JP2011524771A - 吸収性物品内のセンサの腐食低減方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】吸収性物品におけるセンサの腐食低減方法は、吸収性物品に組み込まれた濡れセンサと電気的に接続するように適合されたモニタを提供するステップを含む。濡れセンサは、第1の導体及び第2の導体を有し、モニタは、モニタが取り付けられかつ始動されたときに一連のステップを繰り返し実行するプログラミング命令を含み、一連のステップは、第1の導体に電圧を印加するステップと、両導体間の電位差を測定するステップと、第1の導体への電圧印加を停止するステップとを含む。プログラミング命令はまた、第1及び第2の導体に二者択一的に電圧を印加するステップ及び/または電圧印加を停止した後に第1の導体及び/または第2の導体を接地するステップを含む一連のステップを繰り返し実行し得る。
【選択図】図11
Description
Claims (20)
- 吸収性物品におけるセンサの腐食低減方法であって、
吸収性物品に組み込まれた濡れセンサと電気的に接続するように適合されたモニタを提供するステップを含み、前記濡れセンサが、第1の導体及び第2の導体を有し、前記モニタが、前記吸収性物品内の前記センサに取り付けられかつ始動されたときに一連のステップを実行するプログラミング命令を含み、前記一連のステップが、
前記濡れセンサの前記第1の導体に電圧を印加するステップと、
前記両導体間の電位差を測定するステップと、
前記第1の導体への電圧印加を停止するステップとを含み、
前記一連のステップが少なくとも毎秒1回繰り返し実行され、前記第1の導体に電圧が印加される時間割合が10%以下であり、かつ前記第1の導体への電圧印加が停止される時間割合が90%以上であることを特徴とする方法。 - 前記プログラミング命令が、前記一連のステップを少なくとも毎秒3回繰り返し実行するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記第1の導体に電圧が印加される時間割合が5%以下であり、かつ前記第1の導体への電圧印加が停止される時間割合が95%以上であることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、第1の期間にわたって第1の周波数で前記一連のステップを繰り返し実行するステップと、第2の期間にわたって第2の周波数で前記一連のステップを繰り返し実行するステップとをさらに含み、前記第1の周波数と前記第2の周波数とが互いに異なることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、前記第1の導体への電圧印加を停止した後に前記第1の導体を接地するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、
前記第1の導体への電圧印加を停止した後に前記第2の導体に電圧を印加するステップと、
前記両導体間の電位差を測定するステップと、
前記第2の導体への電圧印加を停止するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記プログラミング命令が、
前記第1の導体への電圧印加を停止した後に前記第1の導体を接地するステップと、
前記第2の導体への電圧印加を停止した後に前記第2の導体を接地するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 吸収性物品におけるセンサの腐食低減方法であって、
吸収性物品に組み込まれた濡れセンサと電気的に接続するように適合されたモニタを提供するステップを含み、前記濡れセンサが、第1の導体及び第2の導体を有し、前記モニタが、前記吸収性物品内の前記センサに取り付けられかつ始動されたときに一連のステップを繰り返し実行するプログラミング命令を含み、前記一連のステップが、
前記第1の導体に電圧を印加するステップと、
前記両導体間の電位差を測定するステップと、
前記第1の導体への電圧印加を停止するステップと、
前記第2の導体に電圧を印加するステップと、
前記両導体間の電位差を測定するステップと、
前記第2の導体への電圧印加を停止するステップとを含むことを特徴とする方法。 - 前記プログラミング命令が、前記一連のステップを少なくとも毎秒1回繰り返し実行するステップをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、前記一連のステップを少なくとも毎秒3回繰り返し実行するステップをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、第1の期間にわたって第1の周波数で前記一連のステップを繰り返し実行するステップと、第2の期間にわたって第2の周波数で前記一連のステップを繰り返し実行するステップとをさらに含み、前記第1の周波数と前記第2の周波数とが互いに異なることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記第1の導体に電圧が印加される時間割合が10%以下であり、かつ前記第1の導体への電圧印加が停止される時間割合が90%以上であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記第2の導体に電圧が印加される時間割合が10%以下であり、かつ前記第2の導体への電圧印加が停止される時間割合が90%以上であることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、前記第1の導体への電圧印加を停止した後に前記第1の導体を接地するステップをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、
前記第1の導体への電圧印加を停止した後に前記第1の導体を接地するステップと、
前記第2の導体への電圧印加を停止した後に前記第2の導体を接地するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。 - 吸収性物品におけるセンサの腐食低減方法であって、
吸収性物品に組み込まれた濡れセンサと電気的に接続するように適合されたモニタを提供するステップを含み、前記濡れセンサが、第1の導体及び第2の導体を有し、前記モニタが、前記吸収性物品に取り付けられかつ始動されたときに一連のステップを繰り返し実行するプログラミング命令を含み、前記一連のステップが、
前記第1の導体に電圧を印加するステップと、
前記両導体間の電位差を測定するステップと、
前記第1の導体への電圧印加を停止するステップと、
前記第1の導体を接地するステップと、
前記第2の導体に電圧を印加するステップと、
前記両導体間の電位差を測定するステップと、
前記第2の導体への電圧印加を停止するステップと、
前記第2の導体を接地するステップとを含むことを特徴とする方法。 - 前記プログラミング命令が、前記一連のステップを少なくとも毎秒1回繰り返し実行するステップをさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、前記一連のステップを少なくとも毎秒3回繰り返し実行するステップをさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記プログラミング命令が、第1の期間にわたって第1の周波数で前記一連のステップを繰り返し実行するステップと、第2の期間にわたって第2の周波数で前記一連のステップを繰り返し実行するステップとをさらに含み、前記第1の周波数と前記第2の周波数とが互いに異なることを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記第1の導体に電圧が印加される時間割合が10%以下であり、前記第1の導体への電圧印加が停止される時間割合が90%以上であり、前記第2の導体に電圧が印加される時間割合が10%以下であり、かつ前記第2の導体への電圧印加が停止される時間割合が90%以上であることを特徴とする請求項16に記載の方法。
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