JP2010027721A - 基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】搬送トラブルのおそれを防止することのできる基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】基板搬送装置Ｄのガイドプレート７には、複数の浮上用ガス噴出孔８，……，８が形成されている。すなわち、ガイドプレート７の上面には、搬送方向に直交する方向へ１列に８個、搬送方向に平行な方向へ１６列に配置された合計１２８個の円形ガス噴出孔８，……，８が形成されている。被処理物搬出室２におけるガイドプレート７には１枚の板状トレー５が載置されている。トレー５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形本体部５ａと、この本体部５ａにおける両側縁のそれぞれから部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレー５が後述の搬送用アーム２４によって搬送される際に搬送用アーム２４が当接状に係合／係合解除する合計６つの張出部５ｂ，５ｂ，５ｃ，５ｃ，５ｄ，５ｄとを有している。
【選択図】図１

Description

この発明は、基板搬送装置に関し、さらに詳しくは、板状被処理物である基板の表面に例えばプラズマ処理を施すために基板を搬送する基板搬送装置に関する。

板状被処理物である基板の表面に半導体薄膜を製造する場合には、複数の真空室を利用したプラズマ処理装置が広く用いられている。このようなプラズマ処理装置は、複数の真空室のうち少なくとも１つが基板の表面にプラズマ処理を施すためのプラズマ処理用真空室とされ、さらに、基板を複数の真空室の間で搬送するための搬送装置を備えているのが一般的である。

この搬送装置としては、それぞれの真空室に基板搭載用のガイドプレートを設け、ガイドプレートに基板を搭載しておき、真空室で浮上用ガスにより基板をガイドプレートから浮上させ、浮上した基板をガイドプレートに沿って隣接する真空室へ搬送する浮上搬送方式によるものが知られている。

すなわち、このような浮上搬送方式による基板搬送装置は、それぞれの真空室に設けられた、複数の浮上用ガス噴出孔を有する浮上搬送用ガイドプレートと、それぞれのガイドプレートへ浮上用ガスを供給するガス供給源とを備えてなる。そして、ガイドプレートのガス噴出孔から浮上用ガスを噴射させることにより基板をガイドプレートから浮上させ、浮上した基板を外力により複数の真空室の間でガイドプレートに沿って搬送する。

この種の搬送方式を利用する基板搬送装置としては、例えば特許文献１あるいは特許文献２に記載されたものも知られている。
実開昭６１−１７８７２５号公報 特開平７−２２８３４２号公報

このような浮上搬送方式による基板搬送装置としては例えば、長方形基板を複数の真空室の間で移動させるための昇降可能な水平延出状搬送用アームと、この搬送用アームを搬送方向および鉛直方向へ搬送／昇降駆動するための搬送駆動部とを備えたものが用いられている。

しかしながら、このような搬送用アームと搬送駆動部とを備えた基板搬送装置のうち、基板の表面を保護するために、基板をガイドプレートに直接搭載するのではなく、ガイドプレートに載置されたトレーを介して基板を搭載するように構成された基板搬送装置にあっては、次のような問題が生じる。

トレーは通常、平面形状が長方形であってその長辺長さおよび短辺長さが基板のそれらよりも大きい寸法を有するように、側縁寄り箇所および端縁寄り箇所を張り出し状に設けることで、搭載される基板よりも面積を大きくする必要がある。その理由は、基板が搭載されるトレーの側縁寄り箇所に、搬送用アームの垂下状先端部分が昇降によって嵌脱可能に嵌合するための嵌合穴を搬送方向に沿って複数個設ける必要があるからである。

トレーおよび搬送用アームがこのように構成されているときには、トレーの嵌合穴と搬送用アームの先端部分との嵌合時の位置合わせが容易ではないために嵌合がスムーズに行われず、搬送トラブルの生じるおそれがある。

さらに、トレーおよび搬送用アームがこのように構成されているのに加えて、ガイドプレートに基板を加熱するためのヒータが内蔵されているとともにそのヒータの幅が基板の幅とほぼ同じになるように構成されているときには、次のような問題がある。すなわち、トレーの側縁寄り箇所がガイドプレートの側縁から張り出しているために、ヒータによる加熱時に、トレーのうちのヒータに面している箇所とヒータから張り出した箇所との間で温度分布に差が生じる。この温度分布の差によって、トレーが側縁寄り箇所において上方へ反ってしまうことがあり、搬送トラブルが生じるおそれがある。

この発明は以上のような事情を考慮してなされたものであり、その課題は、搬送トラブルのおそれを防止することのできる基板搬送装置を提供することである。

この発明の１つの観点によれば、複数の浮上用ガス噴出孔を有し、互いに離間した状態に隣接して配置された複数の浮上搬送用ガイドプレートと、それぞれのガイドプレートへ浮上用ガスを供給するガス供給源と、搬送すべき基板を搭載するためにガイドプレートに載置されて浮上用ガスにより浮上されるトレーと、浮上したトレーをそのガイドプレートから隣接する他のガイドプレートへ搬送するための搬送用アームとを備えてなり、トレーは、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある本体部と、この本体部における両側縁の少なくとも一方から部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレーが搬送用アームによって搬送される際に搬送用アームが当接状に係合する張出部とを有し、搬送用アームは、搬送方向に対して平行に設けられたレールに沿って水平状に往復移動することのできるベース部と、ベース部において搬送方向に直交する方向に水平状往復移動可能に設けられたガイド部と、ガイド部において搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレーの側方に位置するように設けられ、自由端である内方突出状端がガイド部の水平状往復移動によってトレーの張出部の一部に外側から内側へ当接係合／内側から外側へ係合解除されるアーム部とを有している、ことを特徴とする基板搬送装置が提供される。

この基板搬送装置における複数の浮上搬送用ガイドプレートは、互いに離間した状態に隣接して配置される。このようなガイドプレートとしては、複数の浮上用ガス噴出孔が設けられていて、浮上した板状被処理物――ガイドプレートに載置されるトレーとこのトレーに搭載されるプラズマ処理用基板とからなるもの――が外力により搬送される際のガイドとなるものであればよい。その形状や材質などについては特に制約がない。

ガイドプレートは例えば、外部のガス供給源に接続される浮上用ガス供給管を有する長方形板状体からなり、ゲートバルブを隔てて互いに隣接された複数の処理室において、搬送方向に沿って一線状に配置される。それぞれのガイドプレートには、ガス供給源から浮上用ガスが供給される。浮上用ガスとしては、ガイドプレート、被処理物などに対してダメージを与えないものであれば、特に制約がないが、例えば、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスなどが好ましく用いられる。

それぞれのガイドプレートにおける複数（例えば１００〜２００個）の浮上用ガス噴出孔（例えば直径が０．５〜５．０ｍｍの円形孔）は例えば、互いに独立した複数の噴出孔群（例えば５〜１０群）から構成することができる。これらの噴出孔群は、搬送方向に対して横断状に、かつ、搬送方向へ所定間隔を置いて形成される。

