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JP2010103463A - 反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置製造方法 - Google Patents

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置製造方法 Download PDF

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JP2010103463A JP2009052272A JP2009052272A JP2010103463A JP 2010103463 A JP2010103463 A JP 2010103463A JP 2009052272 A JP2009052272 A JP 2009052272A JP 2009052272 A JP2009052272 A JP 2009052272A JP 2010103463 A JP2010103463 A JP 2010103463A
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Abstract

【課題】EUV光による転写精度の劣化現象をもたらす、射影効果の低減を図るために、吸収膜の厚さの低減化を図り、EUVフォトリソグラフィにて使用される反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、基板上に形成された多層反射膜と、多層反射膜より上部に形成された吸収膜と、を備え、吸収膜は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を有する薄膜であることを特徴とする反射型フォトマスクブランク。
【選択図】図1

Description

本発明は、反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置製造方法に関する。
近年、極端紫外線(Extreme Ultra Violet、以下、「EUV」と略記する。)を用いた露光方法が提案されている。EUV露光では、波長が短いため、物質の屈折率がほとんど真空の値に近く、材料間の光吸収の差も小さい。このため、EUV波長領域では従来の透過型の屈折光学系が作れず、反射光学系となり、マスクも反射型マスクとなる。これまで開発されてきた一般的な反射型フォトマスクは、Siウェハやガラス基板上に、例えばMoとSiからなる2層膜を40対ほど積層した多層反射膜、及び多層反射膜を保護するキャッピング膜を高反射部とし、その上に低反射部として吸収膜及び緩衝膜のパターンを形成した構造であった。緩衝膜は、吸収膜のエッチングやFIB(集束イオンビーム)による欠陥修正の際に、キャッピング膜や多層反射膜へのダメージを軽減する役割を果たす。
以上のような反射型フォトマスクにおいて、低反射領域を形成するために主要な機能を有するのは、EUV光を吸収する吸収膜である。吸収膜部は、通常、パターン欠陥検査時のコントラストを確保するために、欠陥検査光である遠紫外線(Deep Ultra Violet、以下、「DUV」と略記する)に対して、低反射率となるよう設計される。低反射率とするための方法は、いわゆる薄膜干渉を利用した反射防止(Anti Reflection、以下、「AR」と略記する。)効果を使うことであり、従って、吸収膜は通常2層以上の構成となり、その上層にはDUV光に対して透明性のある膜がAR膜として形成される。
また、EUV光に対する低反射領域を形成するためにEUV光を吸収するという、主要な機能を有するのは、吸収膜の中でも上層吸収膜(AR膜)を除いた下層吸収膜の部分である。下層吸収膜は、従来はTaやCrを主成分とする膜が使われている。以下、原則として、上層吸収膜をAR膜、下層吸収膜を単に吸収膜と呼ぶことにする。
EUV露光に限らず、投影露光による転写露光を実現するうえで、フォトマスクに要求される光学特性は、第一にマスクコントラストである。通常透過型マスクにおいて、マスクコントラストは、透明基板部を透過した透過光強度をT、遮光膜を含むパターン部を透過した透過光強度をToとするとき、下記(1)式で評価される。
OD=−log(To/T) (1)
ここで、ODは光学濃度(Optical density)と呼ばれ、遮光膜の遮光性の程度を表す。
反射型フォトマスクにおいても、マスクコントラストは同様に評価できるが、反射型フォトマスクであるため、高反射部からの反射光強度をRm、吸収膜を含む低反射部からの反射光強度をRaとすると、透過型マスクと同様に、下記(2)式で評価される。
OD=−log(Ra/Rm) (2)
良好なEUV転写を行うためには、ODは少なくとも1.5以上必要である。
EUV露光は反射露光であるために、入射光は垂直ではなく、やや斜め(通常6°程度)方向から反射型フォトマスクに入射し、反射光となる。反射型フォトマスクにおいて、パターンとして加工されるのは吸収膜と緩衝膜の部分であるが、EUV光が斜めから入射するために、パターンの影が生じる。従って、入射方向とパターンの配置方向によっては、反射光で形成するウェハ上の転写レジストパターンに、本来の位置からのずれが生じ、パターン位置精度が劣化する。これを射影効果(Shadowing Effect)と呼び、EUV露光の課題となっている。
射影効果を低減するには、影の長さを小さくすることであり、そのためにはパターンの高さをなるべく小さくすればよい。しかるに、AR膜の厚さは検査光であるDUV光に対する反射防止性の観点から選択され、緩衝膜の厚さは吸収膜のパターニングやFIBによる欠陥修正の際のキャッピング膜や多層反射膜へのダメージの軽減という必要特性から選択される。従って、パターンの高さを小さくするには、吸収膜をなるべく薄くする必要がある。
吸収膜を薄くしてもマスクコントラスト(OD>1.5)を確保するためには、EUV光に対する吸収性の大きい材料を使用することが考えられる。
さらに好ましくは、パターンの高さを小さくするには、吸収膜よりもEUV光吸収性の小さい緩衝膜を使用しないことである。前述のように、緩衝膜は吸収膜のエッチングや欠陥修正の際のキャッピング膜や多層反射膜へのダメージを軽減するためのものであるので、吸収膜のエッチングを低電力で行うことや、欠陥修正をFIBよりもソフトな電子ビーム(EB)で行うことにより、緩衝膜は省略することができる。
