JP2010265437A - 熱硬化性シリコーン樹脂用組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(1)両末端シラノール型シリコーン樹脂、(2)アルケニル基含有ケイ素化合物、(3)エポキシ基含有ケイ素化合物、(4)オルガノハイドロジェンシロキサン、(5)縮合触媒、及び(6)ヒドロシリル化触媒を含有してなる、熱硬化性シリコーン樹脂用組成物。
【選択図】なし
Description
〔1〕 (1)両末端シラノール型シリコーン樹脂、(2)アルケニル基含有ケイ素化合物、(3)エポキシ基含有ケイ素化合物、(4)オルガノハイドロジェンシロキサン、(5)縮合触媒、及び(6)ヒドロシリル化触媒を含有してなる、熱硬化性シリコーン樹脂用組成物、
〔2〕 さらに、蛍光体無機粉末を含有してなる、前記〔1〕記載の組成物、
〔3〕 さらに、微粒子を含有してなる、前記〔2〕記載の組成物、
〔4〕 前記〔1〕〜〔3〕いずれか記載の組成物を半硬化させてなる、シリコーン樹脂シート、
〔5〕 前記〔4〕記載のシリコーン樹脂シートを硬化させてなる、シリコーン樹脂硬化物、
〔6〕 前記〔4〕記載のシリコーン樹脂シートを用いて光半導体素子を封止してなる、光半導体装置、
〔7〕 前記〔1〕〜〔3〕いずれか記載の組成物を成形してなる、マイクロレンズアレイ、
〔8〕 前記〔2〕又は〔3〕記載の組成物を完全硬化させてなるシリコーン樹脂硬化物層に、前記〔1〕記載の組成物を半硬化させたシリコーン樹脂半硬化物層が積層されてなるシリコーン樹脂シート、ならびに
〔9〕 シリコーン樹脂半硬化物層が光半導体素子を封止するように、前記〔8〕記載のシリコーン樹脂シートを用いて封止してなる、光半導体装置
に関する。
(1)両末端シラノール型シリコーン樹脂、
(2)アルケニル基含有ケイ素化合物、
(3)エポキシ基含有ケイ素化合物、
(4)オルガノハイドロジェンシロキサン、
(5)縮合触媒、及び
(6)ヒドロシリル化触媒
を含有する。
本発明における両末端シラノール型シリコーン樹脂としては、各成分との相溶性の観点から、式(I):
で表される化合物が好ましい。なお、本発明においては、両末端シラノール型シリコーン樹脂の末端シラノール基が縮合反応を起こすことから、両末端シラノール型シリコーン樹脂を縮合反応系モノマーという。
本発明におけるアルケニル基含有ケイ素化合物は、アルケニル基がヒドロシリル化反応を起こして樹脂化を行うことから、ヒドロシリル化反応に関するモノマーである。また、アルケニル基以外の置換基は、特に限定されないが、縮合反応に関する官能基である場合には、アルケニル基含有ケイ素化合物は、縮合反応に関するモノマーとヒドロシリル化反応に関するモノマーのいずれとも反応し得る化合物となり、該化合物を介して両反応系の樹脂が結合して、耐熱性により優れる硬化物が得られることになる。なお、本明細書において、縮合反応に関する官能基とは、両末端シラノール型シリコーン樹脂のOH基と縮合反応し得る官能基のことを意味し、具体的には、ハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基、アセトキシ基等が挙げられる。
R2−Si(X1)3 (II)
(式中、R2は置換又は非置換のアルケニル基、X1はハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基又はアセトキシ基を示し、但し、3個のX1は同一でも異なっていてもよい)
で表される、アルケニル基と縮合反応に関する官能基を有する化合物が好ましい。
本発明におけるエポキシ基含有ケイ素化合物は、エポキシ基を含有するのであれば特に限定はなく、エポキシ基がケイ素に直接結合しても、エポキシ基を一部に有する有機基がケイ素に結合していてもよい。また、前記以外の置換基として、縮合反応に関する官能基をエポキシ基含有ケイ素化合物が含有する場合には、該化合物は縮合反応に関するモノマーと結合する。その結果、硬化物中にエポキシ基が良好に分散して存在し、接着性が向上するものと考えられる。なお、本明細書において、エポキシ基及びエポキシ基を一部に有する有機基のことを、「エポキシ構造含有置換基」という。
