JP2010031102A - ポリイミドおよびその製造法 - Google Patents
ポリイミドおよびその製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010031102A JP2010031102A JP2008193104A JP2008193104A JP2010031102A JP 2010031102 A JP2010031102 A JP 2010031102A JP 2008193104 A JP2008193104 A JP 2008193104A JP 2008193104 A JP2008193104 A JP 2008193104A JP 2010031102 A JP2010031102 A JP 2010031102A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide
- triazine
- bis
- amino
- aminoanilino
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 41
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 8
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- FTYSULAJAVFRBZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,4-n-bis(4-aminophenyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC1=NC(N)=NC(NC=2C=CC(N)=CC=2)=N1 FTYSULAJAVFRBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 6
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- NJHOBWAEBBSZLP-UHFFFAOYSA-N 2-n,4-n-bis(4-aminophenyl)-6-n-phenyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical group C1=CC(N)=CC=C1NC1=NC(NC=2C=CC=CC=2)=NC(NC=2C=CC(N)=CC=2)=N1 NJHOBWAEBBSZLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KCZIUKYAJJEIQG-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazin-2-amine Chemical compound NC1=NC=NC=N1 KCZIUKYAJJEIQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 11
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- -1 Diphenylamino group Chemical group 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- FHBXQJDYHHJCIF-UHFFFAOYSA-N (2,3-diaminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1N FHBXQJDYHHJCIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)F NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 3-[(2,3-dicarboxyphenyl)methyl]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(CC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAHZZOIHRHCHTH-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O PAHZZOIHRHCHTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUJGQJMITCJTFA-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(2,3-dicarboxyphenoxy)phenoxy]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C(=C(C(O)=O)C=CC=3)C(O)=O)C=CC=2)=C1C(O)=O FUJGQJMITCJTFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHDSXXRHWXXXBY-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(2,3-dicarboxyphenoxy)phenoxy]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C(=C(C(O)=O)C=CC=3)C(O)=O)=CC=2)=C1C(O)=O KHDSXXRHWXXXBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYMMZGRJAMFSKQ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenoxy)propan-2-yloxy]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1OC(C)(C)OC1=CC=C(N)C=C1 IYMMZGRJAMFSKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJTOAEXZLOABGD-UHFFFAOYSA-N NC1C=C(C(=O)C2=CC(=CC=C2)N)C=CC1(OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 Chemical compound NC1C=C(C(=O)C2=CC(=CC=C2)N)C=CC1(OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 IJTOAEXZLOABGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- NHOWLEZFTHYCTP-UHFFFAOYSA-N benzylhydrazine Chemical compound NNCC1=CC=CC=C1 NHOWLEZFTHYCTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006616 biphenylamine group Chemical group 0.000 description 1