基板を搭載するためのトレーとしては、基板を搭載した状態でガイドプレートの上に載置され、各種処理の温度、圧力などに耐えることのできるものであれば、その形状や材質などについては特に制約されない。ただし、浮上用ガスにより浮上されるという観点からは、トレーは軽量であることが好ましく、例えばステンレス鋼あるいはアルミニウム合金からなる薄板状のもの（厚さが例えば０．５ｍｍ〜２．０ｍｍのもの）が使用される。

搬送用アームは、浮上したトレーをそのガイドプレートから隣接する他のガイドプレートへ搬送するためのものである。

トレーは本体部と張出部とを有してなる。本体部には、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある。張出部は、本体部における両側縁の少なくとも一方から部分的に外側へ張り出すように設けられる。張出部は、トレーが搬送用アームによって搬送される際に搬送用アームが当接状に係合する部分である。

搬送用アームは、ベース部とガイド部とアーム部とを有している。ベース部は、搬送方向に対して平行に設けられたレールに沿って水平状に往復移動することができる部分である。ガイド部は、ベース部において搬送方向に直交する方向に水平状往復移動可能に設けられた部分である。アーム部は、ガイド部において搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレーの側方に位置するように設けられた部分である。そして、アーム部の自由端である内方突出状端は、ガイド部の水平状往復移動によってトレーの張出部の一部に外側から内側へ当接係合されるとともに、内側から外側へ係合解除される。

搬送用アームを駆動するためには例えば、搬送方向に間隔を置いて配置された一対のプーリと、これらのプーリに巻き掛けられたワイヤーと、一方のプーリに接続されたモータとから構成されたものが用いられる。

この発明の別の観点によれば、複数の浮上用ガス噴出孔を有し、互いに離間した状態に隣接して配置された複数の浮上搬送用ガイドプレートと、それぞれのガイドプレートへ浮上用ガスを供給するガス供給源と、搬送すべき基板を搭載するためにガイドプレートに載置されて浮上用ガスにより浮上されるトレーと、浮上したトレーをそのガイドプレートから隣接する他のガイドプレートへ搬送するための搬送用アームとを備えてなり、トレーは、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある本体部と、この本体部における両側縁の少なくとも一方から部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレーが搬送用アームによって搬送される際に搬送用アームが当接状に係合する張出部とを有し、搬送用アームは、搬送方向に対して平行に設けられたレールに沿って水平状に往復移動することのできるベース部と、ベース部において鉛直方向に上昇／下降可能に設けられたガイド部と、ガイド部において搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレーの上方に位置するように設けられ、自由端である垂下状端がガイド部の下降／上昇によってトレーの張出部に上方から下方へ当接係合／下方から上方へ係合解除されるアーム部とを有している、ことを特徴とする基板搬送装置が提供される。

この発明の別の観点における基板搬送装置の浮上搬送用ガイドプレート、ガス供給源およびトレーの構成は、この発明の１つの観点における上記基板搬送装置のそれらと同じである。

この発明の別の観点における基板搬送装置の搬送用アームは、ベース部とガイド部とアーム部とを有している。ベース部は、搬送方向に対して平行に設けられたレールに沿って水平状に往復移動することができる部分である。ガイド部は、ベース部において鉛直方向に上昇／下降可能に設けられた部分である。アーム部は、ガイド部において搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレーの上方に位置するように設けられた部分である。そして、アーム部の自由端である垂下状端は、ガイド部の下降／上昇によってトレーの張出部に上方から下方へ当接係合されるとともに、下方から上方へ係合解除される。

この発明の１つの観点における基板搬送装置は、上記のように、トレーが、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある本体部と、この本体部における両側縁の少なくとも一方から部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレーが搬送用アームによって搬送される際に搬送用アームが当接状に係合する張出部とを有し、搬送用アームが、搬送方向に対して平行に設けられたレールに沿って水平状に往復移動することのできるベース部と、ベース部において搬送方向に直交する方向に水平状往復移動可能に設けられたガイド部と、ガイド部において搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレーの側方に位置するように設けられ、自由端である内方突出状端がガイド部の水平状往復移動によってトレーの張出部の一部に外側から内側へ当接係合／内側から外側へ係合解除されるアーム部とを有している。

従って、このような基板搬送装置によれば、搬送用アームのアーム部の内方突出状端がガイド部の水平状往復移動によってトレーの張出部の一部に外側から内側へ当接係合する。そして、従来の基板搬送装置におけるトレーの嵌合穴と搬送用アームの先端部分との嵌合によることなく、搬送用アームのアーム部がトレーの張出部に係合した状態でトレーを浮上搬送することが可能になるので、従来のような搬送トラブルのおそれを防止することができる。

この発明の別の観点における基板搬送装置は、上記のように、トレーが、この発明の１つの観点における基板搬送装置におけるのと同じような本体部と張出部とを有し、搬送用アームが、搬送方向に対して平行に設けられたレールに沿って水平状に往復移動することのできるベース部と、ベース部において鉛直方向に上昇／下降可能に設けられたガイド部と、ガイド部において搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレーの上方に位置するように設けられ、自由端である垂下状端がガイド部の下降／上昇によってトレーの張出部に上方から下方へ当接係合／下方から上方へ係合解除されるアーム部とを有している。

従って、このような基板搬送装置によれば、搬送用アームのアーム部の垂下状端がガイド部の下降／上昇によってトレーの張出部に上方から下方へ当接係合する。そして、従来の基板搬送装置におけるトレーの嵌合穴と搬送用アームの先端部分との嵌合によることなく、搬送用アームのアーム部がトレーの張出部に係合した状態でトレーを浮上搬送することが可能になるので、従来のような搬送トラブルのおそれを防止することができる。

この発明による基板搬送装置は必要に応じて、ガイドプレートが、基板を加熱するためのヒータを内蔵しており、トレーが、ガイドプレートに載置された際に本体部および張出部のうちの少なくとも張出部がガイドプレートの側縁からはみ出るように、構成することができる。

基板搬送装置がこのように構成されていると、トレーの張出部が本体部における両側縁の少なくとも一方から部分的に外側へ張り出すように設けられていることから、ヒータによる加熱時に上記のような温度分布の差が生じることが従来よりも少なくなる。従って、トレーが側縁寄り箇所において上方へ反ってしまうおそれが抑制され、搬送トラブルが防止される。

ここで、トレーは、ガイドプレートに載置された際に本体部および張出部のうちの張出部だけがガイドプレートの側縁からはみ出るように構成することもできる。

基板搬送装置がこのように構成されていると、ヒータによる加熱時に上記のような温度分布の差が生じることがいっそう少なくなる。従って、トレーが側縁寄り箇所において上方へ反ってしまうおそれがいっそう抑制され、搬送トラブルがいっそう防止される。

ガイドプレートおよび搬送用アームは、プラズマ処理のために、真空室内に設けられていてもよい。

このとき、真空室は、密閉可能な構造を有し、所定の気圧と温度に耐え得るものであればよく、その形状や材質などについては特に制約がない。真空室は例えば、長手方向に直線状に延びる１つのケーシングを開閉可能な隔離用ゲートバルブにより複数に区画することで、複数構成することができ、真空ポンプに接続される。