さらに好ましくは、パターンの高さを小さくするには、吸収膜よりもEUV光吸収性の小さいAR膜を使用しないことである。このためには、吸収膜自身が、AR膜を使用しなくても、検査光であるDUV光に対する透明性を持ち、従ってDUV光に対して吸収膜部を低反射率とする必要がある。
また反射型フォトマスクに限らず、フォトマスクは、その作製プロセスや転写露光での使用期間において、度重なる酸やアルカリ等を用いた洗浄液にさらされるので、マスクを構成する薄膜は、それらの洗浄液に対する十分な耐性が必要である。また、パターンニングされる薄膜は、微細パターンが形成可能な、十分なエッチング適性(エッチレート)を有することが必要である。
さらに、反射型フォトマスクのような微細なパターンの形成において、線幅精度の高い、形状の良い吸収膜パターンを形成するには、エッチングする吸収膜の粒径や表面粗さが小さいことが必要である。具体的には、表面粗さで言えば、Rmsで、0.5nm以下程度が必要である。
以上のことから、反射型フォトマスクにおいては、なるべく薄いパターン部の膜厚で、必要なマスクコントラスト(OD>1.5)を実現するような、高いEUV光吸収性を持つと同時に、洗浄液耐性が高く、しかもエッチングしやすい、微粒な吸収膜が望ましいが、これらの条件を満たす好適な膜材料と構成は提案されていなかった。
特開2001−237174号公報
本発明は、比較的薄い膜厚で高いEUV光吸収性と、洗浄液耐性をあわせ持つと同時に、エッチングしやすい吸収膜材料を選定した反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置製造方法を提供することである。
また、本発明は、吸収膜の膜厚を低減した反射型フォトマスクを用いて転写を行うことにより、射影効果の影響が緩和され解像性などの転写性能が向上した反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置製造方法を提供することである。
本発明者らは、上記課題を解決してEUV露光による転写精度を向上するために、吸収膜の種類と特性、ならびに層構成について、検討を重ねた結果、本発明をなすに至った。
本発明の請求項1に係る発明は、基板と、基板上に形成された多層反射膜と、多層反射膜より上部に形成された吸収膜と、を備え、吸収膜は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を有する薄膜であることを特徴とする反射型フォトマスクブランクとしたものである。
本発明の請求項2に係る発明は、更に、多層反射膜と吸収膜との間にキャッピング膜と、を備えたことを特徴とする請求項1に記載の反射型フォトマスクブランクとしたものである。
本発明の請求項3に係る発明は、更に、キャッピング膜と吸収膜との間に緩衝膜と、を備えたことを特徴とする請求項2に記載の反射型フォトマスクブランクとしたものである。
本発明の請求項4に係る発明は、更に、吸収膜の上層に、AR膜と、を備えたことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反射型フォトマスクブランクとしたものである。
本発明の請求項5に係る発明は、吸収膜の膜厚は、35nm以上45nm以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の反射型フォトマスクブランクとしたものである。
本発明の請求項6に係る発明は、吸収膜は、錫(Sn)および酸素(O)の他、更に、タンタル(Ta)、インジウム(In)からなる群から選ばれた1つ以上の元素を含む化合物材料を有する薄膜であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の反射型フォトマスクブランクとしたものである。
本発明の請求項7に係る発明は、吸収膜は、錫(Sn)と酸素(O)とを含む比率を1としたとき、タンタル(Ta)を0.05〜0.15、インジウム(In)を0.05〜0.1の割合で含む合金とすることを特徴とする請求項6に記載の反射型フォトマスクブランクとしたものである。
本発明の請求項8に係る発明は、基板と、基板上に形成された高反射部と、高反射部上に形成されたパターニングされた低反射部と、を備え、パターニングされた低反射部は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を含むことを特徴とする反射型フォトマスクとしたものである。
本発明の請求項9に係る発明は、高反射部は、多層反射膜と、多層反射膜上に形成されたキャッピング膜と、を含むことを特徴とする請求項8に記載の反射型フォトマスクとしたものである。
本発明の請求項10に係る発明は、低反射部は、波長190nmから260nmの紫外線に対する反射率が15%以下であることを特徴とする請求項8または9のいずれかに記載の反射型フォトマスクとしたものである。
本発明の請求項11に係る発明は、低反射部の最上部は、波長190nmから260nmの紫外線に対する消衰係数が1.0以下である層よりなることを特徴とする請求項8から10のいずれかに記載の反射型フォトマスクとしたものである。
本発明の請求項12に係る発明は、低反射部は、一層からなる単層の吸収膜であり、吸収膜は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を含むことを特徴とする請求項8から11のいずれかに記載の反射型フォトマスクとしたものである。
本発明の請求項13に係る発明は、低反射部は、複数の膜が積層された多層膜であり、多層膜の最上部の膜は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を含むことを特徴とする請求項8から11のいずれかに記載の反射型フォトマスクとしたものである。
本発明の請求項14に係る発明は、請求項8に記載の反射型フォトマスクに極端紫外光を照射し、反射型フォトマスクの高反射部にて反射した反射光を半導体基板上に設けられた極端紫外光用レジスト層に露光し、極端紫外光用レジスト層に反射型フォトマスクの低反射部のパターンを転写する工程を含むことを特徴とする半導体装置製造方法としたものである。
