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JP2009500402A - 遷移金属化合物、これを含む触媒組成物及びこれを利用したオレフィン重合 - Google Patents

遷移金属化合物、これを含む触媒組成物及びこれを利用したオレフィン重合 Download PDF

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JP2009500402A JP2008520190A JP2008520190A JP2009500402A JP 2009500402 A JP2009500402 A JP 2009500402A JP 2008520190 A JP2008520190 A JP 2008520190A JP 2008520190 A JP2008520190 A JP 2008520190A JP 2009500402 A JP2009500402 A JP 2009500402A
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Abstract

アミン系基が導入されたモノシクロペンタジエニル配位子が配位された新しい遷移金属化合物、この合成方法及びこれを利用したオレフィン重合が提供される。該遷移金属化合物は、金属原子に架橋されずに、イミノフェニル基をシクロペンタジエン(Cp)環に直接導入した新しい構造の化合物であり、該遷移金属化合物を含む触媒組成物を使用し、0.910g/cc未満の超低密度ポリオレフィン共重合体の製造が可能である。

Description

本発明は、アミン系基の導入されたモノシクロペンタジエニル配位子が配位された新しい遷移金属化合物、この合成方法及びこれを利用したオレフィン重合に係り、さらに具体的にはブリッジを形成しないフェニレン基を含む新しい遷移金属化合物、この合成方法及びこれを利用したオレフィン重合に関する。
ダウ(Dow)社が1990年代初めに<MeSi(Me)NtBu>TiCl(Constrained-Geometry Catalyst、以下、CGCと略称)を発表したが(米国特許登録第5,064,802号明細書)、エチレンとアルファ(α)−オレフィンとの共重合反応で、前記CGCがそれまで知られていたメタロセン触媒に比べて優秀な側面は、次の通りに二種に大きく要約できる:(1)高い重合温度でも高い活性度を示しつつ、高分子量の重合体を生成し、(2)1−ヘキセン及び1−オクテンのような立体的障害の大きいアルファ(α)−オレフィンの共重合性にも非常にすぐれているという点である。それ以外にも、重合反応時に、CGCのさまざまな特性がだんだんと明らかにされつつ、この誘導体を合成して重合触媒として使用しようとする努力が学界及び産業界で活発になされた。
そのうちの1つの接近方法として、シリコンブリッジの代わりに、他の多様なブリッジ及び窒素置換体が導入された金属化合物の合成とその重合とが試みられた。最近まで知られていた代表的な金属化合物を列挙すれば、下記化合物(1)ないし(4)のようである(Chem. Rev. 2003, 103, 283)。
Figure 2009500402
前記化合物(1)ないし(4)に羅列された化合物は、CGC構造のシリコンブリッジの代わりに、リン(1)、エチレンまたはプロピレン(2)、メチリデン(3)及びメチレン(4)のブリッジがそれぞれ導入されているが、エチレン重合またはエチレンとアルファ(α)−オレフィンとの共重合適用時に、CGCに比べて活性度または共重合能のような側面で向上した結果を示せず、実際に商業的工程に適用されている触媒はいくつにもならないというレベルである。
一方、ブリッジのないモノシクロペンタジエニル配位子で構成された4族遷移金属化合物を使用し、エチレン重合またはエチレンとアルファ(α)−オレフィンとの共重合適用の試みはきわめて稀である。そのうちで代表的な例は、MeCpTiX(OAr)(X=ハライド、Ar=アリール)化合物またはRCpTiX(R=アルキル、アリール、縮合環(fused ring)、X=ハライド、アルキル、アルコキシ)化合物の形態などが周知である。Nomura教授らにより最近知られたMeCpTiX(OAr)化合物は、メチルアルモキサン(MAO:methylalumoxane)のような助触媒による活性化時に、エチレン単独重合だけではなく、エチレンと1−ヘキセンとの共重合にも効果的に作用する(Macromolecules 2002, 35, 5388)。一方、LTiX化合物とは異なり、RCpTiXのようなピアノスツール状の化合物は、エチレン重合またはエチレンとアルファ(α)−オレフィンとの共重合反応には効果的ではなく、むしろシンジオタクティックポリスチレン(sPS)製造に優秀な特性を有していると知られていた(ヨーロッパ特許210615(1987)、Macromolecules 1986, 19, 2464)。また、RCpTiXで、シクロペンタジエニル環がNMeのような電子ドナーに置換された金属化合物も知られているが、低いエチレン単独重合活性度を示しているに過ぎない(J. Polym. Sci. Polym. Chem. 1998, 36, 319)。
従って、ブリッジのないモノシクロペンタジエニル配位子で構成された4族遷移金属化合物を使用し、さらに向上した重合性能を示す触媒の製造が相変らず要求されている。
米国特許第5,064,802号明細書 ヨーロッパ特許210615号明細書 Chem. Rev. 2003, 103, 283 Macromolecules 2002, 35, 5388 Macromolecules 1986, 19, 2464 J. Polym. Sci. Polym. Chem. 1998, 36, 319
本発明がなそうとする第一の技術的課題は、ブリッジを有さない新しい遷移金属化合物を提供することである。
本発明がなそうとする第二の技術的課題は、前記遷移金属化合物を製造する方法を提供することである。
本発明がなそうとする第三の技術的課題は、前記遷移金属化合物を含む触媒組成物を提供することである。
本発明がなそうとする第四の技術的課題は、前記触媒組成物の製造方法を提供することである。
本発明がなそうとする第五の技術的課題は、前記触媒組成物を利用した重合体製造方法を提供することである。
本発明がなそうとする第六の技術的課題は、前記重合体製造方法で製造された重合体を提供することである。
本発明は、前記第一の技術的課題を達成するために、下記化学式1の遷移金属化合物を提供する。
Figure 2009500402
前記化学式1で、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子;炭素数1ないし20のアルキル、アリールまたはシリルラジカル;炭素数1ないし20のアルケニル、アルキルアリール、またはアリールアルキルラジカル;またはヒドロカルビルで置換された14族金属のメタロイドラジカルであり、R及びRは炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルを含むアルキリジンラジカルにより互いに連結されて環を形成でき、Rはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲンラジカル、または炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルであり、前記Rのうち2個のRは互いに連結されて縮合環構造になることができ、Rは、水素原子、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカル、炭素数1ないし20のアルコキシまたはアリールオキシラジカルであり、Mは4族遷移金属であり、Q、Q及びQはそれぞれ独立して、ハロゲンラジカル;アミノラジカル;炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールアミドラジカル;炭素数1ないし20のアルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキルラジカル;または炭素数1ないし20のアルキリデンラジカルであり、Xはハロゲンである。
本発明の一実施例によれば、前記遷移金属化合物が下記構造のうちの一つで表されることが望ましい。
Figure 2009500402
前記式中、R13は、水素、メチル、t−ブチルまたはt−ブトキシラジカルであり、Xはハロゲンであり、Qは、アルキル、ハロゲンまたはアミノラジカルである。
本発明は、前記第二の技術的課題を達成するために、(a)下記化学式2で表されるボロン酸化合物と、下記化学式3で表される2−ブロモアニリン化合物とを反応させ、下記化学式4で表される化合物を製造する段階と、(b)下記化学式4で表される化合物とRLi化合物とを反応させた後で酸を添加し、下記化学式5で表される化合物を製造する段階と、(c)下記化学式5で表される化合物とRX(X=ハロゲン)とを反応させて下記化学式6の化合物を製造する段階と、(d)下記化学式6で表される化合物と下記化学式7で表される化合物とを反応させた後、(CHSiX4−n(X=ハロゲン;n=0、1、2、または3)化合物を添加し、下記化学式1で表される化合物を製造する段階とを含む遷移金属化合物の製造方法を提供する:
Figure 2009500402
前記化学式1で、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子;炭素数1ないし20のアルキル、アリールまたはシリルラジカル;炭素数1ないし20のアルケニル、アルキルアリール、またはアリールアルキルラジカル;またはヒドロカルビルで置換された14族金属のメタロイドラジカルであり、R及びRは炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルを含むアルキリジンラジカルにより互いに連結されて環を形成でき、Rはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲンラジカル、または炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルであり、前記Rのうち2個のRは互いに連結されて縮合環構造になることができ、Rは、水素原子、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカル、炭素数1ないし20のアルコキシまたはアリールオキシラジカルであり、Mは4族遷移金属であり、Q、Q及びQはそれぞれ独立して、ハロゲンラジカル;アミノラジカル;炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールアミドラジカル;炭素数1ないし20のアルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキルラジカル;または炭素数1ないし20のアルキリデンラジカルであり、Xはハロゲンであり、
Figure 2009500402
前記化学式2で、R及びRは前記で定義された通りであり、
Figure 2009500402
前記化学式3で、Rは前記で定義された通りであり、Eは窒素原子であり、
Figure 2009500402
前記化学式4で、R、R及びRは前記で定義された通りであり、
Figure 2009500402
前記化学式5で、R、R及びRは前記で定義された通りであり、
Figure 2009500402
