく、例えば、0.05〜10mm、好ましくは0.1〜5mm、さらに好ましくは0.2〜3mm程度であってもよい。   What is necessary is just to select the thickness of a board | substrate suitably according to a use, for example, 0.05-10 mm, Preferably it is 0.1-5 mm, More preferably, it may be about 0.2-3 mm.

基板に対する膜の形成方法は、特に限定されず、溶媒を含まない組成物(粉体組成物)を塗布する方法などであってもよいが、通常、溶媒を含む組成物を塗布(コーティング)する方法であってもよい。塗布方法としては、慣用の方法、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法、フォトリソグラフィ法、インクジェット法などを利用できる。これらのコーティング方法のうち、パターンを描画する場合、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、凹版印刷法(例えば、グラビア印刷法など)、オフセット印刷法、凹版オフセット印刷法、フレキソ印刷法などが汎用される。   The method for forming the film on the substrate is not particularly limited, and may be a method of applying a composition not containing a solvent (powder composition). Usually, a composition containing a solvent is applied (coating). It may be a method. As an application method, for example, a conventional method such as a flow coating method, a spin coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, a casting method, a bar coating method, a curtain coating method, a roll coating method, a gravure coating method, A dipping method, a slit method, a photolithography method, an ink jet method, or the like can be used. Of these coating methods, when drawing a pattern, for example, screen printing, ink jet printing, intaglio printing (eg, gravure printing), offset printing, intaglio offset printing, flexographic printing, etc. are widely used. Is done.

膜(未焼結膜)の厚みは、用途に応じて選択でき、例えば、1〜10000μm(例えば、1〜1000μm)、好ましくは3〜500μm(例えば、3〜300μm)、さらに好ましくは5〜200μm(例えば、10〜100μm)程度であってもよい。   The thickness of the film (unsintered film) can be selected according to the application, for example, 1 to 10000 μm (for example, 1 to 1000 μm), preferably 3 to 500 μm (for example, 3 to 300 μm), and more preferably 5 to 200 μm ( For example, about 10-100 micrometers) may be sufficient.

膜が形成された基板は、反射性基板の前駆体であり、膜(被膜又はパターン)を所定の温度で加熱(又は焼成又は加熱処理)する焼成工程に供される。なお、熱処理に先立って、必要に応じて乾燥処理を行ってもよい。   The substrate on which the film is formed is a precursor of the reflective substrate, and is subjected to a baking process in which the film (film or pattern) is heated (or baked or heat-treated) at a predetermined temperature. In addition, you may perform a drying process as needed prior to heat processing.

焼成温度(焼結温度)は、ガラスの種類(ガラスの溶融温度)や樹脂の種類(樹脂の分解温度)などに応じて選択でき、例えば、400℃以上(例えば、500〜1600℃)、好ましくは600℃以上(例えば、650〜1300℃)、さらに好ましくは700℃以上(例えば、800〜1200℃)、特に800〜1100℃(例えば、850〜1000℃)程度であってもよい。なお、焼成温度での保持時間(焼成時間)は、例えば、1分〜5時間、好ましくは3分〜1時間、さらに好ましくは5分〜30分程度であってもよい。   The firing temperature (sintering temperature) can be selected according to the type of glass (melting temperature of glass), the type of resin (decomposition temperature of resin), and the like, for example, 400 ° C. or higher (eg, 500 to 1600 ° C.), preferably May be 600 ° C. or higher (for example, 650 to 1300 ° C.), more preferably 700 ° C. or higher (for example, 800 to 1200 ° C.), particularly about 800 to 1100 ° C. (for example, 850 to 1000 ° C.). The holding time (calcination time) at the firing temperature may be, for example, 1 minute to 5 hours, preferably 3 minutes to 1 hour, and more preferably about 5 minutes to 30 minutes.

