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JP2009237174A - Photosensitive composition, planographic printing plate precursor, and image forming method - Google Patents

Photosensitive composition, planographic printing plate precursor, and image forming method Download PDF

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JP2009237174A
JP2009237174A JP2008082230A JP2008082230A JP2009237174A JP 2009237174 A JP2009237174 A JP 2009237174A JP 2008082230 A JP2008082230 A JP 2008082230A JP 2008082230 A JP2008082230 A JP 2008082230A JP 2009237174 A JP2009237174 A JP 2009237174A
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JP
Japan
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group
acid
compound
printing plate
photosensitive composition
Prior art date
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Pending
Application number
JP2008082230A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takanori Taguchi
貴規 田口
Shigekatsu Fujii
重克 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2008082230A priority Critical patent/JP2009237174A/en
Publication of JP2009237174A publication Critical patent/JP2009237174A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive composition which is satisfactorily developable with a developer solution of pH 2.0 to 6.5, is excellent in abrasion resistance and soiling prevention, and also is imparted with the reproducibility of sensitivity in image formation, to provide an image forming method, and to provide a planographic printing plate precursor capable of producing a planographic printing plate. <P>SOLUTION: The photosensitive composition has a photosensitive layer on a support, the photosensitive layer containing (A) a binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and/or a side chain, (B) a compound having an ethylenically unsaturated bond, and (C) a polymerization initiator. The image forming method comprises imagewisely exposing the photosensitive composition to a laser beam and removing the photosensitive layer in an unexposed part. The planographic printing plate precursor contains the photosensitive composition. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は感光性組成物、該組成物を用いた平版印刷版原版及び画像形成方法に関する。   The present invention relates to a photosensitive composition, a lithographic printing plate precursor using the composition, and an image forming method.

一般に平版印刷版は、親油性の画像部と親水性の非画像部からなる表面を有する。平版印刷は、この版表面に湿し水と油性インキとを交互に与え、水と油が互いに反発する性質を利用して、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)とし、親油性の画像部のみにインキを受容させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部となる感光層を残存させ、それ以外の不要な感光層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate has a surface composed of an oleophilic image portion and a hydrophilic non-image portion. In lithographic printing, dampening water and oil-based ink are alternately applied to the plate surface, and the hydrophilic non-image area is dampened with a dampening water receiving area (ink non-receiving area) by utilizing the property that water and oil repel each other. ), After the ink is received only in the oleophilic image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Normally, after exposing a lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the photosensitive layer to be an image portion is left, and other unnecessary photosensitive layers are dissolved with an alkaline developer or an organic solvent. The lithographic printing plate is obtained by carrying out plate making by a method of exposing the surface of the hydrophilic support to form a non-image portion by removing it.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な感光層を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を簡易化することが課題の一つとして挙げられている。簡易化の一つとして、中性に近い水溶液または単なる水で現像できることが望まれている。   In the conventional plate-making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing unnecessary photosensitive layers with a developer or the like is necessary after exposure, but simplifies such additional wet processing. Is listed as one of the issues. As one of simplification, it is desired that development can be performed with an aqueous solution close to neutrality or simple water.

一方、近年、画像情報を、コンピュータを用いて電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注目されてきている。従って、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。   On the other hand, in recent years, digitization technology that electronically processes, stores, and outputs image information using a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology have been put into practical use. It has come to be. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate technology for manufacturing is attracting attention. Accordingly, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

上述のような背景から、現在、製版作業の簡易化とデジタル化の両面への適合が、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。   From the background as described above, it is now more strongly desired than ever to adapt both the simplification of the plate making operation and the digitization.

これに対して、例えば、特許文献1には、親水性支持体上に、疎水性化前駆体、親水性樹脂、光熱変換剤を含有する画像形成層を有する平版印刷版原版の画像形成層中に、さらにエチレンオキシド鎖を有する化合物を含有することによって、機上現像のほかに、露光後、水または適当な水溶液を現像液とする液体現像処理を施して印刷に用いることが可能であると記載されている。   On the other hand, for example, in Patent Document 1, in an image forming layer of a lithographic printing plate precursor having an image forming layer containing a hydrophobizing precursor, a hydrophilic resin, and a photothermal conversion agent on a hydrophilic support. In addition to the on-press development, it can also be used for printing after exposure by liquid development using water or a suitable aqueous solution as a developer by further containing a compound having an ethylene oxide chain. Has been.

また、特許文献2には、(i)親水性支持体、および(ii)ラジカル重合性エチレン性不飽和モノマー、ラジカル重合開始剤および赤外吸収染料を含有し、赤外レーザー露光により硬化し、しかも60質量%以上の水を含有し、pH2.0〜10.0の水性現像液で現像可能な親油性感熱層からなる平版印刷版原版を用意し、赤外レーザーで画像様に露光し、水性現像液で該感熱層の未硬化領域を除くことからなる平版印刷版原版の処理方法が記載されている。   Patent Document 2 contains (i) a hydrophilic support, and (ii) a radical polymerizable ethylenically unsaturated monomer, a radical polymerization initiator and an infrared absorbing dye, and is cured by infrared laser exposure. Moreover, a lithographic printing plate precursor comprising an oleophilic heat-sensitive layer containing 60% by mass or more of water and developable with an aqueous developer having a pH of 2.0 to 10.0 is prepared and exposed imagewise with an infrared laser. A processing method for a lithographic printing plate precursor comprising removing an uncured region of the heat-sensitive layer with an aqueous developer is described.

一方、アンモニウム塩を有する感光性樹脂組成物としては、エポキシ基をアミノ基で開環させることにより導入した感光性樹脂組成物が知られている(特許文献3〜5参照)が、平版印刷版に用いた場合に、現像性と耐刷性を両立できることは示されていない。また
、ヒドロキシル基を有するバインダーポリマーを用いた場合には、基板への吸着による汚れ性が悪化してしまい、実用上問題があった。さらに、一定の画像形成を行うために必要な露光量(画像形成感度)が安定しない(再現性が悪い)という実用上の問題点もあった。
特開2002−365789号公報 米国特許出願公開2004/0013968号明細書 特開平6−59448号公報 特開平6−202329号公報 特開平8−109232号公報
On the other hand, as a photosensitive resin composition having an ammonium salt, a photosensitive resin composition introduced by opening an epoxy group with an amino group is known (see Patent Documents 3 to 5). It is not shown that both developability and printing durability can be achieved when used in the above. Moreover, when the binder polymer which has a hydroxyl group is used, the stain | pollution | contamination property by adsorption | suction to a board | substrate will deteriorate, and there existed a problem in practical use. Furthermore, there is a practical problem that the exposure amount (image formation sensitivity) necessary for performing a constant image formation is not stable (reproducibility is poor).
JP 2002-365789 A US Patent Application Publication No. 2004/0013968 JP-A-6-59448 JP-A-6-202329 JP-A-8-109232

上述のようなpH2.0〜10.0の水性現像液、さらに低いpHのpH2.0〜6.5の水性現像液に対する現像性を維持するためには、感光層は親水性または高い水浸透性を有すること必要であり、露光により硬化した感光層の耐水性や被膜強度が不十分であった。また、従来平版印刷版原版で用いられているバインダーポリマーを適用した場合には、pH2.0〜6.5の水性現像では、汚れ性を満足することができないという問題もあった。これらの課題を解決するためには、レーザー露光により硬化した感光層は画像部に優れた耐刷性を付与でき、未露光部の感光層はpH2.0〜6.5の水性現像液によって良好に除去され、さらには、画像形成感度の再現性が良好な感光性組成物、平版印刷版原版および画像形成方法を提供することが必要である。   In order to maintain the developability of the aqueous developer having a pH of 2.0 to 10.0 as described above, and the aqueous developer of pH 2.0 to 6.5 having a lower pH, the photosensitive layer is hydrophilic or has high water penetration. The photosensitive layer cured by exposure has insufficient water resistance and film strength. In addition, when the binder polymer used in the conventional lithographic printing plate precursor is applied, there is a problem that the stain resistance cannot be satisfied by aqueous development at pH 2.0 to 6.5. In order to solve these problems, the photosensitive layer cured by laser exposure can impart excellent printing durability to the image area, and the photosensitive layer in the unexposed area is excellent by an aqueous developer having a pH of 2.0 to 6.5. Furthermore, it is necessary to provide a photosensitive composition, a lithographic printing plate precursor, and an image forming method that have a good reproducibility of image forming sensitivity.

本発明者は、主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーを感光層に含有させることによって上記課題が解決できることを見出した。すなわち、本発明は以下のとおりである。   The present inventor has found that the above problem can be solved by incorporating a binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain into the photosensitive layer. That is, the present invention is as follows.

1.支持体上に、下記(A)〜(C)を含有する感光層を有する感光性組成物。
(A)主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマー
(B)エチレン性不飽和結合を有する化合物
(C)重合開始剤
2.(A)主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーにおいて、正に荷電した窒素原子を有する基が下記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される基を有することを特徴とする前記1記載の感光性組成物。
1. A photosensitive composition having a photosensitive layer containing the following (A) to (C) on a support.
(A) Binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain (B) Compound having ethylenically unsaturated bond (C) Polymerization initiator (A) In a binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain, groups having a positively charged nitrogen atom are represented by the following general formulas (1) to (1): 4. The photosensitive composition as described in 1 above, which has a group represented by any one of 4).

式中、R〜Rは1価の置換基を表し、Xはアニオンを表す。RおよびR、R〜Rのうち任意の2つは、互いに結合して環を形成してもよい。一般式(2)及び(4)中、−N=C−は環状構造を構成する。
3.(A)主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーが(メタ)アクリル樹脂またはウレタン樹脂であることを特徴とする前記1または2に記載の感光性組成物。
4.(A)主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーがウレタン樹脂であることを特徴とする前記1または2に記載の感光性組成物。
5.前記一般式(1)〜(4)において、RおよびRの少なくとも1つ、R、 R〜Rの少なくとも1つ、およびRが水素原子ある基を有することを特徴とする前記1〜4のいずれかに記載の感光性組成物。
6.前記少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーが、アミノ基を有するポリマーのアミノ基の一部を酸で中和することによって作成されることを特徴とする、前記1〜5のいずれかに記載の感光性組成物。
7.前記感光層が、さらに(D)増感色素を含むことを特徴とする前記1〜6のいずれかに記載の感光性組成物。
8.前記1〜7のいずれかに記載の感光性組成物をレーザーで画像露光した後、pHが2〜6.5の現像液の存在下、未露光部の感光層を除去することを特徴とする画像形成方法。
9.前記1〜7のいずれかに記載の感光性組成物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。
In the formula, R 1 to R 7 each represent a monovalent substituent, and X represents an anion. Any two of R 1 and R 2 and R 4 to R 6 may be bonded to each other to form a ring. In the general formulas (2) and (4), -N + = C- constitutes a cyclic structure.
3. (A) The 1 or 2 above, wherein the binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain is a (meth) acrylic resin or a urethane resin. The photosensitive composition as described in any one of.
4). (A) The photosensitive composition as described in 1 or 2 above, wherein the binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain is a urethane resin. object.
5. In the general formulas (1) to (4), at least one of R 1 and R 2 , R 3 , at least one of R 4 to R 6 , and R 7 have a group having a hydrogen atom. The photosensitive composition in any one of said 1-4.
6). The binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group is made by neutralizing a part of the amino group of the polymer having an amino group with an acid, The photosensitive composition in any one of said 1-5.
7). The photosensitive composition as described in any one of 1 to 6 above, wherein the photosensitive layer further contains (D) a sensitizing dye.
8). The photosensitive composition according to any one of 1 to 7 above is image-exposed with a laser, and then the unexposed photosensitive layer is removed in the presence of a developer having a pH of 2 to 6.5. Image forming method.
9. A lithographic printing plate precursor comprising the photosensitive composition as described in any one of 1 to 7 above.

本発明の作用機構は明確ではないが、以下のことが推測される。従来、バインダーポリマーの親水性を上げることによりpH2.0〜10.0の現像液への現像性を付与していたが、このことは、露光部への現像液や湿し水の著しい浸透も避けることができず、耐刷性を劣化させる大きな要因となっていた。本発明の主鎖および/または側鎖に正に荷電した窒素原子を有するバインダーポリマー、好ましくは主鎖および/または側鎖に下記一般式(1)〜(4)で表される構造より選択される基を少なくとも1つ有するバインダーポリマーのような特定の塩構造の導入により、バインダーポリマーと界面活性剤との相互作用が向上し、pH2.0〜6.5の現像液への現像性が付与できるものと考える。また、一般式(1)〜(4)で表される構造より選択される特定の塩構造は、現在、基板あるいは下塗り層との密着性を向上させることができたためと考えているが、硬化時にpH2.0〜6.5の現像液および湿し水の浸透性を低下させることができ、耐刷性が向上したものと推測する。これらの作用により、pH2.0〜6.5の現像液での現像性と耐刷性という相反する性能を達成できたものと考えている。一方、バインダー構造に正に荷電した窒素原子だけでなくアミノ基を同時に含有させることにより、画像形成感度の再現性が付与されたことは驚きであった。詳細は不明であるが、このことについてはアミノ基の重合抑制機能による安定化が付与でき、画像形成感度の再現性付与が可能となったものと考えている。   Although the mechanism of action of the present invention is not clear, the following is presumed. Conventionally, developability to a developer having a pH of 2.0 to 10.0 has been imparted by increasing the hydrophilicity of the binder polymer, but this also means that the developer and dampening water have penetrated significantly into the exposed area. Inevitably, this was a major factor that deteriorated printing durability. The binder polymer having a positively charged nitrogen atom in the main chain and / or side chain of the present invention, preferably selected from the structures represented by the following general formulas (1) to (4) in the main chain and / or side chain. By introducing a specific salt structure such as a binder polymer having at least one group, the interaction between the binder polymer and the surfactant is improved, and developability to a developer having a pH of 2.0 to 6.5 is imparted. Think of it as possible. In addition, the specific salt structure selected from the structures represented by the general formulas (1) to (4) is currently considered to be able to improve the adhesion with the substrate or the undercoat layer. It is presumed that the permeability of the developer and dampening water at pH 2.0 to 6.5 can sometimes be lowered, and the printing durability is improved. These actions are considered to have achieved the conflicting performances of developability and printing durability with a developer having a pH of 2.0 to 6.5. On the other hand, it was surprising that the reproducibility of image formation sensitivity was imparted by incorporating not only positively charged nitrogen atoms but also amino groups into the binder structure. Although details are unknown, it is considered that the stabilization by the function of inhibiting the polymerization of amino groups can be imparted, and the reproducibility of image formation sensitivity can be imparted.

本発明によれば、pH2.0〜6.5の現像液による良好な現像が可能であり、かつ、耐刷性、汚れ性に優れ、さらには、画像形成感度の再現性が付与された感光性組成物、画像形成方法ならびに平版印刷版を作製可能な平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, a photosensitive film which can be satisfactorily developed with a developer having a pH of 2.0 to 6.5, has excellent printing durability and stain resistance, and is provided with reproducibility of image formation sensitivity. A lithographic printing plate precursor capable of producing a lithographic composition, an image forming method, and a lithographic printing plate can be provided.

以下に、本発明に係る感光層、感光性組成物(一例として平版印刷版原版)、および画像形成方法について詳細に説明する。   The photosensitive layer, photosensitive composition (lithographic printing plate precursor as an example), and image forming method according to the present invention will be described in detail below.

〔感光層〕
本発明の平版印刷版原版の感光層は、主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマー、好ましくは、正に荷電した窒素原子を有する構造を有する基が、下記一般式(1)〜(4)で表される構造から選択される基を少なくとも1つ有するバインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する化合物、ならびにラジカル重合開始剤を含有することを特徴とする。
以下に、感光層を構成する重合性組成物の成分について、さらに詳細に説明する。
(Photosensitive layer)
The photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention comprises a binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain, preferably a positively charged nitrogen atom. A binder polymer having at least one group selected from the structures represented by the following general formulas (1) to (4), a compound having an ethylenically unsaturated bond, and a radical polymerization initiator: It is characterized by containing.
Below, the component of the polymeric composition which comprises a photosensitive layer is demonstrated in detail.