前記化学式6で、R、R及びRは前記で定義された通りであり、Rは、炭素数1ないし20のアルキルスルホニル、アリールスルホニルまたはシリルスルホニルラジカル;炭素数1ないし20のアルキルカルボニル、アリールカルボニルまたはシリルカルボニルラジカル;炭素数1ないし20のアルキルカルボキシまたはアリールカルボキシラジカル;または炭素数1ないし20のアルキルホスホニルまたはアリールホスホニルラジカルであり、
Figure 2009500402
前記化学式で、Rは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルである。
また本発明は、前記第二の技術的課題を達成するために、(a)前記化学式2で表されるボロン酸化合物と前記化学式3で表される2−ブロモアニリン化合物とを反応させ、前記化学式4で表される化合物を製造する段階と、(b’)前記化学式4で表される化合物とRX(X=ハロゲン)とを反応させる段階と、(c’)前記(b’)段階で得られた化合物をRLi化合物と反応させた後で酸を添加し、前記化学式6で表される化合物を製造する段階と、(d)前記化学式6で表される化合物を前記化学式7で表される化合物と反応させた後、(CHSiX4−n(X=ハロゲン;n=0、1、2、または3)化合物を添加し、前記化学式1で表される化合物を製造する段階とを含む遷移金属化合物の製造方法を提供する。
本発明は、前記第三の技術的課題を達成するために、前記遷移金属化合物と;下記化学式8、化学式9及び化学式10で表される化合物からなる群から選択された1以上の助触媒化合物とを含む触媒組成物を提供する。
Figure 2009500402
前記化学式8で、Rはそれぞれ独立的に、ハロゲンラジカル、炭素数1ないし20のヒドロカルビルラジカル、またはハロゲンで置換された炭素数1ないし20のヒドロカルビルラジカルであり、aは2以上の整数であり、
Figure 2009500402
前記化学式9で、Dはアルミニウムまたはボロンであり、Rは、それぞれ独立的に、前記で定義された通りであり、
Figure 2009500402
前記化学式10で、Lは中性または陽イオン性のルイス酸であり、Hは水素原子であり、Zは13族元素であり、Aはそれぞれ独立的に、1以上の水素原子がハロゲン、炭素数1ないし20のヒドロカルビル、アルコキシまたはフェノキシラジカルで置換された炭素数6ないし20のアリールまたはアルキルラジカルである。
本発明は、前記第四の技術的課題を達成するために、前記遷移金属化合物と、前記化学式8または化学式9で表される化合物とを接触させて混合物を得る段階と、前記混合物に前記化学式10で表される化合物を添加する段階とを含む触媒組成物の製造方法を提供する。
本発明の一実施例によれば、前記遷移金属化合物と、前記化学式8または化学式9で表される化合物、及び前記化学式10で表される化合物の比が、それぞれ1:2ないし1:5,000、及び1:1ないし1:25であることが望ましい。
本発明は、前記第五の技術的課題を達成するために、前記触媒組成物と単量体とを接触させるオレフィン重合体の製造方法を提供する。
本発明の一実施例によれば、前記単量体は、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン及び1−アイトセンなどが望ましい。
本発明は、前記第六の技術的課題を達成するために、前記オレフィン重合体の製造方法によって製造されるオレフィン重合体を提供する。
本発明の一実施例によれば、前記重合体を製造するのに使われる単量体は、エチレンと;プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテンから選択された少なくとも一つ以上とであることが望ましい。
本発明による遷移金属化合物は、イミノフェニル基が金属原子に架橋されずにシクロペンタジエン(Cp)環に直接導入された新しい構造の化合物であり、該遷移金属化合物を含む触媒組成物を使用して、0.910g/cc未満の超低密度ポリオレフィン共重合体の製造が可能である。
以下、本発明についてさらに具体的に説明する。
本発明による遷移金属化合物は、1つのシクロペンタジエニル基を含む従来の一般的なシンジオタクティックポリスチレン(sPS)製造用の遷移金属化合物、または金属原子に架橋されたシクロペンタジエニル基を有した遷移金属化合物と異なり、金属原子に架橋されていないイミノフェニル基をシクロペンタジエン(Cp)環に直接導入した新しい構造の化合物であり、前記遷移金属化合物を含む触媒組成物を使用し、0.910g/cc未満の超低密度ポリオレフィン共重合体の製造が可能である。
本発明は、下記化学式1の遷移金属化合物を提供する。
Figure 2009500402
前記化学式1で、R及びRはそれぞれ独立的に水素原子;炭素数1ないし20のアルキル、アリールまたはシリルラジカル;炭素数1ないし20のアルケニル、アルキルアリール、またはアリールアルキルラジカル;またはヒドロカルビルで置換された14族金属のメタロイドラジカルであり、R及びRは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルを含むアルキリジンラジカルにより互いに連結されて環を形成でき、Rは、それぞれ独立的に水素原子、ハロゲンラジカル、または炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルであり、前記Rのうち2個のRは互いに連結されて縮合環構造になっていてもよく、Rは、水素原子、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカル、炭素数1ないし20のアルコキシまたはアリールオキシラジカルであり、Mは4族遷移金属であり、Q、Q及びQはそれぞれ独立的に、ハロゲンラジカル;アミノラジカル;炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールアミドラジカル;炭素数1ないし20のアルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキルラジカル;または炭素数1ないし20のアルキリデンラジカルであり、Xはハロゲンである。
本発明の前記化学式1の遷移金属化合物は、ブリッジを形成することなくイミノフェニル基が導入されたシクロペンタジエニル配位子からなるピアノスツール(stool)状の構造を有することを特徴とし、それは図1に示されている。かようなCpTiClのような形態の化合物は、一般的にシンジオタクティックポリスチレン(sPS)製造用の触媒構造と似ているが、特定の位置にイミノフェニル官能基がCp環に直接導入された構造の化合物及びその製造法は、これまで周知ではなかった。また、シクロペンタジエニル環、窒素及びフェニレン環に多様な置換体を導入できるが、それは窮極的に、金属周囲の電子的、立体的環境を容易に制御することによって、生成される高分子の構造及び物性などを調節することが可能である。
本発明の前記化学式1の遷移金属化合物のうち好まれる化合物は、下記構造のうちの一つで表されることが望ましいが、それらに限定されるものではない。
Figure 2009500402
前記で、R13は、水素、メチル、t−ブチルまたはt−ブトキシラジカルであり、Xはハロゲンであり、Qはアルキル、ハロゲンまたはアミノラジカルである。
また本発明は、前記化学式1の4族遷移金属化合物を多様に製造しやすくするために、新しい製造方法を提供する。すなわち、化学式4のようなフェニレンをブリッジとする新しいモノシクロペンタジエニル配位子を製造するために、置換されたボロン酸とアニリン化合物との、Pd金属触媒下での炭素−炭素カップリング反応である鈴木反応(Suzuki Reaction)を適用した。鈴木反応は、一般的にC−C結合形成のために有機化学で周知である代表的な方法のうちの一つであるが、かような反応を活用すれば、シクロペンタジエニル、窒素及びフェニレンブリッジの周囲に多様な置換体が導入された化学式4のモノシクロペンタジエニル配位子の製造が可能であり、結果的には、金属周囲の電子的、立体的障害が制御された前記化学式1の金属化合物を製造できる。
前記方法についてさらに詳細に記述すれば、前記化学式1の化合物を製造する方法は、(a)下記化学式2で表されるボロン酸化合物と、下記化学式3で表される2−ブロモアニリン化合物とを反応させ、下記化学式4で表される化合物を製造する段階と、(b)下記化学式4で表される化合物とRLi化合物とを反応させた後で酸を添加し、下記化学式5で表される化合物を製造する段階と、(c)下記化学式5で表される化合物とRX(X=ハロゲン)とを反応させて下記化学式6の化合物を製造する段階と、(d)下記化学式6で表される化合物と下記化学式7で表される化合物とを反応させた後、(CHSiX4−n(X=ハロゲン;n=0、1、2、または3)化合物を添加し、前記化学式1で表される化合物を製造する段階とを含む。
Figure 2009500402
前記化学式2で、R及びRは前記で定義された通りであり、
Figure 2009500402
前記化学式3で、Rは前記で定義された通りであり、Eは窒素原子であり、
Figure 2009500402
前記化学式4で、R、R及びRは前記で定義された通りであり、
Figure 2009500402
前記化学式5で、R、R及びRは前記で定義された通りであり、
Figure 2009500402
前記化学式6で、R、R及びRは前記で定義された通りであり、Rは、炭素数1ないし20のアルキルスルホニル、アリールスルホニルまたはシリルスルホニルラジカル;炭素数1ないし20のアルキルカルボニル、アリールカルボニルまたはシリルカルボニルラジカル;炭素数1ないし20のアルキルカルボキシまたはアリールカルボキシラジカル;または炭素数1ないし20のアルキルホスホニルまたはアリールホスホニルラジカルであり、
Figure 2009500402
前記化学式7で、Rは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルである。
前記製造方法について化学式1の化合物について図式的に表せば、下記反応式1で表すことができる。
Figure 2009500402
前記(a)段階で、化学式2のボロン酸化合物は、THFまたはエーテルの溶媒下で、不飽和ケトン化合物とボロントリエステル化合物との反応後に酸で処理すれば生成され、その後に化学式2のボロン酸化合物とブロモアニリン化合物とをパラジウム触媒下でSuzuki Coupling反応で多様な構造のアミン系の化学式3の化合物を製造できる。ここで使われうるパラジウム触媒は、すでに周知である通り、下記化学式11からなるホスフィン系化合物である。本反応でさらに望ましい化合物は、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。
Figure 2009500402
ここで、Rはアルキルまたはアリールであり、Xはハロゲン原子である。
前記(b)段階で、化学式4の化合物を低温状態でRLi化合物と反応させた後で酸処理すれば、化学式5の化合物が製造される。本段階で、RLi化合物の反応性を増大させるために、CeClのような金属ルイス酸化合物を共に混合して使用することもある。ここで使われうるRは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリール;炭素数1ないし20のアルケニル、アルキルアリール、またはアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換された14族金属のメタロイドラジカルのうちから選択され、さらに望ましくは炭素数1ないし10のアルキルまたはアリールラジカルのうちから選択され、最も望ましくはメチル、t−ブチル、フェニル、ベンジル、(トリメチル)シリルメチル基のうちから選択される。
