JP2011062663A - 排ガス処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】触媒の酸性硫安被毒を防止するとともに、ダイオキシン類の除去性能を向上できる排ガスの処理方法を提供する。
【解決手段】ＳＯｘ及びＮＯｘを含む排ガスと該排ガス中に供給されるＮＯｘ還元剤とを、触媒を担持するバグフィルタに通過させ、前記触媒を担持するバグフィルタの出口側における前記排ガス中のＳＯｘ濃度及びＮＯｘ濃度を減少させる排ガス処理方法であって、前記触媒を担持するバグフィルタの入口側において、前記排ガス中に供給される消石灰、重曹、生石灰、及び苛性ソーダのうち少なくとも１種を含む粉体、水溶液及びスラリーのいずれかの供給量を、前記触媒を担持するバグフィルタの出口側における前記ＳＯｘ濃度に基づいて制御することを特徴とする排ガス処理方法。
【選択図】図２

Description

本発明は、都市ゴミ焼却炉や各種燃焼炉から発生するＨＣｌ、ＳＯｘやＮＯｘ等の有害物質を含む排ガスの処理方法に関する。

ゴミ焼却炉等から排出される排ガス中には、ＨＣｌ、ＳＯｘなどの酸性ガス、ＮＯｘ、ダイオキシン類、煤塵などの有害物質が含まれる。これらの有害物質を除去するために、焼却炉の出口側に、排ガス処理装置が設けられる。

特許文献１に、触媒をコーティングしたろ過式フィルタ（以下、触媒バグフィルタと称す）を備えるろ過式反応集塵装置を設け、酸性ガス、ＮＯｘ、ダイオキシン類、煤塵の除去を触媒バグフィルタで同時に除去する方法が記載されている。この方法では、触媒バグフィルタの上流側に、アルカリ性粉体及びＮＯｘの還元剤であるアンモニアが供給される。排ガス中の酸性ガスは、アルカリ性粉体により中和除去される。未反応のアルカリ性粉体は、煤塵とともに触媒バグフィルタ表面に堆積層を形成する。排ガス中の未反応の酸性ガスは、堆積層を通過する際にアルカリ性粉体と反応して中和固体化し、触媒バグフィルタによりろ過除去される。堆積層を通過した排ガス、還元剤及びダイオキシンは、触媒バグフィルタの触媒層に到達する。触媒層において、排ガス中のＮＯｘが還元剤と反応してＮ_２となり、大気中に放出される。また、ダイオキシンは、触媒層において酸化分解され、無害なガスとして大気中に放出される。

上記排ガス処理では、中和されなかったＳＯｘがアンモニアと反応し、酸性硫安（硫酸水素アンモニウム）が発生する。この酸性硫安が触媒層に吸着すると、触媒の活性面が減少するため触媒被毒（酸性硫安被毒）が生じ、触媒活性が低下する。この結果、触媒バグフィルタでのＮＯｘ除去機能及びダイオキシン分解機能が低下する。触媒バグフィルタでは、触媒層に到達するＳＯｘ濃度が高いほど酸性硫安被毒が発生しやすい。

特許文献２には、触媒を担持しないバグフィルタを用いた排ガス処理装置が開示されている。特許文献２の排ガス処理装置では、バグフィルタ後段の脱硝反応塔でＮＯｘが分解除去される。脱硝反応塔の触媒の酸性硫安被毒を防止するために、バグフィルタ出口側の排ガス中のＳＯ_２濃度を計測し、計測されたＳＯ_２濃度に基づき、排ガス中に供給されるアルカリ剤の供給量が調整される。
特許文献３には、触媒を担持しないバグフィルタを用いた排ガス処理装置において、排ガス中の酸性ガスを除去する際に、排ガスの温度、バグフィルタ入口側の酸性ガス濃度、及びボイラ蒸発量に基づいて、塩基性吸収剤の噴霧量を制御することが開示されている。