(主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマー)
本発明の主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマー(以下では適宜、特定バインダーポリマーと称する。)とは、ポリマー鎖の主鎖および/または側鎖部分にアンモニウム塩基とアミノ基とをそれぞれ少なくとも1つずつ有するポリマーであれば任意の化合物でよい。好ましくは、主鎖および/または側鎖に正に荷電した窒素原子を有する基として、下記一般式(1)〜(4)で表される構造より選択される基を少なくとも1つ有するバインダーポリマーである。主鎖および/または側鎖に下記一般式(1)〜(4)で表される構造より選択される基を少なくとも1つ有するバインダーポリマーとは、一般式(1)〜(4)で表される少なくとも一つの基を繰返し単位としてもつ高分子化合物であれば、任意の化合物でよい。
(Binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain)
The binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain of the present invention (hereinafter referred to as a specific binder polymer as appropriate) refers to the main chain of the polymer chain. In addition, any compound may be used as long as the polymer has at least one ammonium base and one amino group in the side chain portion. Preferably, it is a binder polymer having at least one group selected from structures represented by the following general formulas (1) to (4) as a group having a positively charged nitrogen atom in the main chain and / or side chain. is there. The binder polymer having at least one group selected from the structures represented by the following general formulas (1) to (4) in the main chain and / or side chain is represented by the general formulas (1) to (4). Any compound may be used as long as the polymer compound has at least one group as a repeating unit.

ここで一般式(1)〜(4)中、R〜Rは、各々独立して1価の置換基を表す。ここで1価の置換基とは、水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲンおよびケイ素から選ばれる原子の少なくとも1種からなる置換基である。また、RおよびR、R〜Rのうち任意の2つは、互いに結合して環を形成してもよい。水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン、ケイ素から選ばれる原子の少なくとも1種からなる置換基とは、−H、−F、−Cl、−Br、−I、>C<、=C<、≡C−、−O−、O=、−N<、−N=、≡N、−S−、S=、>S<、≡S≡、−P<、≡P<、>Si<、=Si<、≡Si−およびこれらを組み合わせて形成される1価の置換基である。1価の置換基としては、水素原子、アルキル基〔例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、2-クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリ
ルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N-シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N-フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N-メチルベンゾイルアミノプロピル基、2-オキソエチル基、2-オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N-メチルカルバモイルエチル基、N,N-ジプロピルカルバモイルメチル基、N-(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N-メチル-N-(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N-エチルスルファモイルメチル基、N,N-ジプロピルスルファモイルプロピル基、N-トリルスルファモイルプロピル基、N-メチル-N-(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、p-メチルベンジル基等〕、アリール基〔例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N-フェニルカルバモイルフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等〕、ヘテロアリール基〔例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン等のへテロ環から誘導される基〕、アルケニル基〔例えばビニル基、1-プロペニル基、1-ブテニル基、シンナミル基、アリル基、1-プロペニルメチル基、1-ブテニル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニルメチル基、2-クロロ-1-エテニル基等〕、アルキニル基〔例えば、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等〕、ハロゲン原子〔-F、-Br、-Cl、-I〕、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキルアミノ基、N-アリールアミノ基、N,N-ジアリールアミノ基、N-アルキル-N-アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N-アルキルカルバモイルオキシ基、N-アリールカルバモイルオキシ基、N,N-ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N-ジアリールカルバモイルオキシ基、N-アルキル-N-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N-アルキルアシルアミノ基、N-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′-アルキルウレイド基、N',N'-ジアルキルウレイド基、N'-アリールウレイド基、N',N'-ジアリールウレイド基、N'-アルキル-N'-アリールウレイド基、N-アルキルウレイド基、N-アリールウレイド基、N'-アルキル-N-アルキルウレイド基、N'-アルキル-N-アリールウレイド基、N',N'-ジアルキル-N-アルキルウレイド基、N′,N′-ジアルキル-N-アリールウレイド基、N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アリール-N-アリールウレイド基、N',N'-ジアリール-N-アルキルウレイド基、N′,N′-ジアリ
ール-N-アリールウレイド基、N'-アルキル-N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アルキル-N'-アリール-N-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N-アリーロキシカルボニルアミノ基、N-アリール-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アリール-N-アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイル基、N,N-ジアルキルカルバモイル基、N-アリールカルバモイル基、N,N-ジアリールカルバモイル基、N-アルキル-N-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(-SO3H)およびその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N-アルキルスルフィナモイル基、N,N-ジアルキルスルフィナモイル基、N-アリールスルフィナモイル基、N,アリールスルフィナモイル基、N-アルキル-N-アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N-アルキルスルファモイル基、N,N-ジアルキルスルファモイル基、N-アリールスルファモイル基、N,N-ジアリールスルファモイル基、N-アルキル-N-アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(-PO32)およびその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(-PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(-PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(-PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(-PO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(-PO3H(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(-OPO32)およびその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(-OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(-OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(-OPO3H(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基が好ましく、耐刷性、pH2.0〜6.5の現像液での現像性、汚れ性の観点から水素原子、アルキル基およびアリール基がさらに好ましく、水素原子または、R〜Rの炭素数の合計、Rの炭素数、R〜Rの炭素数の合計およびRの炭素数がそれぞれ1〜12であるアルキル基およびアリール基がさらに好ましい。RおよびRの少なくとも一つ、R3、〜Rのうちの少なくとも1つ、およびRが水素原子であることがさらに好ましい。
Here, in general formulas (1) to (4), R 1 to R 7 each independently represents a monovalent substituent. Here, the monovalent substituent is a substituent consisting of at least one atom selected from hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen and silicon. Further, any two of R 1, R 2 and R 4 to R 6 may be bonded to each other to form a ring. The substituent consisting of at least one atom selected from hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen, and silicon is -H, -F, -Cl, -Br, -I,> C <, = C <, ≡C-, -O-, O =, -N <, -N =, ≡N, -S-, S =,> S <, ≡S≡, -P <, ≡P <,> Si <, ═Si <, ≡Si— and monovalent substituents formed by combining these. Monovalent substituents include hydrogen atoms, alkyl groups [eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl. Group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2 -Methylhexyl, cyclohexyl, cyclopentyl, 2-norbornyl, chloromethyl, bromomethyl, 2-chloroethyl, trifluoromethyl, methoxymethyl, methoxyethoxyethyl, allyloxymethyl, phenoxymethyl Methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, Tylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl Group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-di Propylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group , Phosphonatohexyl group, Diethylphosphonobutyl group, Diphenylphosphonopropyl group, Methylphosphonobutyl group, Methylphosphonobutyl group, Tolylphosphonohexyl group, Tolylphosphonatohexyl group, Phosphonoxypropyl group, Phosphonato Oxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, etc.], aryl group [eg, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group , Xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, Lomophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylamino Phenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group , Phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, etc.), heteroaryl group (for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, Nten, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoir, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, sinoline, pteridine, carbazole , A carboline, a phenanthrine, an acridine, a perimidine, a phenanthroline, a phthalazine, a phenazazine, a phenoxazine, a furan, a group derived from a hetero ring such as phenoxazine, an alkenyl group (for example, a vinyl group, a 1-propenyl group, a 1- Butenyl, cinnamyl, allyl, 1-propenylmethyl, 1-butenyl, 2-methylallyl, 2-methylpropenylmethyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc.], alkynyl For example, an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 2-propynyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group, a 3-butynyl group, a trimethylsilylethynyl group, etc.), a halogen atom [—F, —Br, —Cl, —I ], Hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N , N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkyls Hoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N ′ -Arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N -Alkylurei Group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonyl Amino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkyl Carbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group , a sulfo group (-SO 3 H And its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl Group, N, arylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkylphosphono group (-PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2 ), alkyl aryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl phosphono group (—PO 3 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonateoxy group), dialkyl Phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphine A phonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as an alkylphosphonatooxy group), a monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group ( After that, And a cyano group, a nitro group, and the like. A hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acyl group are preferable, and printing durability , A hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group are more preferable from the viewpoints of developability with a developer having a pH of 2.0 to 6.5 and stain resistance, and a hydrogen atom or the total number of carbon atoms of R 1 to R 2 , R 3 More preferred are alkyl groups and aryl groups in which the total number of carbon atoms in R 4 , R 4 to R 6 , and R 7 have 1 to 12 carbon atoms, respectively. More preferably, at least one of R 1 and R 2 , R 3, at least one of R 4 to R 6 , and R 7 are hydrogen atoms.

一般式(2)及び(4)中、−N=C−は環状構造を構成する。
一般式(2)及び(4)中、−N=C−を含む環状構造としては、好ましくは5〜7員環であり、例えば、ピロリニウム環、イミダゾリウム環、ピラゾリウム環などの5員環構造、ピリジニウム環、キノリニウム環、アクリジニウム環などの6員環構造が挙げられる。
一般式(1)〜(4)中、最も好ましい構造としては一般式(3)である。特に一般式(3)中のR〜Rのうちの1つが水素原子であり、残り2つがアルキル基またはアリール基であることが好ましい。また、残り2つの炭素数の合計が1〜12のアルキル基またはアリール基がさらに好ましい。
In the general formulas (2) and (4), -N + = C- constitutes a cyclic structure.
In general formulas (2) and (4), the cyclic structure containing —N + ═C— is preferably a 5- to 7-membered ring, for example, a 5-membered ring such as a pyrrolium ring, an imidazolium ring, or a pyrazolium ring. Examples thereof include 6-membered ring structures such as a structure, a pyridinium ring, a quinolinium ring, and an acridinium ring.
Among the general formulas (1) to (4), the most preferable structure is the general formula (3). In particular, it is preferable that one of R 4 to R 6 in the general formula (3) is a hydrogen atom, and the remaining two are an alkyl group or an aryl group. Further, an alkyl group or an aryl group having a total of the remaining two carbon atoms of 1 to 12 is more preferable.

また、一般式(1)〜(4)中、Xはアニオンであり、具体例としては、ハロゲンアニオン、ハロゲンオキソ酸アニオン(ClO4 -, IO3 -, BrO3 -, など)、ハロゲノ錯イオン(BF4 -, PF6 -, AlCl4 -, など)、硫酸アニオン、硝酸アニオン、リン酸アニオン、ボレートアニオン、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、ホスホン酸アニオン、金属錯体アニオン([Fe(CN)6]-, など)等が挙げられる。中でも、ハロゲンアニオン、ハロゲノ錯イ
オン、ボレートアニオン、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオンが好ましく、耐刷性、汚れ性の観点からハロゲノ錯イオン、ボレートアニオン、スルホン酸アニオンがさらに好ましい。
In the general formulas (1) to (4), X is an anion. Specific examples thereof include halogen anions, halogen oxoacid anions (ClO 4 , IO 3 , BrO 3 , etc.), halogeno complexes. ion (BF 4 -, PF 6 - , AlCl 4 -, etc.), a sulfate anion, nitrate anion, phosphate anion, a borate anion, a carboxylate anion, sulfonate anion, a phosphonate anion and a metal complex anion ([Fe (CN ) 6 ] - , etc.). Among these, a halogen anion, a halogeno complex ion, a borate anion, a carboxylate anion, and a sulfonate anion are preferable, and a halogeno complex ion, a borate anion, and a sulfonate anion are more preferable from the viewpoint of printing durability and stain resistance.

アンモニウム塩のポリマーへの導入方法は、任意の手法を用いてよいが、例えば、〔化3〕に例示される第4級アンモニウム基含有アクリレート系モノマーを他のビニル系化合物と共重合させる方法、〔化4〕に例示される第3級アミン含有アクリレート系モノマーを他のビニル系化合物と共重合させた後、酸により中和して第3級アンモニウム塩化、あるいは、アルキル化剤により第4級アンモニウム塩化する方法、〔化5〕に例示される第4級アンモニウム基含有ジオール化合物をイソシアネート、カルボン酸、カルボン酸誘導体と共重合させる方法、〔化6〕に例示される第3級アミン含有ジオールをイソシアネート、カルボン酸、カルボン酸誘導体と共重合させた後、酸により中和して第3級アンモニウム塩化、あるいは、アルキル化剤により第4級アンモニウム塩化する方法が挙げられる。
また、導入部位の例としては、上述のようにランダムな側鎖や主鎖への導入、ブロック的な側鎖や主鎖への導入、末端キャップ化しポリマー末端へ導入、マクロモノマーを合成しグラフト化して導入等が挙げられ、現像性の観点から、ランダムやブロックでの主鎖や側鎖への導入、グラフト化しての導入が好ましい。
Any method may be used for introducing the ammonium salt into the polymer. For example, a method of copolymerizing a quaternary ammonium group-containing acrylate monomer exemplified in [Chemical Formula 3] with another vinyl compound, The tertiary amine-containing acrylate monomer exemplified in [Chemical Formula 4] is copolymerized with another vinyl compound, and then neutralized with an acid and quaternary ammonium chloride or quaternary with an alkylating agent. A method of ammonium chloride, a method of copolymerizing a quaternary ammonium group-containing diol compound exemplified in [Chemical Formula 5] with an isocyanate, a carboxylic acid and a carboxylic acid derivative, and a tertiary amine-containing diol exemplified in [Chemical Formula 6] Is copolymerized with isocyanate, carboxylic acid, carboxylic acid derivative, and then neutralized with acid to produce tertiary ammonium chloride or alkyl Quaternary ammonium how to chloride by agents.
Examples of introduction sites include introduction to random side chains and main chains, introduction to block side chains and main chains, end capping and introduction to polymer ends, as described above, synthesis of macromonomers, grafting From the viewpoint of developability, introduction into a main chain or side chain in a random or block manner or introduction after grafting is preferable.