焼成処理は、酸化性雰囲気下で行ってもよいが、用途に応じて基板の酸化を防止するため、非酸化性雰囲気[例えば、窒素、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴンなど)などの不活性ガス]下で行ってもよい。本発明では、このような非酸化性雰囲気下で焼成処理しても、樹脂を効率よく分解して、白色顔料とガラスとの焼結膜を形成できる。   The baking treatment may be performed in an oxidizing atmosphere, but in order to prevent the substrate from being oxidized depending on the application, a non-oxidizing atmosphere [for example, inert gas such as nitrogen, rare gas (helium, neon, argon, etc.) Gas] may be performed. In the present invention, even when baking treatment is performed in such a non-oxidizing atmosphere, the resin can be efficiently decomposed to form a sintered film of white pigment and glass.

得られた反射膜(又は焼結膜、焼成後の塗膜、焼成パターン)の厚みは、用途に応じて0.01〜10000μm程度の範囲から適宜選択でき、例えば、0.01〜5000μm(例えば、0.1〜500μm)、好ましくは1〜400μm(例えば、2〜300μm)、さらに好ましくは3〜150μm(例えば、5〜100μm)程度であってもよい。   The thickness of the obtained reflective film (or sintered film, coating film after baking, baking pattern) can be appropriately selected from the range of about 0.01 to 10000 μm depending on the application, for example, 0.01 to 5000 μm (for example, 0.1 to 500 μm), preferably 1 to 400 μm (for example, 2 to 300 μm), more preferably about 3 to 150 μm (for example, 5 to 100 μm).

このような方法で得られた本発明の反射性基板は、基板と、この基板上に形成された反射膜(前記組成物の焼成膜)とで構成されており、高い白色度、高強度などの優れた特性を有している。   The reflective substrate of the present invention obtained by such a method is composed of a substrate and a reflective film (fired film of the composition) formed on the substrate, and has high whiteness, high strength, etc. It has excellent characteristics.

例えば、本発明の反射性基板(又は反射膜)の可視光域(例えば、波長380〜800nmの領域)における反射率の最大値は、例えば、50%以上(例えば、55〜100%)、好ましくは60%以上(例えば、65〜99%)、さらに好ましくは70%以上(例えば、70〜98%)程度であってもよく、75%以上[例えば、75〜99%、好ましくは80%以上(例えば、82〜98%)、さらに好ましくは85%以上(例えば、87〜97%)]とすることもできる。   For example, the maximum value of the reflectance in the visible light region (for example, a region having a wavelength of 380 to 800 nm) of the reflective substrate (or reflective film) of the present invention is, for example, 50% or more (for example, 55 to 100%), preferably May be 60% or more (for example, 65 to 99%), more preferably 70% or more (for example, 70 to 98%), and 75% or more [for example, 75 to 99%, preferably 80% or more. (For example, 82 to 98%), more preferably 85% or more (for example, 87 to 97%)].

また、本発明の反射性基板(又は反射膜)の鉛筆硬度は、例えば、H以上(例えば、2〜12H)、好ましくは3H以上(例えば、3〜11H)、さらに好ましくは4H以上(例えば、5〜10H)程度であってもよく、5H以上[例えば、5〜12H、好ましくは6H以上(例えば、7〜12H)、さらに好ましくは8H以上(例えば、8〜10H)]とすることもできる。   Moreover, the pencil hardness of the reflective substrate (or reflective film) of the present invention is, for example, H or higher (for example, 2 to 12H), preferably 3H or higher (for example, 3 to 11H), more preferably 4H or higher (for example, 5H or higher [e.g., 5-12H, preferably 6H or higher (e.g., 7-12H), more preferably 8H or higher (e.g., 8-10H)]. .