特開平１−２９３１２３号公報（第２頁右下欄１４行〜第３頁右上欄５行） 特開２００３−２１０９３４号公報（請求項１、段落［０００５］、［００１１］〜［００１３］） 特開平１０−２９６０４６号公報（請求項１〜６）

特許文献２及び３のように触媒を担持しないバグフィルタでは、出口側ＳＯｘ濃度の規制値は、通常２０〜５０ｐｐｍ以下とされている。このように高ＳＯｘ濃度の排ガスが後段の脱硝反応塔に流入すると、酸性硫安被毒が発生することになる。従って、脱硝反応塔内の触媒の酸性硫安被毒を防止するためには、触媒層温度を２２０〜２３０℃程度に維持する必要があった。触媒バグフィルタを用いる特許文献１の排ガス処理でも、上記出口側ＳＯｘ濃度の規制値にて酸性硫安被毒を防止するために、通常２２０〜２３０℃程度で運転されるのが一般的であった。
しかし、このように高温での排ガス処理では、排ガスを昇温させるための熱エネルギーが必要である上、ガス体積が大きくなり、集塵装置や触媒反応塔を大きくする必要がある。また、排ガス処理に要する熱エネルギーを低減させるために、排ガス処理を２００℃以下で実施すると、触媒に対する酸性硫安被毒が顕著になり、長時間に亘る運転ができなかった。

処理温度を２００℃以下に低下させて排ガス処理を実施するために、低温でも酸性硫安被毒されないように触媒を改良することも考案されていた。しかし、このような触媒は非常に高価であるため、大幅なコスト増加を招き実用的ではない。

廃棄物の焼却ではゴミ性状の変化などに起因して、運転中に排ガス中のＳＯｘ濃度が瞬間的に大きく変動する。例えば特許文献２のように触媒を担持しないバグフィルタを用いた排ガス処理では、バグフィルタ出口側ＳＯｘ濃度の規制値が２０ｐｐｍと極めて高いため、堆積層によりＳＯｘ濃度の変動分が十分に緩和される。触媒を担持するバグフィルタを使用する場合は、酸性硫安被毒を防止するためにＳＯｘ濃度の変動に対してより厳密な管理が必要とされていた。

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、触媒の酸性硫安被毒を防止するとともに、ダイオキシン類の除去性能を向上できる排ガスの処理方法を提供する。

上記課題を解決するために、本発明の排ガス処理方法は、ＳＯｘ及びＮＯｘを含む排ガスと該排ガス中に供給されるＮＯｘ還元剤とを、触媒を担持するバグフィルタに通過させ、前記触媒を担持するバグフィルタの出口側における前記排ガス中のＳＯｘ濃度及びＮＯｘ濃度を減少させる排ガス処理方法であって、前記触媒を担持するバグフィルタの入口側において、前記排ガス中に供給される消石灰、重曹、生石灰、苛性ソーダのうち少なくとも１種を含む粉体、水溶液及びスラリーのいずれかの供給量を、前記触媒を担持するバグフィルタの出口側における前記ＳＯｘ濃度に基づいて制御することを特徴とする。

本発明者らの検討の結果、触媒を担持するバグフィルタ断面でのＳＯｘ濃度は、図１に示す分布になることが明らかとなった。触媒を担持するバグフィルタ１０の排ガス入口側の表面に予め助剤粉体の保護層（プリコート層）１１が形成される。保護層１１の表面に、中和剤中のアルカリ性薬品（消石灰、重曹、生石灰、苛性ソーダ）、アルカリ性薬品と酸性ガスとの中和反応生成物、助剤粉体及び飛灰の堆積層１２が形成される。図１に示すように、アルカリ性薬品を含む堆積層１２内で脱硫反応が起こるためにＳＯｘ濃度が入口側から出口側に向かって急激に減少し、保護層１１及び触媒を担持するバグフィルタ１０ではＳＯｘ濃度は変化しない。上記知見によれば、バグフィルタ出口側でのＳＯｘ濃度を監視し、出口側ＳＯｘ濃度に基づいて中和剤の供給量を制御することで、バグフィルタに担持された触媒の酸性硫安被毒を抑制し、バグフィルタの耐用年数を長くすることができる。

