[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2009199640A - メモリテスト回路及び半導体メモリ装置 - Google Patents

メモリテスト回路及び半導体メモリ装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2009199640A
JP2009199640A JP2008038121A JP2008038121A JP2009199640A JP 2009199640 A JP2009199640 A JP 2009199640A JP 2008038121 A JP2008038121 A JP 2008038121A JP 2008038121 A JP2008038121 A JP 2008038121A JP 2009199640 A JP2009199640 A JP 2009199640A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory
circuit
register
test
result information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008038121A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Noguchi
隆史 野口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Electronics Corp
Original Assignee
NEC Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Electronics Corp filed Critical NEC Electronics Corp
Priority to JP2008038121A priority Critical patent/JP2009199640A/ja
Publication of JP2009199640A publication Critical patent/JP2009199640A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

【課題】チップ外に設ける端子数を少なくすることができるメモリテスト回路及び半導体メモリ装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるメモリテスト回路41は、メモリセルと、当該メモリセルが不良メモリセルである場合に置き換えて救済するための冗長セルとを有する半導体メモリ装置に設けられている。冗長セルが使用されていないテスト結果情報を格納するAレジスタ32と、冗長セルが使用されているテスト結果情報を格納するBレジスタ33の2種類のレジスタを設けている。Aレジスタ32よりテスト結果情報を読み出してテスト用の置換アドレスデータを生成し、Bレジスタ33よりテスト結果情報を読み出して外部に出力する。
【選択図】 図4

Description

本発明は、メモリテスト回路及び半導体メモリ装置に関し、より詳しくは、冗長回路を備えた半導体メモリ装置におけるメモリテスト技術に関するものである。
通常、半導体チップに搭載された1つ、または複数のメモリマクロのテストを行うには、当該半導体チップに搭載された全メモリマクロの入出力端子数と同数以上の端子をチップ外に設ける必要がある。さらに、近年のメモリマクロの多ビット化や搭載数の増加に伴い、チップ外に設ける端子数についても増加傾向にある。また、チップ内に搭載されるメモリマクロの数が増加することで、チップ内に不良メモリセルが含まれる確率も高まっており、この不良メモリセルの冗長セルによる置換救済や不良原因の解析が不可欠となってきていることも、チップ外に設ける端子数の増加の一因となっている。
このため、チップ外に設ける端子数の増加を抑え、且つメモリマクロの不良メモリセルの置換救済や不良原因の解析を行えるテスト手法が近年求められている。
次に、特許文献1に開示された、従来の半導体メモリ装置の例について説明する。この半導体メモリ装置は、メモリセルにおいて製造工程中に発生する欠陥を救済するための冗長回路(以下、「リダンダンシー回路」と称する場合あり)を備えている。
図1は、従来の半導体メモリ装置の回路構成図、図2は図1の半導体メモリ装置のメモリテスト回路10の回路構成図である。
この半導体メモリ装置では、不良のローアドレスを決めるアドレス信号(A0〜An)に対応する置換アドレスを記憶し、入力されたアドレスと、記憶された置換アドレスとの一致を検出する一致検出回路20を置換アドレス数(m個)分だけ備えている。そして、入力されたアドレスと置換アドレスが一致した場合に成立する信号(AE1〜AEm)に対応してスペアローライン(SWL1〜SWLm)が設けられ、これらのうちいずれかのスペアローラインがアクセスされるとメインデコーダの成立をスペアイネーブル信号/(SE)によって禁止する構成になっている。各回路20はリダンダンシー回路を使用する場合に利用するアドレス検知回路をイネーブルにするためのリダンダンシーイネーブルビット(F'E1〜F'Em)及び置換アドレス検知用ビット(F'01〜F'nm)を備えている。