しかも、本発明の反射性基板は、前記のように、反射膜において樹脂や溶媒の残渣の量を著しく低減でき、白色顔料とガラスとの緻密な膜を形成できるためか、耐熱性にも優れている。そのため、本発明の反射性基板(又は反射膜)を、高温[例えば、200℃以上(例えば、230〜1000℃)、好ましくは250℃以上(例えば、270〜800℃)、さらに好ましくは300℃以上(例えば、320〜600℃)]に曝しても、前記のような反射率や鉛筆硬度を維持できる(又は損なうことがない)。すなわち、本発明の反射性基板の高温に曝した後の反射率および鉛筆硬度は、前記と同様の範囲から選択できる。   In addition, as described above, the reflective substrate of the present invention can remarkably reduce the amount of resin and solvent residues in the reflective film, and can form a dense film of white pigment and glass. ing. Therefore, the reflective substrate (or reflective film) of the present invention is heated at a high temperature [for example, 200 ° C. or higher (for example, 230 to 1000 ° C.), preferably 250 ° C. or higher (for example, 270 to 800 ° C.), more preferably 300 ° C. Even when exposed to the above (for example, 320 to 600 ° C.), the reflectance and pencil hardness as described above can be maintained (or not impaired). That is, the reflectance and pencil hardness after exposure of the reflective substrate of the present invention to a high temperature can be selected from the same ranges as described above.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例においては、以下の成分を使用した。
(白色顔料)
酸化チタン1:平均粒径D50=0.3μm、純度93%
酸化チタン2:平均粒径D50=0.3μm、純度90%
酸化アルミニウム1:平均粒径D50=1μm、純度99.99%
酸化アルミニウム2:平均粒径D50=7μm、純度99.8%
(ガラス)
ガラス1:ホウケイ酸亜鉛ガラスフリット、ZnO含量23重量%、B含量12重量%、SiO含量34重量%、ZrO含量7重量%、TiO含量4重量%、その他20重量%
ガラス2:ホウケイ酸亜鉛ガラスフリット、ZnO含量58重量%、B含量30重量%、SiO含量7重量%、その他5重量%
ガラス3:ホウケイ酸亜鉛ガラスフリット、ZnO含量66重量%、B含量23重量%、SiO含量6重量%、その他5重量%
ガラス4:ホウケイ酸ガラスフリット、B含量21重量%、SiO含量45重量%、その他34重量%
ガラス5:ビスマスガラスフリット、Bi含量46重量%、SiO含量41重量%、その他13重量%
(樹脂)
ポリイソブチルメタクリレート(重量平均分子量250000)
In the examples, the following components were used.
(White pigment)
Titanium oxide 1: Average particle diameter D50 = 0.3 μm, purity 93%
Titanium oxide 2: Average particle diameter D50 = 0.3 μm, purity 90%
Aluminum oxide 1: average particle diameter D50 = 1 μm, purity 99.99%
Aluminum oxide 2: Average particle diameter D50 = 7 μm, purity 99.8%
(Glass)
Glass 1: Zinc borosilicate glass frit, ZnO content 23% by weight, B 2 O 3 content 12% by weight, SiO 2 content 34% by weight, ZrO 2 content 7% by weight, Ti 2 O content 4% by weight, others 20% by weight
Glass 2: Zinc borosilicate glass frit, ZnO content 58% by weight, B 2 O 3 content 30% by weight, SiO 2 content 7% by weight, others 5% by weight
Glass 3: Zinc borosilicate glass frit, ZnO content 66% by weight, B 2 O 3 content 23% by weight, SiO 2 content 6% by weight, others 5% by weight
Glass 4: Borosilicate glass frit, B 2 O 3 content 21% by weight, SiO 2 content 45% by weight, others 34% by weight
Glass 5: Bismuth glass frit, Bi 2 O 3 content 46% by weight, SiO 2 content 41% by weight, others 13% by weight
(resin)
Polyisobutyl methacrylate (weight average molecular weight 250,000)