上記発明において、前記触媒を担持するバグフィルタの運転温度が、１５０℃以上２００℃以下であることが好ましい。
本発明の排ガス処理方法は、従来の運転温度（２００〜２３０℃）よりも低い温度であっても、十分にＮＯｘが除去されることにより、触媒に対する被毒が抑制されるとともに、ダイオキシン類の除去率も向上される。また、ガス体積が低減され、バグフィルタを収容する集塵装置を小型化することができる。

上記発明において、前記出口側のＳＯｘ濃度の上限値が、前記触媒を担持するバグフィルタの酸性硫安被毒による劣化に基づいて決定されることが好ましい。

触媒を担持するバグフィルタの触媒は酸性硫安被毒により劣化して、時間経過と共に反応活性率が低下する。この劣化をより効果的に抑制するためには、前記出口側のＳＯｘ濃度の上限値が、５ｐｐｍ以下であることが好ましい。バグフィルタ出口側のＳＯｘ濃度を５ｐｐｍ以下で排ガス処理工程を管理することにより、例えば処理温度が低い場合であっても、触媒の酸性硫安被毒を十分に抑制できる。この結果、触媒を担持するバグフィルタの耐用年数を長くすることができる。

上記発明において、前記バグフィルタの出口側における前記排ガス中の前記ＮＯｘ濃度及びアンモニアガス濃度の少なくとも一方を検出し、前記検出されたアンモニアガスの濃度が所定値を超える場合に、前記ＮＯｘ還元剤の供給量を減少させ、前記検出されたＮＯｘ濃度が所定値を超える場合に、前記ＮＯｘ還元剤の供給量を増加させることが好ましい。

バグフィルタ出口側のＮＯｘ濃度及びアンモニアガス濃度に基づいて、排ガス中に供給されるＮＯｘ還元剤の量を制御することで、酸性硫安の生成を抑制し、触媒の酸性硫安被毒をより効果的に防止することができる。

本発明によれば、既存の触媒を使用しても触媒が被毒され難い。特に、出口側ＳＯｘ濃度の上限値を５ｐｐｍ以下で管理し中和剤供給量を制御すると、例えば２００℃以下の低温での排ガス処理においても、ゴミ性状などの変化による急激なＳＯｘ濃度の変動にも十分対応することができる。その結果、触媒を担持するバグフィルタの寿命を長くすることができる。

集塵装置内に設置された触媒を担持するバグフィルタの断面でのＳＯｘ濃度分布を示す概略図である。 第１実施形態に係る排ガス処理装置の概略図である。 第１実施形態に係る排ガス処理装置の変形例の概略図である。 第１実施形態に係る排ガス処理装置の別の変形例の概略図である。 １８０℃で一定の排ガス温度で、出口側ＳＯｘ濃度を変化させたときの反応活性率の経時変化を示すグラフである。 排ガス処理温度を変化させたときの出口側ＳＯｘ濃度と触媒を担持したバグフィルタの寿命との関係を示すグラフである。 第２実施形態に係る排ガス処理装置の概略図である。

＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る排ガス処理方法を、図面を参照して説明する。
図２は、第１実施形態に係る排ガス処理装置の概略図である。排ガス処理装置２０は、減温塔２１、中和剤供給装置２２、中和剤供給量コントローラ２３、ＮＯｘ還元剤供給装置２４、集塵装置２５、及び、ＳＯｘ濃度検出装置２６を備える。集塵装置２５の内部は、複数の室に隔離され、各室内に触媒を担持するバグフィルタ（触媒バグフィルタ）が設けられる。