酸により中和して第三級アンモニウム塩とするために用いられる酸の具体例としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等のハロゲン化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、炭酸等の鉱酸、テトラフルオロホウ酸、ペンタフルオロリン酸等のハロゲノ酢イオン、過塩素酸等のハロゲンオキソ酸、安息香酸、2,5−ジクロロ安息香酸、3,5−ジクロロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、4−メトキシ安息香酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、4−ブロモ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジエチルアミノ安息香酸、1−ナフトエ酸、4−ニトロ安息香酸、4−フェニル安息香酸、トルイル酸、ベンゾイル蟻酸、酢酸、tert-ブチル酢酸、ラウリル酸、ベヘン酸、ステアリル酸、ノナン酸、3−シクロヘキサンブタン酸、等のカルボン酸、4-アミノ−1−ナフタレンスルホン酸、2−ナフタレンスルホン酸、2,4,5−トリクロロベンゼンスルホン酸、ダンシル酸、p−キシレン−2−スルホン酸、2,4−ジニトロベンゼン酸メタンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、4−ニトロベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、4−エチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、アミノエタンスルホン酸、2−シクロヘキシルアミノエタンスルホン酸、(+)-10−カンファースルホン酸、3−ヒドロキシプロパンスルホン酸、等のスルホン酸、硫酸水素2−アミノエチル等のアルキル硫酸、エチルホスフェート、ブチルホスフェート、ジブチルホスフェート、フェニルホ
スホン酸等のリン酸等が挙げられる。その中でも、画像形成の安定性の観点から、不揮発性のカルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸が好ましい。また、耐刷性の観点から中和酸のlogP値は、6以下、好ましくは4以下、さらに好ましくは2以下を有していることが望ましい(ここで、logP値とは、分配係数P(Partition Coefficient)の常用対数を意味し、ある有機化合物が油(一般的には 1−オクタノール)と水の2相系の平衡でどのように分配されるかを定量的な数値として表す物性値であるlogP=log(Coil/Cwater) Coil=油相中のモル濃度 Cwater=水相中のモル濃度)。また、感度の観点から、中和酸のpKaは、−5〜8であることが好ましく、−3〜6であることが更に好ましく、−1〜4であることが更に好ましい。これらを満たす中和酸の具体例として、安息香酸、2,5−ジクロロ安息香酸、3,5−ジクロロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、ベンゾイル蟻酸、ラウリル酸のカルボン酸、2−ナフタレンスルホン酸、2,4,5−トリクロロベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、4−エチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、(+)-10−カンファースルホン酸のスルホン酸が更に好ましい。
Specific examples of acids used to neutralize with acids to form tertiary ammonium salts include hydrohalic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, carbonic acid Mineral acids such as tetrafluoroboric acid and pentafluorophosphoric acid, halogen oxo acids such as perchloric acid, benzoic acid, 2,5-dichlorobenzoic acid, 3,5-dichlorobenzoic acid, pentafluoro Benzoic acid, 4-methoxybenzoic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, 4-bromobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-diethylaminobenzoic acid, 1-naphthoic acid, 4-nitrobenzoic acid, 4-phenyl Carboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, benzoylformic acid, acetic acid, tert-butylacetic acid, lauric acid, behenic acid, stearyl acid, nonanoic acid, 3-cyclohexanebutanoic acid, etc. 4-amino-1-naphthalenesulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, 2,4,5-trichlorobenzenesulfonic acid, dansylic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, 2,4-dinitrobenzene acid methanesulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, 4-nitrobenzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, amino Ethanesulfonic acid, 2-cyclohexylaminoethanesulfonic acid, (+)-10-camphorsulfonic acid, sulfonic acid such as 3-hydroxypropanesulfonic acid, alkyl sulfuric acid such as 2-aminoethyl hydrogensulfate, ethyl phosphate, butyl phosphate Dibutylphos Eto, and the like phosphoric acids such as phenyl phosphonic acid. Among these, nonvolatile carboxylic acid, sulfonic acid, and phosphonic acid are preferable from the viewpoint of image formation stability. From the viewpoint of printing durability, the log P value of the neutralized acid is preferably 6 or less, preferably 4 or less, and more preferably 2 or less (here, the log P value is the distribution coefficient P ( This is a common logarithm of (Partition Coefficient). It is a physical property value that expresses how an organic compound is distributed in the equilibrium of a two-phase system of oil (generally 1-octanol) and water as a quantitative value. Log P = log (Coil / Cwater) Coil = Molar concentration in oil phase Cwater = Molar concentration in water phase) From the viewpoint of sensitivity, the pKa of the neutralizing acid is preferably -5 to 8, more preferably -3 to 6, and further preferably -1 to 4. Specific examples of the neutralizing acid satisfying these include benzoic acid, 2,5-dichlorobenzoic acid, 3,5-dichlorobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, benzoylformic acid, lauric acid carboxylic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, 2,4,5-trichlorobenzenesulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, ethanesulfonic acid, More preferred are propanesulfonic acid and (+)-10-camphorsulfonic acid sulfonic acid.

更に、アリルオキシプロピオン酸、アクリルアミドヘキサン酸、3−ブテン酸、アクリル酸、メタクリル酸、2−アクリロイロキシエチルフタル酸、2−アクリロイロキシエチルコハク酸、2−メタクリロイロキシエチルフタル酸、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、4−ビニル安息香酸、等のラジカル重合性不飽和二重結合を有するカルボン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、4−ビニルベンゼンスルホン酸等のラジカル重合性不飽和二重結合を有するスルホン酸は、感度と耐刷性の観点から更に好ましい。   Furthermore, allyloxypropionic acid, acrylamide hexanoic acid, 3-butenoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl phthalic acid, 2 -Carboxylic acids having radically polymerizable unsaturated double bonds such as methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 4-vinylbenzoic acid, etc. A sulfonic acid having a radically polymerizable unsaturated double bond such as 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid or 4-vinylbenzenesulfonic acid is more preferable from the viewpoints of sensitivity and printing durability.

また、アルキル化剤により第四級アンモニウム塩とするために用いられるアルキル化剤としては、塩素化物(R−Cl)、臭素化物(R−Br)、ヨウ素化物(R−1)、硫酸エステル(R’O−SO2−OR’)、スルホン酸エステル(R’−SO2−OR)等が包含される。これらのアルキル化剤の具体例としては、ジアルキル硫酸、パラトルエンスルホン酸アルキル、アルキル−トリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホン酸アルキル(トリフラート)、メタンスルホン酸アルキル(メシラート)等が挙げられる。このようなアルキル化剤の具体例としては、クロロメタン、クロロ酢酸、、クロロプロピオン酸、ヨードメタン、1−ヨードエタン、1−ヨードオクタン、ブロモメタン、1−ブロモエタン、1−ブロモヘキサン、3−ブロモプロピオン酸n−メチル、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジブチル硫酸、ジアミル硫酸、ジヘキシル硫酸、ジオクチル硫酸、p−トルエンスルホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸エチル、p−トルエンスルホン酸n−ヘキシル、p−トルエンスルホン酸n−オクチル、メタンスルホン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸n−ヘキシル、などが挙げられ、ヨードメタン、1−ヨードエタン、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、p−トルエンスルホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸メチルが4級アンモニウム塩の疎水性およびカウンターアニオンの観点から好ましい。 Moreover, as an alkylating agent used in order to make a quaternary ammonium salt with an alkylating agent, a chlorinated product (R-Cl), a brominated product (R-Br), an iodinated product (R-1), a sulfate ester ( R′O—SO 2 —OR ′), sulfonic acid ester (R′—SO 2 —OR) and the like. Specific examples of these alkylating agents include dialkyl sulfuric acid, alkyl paratoluenesulfonate, alkyl-trifluoromethanesulfonate, alkyl trifluoromethanesulfonate (triflate), alkyl methanesulfonate (mesylate) and the like. Specific examples of such alkylating agents include chloromethane, chloroacetic acid, chloropropionic acid, iodomethane, 1-iodoethane, 1-iodooctane, bromomethane, 1-bromoethane, 1-bromohexane, 3-bromopropionic acid. n-methyl, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, dibutyl sulfate, diamyl sulfate, dihexyl sulfate, dioctyl sulfate, methyl p-toluenesulfonate, ethyl p-toluenesulfonate, n-hexyl p-toluenesulfonate, p-toluenesulfonic acid n-octyl, methyl methanesulfonate, ethyl methanesulfonate, n-hexyl methanesulfonate, and the like. Iodomethane, 1-iodoethane, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, methyl p-toluenesulfonate, p-toluenesulfonic acid Ethyl, methane Methyl sulfonic acid are preferable from the viewpoint of hydrophobicity and counter anion of quaternary ammonium salt.

一方、主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーにおけるアミノ基としては、1級、2級、3級のアミノ基であれば任意の基を用いることができ、生成物の保存安定性および画像形成感度の再現性の観点から3級アミノ基であることが好ましい。導入方法は任意の方法でよいが、具体的には、前記した[化4]記載の不飽和二重結合を有するモノマーを共重合させる方法や、[化6]のジオール化合物を共重合させる方法などにより導入することができる。
本発明のように、主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子お
よび少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーを作成する方法は、上記のような方法を用いることで達成することができるが、特に好ましい方法としては、側鎖にアミノ基を有するバインダーポリマーを酸で中和して、一部のアミノ基をアンモニウム塩基にする方法である。アミノ基としては3級アミノ基を用いることが好ましく、酸で中和して一部をアンモニウム塩基にすることが好ましい。
On the other hand, the amino group in the binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain may be any primary, secondary or tertiary amino group. In view of the storage stability of the product and the reproducibility of image formation sensitivity, a tertiary amino group is preferable. The introduction method may be any method, but specifically, a method of copolymerizing the monomer having an unsaturated double bond described in [Chemical Formula 4] or a method of copolymerizing the diol compound of [Chemical Formula 6] Etc. can be introduced.
As in the present invention, a method for producing a binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain is achieved by using the method as described above. However, a particularly preferable method is a method in which a binder polymer having an amino group in the side chain is neutralized with an acid to convert some amino groups into an ammonium base. As the amino group, a tertiary amino group is preferably used, and it is preferable to neutralize with an acid to make a part thereof an ammonium base.

このような特定バインダーポリマーの骨格構造としては、主鎖および/または側鎖に前記一般式(1)〜(4)で表される構造より選択される基を少なくとも1つ有している任意の高分子化合物であるのが好ましいが、連鎖重合系樹脂としては、(メタ)アクリル樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、逐次重合系樹脂としては、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレア樹脂から選ばれる高分子化合物が好ましく、合成適性、膜物性、耐刷性、現像性の観点から、連鎖重合系樹脂では、(メタ)アクリル樹脂、スチレン系樹脂が、逐次重合系樹脂としては、ポリウレタン樹脂がさらに好ましい。   As the skeleton structure of such a specific binder polymer, any structure having at least one group selected from the structures represented by the general formulas (1) to (4) in the main chain and / or the side chain. Although it is preferably a polymer compound, as the chain polymerization resin, (meth) acrylic resin, styrene resin, epoxy resin, polyvinyl acetal resin, sequential polymerization resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, Polymer compounds selected from polyurea resins are preferred. From the viewpoint of synthesis suitability, film properties, printing durability, and developability, (meth) acrylic resins and styrene resins are chain polymerization resins, and sequential polymerization resins are A polyurethane resin is more preferable.

本発明の特定バインダーポリマーは、前記一般式(1)〜(4)で表される構造より選択される基を少なくとも1つ有する化合物と、前記一般式(1)〜(4)で表される構造をもたないその他の共重合可能な化合物との共重合体であってもよい。かかる共重合可能な化合物のうち連鎖重合系化合物としては、下記(m1)〜(m11)に挙げる化合物を例示することができる。   The specific binder polymer of the present invention is represented by a compound having at least one group selected from the structures represented by the general formulas (1) to (4) and the general formulas (1) to (4). It may be a copolymer with another copolymerizable compound having no structure. Of the copolymerizable compounds, examples of the chain polymerization compound include the compounds listed in the following (m1) to (m11).

(m1)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド。
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(M1) For example, acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.

また、前記一般式(1)〜(4)で表される構造より選択される基を少なくとも1つ有する化合物と共重合可能な逐次重合系化合物の例としては、以下にあげる二官能性の化合物(ジアミン化合物、ジカルボン酸またはその誘導体、ジイソシアネート化合物、ジオール化合物)がある。   Examples of the sequential polymerization compound copolymerizable with a compound having at least one group selected from the structures represented by the general formulas (1) to (4) include the following bifunctional compounds: (Diamine compounds, dicarboxylic acids or derivatives thereof, diisocyanate compounds, diol compounds).

ジアミン化合物としては、以下に示すものを例として挙げる事ができる。
エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,2−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,2−ジアミノ−2−メチルプロパン、1,5−ジアミノペンタン、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,10−ジアミノデセン、4,4' −メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、2,2' −(エチレンジオキシ)−ビス(エチレンアミン)、4,7,10−トリオキサ−1,13−トリデカンジアミン、などの脂肪族ジアミン、1,2−フェニレンジアミン、2,3−ジアミノトルエン、3,4−ジアミノトルエン、4−クロロ−1,2−フェニレンジアミン、4,5−ジメチル−1,2−フェニレンジアミン、4,5−ジクロロ−1,2−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、2,6−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノトルエン、2,4,6−トリメチル−1,3−フェニレンジアミン、1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジメチル−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジクロロ−1,4−フェニレンジアミン、4,4‘−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジアミン、2,3−ジアミノナフタレン、1,5―ジアミノナフタレン、p−キシレンジアミン、4−アミノベンジルアミン、2−(4−アミノフェニル)エチレンアミン、ビス(4−アミノフェニルメタン)、ビス(4−アミノフェニル)エーテルなどの芳香族ジアミン等が挙げられ、中でも、芳香族を有するジアミン化合物、炭素数2〜10の脂肪族ジアミン化合物が特に好ましい。
Examples of the diamine compound include those shown below.
Ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,2-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,2-diamino-2-methylpropane, 1,5-diaminopentane, 2,2-dimethyl-1,3 -Propanediamine, hexamethylenediamine, 1,7-diaminoheptane, 1,8-diaminooctane, 1,10-diaminodecene, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), 1,2-diaminocyclohexane, 1,4 -Aliphatic diamines such as diaminocyclohexane, isophorone diamine, 2,2 '-(ethylenedioxy) -bis (ethyleneamine), 4,7,10-trioxa-1,13-tridecanediamine, 1,2- Phenylenediamine, 2,3-diaminotoluene, 3,4-diaminotoluene, 4-chloro-1,2 -Phenylenediamine, 4,5-dimethyl-1,2-phenylenediamine, 4,5-dichloro-1,2-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 2,6-diaminotoluene, 2,4-diaminotoluene 2,4,6-trimethyl-1,3-phenylenediamine, 1,4-phenylenediamine, 2,5-dimethyl-1,4-phenylenediamine, 2,5-dichloro-1,4-phenylenediamine, 4, , 4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diamine, 2,3-diaminonaphthalene, 1,5-diaminonaphthalene, p-xylenediamine, 4-aminobenzylamine, 2- (4-aminophenyl) ethyleneamine, bis ( Aromatic diamines such as 4-aminophenylmethane) and bis (4-aminophenyl) ether, etc. Of these, aromatic diamine compounds and aliphatic diamine compounds having 2 to 10 carbon atoms are particularly preferable.

ジカルボン酸またはその誘導体としては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブロモフタル酸、テトラクロロフタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、カルボキシノルボルナン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、4−ヒドロキシベンジリデンマロン酸、3−ヒドロキシフタル酸などのジカルボン酸またはその誘導体等が挙げられ、中でも、芳香族を有するジカルボン酸またはその誘導体、炭素数2〜10の脂肪族ジカルボン酸またはその誘導体が特に好ましい。   Dicarboxylic acids or their derivatives include succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrabromophthalic acid, tetrachlorophthalic acid, 1, Examples include 4-cyclohexanedicarboxylic acid, carboxynorbornanoic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, 4-hydroxybenzylidene malonic acid, 3-hydroxyphthalic acid and other dicarboxylic acids or derivatives thereof. Among them, dicarboxylic acids having aromaticity or A derivative thereof, an aliphatic dicarboxylic acid having 2 to 10 carbon atoms or a derivative thereof is particularly preferred.

本発明に係る特定ポリアミド樹脂は、例えば「新高分子実験学3 高分子の合成・反応(2)」高分子学会 編 共立出版株式会社発行に記載されている方法により容易に製造することができる。   The specific polyamide resin according to the present invention can be easily produced by, for example, a method described in “New Polymer Experiments 3 Synthesis and Reaction of Polymer (2)” published by Kyoritsu Shuppan Co., Ltd.

ジイソシアネート化合物としては、一般式(5)で表される。ジオール化合物としては、一般式(6)で表され、一般式(5)および(6)中、X0、Y0は、それぞれ独立に2価の有機残基を表す。 As a diisocyanate compound, it represents with General formula (5). The diol compound is represented by the general formula (6). In the general formulas (5) and (6), X 0 and Y 0 each independently represent a divalent organic residue.

OCN−X0−NCO (5)
HO−Y0−OH (6)
OCN-X 0 -NCO (5)
HO-Y 0 -OH (6)

上記一般式(5)で表されるジイソシアネート化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。 すなわち、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジ
イソシアネートの二量体、2,6−トリレンジレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシアネート化合物; ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のような脂肪族ジイソシアネート化合物; イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(または2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等のような脂環族ジイソシアネート化合物; 1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等のようなジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物;等が挙げられる。
Specific examples of the diisocyanate compound represented by the general formula (5) include those shown below. That is, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate dimer, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate Aromatic diisocyanate compounds such as 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer acid diisocyanate, etc. Aliphatic diisocyanate compounds; isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate A cycloaliphatic diisocyanate compound such as 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane; a reaction product of a diol and a diisocyanate such as an adduct of 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate A diisocyanate compound; and the like.