一致検出回路20の出力は、AND回路11に入力されている。AND回路11の出力(AE1〜AEm)は、テストモード2のときに"1"になる信号(TEST2:図1参照)によって制御され、スペアローアドレスを決めるアドレス信号とのマルチプレクサ25に入力され、各レベルシフタ12を介してスペアローラインに入力される。また、AND回路11の出力(AE1〜AEm)とTEST2信号は、NOR回路13に入力され、その出力/(SE)は、ローデコーダ8を介してローラインに入力される。また、アドレスバスからのアドレス信号(A0〜An)もその反転信号とともにローデコーダ8を介してローラインに入力される。
図3は、特許文献1に開示された一致検出回路20の回路構成を示す。リダンダンシーイネーブルビット(F'E1〜F'Em)のそれぞれにおいて、一端がGNDに接続されたヒューズ素子Fの他端は、ゲートにRESET反転信号が入力されているPチャネル負荷トランジスタTrが接続されている。その接続点fEが第1のレジスタ21のデータ入力となる。第1のレジスタ21は、ヒューズ素子Fからのデータを格納する機能を有しており、ラッチ信号としてRESET信号が入力される。さらに外部からテスト用の置換アドレス情報を格納するための第2のレジスタ22を設けている。この第2のレジスタ22に対して、データ入力DATAとしてデータバスよりデータが入力され、ラッチ信号としてFUSEデータ書込み制御信号(WRFUSE)が入力される。
第1と第2のレジスタ21、22の出力をレジスタ選択信号に応じて選択する選択回路であるマルチプレクサ25を設けている。通常のモード(RSELECT=0)のときは、第1のレジスタ21のデータを出力し、TESTモード(RSELECT=1)のときは、第2のレジスタ22のデータを出力する。また、更にこの出力をデータバスに掃き出す3ステートバッファ23をデータ出力DATAとマルチプレクサ25の出力の間に設け、FUSEデータの読み出し信号(RDFUSE)で制御する。リダンダンシーイネーブルビット(F'E1〜F'Em)は、マルチプレクサ25の出力をそのまま取り出してスペアイネーブル信号(SE)として使用する。
置換アドレス検知用ビット(F'01〜F'n1)は、マルチプレクサ25の出力とアドレス信号(A0〜An)とをエクスクルーシブノア回路24に入力させて得られる出力信号(SA0〜SAn)を使用し、他の構成は、リダンダンシーイネーブルビットと同じ構成であり、ヒューズ素子FとPチャネル負荷トランジスタTrとを接続する接続点f01〜fnmを第1のレジスタ21のデータ入力とする。
特開平9−35493号公報
上述の従来技術にかかる半導体メモリ装置では、テストモードにおいて、第2のレジスタ22に対して、テスト用の置換アドレス情報を格納するようにし、この置換アドレス情報に基づいて不良ビットのセルを冗長セルと置き換えてテストすることができ、ヒューズ素子Fを溶断する前の第1回目のテストのときに冗長セルの書き込み/読み出しテストが可能となり、ヒューズ素子Fを溶断した後に冗長セルだけのために書き込み/読み出しテストを行わずに済み、高温放置後、第2回目のテストにおいて実際に置き換わっているかテストするだけでよく、パッドに与える損傷を最小限に抑えるとともにテストの効率化を図ることができる。
しかしながら、テスト用の置換アドレス情報は外部からデータバスを経由しテスト用の置換アドレス情報格納用の第2のレジスタ22に供給され、さらに、メモリセルへの書込み/読み出しデータも外部とデータバスを経由して入出力が行われるため、チップに搭載された全メモリマクロの入出力端子数と同数以上の端子をチップ外に設ける必要がある。このため、従来例では、チップ外に設ける端子数が多くなるという課題があった。
本発明にかかるメモリテスト回路は、メモリセルと、当該メモリセルが不良メモリセルである場合に置き換えて救済するための冗長セルとを有する半導体メモリ装置のメモリテスト回路であって、冗長セルが使用されていないテスト結果情報を格納する第1のレジスタと、冗長セルが使用されているテスト結果情報を格納する第2のレジスタと、前記第1のレジスタより前記テスト結果情報を読み出してテスト用の置換アドレスデータを生成する置換アドレスデータ生成手段と、前記第2のレジスタよりテスト結果情報を読み出して外部に出力するテスト結果情報出力手段とを備えたものである。
本発明によれば、テスト用の置換アドレス情報はメモリテスト回路内部で生成されるので、外部から置換アドレス情報を入力するためのデータバスが不要となるため、チップ外に設ける端子数を少なくすることができる。
本発明によれば、チップ外に設ける端子数を少なくすることができるメモリテスト回路及び半導体メモリ装置を提供することができる。