(実施例および参考例)
60℃に加熱した有機溶媒(ターピネオール)に、樹脂(ポリイソブチルメタクリレート)をプロペラ撹拌しながら溶かし、有機ビヒクルとした。そして、表に示す組成(重量比)となるように、各成分(白色顔料、ガラスフリット、有機ビヒクル)をポリ容器に量り取った。ポリ容器の蓋をし、自転公転式撹拌機を用いて1000rpmで10分間撹拌混合してペースト状の試料[粘度120Pa・s(温度25℃、測定法:E型粘度計使用)]を得た。窒化アルミニウム基板(反射率30%)の表面に、作製したペーストをスクリーン印刷した後、窒素中で昇温降温過程を含めて1時間焼成した。焼成は、昇温速度36℃/分、降温速度36℃/分の条件で行い、ピーク温度900℃において10分間保持した。得られた反射膜の膜厚は30μmであった。
(Examples and Reference Examples)
Resin (polyisobutyl methacrylate) was dissolved in an organic solvent (terpineol) heated to 60 ° C. with propeller stirring to obtain an organic vehicle. Each component (white pigment, glass frit, organic vehicle) was weighed into a plastic container so as to have the composition (weight ratio) shown in the table. A plastic container was covered, and the mixture was stirred and mixed at 1000 rpm for 10 minutes using a rotating and rotating stirrer to obtain a paste-like sample [viscosity 120 Pa · s (temperature: 25 ° C., measurement method: E-type viscometer used)]. . The produced paste was screen-printed on the surface of an aluminum nitride substrate (reflectance 30%) and then baked in nitrogen for 1 hour including the temperature raising and lowering process. Firing was carried out under conditions of a temperature rising rate of 36 ° C./min and a temperature falling rate of 36 ° C./min, and held for 10 minutes at a peak temperature of 900 ° C. The film thickness of the obtained reflective film was 30 μm.

そして、熱処理前後(350℃で1時間)において、得られた反射膜の色および各種特性を評価した。結果を表に示す。なお、反射率は、分光光度計(島津製作所(株)製、「UV−3100PC」)を用いて測定し、表では、可視光域での反射率の最大値を示した。また、鉛筆硬度はJIS−K5600−5−4に従って測定した。   And the color and various characteristics of the obtained reflective film were evaluated before and after heat treatment (1 hour at 350 ° C.). The results are shown in the table. The reflectance was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, “UV-3100PC”), and the maximum value of the reflectance in the visible light range was shown in the table. The pencil hardness was measured according to JIS-K5600-5-4.

なお、表における総合評価は、1辺が30mmの□ベタパターン(30mm×30mmのパターン)部において、目視観察による色が白、可視光域での反射率の最大値70%以上、及び鉛筆硬度3H以上を充足する場合を○、それ以外を×とした。   The overall evaluation in the table is for a solid pattern (30 mm × 30 mm pattern) portion with a side of 30 mm, white color by visual observation, a maximum reflectance of 70% or more in the visible light region, and pencil hardness The case where 3H or more was satisfied was marked with ◯, and the others were marked with x.

Figure 2012140479
Figure 2012140479

また、図1に、分光光度計により測定した、実施例2で得られたベタパターン、実施例7で得られたベタパターンの可視光域における各反射率(熱処理前)を示すグラフを示す。なお、図1では、比較のため、窒化アルミニウム基板の反射率も合わせて示す。   Moreover, the graph which shows each reflectance (before heat processing) in the visible light region of the solid pattern obtained in Example 2 and the solid pattern obtained in Example 7 measured by the spectrophotometer in FIG. 1 is shown. In FIG. 1, the reflectance of the aluminum nitride substrate is also shown for comparison.

表の結果から明らかなように、実施例では、白色度に優れた硬質の反射膜が得られ、しかも、このような反射膜は、高温の加熱によっても反射率が低下しない膜であることがわかった。   As is apparent from the results of the table, in the examples, a hard reflective film excellent in whiteness is obtained, and such a reflective film is a film whose reflectance does not decrease even when heated at high temperature. all right.

本発明の組成物は、優れた反射性を付与できるため、各種用途の反射膜を形成するのに有用である。特に、非酸化性雰囲気(例えば、不活性ガス雰囲気)中で焼結処理しても、高強度、高耐熱性、高反射率の膜を形成可能であるため、非酸化性雰囲気下での加熱が要求される用途、例えば、LED素子の基板などに反射膜を形成するための組成物として好適である。
Since the composition of this invention can provide the outstanding reflectivity, it is useful in forming the reflective film of various uses. In particular, it is possible to form a film with high strength, high heat resistance, and high reflectance even if sintering is performed in a non-oxidizing atmosphere (for example, an inert gas atmosphere). Is suitable as a composition for forming a reflection film on a substrate of an LED element, for example.