触媒として、酸化チタン、五酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化タングステンなどを含むチタン−バナジウム系触媒が使用できる。バグフィルタに触媒を担持させる方法として、触媒微粒子のエマルジョンあるいはスラリーを布に含浸させる方法、触媒繊維と他の繊維（ガラス繊維、金属繊維など）とを用いて布を織る方法、触媒を担持させた繊維（ガラス繊維、金属繊維など）で布を織る方法、袋状の濾布に触媒を入れる方法、触媒を入れた袋を濾布に縫い付ける方法、などがある。

以下に、本実施形態の排ガス処理方法を説明する。
ゴミ焼却炉で発生した煤塵を含む排ガスは、高温排ガスの熱エネルギーを回収するための発電用ボイラを通過した後に、排ガス処理装置２０の減温塔２１に導入される。減温塔２１内に、タンク２７に貯蔵された水が水供給装置２８により供給される。これにより、ボイラから流入した排ガスの温度が、例えば１５０〜２００℃程度まで低減される。降温された排ガスは、減温塔２１から排出される。

ＳＯｘなどの酸性ガスの中和剤が、中和剤貯蔵タンク２９に貯蔵される。貯蔵された中和剤は、減温塔２１と集塵装置２５との間で、中和剤供給装置２２から排ガス中に供給される。中和剤は、アルカリ性薬品として消石灰、生石灰、重曹、苛性ソーダの少なくとも一つを含む。図２の排ガス処理装置では、中和剤は粉体とされる。排ガス中に供給された中和剤は酸性ガスと反応し、中和反応生成物として塩が生成される。この反応により、排ガス中の酸性ガス濃度が低減する。

図３は、本実施形態に係る排ガス処理装置の一変形例である。本変形例の排ガス処理装置４０では、中和剤は、上記アルカリ性薬品のスラリーまたは水溶液とされる。アルカリ性薬品のスラリーまたは水溶液は、中和剤貯蔵タンク４１に貯蔵され、ポンプ４２により減温塔２１内に供給される。アルカリ性薬品のスラリーまたは水溶液により、排ガス中のＳＯｘが中和除去されるとともに、減温塔２１内のガスが１５０〜２００℃程度に冷却される。

図４は、本実施形態に係る排ガス処理装置の別の変形例である。本変形例の排ガス処理装置６０は、第１中和剤供給装置６１及び第２中和剤供給装置６２を備え、それぞれにアルカリ性粉体を貯蔵する第１タンク６３及び第２タンク６４が接続される。排ガス上流側の第１中和剤供給装置６１からＳＯｘとの反応性は低いが廉価な生石灰または消石灰が排ガス中に噴射され、排ガス中のＳＯｘのほとんどが除去される。そして、下流側にて第２中和剤供給装置６２からＳＯｘとの反応性は高く高価な重曹が排ガス中に噴射され、低濃度のＳＯｘが中和除去される。こうすることで、排ガス中のＳＯｘ濃度を低コストで効率的に低減できる。

図２乃至図４の排ガス処理装置において、減温塔２１と集塵装置２５との間で、ＮＯｘ還元剤貯蔵タンク３０に貯蔵されたＮＯｘ還元剤が、ＮＯｘ還元剤供給装置２４により排ガス中に供給される。ＮＯｘ還元剤としては、アンモニアガス、アンモニア水、尿素水が使用できる。アンモニア水が高温排ガス中に供給されると、アンモニアガスが発生する。また、尿素水の場合、高温排ガス中にて尿素が分解され、アンモニアガスが発生する。
減温塔２１と集塵装置２５との間で、排ガス中に助剤粉体が助剤供給装置（不図示）により供給される。助剤粉体は、ゼオライト、アルミナ、ケイソウ土、パーライト、活性白土、カオリン、長石、石英などとされ、好ましくは、ケイソウ土、パーライト及びゼオライトの中から選択される１種または２種以上の混合物とされる。なお、助剤粉体は、予め集塵装置２５に収容されていても良い。