上記一般式(6)で表されるジオール化合物としては、広くは、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物等が挙げられる。   Examples of the diol compound represented by the general formula (6) include a polyether diol compound, a polyester diol compound, and a polycarbonate diol compound.

ポリエーテルジオール化合物としては、下記式(7)、(8)、(9)、(10)、(11)で表される化合物、および、末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのランダム共重合体が挙げられる。   Examples of the polyether diol compound include compounds represented by the following formulas (7), (8), (9), (10) and (11), and random copolymerization of ethylene oxide and propylene oxide having a hydroxyl group at the terminal. Coalescence is mentioned.

式(7)〜(11)中、R14は水素原子またはメチル基を表し、X1は、以下の基を表
す。また、a、b、c、d、e、fおよびgは、それぞれ2以上の整数を表し、好ましくは2〜100の整数である。
In formulas (7) to (11), R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group, and X 1 represents the following group. A, b, c, d, e, f and g each represent an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 100.

上記式(7)、(8)で表されるポリエーテルジオール化合物としては具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ヘキサエチレングリコール、ヘプタエチレングリコール、オクタエチレングリコール、ジ−1,2−プロピレングリコー
ル、トリ−1,2−プロピレングリコール、テトラ−1,2−プロピレングリコール、ヘキサ−1,2−プロピレングリコール、ジ−1,3−プロピレングリコール、トリ−1,3−プロピレングリコール、テトラ−1,3−プロピレングリコール、ジ−1,3−ブチレングリコール、トリ−1,3−ブチレングリコール、ヘキサ−1,3−ブチレングリコール、質量平均分子量1000のポリエチレングリコール、質量平均分子量1500のポリエチレングリコール、質量平均分子量2000のポリエチレングリコール、質量平均分子量3000のポリエチレングリコール、質量平均分子量7500のポリエチレングリコール、質量平均分子量400のポリプロピレングリコール、質量平均分子量700のポリプロピレングリコール、質量平均分子量1000のポリプロピレングリコール、質量平均分子量2000のポリプロピレングリコール、質量平均分子量3000のポリプロピレングリコール、質量平均分子量4000のポリプロピレングリコール等である。
Specific examples of the polyether diol compound represented by the above formulas (7) and (8) include the following. That is, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, pentaethylene glycol, hexaethylene glycol, heptaethylene glycol, octaethylene glycol, di-1,2-propylene glycol, tri-1,2-propylene glycol, tetra-1, 2-propylene glycol, hexa-1,2-propylene glycol, di-1,3-propylene glycol, tri-1,3-propylene glycol, tetra-1,3-propylene glycol, di-1,3-butylene glycol, Tri-1,3-butylene glycol, hexa-1,3-butylene glycol, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 1000, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 1500, poly having a weight average molecular weight of 2,000 Tylene glycol, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 3000, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 7500, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 400, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 700, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 1000, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 2000 , Polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 3000, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 4000, and the like.

上記式(9)で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。
すなわち、三洋化成工業(株)製、(商品名)PTMG650、PTMG1000、PTMG2000、PTMG3000等である。
Specific examples of the polyether diol compound represented by the formula (9) include those shown below.
That is, Sanyo Chemical Industries, Ltd. (trade name) PTMG650, PTMG1000, PTMG2000, PTMG3000, and the like.

上記式(10)で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業(株)製、(商品名)ニューポールPE−61、ニューポールPE−62、ニューポールPE−64、ニューポールPE−68、ニューポールPE−71、ニューポールPE−74、ニューポールPE−75、ニューポールPE−78、ニューポールPE−108、ニューポールPE−128、ニューポールPE−61等である。   Specific examples of the polyether diol compound represented by the formula (10) include those shown below. That is, Sanyo Chemical Industries, Ltd. (trade name) New Pole PE-61, New Pole PE-62, New Pole PE-64, New Pole PE-68, New Pole PE-71, New Pole PE-74, New Pole PE-75, New Pole PE-78, New Pole PE-108, New Pole PE-128, New Pole PE-61, and the like.

上記式(11)で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。
すなわち、三洋化成工業(株)製、(商品名)ニューポールBPE−20、ニューポールBPE−20F、ニューポールBPE−20NK、ニューポールBPE−20T、ニューポールBPE−20G、ニューポールBPE−40、ニューポールBPE−60、ニューポールBPE−100、ニューポールBPE−180、ニューポールBPE−2P、ニューポールBPE−23P、ニューポールBPE−3P、ニューポールBPE−5P等である。
Specific examples of the polyether diol compound represented by the formula (11) include those shown below.
That is, Sanyo Chemical Industries, Ltd. (trade name) New Pole BPE-20, New Pole BPE-20F, New Pole BPE-20NK, New Pole BPE-20T, New Pole BPE-20G, New Pole BPE-40, New Pole BPE-60, New Pole BPE-100, New Pole BPE-180, New Pole BPE-2P, New Pole BPE-23P, New Pole BPE-3P, New Pole BPE-5P, and the like.

末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのランダム共重合体としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業(株)製、(商品名)ニューポール50HB−100、ニューポール50HB−260、ニューポール50HB−400、ニューポール50HB−660、ニューポール50HB−2000、ニューポール50HB−5100等である。   Specific examples of the random copolymer of ethylene oxide and propylene oxide having a hydroxyl group at the terminal include the following. That is, Sanyo Chemical Industries, Ltd. (trade name) New Pole 50HB-100, New Pole 50HB-260, New Pole 50HB-400, New Pole 50HB-660, New Pole 50HB-2000, New Pole 50HB-5100, etc. It is.

ポリエステルジオール化合物としては、式(12)、(13)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the polyester diol compound include compounds represented by formulas (12) and (13).

式(12)、(13)中、L2、L3およびL4ではそれぞれ同一でも相違してもよく2
価の脂肪族または芳香族炭化水素基を表し、L5は2価の脂肪族炭化水素基を表す。好ま
しくは、L2〜L4は、それぞれアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリレン基を表し、L5はアルキレン基を表す。またL2〜L5中にはイソシアネート基と反応し
ない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。n1、n2はそれぞれ2以上の整数であり、好ましくは2〜100の整数を表す。
In formulas (12) and (13), L 2 , L 3 and L 4 may be the same or different.
Represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and L 5 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group. Preferably, L 2 to L 4 each represent an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, or an arylene group, and L 5 represents an alkylene group. In addition, other functional groups that do not react with the isocyanate group, such as ether, carbonyl, ester, cyano, olefin, urethane, amide, ureido group or halogen atom may be present in L 2 to L 5 . n1 and n2 are each an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 100.

ポリカーボネートジオール化合物としては、式(14)で表される化合物がある。   As the polycarbonate diol compound, there is a compound represented by the formula (14).

式(14)中、L6はそれぞれ同一でも相違してもよく2価の脂肪族または芳香族炭化
水素基を表す。好ましくは、L6はアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、ア
リレン基を表す。またL6中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエー
テル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。n3は2以上の整数であり、好ましくは2〜l00の整数を表す。
In the formula (14), L 6 may be the same or different and each represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group. Preferably, L 6 represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group or an arylene group. In addition, other functional groups that do not react with the isocyanate group, such as ether, carbonyl, ester, cyano, olefin, urethane, amide, ureido group or halogen atom may be present in L 6 . n3 is an integer of 2 or more, and preferably represents an integer of 2 to 100.

上記式(12)、(13)または(14)で表されるジオール化合物としては具体的には以下に示す(例示化合物No.1)〜(例示化合物No.18)が含まれる。具体例中のnは2以上の整数を表す。   Specific examples of the diol compound represented by the above formula (12), (13) or (14) include (Exemplary Compound No. 1) to (Exemplary Compound No. 18) shown below. N in the specific examples represents an integer of 2 or more.

さらに特定バインダーポリマーに、画像部の被膜強度を向上するために架橋性を持たせることができる。特定バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。   Furthermore, the specific binder polymer can be provided with a crosslinking property in order to improve the film strength of the image area. In order to give the specific binder polymer crosslinkability, a crosslinkable functional group may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.

ここで架橋性官能基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こるラジカル重合反応の過程でバインダーポリマーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性官能基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下記一般式(i)〜(iii)で表される官能基が特に好ましい。   Here, the crosslinkable functional group is a group that crosslinks the binder polymer in the process of radical polymerization reaction that occurs in the photosensitive layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an epoxy group, etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, As such a crosslinkable functional group, a thiol group, a halogen group, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Especially, an ethylenically unsaturated bond group is preferable and the functional group represented by the following general formula (i)-(iii) is especially preferable.


上記一般式(i)において、Rl〜R3はそれぞれ独立に、水素原子または1価の有機基を表すが、R1としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基
などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。また、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
In the general formula (i), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl which may have a substituent. A hydrogen atom or a methyl group is preferable because of high radical reactivity. R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an optionally substituted alkyl group, or a substituted group. An aryl group that may have a group, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

Xは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子、または1価の有機基を表す。ここで、1価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、R12は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。 X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. Here, examples of the monovalent organic group include an alkyl group which may have a substituent. Among them, R 12 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or an isopropyl group having a high radical reactivity. This is preferable.

ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。   Here, examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, A sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and the like can be mentioned.

上記一般式(ii)において、R4〜R8は、それぞれ独立に水素原子または1価の有機基を表すが、R4〜R8は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。 In the general formula (ii), R 4 to R 8 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R 4 to R 8 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, or a dialkyl. Amino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group which may have a substituent, aryl group which may have a substituent, alkoxy which may have a substituent A group, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, an arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, Examples include an arylsulfonyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl which may have a substituent Group is preferred.

導入し得る置換基としては、一般式(i)と同様のものが例示される。また、Yは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表す。R12は、一般式(i)のR12の場合と同義であり、好ましい例も同様である。 Examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (i). Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 has the same meaning as R 12 in formula (i), and preferred examples are also the same.

上記一般式(iii)において、R9としては、水素原子または1価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。R10、R11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。 In the general formula (iii), R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and preferably includes a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom A methyl group is preferred because of high radical reactivity. R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an alkyl group which may have a substituent. An aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, An arylamino group which may have, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, etc. are mentioned, among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

ここで、導入し得る置換基としては、一般式(i)と同様のものが例示される。また、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−、または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。 Here, examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (i). Further, Z is an oxygen atom, a sulfur atom, -N (R 13) -, or a phenylene group which may have a substituent. Examples of R 13 include an alkyl group which may have a substituent. Among them, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.

架橋性を有する特定バインダーポリマーとしては、上記の中でも、側鎖に架橋性官能基を有する(メタ)アクリル酸共重合体およびポリウレタンがより好ましい。   Among the above, the specific binder polymer having crosslinkability is more preferably a (meth) acrylic acid copolymer having a crosslinkable functional group in the side chain and polyurethane.

架橋性を有する特定バインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、架橋性官能基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   The specific binder polymer having crosslinkability is, for example, a free radical (polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of a polymerizable compound) is added to the crosslinkable functional group, and the polymerization chain of the polymerizable compound is directly between the polymers. Addition polymerization is carried out to form a cross-link between polymer molecules and cure. Alternatively, atoms in the polymer (for example, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the crosslinkable functional group) are extracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other, thereby causing crosslinking between polymer molecules. Forms and cures.

特定バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。特定バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。   The specific binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1000 or more, preferably 2000 to 250,000. Is more preferable. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10. The specific binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

特定バインダーポリマーは、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。   The specific binder polymer may be used alone or in combination of two or more.

特定バインダー中、正に荷電した窒素原子を有する繰返し単位(好ましくは一般式(1)〜(4)で表される構造を有する繰返し単位)として、特定バインダーを構成する全繰り返し単位に対し、0.1〜90モル%含むことが好ましく、3〜50モル%含むことがより好ましく、5〜30モル%含むことが更に好ましい。また、アミノ基を有する繰り返し単位としては、0.01〜90モル%含むことが好ましく、0.1〜50モル%含むことがより好ましく、1〜30モル%含むことが更に好ましい。   In the specific binder, a repeating unit having a positively charged nitrogen atom (preferably a repeating unit having a structure represented by the general formulas (1) to (4)) is 0 for all the repeating units constituting the specific binder. It is preferable to contain 1 to 90 mol%, more preferably 3 to 50 mol%, still more preferably 5 to 30 mol%. Moreover, as a repeating unit which has an amino group, it is preferable to contain 0.01-90 mol%, it is more preferable to contain 0.1-50 mol%, and it is still more preferable to contain 1-30 mol%.

特定バインダーポリマーの含有量は、感光層の全固形分に対して、5〜90質量%が好
ましく、10〜70質量%であるのがより好ましく、10〜60質量%であるのがさらに好ましい。
The content of the specific binder polymer is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and still more preferably 10 to 60% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer.

一般式(1)〜(4)で表される構造を繰返し単位として含む特定バインダーポリマーの具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
表中の質量平均分子量(Mw)はポリスチレンを標準物質としたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定したものである。
また、PB−1〜103において、化合物と共に記載される数値は各構成成分の反応比(モル%)である。また、表中、例えば「PPG1000」とは、平均分子量1000のポリプロピレングリコールを表す。
Specific examples of the specific binder polymer containing the structures represented by the general formulas (1) to (4) as repeating units are listed below, but are not limited thereto.
The mass average molecular weight (Mw) in the table is measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.
In PB-1 to 103, the numerical value described together with the compound is the reaction ratio (mol%) of each constituent component. In the table, for example, “PPG1000” represents polypropylene glycol having an average molecular weight of 1000.

以下に、本発明の特定バインダーポリマーの合成例を示す。   Below, the synthesis example of the specific binder polymer of this invention is shown.

<例示化合物(PA−1)の合成>
コンデンサーおよび撹拌機を取り付けた500mL三口フラスコに、1-メトキシ−2−プロパノール135gを入れ70℃に加熱した。窒素気流下、アクリル酸メチル25.83g、3−(メタクリロイロキシ)プロピルトリメチルアンモニウムクロリド33.26g、3−ジメチルアミノプロピルメタクリレート8.56g、V−65(商品名:和光純薬製重合開始剤)0.62
gを1-メトキシ-2-プロパノール135gで溶解した溶液を2時間半かけて滴下した。さらに70℃で2時間反応させた。次に反応溶液を水に投じ、共重合体を析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、バインダーポリマー(PA−1)を得た。目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPCから確認した。
<Synthesis of Exemplary Compound (PA-1)>
A 500 mL three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 135 g of 1-methoxy-2-propanol and heated to 70 ° C. Under nitrogen flow, methyl acrylate 25.83 g, 3- (methacryloyloxy) propyltrimethylammonium chloride 33.26 g, 3-dimethylaminopropyl methacrylate 8.56 g, V-65 (trade name: Wako Pure Chemical Co., Ltd. polymerization initiator) 0.62
A solution prepared by dissolving g in 135 g of 1-methoxy-2-propanol was added dropwise over 2.5 hours. The mixture was further reacted at 70 ° C. for 2 hours. Next, the reaction solution was poured into water to precipitate a copolymer. This was collected by filtration, washed and dried to obtain a binder polymer (PA-1). It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum, and GPC that the product was the object.