本発明の実施の形態にかかる半導体メモリ装置は、置換アドレス情報の外部入力を不要とするための回路を備えている。図4に本実施の形態にかかるメモリテスト回路の構成を示す。
本実施の形態にかかるメモリテスト回路41は、BIT P/F判定回路30と、書込先選択回路31と、Aレジスタ32と、Bレジスタ33と、BIT選択回路34と、メモリセルの置換アドレス情報信号REDADDを生成する冗長セル切換え演算回路35を新たに設けている。当該メモリテスト回路41は、他に公知の技術である不良アドレス情報と各入力アドレス情報との一致を検出する一致検出回路20と、AND回路11を備えている。
BIT P/F判定回路30には、データ端子から入力された、半導体メモリ装置に含まれるメモリセル及び冗長セルに対してテストのために書き込まれた書き込みデータが入力されるとともに、このデータが書き込まれたメモリセル及び冗長セルから読み出された読み出しデータがデータバスから入力される。BIT P/F判定回路30は、これらの書き込みデータと読み出しデータとを比較し、そのテスト結果情報であるPass/Fail情報43として書込先選択回路31に出力する。これらの書き込みデータと読み出しデータは、それぞれ、半導体メモリ装置の全ビットに対応するものである。ここで、Pass/Fail情報43は、ビット毎に生成されるPass/Fail情報であり、メモリの全ビット数のボリュームを有する。なお、Pass(パス)は書き込みビットと読み出しビットが一致した場合、Fail(フェイル)は書き込みビットと読み出しビットが不一致の場合をそれぞれ示す。
書込先選択回路31は、BIT P/F判定回路30から出力されたPass/Fail情報43と、AND回路11から出力された冗長セル切換え信号(AE1〜AEm)が入力される。書込先選択回路31は、テストを行ったメモリの全ビットの中に、冗長セルが使用されているかどうかを、当該冗長セル切換え信号(AE1〜AEm)に基づいて判定する。判定の結果、冗長セルが使用されていると判定した場合には、Bレジスタ33のみを選択し、このBレジスタ33に当該Pass/Fail情報46を書きこむ。他方、冗長セルが使用されていないと判定した場合には、Aレジスタ32とBレジスタ33の双方を選択し、Aレジスタ32とBレジスタ33の双方に当該Pass/Fail情報44を書きこむ。
Aレジスタ32は、冗長セル切換え演算回路35と接続され、当該Aレジスタ32に格納されたPass/Fail情報45は冗長セル切換え演算回路35に出力される。
冗長セル切換え演算回路35は、入力されたPass/Fail情報45に基づいて、置換アドレス情報信号REDADDを生成し、一致検出回路20に出力する。ここで、置換アドレス情報は、Aレジスタ32に書き込まれたビットのうちFailしたビットが何番目に相当するかを示すアドレス情報である。たとえば、00、01、02・・・・15までのビットについて「10」のみがFailした場合における置換アドレス情報は、十進法の「10」を2進法にデコードした「1010」となる。このとき、冗長セル切換え演算回路35には、冗長セルによって救済されていない場合のテスト結果情報、即ちすべてメモリセルを用いた場合のテスト結果情報を示すPass/Fail情報45が入力されているから、Failとなったビットは、冗長セルによって救済されるべきものであり、置換アドレス情報は、そのアドレスを特定するものである。冗長セル切換え演算回路35は、Pass/Fail情報45に基づいて、不良ビットの有無の判定を行い、かつ冗長回路による救済が可能かどうかの判定も行う。
Bレジスタ33は、BIT選択回路34と接続され、当該Bレジスタ33に格納されたPass/Fail情報47はBIT選択回路34に出力される。
BIT選択回路34は、Pass/Fail情報47を入力し、シリアルデータに変換してデータ端子に出力する回路である。BIT選択回路34は、また、Pass/Fail情報47に基づき不良ビットの有無の判定も行う。
メモリテスト回路41において、一致検出回路20とAND回路11の組は、置換ビットアドレス数(m個)分設けられている。一致検出回路20に対しては、RESET信号、アドレスバスからの入力アドレス信号、RSELECT信号、RDFUSE信号、WRFUSE信号が入力される。一致検出回路20は、AND回路11と接続され、当該一致検出回路20から出力された信号SAn1〜SE1、SAnm〜SEmは、接続先のAND回路11に出力される。AND回路11はリダンダンシー信号(AE1〜AEm)を外部と書込先選択回路31に出力する。
続いて、図5を用いて、図4に示すメモリテスト回路41を有する半導体メモリ装置の回路構成について説明する。
図5に示されるように、半導体メモリ装置は、メモリ部と、メモリテスト回路41と、ビットセレクタ9と、レベルシフタ12と、NOR回路13と、マルチプレクサ25とを備えている。