上記中和剤及びアンモニアガスを含む排ガスは、集塵装置２５に導入される。本実施形態では、触媒バグフィルタの温度が１５０℃以上２００℃以下にて、集塵装置２５が運転される。

排ガスが集塵装置内の各室に設置された触媒バグフィルタを通過する際、図１の断面図に示すように、保護層１１の表面に、中和剤中のアルカリ性薬品、アルカリ性薬品と酸性ガスとの中和反応生成物、助剤粉体及び煤塵が捕集され、堆積層１２が形成される。排ガスが堆積層１２を通過する際に、排ガス中に残留するＳＯｘなどの酸性ガスが、堆積層１２中のアルカリ性薬品と反応する。また、排ガス中の煤塵および粒子状ダイオキシン類が、堆積層１２のろ過効果により除去される。堆積層１２及び保護層１１を通過した排ガスは、アンモニアガスを伴って触媒バグフィルタ１０に到達する。触媒バグフィルタ１０において、排ガス中のＮＯｘがアンモニアガスによってＮ_２ガスと水に還元される。ガス状ダイオキシン類は、触媒バグフィルタ１０上で酸化分解される。
上記工程により、集塵装置２５から排出される排ガスは、煤塵、ダイオキシン類が除去され、ＳＯｘ及びＮＯｘも低減される。

本実施形態では、中和剤の供給量は以下のように管理される。
中和剤供給装置２２，４２から、所定量の中和剤（標準中和剤供給量）が供給される。この標準中和剤供給量は、本実施形態の排ガス処理装置２０，４０，６０の前段に設けられるボイラでの蒸気発生量に基づいて決定される。ボイラでの蒸気発生量は、ボイラの負荷の指標である。すなわち、蒸気発生量が多くなればボイラの負荷が高くなるため、ＳＯｘ発生量も増大する。ボイラで発生する蒸気発生量と中和剤供給量との関係を、例えば試運転時に予め取得しておく。中和剤供給量コントローラ２３は、排ガス処理時に計測された蒸気発生量を取得し、上述の蒸気発生量と中和剤供給量との関係に基づき、中和剤供給装置２３からの標準中和剤供給量を制御する。

但し、定期的に実施される触媒バグフィルタの逆洗を考慮して、標準中和剤供給量の最低量を決定しても良い。バグフィルタの逆洗では図１に示す堆積層１２が除去されるため、逆洗直後では堆積層１２で中和除去されていたＳＯｘが触媒層に到達する恐れがある。そこで、堆積層１２が失われた直後でも触媒が酸性硫安被毒されない量の中和剤が、排ガスの全処理期間に亘り中和剤供給装置から供給される。例えば、１時間当りの標準中和剤供給量の最低量Ｗは、式（１）により求められる。
Ｗ＝（一度に逆洗される室の数）×（一室当たりのろ過面積）
×（標準的な堆積層厚み）×（飛灰密度） ・・・（１）
逆洗は、通常１室ごとに実施する。標準的な堆積層の厚みは、約１０ｍｍである。飛灰密度は、約３００ｋｇ／ｍ^３である。
なお、飛灰の性質はプラント毎に異なるため、プラントによってバグフィルタへの付着量に差が生じる。そのため、中和剤最低供給量は、式（１）で得た値を目安値として、中和剤供給量を目安値から増減させて試運転を行い、最適な標準中和剤供給量の最低量Ｗを決定すると良い。こうすることで、逆洗直後に堆積層が無い状態でも触媒の酸性硫安被毒を抑制できる。