複数の真空室は例えば、少なくとも１つが基板などの板状被処理物にプラズマ処理を行うためのプラズマ処理室にされる。他の真空室は例えば、プラズマ処理室に接続された、被処理物を搬入するための被処理物搬入室や、プラズマ処理室に接続された、被処理物を搬出するための被処理物搬出室などにされる。

この発明による基板搬送装置は、トレーの張出部が例えば、本体部の一方側縁に連なる基部側縁部と、この基部側縁部に対して所定間隔をおいて平行に延びる張出側縁部と、これらの縁部どうしに連なる２つの張出端部とを有しているものであってもよい。ここで、トレーの張出部は例えば、平面形状が長方形であって、基部側縁部の長さが張出端部の長さよりも長いものであるように、あるいは、平面形状が台形であって、張出側縁部の長さが基部側縁部の長さよりも長いものであるように、構成される。

トレーの張出部がこのように構成されているときには、平面形状が長方形あるいは台形であるトレーの張出部の張出端部にあるいは張出端部と張出側縁部とで作られる鋭角部分に、搬送用アームのアーム部の内方突出状端あるいは垂下状端が引っ掛かるので、搬送用アームのアーム部をトレーの張出部にいっそう確実に係合させることが可能になる。

トレーの張出部は、本体部の一方側縁に連なる基部側縁部とこの基部側縁部に対して所定間隔をおいて平行に延びる張出側縁部とを有する長方形から、その張出側縁部の中間部分を含む領域が切り欠かれてなるような、平面形状が凹字形のものであってもよい。

トレーの張出部がこのようなものであるときには、平面形状が凹字形であるトレーの張出部の凹状部分に搬送用アームのアーム部の内方突出状端あるいは垂下状端が係合するように構成することで、搬送用アームによってトレーをその側縁に沿って前方搬送方向および後方搬送方向のいずれの方向へも搬送することが可能になる。

この発明による基板搬送装置は、トレーの張出部が本体部における両側縁に対応して両側に設けられており、搬送用アームがトレーの両側の張出部に対応して一対設けられているのがより好ましい。

基板搬送装置のトレーの張出部および搬送用アームがこのように設けられているときには、一対の搬送用アームがトレーの両側の張出部にそれぞれ係合することで、搬送用アームによるトレーの搬送をいっそう安定したものにすることができる。

ここで、トレーの張出部は例えば、本体部の両側のそれぞれに、搬送方向に所定間隔をおいて複数個、設けられているのがいっそう好ましい。

トレーの張出部がこのように設けられているときには、一対の搬送用アームがトレーの両側における複数個の張出部にそれぞれ係合することで、搬送用アームによるトレーの搬送をいっそう確実にかつ安定したものにすることができる。

この発明による基板搬送装置は、トレーの本体部が、搬送方向に対して直交する両端部のそれぞれに、搬送方向に対して平行である外側方向に向かって厚さが徐々に薄くなるテーパー部分を有しているように構成することもできる。

基板搬送装置がこのように構成されているときには、トレーの搬送時にトレーがその自重や他の原因などによって端部で垂れ下がるような事態が発生しても、トレーは、その端部における上記のようなテーパー部分によって、隣接するガイドプレートの端部に引っ掛かることなく搬送されて、そのガイドプレートの上面へスライド状に誘導されることになる。

この発明による基板搬送装置は、トレーが、本体部における搬送方向に対して直交する一方端部に、トレーを両手で保持するための一対の保持部をさらに有しているように構成することもできる。

基板搬送装置がこのように構成されているときには、操作者などがトレーの一対の保持部を両手で保持することができるので、トレーの移動などの操作を簡単にかつ効率よく行うことが可能になる。

以下、添付図面である図１〜図１３に基づいて、この発明の好ましい３つの実施の形態を説明する。なお、これらによってこの発明が限定されるものではない。

〔実施の形態１〕
図１は、プラズマ処理装置に組み込まれた、この発明の実施の形態１における基板搬送装置の一部切欠斜視図である。図２は、図１に示された基板搬送装置の構成説明図である。図３は、図１に示された基板搬送装置における１つの構成要素であるトレーの平面図である。図４は、図１に示された基板搬送装置における別の１つの構成要素である搬送アームの平面図である。

図１および図２に示されたように、この発明の実施の形態１における基板搬送装置Ｄは、プラズマ処理装置に組み込まれている。基板搬送装置Ｄは、搬送上流側から搬送下流側へかけて互いに離間した状態に隣接して配置された第１真空室１および第２真空室２を備えてなる。これら２つの真空室１，２は、長手方向に直線状に延びる１つのケーシングを開閉可能な１つの隔離用ゲートバルブ３により２つに区画することで構成されている。これらの真空室１，２はステンレス鋼製で、内面には鏡面加工が施されている。ゲートバルブ３は、昇降可能に構成され、上昇した位置で隣接する２つの真空室１，２を連通状態にし、下降した位置で隣接する２つの真空室１，２を隔離状態にする。

第１真空室１は、搬送上流側からここへ搬入された板状被処理物４（ここでは、トレー５とこのトレー５に搭載されるプラズマ処理用基板６とからなる）にプラズマ処理を行うためのプラズマ処理室にされている。第２真空室２は、第１真空室１であるプラズマ処理室で処理された被処理物４を搬出するための被処理物搬出室にされている。

第１真空室としてのプラズマ処理室１および第２真空室としての被処理物搬出室２にはそれぞれ、長方形板状体からなり、被処理物４が載置される浮上搬送用ガイドプレート７が設けられている。これらのガイドプレート７，７は、後に説明するように部分的に中空構造とされている。ガイドプレート７，７は、ステンレス鋼、アルミニウム合金などの金属製とすることができる。さらに、トレー５の搬送中にトレー５とガイドプレート７，７が接触して、ガイドプレート７，７が変形または磨耗し難いように、ガイドプレート７，７の材質は、トレー５の材質よりも硬度の高いものが望ましい。それぞれのガイドプレート７は、表面に鏡面加工が施され、幅（短辺長さ）６００ｍｍ、長さ（長辺長さ）１０００ｍｍ、厚さ３０ｍｍの寸法を有している。これら２つのガイドプレート７，７は、ゲートバルブ３を隔てて隣接されたプラズマ処理室１および被処理物搬出室２において、搬送方向に沿って一線状に配置されている。また、それぞれのガイドプレート７には、基板６を加熱するためのヒータ（図示略）が内蔵されている。

図１および図２に示されたように、それぞれのガイドプレート７には、複数の浮上用ガス噴出孔８，……，８が形成されている。すなわち、それぞれのガイドプレート７の上面には、長方形短辺の延びる方向（搬送方向に直交する方向）へ１列に８個、長方形長辺の延びる方向（搬送方向に平行な方向）へ１６列に配置された合計１２８個の円形ガス噴出孔８，……，８が形成されている。それぞれのガス噴出孔８の孔径は１．０ｍｍである。