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- ZHDTXTDHBRADLM-UHFFFAOYSA-N hydron;2,3,4,5-tetrahydropyridin-6-amine;chloride Chemical compound Cl.NC1=NCCCC1 ZHDTXTDHBRADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005184 naphthylamino group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)N* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N phenylmethanediamine Chemical compound NC(N)C1=CC=CC=C1 DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
Description
(ここで、R1、R2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、アリール基または含窒素複素環基である)で表わされる2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮重合物よりなるポリイミドが提供される。かかるポリイミドは、一般式
で表わされる2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを縮重合反応させ、得られたポリアミック酸をポリイミド化温度に加熱して縮重合反応を完結させことによって製造される。ポリイミドのジアミン成分としては、上記2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと共に芳香族ジアミンを用いることもできる。
R1、R2:それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、
アリール基、含窒素複素環基
と芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮重合物よりなる。
アミノ基 -NH2
メチルアミノ基 -NH(CH3)
ジメチルアミノ基 -N(CH3)2
ジフェニルアミノ基 -N(C6H5)2
ナフチルアミノ基 -NH(C10H7)
ジナフチルアミノ基 -N(C10H7)2
ビフェニルアミノ基 -NH(C6H4C6H5)
N-メチルビフェニルアミノ基 -N(CH3)(C6H4C6H5)
N-メチルナフチルアミノ基 -N(CH3)(C10H7)
アニリノ基 -NHC6H5
N-メチルアニリノ基 -N(CH3)(C6H5)
ジビフェニルアミノ基 -N(C6H4C6H5)2
アミノアニリノ基 -NH(C6H4NH2)
ピリジルアミノ基 -NH(C5H4N)
ジピリジルアミノ基 -N(C6H4N)2
N-メチルピリジルアミノ基 -N(CH3)(C6H4N)
等が挙げられる。
(1) 攪拌装置を備えた容量10Lの四口フラスコ中に、窒素置換雰囲気中で、
(A) 2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アニリノ-1,3,5-トリアジン 192g(0.5モル)
(B) 4,4-ジアミノジフェニルエーテル 100g(0.5モル)
(C) ピロメリット酸二無水物 218g(1.05モル)
N-メチル-2-ピロリドン〔NMP〕 2890ml
の各成分中、NMP中に溶解させた(A)、(B)両成分に、(C)成分を30℃を超えないような条件下で徐々に仕込み、室温条件下で3時間攪拌して、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度62,000センチポアズ)3230gを得た。なお、溶液粘度は、25℃の恒温槽でB型粘度計を用いて測定された。
線膨張係数(100〜200℃):
10×10cmの積層体をエッチングして得られたフィルムを400℃に加熱して応力緩和し
たサンプルを、TMA装置に取り付け、試料長さ20mm、荷重2g、昇温速度10℃/分の引張
りモードで測定
接着強度:
1×10cmの積層体について、JIS C6481に準拠して測定
ガラス転移点(Tg):
積層体をアルミニウム板に載せ、これをDSC装置にセットして、昇温速度10℃/分で室
温から昇温させて測定
データーの解析方法は、チャートの変化し始めの部分と変化後の部分の接線の交点を
Tgとした
実施例1(1)において、(A)成分量が268.8g(0.7モル)、(B)成分量が60g(0.3モル)に、またNMP量が3100mlにそれぞれ変更され、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度11,000センチポアズ)3500gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例1(1)において、(B)成分が用いられず、(A)成分量が384g(1.0モル)に、NMP量が3410mlにそれぞれ変更され、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度5200センチポアズ)3860gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例1(1)において、(B)成分が用いられず、(A)成分量が384g(1.0モル)に、NMP量が3840mlにそれぞれ変更され、また(C)成分として3,3′,4,4′-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物294g(1.0モル)が用いられ、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度5600センチポアズ)4340gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例1(1)において、(B)成分が用いられず、(A)成分量が384g(1.0モル)に、NMP量が3930mlにそれぞれ変更され、また(C)成分としてオキシ-4,4′-ジフタル酸二無水物310g(1.0モル)が用いられ、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度3400センチポアズ)4480gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例1(1)において、(B)成分が用いられず、(A)成分量が384g(1.0モル)に、NMP量が3910mlにそれぞれ変更され、また(C)成分として2,2′,3,3′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物322g(1.0モル)が用いられ、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度6800センチポアズ)4480gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
実施例1(1)において、(A)成分が用いられず、(B)成分量が200g(1.0モル)に、NMP量が2370mlにそれぞれ変更され、ポリイミド前駆共重合体溶液(共重合体濃度15重量%、粘度6200センチポアズ)2650gを得て、以下(2)と同様に処理して、ポリイミド-銅箔積層体を得た。
表
線膨張係数 接着強度 Tg
例 CTE(ppm/℃) (kg/cm) (℃)