集塵装置２５の下流側に設けられたＳＯｘ濃度検出装置２６は、集塵装置２５から排出された排ガス中のＳＯｘ濃度（バグフィルタ出口側ＳＯｘ濃度）を検出する。検出されたＳＯｘ濃度の値は、中和剤供給量コントローラ２３に送信される。コントローラ２３は、検出されたＳＯｘ濃度値がＳＯｘ濃度上限値よりも大きい場合に、中和剤供給装置２２，４２から供給される中和剤の量を、上記標準中和剤供給量から増加させる。

ここで、上記ＳＯｘ濃度上限値は、触媒の酸性硫安被毒による劣化を考慮して設定される。
触媒の反応活性率は、酸性硫安被毒により時間経過とともに低下する。反応活性率は、排ガス処理開始直後の触媒バグフィルタの反応活性度（反応速度定数）をＫ_０、被毒後の反応活性度をＫとしたとき、Ｋ／Ｋ_０と定義される。反応活性率Ｋ／Ｋ_０が、一定基準を下回った時点で、触媒の交換または逆洗（触媒再生）が必要となる。実用的には、例えば反応活性率が０．７まで低下したときに、触媒の交換または再生工程が実施されることもある。
図５は、出口側ＳＯｘ濃度を変化させたときの反応活性率の経時変化の傾向を説明するための概念図である。同図において、横軸は排ガス処理時間、縦軸は反応活性率である。図５から、ＳＯｘ濃度により、反応活性率Ｋ／Ｋ_０の経時変化に差異があることが判る。例えば反応活性率Ｋ／Ｋ_０＝０．７で比較すると、排ガス処理時間は、出口側ＳＯｘ濃度５ｐｐｍでは１００００時間、１ｐｐｍでは２００００時間、０．５ｐｐｍでは４００００時間である。すなわち、出口側ＳＯｘ濃度を低く設定することにより、長時間に亘り反応活性率を高く維持することができる。

図６は、排ガス処理温度を変化させたときの出口側ＳＯｘ濃度と触媒バグフィルタの寿命との関係を示すグラフである。同図において、横軸は温度２００℃、出口側ＳＯｘ濃度５ｐｐｍとの条件で排ガス処理を行った場合の触媒バグフィルタの寿命を基準としたときの相対寿命、縦軸は出口側ＳＯｘ濃度を示す。いずれの排ガス処理温度でも、出口側ＳＯｘ濃度が１０ｐｐｍの場合よりも５ｐｐｍの場合の方が、触媒の被毒が抑制されてバグフィルタの寿命が急激に増大する。排ガス処理温度が低くなるほど触媒バグフィルタの寿命は短くなるが、例えば排ガス処理温度１９０℃でも出口側ＳＯｘ濃度を５ｐｐｍ以下とすれば、十分な寿命を確保できると言える。

＜第２実施形態＞
図７は、第２実施形態に係る排ガス処理装置の概略図である。排ガス処理装置８０は、第１実施形態の排ガス処理装置に、更にＮＯｘ還元剤供給量コントローラ８１、アンモニアガス検出装置８２及びＮＯｘ検出装置８３を備えたものである。ＮＯｘ還元剤は、排ガス処理装置８０では減温塔２１と集塵装置２５との間で排ガス中に供給されるが、排ガス処理装置前段のゴミ焼却炉内に供給されても良い。第２実施形態においても、ＮＯｘ還元剤としてアンモニアガス、アンモニア水、尿素水が使用できる。上述のように、アンモニア水及び尿素水は、排ガス中に供給されてアンモニアガスを生成する。
第２実施形態の装置を用いた排ガス処理方法では、第１実施形態と同様の工程にて触媒バグフィルタ出口側でのＳＯｘ濃度により中和剤の供給量が制御されるとともに、触媒バグフィルタ出口側でのＮＯｘ濃度及び未反応のアンモニアガス濃度の少なくとも一方に基づいて、ＮＯｘ還元剤の供給量が制御される。これにより、酸性硫安の発生を抑制することができる。