前記(c)段階で、化学式5の化合物をピリジンまたはトリエチルアミンのようなアミン系塩基下で、R−X(X=ハロゲン原子)化合物と反応させれば、H−Xのような酸が除去されつつ、化学式6の化合物が製造される。ここで使われうるRは、炭素数1ないし20のアルキルカルボニルまたはアリールカルボニルラジカルであるか、または炭素数1ないし20のアルキルカルボキシルまたはアリールカルボキシルラジカルのうちから選択され、さらに望ましくはメチルカルボニル、t−ブチルカルボニル、メチルカルボキシル、t−ブチルカルボキシル基のうちから選択される。
前記(d)段階で、まず製造されたモノシクロペンタジエニル配位子である化学式6の化合物に、化学式7のように、4族金属アミノ化合物を反応させた後で(CHSiX4−n(X=ハロゲン;n=0、1、2、または3)化合物で処理すれば、ピアノスツール状の化学式1の4族遷移金属化合物が製造される。前記(d)の初めの段階で、使われる4族金属アミノ化合物は、テトラキス(ジメチルアミノ)チタン、テトラキス(ジエチルアミノ)チタン、テトラキス(ジメチルアミノ)ジルコニウム、テトラキス(ジエチルアミノ)ジルコニウム、テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム、テトラキス(ジエチルアミノ)ハフニウム化合物のうちから選択され、さらに望ましい化合物はテトラキス(ジメチルアミノ)チタン、テトラキス(ジメチルアミノ)ジルコニウム、テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウムである。また、前記モノシクロペンタジエニル配位子と4族金属アミノ化合物との反応温度と反応時間は、それぞれ30℃〜150℃及び6〜168時間であり、望ましくは50℃〜120℃及び10〜72時間であり、さらに望ましくは50℃〜100℃及び12〜48時間である。温度が30℃未満である場合には、前記配位子と金属アミノ化合物との反応が完全に進められずに生成物の収率及び純度が落ちるという問題があり、150℃を超える場合には、得られる生成物の熱的不安定性により収率及び純度が落ちるという問題がある。そして、反応時間が6時間未満である場合には、反応が完全に進まないとう問題があり、168時間を超える場合には、得られた生成物が長時間が過ぎることによって、他の構造の金属化合物に変形されるという問題がある。このとき、得られる金属化合物は、シクロペンタジエニルと窒素とが同時に金属に結合された下記構造(A)を維持する。また、(d)の第二の段階で、使われうるシラン化合物は、クロロトリメチルシラン、ジクロロジメチルシラン、トリクロロメチルシラン、テトラクロロシランのうちから選択してもよく、反応される4族金属化合物に比べてシラン化合物の望ましい使用量は、1:1ないし1:5モル比であり、さらに望ましい使用量は、1:2ないし1:4モル比である。モル比が1:1未満である場合には、前記の塩化物置換反応が完全に進まずに生成物の収率及び純度が落ちるという問題があり、1:5を超える場合には、得られた生成物が残っている過量のシラン化合物により、他の構造の金属化合物に変形されうるが、その場合には、大きい影響を与えないこともある。
このとき、得られる金属化合物は、予想と異なり、(A)形態で、金属−窒素間結合が前記のシラン化合物により切断されつつ、化学式1のように、下記(B)形態の構造を示す(反応式2)。結局のところ本発明は、特定の位置にイミノ官能基を有しつつ、ピアノスツール状のモノシクロペンタジエニル4族金属化合物をたやすく製造できる新しい製造方法である。
Figure 2009500402
前記化学式1の化合物を製造する他の方法は、(a)前記化学式2で表されるボロン酸化合物と、前記化学式3で表される2−ブロモアニリン化合物とを反応させ、前記化学式4で表される化合物を製造する段階と、(b’)前記化学式4で表される化合物とRX(X=ハロゲン)とを反応させる段階と、(c’)前記(b’)段階で得られた化合物をRLi化合物と反応させた後で酸を添加し、前記化学式6で表される化合物を製造する段階と、(d)前記化学式6で表される化合物を前記化学式7で表される化合物と反応させた後、(CHSiX4−n(X=ハロゲン;n=0、1、2、または3)化合物を添加し、前記化学式1で表される化合物を製造する段階とを含む。前記方法は、以前の方法に比べて、(b)及び(c)段階の順序が(c’)及び(b’)段階の順序に変わったものである。各段階についての説明は、前記に記載された内容と同様である。
本発明は、化学式1の化合物、及び下記化学式8、化学式9及び化学式10で表される助触媒化合物を含む活性化触媒組成物を提供する。かような触媒組成物は、オレフィン単独重合または共重合に使われうる。
Figure 2009500402
前記化学式8で、Rはそれぞれ独立的に、ハロゲンラジカル、炭素数1ないし20のヒドロカルビルラジカル、またはハロゲンに置換された炭素数1ないし20のヒドロカルビルラジカルであり、aは2以上の整数であり、
Figure 2009500402
前記化学式9で、Dはアルミニウムまたはボロンであり、Rはそれぞれ独立的に、前記で定義された通りであり、
Figure 2009500402
前記化学式10で、Lは中性または陽イオン性のルイス酸であり、Hは水素原子であり、Zは13族元素であり、Aはそれぞれ独立的に、1以上の水素原子がハロゲン、炭素数1ないし20のヒドロカルビル、アルコキシまたはフェノキシラジカルに置換された炭素数6ないし20のアリールまたはアルキルラジカルである。
前記触媒組成物を製造する方法として本発明は、第一に、前記遷移金属化合物と前記化学式8または化学式9で表される化合物とを接触させて混合物を得る段階と、前記混合物に前記化学式10で表される化合物を添加する段階とを含む製造方法を提供する。そして、第二に、前記遷移金属化合物と前記化学式8で表される化合物とを接触させて触媒組成物を製造する方法を提供する。
前記触媒組成物の製造方法のうち第一の方法の場合、前記遷移金属化合物と、前記化学式8ないし化学式9及び前記化学式10で表される化合物との比は、それぞれ1:2ないし1:5,000及び1:1ないし1:25が望ましく、さらに望ましくは1:10ないし1:1,000及び1:1ないし1:10であり、最も望ましくは1:20ないし1:500及び1:2ないし1:5である。前記遷移金属化合物に対する前記化学式8及び化学式9で表される化合物の比が1:2未満である場合には、アルキル化剤の量が非常に少なくて金属化合物のアルキル化が完全に進まないという問題があり、1:5,000を超える場合には、金属化合物のアルキル化はなされるが、残っている過量のアルキル化剤と前記化学式10の活性化剤との副反応によって、アルキル化された金属化合物の活性化が完全になされないという問題がある。また、前記遷移金属化合物に対する前記化学式10で表される化合物の比が1:1未満である場合には、活性化剤の量が相対的に少ないので、金属化合物の活性化が完全になされずに、生成される触媒組成物の活性度が落ちるという問題があり、1:25を超える場合には、金属化合物の活性化が完全になされるが、残っている過量の活性化剤によって触媒組成物のコストが経済的ではなくなり、かつ生成される高分子の純度が落ちるという問題がある。
前記触媒組成物の製造方法のうち第二の方法の場合に、前記遷移金属化合物と、化学式8で表される化合物とのモル比は、1:10ないし1:10,000が望ましく、さらに望ましくは1:100ないし1:5,000であり、最も望ましくは1:500ないし1:2,000である。前記モル比が1:10未満である場合には、活性化剤の量が相対的に少ないので、金属化合物の活性化が完全になされずに、生成される触媒組成物の活性度が落ちるという問題があり、1:10,000を超える場合には、金属化合物の活性化が完全になされるが、残っている過量の活性化剤によって触媒組成物のコストが非経済的であり、かつ生成される高分子の純度が落ちるという問題がある。
前記活性化組成物の製造時に反応溶媒として、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系溶媒であるか、またはベンゼン、トルエンのような芳香族系溶媒が使われうる。前記化学式1の遷移金属化合物と助触媒は、シリカやアルミナに担持された形態でも利用できる。
前記化学式8で表される化合物の例としては、メチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン、ブチルアルミノキサンなどがあり、さらに望ましい化合物はメチルアルミノキサンである。
前記化学式9で表されるアルキル金属化合物の例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、ジメチルクロロアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ−s−ブチルアルミニウム、トリシクロペンチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリイソペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、エチルジメチルアルミニウム、メチルジエチルアルミニウム、トリフェニルアルミニウム、トリ−p−トリルアルミニウム、ジメチルアルミニウムメトキシド、ジメチルアルミニウムエトキシド、トリメチルボロン、トリエチルボロン、トリイソブチルボロン、トリプロピルボロン、トリブチルボロンなどが含まれ、さらに望ましい化合物は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムのうちから選択される。
前記化学式10の化合物の例としては、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボロン、トリブチルアンモニウムテトラフェニルボロン、トリメチルアンモニウムテトラフェニルボロン、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボロン、トリメチルアンモニウムテトラ(p−トリル)ボロン、トリメチルアンモニウムテトラ(o,p−ジメチルフェニル)ボロン、トリブチルアンモニウムテトラ(p−トリフルオロメチルフェニル)ボロン、トリメチルアンモニウムテトラ(p−トリフルオロメチルフェニル)ボロン、トリブチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボロン、N,N−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボロン、N,N−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボロン、N,N−ジエチルアニリニウムテトラペンタフルオロフェニルボロン、ジエチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボロン、トリフェニルホスホニウムテトラフェニルボロン、トリメチルホスホニウムテトラフェニルボロン、トリエチルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリブチルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリメチルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリメチルアンモニウムテトラ(p−トリル)アルミニウム、トリプロピルアンモニウムテトラ(p−トリル)アルミニウム、トリエチルアンモニウムテトラ(o,p−ジメチルフェニル)アルミニウム、トリブチルアンモニウムテトラ(p−トリフルオロメチルフェニル)アルミニウム、トリメチルアンモニウムテトラ(p−トリフルオロメチルフェニル)アルミニウム、トリブチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルアルミニウム、N,N−ジエチルアニリニウムテトラフェニルアルミニウム、N,N−ジエチルアニリニウムテトラフェニルアルミニウム、N,N−ジエチルアニリニウムテトラペンタフルオロフェニルアルミニウム、ジエチルアンモニウムテトラペンタテトラフェニルアルミニウム、トリフェニルホスホニウムテトラフェニルアルミニウム、トリメチルホスホニウムテトラフェニルアルミニウム、トリエチルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリブチルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリメチルアンモニウムテトラフェニルボロン、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボロン、トリメチルアンモニウムテトラ(p−トリル)ボロン、トリプロピルアンモニウムテトラ(p−トリル)ボロン、トリエチルアンモニウムテトラ(o,p−ジメチルフェニル)ボロン、トリメチルアンモニウムテトラ(o,p−ジメチルフェニル)ボロン、トリブチルアンモニウムテトラ(p−トリフルオロメチルフェニル)ボロン、トリメチルアンモニウムテトラ(p−トリフルオロメチルフェニル)ボロン、トリブチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボロン、N,N−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボロン、N,N−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボロン、N,N−ジエチルアニリニウムテトラペンタフルオロフェニルボロン、ジエチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルボロン、トリフェニルホスホニウムテトラフェニルボロン、トリフェニルカルボニウムテトラ(p−トリフルオロメチルフェニル)ボロン、トリフェニルカルボニウムテトラペンタフルオロフェニルボロンなどがある。
また、本発明は、前記化学式1の化合物及び化学式8ないし化学式10で表される化合物から選択される一つ以上の化合物を含む触媒組成物を一つ以上のオレフィン単量体と接触させ、ポリオレフィン単独重合体または共重合体を製造する方法を提供する。
本発明の活性化組成物を利用した最も望ましい重合工程は、溶液工程であり、またかような組成物をシリカのような無機担体と共に使用すれば、スラリまたは気相工程にも適用可能である。
本発明の活性化組成物は、オレフィン重合工程に適した炭素数5ないし12の脂肪族炭化水素溶媒、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ノナン、デカン及びそれらの異性質体;トルエン、ベンゼンのような芳香族炭化水素溶媒;ジクロロメタン、クロロベンゼンのような塩素原子で置換された炭化水素溶媒に溶解したり、または希釈して注入可能である。ここに使われる溶媒は、少量のアルキルアルミニウム処理を行うことによって、触媒毒として作用する少量の水または空気などを除去して使用することが望ましく、助触媒をさらに使用して実施することも可能である。
前記金属化合物と助触媒とを使用して重合可能なオレフィン系単量体の例としては、エチレン、アルファ(α)−オレフィン、環状オレフィンなどがあり、二重結合を2個以上持っているジエンオレフィン系単量体またはトリエンオレフィン系単量体も重合可能である。前記単量体の具体的な例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−アイトセン、ノルボルネン、ノルボナジエン、エチリデンノルボルネン、フェニルノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、1,4−ブタジエン、1,5−ペンタジエン、1,6−ヘキサジエン、スチレン、アルファ(α)−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、3−クロロメチルスチレンなどがあり、それら単量体を二種以上混合して共重合することもできる。特に、本発明の活性化組成物は、エチレンと、1−オクテンのような立体的障害の大きい単量体との共重合反応で、高い分子量を有しつつも、高分子密度0.910g/cc以下の超低密度共重合体の製造が可能であるという特徴を有する。
さらに具体的には、前記共重合体を構成する単量体は、エチレンと;プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン及び1−オクテンからなる群から選択された一つ以上の単量体とであることが望ましい。
以下、下記実施例に基づいて、本発明についてさらに具体的に説明する。ただし、それらの実施例は、本発明を例示するためのものであり、本発明がそれらのみに限定されるものではない。
配位子及び金属化合物の合成
有機試薬及び溶媒は、アルドリッチ(Aldrich)社とメルク(Merck)社とから購入し、標準方法で精製して使用した。合成のあらゆる段階で空気と水分との接触を遮断し、実験の再現性を高めた。化合物の構造を立証するために、400MHz核磁気共鳴(NMR)装置及びX−ray分光器を利用し、それぞれスペクトルと図式を得ることができた。
<実施例1>2−ジヒドロキシボリル−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン
2−ブロモ−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オンエチレンケタール(44.80g、204.49mmol)化合物とTHF(240mL)とを入れ、−78℃でn−BuLi(ヘキサン中で2.5M、82mL、204.49mmol)を加えた。温度を続けて維持しつつ、1時間後にボロントリイソプロピルエステル(42.31g、224.95mmol)を加えた後、温度が−60℃を超えないように注意しつつ、1時間撹拌した。−50℃で30分間さらに反応させた後で、すぐに2N HCl(110mL)を加えて10分間撹拌する。これを分別ロートに移してE.A(エタノール、220mL)で有機層を集め、E.A(55mL)で二回抽出した。集められた有機層をMgSOで(に)水を除去し、ガラスフィルタで濾過した。回転式減圧蒸留器を利用し、溶媒を除去して得られた固体をE.A(300mL)に溶かした後で−30℃で再結晶させた。再結晶を二回行い、残った有機層はカラムクロマトグラフィ(ヘキサン:E.A=1:1)を利用して副産物を除去し、再び再結晶を行った(24.30g、85%)。
H NMR(CDCl):=6.75(s、2H、OH)、2.69−2.67(m、2H、CH)、2.51−2.49(m、2H、CH)、2.45(s、3H、CH);13C{H}NMR(CDCl):=217.35、193.42、35.73、35.12、20.42
<実施例2>2−ジヒドロキシボリル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン
2−ブロモ−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オンエチレンケタール化合物を使用し、<実施例1>と同じ方法で製造した(86%)。
H NMR(CDCl):δ 1.24(d、J=3.6Hz、3H、CH)、2.09(dd、J=19、2.0Hz、1H、CH)、2.39(s、3H、CH)、2.72(dd、J=19、6.8Hz、1H、CH)、2.84−2.86(m、1H、CH)、7.29(s、2H、OH)ppm.13C{H}NMR(CDCl):δ 18.01、18.90、40.76、44.22、197.08、216.12ppm.
<実施例3>2−(2−アミノフェニル)−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン
250mLシュレンクフラスコに2−ジヒドロキシボリル−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン化合物(4.00g、28.584mmol)とテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.30g、0.260mmol)と炭酸ナトリウム(4.13g、38.978mmol)とを入れ、脱気(degassing)したDME(80mL)とNパージしたHO(27mL)とを注射器を利用して入れた。注射器を利用して2−ブロモアニリン(3mL(4.47g)、25.985mmol)をフラスコに入れ、90℃で12時間反応させた。
その後、酢酸エチル(200mL)とHO(100mL)を分別ロートに入れて有機層を集めた。水溶液層は、酢酸エチル(100mL)を利用して抽出した。有機層にMgSOを使用して残った水を除去し、回転式減圧蒸留器を利用して残った溶媒を除去した。この化合物をカラムクロマトグラフィ(ヘキサン:E.A=1:1)で得た(3.55g、73%)。
H NMR(CDCl):=7.12(td、J=7.6Hz、1H、Ph)、6.89(dd、J=7.6Hz、1H、Ph)、6.77(td、J=7.6Hz、1H、Ph)、6.72(dd、J=7.6Hz、1H、Ph)、3.72(brs、2H、NH)、2.71−2.68(m、2H、CH Cp)、2.56−2.54(m、2H、CH Cp)、2.08(s、3H、CH);13C{H}NMR(CDCl):=207.84、174.84、144.60、139.42、130.44、128.73、118.13、117.84、116.30、34.74、32.13、18.56
<実施例4>2−(2−アミノ)フェニル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン
2−ジヒドロキシボリル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン(4.000g、25.984mmol)、炭酸ナトリウム(3.443g、32.497mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.751g、0.650mmol)、及び2−ブロモアニリン(3.725g、21.653mmol)を使用し、<実施例3>と同じ方法を適用して黄色オイルが得られた(2.872g、66%)。
H NMR(CDCl):δ 1.32(d、J=3.6Hz、3H、CH)、2.07(s、3H、CH)、2.19(dd、J=18.4、1.6Hz、1H、CH−H)、2.83(dd、J=18.4、6.4Hz、1H、CH−H)、2.86(qd、J=6.4、1.6Hz、1H、CH−H)、3.72(brs、2H、NH)、6.77(dd、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、6.81(td、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、6.91(dd、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、7.15(td、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)ppm.13C{H}NMR(CDCl):δ 16.39、19.39、37.97、43.51、116.60、117.01、118.16、118.55、128.97、130.67、144.45、178.93、207.02ppm.