メモリ部は、データバスを介してメモリテスト回路41と接続されている。ここで、データは、データ端子からシリアル入力されたデータをパラレル変換し、データバスを介してメモリ部に入力される。メモリ部は、メモリセルアレイ(図示せず)と、冗長セル(図示せず)と、カラムセレクタ及びセンスアンプ(図示せず)を備えている。メモリセルアレイ中のメモリセルのゲートは、ローラインに接続されている。リダンシーセルのそれぞれのゲートは、n本のスペアローラインに接続されている。メモリセル及び冗長セルのソース/ドレイン電極の一方はグランド線に接続され、他方は、ビットラインに接続されている。ビットラインは、カラムセレクタ及びセンスアンプに接続され、各センスアンプからのデータ信号はデータバスに出力される。
メモリテスト回路41には、データ端子からのデータ信号と、RSELECT信号と、RDFUSE信号と、WRFUSE信号と、RESET信号と、アドレスバスからのアドレス信号が入力され、リダンダンシー信号(AE1〜AEm)を出力する。
メモリテスト回路41は、NOR回路13と接続され、当該NOR回路13に対してリダンダンシー信号(AE1〜AEm)を出力する。また、メモリテスト回路41は、置換ローアドレス毎に設けられたマルチプレクサ25(選択回路)と接続され、当該マルチプレクサ25に対してリダンダンシー信号(AE1〜AEm)を出力する。
NOR回路13には、リダンダンシー信号(AE1〜AEm)に加えて、TEST2信号が入力される。NOR回路13の出力/(SE)はビットセレクタ9に入力される。ビットセレクタ9にはNOR回路13の出力/(SE)に加えて、アドレスバスからの入力アドレス情報(A0〜An)とその反転信号がそれぞれ入力される。
ビットセレクタ9の出力信号は、レベルシフタ12を介してメモリセル部のビットラインに入力される。マルチプレクサ25には、リダンダンシー信号(AE1〜AEm)とアドレスバスからの入力アドレス信号(A0〜An)とTEGT2信号が入力される。マルチプレクサ25の出力信号は、レベルシフタ12を介してメモリセル部のスペアビットラインに入力される。
不良アドレス情報と各入力アドレス情報との一致を検出する一致検出回路20は、従来例として説明した図3の構成と同じであり、その説明を省略する。
続いて、図4及び図5を用いて、本実施の形態にかかるメモリテスト回路41の動作について説明する。ここで、置換アドレス情報信号REDADDとデータバスからの入力アドレス信号が入力され、冗長セル切換え信号(AE1〜AEm)を出力する回路として、図3に示す一致検出回路20が用いられている。なお、本実施の形態にかかるメモリテスト回路41における一致検出回路20は、図3に示す回路構成に限らず、他の回路構成を有するものであってもよい。
メモリテスト回路41は、不良のビットアドレスを決めるアドレス信号(A0〜An)に対応する置換アドレスを記憶し、入力されたアドレスと、記憶された置換アドレスとの一致を検出する一致検出回路20を、置換アドレス数(m個)分備えている。すなわち、m個の一致検出回路20のそれぞれに対しては、それぞれに対応した異なる置換アドレスが供給される。入力されたアドレスと置換アドレスと一致した場合に成立する信号(AE1〜AEm)に対して、それぞれスペアビットライン(SBL1〜SBLm)が設けられている。そして、いずれかのスペアビットラインがアクセスされるとメインセレクタの成立をスペアイネーブル信号/(SE)によって禁止する。
テストモードのときに一致検出回路20の第2のレジスタ22に入力される置換アドレス情報信号REDADDは、メモリテスト回路41内部で生成されて、冗長セル切換え回路35から供給される。
より具体的には、まず、BIT P/F判定回路30には、データ端子から入力された、半導体メモリ装置に含まれるメモリセル及び冗長セルに対してテストのために書き込まれた書き込みデータが入力されるとともに、このデータが書き込まれたメモリセル及び冗長セルから読み出された読み出しデータがデータバスから入力される。
BIT P/F判定回路30は、これらの書き込みデータと読み出しデータとを比較し、その結果をPass/Fail情報43として書込先選択回路31に出力する。
書込先選択回路31は、BIT P/F判定回路30から出力されたPass/Fail情報43と、AND回路11から出力された冗長セル切換え信号(AE1〜AEm)が入力される。
書込先選択回路31は、テストを行ったメモリの全ビットの中に、冗長セルが使用されているかどうかを、当該冗長セル切換え信号(AE1〜AEm)に基づいて判定する。判定の結果、冗長セルが使用されていると判定した場合には、Bレジスタ33のみを選択し、このBレジスタ33に当該Pass/Fail情報46を書きこむ。他方、冗長セルが使用されていないと判定した場合には、Aレジスタ32とBレジスタ33の双方を選択し、Aレジスタ32とBレジスタ33の双方に当該Pass/Fail情報44を書きこむ。より具体的には、AND回路11の出力(AE1〜AEm)のいずれかが"1"レベルの場合、書込先選択回路31は冗長セルが使用されていると判定し、Pass/Fail情報43の書込み先をBレジスタ33のみとする。他方、書込先選択回路31は、AND回路11の出力が全て"0"レベルの場合、冗長セルが使用されていないと判定し、Pass/Fail情報43の書込み先をAレジスタ32及びBレジスタ33の両方とする。