本発明によれば、従来よりも薄い吸収膜厚で、EUV光吸収性の高さと洗浄液耐性の高さを持つと同時に、エッチングしやすく表面粗さも小さい、従って加工精度とパターン位置精度が良くなる、吸収膜材料、および層構成を選定した反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、吸収膜の膜厚を低減した反射型フォトマスクを用いて転写を行うことにより、射影効果の影響が緩和され解像性などの転写性能を向上することができる。本発明によれば、膜厚の変更を行わないまでも、EUVに対する吸収能を高めることにより、露光コントラストが上昇する為、転写性能を向上することができる。本発明によれば、吸収膜のドライエッチングによるパターニングを行う際に、安定したレジスト選択比の得られる材料にしてパターンの垂直性を向上できる。
本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスクブランクを示す概略断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスクを示す概略断面図である。 (a)は、本発明の第2の実施の形態に係る反射型フォトマスクの構造を示す概略断面図であり、(b)は、本発明の第3の実施の形態に係る反射型フォトマスクの構造を示す概略断面図であり、(c)は、本発明の第4の実施の形態に係る反射型フォトマスクの構造を示す概略断面図であり、(d)は、本発明の第5の実施の形態に係る反射型フォトマスクの構造を示す概略断面図である。 各種材料の波長13.5nm付近の光に対する屈折率と、消衰係数とを表示する図である。 TaとSnOを吸収膜としたとき、それらの膜厚に対するOD値を計算した特性図である。 TaとSnOを吸収膜としたとき、それらの膜厚に対するOD値を計算した特性図である。 本発明の第2乃至第5の実施の形態に係る、13.5nm、及び199nm、257nmでの反射率を計算するための、各種材料の屈折率と消衰係数を表示する表である。 (a)及び(b)は、本発明の第2の実施の形態の反射型フォトマスクに係る、吸収膜材料の屈折率と消衰係数に対する反射率を計算した結果を示す特性図である。 本発明の第2の実施の形態に係る反射型フォトマスクの分光反射率を測定した結果を示す特性図である。 本発明の第2の実施の形態に係る反射型フォトマスクの反射率を、SnO膜厚に対して計算した結果を示す特性図である。 (a)〜(d)は、本発明の第3の実施の形態に係る反射型フォトマスクの反射率を、SnO膜厚に対して計算した結果を示す特性図である。 (a)及び(b)は、本発明の第4の実施の形態に係る反射型フォトマスクの反射率を、SiN膜厚に対して計算した結果を示す特性図である。 (a)〜(d)は、本発明の第5の実施の形態に係る反射型フォトマスクの反射率を、SiN膜厚に対して計算した結果を示す特性図である。 各種吸収膜材料のハロゲン化物の沸点を表示する表である。 (a)〜(d)は、本発明の実施例1に係る反射型フォトマスクの製造工程を示す概略断面図である。
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ、説明する。実施の形態において重複する説明は省略する。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスクブランク10を示す概略断面図である。また、図2は、本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスク20を示す概略断面図である。ここで、図2に示す本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスク20は、図1に示す本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスクブランク10の吸収膜4をパターニングして形成されている。
図1に示すように、本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスクブランク10は、基板1上に多層反射膜2、多層反射膜2上にキャッピング膜5、キャッピング膜5上に吸収膜4を備えている。なお、吸収膜4は、検査波長における低反射特性が必要な場合は最表面にDUV検査用の低反射層を設けた2層の構成とすることができる。ここでは、図示しないが、キャッピング膜5と吸収膜4との間に緩衝膜を形成してもよい。
本発明の第1の実施の形態に係る基板1には、平坦なSi基板や合成石英基板等を用いることができる。また、チタンを添加した低熱膨張ガラスを使用することができるが熱膨張率の小さい材料であれば本発明ではこれらに限定されるわけではない。
本発明の第1の実施の形態に係る多層反射膜2は、露光光であるEUV光(極端紫外光)を反射するもので、EUV光に対する屈折率の大きく異なる材料の組み合わせによる多層反射膜2から構成されている。例えば、多層反射膜2としては、Mo(モリブデン)とSi(シリコン)、またはMo(モリブデン)とBe(ベリリウム)といった組み合わせの層を40周期程度繰り返し積層することにより形成することができる。
図示しない緩衝膜は、吸収膜4の形成の際に行われるドライエッチングに対して耐性を有する材質で形成されて、吸収膜パターン4aをエッチングする際に、多層反射膜2へのダメージを防ぐエッチングストッパとして機能するもので、CrN及びRu等で形成することができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
本発明の第1の実施の形態に係るキャッピング膜5は、多層反射膜2表面の酸化による反射率低下を防止することができる。また、図示しないが、基板1上の多層反射膜2を形成していない面に裏面導電膜を形成することができる。裏面導電膜は、反射型フォトマスク20を露光機に設置するときに静電チャックの原理を利用して固定するための膜である。
本発明の第1の実施の形態に係る吸収膜4は、ドライエッチングされて所定の露光転写パターンに形成された際に、照射されたEUV光を吸収するものである。すなわち、EUV光に対する高吸収性を有する材料(後述する)から選択することができる。
更に、本発明の目的である吸収膜4の膜厚低減であるが、EUV光に対する所定のコントラスト特性を留保しつつ膜厚を低減することが求められる。すなわち多層反射膜2のEUV光に対する反射率は、最大となるように設計されるので、逆に吸収膜4についてはEUV光に対してより吸収性の高い膜を採用することが高コントラスト化の為に求められる。しかし、これを吸収膜4の薄膜化と同時に達成するためには既存の吸収膜4の材料よりも一層EUV光に対して高吸収となる材料が必要である。