<例示化合物(PB−71)の合成>
コンデンサーおよび攪拌機を取り付けた500mL三口フラスコに、MEK 56g、ポリプロピレングリコール(平均分子量1000)20.00g、3-(N,N-ジエチルアミノ)-1,2-プロパンジオール7.36g、ブレンマーGLM(日本油脂社製)4.81g、4,4’-ジイソシアン酸メチレンジフェニル20.62g、ジイソシアン酸ヘキサメチレン3.46g、2,5-ジ-tert-ブチルベンゾキノン0.0442gを導入し、反応液を50℃とし、均一溶液とした。該反応溶液にネオスタン(日東化成(株)製:ビスマス触媒)を2滴追加し、70℃、2時間反応させた。反応溶液にメタノール3.00gを投入し、反応をクエンチした後、MEK75g、MFG94g、およびカンファースルホン酸9.29gを添加した。反応溶液を水10Lにあけ、ポリウレタンを析出させた。これを濾取。洗浄、乾燥し、バインダーポリマー(PB−71)を得た。目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPCから確認した。
<Synthesis of Exemplary Compound (PB-71)>
In a 500 mL three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 56 g of MEK, 20.00 g of polypropylene glycol (average molecular weight 1000), 7.36 g of 3- (N, N-diethylamino) -1,2-propanediol, BLEMMER GLM (manufactured by NOF Corporation) ) 4.81 g, 20.62 g of methylenediphenyl 4,4′-diisocyanate, 3.46 g of hexamethylene diisocyanate, 0.0442 g of 2,5-di-tert-butylbenzoquinone were introduced, and the reaction solution was brought to 50 ° C. to obtain a homogeneous solution. . Two drops of Neostan (manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd .: bismuth catalyst) were added to the reaction solution and reacted at 70 ° C. for 2 hours. Methanol (3.00 g) was added to the reaction solution to quench the reaction, and then MEK (75 g), MFG (94 g), and camphorsulfonic acid (9.29 g) were added. The reaction solution was poured into 10 L of water to precipitate polyurethane. This is filtered. Washing and drying were performed to obtain a binder polymer (PB-71). It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum, and GPC that the product was the object.

(エチレン性不飽和結合を有する化合物)
本発明における感光層に用いるエチレン性不飽和結合を有する化合物(以下、重合性化合物ともいう)は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの共重合体、またはそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(Compound having an ethylenically unsaturated bond)
The compound having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter also referred to as a polymerizable compound) used in the photosensitive layer in the invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is terminally ethylenically unsaturated. It is selected from compounds having at least one bond, preferably two or more bonds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or copolymers thereof, or mixtures thereof. Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. An ester of an acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビト
ールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) There are modified triacrylates, polyester acrylate oligomers and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59- Those having an aromatic skeleton described in JP-A No. 5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.
Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups Etc.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. 17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も考慮され得る。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount and the like can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.), the selection and use method of the polymerizable compound is an important factor. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or using two or more of them together. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later. In addition, the use method of the polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. The layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be considered.

上記の重合性化合物は、感光層の全固形分に対して、好ましくは5〜75質量%、更に好ましくは25〜70質量%、特に好ましくは30〜60質量%の範囲で使用される。   The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 75% by mass, more preferably 25 to 70% by mass, and particularly preferably 30 to 60% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer.

(重合開始剤)
本発明の感光層には重合開始剤(以下、開始剤化合物とも称する)を含有する。開始剤化合物は増感色素の電子励起状態に起因する電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用をうけて、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基から選択される少なくとも1種を生成する化合物である。以下、このようにして生じたラジカル、酸、塩基を単に活性種と呼ぶ。開始剤化合物が存在しない場合や、開始剤化合物のみを単独で用いた場合には、実用上十分な感度が得られない。増感色素と開始剤化合物を併用する一つの態様として、これらを、適切な化学的方法(増感色素と開始剤化合物との化学結合による連結等)によって単一の化合物として利用することも可能である。
(Polymerization initiator)
The photosensitive layer of the present invention contains a polymerization initiator (hereinafter also referred to as an initiator compound). The initiator compound is a compound that undergoes a chemical change through the action of electron transfer, energy transfer, heat generation, etc. caused by the electronic excitation state of the sensitizing dye, and generates at least one selected from radicals, acids, and bases. is there. Hereinafter, radicals, acids, and bases generated in this way are simply referred to as active species. When the initiator compound is not present or when only the initiator compound is used alone, practically sufficient sensitivity cannot be obtained. As one mode in which a sensitizing dye and an initiator compound are used in combination, they can be used as a single compound by an appropriate chemical method (such as linking a sensitizing dye and an initiator compound through a chemical bond). It is.

通常これらの開始剤化合物の多くは、次の(1)から(3)に代表される初期化学プロセスをへて、活性種を生成するものと考えられる。即ち、(1)増感色素の電子励起状態から開始剤化合物への電子移動反応に基づく、開始剤化合物の還元的分解、(2)開始剤化合物から増感色素の電子励起状態への電子移動に基づく、開始剤化合物の酸化的分解、(3)増感色素の電子励起状態から開始剤化合物へのエネルギー移動に基づく、開始剤化合物の電子励起状態からの分解である。個々の開始剤化合物が(1)から(3)のどのタイプに属するかに関しては、曖昧な場合も多いが、本発明における増感色素は、これら何れのタイプの開始剤化合物と組み合わせても非常に高い増感効果を示す。   Usually, many of these initiator compounds are considered to generate active species through the initial chemical processes represented by the following (1) to (3). (1) Reductive decomposition of the initiator compound based on the electron transfer reaction from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound, (2) Electron transfer from the initiator compound to the electronically excited state of the sensitizing dye (3) decomposition of the initiator compound from the electronically excited state based on energy transfer from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound. Although it is often ambiguous as to which type of (1) to (3) each individual initiator compound belongs, the sensitizing dye in the present invention is extremely in combination with any of these types of initiator compounds. Shows a high sensitizing effect.

本発明における開始剤化合物としては、当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、鉄アレーン錯体が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物およびメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。上記の重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。   As the initiator compound in the present invention, those known to those skilled in the art can be used without limitation, and specifically include, for example, trihalomethyl compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds. , Hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and iron arene complexes. Among these, at least one selected from the group consisting of hexaarylbiimidazole compounds, onium salts, trihalomethyl compounds, and metallocene compounds is preferable, and hexaarylbiimidazole compounds are particularly preferable. Two or more of the above polymerization initiators can be used in combination as appropriate.

ヘキサアリールビイミダゾール系化合物としては、特公昭45−37377号、特公昭44−86516号の各公報記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物は、300〜450nmに極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。
Examples of the hexaarylbiimidazole compounds include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5. , 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2, 2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5 ' -Te Raphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like.
The hexaarylbiimidazole compound is particularly preferably used in combination with a sensitizing dye having a maximum absorption at 300 to 450 nm.

本発明において好適に用いられるオニウム塩(本発明においては、酸発生剤としてではなく、イオン性の重合開始剤として機能する)は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。   The onium salt suitably used in the present invention (in the present invention, functions as an ionic polymerization initiator, not as an acid generator) is represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III). Onium salt.

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 represents a monovalent anion, and specific examples include halogen ions, perchlorate ions, borate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 12 alkyl groups, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 21 represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among them, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable in terms of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
オニウム塩は、750〜1400nmに極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents a group. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.
The onium salt is particularly preferably used in combination with an infrared absorber having a maximum absorption at 750 to 1400 nm.

その他の重合開始剤としては、特開2007-171406、特開2007-206216、特開2007-206217、特開2007-225701、特開2007-225702、特開2007-316582、特開2007-328243号の各公報に
記載の重合開始剤を好ましく用いることができる。
Other polymerization initiators include JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, JP 2007-316582, and JP 2007-328243. The polymerization initiators described in each of the above publications can be preferably used.

本発明における重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は感光層全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0質量%〜10質量%である。
The polymerization initiator in the present invention is preferably used alone or in combination of two or more.
The amount of the polymerization initiator used in the photosensitive layer in the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, it is 1.0 mass%-10 mass%.

(増感色素)
本発明の感光層には、増感色素を含有させることが好ましい。例えば300〜450nmに極大吸収を有する増感色素や、500〜600nmに極大吸収を有する増感色素、750〜1400nmに極大吸収を有する赤外線吸収剤を添加することで、各々、当業界で通常用いられている405nmのバイオレットレーザ、532nmのグリーンレーザ、803nmのIRレーザに対応した高感度な平版印刷版を提供することができる。
まず、350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素について説明する。この様な増感色素としては、例えば、メロシアニン色素類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、等を挙げることができる。
(Sensitizing dye)
The photosensitive layer of the present invention preferably contains a sensitizing dye. For example, by adding a sensitizing dye having a maximum absorption at 300 to 450 nm, a sensitizing dye having a maximum absorption at 500 to 600 nm, and an infrared absorber having a maximum absorption at 750 to 1400 nm, each is normally used in the industry. It is possible to provide a high-sensitivity lithographic printing plate corresponding to the 405 nm violet laser, 532 nm green laser, and 803 nm IR laser.
First, a sensitizing dye having a maximum absorption in the wavelength region of 350 to 450 nm will be described. Examples of such a sensitizing dye include merocyanine dyes, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, anthracenes, and the like.

360nmから450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(IX)で表される色素である。   Of the sensitizing dyes having an absorption maximum in a wavelength range of 360 nm to 450 nm, a dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (IX).

(一般式(IX)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子またはN−(R3)をあらわす。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、AとR1およびR2とR3はそれぞれ互いに結合して、脂肪族性または芳香族性の環を形成してもよい。) (In the general formula (IX), A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom or N- (R 3 ). R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group, and A and R 1 and R 2 and R 3 are bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring. May be good.)

一般式(IX)について更に詳しく説明する。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。 General formula (IX) will be described in more detail. R 1 , R 2 and R 3 are each independently a monovalent nonmetallic atomic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Represents a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic residue, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, or a halogen atom.

次に、一般式(IX)におけるAについて説明する。Aは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環の具体例としては、一般式(IX)中のR1、R2およびR3で記載したものと同様のものが挙げられる。 Next, A in the general formula (IX) will be described. A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent. Specific examples of the aromatic ring or heterocyclic ring which may have a substituent include R 1 in the general formula (IX). , R 2 and R 3 are the same.

このような増感色素の具体例としては特開2007−58170号公報の0047〜0053に記載の化合物が好ましく用いられる。   As specific examples of such sensitizing dyes, compounds described in JP-A-2007-58170, 0047 to 0053 are preferably used.

さらに、下記一般式(V)〜(VII)で示される増感色素も用いることができる。   Furthermore, sensitizing dyes represented by the following general formulas (V) to (VII) can also be used.

式(V)中、R1〜R14は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
式(VI)中、R15〜R32は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
In formula (V), R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
In the formula (VI), R 15 to R 32 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.

式(VII)中、R1、R2およびR3は各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、−NR45基または−OR6基を表し、R4、R5およびR6は各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、k、mおよびnは各々0〜5の整数を表す。 In formula (VII), R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an —NR 4 R 5 group or an —OR 6 group, and R 4 , R 5 And R 6 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and k, m and n each represents an integer of 0 to 5.

また、特開2007-171406、特開2007-206216、特開2007-206217、特開2007-225701、特開2007-225702、特開2007-316582、特開2007-328243号の各公報に記載の増感色素も好ましく用いることができる。
増感色素の好ましい添加量は、感光層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、最も好ましくは0.2〜10質量部の範囲である。
Further, as described in JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, JP 2007-316582, and JP 2007-328243. Sensitizing dyes can also be preferably used.
The preferred addition amount of the sensitizing dye is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, and most preferably 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the photosensitive layer. It is the range of mass parts.

続いて、本発明にて好適に用いられる750〜1400nmに極大吸収を有する増感色素について詳述する。
ここに使用される増感色素は、赤外線レーザの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱(光熱変換機能)などが、感光層中に併存する重合開始剤に作用して、該重合開始剤に化学変化を生起させてラジカルを生成させるものと推定されている。いずれせよ、750〜1400nmに極大吸収を有する増感色素を添加することは、750nm〜1400nmの波長を有する赤外線レーザ光での直接描画される製版に特に好適であり、従来の平版印刷版原版に比べ、高い画像形成性を発現することができる。
Subsequently, a sensitizing dye having a maximum absorption at 750 to 1400 nm that is preferably used in the present invention will be described in detail.
The sensitizing dye used here is highly sensitive to infrared laser irradiation (exposure) and is in an electronically excited state. The electron transfer, energy transfer, heat generation (photothermal conversion function), etc., associated with the electronically excited state are the photosensitive layer. It is presumed that it acts on a polymerization initiator coexisting therein to cause a chemical change in the polymerization initiator to generate a radical. In any case, the addition of a sensitizing dye having a maximum absorption at 750 to 1400 nm is particularly suitable for plate making directly drawn with an infrared laser beam having a wavelength of 750 to 1400 nm, and the conventional lithographic printing plate precursor Compared with this, high image forming properties can be exhibited.

赤外線吸収剤は、750nm〜1400nmの波長に吸収極大を有する染料または顔料であることが好ましい。   The infrared absorber is preferably a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 750 nm to 1400 nm.

染料としては、市販の染料および例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1または以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa -は後述するZa -と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
In the general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。尚、対イオンとして、ハロゲンイオンを含有してないものが特に好ましい。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the photosensitive layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions. In addition, the thing which does not contain a halogen ion as a counter ion is especially preferable.

好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号の段落番号[0017]〜[0019]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969.

また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “Printing” The pigments described in "Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天
然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この好ましい粒径の範囲において、感光層中における顔料の優れた分散安定性が得られ、均一な感光層が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the photosensitive layer can be obtained, and a uniform photosensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

これらの赤外線吸収剤は、感光層中における均一性や感光層の耐久性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   From the viewpoint of uniformity in the photosensitive layer and durability of the photosensitive layer, these infrared absorbers are 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content constituting the photosensitive layer. In the case of a dye, it is particularly preferably 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, it is particularly preferably 0.1 to 10% by mass.

<マイクロカプセル>
本発明においては、上記の感光層構成成分および後述のその他の構成成分を感光層に含有させる方法として、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の一部をマイクロカプセルに内包させて感光層に添加することができる。その場合、各構成成分はマイクロカプセル内および外に、任意の比率で含有させることが可能である。
<Microcapsule>
In the present invention, as a method for causing the photosensitive layer to contain the above-described photosensitive layer constituents and other constituents described later, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, A part of the components can be encapsulated in microcapsules and added to the photosensitive layer. In that case, each component can be contained in any ratio in and out of the microcapsule.

感光層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の
各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
As a method for microencapsulating the photosensitive layer constituent components, known methods can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcino A method using a system wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method using monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記の非水溶性高分子に導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into said water-insoluble polymer.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

<その他の感光層成分>
本発明の感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、現像性の促進および塗布面状を向上させるための界面活性剤、現像性の向上やマイクロカプセルの分散安定性向上などのための親水性ポリマー、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、感光層の製造中または保存中のラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するための重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪誘導体、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、現像性向上のための親水性低分子化合物、感度向上の為の共増感剤や連鎖移動剤、可塑性向上のための可塑剤等を添加することができる。これの化合物はいずれも公知のものを使用でき、例えば、特開2007-171406、特開2007-206216、特開2007-206217、特開2007-225701、特開2007-225702、特開2007-316582、特開2007-328243に記載の化合物を使用することができる。
<Other photosensitive layer components>
The photosensitive layer of the present invention can further contain various additives as required. Additives include surfactants for promoting developability and improving the surface of the coating, hydrophilic polymers for improving developability and dispersion stability of microcapsules, and visual and non-image areas visible A coloring agent and a print-out agent, a polymerization inhibitor for preventing unnecessary thermal polymerization of radically polymerizable compounds during production or storage of the photosensitive layer, a higher fat derivative for preventing polymerization inhibition by oxygen, Add inorganic fine particles to improve the strength of the cured film in the image area, hydrophilic low molecular weight compounds to improve developability, co-sensitizers and chain transfer agents to improve sensitivity, plasticizers to improve plasticity, etc. be able to. Any of these compounds can be used, for example, JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, JP 2007-316582. The compounds described in JP-A-2007-328243 can be used.