<実施例5>2−(2−アミノ−3,5−ジメチル)フェニル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン
2−ジヒドロキシボリル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン(3.459g、22.465mmol)、炭酸ナトリウム(2.976g、28.076mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.649g、0.562mmol)、及び2−ブロモ−4、6−ジメチルアニリン(3.745g、18.718mmol)を使用し、<実施例3>と同じ方法を適用して白色固体が得られた(3.161g、74%)。
H NMR(CDCl):δ 1.32(d、J=3.6Hz、3H、CH)、2.04(s、3H、CH)、2.18(s、3H、CH)、2.20(s、1H、CH−H)、2.24(s、3H、CH)、2.82(dd、J=18.4、6.4Hz、1H、CH−H)、2.94(qd、J=6.4、1.6Hz、1H、CH−H)、3.48(brs、2H、NH)、6.60(s、1H、Ph)、6.88(s、1H、Ph)ppm.13C{H}NMR(CDCl):δ 16.19、17.76、19.32、20.37、37.67、43.45、117.42、122.79、126.74、128.44、130.88、140.02、178.58、106.85ppm.
<実施例6>2−(2−アミノ−3,5−ジフルオロ)フェニル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン
2−ジヒドロキシボリル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン(2.000g、12.990mmol)、炭酸ナトリウム(1.967g、18.557mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.429g、0.371mmol)、及び2−ブロモ−4,6−ジフルオロアニリン(2.436g、12.371mmol)を使用し、<実施例3>と同じ方法を適用して白色固体が得られた(1.938g、76%)。
H NMR(CDCl):δ 1.29(d、J=3.6Hz、3H、CH)、2.04(s、3H、CH)、2.15(dd、J=18.8、2.0Hz、1H、CH−H)、2.79(dd、J=18.8、14.4Hz、1H、CH−H)、2.93(q、J=6.4Hz、1H、CH−H)、3.65(brs、2H、NH)、6.54(d、JH−F=8.8Hz、1H、Ph)、6.78(t、JH−F=8.8Hz、1H、Ph)ppm.
<実施例7>2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニルアミン
50mLフラスコにCeCl(1.973g、1.581mmol)とTHF(10mL)とを入れ、−78℃でMeLi(ジエチルエーテル中に1.6M、5.007mL、8.011mmol)を加えた。溶液の色が黄色に変われば、1時間後に2−(2−アミノ)フェニル−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン(0.600g、3.204mmol)をTHF(15mL)に溶かし、注射器を利用してフラスコに加えて2時間−78℃を維持しつつ撹拌した。このフラスコに蒸溜水(10mL)を入れ、回転式減圧蒸留器でTHFを除去した後、E.A(10mL)と2N HCl(5mL)とを入れて3分間激しく振った。有機層を集め、E.A(5mL)で二回さらに水溶液層から有機物を抽出した。有機層をNaHCO(5mL)で中和させた後で有機層を集め、MgSOで残った水を除去した。ガラスフィルタでCeClとMgSOとを除去し、回転式減圧蒸留器を利用して溶媒を除去した。この化合物をカラムクロマトグラフィ(ヘキサン:E.A=5:1)で白色固体を純粋に得た(0.312g、53%)。
H NMR(CDCl):δ 1.82(d、J=1.6Hz、3H、Cp−CH3)、1.92(s、3H、Cp−CH)、3.01(q、J=1.6Hz、2H、Cp−CH)、3.80(brs、2H、NH)、5.99(q、J=1.6Hz、1H、Cp−CH)、6.78(dd、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、6.79(td、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、6.97(dd、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、7.14(td、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)ppm.13C{H}NMR(CDCl):δ 14.68、14.77、44.39、114.70、117.79、122.17、124.26、127.86、130.19、139.18、141.38、143.63、144.24ppm.
<実施例8>2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−4,6−ジメチルフェニルアミン
無水CeCl(9.209g、37.391mmol)、MeLi(ジエチルエーテル中に1.6M、23.360mL、37.391mmol)、及び2−(2−アミノ−3,5−ジメチル)フェニル−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン(3.500g、16.257mmol)を使用し、<実施例7>と同じ方法を適用して白色固体が得られた(2.43g、70%)。
H NMR(CDCl):δ 1.83(d、J=1.6Hz、3H、Cp−CH)、1.93(s、3H、Cp−CH)、2.22(s、3H、Ph−CH)、2.28(s、3H、Ph−CH)、3.02(q、J=1.6Hz、2H、Cp−CH)、3.50(brs、2H、NH)、5.99(q、J=1.6Hz、1H、Cp−CH)、6.68(s、1H、Ph)、6.88(s、1H、Ph)ppm.13C{H}NMR(CDCl):δ 14.72、14.80、17.94、20.58、44.34、121.88、122.03、124.17、126.33、128.22、129.76、139.65、139.89、141.03、143.75ppm.
<実施例9>2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニルアミン
無水CeCl(9.598g、38.973mmol)、MeLi(ジエチルエーテル中に1.6M、24.358mL、38.973mmol)、及び2−(2−アミノ)フェニル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン(2.615g、12.991mmol)を使用し、<実施例7>と同じ方法を適用して褐色固体が得られた(2.307g、89%)。
H NMR(CDCl):δ 1.56(s、3H、Cp−CH)、1.75(s、3H、Cp−CH)、1.85(s、3H、Cp−CH)、2.82(s、2H、Cp−CH)、3.55(brs、2H、NH)、6.62(dd、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、6.65(td、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、6.82(dd、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)、6.99(td、J=7.6、1.6Hz、1H、Ph)ppm.13C{H}NMR(CDCl):δ 11.67、13.63、14.35、48.80、114.67、117.76、122.79、127.69、130.13、133.14、135.54、136.73、139.61、144.14ppm.
<実施例10>2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−4,6−ジメチルフェニルアミン
無水CeCl(9.666g、39.246mmol)、MeLi(ジエチルエーテル中に1.6M、24.529mL、39.246mmol)、及び2−(2−アミノ−3,5−ジメチル)フェニル−3,4−ジメチル−2−シクロペンテン−1−オン(3.000g、13.082mmol)を使用し、<実施例7>と同じ方法を適用して黄色固体が得られた(2.241g、75%)。
H NMR(CDCl):δ 1.74(s、3H、Cp−CH)、1.93(s、3H、Cp−CH)、2.04(s、3H、Cp−CH)、2.26(s、3H、Ph−CH)、2.33(s、3H、Ph−CH)、3.00(q、J=2.4Hz、2H、Cp−CH)、3.47(brs、2H、NH)、6.72(s、1H、Ph)、6.91(s、1H、Ph)ppm.13C{H}NMR(CDCl):δ 11.72、13.61、14.40、17.88、20.55、48.78、121.78、122.61、126.21、128.20、129.60、133.00、135.66、136.41、139.85、140.07ppm.
<実施例11>2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニル(トリメチルアセチル)アミン
MC溶媒(10mL)に溶けている2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニルアミン(0.263g、1.42mmol)溶液に、トリエチルアミン(0.130g、1.29mmol)と塩化ピバロイル(0.155g、1.29mmol)とを加えた後で室温で1時間反応させた。反応溶液に2N HCl(5mL)を加え、数分間激しく混ぜた。有機層をNaHCO(5mL)飽和水溶液で処理して中性化させ、生成物はヘキサン/酢酸エチル(v/v、10:1)溶媒を使用してカラムクロマトグラフィー法で精製した後、溶媒を真空で除去して白色固体が得られた(0.355g、93%)。
H NMR(CDCl):1.18(s、9H、C(CH)、1.73(q、J=1.6Hz、3H、Cp−CH)、1.89(s、3H、Cp−CH)、3.08−3.07(m、2H、Cp−CH)、6.05(d、J=2.0Hz、1H、Cp−CH)、7.07(dd、1H、J=7.6、2.0Hz、1H、bz−CH)、7.11(td、J=7.2、1.2Hz、1H、bz−CH)、7.33(td、J=8.4、2.0Hz、1H、bz−CH)、7.54(s、1H、NH)、8.44(d、J=8.0Hz、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(CDCl):14.47、14.64、27.42,39.84、44.59、119.15、123.14、125.27、128.07、129.28、136.02、138.36、142.64、142.76、175.93ppm.