図4は、EUV光の波長における光学定数を示すものであり、横軸に屈折率n、縦軸に消衰係数kを示している。本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスクブランク10は、吸収膜4用の薄膜としてSn、消衰係数が0.073をベースとした材料を用いることができる。しかし、SnOの消衰係数は、従来の吸収膜4のベース材料として主流であるTaの消衰係数0.041より大きく約1.8倍である。
図5は、多層反射膜上にSiからなる膜厚11nmであるキャッピング層(図示せず)を形成した基板を想定し、さらにこの上に吸収膜4(Ta及びSnO)を形成した場合におけるEUVコントラスト(以下、「OD」という。(Optical Density))について求めたシミュレーションの結果である。
図5から、吸収膜4が80nm以上の膜厚となる領域ではSnOとTaとの間で、ODにおける差は小さくなるものの、それより薄膜化した領域では明らかにSnOの方がODを確保するという点において有利であることがわかる。また、EUV露光転写においては少なくとも2程度のODが要求されるが、この要求が安定的に担保される為には、Taで少なくとも82nm程度の膜厚が必要であるのに対し、SnOではその半分弱の40nm程度の膜厚にて同程度のEUV光コントラスト特性が得られることがわかる。
吸収膜4の膜厚は、35nm以上45nm以下が好ましい。吸収膜4の膜厚が35nm未満だと、EUV光コントラスト特性が得られない。また、吸収膜4の膜厚が45nmより大きくなると、解像性等の転写性能が低下してしまう。
このように、SnOを吸収膜4に採用すれば、従来のTa系材料にて吸収膜4を形成する場合に比べ、所望の特性を留保しつつ、膜厚を半分弱まで低減することができ、射影効果低減の面で得られる利益が大きい。
また、錫(Sn)、及び酸素(O)の他、タンタル(Ta)を含む化合物材料からなる薄膜で吸収膜4を形成した場合において、錫(Sn)と酸素(O)からなる比率を1としたとき、タンタル(Ta)を0.05〜0.15を含む合金としたものは、消衰係数が0.065〜0.073程度であり、消衰係数の著しい低下は認められず、前述の射影効果低減の点において得られる効果にほぼ影響はない。
一方、錫(Sn)と酸素(O)からなる比率を1としたとき、タンタル(Ta)を0.05〜0.15を含む合金とした吸収膜4のドライエッチングにおけるレジスト選択比は、1.2であり、Ta比率を0.05以下とした場合に比べ、1.3倍程度上昇する。
更に、錫(Sn)と酸素(O)からなる比率を1としたとき、インジウム(In)を0.05〜0.1の割合で含む合金としたとき、インジウムを含まない場合に比べてEUV光に対する吸収能が最大で1.3倍程度増加する。
本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスク20は、吸収膜4にSn、O、Ta及びInを含む化合物材料を有することにより、膜厚を低減できるだけではなく、EUVに対する吸収能を高めることにより、露光コントラストが上昇し、射影効果の影響が緩和され解像性などの転写性能を向上することができる。また、吸収膜4のドライエッチングによるパターニングを行う際に、安定したレジスト選択比の得られる材料にしてパターンの垂直性を向上できる。
本発明の第1の実施の形態に係る反射型フォトマスク20を用いた半導体装置製造方法は、反射型フォトマスク20を介して反射した極端紫外光を選択的に照射する。
次に、反射型フォトマスク20の多層反射膜2に反射した反射光を半導体基板上に設けられた極端紫外光用レジスト層に露光し、パターンを形成させたのち、極端紫外光用レジスト層に反射型フォトマスク20の吸収膜4のパターンを半導体基板に転写することで反射型フォトマスク20に忠実にパターニングできる。
次に、第2乃至第5の実施の形態について説明する。図2と図3は、吸収膜4をパターニングする際に用いるレジストによりポジ型とネガ型にパターニングされている。なお、第1の実施の形態と重複する材料の説明については省略することにする。
(第2の実施の形態)
図3(a)〜(d)は、本発明の第2乃至第5の実施の形態に係る反射型フォトマスクの構造を示す断面模式図である。図3(a)に示すように、本発明の第2の実施の形態に係る反射型フォトマスク30は、基板11と、基板11上に形成された高反射性を有する多層反射膜12と、多層反射膜12上に形成された多層反射膜12を保護するキャッピング膜13と、キャッピング膜13上に形成された低反射性を有する吸収膜パターン15を備えている。ここで、吸収膜パターン15を形成するための吸収膜材料として、本発明では、Sn(錫)及び酸素(O)を主要な元素とする膜を使用する。以後「主要な」とは、錫と酸素で90%以上の組成比を占めるものとする。なお、本発明の実施の形態においては、多層反射膜12及びキャッピング膜13が高反射部である。
本発明の第2の実施の形態に係る基板11としては、シリコン基板やチタンを添加とした低熱膨張ガラスを使用することができるが熱膨張率の小さい材料であればいずれでも構わない。
本発明の第2の実施の形態に係る多層反射膜12としては、例えば、Mo膜とSi膜を交互に、例えば40対成膜してなる積層体を用いることができる。多層反射膜12の1層ずつの膜厚は、例えばMo膜が2.8nm、Si膜が4.2nmである。キャッピング膜13としては、例えばRu膜や、Si膜や、SiN膜を使用することができるが、本発明ではこれらに限定されるわけではない。
(第3の実施の形態)
次に図3(b)に示すように、本発明の第3の実施の形態に係る反射型フォトマスク40は、基板11と、基板11上に形成された高反射性を有する多層反射膜12と、多層反射膜12上に形成された多層反射膜12を保護するキャッピング膜13と、キャッピング膜13上に選択的に形成された緩衝膜パターン14と、緩衝膜パターン14上に選択的に形成された低反射性を有する吸収膜パターン15とを備えている。ここで、吸収膜パターン15を形成するための吸収膜材料として、本発明では、Sn及び酸素を主要な元素とする膜を使用する。