連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。
本発明の感光層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類、等)を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。
なかでも、下記一般式(I)で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、臭気の問題、および感光層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。
As the compound that acts as a chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals.
In the photosensitive layer of the present invention, in particular, thiol compounds (for example, 2-mercaptobenzimidazoles, 2-mercaptobenzthiazoles, 2-mercaptobenzoxazoles, 3-mercaptotriazoles, 5-mercaptotetrazoles, etc.) Can be preferably used as a chain transfer agent.
Especially, the thiol compound represented by the following general formula (I) is used especially suitably. By using this thiol compound as a chain transfer agent, the problem of odor and sensitivity reduction due to evaporation from the photosensitive layer and diffusion to other layers are avoided, and it has excellent storage stability and high sensitivity and high printing durability. A lithographic printing plate precursor is obtained.

一般式(I)中、Rは置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環または6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   In general formula (I), R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. Alternatively, it represents an atomic group that forms a 6-membered heterocycle, and A may further have a substituent.

さらに好ましくは下記一般式(IA)または一般式(IB)で表されるものが使用される。   More preferably, those represented by the following general formula (IA) or general formula (IB) are used.

一般式(IA)および式(IB)中、Rは置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、Xはハロゲン原子、アルコキシル基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。   In general formulas (IA) and (IB), R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and X represents a halogen atom, an alkoxyl group or a substituent. The alkyl group which may have or the aryl group which may have a substituent is represented.

以下に、一般式(I)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the present invention is not limited to these.

これらのチオール化合物の使用量は感光層の全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0〜10質量%である。   The amount of these thiol compounds used is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, it is 1.0-10 mass%.

<感光層の形成>
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の感光層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能で
ある。
<Formation of photosensitive layer>
The photosensitive layer of the present invention is formed by preparing or applying a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photosensitive layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と感光層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
The coating, the photosensitive layer coating amount on the support obtained after drying (solid content) may be varied according to the intended purpose, generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferred. Within this range, good sensitivity and good film properties of the photosensitive layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

<保護層>
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層(酸素遮断層)が設けられることが好ましい。本発明に用いられる保護層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m2・day)であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m2・day)未満で極端に低い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Aが20(mL/ m2・day)を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Aは、より好ましくは1.5≦A≦12(mL/m2・day)、更に好ましくは2.0≦A≦10.0(mL/m2・day)の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
<Protective layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (oxygen blocking layer) is preferably provided on the photosensitive layer in order to block diffusion and penetration of oxygen that hinders the polymerization reaction during exposure. The protective layer used in the present invention preferably has an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm of 1.0 ≦ A ≦ 20 (mL / m 2 · day). When the oxygen permeability A is extremely low at less than 1.0 (mL / m 2 · day), unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production and raw storage, and unnecessary fogging and image streaking occur during image exposure. The problem that fatness arises arises. Conversely, when the oxygen permeability A exceeds 20 (mL / m 2 · day) and is too high, the sensitivity is lowered. The oxygen permeability A is more preferably in the range of 1.5 ≦ A ≦ 12 (mL / m 2 · day), further preferably 2.0 ≦ A ≦ 10.0 (mL / m 2 · day). In addition to the oxygen permeability described above, the properties desired for the protective layer further do not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, have excellent adhesion to the photosensitive layer, and are easy in the development process after exposure. It is desirable that it can be removed. The device concerning such a protective layer has been conventionally made, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。   As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / vinyl are used. Examples include water-soluble polymers such as alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, polyacrylamide, etc. Or they can be mixed. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100モル%加水分解され、重合繰り返し単位が300から2400の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。好ましい態様としてはポリビニルアルコールの保護層中の含有率が20〜95質量%、より好ましくは、30〜90質量%である。   The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those that are hydrolyzed by 71 to 100 mol% and have a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like, and these can be used alone or in combination. In a preferred embodiment, the content of polyvinyl alcohol in the protective layer is 20 to 95% by mass, and more preferably 30 to 90% by mass.

また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性
部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等が挙げられる。
Moreover, well-known modified polyvinyl alcohol can also be used preferably. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Examples thereof include polyvinyl alcohol having various polymerization degrees having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, and the like.

ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が3.5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%である。   As a component used by mixing with polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoint of oxygen barrier properties and development removability, and the content in the protective layer is 3.5 to 80% by mass, preferably 10 to 60%. It is 15 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール(PVA)等の(共)重合体の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好ましくは2万〜300万範囲のものが適当である。   Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the higher the film thickness, the higher the oxygen barrier property and the more advantageous in terms of sensitivity. The molecular weight of the (co) polymer such as polyvinyl alcohol (PVA) can be in the range of 2000 to 10 million, preferably in the range of 20,000 to 3 million.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加することができる。   As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added.

また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。   In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on a photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method for the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

さらに、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2-5410(OH,F,O)2
〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。
本発明の無機質の層状化合物のアスペクト比は、好ましくは20以上であり、さらに好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
Furthermore, the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains an inorganic stratiform compound for the purpose of improving oxygen barrier properties and photosensitive layer surface protection.
Here, the inorganic layered compound is a particle having a thin flat plate shape. For example, the following general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any one of K, Na, and Ca, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.
In the present invention, among the inorganic layered compounds described above, fluorine-based swellable synthetic mica that is a synthetic inorganic layered compound is particularly useful.
The aspect ratio of the inorganic layered compound of the present invention is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   As for the particle diameter of the inorganic stratiform compound used in the present invention, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。   When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。   It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

保護層に用いる無機質層状化合物の分散方法は、特開2007-171406、特開2007-206216、特開2007-206217、特開2007-225701、特開2007-225702、特開2007-316582、特開2007-328243等に記載の方法が用いられる。   The dispersion method of the inorganic stratiform compound used for the protective layer is disclosed in JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, JP 2007-316582, JP The method described in 2007-328243 etc. is used.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.05〜10g/m2 の範囲であることが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜0.5g/m2の範囲であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g/m2の範囲であることがさらに好ましい。 The coating amount of the protective layer is preferably in the range of 0.05 to 10 g / m 2 in terms of the coating amount after drying. When the inorganic layered compound is contained, 0.1 to 0.5 g / The range of m 2 is more preferable, and when the inorganic layered compound is not contained, the range of 0.5 to 5 g / m 2 is more preferable.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状な親水性支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
[Support]
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like hydrophilic support. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および感光層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photosensitive layer and the support. Prior to the roughening treatment of the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温度5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, an electrolyte concentration of 1 to 80% by mass solution, a liquid temperature of 5 to 70 ° C., a current density of 5 to 60 A / d m 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, it contains a micropore enlargement treatment, a micropore sealing treatment, and a hydrophilic compound described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-253181 and 2001-322365. A surface hydrophilization treatment immersed in an aqueous solution can be selected as appropriate. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.

封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Of these, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing treatment with hot water are preferable.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム
等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
The hydrophilization treatment is described in the specifications of US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in the specification of No. 272.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。   When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or organic hydrophilicity obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。   Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

〔下塗り層〕
本発明の平版印刷版原版においては、支持体上に重合性基を含有する化合物の下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層が用いられるときは、感光層は下塗り層の上に設けられる。下塗り層は、露光部においては支持体と感光層との密着性を強化し、また、未露光部においては、感光層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、現像性が向上する。
下塗り層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。特に好ましい化合物として、メタクリル基、アリル基などの重合性基とスルホン酸基、リン酸基、リン酸エステルなどの支持体吸着性基を有する化合物が挙げられる。重合性基と支持体吸着性基に加えてエチレンオキシド基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide an undercoat layer of a compound containing a polymerizable group on a support. When an undercoat layer is used, the photosensitive layer is provided on the undercoat layer. The undercoat layer reinforces the adhesion between the support and the photosensitive layer in the exposed area, and easily peels the photosensitive layer from the support in the unexposed area, thereby improving the developability.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. The phosphorus compound etc. which have the ethylenic double bond reactive group of description are mentioned suitably. Particularly preferable compounds include compounds having a polymerizable group such as a methacryl group or an allyl group and a support adsorbing group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, or a phosphoric acid ester. A compound having a hydrophilicity-imparting group such as an ethylene oxide group in addition to the polymerizable group and the support-adsorbing group can also be exemplified as a suitable compound.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高
分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC4 9 4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

〔製版方法〕
本発明における平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製する。現像処理としては、(1)アルカリ現像液(pHが10より大きい)にて現像する方法、(2)pHが2〜10の現像液にて現像する方法、(3)印刷機上で、湿し水及び/又はインキを加えながら現像する方法(機上現像)が挙げられる。本発明においては、pHが2〜10の現像液にて現像する方法が用いられる。
すなわち本発明の平版印刷版原版は、pH2〜10の現像液にて保護層および非露光部の感光層を一括除去した後、直ちに印刷機にセットして印刷することができる。(1)のアルカリ現像液を用いた通常の現像工程においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する。本発明においては、現像液中に水溶性高分子化合物を含有しており、現像−ガム引きを同時に行うことを特徴としている。よって後水洗工程は特に必要とせず、一浴で現像とガム引きを行ったのち、乾燥工程を行うことが好ましい。さらに、前水洗工程も特に必要とせず、保護層の除去も現像、ガム引きと同時に行うことが好ましい。また、現像及びガム引きの後に、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。本発明における感光性平版印刷版原版の現像は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露光処理した感光性平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る等により行う。
また、このような自動現像機での処理は、機上現像の場合に生ずる保護層/感光層に由来の現像カスへの対応から開放されるという優位性がある。
[Plate making method]
A lithographic printing plate is prepared by subjecting the lithographic printing plate precursor according to the invention to image exposure and development. As the development processing, (1) a method of developing with an alkaline developer (pH is greater than 10), (2) a method of developing with a developer having a pH of 2 to 10, and (3) wet on a printing press. A method of developing while adding water and / or ink (on-press development) can be mentioned. In the present invention, a method of developing with a developer having a pH of 2 to 10 is used.
That is, the lithographic printing plate precursor of the present invention can be set on a printing machine and printed immediately after the protective layer and the photosensitive layer in the non-exposed area are removed together with a developer having a pH of 2 to 10. In the normal development process using the alkali developer of (1), the protective layer is removed by the pre-water washing process, then alkali development is performed, the alkali is removed by the post-water washing process, and the gum treatment is performed in the gumming process. And dried in the drying process. In the present invention, the developer contains a water-soluble polymer compound, and development and gumming are performed simultaneously. Therefore, the post-water washing step is not particularly required, and it is preferable to perform the drying step after developing and gumming in one bath. Further, the pre-water washing step is not particularly required, and the protective layer is preferably removed simultaneously with development and gumming. Moreover, after developing and gumming, it is preferable to perform drying after removing excess developer using a squeeze roller. The development of the photosensitive lithographic printing plate precursor according to the invention is carried out by immersing the exposed photosensitive lithographic printing plate precursor in a developer at a temperature of about 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., according to a conventional method. For example, rubbing with a brush.
In addition, such processing in an automatic developing machine has an advantage that it is freed from dealing with development residue derived from the protective layer / photosensitive layer that occurs in the case of on-press development.

0254
本発明において用いられる現像液は、pHが2〜10の水溶液である。例えば、水単独または水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知な湿し水と同様組成の水溶液、界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系等)を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。特に、界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液が好ましい。該現像液のpHは、より好ましくは3〜8、さらに好ましくは4〜7である。
尚、酸性〜中性の現像液を用いる場合は、有機酸或いは無機酸のいずれかを含有することが好ましい。有機酸或いは無機酸を含有させることにより、製版時には現像性を向上させることができ、また製版された印刷版の非画像部に汚れが発生するのを抑制することができる。
0254
The developer used in the present invention is an aqueous solution having a pH of 2 to 10. For example, water alone or an aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water) is preferable. In particular, an aqueous solution having the same composition as that of a generally known fountain solution, a surfactant (anionic, nonionic, An aqueous solution containing a cationic system or the like, or an aqueous solution containing a water-soluble polymer compound is preferable. In particular, an aqueous solution containing both a surfactant and a water-soluble polymer compound is preferable. The pH of the developer is more preferably 3-8, and even more preferably 4-7.
When an acidic to neutral developer is used, it is preferable to contain either an organic acid or an inorganic acid. By containing an organic acid or an inorganic acid, developability can be improved during plate making, and it is possible to suppress the occurrence of stains in the non-image area of the plate that has been made.

本発明の現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類が好ましく用いられる。   The anionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, but dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters and alkyl naphthalene sulfonates are preferably used.

本発明の現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   The cationic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明の現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、ソルビトールおよび/またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマ
ー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルが好ましく用いられる。
Nonionic surfactants used in the developer of the present invention include sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide). -Ethylene oxide) block copolymers and fatty acid esters of polyhydric alcohols are preferably used.

界面活性剤は2種以上用いてもよく、現像液中に含有する界面活性剤の比率は、0.01〜20質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。   Two or more surfactants may be used, and the ratio of the surfactant contained in the developer is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass.

また、本発明の現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。   Examples of the water-soluble polymer compound used in the developer of the present invention include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fibrin derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan. , Polyvinyl alcohol and its derivatives, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, etc. It is done.

上記大豆多糖類は、公知ものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。   A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.

上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。   As the modified starch, known ones can be used, and starch such as corn, potato, tapioca, rice and wheat is decomposed with acid or enzyme in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule, and further in an alkali. It can be made by a method of adding oxypropylene or the like.

水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量%である。   Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, and more preferably from 0.5 to 10% by mass.

また、本発明の現像液には、有機溶剤を含有しても良い。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。   Further, the developer of the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), and aromatic hydrocarbons (toluene). , Xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, tricrene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能であり、現像液に、有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。   If the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. If the developer contains an organic solvent, safety, ignition, From the viewpoint of property, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass.

本発明の現像液には上記の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有することができる。   In addition to the above, the developer of the present invention may contain a preservative, a chelate compound, an antifoaming agent, an organic acid, an inorganic acid, an inorganic salt, and the like.

上記の現像液は、露光されたネガ型平版印刷版原版の現像液および現像補充液として用いることができ、後述の自動処理機に適用することが好ましい。自動処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の平版印刷版の製版方法においてもこの補充方式が好ましく適用される。   The developer described above can be used as a developer and developer replenisher for the exposed negative lithographic printing plate precursor, and is preferably applied to an automatic processor described later. When developing using an automatic processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so the processing capability may be restored using a replenisher or a fresh developer. This replenishing method is also preferably applied to the lithographic printing plate making method of the present invention.

本発明におけるpH2〜10の水溶液による現像処理は、現像液の供給手段および擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号、特開昭60−59351号各公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像記録後の平版印刷版原版をシリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許5148746号、同5568768号、英国特許2297719号に記載の自動処理
機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。
The development treatment with an aqueous solution having a pH of 2 to 10 in the present invention can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. As the automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs a rubbing process while transporting a lithographic printing plate precursor after image recording, or a cylinder Examples thereof include an automatic processor described in US Pat. Nos. 5,148,746, 5,568,768 and British Patent 2,297,719, which rub the lithographic printing plate precursor after image recording set thereon while rotating a cylinder. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

本発明に好ましく使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平版印刷版原版の支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。上記回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報や、特開平3−100554号公報記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチックまたは金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
また、ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は、20〜400μm、毛の長さは、5〜30mmのものが好適に使用できる。
さらに、回転ブラシロールの外径は、30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は、0.1〜5m/secが好ましい。
また、回転ブラシロールは、2本以上の複数本用いることが好ましい。
The rotating brush roll that can be preferably used in the present invention can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image area and the stiffness of the support of the lithographic printing plate precursor. As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-159533, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-100554, or Japanese Utility Model Publication No. 62-167253, metal or plastic in which brush materials are implanted in rows. A brush roll can be used in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without a gap.
The brush material includes plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylonitrile, poly (meth) acrylate, etc. Acrylic and polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene) can be used. For example, the fiber has a hair diameter of 20 to 400 μm and a hair length of 5 to 30 mm. Can be used.
Furthermore, the outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec.
Moreover, it is preferable to use two or more rotating brush rolls.