<実施例12>2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−3,5−ジメチルフェニル−(トリメチルアセチル)アミン
2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−3,5−ジメチルフェニルアミン(0.717g、3.36mmol)、トリエチルアミン(0.408g、4.03mmol)、及び塩化ピバロイル(0.486g、4.03mmol)を使用し、<実施例11>での方法と同じように反応させて処理した。生成物は、トルエン/MC(v/v、1:1)溶媒を使用してカラムクロマトグラフィ方法で精製した後、溶媒を真空で除去して白色固体が得られた(0.698g、70%)。
H NMR(CDCl):1.17(s、9H、C(CH)、1.69(s、3H、Cp−CH)、1.85(s、3H、Cp−CH)、2.24(s、3H、bz−CH)、2.34(s、3H、bz−CH)、2.97(d、J=1.2Hz、2H、Cp−CH)、5.94(s、1H、Cp−CH)、6.75(s、1H、NH)、6.78(s、1H、bz−CH)、7.03(s、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(CDCl):14.54、14.58、18.74、21.08、27.50、44.19、123.88、127.76、130.41、131.19、132.90、134.94、135.59、140.14、143.35、175.85ppm.
<実施例13>2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニル(トリメチルアセチル)アミン
2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニルアミン(0.534g、2.68mmol)、トリエチルアミン(0.325g、3.22mmol)、及び塩化ピバロイル(0.388g、3.22mmol)を使用し、<実施例11>での方法と同じように反応させて処理した。生成物は、ヘキサン/酢酸エチル(v/v、5:1)溶媒を使用してカラムクロマトグラフィ方法で精製した後、溶媒を真空で除去して白色固体が得られた(0.674g、89%)。
H NMR(CDCl):1.17(s、9H、C(CH)、1.58(s、3H、Cp−CH)、1.83(s、3H、Cp−CH)、1.98(s、3H、Cp−CH)、3.01(s、2H、Cp−CH)、7.05(dd、J=7.6、2.0Hz、1H、bz−CH)、7.08(td、1H、J=7.6、1.2Hz、1H、bz−CH)、7.30(td、J=7.6、1.6Hz、1H、bz−CH)、7.60(s、1H、NH)、8.44(d、J=8.4Hz、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(CDCl):11.46、13.51、14.17、27.29、39.71,48.87、118.94、122.96、126.21、127.78、129.13、134.27、134.63、135.91、137.91、137.92、138.67、175.75ppm.
<実施例14>
2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−4,6−ジメチルフェニル(トリメチルアセチル)アミン
2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−4,6−ジメチルフェニルアミン(0.600g、2.64mmol)、トリエチルアミン(0.321g、3.17mmol)、及び塩化ピバロイル(0.382g、3.17mmol)を使用し、<実施例11>での方法を同様に適用して製造した(0.727g、89%)。
H NMR(CDCl):1.16(s、9H、C(CH)、1.54(s、3H、Cp−CH)、1.80(s、3H、Cp−CH)、1.94(s、3H、Cp−CH)、2.23(s、3H、bz−CH)、2.33(s、3H、bz−CH)、2.91(brd、J=5.6Hz、2H、Cp−CH)、6.76(s、2H、bz−CH)、7.02(s、1H、NH)ppm;13C{H}NMR(CDCl):11.63、13.50、18.79、21.09、27.46、39.13,48.64、127.68、130.28、131.18、132.85、133.22、134.79、135.34、135.47、135.62、140.51、175.77ppm.
<実施例15>フェニレン(t−ブチルカルボキシアミド)(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)チタンビス(ジメチルアミド)
2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニル(トリメチルアセチル)アミン(0.203g、0.700mmol)とテトラキス(ジメチルアミノ)チタン(0.156g、0.700mmol)とに、トルエン(50mL)溶媒を加えた。反応溶液を80℃で一日混ぜた後で揮発性物質を除去すれば、赤色オイルが得られた(Hと13CとのNMR分光法で100%純度が確認される)。
H NMR(C):1.43(s、9H、C(CH)、1.94(s、6H、Cp−CH)、2.97(s、12H、N−CH)、5.79(s、2H、Cp−CH)、7.01(td、J=8.4、1.2Hz、bz−CH)、7.26(t、d、J=8.4、1.6Hz、1H、bz−CH)、7.30(d、J=8.0Hz、1H、bz−CH)、7.66(d、J=8.0Hz、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(C):14.73(Cp−CH)、29.14(C(CH)、39.77(C(CH)、48.35(N−CH)、112.35、122.81、125.21、125.55、128.54、131.55、132.86、144.65、168.49ppm.
<実施例16>(4,6−ジメチル)フェニレン(t−ブチルカルボキシアミド)(2,5−ジメチルシクロペンタ−ジエニル)チタンビス(ジメチルアミド)
2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−4,6−ジメチルフェニル(トリメチルアセチル)アミン(0.515g、1.73mmol)とテトラキス(ジメチルアミノ)チタン(0.388g、1.73mmol)とに、トルエン(7mL)溶媒を加えた。反応溶液を80℃で5日間混ぜた後で揮発性物質を除去すれば、赤色オイルが得られた(Hと13CとのNMR分光法でほぼ100%純度が確認される)。
H NMR(C):1.43(s、9H、C(CH)、1.97(s、6H、Cp−CH)、2.25(s、3H、bz−CH)、2.62(s、3H、bz−CH)、2.99(s、12H、N−CH)、5.89(s、2H、Cp−CH)、6.98(s、1H、bz−CH)、7.08(s、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(C):14.95、21.15、21.60、29.29、40.30、48.42、112.44、122.68、124.72、125.78、130.92、131.22、131.38、136.98、140.37、167.22ppm.
<実施例17>
フェニレン(t−ブチルカルボキシアミド)(2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル)チタンビス(ジメチルアミド)
2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニル(トリメチルアセチル)アミン(0.486g、1.72mmol)とテトラキス(ジメチルアミノ)チタン(0.386g、1.72mmol)とに、トルエン(6mL)溶媒を加えた。反応溶液を80℃で一日混ぜた後で揮発性物質を除去すれば、赤色オイルが得られた(Hと13CとのNMR分光法でほぼ100%純度が確認される)。
H NMR(C):1.45(s、9H、C(CH)、1.88(s、3H、Cp−CH)、1.94(s、3H、Cp−CH)、2.03(s、3H、Cp−CH)、2.81(s、6H、N−CH)、3.14(s、3H、N−CH)、5.86(s、1H、Cp−CH)、7.03(td、J=7.2、1.2Hz、1H、bz−CH)、7.27(dd、J=7.6、0.8Hz、1H、bz−CH)、7.30(td、J=7.6、1.2Hz、1H、bz−CH)、7.70(dd、J=8.0、0.8Hz、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(C):12.79、13.06、14.13、29.12,39.76、47.12、49.85、115.52、120.22、121.21、121.31、122.78、125.59、125.95、128.48、131.52、132.95、144.69、168.90ppm.
<実施例18>
(4,6−ジメチル)フェニレン(t−ブチルカルボキシアミド)(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−ジエニル)チタンビス(ジメチルアミド)
2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−4,6−ジメチルフェニル(トリメチルアセチル)アミン(0.565g、1.81mmol)とテトラキス(ジメチルアミノ)チタン(0.407g、1.81mmol)とに、トルエン(7mL)溶媒を加えた。反応溶液を110℃で4日間混ぜた後で揮発性物質を除去すれば、赤色オイルが得られた(H及び13CのNMR分光法でほぼ100%純度が確認される)。
H NMR(C):1.45(s、9H、C(CH)、1.92(s、3H、Cp−CH)、1.99(s、3H、Cp−CH)、2.06(s、3H、Cp−CH)、2.27(s、3H、bz−CH)、2.66(s、3H、bz−CH)、2.83(s、6H、N−CH)、3.17(s、6H、N−CH)、5.89(s、1H、Cp−CH)、6.99(s、1H、bz−CH)、7.10(s、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(C):12.85、13.29、14.37、21.19、21.57、29.26、40.28、47.22、49.98、115.62、119.81、120.77、121.33、125.13、126.11、130.89、131.13、131.46、136.96、140.39、167.63ppm.
<実施例19>
[1−(2−t−ブチルクロロイミノ)フェニル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]三塩化チタン
(t−BuCON)(2,5−MeCp)Ti(NMe化合物にジクロロジメチルシラン(0.306g、2.37mmol)とトルエン(8mL)とを加えた。反応溶液を80℃で3日間混ぜる。揮発性物質を真空下で除去し、ペンタン(10mL)溶媒で洗った。溶媒を真空で除去すれば、黄色固体が得られた(0.128g、42%)。本化合物のX−ray結晶構造を図1に示した。
H NMR(C):0.915(s、9H、C(CH)、2.20(s、6H、Cp−CH)、6.01(s、2H、Cp−CH)、6.50(dd、J=8.0、0.8Hz、1H、bz−CH)、6.89(td、J=7.6、1.2Hz、1H、bz−CH)、7.02(td、J=7.2、1.6Hz、1H、bz−CH)、7.68(dd、J=8.0、0.8Hz、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(C):17.18、28.12、42.14、119.72、123.59、125.31、130.03、131.92、139.96、140.10、140.74、147.21、155.91ppm.