Aレジスタ32に格納された冗長セル無Pass/Fail情報45は冗長セル切換え演算回路35に出力される。冗長セル切換え演算回路35は、入力された冗長セル無Pass/Fail情報45に基づいて、置換アドレス情報信号REDADDを生成し、一致検出回路20に出力する。置換アドレス情報信号REDADDには、冗長セルが使用されておらず、メモリセルだけで書き込み及び読み出しテストが行われた結果、Failと判断された不良メモリセルを特定する情報が含まれているから、これに基づいて、一致検出回路20において、次のテストの際に、これらの不良メモリセルを冗長セルと置き換えて書き込み及び読み出しテストを実行することができる。
Bレジスタ33に格納された冗長セル有/無Pass/Fail情報47はBIT選択回路34に出力される。BIT選択回路34は、冗長セル有/無Pass/Fail情報47を入力し、シリアルデータに変換してデータ端子に出力する。
一致検出回路20については、他の回路構成例であってもよい。図6は、他の構成にかかる一致検出回路40の回路構成を示している。
一致検出回路40の各リダンダンシーイネーブルビット(F"E1〜F"Em)は、Pチャネル負荷トランジスタTrが設けられている。Pチャネル負荷トランジスタTrのソース端子は、GNDに接続されたヒューズ素子Fの他端に接続され、そのゲートはRESET反転信号が入力されている。Pチャネル負荷トランジスタTrとヒューズ端子Fとのの接続点fEは、第1のレジスタ21のデータ入力である。
第1のレジスタ21は、ヒューズ素子Fからのデータを格納するためのものであり、ラッチ端子にはRESET信号が入力される。テスト用置換アドレス情報であるREDADD信号は、冗長セル切換え演算回路35より生成/供給される。第1レジスタ21の出力とREDADD信号は、マルチプレクサ25に入力される。マルチプレクサ25は、第1レジスタ21の出力とREDADD信号をレジスタ選択信号に応じて選択する。リダンダンシーイネーブルビット(F'E1〜F'Em)はマルチプレクサ25の出力をそのまま取り出してスペアイネーブル信号(SE)として使用する。
置換アドレス検知用ビット(F'01〜F'n1)は、マルチプレクサ25の出力とアドレス信号(A0〜An)とをエクスクルーシブノア回路24に入力させて得られる出力信号(SA0〜SAn)を使用し、他の構成は、リダンダンシーイネーブルビットと同じ構成であり、ヒューズ素子FとPチャネル負荷トランジスタTrとを接続する接続点f01〜fnmを第1のレジスタ21のデータ入力とする。ここで、冗長セル切換え演算回路35より生成されたREDADD信号は、冗長セルにより救済されていない状態におけるテスト結果情報においてFailであると判定されたビットを特定する情報であるから、これと、アドレス信号(A0〜An)の一致を検出し、一致した場合に信号AE1〜AEmのいずれかが"1"となり、不良メモリセルを冗長セルによって置換してテストを行うことができる。
本実施の形態における一致検出回路40は、一致検出回路20と比較すると、置換アドレスデータを格納するための第2のレジスタ22と、前記レジスタ22のラッチ信号であるFUSEデータ書込み制御信号WRFUSEと、第1と第2のレジスタ21、22の出力をレジスタ選択信号に応じて選択するマルチプレクサ25の出力をデータバスに掃き出す3ステートバッファ23と、3ステートバッファの制御信号であるFUSEデータの読み出し信号RDFUSEが不要となる点で異なる。
続いて、図7に示すフローチャートを用いて、本実施の形態にかかるメモリテストの流れについて説明する。
最初に、メモリアレイ部の書き込み・読み出しテストを実行する(S101)。次に、BIT P/F判定回路30は、ステップS101における読み出しデータと書き込みデータとの比較を行い、ビット毎のPass/Fail判定を実行する(S102)。
続いて、書込先選択回路31は、ステップS101のテストを実行した際に冗長セルを使用したか否かを判定する(S103)。判定の結果、冗長セルを使用していないと判定した場合、書込先選択回路31は、ビット毎のPass/Fail結果をAレジスタ/Bレジスタの両方に書き込む(S104)。
続いて冗長セル切換え演算回路35は、不良ビットの有無判定を行う(S105)。冗長セル切換え演算回路35が不良ビットがないと判定した場合は良品と判定する(S120)。冗長セル切換え演算回路35が不良ビットがあると判定した場合には、さらに、リダンダンシー回路による救済(以下、単に「リダンダンシー救済」とする)が可能かどうかの判定を行う(S106)。
リダンダンシー救済が可能であると判定した場合、冗長セル切換え演算回路35は、Pass/Fail情報45に基づいて冗長セル切換え演算を実行し(S107)、冗長セル切換えを実行する(S108)。冗長セルの切換えの後、再度メモリアレイ部のテストを実施する(S101)。