これら１２８個のガス噴出孔８，……，８は、２列である１６個ごとに独立した８つの帯状噴出孔群９，……，９に分けられている。これらの噴出孔群９，……，９は、ガイドプレート７の長辺の延びる方向である搬送方向に対して横断状に、かつ、搬送方向へ所定間隔を置いて形成されている。

それぞれのガイドプレート７は、搬送方向に対して横断状に、かつ、搬送方向へ互いに所定間隔を置いて形成された、８つの帯状噴出孔群９，……，９のそれぞれに対応する８本の内部溝（図示略）と、これらの内部溝のそれぞれに連通状に接続され、ガイドプレート７の内部で搬送方向へ沿って延びる８本の浮上用ガス供給管１０，……，１０とを備えている。ガイドプレート７は、このような内部溝が形成されていることにより、これらの内部溝の箇所で中空状にされている。

図２に示されたように、この基板搬送装置Ｄには、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２におけるガイドプレート７，７へ浮上用ガスを供給するガス供給源１１が設けられている。ガス供給源１１は、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２のそれぞれの底壁外部に設けられた浮上用ガス供給バルブ１２，１２を介して、ガイドプレート７，７のガス供給管１０，……，１０に接続されている。

また、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２はそれぞれ、外部の真空ポンプ１３，１３に接続されている。プラズマ処理室１には、その入口側に被処理物搬入用扉１４が設けられている。プラズマ処理室１は、室内を所定の真空度に維持するための圧力調整バルブ１５を介して下方の真空ポンプ１３に接続されているとともに、上方でプラズマ処理用反応ガスを導入するための反応ガス導入管１６に接続されている。被処理物搬出室２には、その出口側に被処理物搬出用扉１７が設けられている。さらに、被処理物搬出室２は、上方でリークガス導入管１８に接続されている。

プラズマ処理室１のガイドプレート７はプラズマ処理用アノード電極１９を兼ねている。また、アノード電極１９の上方には、対向状にプラズマ処理用カソード電極２０が設けられている。カソード電極２０は、プラズマ処理室１の外部におけるコンデンサ２１および整合回路２２を介して、高周波電源２３へ電気的に接続されている。

図１および図２に示されたように、被処理物搬出室２におけるガイドプレート７には１枚の板状トレー５が載置されている。トレー５は長方形の平面形状を有している。トレー５は、ステンレス鋼、アルミニウム合金などの金属製とすることができる。さらに、トレー５の材質は、ガイドプレート７，７の材質よりも硬度が低いものが望ましい。例えば、ガイドプレート７，７をステンレス鋼製とし、トレー５をアルミニウム合金製とすることができる。また、ガイドプレート７，７とトレー５とをともにステンレス鋼またはアルミニウム合金製とし、その組成比率を調整して、トレー５の硬度をガイドプレート７，７の硬度よりも低くしてもよい。トレー５の裏面（ガイドプレート７との対向面）には、滑らかな搬送移動を実現するために鏡面加工が施されている。トレー５は、幅（短辺長さ）６０５ｍｍ、長さ（長辺長さ）９００ｍｍ、厚さ２ｍｍの寸法を有している。トレー５は、搬送すべき基板６を搭載するためにガイドプレート７に載置されて浮上用ガスにより浮上される。

図３に示されたように、トレー５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形本体部５ａと、この本体部５ａにおける両側縁のそれぞれから部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレー５が後述の搬送用アーム２４によって搬送される際に搬送用アーム２４が当接状に係合／係合解除する合計６つの張出部５ｂ，５ｂ，５ｃ，５ｃ，５ｄ，５ｄとを有している。

トレー５における張出部５ｂ，５ｂ，５ｃ，５ｃ，５ｄ，５ｄは、本体部５ａにおけるそれぞれの側縁の搬送上流側端部寄り位置に設けられた第１張出部５ｂ，５ｂと、この第１張出部５ｂ，５ｂから搬送下流側へ所定距離だけ離れた中間位置に設けられた第２張出部５ｃ，５ｃと、この第２張出部５ｃ，５ｃからさらに搬送下流側へ所定距離だけ離れた搬送下流側端部に連なる端部位置に設けられた第３張出部５ｄ，５ｄとからなっている。それぞれの張出部５ｂ，……，５ｄは、平面形状が凹字状のものである。すなわち、それぞれの張出部５ｂ，……，５ｄは、図３に示されたように、本体部５ａの一方側縁に連なる基部側縁部とこの基部側縁部に対して所定間隔をおいて平行に延びる張出側縁部とを有する長方形から、その張出側縁部の中間部分を含む小さい長方形の領域が切り欠かれてなるような、平面形状が凹字形のものである。

この基板搬送装置Ｄには、ガイドプレート７に載置された被処理物４を浮上させ、浮上した被処理物４を外力によりプラズマ処理室１および被処理物搬出室２の間でガイドプレート７，７に沿って搬送するための搬送機能部３０，３０が、被処理物搬出室２に設けられている。以下、図１および図４を参照しながら、搬送機能部３０，３０による浮上搬送について説明する。

図１において、それぞれの搬送機能部３０は、被処理物４をプラズマ処理室１および被処理物搬出室２の間で移動させる。それぞれの搬送機能部３０は、被処理物搬出室２における被処理物４の両側縁のそれぞれに沿って配設された搬送用アーム２４と、搬送方向に間隔を置いて配置された一対のプーリ（駆動プーリ２５ａおよび従動プーリ２５ｂ）と、これらのプーリ２５ａ，２５ｂに巻き掛けられたワイヤー２６と、駆動プーリ２５ａに接続されたモータ２７とを備えてなる。

従動プーリ２５ｂには、ワイヤー２６のたるみを取る方向に付勢されたスプリング２９が取り付けられている。スプリング２９により、従動プーリ２５ｂは搬送方向に対して平行な方向へ引っ張られ、ワイヤー２６の張力が一定に保たれている。

図１および図４に示されたように、搬送用アーム２４は、ベース部２４ａとガイド部２４ｂとアーム部２４ｃとを備えてなる。搬送用アーム２４は、その一部が、ワイヤー２６に連結されているとともに、被処理物搬出室２の底面後方に水平状に設けられたレール２８に載置されている。

すなわち、ベース部２４ａは、ワイヤー２６に連結されているとともにレール２８に載置されていて、レール２８に沿って水平状に往復移動することができる。ガイド部２４ｂは、ベース部２４ａにおいて搬送方向に直交する方向（図４の両矢印方向）へ水平状に往復移動することができるように設けられている。アーム部２４ｃは、ガイド部２４ｂにおいて搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレー５の側方に位置するように設けられている。アーム部２４ｃの搬送方向への移動距離は、６５０ｍｍになるように設定されている。

アーム部２４ｃには、その自由端に第１および第２の内方突出状端２４ｄ，２４ｅが設けられている。内方突出状端２４ｄ，２４ｅは、トレー５における第１〜第３張出部５ｂ，……，５ｄのそれぞれに、当接係合／係合解除される。

これに関してより詳しく説明すると、ベース部２４ａの上面には、ギア２４ｆが垂直回転軸（図示略）を介して設けられている。ギア２４ｆは、ベース部２４ａに回転可能に軸支されており、ガイド部２４ｂの一方側面（ギア２４ｆに係合するギア溝が形成されている側面）に回転係合することで、ガイド部２４ｂを上記両矢印方向へ往復移動させる。

このようなガイド部２４ｂの往復移動によって、アーム部２４ｃはレール２８との平行関係を維持した状態で、レール２８から遠ざかったり、レール２８に近付いたりすることができる。そして、アーム部２４ｃの内方突出状端２４ｄ，２４ｅは、アーム部２４ｃのこのような動きによって、トレー５の張出部５ｂ，……，５ｄの１つに外側（トレー５の本体部５ａの側縁に対してより遠い側）から内側（トレー５の本体部５ａの側縁に対してより近い側）へ当接係合されたり、内側から外側へ係合解除されたりする。

このプラズマ処理装置Ｄは、搬送中のトレー５の位置を検出するセンサー（図示略）と所定の制御を行う制御機能部（図示略）とをさらに備えている。

制御機能部は、主として次のような制御を行うものである。すなわち、ゲートバルブ３を開放して、隣接するプラズマ処理室１と被処理物搬出室２とを連通させる。また、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２のガイドプレート７，７におけるガス噴出孔８，……，８から浮上用ガスを噴出させる。そして、噴出した浮上用ガスにより浮上した被処理物４（トレー５＋基板６）を搬送機能部３０，３０によりガイドプレート７，７に沿って搬送させる浮上搬送制御に際して、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２における被処理物４の浮上に関与している噴出孔群９，……，９から浮上用ガスを順次噴出させるとともに、被処理物４の浮上に関与しなくなった噴出孔群９，……，９からの浮上用ガスの噴出を順次停止する。

図１および図２におけるプラズマ処理室１の搬送上流側には、被処理物搬入室（図示略）が設けられている。この被処理物搬入室にも、被処理物４（トレー５＋基板６）を載置する浮上搬送用ガイドプレート（図示略）と、搬送機能部（図示略）とが設けられている。このガイドプレートの上には、トレー５を介して基板６が搭載されている。この状態において、被処理物搬入室におけるトレー５は、図１および図２で示された被処理物搬出室２におけるのと同様に、８つの帯状噴出孔群のうち中央の６つの噴出孔群を覆っている。また、被処理物搬入室における搬送機能部は、被処理物搬出室２における搬送機能部３０，３０と同一の構造であり、被処理物搬出室２における搬送機能部３０，３０とは面対称状に設けられたものである。

以下、被処理物搬入室における搬送機能部と被処理物搬出室２における搬送機能部３０，３０と制御機能部とが組み合わされた、このプラズマ処理装置Ｄの浮上搬送動作を説明する。なお、被処理物搬入室の、被処理物搬出室２における構成要素に対応する構成要素は、便宜的にかっこ付きの符号（例えば「ガイドプレート（７）」のように）で表わす。

制御機能部は、被処理物搬入室のガイドプレート（７）のガス噴出孔（８，……，８）から浮上用ガス（ここでは窒素ガス）を噴出させることで、被処理物（４）をガイドプレート（７）から浮上させる。また、制御機能部は、搬送用アーム（２４）を、それぞれのアーム部（２４ｃ）の内方突出状端（２４ｄ，２４ｅ）が外側から内側へ移動してトレー（５）の搬送下流側端の第３張出部（５ｄ）に当接状に係合した状態で、レール（２８）に沿って搬送下流側へ水平移動させる。このとき、トレー（５）は浮上した状態にあるため、搬送用アーム（２４）のアーム部（２４ｃ）はわずかな力でトレー（５）をスムーズに搬送移動させることができる。

ここで、制御機能部は、ガイドプレート（７）のすべてのガス噴出孔（８，……，８）から浮上用ガスをいっせいに噴出させるのではなく、被処理物（４）の浮上に関与している噴出孔群（９，……，９）から浮上用ガスを順次噴出させる。すなわち、制御機能部は、搬送中のトレー（５）の位置を検出する上記センサーにより検出されたトレー（５）の位置に応じて、被処理物（４）の浮上に関与している噴出孔群（９，……，９）から浮上用ガスを順次噴出させるとともに、被処理物（４）の浮上に関与しなくなった噴出孔群（９，……，９）からの浮上用ガスの噴出を順次停止するように制御する。

以上のような浮上用ガスの噴出は、制御機能部が、それぞれのガス供給源１１に接続された流量調整用バルブ１２を操作することによって行われる。

制御機能部によるこのような浮上用ガスの順次噴出および順次停止は、トレー（５）の搬送が進行して、その進行先端側端部が被処理物搬入室のガイドプレート（７）からプラズマ処理室１のガイドプレート７に移されている状態においても、連続的に行われる。

被処理物搬入室において、搬送用アーム（２４）のアーム部（２４ｃ）が搬送下流側へ一定距離だけ水平移動すると、アーム部（２４ｃ）の内方突出状端（２４ｄ，２４ｅ）は、内側から外側へ移動してトレー（５）の第３張出部（５ｄ）から係合解除される。次いで、アーム部（２４ｃ）は、内方突出状端（２４ｄ，２４ｅ）が外側から内側へ再び移動してトレー（５）の第２張出部（５ｃ）に当接係合された状態で、搬送下流側へさらに一定距離だけ水平移動する。すると、アーム部（２４ｃ）の内方突出状端（２４ｄ，２４ｅ）は、内側から外側へ再び移動して、トレー（５）の第２張出部（５ｃ）から係合解除される。

その後、アーム部（２４ｃ）は、内方突出状端（２４ｄ，２４ｅ）が外側から内側へ再び移動して第１張出部（５ｂ）に当接係合された状態で、搬送下流側へさらに一定距離だけ水平移動する。その結果、被処理物搬入室にあったトレー（５）および基板（６）は、プラズマ処理室１のガイドプレート７上の中央位置まで搬送され、アノード電極を兼ねるガイドプレート７とその上方のカソード電極２０とに挟まれた状態になる。

次に、制御機能部は、プラズマ処理室１のガイドプレート７からの浮上用ガスの噴出を止め、トレー５をガイドプレート７上に接地させて位置決めする。そして、上昇させていたゲートバルブを下降させて、被処理物搬入室とプラズマ処理室１とを再び隔離する。

次いで、プラズマ処理室１に接続された真空ポンプ１３（図２参照）を作動させて、プラズマ処理室１を所定の真空度に維持する。そして、トレー５に搭載された基板６に、アノード電極を兼ねるガイドプレート７とその上方のカソード電極２０とで所定のプラズマ処理を施す。

プラズマ処理室１で所定のプラズマ処理が施された基板６は、その後、被処理物搬出室２における搬送機能部３０，３０と制御機能部とによって、トレー５に搭載された状態で被処理物搬出室２まで浮上搬送される。なお、ここにおけるトレー５の浮上に関する説明は、上記したものと実質的に同一であるので、省略する。