<実施例20>
[1−(2−t−ブチルクロロイミノ)フェニル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]三塩化チタン
(t−BuCON)(2,3,5−MeCp)Ti(NMe化合物にジクロロジメチルシラン(10mL)とトルエン(5mL)とを加えた。反応溶液を80℃で2日間混ぜる。揮発性物質を真空下で除去し、ペンタン(10mL)溶媒で洗った。溶媒を真空で除去すれば、赤色固体が得られた(0.150g、31%)。
H NMR(C):0.90(s、9H、C(CH)、1.98(s、3H、Cp−CH)、2.17(s、3H、Cp−CH)、2.2.25(s、3H、Cp−CH)、5.97(s、1H、Cp−CH)、6.66(dd、J=8.0、1.6Hz、1H、bz−CH)、6.91(td、J=7.6、1.2Hz、1H、bz−CH)、7.03(td、J=8.0、1.6Hz、1H、bz−CH)、7.75(dd、J=8.0、1.6Hz、1H、bz−CH)ppm;13C{H}NMR(C):15.16、16.33、17.45、28.06、43.82、119.57、123.64、124.68、125.28、129.95、132.17、137.70、138.76、139.14、141.69、147.17、155.64ppm.
<実施例21>
[1−(2−t−ブチルクロロイミノ)フェニル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]三塩化チタン化合物のインシチュ(in situ)合成
2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニル(トリメチルアセチル)アミン(2.06g、7.65mmol)、Ti(NMe(1.72g、7.65mmol)及びトルエン(20mL)を80℃で一日反応させた。溶媒を真空乾燥すれば、赤色オイルが得られた。得られたビス(ジメチルアミド)チタン化合物をトルエン(20mL)に溶かした後、SiCl(5.20g、30.6mmol)を加えた。全体溶液を室温で4時間反応させた後、あらゆる揮発性物質を真空乾燥し、ペンタン(30mL)で洗浄して黄色固体が得られた(1.77g、53%)。
H NMR(C):0.93(s、9H、C(CH)、2.21(s、6H、CH)、6.03(s、2H、Cp−H)、6.65(d、J=8.4Hz、1H、H3or6)、6.89(t、J=7.6Hz、1H、H4or5)、7.03(t、J=8.0Hz、1H、H4or5)、7.67(d、J=7.6Hz、1H、H3or6)ppm.13C{H}NMR(C6D6):17.19、28.12、43.89、119.74、123.05、123.65、125.28、130.03、131.89、140.15、140.79、147.23、155.97ppm.
<実施例22>
[1−(2−t−ブチルクロロイミノ)フェニル−2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル]三塩化チタン化合物のインシチュ(in situ)合成
2−(2,3,5−Tiメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)フェニル(トリメチルアセチル)アミン化合物を使用し、<実施例21>と同じ条件と方法とで製造した(73%)。
H NMR(C):0.91(s、9H、C(CH)、2.00(s、3H、CH)、2.17(s、3H、CH)、2.25(s、3H、CH)、5.99(s、1H、Cp−H)、6.66(d、J=8.0Hz、1H、H3or6)、6.91(tt、J=8.4、1.2Hz、1H、H4or5)、7.04(tt、J=8.0、1.2Hz、1H、H4or5)、7.73(d、J=8.0Hz、1H、H3or6)ppm.13C{H}NMR(C):15.19、16.39、17.49、28.08、43.85、119.64、123.63、124.79、125.22、129.96、132.13、137.78、138.85、139.28、141.78、147.20、155.74ppm.
<実施例23>
[1−(2−t−ブチルクロロイミノ)−3,5−ジメチルフェニル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]−三塩化チタン化合物のインシチュ(in situ)合成
2−(2,5−ジメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−4,6−ジメチルフェニル(トリメチルアセチル)アミン化合物を使用し、<実施例21>と同じ条件と方法とで製造した(55%)。
H NMR(C):0.95(s、9H、C(CH)、1.95(s、3H、CH)、2.09(s、3H、CH)、2.28(s、3H、Ph−CH)、2.30(s、3H、Ph−CH)、5.90(d、J=2.8Hz、1H、Cp−H)、6.18(d、J=2.8Hz、1H、Cp−H)、6.79(s、1H、Ph−H)、7.45(s、1H、Ph−H)ppm.13C{H}NMR(C):17.05、17.12、17.69、17.75、21.04、28.19、43.81、121.94、123.02、123.11、124.39、126.66、129.86、129.91、132.44、132.51、134.36、139.26、140.70、141.67、143.93、156.11ppm.
<実施例24>
[1−(2−t−ブチルクロロイミノ)−3,5−ジメチルフェニル−2,3,5−トリメチルシクロペンタ−ジエニル]三塩化チタン化合物のインシチュ(in situ)合成
2−(2,3,5−トリメチルシクロペンタ−1,4−ジエニル)−4,6−ジメチルフェニル(トリメチルアセチル)アミン化合物を使用し、<実施例21>と同じ条件と方法とで製造した(57%)。
H NMR(C):0.93(s、3.9H、C(CH)、0.94(s、5.1H、C(CH)、1.95(s、1.3H、CH)、1.96(s、1.7H、CH)、2.11(s、6H、Ph−CH)、2.25(s、1.3H、CH)、2.27(s、1.7H、CH)、2.32(s、1.7H、CH)、2.34(s、1.3H、CH)、5.85(s、0.43H、Cp−H)、6.12(s、0.57H、Cp−H)、6.81(s、1H、Ph−H)、7.51(s、0.57H、Ph−H)、7.55(s、0.43H、Ph−H)ppm.13C{H}NMR(C):15.15、15.80、16.14、16.81、17.34、17.70、17.97、21.07、28.13,43.76、122.53、122.60、123.98、124.03、125.98、126.57、130.04、130.20、132.37、134.28、134.35、136.96、137.84、138.59、138.63、139.38、139.83、142.27、143.80、143.96、1585.80、155.89ppm.
<比較例1>(テトラメチルシクロペンタジエニル)三塩化チタン
前記のチタン金属化合物は、米国のBoulder Scientific社から購入し、そのままエチレン共重合反応に使用した。
<比較例2>
イソ−プロピリデン(シクロペンタジエニル)(9−フルオレニル)二塩化ジルコニウム
前記のジルコニウム金属化合物は、米国のBoulder Scientific社から購入し、そのままエチレン単独・共重合反応に使用した。
エチレン共重合
<実施例25>高圧エチレンと1−オクテンとの共重合
2L オートクレーブ反応器にトルエン(1.0L)溶媒と1−オクテン(0.8Mに固定)とを加えた後、反応器の温度を90℃に予熱した。それと同時に、反応器の圧力が6barになるように、エチレンであらかじめ充填しておいた。25mL触媒保存タンクにトリイソブチルアルミニウム化合物(125μmol)で処理されたチタン化合物(5.0μmol)とトリチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(25μmol)助触媒とを順に添加して充填した。このとき、触媒タンクの中にエチレン圧力(13bar)を加えつつ、共重合反応を10分間進めた後、残ったエチレンガスを取り出し、高分子溶液を過量のエタノールに加えて沈殿を誘導する。得られた高分子をエタノール及びアセトンでそれぞれ2、3回洗浄した後、80℃真空オーブンで12時間以上乾燥した。
物性評価(重さ、活性度、溶融指数、溶融点、密度
高分子の溶融指数(MI:Melt Index)は、ASTM D−1238(条件 E、190℃、2.16Kg荷重)で測定した。高分子の溶融点Tは、TA社製の差動熱量計(DSC:Differential Scanning Calorimeter 2920)を利用して得た。すなわち、温度を200℃まで上昇させた後、5分間その温度で維持し、その後30℃まで下げ、再び温度を上昇させてDSC曲線の頂点を溶融点とした。このとき、温度の昇降速度は、10℃/minであり、溶融点は、第2の温度が上昇する間に得られる。
また、高分子の密度(Density)は、酸化防止剤(1,000ppm)で処理されたサンプルを、180℃プレスモールド(Press Mold)で厚さ3mm、半径2cmのシートを製作し、10℃/minで冷却してメトラー(Mettler)秤で測定した。
<実験例1>エチレンと1−オクテンとの共重合結果
前記実験方法によって、<実施例19、20、23、及び24>及び<比較例1>の遷移金属化合物を使用し、<実施例25>の共重合法で得られた共重合体の各種物性を測定し、下記表1に示した。
Figure 2009500402
前記表1に記載されているように、実施例19、20、23及び24の触媒錯化合物は、比較例1に対応して高い共重合活性度を示している。また、実施例19、20、23及び24の触媒錯化合物を使用して合成された重合体は、さらに高い分子量及びさらに低い密度を有している。また、比較例2に対して、ブリッジによって金属原子が架橋されていない実施例19、20、23及び24によって製造された触媒錯化合物は、多少低い活性度を示しているが、さらに高い分子量及びさらに低い密度の共重合体が製造可能である。
本発明による遷移金属化合物を含む触媒錯化合物を利用し、0.910g/cc未満の超低密度ポリオレフィン共重合体の製造が可能である。
本発明による遷移金属化合物である[1−(2−t−ブチルクロロイミノ)フェニル−2,5−ジメチルシクロペンタジエニル]三塩化チタンのX−ray構造である。

Claims (11)

  1. 下記化学式1の遷移金属化合物:
    Figure 2009500402
    前記化学式1で、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子;炭素数1ないし20のアルキル、アリールまたはシリルラジカル;炭素数1ないし20のアルケニル、アルキルアリール、またはアリールアルキルラジカル;またはヒドロカルビルで置換された14族金属のメタロイドラジカルであり、R及びRは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルを含むアルキリジンラジカルにより互いに連結されて環を形成でき、
    はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲンラジカル、または炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルであり、前記Rのうち2個のRは互いに連結されて縮合環構造になることができ、
    は、水素原子、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカル、炭素数1ないし20のアルコキシまたはアリールオキシラジカルであり、
    Mは4族遷移金属であり、
    、Q及びQはそれぞれ独立して、ハロゲンラジカル;炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールアミドラジカル;炭素数1ないし20のアルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキルラジカル;または炭素数1ないし20のアルキリデンラジカルであり、