ステップS103において、書込先選択回路31は、メモリテストを実行した際に冗長セルを使用したと判定した場合は、ビット毎のPass/Fail情報をBレジスタ33に書き込む(S109)。
次に、BIT選択回路34は、Bレジスタ33に書き込まれたPass/Fail情報に基づいて不良ビットの有無判定を行う(S110)。BIT選択回路34は、不良ビットがないと判定した場合はヒューズカット後に良品と判定する(S121)。不良ビットがあると判定した場合には、不良であると判定する(S122)。なお、ステップS106においてリダンダンシー救済が不可であると判定された場合も同様に、不良であると判定される(S122)。
不良判定後、BIT選択回路34は、不良ビット解析のためにBレジスタのPass/Fail情報を選択出力し、所望の出力が完了するまでBレジスタからの出力動作のみを繰り返し、外部にメモリセルの不良ビット情報を出力する(S111,S112)。
このように、本実施の形態にかかる半導体メモリ装置では、テストモードにおいて、第2のレジスタ22に対して、テスト用の置換アドレス情報を格納するようにし、この置換アドレス情報に基づいて不良ビットのセルを冗長セルと置き換えてテストすることができ、ヒューズ素子Fを溶断する前の第1回目のテストのときに冗長セルの書き込み/読み出しテストが可能となり、ヒューズ素子Fを溶断した後に冗長セルだけのために書き込み/読み出しテストを行わずに済み、高温放置後、第2回目のテストにおいて実際に置き換わっているかテストするだけでよく、パッドに与える損傷を最小限に抑えるとともにテストの効率化を図ることができる。
また、テスト用の置換アドレス情報はメモリテスト回路内部で生成/供給されるので、外部から置換アドレス情報を入力するためのデータバスが不要となることと、メモリセルへの書込み/読み出しデータもBレジスタ33に情報を保持し、BIT選択回路により任意BITの情報を選択的に入出力できるため、データバスを経由してデータの入出力を行う必要がなくなることより、チップに搭載された全メモリマクロの入出力端子数と同数以上の端子をチップ外に設ける必要がなくなる。また、P/F判定回路43からのPass/Fail情報を記憶するためのBレジスタ33と、Bレジスタ33の出力情報を外部にシリアル信号で選択出力するためのBIT選択回路34とを有することにより、外部とのメモリセルへの書込み/読み出しデータの入出力に使用していたデータバスが不要となり、チップ外部に設ける端子数をBIT選択回路の構成により最大(1/総ビット数)まで削減することが可能となる。
さらに、本発明によれば、従来技術において外部から供給されていた置換アドレス情報をテスト回路内部で生成/供給し、直接各入力アドレスと比較することが可能となるため、図6に示す回路構成例に示されるように、外部から入力される置換アドレス情報を保持していた第2のレジスタを設ける必要がなく、冗長なレジスタを削減することも可能となる。
さらに、また、テスト用の置換アドレス情報が内部で生成/供給されることにより、外部から置換アドレス情報を入力するための専用モード(第3のモード)が不要となり、テスト工程が少なくとも1ステップ削減できる。
なお、本発明にかかる半導体メモリ装置における置換単位は、ローであってもカラムであってもよい。
従来技術にかかる半導体メモリ装置の回路図である。 従来技術にかかるメモリテスト回路の回路図である。 従来技術及び本発明にかかる半導体メモリ装置における一致検出回路の回路図である。 本発明にかかるメモリテスト回路の回路図である。 本発明にかかる半導体メモリ装置の回路図である。 本発明にかかる半導体メモリ装置における一致検出回路の回路図である。 本発明にかかるメモリテストの流れを示すフローチャートである。
符号の説明
8・・・ローデコーダ
9・・・ビットセレクタ
10・・・メモリテスト回路
11・・・AND回路
12・・・レベルシフタ
13・・・NOR回路
20・・・一致検出回路
21・・・第1のレジスタ
22・・・第2のレジスタ
23・・・3ステートバッファ
24・・・エクスクルーシブノア回路
25・・・マルチプレクサ
26・・・OR回路
30・・・P/F判定回路
31・・・書込先選択回路
32・・・Aレジスタ
33・・・Bレジスタ
34・・・BIT選択回路
35・・・冗長セル切換え演算回路
40・・・一致検出回路
41・・・メモリテスト回路
43〜47・・・Pass/Fail情報

Claims (7)

  1. メモリセルと、当該メモリセルが不良メモリセルである場合に置き換えて救済するための冗長セルとを有する半導体メモリ装置のメモリテスト回路であって、
    冗長セルが使用されていないテスト結果情報を格納する第1のレジスタと、
    冗長セルが使用されているテスト結果情報を格納する第2のレジスタと、
    前記第1のレジスタより前記テスト結果情報を読み出してテスト用の置換アドレスデータを生成する置換アドレスデータ生成手段と、
    前記第2のレジスタよりテスト結果情報を読み出して外部に出力するテスト結果情報出力手段とを備えたメモリテスト回路。