制御機能部によって、それぞれの搬送機能部３０の搬送用アーム２４におけるアーム部２４ｃは、その内方突出状端２４ｄ，２４ｅが外側から内側へ移動し、プラズマ処理室１で基板６を搭載したトレー５の搬送下流側端の第３張出部５ｄに当接状に係合した状態で、それぞれのレール２８に沿って搬送下流側へ一定距離だけ水平移動する。すると、それぞれの搬送用アーム２４におけるアーム部２４ｃの内方突出状端２４ｄ，２４ｅは、内側から外側へ移動して、トレー５の第３張出部５ｄから係合解除される。

次いで、アーム部２４ｃは、内方突出状端２４ｄ，２４ｅが外側から内側へ再び移動してトレー５の中間位置に設けられた第２張出部５ｃに当接係合された状態で、搬送下流側へさらに一定距離だけ水平移動する。すると、アーム部２４ｃの内方突出状端２４ｄ，２４ｅは、内側から外側へ再び移動して、トレー５の第２張出部５ｃから係合解除される。その後、アーム部２４ｃは、内方突出状端２４ｄ，２４ｅが搬送上流側端部寄り位置に設けられた第１張出部５ｂに当接係合された状態で、搬送下流側へさらに一定距離だけ水平移動する。その結果、プラズマ処理室１にあったトレー５および基板６は、図１および図２に示されたように、被処理物搬出室２のガイドプレート７上の中央位置まで搬送された状態になる。

この発明の実施の形態１における基板搬送装置Ｄによれば、搬送用アーム２４のアーム部２４ｃの内方突出状端２４ｄ，２４ｅがガイド部２４ｂの水平状往復移動によってトレー５の張出部５ｂ，……，５ｄの一部に外側から内側へ当接係合する。そして、従来の基板搬送装置におけるトレーの嵌合穴と搬送用アームの先端部分との嵌合によることなく、搬送用アーム２４のアーム部２４ｃがトレー５の張出部５ｂ，……，５ｄに係合した状態でトレー５を浮上搬送することが可能になるので、従来のような搬送トラブルのおそれを防止することができる。

〔実施の形態２〕
図５は、プラズマ処理装置に組み込まれた、この発明の実施の形態２における基板搬送装置の１つの構成要素であるトレーの平面図である。図６は、この発明の実施の形態２における基板搬送装置の別の１つの構成要素である搬送用アームにおけるアーム部の斜視図である。

実施の形態２における基板搬送装置は、実施の形態１における基板搬送装置Ｄと同一の被処理物搬入室、プラズマ処理室および被処理物搬出室を備えてなる。図５に示されたように、この基板搬送装置では、実施の形態１における基板搬送装置Ｄのトレー５の代わりに、トレー３５が使用されている。このトレー３５も、実施の形態１におけるそれと同様に、ステンレス鋼、アルミニウム合金などの金属製であって、その裏面には、滑らかな搬送移動を実現するために鏡面加工が施されている。

トレー３５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形本体部３５ａと、この本体部３５ａにおける両側縁のそれぞれから部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレー３５が搬送用アーム２４によって搬送される際に搬送用アーム２４が当接状に係合／係合解除する合計６つの張出部３５ｂ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｄとを有している。トレー３５は、被処理物搬入室、プラズマ処理室および被処理物搬出室におけるガイドプレートに載置された際に本体部３５ａおよび張出部３５ｂ，……，３５ｄのうちの張出部３５ｂ，……，３５ｄだけがガイドプレートの側縁からはみ出るように構成されている。

トレー３５におけるこれらの張出部３５ｂ，……，３５ｄの構造は、実施の形態１における基板搬送装置Ｄのトレー５のそれらと同一のものである。また、トレー３５には、本体部３５ａにおける搬送方向に対して直交する一方端部に、トレー３５を両手で保持するための一対の保持部３５ｅ，３５ｅがさらに設けられている。

この基板搬送装置には、実施の形態１における基板搬送装置Ｄと同様な搬送用アームが設けられている。この搬送用アームは、実施の形態１における基板搬送装置Ｄの搬送用アーム２４と同じように、ベース部２４ａとガイド部２４ｂとアーム部２４ｃとを備えてなる。

図６に示されたように、アーム部２４ｃには、その自由端に内方突出状端２４ｇが設けられている。内方突出状端２４ｇは、正面形状が片仮名の「コ」の字状であり、ガイド部２４ｂの上記往復移動により、トレー３５における第１〜第３張出部３５ｂ，……，３５ｄのそれぞれに、外側から内側へ当接係合され／内側から外側へ係合解除される。

実施の形態２における基板搬送装置の他の部分に関する構成は、実施の形態１における基板搬送装置Ｄのそれと実質的に同一である。

〔実施の形態２の変形例〕
図７〜図９にはそれぞれ、実施の形態２における基板搬送装置のアーム部２４ｃの自由端における内方突出状端２４ｇに代わって設けられた内方突出状端２４ｈ，２４ｉ，２４ｊ（変形例１〜３）が示されている。

図７に示された変形例１のアーム部２４ｃの内方突出状端２４ｈは、平面形状がＬ字状である。図８に示された変形例２のアーム部２４ｃの内方突出状端２４ｉは、正面形状が片仮名の「ロ」の字状であって平面形状が長方形である中空管からなっている。図９に示された変形例３のアーム部２４ｃの内方突出状端２４ｊは、正面形状が片仮名の「エ」の字状であって平面形状が長方形である。

〔実施の形態３〕
図１０は、プラズマ処理装置に組み込まれた、この発明の実施の形態３における基板搬送装置の一部切欠斜視図である。図１１は、図１０に示された基板搬送装置における１つの構成要素であるトレーの平面図である。

図１０に示されたように、この発明の実施の形態３における基板搬送装置Ｅは、実施の形態１における基板搬送装置Ｄと同一の被処理物搬入室、プラズマ処理室１および被処理物搬出室２を備えてなる。図１０および図１１に示されたように、実施の形態３における基板搬送装置Ｅでは、実施の形態１における基板搬送装置Ｄのトレー５の代わりに、トレー４５が使用されている。このトレー４５も、実施の形態１におけるそれと同様に、ステンレス鋼、アルミニウム合金などの金属製であって、その裏面には、滑らかな搬送移動を実現するために鏡面加工が施されている。

トレー４５は、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある長方形本体部４５ａと、この本体部４５ａにおける両側縁のそれぞれから部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレー３５が搬送用アーム２４によって搬送される際に搬送用アーム２４が当接状に係合／係合解除する合計６つの張出部４５ｂ，４５ｂ，４５ｃ，４５ｃ，４５ｄ，４５ｄとを有している。

本体部４５ａの搬送方向に対して直交する両端部のそれぞれには、搬送方向に対して平行である外側方向に向かって、厚さが本体部４５ａの厚さよりも徐々に薄くなるテーパー部分４５ｅ，４５ｅが設けられている。それぞれの張出部４５ｂ，……，４５ｄの構造および大きさは、実施の形態１における基板搬送装置Ｄの張出部５ｂ，……，５ｄのそれらと同一である。