Claims (13)

白色顔料、ガラス、および樹脂を含む組成物であって、ガラスがホウケイ酸亜鉛ガラスを含む組成物。   A composition comprising a white pigment, glass, and a resin, wherein the glass comprises zinc borosilicate glass. 白色顔料が、チタン化合物、ジルコニウム化合物、及びアルミニウム化合物から選択された少なくとも1種を含む請求項1記載の組成物。   The composition according to claim 1, wherein the white pigment contains at least one selected from a titanium compound, a zirconium compound, and an aluminum compound. 白色顔料が、平均粒径(D50)0.05〜20μmの粒子である請求項1又は2記載の組成物。   The composition according to claim 1 or 2, wherein the white pigment is a particle having an average particle diameter (D50) of 0.05 to 20 µm. ガラスが、亜鉛をZnO換算で10重量%以上含むホウケイ酸亜鉛ガラスを含む請求項1〜3のいずれかに記載の組成物。   The composition in any one of Claims 1-3 in which glass contains the zinc borosilicate glass which contains zinc 10weight% or more in conversion of ZnO. 白色顔料とガラスとの割合が、前者/後者(重量比)=95/5〜5/95であり、樹脂の割合が、白色顔料及びガラスの総量100重量部に対して3〜70重量部である請求項1〜4のいずれかに記載の組成物。   The ratio of the white pigment to the glass is the former / the latter (weight ratio) = 95/5 to 5/95, and the ratio of the resin is 3 to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the white pigment and the glass. The composition according to any one of claims 1 to 4. 白色顔料が、酸化チタン、酸化ジルコニウムおよび酸化アルミニウムから選択された少なくとも1種を含む平均粒径(D50)0.1〜10μmの粒子であり、ガラスが亜鉛をZnO換算で15〜75重量%含むホウケイ酸亜鉛ガラスを含み、白色顔料とガラスとの割合が前者/後者(重量比)=80/20〜20/80であり、樹脂の割合が、白色顔料及びガラスの総量100重量部に対して、10〜50重量部である請求項1〜5のいずれかに記載の組成物。   The white pigment is particles having an average particle diameter (D50) of 0.1 to 10 μm including at least one selected from titanium oxide, zirconium oxide and aluminum oxide, and the glass contains zinc in an amount of 15 to 75% by weight in terms of ZnO. Including zinc borosilicate glass, the ratio of the white pigment to the glass is the former / the latter (weight ratio) = 80/20 to 20/80, and the ratio of the resin is 100 parts by weight of the total amount of the white pigment and the glass. The composition according to any one of claims 1 to 5, which is 10 to 50 parts by weight. 亜鉛の割合が、樹脂100重量部に対して、ZnO換算で5〜300重量部である請求項1〜6のいずれかに記載の組成物。   The composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the proportion of zinc is 5 to 300 parts by weight in terms of ZnO with respect to 100 parts by weight of the resin. さらに、溶媒を含むペースト状組成物である請求項1〜7のいずれかに記載の組成物。   Furthermore, it is a paste-like composition containing a solvent, The composition in any one of Claims 1-7. 基板に反射膜を形成するための反射膜形成用組成物である請求項1〜8のいずれかに記載の組成物。   The composition according to claim 1, which is a composition for forming a reflective film for forming a reflective film on a substrate. 基板が、窒化アルミニウム基板である請求項9記載の組成物。   