本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、図1に例示した自動処理機のように、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが、同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感熱層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll used in the present invention may be the same or opposite to the conveying direction of the planographic printing plate precursor of the present invention. Thus, when two or more rotating brush rolls are used, it is preferable that at least one rotating brush roll rotates in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the heat sensitive layer in the non-image area. Furthermore, it is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

上記現像液の温度は、任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。   Although the temperature of the developer can be used at any temperature, it is preferably 10 ° C to 50 ° C.

なお、本発明において、擦り処理後の平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾燥処理、不感脂化処理することも任意に可能である。不感脂化処理では、公知の不感脂化液を用いることができる。   In the present invention, the lithographic printing plate after the rubbing treatment can be optionally washed with water, dried and desensitized. In the desensitizing treatment, a known desensitizing solution can be used.

その他、本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。この様な加熱により、該感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは全面露光を行う事も有効である。通常現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、非画像部迄がかぶってしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は100〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。   In addition, as the plate-making process of the lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the entire surface may be heated before exposure, during exposure, and between exposure and development, if necessary. By such heating, the image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. Further, for the purpose of improving the image strength and printing durability, it is also effective to subject the developed image to full post heating or full exposure. Usually, the heating before development is preferably performed under a mild condition of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, problems such as covering up to the non-image area occur. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is the range of 100-500 degreeC. If the temperature is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area occur.

上記の現像処理に先立って、平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。
望ましい光源の波長は350nmから450nm又は700nmから1200nmの波長が好ましく用いられる。350nmから450nmの場合は、この領域に吸収極大を有する増感色素を感光層に有する平版印刷版原版が用いられ、700nmから1200nmの場合は、この領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を含有する平版印刷版原
版が用いられる。350nmから450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。700nmから1200nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。
露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
Prior to the above development processing, the lithographic printing plate precursor is exposed imagewise by laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone dot image or the like, or by laser beam scanning by digital data.
A desirable light source wavelength is preferably 350 nm to 450 nm or 700 nm to 1200 nm. In the case of 350 nm to 450 nm, a lithographic printing plate precursor having a sensitizing dye having an absorption maximum in this region in the photosensitive layer is used, and in the case of 700 nm to 1200 nm, infrared absorption which is a sensitizing dye having absorption in this region. A lithographic printing plate precursor containing an agent is used. A semiconductor laser is suitable as a light source of 350 nm to 450 nm. As a light source of 700 nm to 1200 nm, a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays are suitable.
The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

<実施例1〜17、比較例1〜4>
〔平版印刷版原版タイプIの作製〕
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A1050)を10質量%水酸化ナトリウムに60℃で25秒間浸漬してエッチングし、流水で水洗後、20質量%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を用いて1質量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に40℃で5秒間浸漬後30質量%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒間デスマット処理した後、20質量%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2の条件で陽極酸化皮膜の厚さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理した。その後、珪酸ナトリウム1質量%水溶液にて20℃で10秒処理した。このようにして得た支持体の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.25μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
<Examples 1-17, Comparative Examples 1-4>
[Preparation of lithographic printing plate precursor type I]
An aluminum plate (material JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm was etched by being immersed in 10% by weight sodium hydroxide at 60 ° C. for 25 seconds, washed with running water, neutralized with 20% by weight nitric acid, and then washed with water. . This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% by mass nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at an anode time electricity of 300 coulomb / dm 2 . Subsequently, after dipping in a 1% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 5 seconds and then in a 30% by mass sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, the current density in a 20% by mass sulfuric acid aqueous solution was 2A / current density. Anodization was performed for 2 minutes so that the thickness of the anodized film was 2.7 g / m 2 under the condition of dm 2 . Then, it processed at 20 degreeC for 10 second with 1 mass% of sodium silicate aqueous solution. The center line average roughness (Ra) of the support thus obtained was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.25 μm (Ra indication according to JIS B0601).

さらに、下記下塗り液(1)をバー塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が15mg/m2になるよう塗布し、以下の実験に用いる下塗り層を有する支持体を作製した。 Furthermore, after applying the following undercoat liquid (1) with a bar, it was oven-dried at 80 ° C. for 10 seconds to apply a dry coating amount of 15 mg / m 2 , and a support having an undercoat layer used in the following experiments. Produced.

下塗り液(1)
・下記高分子化合物(1) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat liquid (1)
・ The following polymer compound (1) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

上記の下塗り層を付与したアルミニウム支持体上に、下記組成の感光層塗布液1をバー塗布した後、72℃、65秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.2g/m2の感光層を形成し、この上に下記組成よりなる保護層塗布液1を、乾燥塗布量が0.75g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃、70秒で間乾燥して保護層を形成し、平版印刷版原版タイプIシリーズを作製した。 A photosensitive layer coating solution 1 having the following composition was bar coated on the aluminum support provided with the undercoat layer, followed by oven drying at 72 ° C. for 65 seconds to form a photosensitive layer having a dry coating amount of 1.2 g / m 2. A protective layer coating solution 1 having the following composition is formed on the coating layer using a bar so that the dry coating amount is 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds for protection. A layer was formed to prepare a lithographic printing plate precursor type I series.

感光層塗布液1
・本発明の特定バインダーポリマー(表1記載の例示化合物) 0.50g
・エチレン性不飽和結合を有する化合物 0.50g
(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート;日本化薬(株)製SR39)
・ラジカル重合開始剤(I―1) 0.08g
・増感色素(D−1) 0.06g
・連鎖移動剤(S−1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
〔顔料:15質量部、分散剤としてアリルメタクリレート/メタクリル酸(80/20)共重合体:10質量部、溶剤としてシクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部〕
・熱重合禁止剤 0.01g
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・フッ素系界面活性剤(F−1) 0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.04g
(旭電化工業(株)製、プルロニックL44)
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.01g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
Photosensitive layer coating solution 1
-Specific binder polymer of the present invention (exemplary compounds described in Table 1) 0.50 g
・ Compound having ethylenically unsaturated bond 0.50 g
(Dipentaerythritol pentaacrylate; SR39 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ Radical polymerization initiator (I-1) 0.08g
Sensitizing dye (D-1) 0.06g
・ Chain transfer agent (S-1) 0.07g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
[Pigment: 15 parts by mass, Allyl methacrylate / methacrylic acid (80/20) copolymer as a dispersant: 10 parts by mass, Cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts as a solvent Parts / 40 parts by mass]
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
(N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
・ Fluorine-based surfactant (F-1) 0.001 g
・ Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.04g
(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., Pluronic L44)
・ Tetraethylammonium chloride 0.01g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

保護層塗布液1
・ポリビニルアルコール(PVA−105((株)クラレ製)、けん化度98モル%、重
合度500) 40g
・ポリビニルピロリドン(分子量5万) 5g
・ポリ〔ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1)分子量7万〕
0.5g
・界面活性剤(エマレックス710;日本エマルジョン(株)製)
0.5g
・水 950g
Protective layer coating solution 1
Polyvinyl alcohol (PVA-105 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 40 g
・ Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) 5g
・ Poly [vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1) molecular weight 70,000]
0.5g
・ Surfactant (Emalex 710; manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
0.5g
・ 950g of water

〔露光、現像および印刷〕
平版印刷版原版タイプIシリーズ各々について、出力100mWの405nm半導体レーザーを用いて、エネルギー密度を変えて画像様露光を行い、レーザー露光後、30秒以内に平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を吹き付けて平版印刷版原版の全面を加熱し、110℃に、15秒間保持した。
[Exposure, development and printing]
For each lithographic printing plate precursor type I series, use a 405 nm semiconductor laser with an output of 100 mW to perform imagewise exposure with varying energy density. After the laser exposure, place the lithographic printing plate precursor in an oven within 30 seconds and blow hot air. The entire surface of the lithographic printing plate precursor was heated by spraying and kept at 110 ° C. for 15 seconds.

その後、下記組成の現像液1を用い、図1に示す構造の自動現像処理機にて、現像処理を実施し平版印刷版(加熱なし)を作製した。現像液のpHは4.6であった。自動現像処理機は、回転ブラシロールを2本有する自動処理機であり、回転ブラシロールとしては、1本目のブラシロールに、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径90mmのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.94m/sec)させ、2本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径60mmのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.63m/sec)させた。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度を種々変化させて実施した。
現像液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した。現像液のタンク容量は、10リットルであった。
Thereafter, using a developing solution 1 having the following composition, development processing was performed with an automatic developing processor having a structure shown in FIG. 1 to prepare a lithographic printing plate (without heating). The pH of the developer was 4.6. The automatic processor is an automatic processor having two rotating brush rolls. As the rotating brush roll, the first brush roll and the polybutylene terephthalate fiber (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm). Using a brush roll with an outer diameter of 90 mm implanted with 200 mm / min in the same direction as the conveying direction (peripheral speed 0.94 m / sec at the tip of the brush), the second brush roll is made of polybutylene terephthalate Using a brush roll having an outer diameter of 60 mm in which fibers (hair diameter: 200 μm, hair length: 17 mm) were planted, it was rotated 200 times per minute in the direction opposite to the conveying direction (peripheral speed of the brush tip: 0.63 m / sec). . The transportation of the lithographic printing plate precursor was carried out at various transport speeds.
The developer was showered from the spray pipe with a circulation pump and supplied to the plate surface. The tank capacity of the developer was 10 liters.

現像液1
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル
(オキシエチレン平均数n=13) 1.00g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・アラビアガム(Mw=25万) 1.00g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
Developer 1
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether (oxyethylene average number n = 13) 1.00 g
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ Gum arabic (Mw = 250,000) 1.00g
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

次いで、平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。   Next, the planographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and dampening water (EU-3 (Etchi solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). ) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

〔評価〕
上記平版印刷版原版について、現像性、感度、耐刷性および汚れ性を下記のように評価した。結果を表1に示す。
[Evaluation]
The lithographic printing plate precursor was evaluated for developability, sensitivity, printing durability and stain resistance as follows. The results are shown in Table 1.

<現像性>
上記の通り種々の搬送速度にて現像を行い、非画像部のシアン濃度をマクベス濃度計に
より測定した。非画像部のシアン濃度がアルミニウム基板のシアン濃度と同等になった搬送速度を求め、現像性とした。現像性評価は、比較例1を基準(1.0)として以下のように定義した相対現像性で表している。相対現像性の数値が大きい程、高現像性であり、性能が良好であることを示す。
相対現像性=(対象感材の搬送速度)/(基準感材の搬送速度)
<Developability>
Development was carried out at various conveying speeds as described above, and the cyan density of the non-image area was measured with a Macbeth densitometer. The transport speed at which the cyan density of the non-image area was equal to the cyan density of the aluminum substrate was determined and defined as developability. The evaluation of developability is represented by the relative developability defined as follows using Comparative Example 1 as a reference (1.0). A larger relative developability value indicates higher developability and better performance.
Relative developability = (target photosensitive material transport speed) / (reference photosensitive material transport speed)

<感度>
上記の通り100枚印刷を行って、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物において、画像部のインキ濃度にムラがない露光量を感度として計測した。感度評価は、比較例1を基準(1.0)として以下のように定義した相対感度で表している。相対感度の数値が大きい程、高感度であり、性能が良好であることを表す。
相対感度=(基準感材の感度/対象感材の感度)
<Sensitivity>
After 100 sheets were printed as described above and it was confirmed that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were printed continuously. In the total 600th printed matter, the exposure amount with no unevenness in the ink density in the image area was measured as sensitivity. The sensitivity evaluation is expressed as a relative sensitivity defined as follows using Comparative Example 1 as a reference (1.0). The larger the relative sensitivity value, the higher the sensitivity and the better the performance.
Relative sensitivity = (sensitivity of standard photosensitive material / sensitivity of target photosensitive material)

<耐刷性>
印刷枚数を増やしていくと徐々に感光層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。同一露光量(90μJ/cm2)で露光した印刷版において、インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。耐刷性評価は、比較例1を基準(1.0)として以下のように定義した相対耐刷性で表している。相対耐刷性の数字が大きい程、耐刷性が高いことを表している。
相対耐刷性= (対象感材の耐刷性)/(基準感材の耐刷性)
<Print durability>
As the number of printed sheets was increased, the photosensitive layer was gradually worn out and the ink acceptability was lowered, so that the ink density in the printing paper was lowered. In a printing plate exposed at the same exposure (90 μJ / cm 2 ), printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. The evaluation of printing durability is represented by the relative printing durability defined as follows using Comparative Example 1 as a reference (1.0). The larger the relative printing durability number, the higher the printing durability.
Relative printing durability = (printing durability of target photosensitive material) / (printing durability of standard photosensitive material)

<汚れ性>
上記の通り500枚印刷を行って、非画像部のインキ汚れが全くないものを『◎』、『◎』には劣るが実用上問題ないものを『〇』、汚れが一部でも見られ実用上問題あるものを『△』、汚れているものを『×』として表す。
<Dirty>
After printing 500 sheets as described above, non-image areas with no ink stains are “◎”, “◎” are inferior to practical use, but “○” is practical, and some stains can be seen. The problem is indicated by “△”, and the dirty one is indicated by “×”.

<画像形成感度の再現性>
上記のように得られた平版印刷版原版上に、富士フイルム(株)製の富士ステップガイド(△D=0.15で不連続的に透過光学濃度が変化するグレースケール)を密着させ、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd 製Violet半導体レーザーセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー405nm±10nm発光/出力30mW)に装填し、90μJ/cm2の露光量で画像を描画した。
その後、上記組成の現像液に25℃、30秒間浸漬し、現像を行い、画像が完全に除去される最高の段数を読んだ。それぞれ合成ロットの異なるポリマーを用いて10水準ずつ平版印刷版原版を作成して、本評価を行い、画像が完全に除去される最高の段数の10水準のうちの最大値と最小値の差が0.5段未満のものを『○』、0.5段を超えるものを『×』とした。
<Reproducibility of image formation sensitivity>
A FUJIFILM Fuji step guide (gray scale whose transmission optical density changes discontinuously at ΔD = 0.15) manufactured by FUJIFILM Corporation is brought into close contact with the lithographic printing plate precursor obtained as described above. The sample was loaded on a Violet semiconductor laser setter Vx9600 (InGaN semiconductor laser 405 nm ± 10 nm emission / output 30 mW) manufactured by Electronic Imaging Ltd, and an image was drawn with an exposure amount of 90 μJ / cm 2 .
Thereafter, the film was immersed in a developer having the above composition at 25 ° C. for 30 seconds, developed, and the maximum number of steps at which the image was completely removed was read. A lithographic printing plate precursor is prepared for each of 10 levels using polymers of different synthetic lots, and this evaluation is performed. The difference between the maximum value and the minimum value among the 10 levels of the maximum number of stages at which the image is completely removed is determined. Those with less than 0.5 steps were marked with “◯”, and those with more than 0.5 steps were marked with “×”.

結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

表1に示すように、本発明のバインダーポリマーを用いることにより、本発明範囲外の比較例1および2に比べ、現像性、耐刷性をそれぞれ向上することが可能となっていることが分かる。さらに、アミノ基による安定化効果であると考えているが、比較例3および4に比べ画像形成感度の再現性が向上することは、予期せぬことであった。また、バインダーポリマーのカウンターアニオンXについては、ハロゲン系、カルボン酸系でもよいが、ハロゲノ錯イオン、ハロゲンオキソ酸アニオン、ボレートアニオン、スルホン酸アニオンが耐刷性・汚れ性の観点からさらに好ましいことも分かる。 As shown in Table 1, it can be seen that by using the binder polymer of the present invention, it is possible to improve the developability and the printing durability as compared with Comparative Examples 1 and 2 outside the scope of the present invention. . Furthermore, although it is thought that it is the stabilization effect by an amino group, it was unexpected that the reproducibility of image formation sensitivity was improved as compared with Comparative Examples 3 and 4. Further, the counter anion X of the binder polymer may be a halogen type or a carboxylic acid type, but a halogeno complex ion, a halogen oxo acid anion, a borate anion, or a sulfonate anion is more preferable from the viewpoint of printing durability and stain resistance. I understand.