R3−Si(X2)3 (III)
(式中、R3はエポキシ構造含有置換基、X2はハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基又はアセトキシ基を示し、但し、3個のX2は同一でも異なっていてもよい)
で表される、エポキシ基と縮合反応に関する官能基を有する化合物が好ましい。
本発明におけるオルガノハイドロジェンシロキサンとしては、特に限定はないが、各成分との相溶性の観点から、式(IV):
で表わされる化合物、及び式(V):
で表わされる化合物、からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。なお、本発明においては、オルガノハイドロジェンシロキサンのSiH基がヒドロシリル化反応を起こすことから、オルガノハイドロジェンシロキサンをヒドロシリル化反応に関するモノマーという。
本発明における縮合触媒としては、両末端シラノール型シリコーン樹脂のシラノール基同士の縮合反応を、また、アルケニル基含有ケイ素化合物のX1及びエポキシ基含有ケイ素化合物のX2が縮合反応に関する官能基である場合は、両末端シラノール型シリコーン樹脂のシラノール基と、アルケニル基含有ケイ素化合物のSiX1基及びエポキシ基含有ケイ素化合物のSiX2基との縮合反応を触媒する化合物であれば特に限定はなく、塩酸、酢酸、ギ酸、硫酸等の酸;水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等の塩基;アルミニウム、チタン、亜鉛、スズ等の金属系触媒が例示される。なかでも、相溶性及び熱分解性等の観点から、水酸化テトラメチルアンモニウムが好ましい。
本発明におけるヒドロシリル化触媒としては、ヒドロシラン化合物とアルケンとのヒドロシリル化反応を触媒する化合物であれば特に限定はなく、白金黒、塩化白金、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−カルボニル錯体、白金−アセチルアセテート等の白金触媒;パラジウム触媒、ロジウム触媒等が例示される。なかでも、相溶性、透明性及び触媒活性の観点から、白金−1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体等の白金−カルボニル錯体が好ましい。
ゲルろ過クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算にて求める。
本明細書において、微粒子の平均粒子径とは一次粒子の平均粒子径を意味し、微粒子の粒子分散液について動的光散乱法で測定して算出される体積中位粒径(D50)のことである。
表1に示す組成のシリコーン樹脂用組成物を得た。具体的には、両末端シラノール型シリコーン樹脂〔式(I)中のR1が全てメチル基、n=155で表わされる化合物、平均分子量11,500〕100g(8.70mmol)、アルケニル基含有ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン〔式(II)中のR2がビニル基、X1が全てメトキシ基で表わされる化合物〕0.77g(5.20mmol)、及び、エポキシ基含有ケイ素化合物として、(3-グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン〔式(III)中のR3が3-グリシドキシプロピル基、X2が全てメトキシ基で表わされる化合物〕0.14g(0.59mmol)[両末端シラノール型シリコーン樹脂のSiOH基のモル数と、アルケニル基含有ケイ素化合物のSiX1基とエポキシ基含有ケイ素化合物のSiX2基の総モル数の比〔SiOH/(SiX1+SiX2)〕=1/1]を攪拌混合後、縮合触媒として水酸化テトラメチルアンモニウムメタノール溶液(濃度10重量%)0.19mL(触媒量:0.17mmol、両末端シラノール型シリコーン樹脂100モルに対して2.0モル)を加え、室温(25℃)で1時間攪拌した。