この基板搬送装置Ｅには、ガイドプレート７に載置された被処理物４（トレー４５＋基板６）を浮上させ、浮上した被処理物４を外力によりプラズマ処理室１および被処理物搬出室２の間でガイドプレート７，７に沿って搬送するための搬送機能部５０，５０が、被処理物搬出室２に設けられている。

図１０において、それぞれの搬送機能部５０は、被処理物４をプラズマ処理室１および被処理物搬出室２の間で移動させる。それぞれの搬送機能部５０は、被処理物搬出室２における被処理物４の両側縁のそれぞれに沿って配設された搬送用アーム３４と、搬送方向に間隔を置いて配置された一対のプーリ（駆動プーリ２５ａおよび従動プーリ２５ｂ）と、これらのプーリ２５ａ，２５ｂに巻き掛けられたワイヤー２６と、駆動プーリ２５ａに接続されたモータ２７とを備えてなる。

従動プーリ２５ｂには、ワイヤー２６のたるみを取る方向に付勢されたスプリング２９が取り付けられている。スプリング２９により、従動プーリ２５ｂは搬送方向に対して平行な方向へ引っ張られ、ワイヤー２６の張力が一定に保たれている。

搬送用アーム３４は、ベース部３４ａとガイド部３４ｂとアーム部３４ｃとを備えてなる。搬送用アーム３４は、その一部が、ワイヤー２６に連結されているとともに、被処理物搬出室２の底面後方に水平状に設けられたレール２８に載置されている。

すなわち、ベース部３４ａは、ワイヤー２６に連結されているとともにレール２８に載置されていて、レール２８に沿って水平状に往復移動することができる。ガイド部３４ｂは、ベース部３４ａにおいて鉛直方向に上昇／下降可能に設けられている。アーム部３４ｃは、ガイド部３４ｂにおいて搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレー４５の上方に位置するように設けられている。

アーム部３４ｃは、その自由端である垂下状端が、ガイド部３４ｂの下降によって上方から下方へ移動し、トレー４５の張出部４５ｂ，……，４５ｄの１つに当接係合される。また、アーム部３４ｃは、ガイド部３４ｂの上昇によって下方から上方へ移動し、係合していたトレー４５の張出部４５ｂ，……，４５ｄの１つから係合解除される。

プラズマ処理室１で所定のプラズマ処理が施された基板６は、その後、被処理物搬出室２における搬送機能部５０，５０と制御機能部とによって、トレー４５に搭載された状態で被処理物搬出室２まで浮上搬送される。なお、ここにおけるトレー４５の浮上に関する説明は、上記したものと実質的に同一であるので、省略する。

制御機能部によって、それぞれの搬送機能部５０の搬送用アーム３４におけるアーム部３４ｃは、その垂下状端が下降し、プラズマ処理室１で基板６を搭載したトレー４５の搬送下流側端の第３張出部４５ｄに当接状に係合した状態で、それぞれのレール２８に沿って搬送下流側へ一定距離だけ水平移動する。すると、それぞれの搬送用アーム３４におけるアーム部３４ｃの垂下状端は上昇し、トレー４５の第３張出部４５ｄから係合解除される。

次いで、アーム部３４ｃは、垂下状端が再び下降し、トレー４５の中間位置に設けられた第２張出部４５ｃに当接係合された状態で、搬送下流側へさらに一定距離だけ水平移動する。すると、アーム部３４ｃの垂下状端は再び上昇し、トレー４５の第２張出部４５ｃから係合解除される。その後、アーム部３４ｃは、垂下状端が再び下降し、搬送上流側端部寄り位置に設けられた第１張出部４５ｂに当接係合された状態で、搬送下流側へさらに一定距離だけ水平移動する。その結果、プラズマ処理室１にあったトレー４５および基板６は、図１０に示されたように、被処理物搬出室２のガイドプレート７上の中央位置まで搬送された状態になる。

この発明の実施の形態３における基板搬送装置Ｅの他の部分に関する構成は、実施の形態１における基板搬送装置Ｄのそれと実質的に同一である。

この発明の実施の形態３における基板搬送装置Ｅによれば、搬送用アーム３４のアーム部３４ｃの垂下状端がガイド部３４ｂの下降によって上方から下方へ移動し、トレー４５の張出部４５ｂ，……，４５ｄの一部に当接係合する。そして、従来の基板搬送装置におけるトレーの嵌合穴と搬送用アームの先端部分との嵌合によることなく、搬送用アーム３４のアーム部３４ｃがトレー４５の張出部４５ｂ，……，４５ｄに係合した状態でトレー４５を浮上搬送することが可能になるので、従来のような搬送トラブルのおそれを防止することができる。

〔実施の形態３の変形例〕
図１２および図１３にはそれぞれ、実施の形態３における基板搬送装置Ｅのトレー４５の張出部４５ｂ，……，４５ｄに代わって設けられた第１〜第３張出部４５ｆ，４５ｇ，４５ｈ；４５ｉ，４５ｊ，４５ｋ（変形例１および２）が示されている。

これらの張出部４５ｆ，４５ｇ，４５ｈ；４５ｉ，４５ｊ，４５ｋはそれぞれ、本体部４５ａの一方側縁に連なる基部側縁部と、この基部側縁部に対して所定間隔をおいて平行に延びる張出側縁部と、これらの縁部どうしに連なる２つの張出端部とを有している。

すなわち、図１２に示された変形例１のトレー４５の第１〜第３張出部４５ｆ，４５ｇ，４５ｈはそれぞれ、平面形状が長方形であって、基部側縁部の長さが張出端部の長さよりも長いものである。

また、図１３に示された変形例２のトレー４５の第１〜第３張出部４５ｉ，４５ｊ，４５ｋは、平面形状が等脚台形であって、張出側縁部の長さが基部側縁部の長さよりも長いものである。

図１は、プラズマ処理装置に組み込まれた、この発明の実施の形態１における基板搬送装置の一部切欠斜視図である。 図２は、図１に示された基板搬送装置の構成説明図である。 図３は、図１に示された基板搬送装置における１つの構成要素であるトレーの平面図である。 図４は、図１に示された基板搬送装置における別の１つの構成要素である搬送アームの平面図である。 図５は、プラズマ処理装置に組み込まれた、この発明の実施の形態２における基板搬送装置の１つの構成要素であるトレーの平面図である。 図６は、この発明の実施の形態２における基板搬送装置の別の１つの構成要素である搬送用アームにおけるアーム部の斜視図である。 図７は、図６に示された搬送用アームにおけるアーム部の変形例１の斜視図である。 図８は、図６に示された搬送用アームにおけるアーム部の変形例２の斜視図である。 図９は、図６に示された搬送用アームにおけるアーム部の変形例３の斜視図である。 図１０は、プラズマ処理装置に組み込まれた、この発明の実施の形態３における基板搬送装置の一部切欠斜視図である。 図１１は、図１０に示された基板搬送装置における１つの構成要素であるトレーの平面図である。 図１２は、図１１に示されたトレーの変形例１の切欠拡大平面図である。 図１３は、図１１に示されたトレーの変形例２の切欠拡大平面図である。