<実施例18〜52、比較例5〜8>
〔平版印刷版原版タイプIIシリーズの作製〕
感光層塗布液1を感光層塗布液2に、保護層塗布液1を保護層塗布液2に変更する以外は、下塗り塗布液処方も含め、平版印刷版原版タイプIシリーズと同様のものを用いた。
<Examples 18 to 52, Comparative Examples 5 to 8>
[Preparation of lithographic printing plate precursor type II series]
Except for changing the photosensitive layer coating solution 1 to the photosensitive layer coating solution 2 and the protective layer coating solution 1 to the protective layer coating solution 2, the same as the lithographic printing plate precursor type I series, including the undercoat coating solution formulation, is used. It was.

感光層塗布液2
・本発明の特定バインダーポリマー(表2記載の例示化合物)
0.52g
・エチレン性不飽和結合を有する化合物(M−1) 0.50g
・ラジカル重合開始剤(I―1) 0.08g
・増感色素(D−1) 0.06g
・連鎖移動剤(S−2) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
〔顔料:15質量部、分散剤としてアリルメタクリレート/メタクリル酸(80/20)共重合体:10質量部、溶剤としてシクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部〕
・熱重合禁止剤 0.01g
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・フッ素系界面活性剤(F−1) 0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.04g
(旭電化工業(株)製、プルロニックL44)
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.01g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
Photosensitive layer coating solution 2
-Specific binder polymer of the present invention (Exemplary compounds described in Table 2)
0.52g
-Compound (M-1) having an ethylenically unsaturated bond 0.50 g
・ Radical polymerization initiator (I-1) 0.08g
Sensitizing dye (D-1) 0.06g
・ Chain transfer agent (S-2) 0.07g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
[Pigment: 15 parts by mass, Allyl methacrylate / methacrylic acid (80/20) copolymer as a dispersant: 10 parts by mass, Cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts as a solvent Parts / 40 parts by mass]
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
(N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
・ Fluorine-based surfactant (F-1) 0.001 g
・ Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.04g
(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., Pluronic L44)
・ Tetraethylammonium chloride 0.01g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

保護層塗布液(2)
・下記雲母分散液(1) 13.00g
・ポリビニルアルコール(PVA−105((株)クラレ製)、けん化度98モル%、重合度500) 1.30g
・2−エチルヘキシルスルホコハク酸ソーダ 0.20g
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万
0.050g
・界面活性剤(エマレックス710;日本エマルジョン(株)製)
0.050g
・水 133.00g
Protective layer coating solution (2)
・ The following mica dispersion (1): 13.00 g
Polyvinyl alcohol (PVA-105 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 1.30 g
-Sodium 2-ethylhexyl sulfosuccinate 0.20 g
-Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight 70,000
0.050g
・ Surfactant (Emalex 710; manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
0.050g
・ Water 133.00g

雲母分散液(1)の調製
水368gに合成雲母(「ソマシフME−100」:コープケミカル(株)製、アスペクト比:1000以上)32gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)0.5μmになるまで分散し、雲母分散液(1)を得た。
Preparation of Mica Dispersion (1) To 368 g of water, 32 g of synthetic mica (“Somasif ME-100” manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., aspect ratio: 1000 or more) was added, and the average particle size (laser scattering method) was obtained using a homogenizer. ) Disperse to 0.5 μm to obtain a mica dispersion (1).

〔露光、現像および印刷〕
平版印刷版原版タイプIIシリーズ各々について、現像液1を現像液2に変更する以外は、実施例1と同様にして露光・現像・印刷を行った。
[Exposure, development and printing]
Each of the planographic printing plate precursor type II series was exposed, developed and printed in the same manner as in Example 1 except that the developer 1 was changed to the developer 2.

現像液2
・水 100.00g
・N−ラウリルジメチルベタイン 10.00g
(竹本油脂(株)製;パイオニンC157K)
・ポリスチレンスルホン酸(Mw=2万) 1.00g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
さらに、リン酸を用いて現像液のpHが5.0となるように調整した後、現像液2として使用した。
Developer 2
・ Water 100.00g
・ N-lauryldimethylbetaine 10.00g
(Takemoto Yushi Co., Ltd .; Pionein C157K)
・ Polystyrenesulfonic acid (Mw = 20,000) 1.00g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g
Furthermore, after adjusting so that the pH of a developing solution might be set to 5.0 using phosphoric acid, it was used as the developing solution 2.

〔評価〕
得られた平版印刷版について、実施例1と同様に評価を行った。ただし、現像性、感度、耐刷性の基準(1.0)は比較例5を基準値とした。結果を表2に示す。
[Evaluation]
The obtained lithographic printing plate was evaluated in the same manner as in Example 1. However, the standard (1.0) of developability, sensitivity, and printing durability was set to the comparative example 5. The results are shown in Table 2.

表2に示すように、本発明のバインダーポリマーを用いることにより、本発明範囲外の比較例5および6に比べ、現像性、耐刷性、さらには、汚れ性をそれぞれ向上することが可能となっていることが分かる。さらに、比較例7、8に比べ画像形成感度の再現性が向上していることが分かる。   As shown in Table 2, by using the binder polymer of the present invention, it is possible to improve developability, printing durability, and stain resistance as compared with Comparative Examples 5 and 6 outside the scope of the present invention. You can see that Further, it can be seen that the reproducibility of the image formation sensitivity is improved as compared with Comparative Examples 7 and 8.

<実施例53〜92、比較例9〜12>
〔平版印刷版原版タイプIIIシリーズの作製〕
保護層塗布液を保護層塗布液2から保護層塗布液1に変更した以外は、下塗り塗布液処方も含め、平版印刷版原版IIシリーズと同様のものを用いた。
<Examples 53 to 92, Comparative Examples 9 to 12>
[Preparation of lithographic printing plate type III series]
Except for changing the protective layer coating solution from the protective layer coating solution 2 to the protective layer coating solution 1, the same one as in the lithographic printing plate precursor II series was used, including the undercoat coating solution formulation.

〔露光、現像および印刷〕
平版印刷版原版タイプIIIシリーズ各々の原版について、現像液1を現像液3に変更する以外は実施例1と同様に露光・現像・印刷を行った。
[Exposure, development and printing]
Each of the lithographic printing plate precursor type III series precursors was exposed, developed and printed in the same manner as in Example 1 except that the developer 1 was changed to the developer 3.

現像液3
・水 100.00g
・ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル 10.00g
(竹本油脂(株)製;パイオニンD3110)
・ポリスチレンスルホン酸 1.00g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
さらに、リン酸を用いて現像液のpHが5.0となるように調整した後、現像液3として使用した。
Developer 3
・ Water 100.00g
・ Polyoxyethylene lauryl amino ether 10.00g
(Takemoto Yushi Co., Ltd .; Pionein D3110)
・ Polystyrenesulfonic acid 1.00g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g
Furthermore, after adjusting so that the pH of a developing solution might be set to 5.0 using phosphoric acid, it was used as the developing solution 3.

〔評価〕
得られた平版印刷版について、実施例1と同様に評価を行った。ただし、現像性、感度、耐刷性の基準(1.0)は比較例9を基準値とした。結果を表3に示す。
[Evaluation]
The obtained lithographic printing plate was evaluated in the same manner as in Example 1. However, the standard (1.0) of developability, sensitivity, and printing durability was set to the comparative example 9. The results are shown in Table 3.

表3に示すように、本発明のバインダーポリマーを用いることにより、本発明範囲外の比較例9および10に比べ、現像性、耐刷性、さらには、汚れ性をそれぞれ向上することが可能となっていることが分かる。さらに、比較例11、12に比べ画像形成感度の再現性が向上していることが分かる。   As shown in Table 3, by using the binder polymer of the present invention, it is possible to improve developability, printing durability, and stain resistance as compared with Comparative Examples 9 and 10 outside the scope of the present invention. You can see that Further, it can be seen that the reproducibility of the image formation sensitivity is improved as compared with Comparative Examples 11 and 12.

<実施例93〜108、比較例13〜16>
〔平版印刷版原版タイプIVシリーズの作製〕
感光層塗布液を感光層塗布液2から下記に示す感光層塗布液3に変更した以外は、下塗
り塗布液処方も含め、平版印刷版原版タイプIIシリーズと同様のものを用いた。
<Examples 93 to 108 and Comparative Examples 13 to 16>
[Preparation of lithographic printing plate type IV series]
Except for changing the photosensitive layer coating solution from the photosensitive layer coating solution 2 to the photosensitive layer coating solution 3 shown below, the same one as in the planographic printing plate precursor type II series including the undercoat coating solution formulation was used.

感光層塗布液3
・本発明の特定バインダーポリマー(表4記載の例示化合物)
0.50g
・エチレン性不飽和結合を有する化合物 1.00g
(イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート;新中村化学工業(株)製
NKエステルM−315)
・ラジカル重合開始剤(I―2) 0.08g
・増感色素(D−2) 0.06g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
〔顔料:15質量部、分散剤としてアリルメタクリレート/メタクリル酸(80/20)共重合体:10質量部、溶剤としてシクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部〕
・熱重合禁止剤 0.01g
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・フッ素系界面活性剤(F−1) 0.001g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0g
・メチルエチルケトン 7.0g
Photosensitive layer coating solution 3
-Specific binder polymer of the present invention (Exemplary compounds described in Table 4)
0.50g
・ 1.00 g of a compound having an ethylenically unsaturated bond
(Isocyanuric acid EO-modified triacrylate; NK ester M-315, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・ Radical polymerization initiator (I-2) 0.08g
Sensitizing dye (D-2) 0.06g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
[Pigment: 15 parts by mass, Allyl methacrylate / methacrylic acid (80/20) copolymer as a dispersant: 10 parts by mass, Cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts as a solvent Parts / 40 parts by mass]
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
(N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
・ Fluorine-based surfactant (F-1) 0.001 g
・ 1-methoxy-2-propanol 7.0g
・ Methyl ethyl ketone 7.0g

〔露光、現像および印刷〕
平版印刷版原版タイプIVシリーズ各々について、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で、エネルギー密度を変えて画像露光を行った。得られた露光済み平版印刷版原版を、現像液1を現像液2に変更する以外は、実施例1と同様に現像し、印刷を行った。
[Exposure, development and printing]
Each of the lithographic printing plate precursor type IV series was subjected to image exposure with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser-mounted Creo Trendsetter 3244VX under the conditions of an outer drum rotation speed of 210 rpm and a resolution of 2400 dpi with varying energy density. The obtained exposed lithographic printing plate precursor was developed and printed in the same manner as in Example 1 except that the developer 1 was changed to the developer 2.

〔評価〕
得られた平版印刷版について、実施例1と同様に評価を行った。ただし、現像性、感度、耐刷性の基準(1.0)は比較例13を基準値とし、露光は前記の赤外線レーザーで行った(耐刷性・画像形成密度の再現性評価時の条件:出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpi)。
結果を表4に示す。
[Evaluation]
The obtained lithographic printing plate was evaluated in the same manner as in Example 1. However, the standard (1.0) of developability, sensitivity, and printing durability was set to the reference value of Comparative Example 13, and the exposure was performed with the infrared laser (conditions for evaluating reproducibility of printing durability and image formation density). : Output 9 W, outer drum rotation speed 210 rpm, resolution 2400 dpi).
The results are shown in Table 4.

表4に示すように、本発明のバインダーポリマーを用いることにより、本発明範囲外の比較例13および14に比べ、現像性、耐刷性、さらには、汚れ性をそれぞれ向上することが可能となっていることが分かる。さらに、比較例15、16に比べ画像形成感度の再現性が向上していることが分かる。   As shown in Table 4, by using the binder polymer of the present invention, it is possible to improve developability, printing durability, and stain resistance as compared with Comparative Examples 13 and 14 outside the scope of the present invention. You can see that Further, it can be seen that the reproducibility of the image formation sensitivity is improved as compared with Comparative Examples 15 and 16.

自動現像処理機の構造Structure of automatic processor

符号の説明Explanation of symbols

1:回転ブラシロール
2:受けロール
3:搬送ロール
4:搬送ガイド板
5:スプレーパイプ
6:管路
7:フィルター
8:給版台
9:排版台
10:現像液タンク
11:循環ポンプ
12:版
1: rotating brush roll 2: receiving roll 3: transport roll 4: transport guide plate 5: spray pipe 6: pipeline 7: filter 8: plate supply table 9: plate discharge table 10: developer tank 11: circulation pump 12: plate

Claims (9)

支持体上に、下記(A)〜(C)を含有する感光層を有する感光性組成物。
(A)主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマー
(B)エチレン性不飽和結合を有する化合物
(C)重合開始剤
A photosensitive composition having a photosensitive layer containing the following (A) to (C) on a support.
(A) Binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain (B) Compound having ethylenically unsaturated bond (C) Polymerization initiator
(A)主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーにおいて、正に荷電した窒素原子を有する基が下記一般式(1)〜(4)のいずれかで表される基を有することを特徴とする請求項1記載の感光性組成物。

式中、R〜Rは1価の置換基を表し、Xはアニオンを表す。RおよびR、R〜Rのうち任意の2つは、互いに結合して環を形成してもよい。一般式(2)及び(4)中、−N=C−は環状構造を構成する。
(A) In the binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain, groups having a positively charged nitrogen atom are represented by the following general formulas (1) to (1): The photosensitive composition according to claim 1, which has a group represented by any one of 4).

In the formula, R 1 to R 7 each represent a monovalent substituent, and X represents an anion. Any two of R 1 and R 2 and R 4 to R 6 may be bonded to each other to form a ring. In the general formulas (2) and (4), -N + = C- constitutes a cyclic structure.
(A)主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーが(メタ)アクリル樹脂またはウレタン樹脂であることを特徴とする請求項1または2に記載の感光性組成物。   (A) The binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain is a (meth) acrylic resin or a urethane resin. 2. The photosensitive composition according to 2. (A)主鎖および/または側鎖に少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーがウレタン樹脂であることを特徴とする請求項1または2に記載の感光性組成物。   (A) The photosensitivity according to claim 1 or 2, wherein the binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group in the main chain and / or side chain is a urethane resin. Composition. 前記一般式(1)〜(4)において、RおよびRの少なくとも1つ、R、 R〜Rの少なくとも1つ、およびRが水素原子である基を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の感光性組成物。 In the general formulas (1) to (4), at least one of R 1 and R 2 , R 3 , at least one of R 4 to R 6 , and R 7 have a hydrogen atom group, The photosensitive composition as described in any one of Claims 1-4. 前記少なくとも1つの正に荷電した窒素原子および少なくとも1つのアミノ基を有するバインダーポリマーが、アミノ基を有するポリマーのアミノ基の一部を酸で中和することによって作成されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の感光性組成物。   The binder polymer having at least one positively charged nitrogen atom and at least one amino group is made by neutralizing a part of the amino group of the polymer having an amino group with an acid, The photosensitive composition as described in any one of Claims 1-5. 前記感光層が、さらに(D)増感色素を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の感光性組成物。   The photosensitive composition according to claim 1, wherein the photosensitive layer further contains (D) a sensitizing dye. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の感光性組成物をレーザーで画像露光した後、pH
が2〜6.5の現像液の存在下、未露光部の感光層を除去することを特徴とする画像形成方法。
After image-exposing the photosensitive composition as described in any one of Claims 1-7 with a laser, pH
A method for forming an image, comprising: removing an unexposed photosensitive layer in the presence of a developing solution of 2 to 6.5.
請求項1〜7のいずれか一項に記載の感光性組成物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。   A lithographic printing plate precursor comprising the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 7.
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