得られたオイルに、オルガノハイドロジェンシロキサン〔式(IV)中のR4が全てメチル基、a=10、b=10で表わされる化合物、粘度20mPa・s〕2.19g〔アルケニル基含有ケイ素化合物のSiR2基とオルガノハイドロジェンシロキサンのSiH基のモル比(SiR2/SiH)=1/3.0〕、及びヒドロシリル化触媒として白金−1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体(白金濃度2重量%)0.025mL(白金含有量はオルガノハイドロジェンシロキサン100重量部に対して0.02重量部)を加えて、シリコーン樹脂用組成物を得た。
実施例1において、ビニルトリメトキシシランの使用量を0.77g(5.20mmol)から0.85g(5.70mmol)に変更し、(3-グリシドキシプロピル)トリメトキシシランの使用量を0.14g(0.59mmol)から0.014g(0.059mmol)に変更した以外は、実施例1と同様にして、シリコーン樹脂用組成物を得た。なお、モル比〔SiOH/(SiX1+SiX2)〕は1/1、モル比(SiR2/SiH)は1/2.7であった。
実施例1において、エポキシ基含有ケイ素化合物として、(3-グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン0.14g(0.59mmol)を用いる代わりに、(エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン〔式(III)中のR3が(エポキシシクロヘキシル)エチル基、X2が全てメトキシ基で表わされる化合物〕0.15g(0.59mmol)を用いる以外は、実施例1と同様にして、シリコーン樹脂用組成物を得た。なお、モル比〔SiOH/(SiX1+SiX2)〕は1/1、モル比(SiR2/SiH)は1/3.0であった。
実施例1において、ビニルトリメトキシシランの使用量を0.77g(5.20mmol)から0.86g(5.80mmol)に変更し、(3-グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン0.14g(0.59mmol)を用いない以外は、実施例1と同様にして、シリコーン樹脂用組成物を得た。なお、モル比〔SiOH/SiX1〕は1/1、モル比(SiR2/SiH)は1/2.7であった。
実施例1で得られた樹脂用組成物100gに、イットリウムアルミニウムガーネット蛍光体(YAG蛍光体)19gを添加し、攪拌装置を用いて25℃で60分攪拌混合し、蛍光体含有シリコーン樹脂用組成物を得た。
実施例1で得られた樹脂用組成物100gに、イットリウムアルミニウムガーネット蛍光体(YAG蛍光体)19gを添加し混合後、シリカ粒子(デンカ社製、FB-7SDC、平均粒子径5.8μm)10gを添加して、攪拌装置を用いて25℃で60分攪拌混合し、蛍光体−シリカ微粒子含有シリコーン樹脂用組成物を得た。
実施例5において、シリカ粒子の添加量を10gから20gに変更する以外は、実施例5と同様にして、蛍光体−シリカ微粒子含有シリコーン樹脂用組成物を得た。
実施例5において、シリカ粒子の添加量を10gから30gに変更する以外は、実施例5と同様にして、蛍光体−シリカ微粒子含有シリコーン樹脂用組成物を得た。
実施例4において、イットリウムアルミニウムガーネット蛍光体(YAG蛍光体)19gを添加する樹脂の種類を、一般的なポリジメチルシロキサンを主材とする熱硬化型液状シリコーン樹脂(旭化成ワッカーシリコーン社製、LR-7665)に変更する以外は、実施例4と同様にして、蛍光体含有シリコーン樹脂用組成物を得た。
実施例4において、イットリウムアルミニウムガーネット蛍光体(YAG蛍光体)を添加する樹脂の種類を、一般的なシリコーン樹脂(信越化学工業社製、KER-2500)に変更する以外は、実施例4と同様にして、蛍光体含有シリコーン樹脂用組成物を得た。
実施例4において、イットリウムアルミニウムガーネット蛍光体(YAG蛍光体)を添加する樹脂の種類を、一般的なシリコーン樹脂(東レダウコーニング社製、OE-6336)に変更する以外は、実施例4と同様にして、蛍光体含有シリコーン樹脂用組成物を得た。