The composition according to claim 9, wherein the substrate is an aluminum nitride substrate. 基板に、請求項1〜10のいずれかに記載の組成物で膜を形成したのち、焼成処理する反射性基板の製造方法。   The manufacturing method of the reflective substrate which forms a film | membrane with the composition in any one of Claims 1-10 on a board | substrate, and performs a baking process. 窒化アルミニウム基板を用い、非酸化性雰囲気下、600℃以上で焼成処理する請求項11記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 11, wherein an aluminum nitride substrate is used and the baking treatment is performed at 600 ° C. or higher in a non-oxidizing atmosphere. 請求項11又は12に記載の方法により得られる反射性基板。   A reflective substrate obtained by the method according to claim 11.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014194864A1 (en) * 2013-06-08 2014-12-11 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 Wavelength conversion device, manufacturing method thereof, and related illumination device
WO2015055088A1 (en) * 2013-10-15 2015-04-23 深圳市光峰光电技术有限公司 Manufacturing method for wavelength conversion device
WO2015055089A1 (en) * 2013-10-15 2015-04-23 深圳市光峰光电技术有限公司 Wavelength conversion device, and light source system and projection system therefor
CN104595852A (en) * 2013-10-30 2015-05-06 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 Wavelength conversion device, diffuse reflection layer, light source system and projection system
JP2015193847A (en) * 2015-06-05 2015-11-05 日立化成株式会社 Heat-radiating coating material, and light-emitting diode (led) illumination, heat sink and solar cell module back sheet each coated therewith
CN105278225A (en) * 2014-07-21 2016-01-27 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 Wavelength conversion device, manufacture method thereof, correlative light-emitting device, and projection system
WO2017073680A1 (en) * 2015-10-29 2017-05-04 京セラ株式会社 Light emitting element-mounting substrate and light emitting apparatus
KR20170085605A (en) * 2013-03-05 2017-07-24 아포트로닉스 코포레이션 리미티드 Wavelength conversion device, light-emitting device and projection system
JP2020007533A (en) * 2018-06-27 2020-01-16 日東電工株式会社 Flame retardant material
JP2020072259A (en) * 2018-10-31 2020-05-07 日亜化学工業株式会社 Method of manufacturing package and method of manufacturing light-emitting device
JP2020086428A (en) * 2018-11-21 2020-06-04 台達電子工業股▲ふん▼有限公司Delta Electronics, Inc. Phosphor device
WO2024102660A1 (en) * 2022-11-11 2024-05-16 University Of Maryland, College Park Radiative cooling compositions, precursors for forming the compositions, and coatings formed from the compositions
JP7571216B2 (en) 2018-06-27 2024-10-22 日東電工株式会社 Flame Retardant Materials