  2. メモリテストのために前記メモリセルに書き込んだデータと、当該書き込みデータが書き込まれた後にメモリセルから読み出されたデータとの比較を行い、ビット毎のテスト結果情報を生成するビット単位判定回路をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載のメモリテスト回路。
  3. 少なくともメモリセルを含むセルのテストにおいて冗長セルが使用されているか否かを判定し、使用なしと判定した場合に前記第1のレジスタと前記第2のレジスタの両方に対して当該テスト結果情報を書き込み、使用ありと判定した場合に前記第2のレジスタのみに当該テスト結果情報を書き込む書込み先選択回路をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2記載のメモリテスト回路。
  4. 前記書込み先選択回路は、入力アドレスビットと、テスト用の置換アドレス情報との一致を検出する一致検出回路からの出力信号に応じて前記冗長セルの使用の有無を判定することを特徴とする請求項3記載のメモリテスト回路。
  5. 前記置換アドレスデータ生成手段は、前記第1のレジスタの格納されたテスト結果情報に含まれるフェイル情報のアドレス情報を、置換アドレスデータとして生成することを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載のメモリテスト回路。
  6. 前記テスト結果情報出力手段は、前記救済後のテスト結果情報をシリアル出力することを特徴とする請求項1〜5いずれかに記載のメモリテスト回路。
  7. 請求項1〜6いずれかに記載のメモリテスト回路と、メモリ部とを備えた半導体メモリ装置。
JP2008038121A 2008-02-20 2008-02-20 メモリテスト回路及び半導体メモリ装置 Pending JP2009199640A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008038121A JP2009199640A (ja) 2008-02-20 2008-02-20 メモリテスト回路及び半導体メモリ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008038121A JP2009199640A (ja) 2008-02-20 2008-02-20 メモリテスト回路及び半導体メモリ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009199640A true JP2009199640A (ja) 2009-09-03

Family

ID=41142996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008038121A Pending JP2009199640A (ja) 2008-02-20 2008-02-20 メモリテスト回路及び半導体メモリ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009199640A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112542199A (zh) * 2020-12-30 2021-03-23 深圳市芯天下技术有限公司 检测flash存储出错的方法、电路、存储介质和终端

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0645451A (ja) * 1992-07-27 1994-02-18 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPH0935493A (ja) * 1995-07-15 1997-02-07 Toshiba Corp 半導体メモリ装置、マイクロコントローラ及び半導体メモリ装置の製造方法
JP2001035187A (ja) * 1999-07-21 2001-02-09 Hitachi Ltd 半導体装置およびその冗長救済方法
JP2001266589A (ja) * 2000-03-21 2001-09-28 Toshiba Corp 半導体記憶装置およびそのテスト方法
JP2002042494A (ja) * 2000-07-19 2002-02-08 Toshiba Microelectronics Corp 半導体記憶装置
JP2006302464A (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Nec Electronics Corp 半導体記憶装置