    Xはハロゲンである。
  2. 前記遷移金属化合物が下記構造のうちの一つで表されることを特徴とする請求項1に記載の遷移金属化合物:
    Figure 2009500402
    上記式中で、R13は、水素、メチル、t−ブチルまたはt−ブトキシラジカルであり、Xはハロゲンであり、Qは、アルキル、ハロゲンまたはアミノラジカルである。
  3. (a)下記化学式2で表されるボロン酸化合物と、下記化学式3で表される2−ブロモアニリン化合物とを反応させ、下記化学式4で表される化合物を製造する段階と、
    (b)下記化学式4で表される化合物とRLi化合物とを反応させた後で酸を添加し、下記化学式5で表される化合物を製造する段階と、
    (c)下記化学式5で表される化合物とRX(X=ハロゲン)とを反応させ、下記化学式6の化合物を製造する段階と、
    (d)下記化学式6で表される化合物と下記化学式7で表される化合物とを反応させた後、(CHSiX4−n(X=ハロゲン;n=0、1、2、または3)化合物を添加し、下記化学式1で表される化合物を製造する段階とを含むことを特徴とする遷移金属化合物の製造方法:
    Figure 2009500402
    前記化学式1で、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子;炭素数1ないし20のアルキル、アリールまたはシリルラジカル;炭素数1ないし20のアルケニル、アルキルアリール、またはアリールアルキルラジカル;またはヒドロカルビルで置換された14族金属のメタロイドラジカルであり、R及びRは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルを含むアルキリジンラジカルにより互いに連結されて環を形成でき、
    はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲンラジカル、または炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルであり、前記Rのうち2個のRは互いに連結されて縮合環構造になることができ、
    は、水素原子、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカル、炭素数1ないし20のアルコキシまたはアリールオキシラジカルであり、
    Mは4族遷移金属であり、
    、Q及びQはそれぞれ独立して、ハロゲンラジカル;炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールアミドラジカル;炭素数1ないし20のアルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキルラジカル;または炭素数1ないし20のアルキリデンラジカルであり、
    Xはハロゲンであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式2で、R及びRは前記で定義された通りであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式3で、Rは前記に定義された通りであり、Eは窒素原子であり;
    Figure 2009500402
    前記化学式4で、R、R及びRは前記に定義された通りであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式5で、R、R及びRは前記に定義された通りであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式6で、R、R及びRは前記に定義された通りであり、Rは、炭素数1ないし20のアルキルスルホニル、アリールスルホニルまたはシリルスルホニルラジカル;炭素数1ないし20のアルキルカルボニル、アリールカルボニルまたはシリルカルボニルラジカル;炭素数1ないし20のアルキルカルボキシまたはアリールカルボキシラジカル;または炭素数1ないし20のアルキルホスホニルまたはアリールホスホニルラジカルであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式7で、Rは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルである。
  4. (a)化学式2で表されるボロン酸化合物と、化学式3で表される2−ブロモアニリン化合物とを反応させて化学式4で表される化合物を製造する段階と、
    (b’)化学式4で表される化合物とRX(X=ハロゲン)とを反応させる段階と、
    (c’)前記(b’)段階で得られた化合物をRLi化合物と反応させた後で酸を添加し、化学式6で表される化合物を製造する段階と、
    (d)化学式6で表される化合物を化学式7で表される化合物と反応させた後、(CHSiX4−n(X=ハロゲン;n=0、1、2、または3)化合物を添加し、化学式1で表される化合物を製造する段階とを含むことを特徴とする遷移金属化合物の製造方法。
  5. 下記化学式1の遷移金属化合物と、
    下記化学式8、化学式9及び化学式10で表される化合物からなる群から選択された1以上の助触媒化合物とを含むことを特徴とする触媒組成物:
    Figure 2009500402
    前記化学式1で、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子;炭素数1ないし20のアルキル、アリールまたはシリルラジカル;炭素数1ないし20のアルケニル、アルキルアリール、またはアリールアルキルラジカル;またはヒドロカルビルで置換された14族金属のメタロイドラジカルであり、R及びRは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルを含むアルキリジンラジカルにより互いに連結されて環を形成でき、
    はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲンラジカル、または炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルであり、前記Rのうち2個のRは互いに連結されて縮合環構造になることができ、
    は、水素原子、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカル、炭素数1ないし20のアルコキシまたはアリールオキシラジカルであり、
    Mは4族遷移金属であり、
    、Q及びQはそれぞれ独立して、ハロゲンラジカル;炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールアミドラジカル;炭素数1ないし20のアルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキルラジカル;または炭素数1ないし20のアルキリデンラジカルであり、
    Xはハロゲンであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式8で、Rはそれぞれ独立的に、ハロゲンラジカル、炭素数1ないし20のヒドロカルビルラジカル、またはハロゲンで置換された炭素数1ないし20のヒドロカルビルラジカルであり、aは2以上の整数であり;
    Figure 2009500402
    前記化学式9で、Dはアルミニウムまたはボロンであり、Rはそれぞれ独立的に、前記で定義された通りであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式10で、Lは中性または陽イオン性のルイス酸であり、Hは水素原子であり、Zは13族元素であり、Aはそれぞれ独立的に、1以上の水素原子がハロゲン、炭素数1ないし20のヒドロカルビル、アルコキシまたはフェノキシラジカルで置換された炭素数6ないし20のアリールまたはアルキルラジカルである。
  6. 下記化学式1の遷移金属化合物と、下記化学式8または化学式9で表される化合物とを接触させて混合物を得る段階と、
    前記混合物に下記化学式10で表される化合物を添加する段階とを含むことを特徴とする触媒組成物の製造方法:
    Figure 2009500402
    前記化学式1で、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子;炭素数1ないし20のアルキル、アリールまたはシリルラジカル;炭素数1ないし20のアルケニル、アルキルアリール、またはアリールアルキルラジカル;またはヒドロカルビルで置換された14族金属のメタロイドラジカルであり、R及びRは、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルを含むアルキリジンラジカルにより互いに連結されて環を形成でき、
    はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲンラジカル、または炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカルであり、前記Rのうち2個のRは互いに連結されて縮合環構造になることができ、
    は、水素原子、炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールラジカル、炭素数1ないし20のアルコキシまたはアリールオキシラジカルであり、
    Mは4族遷移金属であり、
    、Q及びQはそれぞれ独立して、ハロゲンラジカル;炭素数1ないし20のアルキルまたはアリールアミドラジカル;炭素数1ないし20のアルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキルラジカル;または炭素数1ないし20のアルキリデンラジカルであり、
    Xはハロゲンであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式8で、Rはそれぞれ独立的に、ハロゲンラジカル、炭素数1ないし20のヒドロカルビルラジカル、またはハロゲンで置換された炭素数1ないし20のヒドロカルビルラジカルであり、aは2以上の整数であり;
    Figure 2009500402
    前記化学式9で、Dはアルミニウムまたはボロンであり、Rはそれぞれ独立的に、前記で定義された通りであり;
    Figure 2009500402
    前記化学式10で、Lは中性または陽イオン性のルイス酸であり、Hは水素原子であり、Zは13族元素であり、Aはそれぞれ独立的に、1以上の水素原子がハロゲン、炭素数1ないし20のヒドロカルビル、アルコキシまたはフェノキシラジカルで置換された炭素数6ないし20のアリールまたはアルキルラジカルである。
  7. 請求項1に記載の遷移金属化合物と、前記化学式8または化学式9で表される化合物、及び前記化学式10で表される化合物との比がそれぞれ1:2ないし1:5,000及び1:1ないし1:25であることを特徴とする請求項6に記載の触媒組成物の製造方法。
  8. 請求項5に記載の触媒組成物と単量体とを接触させることを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。
  9. 前記単量体がエチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン及び1−アイトセンからなる群から選択された1以上の単量体であることを特徴とする請求項8に記載のオレフィン重合体の製造方法。
  10. 請求項8または請求項9に記載の方法によって製造されることを特徴とするオレフィン重合体。
  11. 前記重合体を製造するのに使われる単量体が、
    エチレンと、
    プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、及び4−メチル−1−ペンテン、及び1−オクテンからなる群から選択された一つ以上の単量体とであることを特徴とする請求項10に記載のオレフィン重合体。
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