本発明の第3の実施の形態に係る緩衝膜としては、吸収膜パターン15を形成する際に行われるドライエッチングに対して耐性を有する材料で形成されて、より具体的には、吸収膜パターン15を形成する際に、キャッピング膜13へのダメージを防ぐエッチングストッパとして機能するもので、例えばCrN膜や、TaN膜、Ta膜、SiO膜、SiN膜を使用することができるが、本発明ではこれらに限定されるわけではない。
(第4の実施の形態)
図3(c)に示す、本発明の第4の実施の形態に係る反射型フォトマスク50は、基板11と、基板11上に形成された高反射性を有する多層反射膜12と、多層反射膜12上に形成された多層反射膜12を保護するキャッピング膜13と、キャッピング膜13上に選択的に形成された低反射性を有する吸収膜パターン15と、吸収膜パターン15上に選択的に形成された、DUV光に対する反射防止性を有するAR膜パターン16と、を備えている。ここで、吸収膜パターン15を形成するための吸収膜材料として、本発明では、Sn及び酸素を主要な元素とする膜を使用する。
本発明の第4の実施の形態に係るAR膜パターン16の反射防止性とは、DUV光による欠陥検査を可能にするために、いわゆる薄膜干渉を利用してDUV光に対するAR効果を使うことである。AR膜パターン16を形成するためのAR膜材料としては、例えばSiO膜や、SiN膜を使用することができるが、本発明ではこれらに限定されるわけではない。
(第5の実施の形態)
図3(d)に示す、本発明の第5の実施の形態に係る反射型フォトマスク60は、基板11と、基板11上に形成された高反射性を有する多層反射膜12と、多層反射膜12上に形成された多層反射膜12を保護するキャッピング膜13と、キャッピング膜13上に選択的に形成された緩衝膜パターン14と、緩衝膜パターン14上に選択的に形成された低反射性を有する吸収膜パターン15と、吸収膜パターン15上に選択的に形成された反射防止性を有するAR膜パターン16と、を備えている。ここで、吸収膜パターン15を形成するための吸収膜材料として、本発明では、Sn及び酸素を主要な元素とする膜を使用する。AR膜パターン16を形成するためのAR膜材料としては、例えばSiO膜や、SiN膜を使用することができるが、本発明ではこれらに限定されるわけではない。なお、本発明の実施の形態においては、緩衝膜パターン14、吸収膜パターン15及びAR膜パターン16が低反射部である。
本発明の第2乃至第5の実施の形態においては、パターニングされた低反射部の、波長190nmから260nmの紫外線に対する反射率が15%以下となっている。さらに好ましくは10%以下となっている。パターニングされた低反射部の、波長190nmから260nmの紫外線に対する反射率が15%を超えると、吸収膜パターン15の低反射化が得られずに、欠陥検査に支障をきたす可能性を生じる。
本発明の第2乃至第5の実施の形態においては、パターニングされた低反射部の吸収膜を構成する、Sn及び酸素を主要な元素とする膜の波長190nmから260nmの紫外線に対する消衰係数が1.0以下である。さらに好ましくは0.7以下である。パターニングされた低反射部の吸収膜を構成する、Sn及び酸素を主要な元素とする膜の波長190nmから260nmの紫外線に対する消衰係数が1.0を超えると、吸収膜パターンの低反射化が得られずに、欠陥検査に支障をきたす可能性を生じる。
以下、本発明で提案する、Snと酸素を主要な元素とする吸収膜の有効性、及び実施の形態で規定する層構成の有効性について、Snと酸素を主要な元素とする吸収膜の特性に基づいて説明する。
前述のように、射影効果を低減するには、パターン部の膜厚を小さくする必要があり、そのためにはまず、EUV光に対する吸収性の大きい吸収膜を使用することが有効である。図4はEUV露光波長(13.5nm付近)における、各材料の光学定数の各種文献値をプロットしたものであり、横軸が屈折率:n、縦軸が消衰係数:kである。ここで光学理論の見地からは、消衰係数が大きい膜ほどEUV光に対する吸収性が大きい。
図4のように、従来主要な吸収膜材料として使われているTaやCrよりも吸収性の大きい膜はいくつかあるが、マスク材料として必要な、酸・アルカリの洗浄液耐性、ドライエッチング適性、微粒性をすべてクリアする可能性のある材料は稀である。図4の材料の中で、Snは、Sn単体であれば、融点が230℃付近と、金属材料の中でも特別に低く、熱的安定性の観点から好ましくない。
しかしながら、酸化錫(SnO)として酸化物の形になると、融点は1000℃以上であり、熱膨張係数も一般の金属酸化物程度であり、一般の金属単体よりも小さく、安定している。
そこで、実際にSnO膜を作製し、EUV波長(13.5nm)における光学定数を測定すると、下記(3)に示す値が得られる。下記(3)は、図4に示すSnOの値に近い値が得られた。
屈折率=0.936 消衰係数=0.0721 ・・・・(3)
(3)の結果を基に、SnO吸収膜を用いたEUV波長(13.5nm)におけるODを計算して、従来の主要な吸収膜であるTa膜と比較したのが、図6である。この計算で、SnO膜、またはTa膜は単層であり、これらの膜の下は、厚さ2.5nmのRuキャッピング膜、さらにその下にはSiとMoによる多層反射膜が40対存在するとして計算している。図6から分るように、OD>1.5を得るためには、Ta膜は約47nm厚必要であるのに対し、SnO膜は約24nmでよく、膜厚を低減できる吸収膜として有効であることが分る。尚、ODの計算に用いた波長13.5nmにおける光学定数を図7の第1列に示す。
図6の計算においては、Ruキャッピング膜を用い、緩衝膜を使用しない層構成について計算したが、FIBによる欠陥修正を行う場合は、通常緩衝膜を用いる。しかし、緩衝膜は通常10nm程度と薄く、EUV光の吸収性はTaと同程度か、Ta以下である。このため、緩衝膜のある構成においても、SnO膜は吸収膜厚を低減できる吸収膜として有効であることには変わりがない。
次に、典型的な欠陥検査波長である、199nm及び257nmにおけるSnO膜の光学定数をエリプソメータで測定したところ、下記(4)及び(5)に示す値が得られた。
199nm: 屈折率=1.87 消衰係数=0.617 ・・・・(4)
257nm: 屈折率=2.19 消衰係数=0.341 ・・・・(5)