実施例1 24 1.4 333
〃 2 21 1.7 330
〃 3 21 1.4 320
〃 4 25 1.3 280
〃 5 61 1.8 257
〃 6 41 1.8 268
比較例 35 0.3 −
Claims (7)
- 2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンが2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アニリノ-1,3,5-トリアジンである請求項1記載のポリイミド。
- 2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと共に芳香族ジアミンが用いられた請求項1記載のポリイミド。
- 15重量%N-メチル-2-ピロリドン溶液として、25℃のB型粘度計で測定された粘度が800〜80,000センチポアズであるポリアミック酸をポリイミド化させて得られた請求項1、2または3記載のポリイミド。
- 請求項1、2、3または4記載のポリイミドおよび金属箔よりなる積層体。
- 2,4-ビス(4-アミノアニリノ)-6-アミノ-1,3,5-トリアジンと共に芳香族ジアミンが用いられる請求項6記載のポリイミドの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008193104A JP5168009B2 (ja) | 2008-07-28 | 2008-07-28 | ポリイミドおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008193104A JP5168009B2 (ja) | 2008-07-28 | 2008-07-28 | ポリイミドおよびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010031102A true JP2010031102A (ja) | 2010-02-12 |
JP5168009B2 JP5168009B2 (ja) | 2013-03-21 |
Family
ID=41735974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008193104A Active JP5168009B2 (ja) | 2008-07-28 | 2008-07-28 | ポリイミドおよびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5168009B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011099555A1 (ja) | 2010-02-10 | 2011-08-18 | 宇部興産株式会社 | ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体 |
JP2011257731A (ja) * | 2010-05-10 | 2011-12-22 | Jnc Corp | ジアミン、液晶配向剤および液晶表示素子 |
WO2012124664A1 (ja) * | 2011-03-11 | 2012-09-20 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド前駆体及びポリイミド |
WO2013024819A1 (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-21 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド金属積層体の製造方法 |
WO2013024820A1 (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-21 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、およびこれらの製造に使用されるトリアジン化合物の製造方法 |
WO2013172331A1 (ja) * | 2012-05-14 | 2013-11-21 | 国立大学法人岩手大学 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体およびポリイミド溶液 |
JP2014005228A (ja) * | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Iwate Univ | 芳香族ジアミン化合物及びその製造方法並びに芳香族ポリイミド合成樹脂 |
KR20170140106A (ko) * | 2016-06-10 | 2017-12-20 | (주)엘지하우시스 | 샌드위치 패널 및 그의 제조방법 |
JP2019156921A (ja) * | 2018-03-09 | 2019-09-19 | 国立大学法人岩手大学 | ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及び、ポリアミド酸 |
CN113912847A (zh) * | 2021-10-19 | 2022-01-11 | 波米科技有限公司 | 一种聚合物、液晶取向剂、液晶取向膜及液晶取向膜的应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS488272B1 (ja) * | 1969-08-01 | 1973-03-13 | ||
JP2006307112A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Nippon Futsuso Kogyo Kk | 含フッ素ポリイミド樹脂、その製造方法、プライマーおよび樹脂被覆方法 |
-
2008
- 2008-07-28 JP JP2008193104A patent/JP5168009B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS488272B1 (ja) * | 1969-08-01 | 1973-03-13 | ||
JP2006307112A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Nippon Futsuso Kogyo Kk | 含フッ素ポリイミド樹脂、その製造方法、プライマーおよび樹脂被覆方法 |
Cited By (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014111382A (ja) * | 2010-02-10 | 2014-06-19 | Ube Ind Ltd | ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体 |
KR101791716B1 (ko) | 2010-02-10 | 2017-10-30 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 폴리이미드 적층체, 및 이를 포함하는 폴리이미드/금속 적층체 |
WO2011099555A1 (ja) | 2010-02-10 | 2011-08-18 | 宇部興産株式会社 | ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体 |