JP2006331571A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2007066380A (ja) * 2005-08-30 2007-03-15 Elpida Memory Inc 冗長回路及びその冗長回路を備えた半導体装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0645451A (ja) * 1992-07-27 1994-02-18 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPH0935493A (ja) * 1995-07-15 1997-02-07 Toshiba Corp 半導体メモリ装置、マイクロコントローラ及び半導体メモリ装置の製造方法
JP2001035187A (ja) * 1999-07-21 2001-02-09 Hitachi Ltd 半導体装置およびその冗長救済方法
JP2001266589A (ja) * 2000-03-21 2001-09-28 Toshiba Corp 半導体記憶装置およびそのテスト方法
JP2002042494A (ja) * 2000-07-19 2002-02-08 Toshiba Microelectronics Corp 半導体記憶装置
JP2006302464A (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Nec Electronics Corp 半導体記憶装置
JP2006331571A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2007066380A (ja) * 2005-08-30 2007-03-15 Elpida Memory Inc 冗長回路及びその冗長回路を備えた半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112542199A (zh) * 2020-12-30 2021-03-23 深圳市芯天下技术有限公司 检测flash存储出错的方法、电路、存储介质和终端
CN112542199B (zh) * 2020-12-30 2024-04-12 芯天下技术股份有限公司 检测flash存储出错的方法、电路、存储介质和终端

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5127737B2 (ja) 半導体装置
JP2007257791A (ja) 半導体記憶装置
JP2010123159A (ja) 半導体集積回路
JP2003272399A (ja) 半導体メモリの検査、欠陥救済方法、及び半導体メモリ
JP5611916B2 (ja) 半導体集積回路
US7405989B2 (en) Electrical fuses with redundancy
JP2010244596A (ja) 集積回路
JP3967704B2 (ja) 半導体記憶装置とそのテスト方法
US11929136B2 (en) Reference bits test and repair using memory built-in self-test
US7013414B2 (en) Test method and test system for semiconductor device
JP4824083B2 (ja) 半導体メモリ
US20220277800A1 (en) Memory system with redundant operation
JP4257342B2 (ja) 半導体記憶装置、メモリモジュール及びメモリモジュールの検査方法
JP4891748B2 (ja) 半導体集積回路およびそのテスト方法
US10043588B2 (en) Memory device
JP3930446B2 (ja) 半導体装置
JP2011099835A (ja) スキャンテスト回路及びスキャンテスト方法
US8006143B2 (en) Semiconductor memory device and semiconductor memory device test method
JP2009199640A (ja) メモリテスト回路及び半導体メモリ装置
CN110827878B (zh) 存储器装置
KR100871691B1 (ko) 병렬 비트 테스트 방법 및 그 방법을 사용하는 반도체메모리 장치
US11532375B2 (en) Latch circuit and memory device including the same
JP6749965B2 (ja) メモリデバイス
KR20030058256A (ko) 플래시 메모리 소자 및 그의 리페어 방법
KR101051943B1 (ko) 반도체 메모리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100806

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120626

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121023