ここで、前述と同じく、多層反射膜(SiとMoの40対)の上に、厚さ2.5nmのRuキャッピング膜をもつ構造の上に、図6で求めた、厚さ24nmの膜(仮にXとする)を付けたとき、Xの屈折率を横軸、消衰係数を縦軸として、検査波長に対する反射率=10%と、5%の等高線を計算した結果を、図8に示す。図8(a)が波長199nm、図8(b)が波長257nmの場合である。図8の中に、上述した(4)、(5)で求めた結果をプロットすると図のようになり、XがSnOのとき、199nmにおける反射率は約10%、257nmにおける反射率は5%以下となることが分る。すなわち、この構造で、SnO膜は少なくとも24nm付近では、AR膜を使用しなくても十分低反射となり、検査波長でのコントラストを確保できることが分る。なお、計算に用いた波長199nm、および257nmにおける光学定数を図7の第2、3列に示す。
実際に測定した分光反射率を図9に示す。図9では、SnOを成膜する前、すなわち多層反射膜(SiとMoの40対)の上に、厚さ2.5nmのRuキャッピング膜を成膜した段階、その後20nm、および25nmのSnOを成膜した段階での分光反射率を示している。このように、SnO膜成膜後は、199nmおよび257nmで低反射となっており、前述の計算による推論が妥当であることが分る。
図10には、図9でのRuキャッピング膜の代わりに、Siキャッピング膜(11nm厚)を用いた場合の、SnO膜厚に対する199nmと257nmにおける反射率を計算した結果を示す。この場合においても、SnO膜厚20nm〜25nm厚付近で、AR膜を使用しなくても、十分低反射となり、検査波長でのコントラストを確保できることが分る。
また、FIB修正を行うために、緩衝膜を使う場合においてもSnO膜による低反射化は可能である。図11は、SnO膜と、Ruキャッピング膜の間に、TaNまたはCrNによる緩衝膜を用いる場合の反射率を計算したものである。このように、SnO膜厚30nm付近まで、低反射(ほぼ15%以下)となっており、SnO膜による低反射化は有効であることが分る。なお、計算に用いた波長199nm、および257nmにおけるTaN、CrNなどの光学定数を図7の第2、3列に示す。
ところで、図8の中には、単体金属であるSnの光学定数もプロットしているが、このように、Snは低反射となる光学定数の領域から大きく離れている。Snは酸化度が進むにつれて、Snのプロット点からSnOのプロット点に向かって光学定数が移動するはずである。すなわち、酸化度が小さい場合や、酸化度が十分でもOD値を変えるために、膜厚を前述の24nm付近とは変えて使いたい場合、あるいは何らかの都合でSnO膜を最上層にしたくない場合も考えられる。このようなときは、別途AR膜をSnO膜の上に使用すればよい。
図12及び図13には、最上層のAR膜をSnO吸収膜の兼用ではなく、SiN膜としたときの、SiN膜厚に対する199nmと257nmにおける反射率を計算した結果を示す。このように、SiN膜をSnO膜上のAR膜としても、十分低反射となり、検査波長でのコントラストを確保できることが分る。図12は緩衝膜がない場合、図13は緩衝膜がある場合を示す。
次に、薄膜材料のドライエッチングガスとしては、フッ素系や、塩素系のハロゲンガスが一般的であるが、ドライエッチングの容易性は、被ドライエッチング材料のハロゲン化物の沸点を比較することにより知ることができる。すなわち、沸点が低いほど、エッチング生成物は気体化し、排気されやすい。図14は、従来の吸収膜材料である、Ta、Crと、本発明の実施の形態によるRuのハロゲン化物の沸点をまとめたものである(詳細は、CRC Handbook of Chemistry and Physics, 78th. Edition参照)。このように、Taはフッ素系、または塩素系、Crは塩素+酸素系、Snは塩素系によりドライエッチングすることができる。
また、SnO膜をスパッタリング法により石英基板上に成膜し、一般的な洗浄液であるAPM(NH:H:HO=1:2:20、室温)、およびSPM(HSO:H=3:1、100℃)に30分間浸漬し、分光透過率の変化によって、SnO膜の洗浄液耐性を評価した。その結果、APMの場合もSPMの場合もほとんど分光透過率の変化がなく、SnO膜は十分洗浄液耐性があることが分った。
次に、本発明の第2乃至第5の実施の形態に係るフォトマスク(反射型フォトマスク)を用いた半導体装置製造方法について説明する。フォトマスクを用いた半導体装置製造方法は、例えば、先ず被加工層を表面に形成した基板上にフォトレジスト層を設けたのち、本発明の第2乃至第5の実施の形態に係る反射型フォトマスクを介して反射した極端紫外線を選択的に照射する。
次に、現像工程において不必要な部分のフォトレジスト層を除去し、基板上にエッチングレジスト層のパターンを形成させたのち、このエッチングレジスト層のパターンをマスクとして被加工層をエッチング処理し、次に、エッチングレジスト層のパターンを除去することにより、フォトマスクパターンに忠実なパターンを基板上に転写することができる。
以下、実施例1乃至5により本発明を説明する。
まず、実施例1は、図15(a)に示すように、基板1上に反射多層膜2、反射多層膜2上に緩衝膜3、緩衝膜3上に吸収膜4を順次形成し、本発明の反射型フォトマスクブランク10を作製した。
基板1としては、表面を研磨して平坦な面とした外形6インチ(152.5mm)角、厚さ0.25インチ(6.35mm)の合成石英を用いた。なお、石英基板1には、裏面に静電チャック用の窒化クロム(CrN)薄膜を具備したものを用いてもよい。この基板1上にDCマグネトロンスパッタリング法によりMoとSiとを交互に40周期程度積層して波長13nm〜14nm領域のEUV光に対して反射率が最大となるような反射多層膜2を作製した。このときのMoとSiとからなる1周期の膜厚は7nmであり、そのうちMoの膜厚は2.8nm、Siは4.2nmであり、多層反射膜2の最上層がSiになるように最後にSiを7nm成膜した。
次に、この反射多層膜2上にRu(ルテニウム)からなる緩衝膜3を膜厚4nmで成膜し、さらに緩衝膜3上に続けてSnO膜の成膜を行い、膜厚40nmの吸収膜4を作製した。吸収膜4であるSnO膜の成膜は、SnターゲットをAr/O雰囲気下で、ガス圧0.25PaにてSnターゲットに300WのDCパワーを印加して行った。このとき、成膜後における吸収膜4の表面粗さは0.21nmrmsであり、良好な表面平滑性を有していた。以上のように、本実施例に係る反射型フォトマスクブランク10を作製した。
次に、図15(b)に示すように、ポジ型電子線レジスト、富士フィルムアーチ製、商品名「FEP−171」を用い、EB(Electron Beam)描画、現像というリソグラフィの工程によりレジストのパターン6aを形成した。
次に、図15(c)に示すように、レジストパターン6aをマスクにしてSnO膜(吸収膜4)をドライエッチングすることにより吸収膜パターン4aを形成した。このときのドライエッチングにはICP放電方式のドライエッチング装置を用いて、Clガス40sccmとHeガス65sccmとの混合ガスによるガス圧5mTorr(666.61mPa)の雰囲気にて、バイアスパワー40W及びソースパワー200Wにて行った。また、吸収膜4のエッチング過程におけるレジストに対する選択比は約0.95であった。
更に引き続き、図15(c)に示すように、吸収膜4直下のRuからなる緩衝膜3のドライエッチングをCl/O混合ガス雰囲気にて行い、良好な側壁異方性を有する緩衝膜3及び吸収膜4のパターンを得た。
最後に、図15(d)に示すように、レジストを剥離して、本発明の反射型フォトマスク20を得た。
尚、本発明の反射型フォトマスク20において、多層反射膜2及び吸収膜4の反射率に関して、EUV光を使用した測定により求めたODは、2.2であり、従来のTaベースの吸収膜4を適用する場合と比べて、コントラスト特性を損なうことなく、膜厚の低減を図ることができた。
以上、説明したように、本発明の反射型フォトマスクブランク10及び反射型フォトマスク20では、吸収膜4に従来よりも一層高吸収であるSnをベースとし、O、Ta及びInの薄膜を採用することにより、EUVコントラストを向上させつつ、膜厚の低減ができるため、射影効果の低減効果及びレジスト選択比向上によるパターンの垂直性向上に寄与するものと解する。
図3(d)に示すように、はじめに低熱膨張ガラス基板11上に、MoとSiとからなる40対の多層反射膜12をイオンビームスパッタリング法により成膜した。多層反射膜12を構成するMoとSiの各層の膜厚はそれぞれ2.8nm、4.2nmとした。さらに多層反射膜12の上にマグネトロンスパッタリング法によりSiからなるキャッピング膜13を11nmの厚さで成膜した。
さらにキャッピング膜13の上にCrNからなる緩衝膜14を、CrNをターゲットとし、Arガスを放電させるマグネトロンスパッタリング法により10nmの厚さで成膜した。
次に、緩衝膜14の上に、吸収膜15として、SnOをターゲットとし、Arガスを放電させるマグネトロンスパッタリング法により20nmの厚さで成膜した。
さらにその後、Siをターゲットとし、Arガスに窒素を添加したマグネトロンスパッタリング法により、AR膜であるSiN膜16を4nmの厚さで成膜して、本発明の反射型フォトマスク60を作製するための反射型フォトマスクブランクを作製した。
その後、AR膜16上に電子線レジストを塗布し、電子線描画法によりレジストパターンを形成した。このレジストパターンをマスクとし、フッ素系ガスによる反応性イオンエッチングによりAR膜パターン16を形成した後、吸収膜15のパターニングを塩素系ガスよる反応性イオンエッチングにより行い、その後硫酸と過酸化水素水により電子線レジストを剥離した。
その後、吸収膜15の欠陥の検査とFIB修正を行った後、CrNからなる緩衝膜14を塩素ガスに酸素を添加したエッチングにより剥離した。しかる後に、アンモニアと過酸化水素水とによる洗浄を行い、本発明の反射型フォトマスク60を作製した。作製後、電子線顕微鏡によるパターン部の観察と測定を行ったが、薄膜の粒径と表面粗さに起因する、加工精度の劣化は観察されなかった。
図3(c)に示すように、はじめに低熱膨張ガラス基板11上に、MoとSiとからなる40対の多層反射膜12をイオンビームスパッタリング法により成膜した。多層反射膜12を構成するMoとSiの各層の膜厚はそれぞれ2.8nm、4.2nmとした。さらに多層反射膜12の上にマグネトロンスパッタリング法によりRuからなるキャッピング膜13を2.5nmの厚さで成膜した。
次に、キャッピング膜13の上に、吸収膜15として、SnOをターゲットとし、Arガスを放電させるマグネトロンスパッタリング法により27nmの厚さで成膜した。
さらにその後、Siをターゲットとし、Arガスに窒素を添加したマグネトロンスパッタリング法により、AR膜であるSiN膜16を4nmの厚さで成膜して、本発明の反射型フォトマスク50を作製するための反射型フォトマスクブランクを作製した。
その後、AR膜16上に電子線レジストを塗布し、電子線描画法によりレジストパターンを形成した。このレジストパターンをマスクとして、フッ素系ガスによる反応性イオンエッチングによりAR膜パターン16を形成した後、吸収膜15のパターニングを塩素系ガスよる反応性イオンエッチングにより行い、その後硫酸と過酸化水素水により電子線レジストを剥離した。
その後、吸収膜15の欠陥の検査と電子線(EB)修正を行った。しかる後に、アンモニアと過酸化水素水とによる洗浄を行い、本発明の反射型フォトマスク50を作製した。作製後、電子線顕微鏡によるパターン部の観察と測定を行ったが、薄膜の粒径と表面粗さに起因する、加工精度の劣化は観察されなかった。
図3(b)に示すように、はじめに低熱膨張ガラス基板11上に、MoとSiとからなる40対の多層反射膜12をイオンビームスパッタリング法により成膜した。多層反射膜12を構成するMoとSiの各層の膜厚はそれぞれ2.8nm、4.2nmとした。さらに多層反射膜12の上にマグネトロンスパッタリング法によりSiからなるキャッピング膜13を11nmの厚さで成膜した。
さらにキャッピング膜13の上にTaNからなる緩衝膜14を、Taをターゲットとし、Arに窒素を添加した混合ガスを放電させるマグネトロンスパッタリング法により10nmの厚さで成膜した。
次に、緩衝膜14の上に吸収膜15として、SnOをターゲットとし、Arに酸素を添加した混合ガスを放電させるマグネトロンスパッタリング法により20nmの厚さで成膜して、本発明の反射型フォトマスク40を作製するための反射型フォトマスクブランクを作製した。
その後、吸収膜15上に電子線レジストを塗布し、電子線描画法によりレジストパターンを形成した。このレジストパターンをマスクとし、吸収膜15のパターニングを塩素系ガスよる反応性イオンエッチングにより行い、その後硫酸と過酸化水素水により電子線レジストを剥離した。
その後、吸収膜15の欠陥の検査とFIB修正を行った後、TaNからなる緩衝膜14を、フッ素系ガスを用いたエッチングにより剥離した。このとき、元々SnO膜のフッ素系ガスによるエッチレートは低く、さらに低電力でゆっくりと行ったので、吸収膜パターン15の膜厚減少は1nm以下に留まった。しかる後に、アンモニアと過酸化水素水とによる洗浄を行い、本発明の反射型フォトマスク40を作製した。作製後、電子線顕微鏡によるパターン部の観察と測定を行ったが、薄膜の粒径と表面粗さに起因する、加工精度の劣化は観察されなかった。
図3(a)に示すように、はじめに低熱膨張ガラス基板11上に、MoとSiとからなる40対の多層反射膜12をイオンビームスパッタリング法により成膜した。多層反射膜12を構成するMoとSiの各層の膜厚はそれぞれ2.8nm、4.2nmとした。さらに多層反射膜12の上にマグネトロンスパッタリング法によりRuからなるキャッピング膜13を2.5nmの厚さで成膜した。
次にキャッピング膜13の上に、吸収膜15として、SnOをターゲットとし、Arに酸素を添加した混合ガスを放電させるマグネトロンスパッタリング法により、24nmの厚さで成膜して、本発明の反射型フォトマスク30を作製するための反射型フォトマスクブランクを作製した。
その後、吸収膜15上に電子線レジストを塗布し、電子線描画法によりレジストパターンを形成した。このレジストパターンをマスクとし、吸収膜15のパターニングを塩素系ガスよる反応性イオンエッチングにより行い、その後硫酸と過酸化水素水により電子線レジストを剥離した。
その後、吸収膜15の欠陥の検査と電子線(EB)修正を行った。しかる後に、アンモニアと過酸化水素水とによる洗浄を行い、本発明の反射型フォトマスク30を作製した。作製後、電子線顕微鏡によるパターン部の観察と測定を行ったが、薄膜の粒径と表面粗さに起因する、加工精度の劣化は観察されなかった。
以上、詳細に説明したように、吸収膜15の少なくとも一層を、Sn及び酸素を主要な元素とする吸収膜15とすることによって、従来よりも薄い膜厚で、EUV光吸収性の高さと洗浄液耐性の高さを持つと同時に、エッチングしやすく、従って加工精度とパターン位置精度が良くなる反射型フォトマスクを提供することができる。
本発明は、EUV(Extreme Ultra Violet)光を用いた微細加工が求められる広範な分野に利用が期待される。特に、半導体集積回路などの製造工程において、波長10nm〜15nm程度のEUV光を用いた超微細な回路パターン転写の際に用いられる反射型フォトマスクとして利用が期待される。
1、11…基板
2、12…多層反射膜
3…緩衝膜
4…吸収膜
5、13…キャッピング膜
6a…レジストパターン
3a、14…緩衝膜パターン
4a、15…吸収膜パターン
16…AR膜パターン
10…反射型フォトマスクブランク
20、30、40、50、60…反射型フォトマスク

Claims (14)

  1. 基板と、
    前記基板上に形成された多層反射膜と、
    前記多層反射膜より上部に形成された吸収膜と、を備え、
    前記吸収膜は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を有する薄膜であることを特徴とする反射型フォトマスクブランク。
  2. 更に、前記多層反射膜と前記吸収膜との間にキャッピング膜と、を備えたことを特徴とする請求項1に記載の反射型フォトマスクブランク。
  3. 更に、前記キャッピング膜と前記吸収膜との間に緩衝膜と、を備えたことを特徴とする請求項2に記載の反射型フォトマスクブランク。
  4. 更に、前記吸収膜の上層に、AR膜と、を備えたことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反射型フォトマスクブランク。
  5. 前記吸収膜の膜厚は、35nm以上45nm以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の反射型フォトマスクブランク。
  6. 前記吸収膜は、錫(Sn)および酸素(O)の他、更に、タンタル(Ta)、インジウム(In)からなる群から選ばれた1つ以上の元素を含む化合物材料を有する薄膜であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の反射型フォトマスクブランク。
  7. 前記吸収膜は、錫(Sn)と酸素(O)とを含む比率を1としたとき、タンタル(Ta)を0.05〜0.15、インジウム(In)を0.05〜0.1の割合で含む合金とすることを特徴とする請求項6に記載の反射型フォトマスクブランク。
  8. 基板と、
    前記基板上に形成された高反射部と、
    前記高反射部上に形成されたパターニングされた低反射部と、を備え、
    前記パターニングされた低反射部は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を含むことを特徴とする反射型フォトマスク。
  9. 前記高反射部は、多層反射膜と、前記多層反射膜上に形成されたキャッピング膜と、を含むことを特徴とする請求項8に記載の反射型フォトマスク。
  10. 前記低反射部は、波長190nmから260nmの紫外線に対する反射率が15%以下であることを特徴とする請求項8または9に記載の反射型フォトマスク。
  11. 前記低反射部の最上部は、波長190nmから260nmの紫外線に対する消衰係数が1.0以下である層よりなることを特徴とする請求項8から10のいずれかに記載の反射型フォトマスク。
  12. 前記低反射部は、一層からなる単層の吸収膜であり、前記吸収膜は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を含むことを特徴とする請求項8から11のいずれかに記載の反射型フォトマスク。
  13. 前記低反射部は、複数の膜が積層された多層膜であり、前記多層膜の最上部の膜は、錫(Sn)および酸素(O)を含む化合物材料を含むことを特徴とする請求項8から11のいずれかに記載の反射型フォトマスク。
  14. 請求項8に記載の反射型フォトマスクに極端紫外光を照射し、
    前記反射型フォトマスクの高反射部にて反射した反射光を半導体基板上に設けられた極端紫外光用レジスト層に露光し、
    前記極端紫外光用レジスト層に前記反射型フォトマスクの前記低反射部のパターンを転写する工程を含むことを特徴とする半導体装置製造方法。
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