符号の説明

１・・・第１真空室（プラズマ処理室）
２・・・第２真空室（被処理物搬出室）
３・・・ゲートバルブ
４・・・被処理物
５・・・トレー
５ａ・・本体部
５ｂ・・第１張出部
５ｃ・・第２張出部
５ｄ・・第３張出部
６・・・基板
７・・・ガイドプレート
８・・・ガス噴出孔
９・・・ガス噴出孔群
１０・・・ガス供給管
１１・・・ガス供給源
１２・・・ガス供給バルブ
１３・・・真空ポンプ
１４・・・被処理物搬入用扉
１５・・・圧力調整バルブ
１６・・・反応ガス導入管
１７・・・被処理物搬出用扉
１８・・・リークガス導入管
１９・・・アノード電極
２０・・・カソード電極
２１・・・コンデンサ
２２・・・整合回路
２３・・・高周波電源
２４・・・搬送用アーム
２４ａ・・ベース部
２４ｂ・・ガイド部
２４ｃ・・アーム部
２４ｄ・・内方突出状端
２４ｅ・・内方突出状端
２４ｆ・・ギア
２４ｇ・・内方突出状端
２４ｈ・・内方突出状端
２４ｉ・・内方突出状端
２４ｊ・・内方突出状端
２５・・・プーリ
２６・・・ワイヤー
２７・・・モータ
２８・・・レール
２９・・・スプリング
３０・・・搬送機能部
３４・・・搬送用アーム
３４ａ・・ベース部
３４ｂ・・ガイド部
３４ｃ・・アーム部
３５・・・トレー
３５ａ・・本体部
３５ｂ・・第１張出部
３５ｃ・・第２張出部
３５ｄ・・第３張出部
３５ｅ・・保持部
４５・・・トレー
４５ａ・・本体部
４５ｂ・・第１張出部
４５ｃ・・第２張出部
４５ｄ・・第３張出部
４５ｅ・・テーパー部
４５ｆ・・第１張出部
４５ｇ・・第２張出部
４５ｈ・・第３張出部
４５ｉ・・第１張出部
４５ｊ・・第２張出部
４５ｋ・・第３張出部

Claims (15)

1. 複数の浮上用ガス噴出孔を有し、互いに離間した状態に隣接して配置された複数の浮上搬送用ガイドプレートと、
   それぞれのガイドプレートへ浮上用ガスを供給するガス供給源と、
   搬送すべき基板を搭載するためにガイドプレートに載置されて浮上用ガスにより浮上されるトレーと、
   浮上したトレーをそのガイドプレートから隣接する他のガイドプレートへ搬送するための搬送用アームとを備えてなり、
   トレーは、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある本体部と、この本体部における両側縁の少なくとも一方から部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレーが搬送用アームによって搬送される際に搬送用アームが当接状に係合する張出部とを有し、
   搬送用アームは、搬送方向に対して平行に設けられたレールに沿って水平状に往復移動することのできるベース部と、ベース部において搬送方向に直交する方向に水平状往復移動可能に設けられたガイド部と、ガイド部において搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレーの側方に位置するように設けられ、自由端である内方突出状端がガイド部の水平状往復移動によってトレーの張出部の一部に外側から内側へ当接係合／内側から外側へ係合解除されるアーム部とを有している、
   ことを特徴とする基板搬送装置。
2. 複数の浮上用ガス噴出孔を有し、互いに離間した状態に隣接して配置された複数の浮上搬送用ガイドプレートと、
   それぞれのガイドプレートへ浮上用ガスを供給するガス供給源と、
   搬送すべき基板を搭載するためにガイドプレートに載置されて浮上用ガスにより浮上されるトレーと、
   浮上したトレーをそのガイドプレートから隣接する他のガイドプレートへ搬送するための搬送用アームとを備えてなり、
   トレーは、搬送方向に対して平行にされる両側縁がある本体部と、この本体部における両側縁の少なくとも一方から部分的に外側へ張り出すように設けられて、トレーが搬送用アームによって搬送される際に搬送用アームが当接状に係合する張出部とを有し、
   搬送用アームは、搬送方向に対して平行に設けられたレールに沿って水平状に往復移動することのできるベース部と、ベース部において鉛直方向に上昇／下降可能に設けられたガイド部と、ガイド部において搬送方向に対して平行な方向に水平状に、かつ、載置されたトレーの上方に位置するように設けられ、自由端である垂下状端がガイド部の下降／上昇によってトレーの張出部に上方から下方へ当接係合／下方から上方へ係合解除されるアーム部とを有している、
   ことを特徴とする基板搬送装置。
3. ガイドプレートは、基板を加熱するためのヒータを内蔵しており、トレーは、ガイドプレートに載置された際に本体部および張出部のうちの少なくとも張出部がガイドプレートの側縁からはみ出るように構成されている、請求項１または２記載の基板搬送装置。
4. トレーは、ガイドプレートに載置された際に本体部および張出部のうちの張出部だけがガイドプレートの側縁からはみ出るように構成されている、請求項３記載の基板搬送装置。
5. ガイドプレートおよび搬送用アームは、真空室内に設けられている、請求項１または２記載の基板搬送装置。
6. トレーの張出部は、本体部の一方側縁に連なる基部側縁部と、この基部側縁部に対して所定間隔をおいて平行に延びる張出側縁部と、これらの縁部どうしに連なる２つの張出端部とを有している、請求項１または２記載の基板搬送装置。
7. トレーの張出部は、平面形状が長方形であって、基部側縁部の長さが張出端部の長さよりも長いものである、請求項６記載の基板搬送装置。
8. トレーの張出部は、平面形状が台形であって、張出側縁部の長さが基部側縁部の長さよりも長いものである、請求項６記載の基板搬送装置。
9. トレーの張出部は、本体部の一方側縁に連なる基部側縁部とこの基部側縁部に対して所定間隔をおいて平行に延びる張出側縁部とを有する長方形から、その張出側縁部の中間部分を含む領域が切り欠かれてなるような、平面形状が凹字形のものである、請求項１または２記載の基板搬送装置。
10. トレーの張出部は、本体部における両側縁に対応して両側に設けられており、搬送用アームは、トレーの両側の張出部に対応して一対設けられている、請求項１または２記載の基板搬送装置。
11. トレーの張出部は、本体部の両側のそれぞれに、搬送方向に所定間隔をおいて複数個、設けられている、請求項１０記載の基板搬送装置。
12. トレーの本体部は、搬送方向に対して直交する両端部のそれぞれに、搬送方向に対して平行である外側方向に向かって厚さが徐々に薄くなるテーパー部分を有している、請求項１または２記載の基板搬送装置。
13. トレーは、本体部における搬送方向に対して直交する一方端部に、トレーを両手で保持するための一対の保持部をさらに有している、請求項１または２記載の基板搬送装置。
14. トレーは、その材質がアルミニウム合金である、請求項１または２記載の基板搬送装置。
15. トレーは、その厚さが０．５ｍｍ〜２．０ｍｍである、請求項１または２記載の基板搬送装置。

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