JP2015061763A (ja) * | 2010-02-10 | 2015-04-02 | 宇部興産株式会社 | ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体 |
KR101876698B1 (ko) * | 2010-02-10 | 2018-07-09 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 폴리이미드 적층체, 및 이를 포함하는 폴리이미드/금속 적층체 |
CN104118168A (zh) * | 2010-02-10 | 2014-10-29 | 宇部兴产株式会社 | 聚酰亚胺膜、含它的聚酰亚胺层压体和含它的聚酰亚胺金属层压体 |
JP2014121878A (ja) * | 2010-02-10 | 2014-07-03 | Ube Ind Ltd | ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体 |
JP2014113824A (ja) * | 2010-02-10 | 2014-06-26 | Ube Ind Ltd | ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体 |
JP2011257731A (ja) * | 2010-05-10 | 2011-12-22 | Jnc Corp | ジアミン、液晶配向剤および液晶表示素子 |
CN103534294A (zh) * | 2011-03-11 | 2014-01-22 | 宇部兴产株式会社 | 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺 |
CN105254885A (zh) * | 2011-03-11 | 2016-01-20 | 宇部兴产株式会社 | 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺 |
WO2012124664A1 (ja) * | 2011-03-11 | 2012-09-20 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド前駆体及びポリイミド |
CN105254884A (zh) * | 2011-03-11 | 2016-01-20 | 宇部兴产株式会社 | 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺 |
CN105254883A (zh) * | 2011-03-11 | 2016-01-20 | 宇部兴产株式会社 | 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺 |
US9758623B2 (en) | 2011-03-11 | 2017-09-12 | Ube Industries, Ltd. | Polyimide precursor and polyimide |
KR101850174B1 (ko) * | 2011-03-11 | 2018-04-18 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 전구체 및 폴리이미드 |
KR101978005B1 (ko) * | 2011-08-12 | 2019-05-13 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 금속 적층체의 제조 방법 |
JPWO2013024820A1 (ja) * | 2011-08-12 | 2015-03-05 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、およびこれらの製造に使用されるトリアジン化合物の製造方法 |
JPWO2013024819A1 (ja) * | 2011-08-12 | 2015-03-05 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド金属積層体の製造方法 |
WO2013024820A1 (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-21 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、およびこれらの製造に使用されるトリアジン化合物の製造方法 |
WO2013024819A1 (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-21 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド金属積層体の製造方法 |
KR101945073B1 (ko) | 2011-08-12 | 2019-02-01 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 및 이들의 제조에 사용되는 트리아진 화합물의 제조 방법 |
CN103874723A (zh) * | 2011-08-12 | 2014-06-18 | 宇部兴产株式会社 | 聚酰亚胺前体,聚酰亚胺,聚酰亚胺膜,和用于制造其的三嗪化合物的制备方法 |
KR20140050715A (ko) | 2011-08-12 | 2014-04-29 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 금속 적층체의 제조 방법 |
CN103889710A (zh) * | 2011-08-12 | 2014-06-25 | 宇部兴产株式会社 | 制备聚酰亚胺金属层压体的方法 |
US9375877B2 (en) | 2011-08-12 | 2016-06-28 | Ube Industries, Ltd. | Method for manufacturing polyimide metal laminate |
US9511565B2 (en) | 2011-08-12 | 2016-12-06 | Ube Industries, Ltd. | Polyimide precursor, polyimide, polyimide film, and method for manufacturing triazine compound used for manufacturing same |
KR20140051405A (ko) | 2011-08-12 | 2014-04-30 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 및 이들의 제조에 사용되는 트리아진 화합물의 제조 방법 |
CN104583273A (zh) * | 2012-05-14 | 2015-04-29 | 国立大学法人岩手大学 | 聚酰亚胺前体、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜、聚酰亚胺金属层压体及聚酰亚胺溶液 |
US9556312B2 (en) | 2012-05-14 | 2017-01-31 | National University Corporation Iwate University | Polyimide precursor, polyimide, polyimide film, polyimide metal laminate, and polyimide solution |