アンモニアガス検出装置８２は、バグフィルタ出口側、すなわち集塵装置２５と煙突（図示せず）との間のアンモニアガス濃度を検出する。検出されたアンモニアガス濃度の値は、ＮＯｘ還元剤供給量コントローラ８１に送信される。
コントローラ８１は、検出されたアンモニアガス濃度値と設定値とを比較する。アンモニアガス濃度の設定値は、例えば５ｐｐｍとされる。検出されたアンモニアガス濃度値が設定値を超えた場合、還元剤供給量が過剰であるので、コントローラ８１はＮＯｘ還元剤供給装置２４から供給されるＮＯｘ還元剤量を減少させる。

ＮＯｘ検出装置８３は、バグフィルタ出口側のＮＯｘ濃度を検出する。検出されたＮＯｘ濃度の値は、ＮＯｘ還元剤供給量コントローラ８１に送信される。
コントローラ８１は、検出されたＮＯｘ濃度値と設定値とを比較する。ＮＯｘ濃度の設定値は、排ガス処理装置のバグフィルタ出口側ＮＯｘ濃度の保証値とされ、例えば５０ｐｐｍとされる。検出されたＮＯｘ濃度値が設定値を超える場合に、コントローラ８１はＮＯｘ還元剤供給装置２４から供給されるＮＯｘ還元剤量を増加させる。このとき、上述のようにバグフィルタ出口側のアンモニアガス濃度の監視を同時に行い、ＮＯｘ還元剤供給量を制御すると、ＮＯｘ還元剤の使用量が抑えられ、処理に要するコストを低減できるので好ましい。

１０ 触媒バグフィルタ
１１ 保護層
１２ 堆積層
２０，４０，６０，８０ 排ガス処理装置
２１ 減温塔
２２，４２ 中和剤供給装置
２３ 中和剤供給量コントローラ
２４ ＮＯｘ還元剤供給装置
２５ 集塵装置
２６ ＳＯｘ検出装置
２７ 水タンク
２８ 水供給装置
２９，４１ 中和剤貯蔵タンク
３０ ＮＯｘ還元剤貯蔵タンク
６１ 第１中和剤供給装置
６２ 第２中和剤供給装置
６３ 第１タンク
６４ 第２タンク
８１ ＮＯｘ還元剤供給量コントローラ
８２ アンモニアガス検出装置
８３ ＮＯｘ検出装置

Claims (5)

1. ＳＯｘ及びＮＯｘを含む排ガスと該排ガス中に供給されるＮＯｘ還元剤とを、触媒を担持するバグフィルタに通過させ、前記触媒を担持するバグフィルタの出口側における前記排ガス中のＳＯｘ濃度及びＮＯｘ濃度を減少させる排ガス処理方法であって、
   前記触媒を担持するバグフィルタの入口側において、前記排ガス中に供給される消石灰、重曹、生石灰、及び苛性ソーダのうち少なくとも１種を含む粉体、水溶液及びスラリーのいずれかの供給量を、前記触媒を担持するバグフィルタの出口側における前記ＳＯｘ濃度に基づいて制御することを特徴とする排ガス処理方法。
2. 前記触媒を担持するバグフィルタの運転温度が、１５０℃以上２００℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理方法。
3. 前記出口側のＳＯｘ濃度の上限値が、前記触媒を担持するバグフィルタの酸性硫安被毒による劣化に基づいて決定されることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理方法。
4. 前記出口側のＳＯｘ濃度の上限値が、５ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項３に記載の排ガス処理方法。
5. 前記バグフィルタの出口側における前記排ガス中の前記ＮＯｘ濃度及びアンモニアガスの濃度の少なくとも一方を検出し、
   前記検出されたアンモニアガスの濃度が所定値を超える場合に、前記ＮＯｘ還元剤の供給量を減少させ、
   前記検出されたＮＯｘ濃度が所定値を超える場合に、前記ＮＯｘ還元剤の供給量を増加させることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理方法。

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