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11250809A (en) * 1998-02-26 1999-09-17 Kyocera Corp Plasma display panel
JP2007302510A (en) * 2006-05-11 2007-11-22 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Glass paste composition and barrier rib for display using the same
JP2008226771A (en) * 2007-03-15 2008-09-25 Mitsuboshi Belting Ltd Copper conductive paste, conductor circuit board, and electronic component

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11250809A (en) * 1998-02-26 1999-09-17 Kyocera Corp Plasma display panel
JP2007302510A (en) * 2006-05-11 2007-11-22 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Glass paste composition and barrier rib for display using the same
JP2008226771A (en) * 2007-03-15 2008-09-25 Mitsuboshi Belting Ltd Copper conductive paste, conductor circuit board, and electronic component

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102066153B1 (en) * 2013-03-05 2020-01-14 아포트로닉스 코포레이션 리미티드 Wavelength conversion device, light-emitting device and projection system
KR20170085605A (en) * 2013-03-05 2017-07-24 아포트로닉스 코포레이션 리미티드 Wavelength conversion device, light-emitting device and projection system
KR101739909B1 (en) * 2013-06-08 2017-05-26 아포트로닉 차이나 코포레이션 Wavelength conversion device, manufacturing method thereof, and related illumination device
JP2016526191A (en) * 2013-06-08 2016-09-01 深▲せん▼市繹立鋭光科技開発有限公司Appotronics(China)Corporation Wavelength conversion device, manufacturing method thereof, and related light emitting device
WO2014194864A1 (en) * 2013-06-08 2014-12-11 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 Wavelength conversion device, manufacturing method thereof, and related illumination device
US20210404631A1 (en) * 2013-06-08 2021-12-30 Appotronics Corporation Limited Wavelength conversion device, manufacturing method thereof, and related illumination device
US11022276B2 (en) 2013-06-08 2021-06-01 Appotronics Corporation Limited Wavelength conversion device, manufacturing method thereof, and related illumination device
JP2017216244A (en) * 2013-06-08 2017-12-07 深▲せん▼市繹立鋭光科技開発有限公司Appotronics(China)Corporation Wavelength conversion device, manufacturing method thereof and related light-emitting device
KR20160070122A (en) * 2013-10-15 2016-06-17 아포트로닉스 코포레이션 리미티드 Manufacturing method for wavelength conversion device
US20160266375A1 (en) * 2013-10-15 2016-09-15 Appotronics Corporation Limited Manufacturing method for wavelength conversion device
JP2016536633A (en) * 2013-10-15 2016-11-24 アポトロニクス コーポレイション リミテッド Method for manufacturing wavelength converter
WO2015055089A1 (en) * 2013-10-15 2015-04-23 深圳市光峰光电技术有限公司 Wavelength conversion device, and light source system and projection system therefor
KR101954126B1 (en) * 2013-10-15 2019-03-05 아포트로닉스 코포레이션 리미티드 Manufacturing method for wavelength conversion device
EP3059493A4 (en) * 2013-10-15 2017-06-14 Appotronics Corporation Limited Manufacturing method for wavelength conversion device
WO2015055088A1 (en) * 2013-10-15 2015-04-23 深圳市光峰光电技术有限公司 Manufacturing method for wavelength conversion device
CN104566230A (en) * 2013-10-15 2015-04-29 深圳市光峰光电技术有限公司 Wavelength conversion device, and light source system and projection system thereof
US10288872B2 (en) 2013-10-15 2019-05-14 Appotronics Corporation Limited Wavelength conversion device, and light source system and projection system therefor
US10146045B2 (en) * 2013-10-15 2018-12-04 Appotronics Corporation Limited Manufacturing method for wavelength conversion device
CN104595852A (en) * 2013-10-30 2015-05-06 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 Wavelength conversion device, diffuse reflection layer, light source system and projection system
CN105278225B (en) * 2014-07-21 2018-05-15 深圳市光峰光电技术有限公司 Wavelength converter and preparation method thereof, related lighting fixtures and projection arrangement
CN105278225A (en) * 2014-07-21 2016-01-27 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 Wavelength conversion device, manufacture method thereof, correlative light-emitting device, and projection system
JP2015193847A (en) * 2015-06-05 2015-11-05 日立化成株式会社 Heat-radiating coating material, and light-emitting diode (led) illumination, heat sink and solar cell module back sheet each coated therewith
US10326066B2 (en) 2015-10-29 2019-06-18 Kyocera Corporation Light emitting element-mounting substrate and light emitting apparatus
WO2017073680A1 (en) * 2015-10-29 2017-05-04 京セラ株式会社 Light emitting element-mounting substrate and light emitting apparatus
JPWO2017073680A1 (en) * 2015-10-29 2018-08-02 京セラ株式会社 Light emitting element mounting substrate and light emitting device
JP7465633B2 (en) 2018-06-27 2024-04-11 日東電工株式会社 Flame Retardant Materials
JP2020007533A (en) * 2018-06-27 2020-01-16 日東電工株式会社 Flame retardant material
JP7571216B2 (en) 2018-06-27 2024-10-22 日東電工株式会社 Flame Retardant Materials
JP2020072259A (en) * 2018-10-31 2020-05-07 日亜化学工業株式会社 Method of manufacturing package and method of manufacturing light-emitting device
JP2021039358A (en) * 2018-11-21 2021-03-11 台達電子工業股▲ふん▼有限公司Delta Electronics, Inc. Phosphor device
JP2020086428A (en) * 2018-11-21 2020-06-04 台達電子工業股▲ふん▼有限公司Delta Electronics, Inc. Phosphor device
WO2024102660A1 (en) * 2022-11-11 2024-05-16 University Of Maryland, College Park Radiative cooling compositions, precursors for forming the compositions, and coatings formed from the compositions
US20240166933A1 (en) * 2022-11-11 2024-05-23 University Of Maryland, College Park Radiative cooling compositions, precursors for forming the compositions, and coatings formed from the compositions

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