実施例1〜3、比較例1、又は参考例1の組成物を二軸延伸ポリエステルフィルム(三菱樹脂株式会社製、50μm)上に500μmの厚さに塗工し、実施例1〜3及び比較例1の組成物は135℃で7分加熱して、参考例1の組成物は室温(25℃)で16時間静置して、シート状の半硬化物(シート)を調製した(厚み500μm)。
実施例1〜3、比較例1、又は参考例1のシートは150℃で5時間加熱して完全硬化物シリコーン樹脂シートを得た。
実施例4〜7又は比較例2〜4の組成物を二軸延伸ポリエステルフィルム(三菱樹脂株式会社製、50μm)上に100μmの厚さに塗工し、150℃で5時間加熱して完全硬化物シリコーン樹脂シートを得た。
青色LEDが実装された基板に、実施例1〜3、比較例1、又は参考例1の半硬化状態のシートを被せ、減圧下、160℃で5分間加熱し、0.2MPaの圧力で封止加工後、150℃で5時間加熱することにより、樹脂を完全に硬化させて、光半導体装置を作製した。
青色LEDが実装された基板に、実施例1〜3、比較例1、又は参考例1の半硬化状態のシートを被せ、その上にマイクロレンズ金型(Ni製、半球状、直径10μm、高さ5μm)を置き、真空ラミネーター(ニチゴーモートン社製、真空ラミネーターV130)を用いて、減圧下、160℃で5分間加熱し、0.2MPaの圧力でプレス加工後、150℃で1時間加熱することにより、樹脂を完全に硬化させると共に、樹脂表面にマイクロレンズ構造を転写した光半導体装置を作製した。
実施例4〜7又は比較例2〜4の完全硬化物シリコーン樹脂シート上に、実施例4〜7のシート調製に用いた組成物から蛍光体無機粉末及びシリカ微粒子を除いた組成物(蛍光体・シリカ非含有組成物)を塗工し、半硬化状態になるよう135℃で5分加熱して、実施例4〜7又は比較例2〜4のシートに前記蛍光体・シリカ非含有組成物のシートが積層されたシリコーン樹脂複合シートを得た(厚み500μm)。青色LEDの上に上記で得られた複合シートを半硬化物側(蛍光体−シリカ非含有組成物)がLEDチップ側に来るようにして載置し、真空プレス装置を用いて、160℃で5分間加熱し、0.1MPaの圧力で封止加工後、150℃で5時間加熱することにより、樹脂を完全に硬化させて、光半導体装置を作製した。なお、実施例4〜7のシート調製に用いた組成物から蛍光体無機粉末及びシリカ微粒子を除いた組成物は、実施例1の組成物である。
25℃、1気圧の条件下でレオメータを用いて測定した。
調製直後と室温(25℃)で24時間保存後の半硬化物について、デジタル測長計(MS-5C、ニコン社製)を用いて、センサーヘッドで7g/mm2の荷重をかけた際に、半硬化物の表面からセンサーヘッドが沈んだ距離を測定し、以下の式に基づいてシート硬度を求めた。
シート硬度=[1−{センサーヘッドが沈んだ距離(μm)/半硬化物の膜厚(μm)}]×100
次に、得られたシート硬度の比率(保存後/調製直後×100)を硬度保持率(%)とし、以下の評価基準に従って、保存安定性を評価した。
A:硬度保持率が97%超、103%未満
B:硬度保持率が80〜97%、103〜120%
C:硬度保持率が80%未満、120%超
得られた硬化物シートについて、オートグラフ(島津製作所社製)を用いて引張り弾性率(MPa)を求めて評価した。引っ張り弾性率が高いほど弾性が高く、熱サイクル試験による品質保証が高いことを示す。
得られた硬化物シートに対し、460nm単波長の励起光をシート平面に対して垂直方向より入射し、シートを透過した励起光及びシート中の蛍光体より発せられ透過した蛍光を、積分球と瞬間マルチ測光システム(MCPD-3000、大塚電子社製)を用いて全光束の光学スペクトルを検出した。得られた光学スペクトルから輝度の指標となるY値を測定した。
得られた硬化物シートに対し、一定の青色光を照射し、透過した青色光と発光した黄色光とを検出して、色度を評価した。具体的には、CIE色度 y座標で色度をシート上の任意の10ポイントについて測定して、最大色度と最小色度の差を最大色度差として算出して評価した。最大色度差が小さいほど色度安定性が高いことを示す。
各完全硬化物の波長450nmにおける光透過率(%)を、分光光度計(U−4100、日立ハイテク社製)を用いて測定した。光透過率が高いほど光透過性に優れることを示す。
各完全硬化物を150℃の温風型乾燥機内に静置し、100時間経過後の完全硬化物の外観を目視で観察し、保存前の状態から変色のないものを「○」、あるものを「×」とした。また、200℃の温風型乾燥機内に静置し、24時間経過後の完全硬化物の重量を保存前の重量で除した値を残存率(%)とした。保存後の外観の変化がなく、残存率が高いほど耐熱性に優れることを示す。
各半硬化物を42アロイ板に積層し、減圧下、160℃で5分間加熱後、0.2MPaの圧力で圧着させ、その後150℃で16時間加熱して硬化物を調製した。得られた硬化物について、90°ピール試験に従って、その剥離力(N/cm)を測定した。剥離力が高いほど接着性に優れることを示す。
各光半導体装置の封止前後の状態を光学顕微鏡で観察し、光半導体素子が完全に包埋され、ボンディングワイヤーに変形、損傷がないものを「○」、あるものを「×」とした。なお、実施例1〜3、比較例1、又は参考例1の光半導体装置は、作製例1で作製したものを評価した。
各光半導体装置に300mAの電流を流してLED素子を点灯させ、試験開始直後の輝度を瞬間マルチ測光システム(MCPD-3000、大塚電子社製)により測定した。その後、LED素子を点灯させた状態で放置し、300時間経過後の輝度を同様にして測定し、下記式により輝度保持率を算出して、耐光性を評価した。輝度保持率が高いほど、耐光性に優れることを示す。なお、実施例1〜3、比較例1、又は参考例1の光半導体装置は、作製例1で作製したものを評価した。
輝度保持率(%)=(300時間経過後の輝度/試験開始直後の輝度)×100
Claims (14)
- (1)両末端シラノール型シリコーン樹脂、(2)アルケニル基含有ケイ素化合物、(3)エポキシ基含有ケイ素化合物、(4)オルガノハイドロジェンシロキサン、(5)縮合触媒、及び(6)ヒドロシリル化触媒を含有してなる、熱硬化性シリコーン樹脂用組成物。
- アルケニル基含有ケイ素化合物が、式(II):
R2−Si(X1)3 (II)
(式中、R2は置換又は非置換のアルケニル基、X1はハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基又はアセトキシ基を示し、但し、3個のX1は同一でも異なっていてもよい)
で表わされる化合物である、請求項1又は2記載の組成物。 - エポキシ基含有ケイ素化合物が、式(III):
R3−Si(X2)3 (III)
(式中、R3はエポキシ構造含有置換基、X2はハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基又はアセトキシ基を示し、但し、3個のX2は同一でも異なっていてもよい)
で表わされる化合物である、請求項1〜3いずれか記載の組成物。 - さらに、蛍光体無機粉末を含有してなる、請求項1〜5いずれか記載の組成物。
- さらに、微粒子を含有してなる、請求項6記載の組成物。
- 微粒子がシリカである、請求項7記載の組成物。
- 請求項1〜8いずれか記載の組成物を半硬化させてなる、シリコーン樹脂シート。
- 請求項9記載のシリコーン樹脂シートを硬化させてなる、シリコーン樹脂硬化物。
- 請求項9記載のシリコーン樹脂シートを用いて光半導体素子を封止してなる、光半導体装置。
- 請求項1〜8いずれか記載の組成物を成形してなる、マイクロレンズアレイ。
- 請求項6〜8いずれか記載の組成物を完全硬化させてなるシリコーン樹脂硬化物層に、請求項1〜5いずれか記載の組成物を半硬化させてなるシリコーン樹脂半硬化物層が積層されてなるシリコーン樹脂シート。
- 半硬化させた組成物からなる層が光半導体素子を封止するように、請求項13記載のシリコーン樹脂シートを用いて封止してなる、光半導体装置。
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