JPWO2013172331A1 (ja) * | 2012-05-14 | 2016-01-12 | 国立大学法人岩手大学 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体およびポリイミド溶液 |
KR20150013297A (ko) | 2012-05-14 | 2015-02-04 | 내셔널 유니버시티 코포레이션 이와테 유니버시티 | 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 폴리이미드 금속 적층체 및 폴리이미드 용액 |
WO2013172331A1 (ja) * | 2012-05-14 | 2013-11-21 | 国立大学法人岩手大学 | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体およびポリイミド溶液 |
KR102049473B1 (ko) | 2012-05-14 | 2019-11-27 | 내셔널 유니버시티 코포레이션 이와테 유니버시티 | 폴리이미드 전구체, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 폴리이미드 금속 적층체 및 폴리이미드 용액 |
JP2014005228A (ja) * | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Iwate Univ | 芳香族ジアミン化合物及びその製造方法並びに芳香族ポリイミド合成樹脂 |
KR20170140106A (ko) * | 2016-06-10 | 2017-12-20 | (주)엘지하우시스 | 샌드위치 패널 및 그의 제조방법 |
KR102066542B1 (ko) * | 2016-06-10 | 2020-01-15 | (주)엘지하우시스 | 샌드위치 패널 및 그의 제조방법 |
JP2019156921A (ja) * | 2018-03-09 | 2019-09-19 | 国立大学法人岩手大学 | ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及び、ポリアミド酸 |
JP7101352B2 (ja) | 2018-03-09 | 2022-07-15 | 国立大学法人岩手大学 | ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド金属積層体及び、ポリアミド酸 |
CN113912847A (zh) * | 2021-10-19 | 2022-01-11 | 波米科技有限公司 | 一种聚合物、液晶取向剂、液晶取向膜及液晶取向膜的应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5168009B2 (ja) | 2013-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5168009B2 (ja) | ポリイミドおよびその製造法 | |
JP5886883B2 (ja) | ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体 | |
US7285321B2 (en) | Multilayer substrates having at least two dissimilar polyimide layers, useful for electronics-type applications, and compositions relating thereto | |
JP4540964B2 (ja) | 低温ポリイミド接着剤組成物 | |
JP3994696B2 (ja) | 線膨張係数を制御したポリイミドフィルム及び積層体 | |
JP4755264B2 (ja) | ポリイミドフィルム及びその製造方法 | |
JP5180814B2 (ja) | フレキシブル配線基板用積層体 | |
TWI500501B (zh) | Second layer double sided flexible metal laminated board and manufacturing method thereof | |
US8034460B2 (en) | Metallic laminate and method of manufacturing the same | |
JP2005272520A (ja) | 接着性の改良されたポリイミドフィルム、その製造方法および積層体 | |
TWI485062B (zh) | 可撓性覆金屬積層體及其製造方法 | |
JP4193797B2 (ja) | 新規ポリイミド共重合体およびその金属積層体 | |
JP2001270034A (ja) | フレキシブル金属箔積層体 | |
JP2009182073A (ja) | 多層基板 | |
JP4941407B2 (ja) | 銅張積層板および銅張積層板の製造方法 | |
JP4967494B2 (ja) | 耐熱性ポリイミド金属積層板の製造方法 | |
JP2007189011A (ja) | フレキシブルプリント配線板用基板及びその製造方法 | |
JP4684601B2 (ja) | フレキシブル積層基板の製造法 | |
JP2004315601A (ja) | 接着性の改良されたポリイミドフィルム、その製造法および積層体 | |
JP2006328407A (ja) | ポリイミドフィルムおよびそれを用いた電気・電子機器用基板 | |
JP2005329641A (ja) | フレキシブルプリント配線板用基板及びその製造方法 | |
JP2007091803A (ja) | ポリイミドフィルムおよび金属張積層板 | |
JP2008130784A (ja) | 多層回路基板 | |
JP2005161858A (ja) | 線膨張係数を制御したポリイミドフィルムの製造法 | |
JP2006225667A (ja) | 線膨張係数を制御した長尺状のポリイミドフィルム及び積層体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100513 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100513 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100616 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100617 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110414 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120605 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120802 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121127 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121210 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5168009 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |