JP2008139555A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶表示装置において、シール材の未硬化を抑制すると共に、表示品位の低下を抑制する。
【解決手段】互いに対向して配置されたカラーフィルター基板２０及びＴＦＴ基板１０と、カラーフィルター基板２０及びＴＦＴ基板１０の間に設けられた液晶層１５と、カラーフィルター基板２０及びＴＦＴ基板１０の間に設けられ、液晶層１５を封止するためのＵＶ硬化型のシール材１６と、カラーフィルター基板２０にシール材１６に重畳するように設けられた遮光層２１ｃとを備えた液晶表示装置であって、遮光層２１ｃは、シール材１６にカラーフィルター基板２０側からのＵＶ光１を到達させるように開口した開口部Ａを有し、シール材１６は、遮光性の着色材１６ａを含んでいる。
【選択図】図４

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に、シール材にＵＶ硬化型樹脂を用いた液晶表示装置に関するものである。

従来より広く知られた液晶表示装置は、一対の透明基板がシール材によって接合され、それらの基板間に液晶材料が封入された液晶パネルを備えている。そして、液晶表示装置では、画像の最小単位である画素毎に、能動素子として、薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と称する）などが設けられたアクティブマトリクス駆動方式のものがよく利用されている。

このアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置は、ＴＦＴなどが形成されたＴＦＴ母基板と、カラーフィルター層などが形成されたカラーフィルター母基板とを各液晶パネル形成部（セル単位）毎に枠状に設けられたシール材を介して貼り合わせ、その貼り合わせ基板を各セル単位毎に分割した後に、各セル単位を構成する基板間に液晶材料を真空注入法などによって注入することにより製造される。

ここで、液晶材料を基板間に注入する方法としては、上記真空注入法が従来より実用化されているが、近年、滴下注入法が採用されるようになっている。

上記滴下注入法は、例えば、カラーフィルター基板にシール材を枠状に描画し、その枠状に描画されたシール材の内側に液晶材料を滴下した後に、そのカラーフィルター基板とＴＦＴ基板とを貼り合わせる方法であるので、従来の真空注入法と比較して、液晶材料の使用量を大幅に低減できる、液晶材料を注入する時間を短縮できる、及び基板の貼り合わせと液晶材料の封入とを同時に行うことにより製造コストを削減できるなどの利点を有している。

ところで、上記滴下注入法では、加熱によって硬化する熱硬化型のシール材ではなく、ＵＶ光の照射によって硬化するＵＶ硬化型のシール材が一般的に用いられている。

そのため、シール材に対してカラーフィルター基板側からＵＶ光を照射する場合には、カラーフィルター基板上に遮光膜として設けられたブラックマトリクスによりＵＶ光が遮断されるので、シール材の硬化を進行させることが困難である。ここで、ブラックマトリクスは、シール材を形成するシール材形成領域に、バックライトからの光が漏れて表示品位を低下させないように目隠し（遮光）するために、例えば、クロム蒸着膜や黒色樹脂などにより形成されているので、シール材に対してカラーフィルター基板側からＵＶ光を照射しようとしても、ＵＶ光がそのブラックマトリクスの遮断によってシール材に到達せずに、シール材の硬化がほとんど進行しないことになる。

また、シール材に対してＴＦＴ基板側からＵＶ光を照射する場合には、ＴＦＴ基板上に設けられた金属配線によって、ＵＶ光の一部が遮断されるので、シール材の硬化が不十分になるおそれがある。そうなると、製造された液晶表示装置を、例えば、通電エージングなどの試験装置などに投入した場合には、シール材の未硬化成分が液晶材料の成分と反応したり、液晶材料内に拡散溶解したりするので、点灯表示時に表示ムラなどが発生して、表示品位を低下させてしまうことがある。

そこで、特許文献１には、照射される光をシール材に対し斜めに入射するように反射させる光反射部材が取り付けられたマスクを備えたディスプレイパネルの貼り合わせ装置が開示されている。これによれば、ブラックマトリクスなどの遮光部分の影になる部分のシール材に斜めに光が照射されるので、遮光部分の影になる部分のシール材を十分に硬化させることができる、と記載されている。

また、特許文献２では、上記金属配線に対応するゲート線及びデータ線の間隔、並びにゲート線及びデータ線の幅を最適化すると共に、反射板又は散乱板を、ＵＶ発光ランプ及び液晶パネル形成部の間、又は液晶パネル形成部の下側及び側面に配置することにより、シール材に対しＵＶ光を様々な高さ又は角度から照射するように構成された液晶表示装置及び液晶表示装置用光照射装置が開示されている。これによれば、上記シール部に対応する封印材のうち、ＵＶ光が直接照射されない部分の硬化度が高まるので、封印材による液晶物質の汚染を防止することができる、と記載されている。
特開２００５−４３７００号公報 特開２００３−６６４８６号公報

しかしながら、上記特許文献１に開示されたディスプレイパネルの貼り合わせ装置では、マスクの寸法精度よりもシール材の描画精度が劣るため、マスク及び被処理体液晶の間において位置ずれが発生することが予想される。そして、上記貼り合わせ装置では、被処理体が載置されるワークステージの反射を利用して、光の反射を繰り返す工夫もなされているが、シール材の幅が広くなれば、当然、光強度が弱まり、照射部より遠い位置で硬化不良を起こすことが懸念される。

また、上記特許文献２に開示された液晶表示装置及び液晶表示装置用光照射装置では、金属配線の幅を制御することによって、その電気抵抗が高くなり、また、金属配線が細線化することによって、その断線の可能性が高くなることが懸念される。そして、金属配線の間隔を制御することによって、液晶表示装置の設計の自由度も妨げられる。さらに、上記液晶表示装置用光照射装置では、液晶パネルを単数で製造する場合に効果を奏するものの、モバイル用途の液晶パネルを製造する場合のように、マザーガラスに多数の液晶パネルを同時に製造する場合には、様々な方向からＵＶ光を照射することが困難であると考えられる。

以上のように、上記特許文献１及び２などに開示された従来の技術では、シール材が完全に硬化せず、シール材の未硬化部分が液晶材料に接触することになるので、画像表示の際に表示ムラが発生し、表示品位の低下が懸念される。

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、液晶表示装置において、シール材の未硬化を抑制すると共に、表示品位の低下を抑制することにある。

上記目的を達成するために、本発明は、光硬化型のシール材に重畳するように設けられた遮光層がその重畳するシール材に光を到達させるように開口した開口部を有するようにしたものである。

具体的に本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向して配置された第１基板及び第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられ、上記液晶層を封止するための光硬化型の樹脂を含むシール材と、上記第１基板に上記シール材に重畳するように設けられた遮光層とを備えた液晶表示装置であって、上記遮光層は、上記シール材に上記第１基板側からの光を到達させるように開口した開口部を有し、上記シール材は、遮光性の着色材を含んでいることを特徴とする。

上記の構成によれば、遮光層に開口部が設けられているので、光硬化型の樹脂を含むシール材には、その遮光層の開口部を介して光が到達することになる。そのため、シール材の光硬化が十分になって、シール材の未硬化が抑制されるので、シール材の未硬化部分が液晶層を構成する液晶材料に接触することによる表示品位の低下が抑制される。また、シール材が遮光性の着色材を含んでいるので、シール材が遮光性を有することになる。そのため、遮光層の開口部には、遮光性のシール材が配置されているので、例えば、バックライトからの光が遮光層の開口部から漏れることによる表示品位の低下が抑制される。したがって、液晶表示装置において、シール材の未硬化が抑制されると共に、表示品位の低下が抑制される。

上記着色材は、黒色の顔料であってもよい。

上記の構成によれば、シール材が黒色の顔料を含んでいるので、シール材が具体的に遮光性を有することになる。

上記着色材は、黒色の染料であってもよい。

上記の構成によれば、シール材が黒色の染料を含んでいるので、シール材が具体的に遮光性を有することになる。

上記着色材は、黒色の球状体又は柱状体であってもよい。

上記の構成によれば、シール材が黒色の球状体又は柱状体を含んでいるので、シール材が具体的に遮光性を有することになる。

上記着色材は、上記液晶層の厚さを規定するように構成されていてもよい。

上記の構成によれば、液晶層の厚さを規定するためのスペーサーを黒色にすることによって、シール材が具体的に遮光性を有することになる。

上記シール材は、紫外線硬化型の樹脂を含んでいてもよい。

上記の構成によれば、シール材が紫外線の照射によって硬化するので、本発明の作用効果が具体的に奏される。

上記シール材は、上記液晶層を囲むように枠状に設けられていてもよい。

上記の構成によれば、液晶層が枠状に設けられたシール材によって封止されるので、本発明の作用効果が具体的に奏される。

上記第１基板は、カラーフィルター層が設けられたカラーフィルター基板であってもよい。

上記の構成によれば、ブラックマトリクスを含むカラーフィルター層が設けられたカラーフィルター基板に、ブラックマトリクスと同一層に同一材料で形成される遮光層が設けられているので、本発明の作用効果が具体的に奏される。

上記シール材における着色材の含有量は、０．１重量％〜１０重量％であってもよい。

上記の構成によれば、シール材における着色材の含有量が０．１重量％〜１０重量％であるので、シール材の遮光性及びシール特性が良好になる。ここで、シール材における着色材の含有量が０．１重量％未満の場合には、シール材の遮光性が不足して、例えば、バックライトからの光が遮光層の開口部から漏れることなどによる表示品位の低下が懸念される。また、シール材における着色材の含有量が１０重量％を超えた場合には、シール材のシール特性が不足して、第１基板及び第２基板の接合強度の低下、及び液晶層を構成する液晶材料の漏れなどが懸念される。

また、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、カラーフィルター層及び該カラーフィルター層の周囲に遮光層を有する第１基板を作製する第１基板作製工程と、上記第１基板に対向して配置される第２基板を作製する第２基板作製工程と、上記第１基板作製工程で作製された第１基板、及び上記第２基板作製工程で作製された第２基板を、上記遮光層に重畳するように枠状に設けられた光硬化型の樹脂を含むシール材を介して貼り合わせることにより、貼合体を作製する貼り合わせ工程と、上記貼り合わせ工程で作製された貼合体におけるシール材に光を照射して該シール材を硬化させる光硬化工程とを備える液晶表示装置の製造方法であって、上記シール材は、遮光性の着色材を含んでおり、上記第１基板作製工程では、上記遮光層に上記貼り合わせ工程で作製される貼合体において上記シール材に光を到達させるための開口部を形成し、上記光硬化工程では、上記貼り合わせ工程で作製された貼合体に対して上記第１基板側から光を照射することを特徴とする。

上記の方法によれば、第１基板作製工程において、遮光層に開口部が形成されるので、光硬化工程において、光硬化型の樹脂を含むシール材には、その遮光層の開口部を介して光が到達することになる。そのため、光硬化工程において、シール材の光硬化が十分になって、シール材の未硬化が抑制されるので、シール材の未硬化部分が液晶層を構成する液晶材料に接触することによる表示品位の低下が抑制される。また、シール材が遮光性の着色材を含むので、シール材が遮光性を有することになる。そのため、遮光層の開口部には、遮光性のシール材が配置されるので、例えば、バックライトからの光が遮光層の開口部から漏れることによる表示品位の低下が抑制される。したがって、液晶表示装置において、シール材の未硬化が抑制されると共に、表示品位の低下が抑制される。

上記貼り合わせ工程では、上記シール材の内側に液晶材料を供給してもよい。

上記の方法によれば、枠状のシール材を介する第１基板及び第２基板の貼り合わせと同時に、シール材の内側に液晶材料が封止されるので、滴下注入法において、本発明の作用効果が具体的に奏される。

上記第１基板作製工程及び第２基板作製工程では、上記第１基板及び第２基板をそれぞれ多面取りで作製してもよい。

上記の方法によれば、例えば、一対のマザーガラスに第１基板及び第２基板がそれぞれ多数作製されるモバイル用途の液晶表示装置の製造方法において、本発明の作用効果が具体的に奏される。

本発明によれば、光硬化型の樹脂を含むシール材に重畳するように設けられた遮光層が、その重畳するシール材に光を到達させるように開口した開口部を有しているので、液晶表示装置において、シール材の未硬化を抑制することができると共に、表示品位の低下を抑制することができる。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。

図１は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置３０の平面図である。そして、図２は、液晶表示装置３０を構成するカラーフィルター基板２０の平面図であり、図３は、図２中のIII−III線に沿ったカラーフィルター基板２０の断面図である。

液晶表示装置３０は、図１に示すように、互いに対向して配置されたＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０と、ＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０の間に設けられた液晶層１５と、ＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０の間において液晶層１５を包囲するように枠状に設けられたシール材１６と、ＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０の液晶層１５側にそれぞれ設けられた配向膜（不図示）と、ＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０における液晶層１５の反対側にそれぞれ設けられた偏光板（不図示）と、ＴＦＴ基板１０の上辺のカラーフィルター基板２０が重ならない領域に設けられた駆動用のドライバ（不図示）とを備えている。

第１基板であるカラーフィルター基板２０は、図２及び図３に示すように、透明な絶縁基板１９と、絶縁基板１９上に設けられたカラーフィルター層２１と、カラーフィルター層２１の周囲に設けられた遮光層２１ｃと、そのカラーフィルター層２１上に設けられた共通電極（不図示）とを備えている。

カラーフィルター層２１は、画像の最小単位である画素毎に、例えば、赤色、緑色又は青色に着色された複数の着色層２１ａと、各着色層２１ａの間に設けられたブラックマトリクス２１ｂとを備えている。

遮光層２１ｃは、図２〜図４に示すように、シール材１６に沿ってカラーフィルター基板２０から例えばＵＶ光１を到達させるように開口した開口部Ａを有している。ここで、図４は、ＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０を貼り合わせた貼合体２５の断面図である。

第２基板であるＴＦＴ基板１０は、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線（不図示）と、各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線（不図示）と、各ゲート線及び各ソース線の交差部分にそれぞれスイッチング素子として設けられた複数のＴＦＴ（不図示）と、カラーフィルター基板２０上の各着色層２１ａに対応してそれぞれ設けられた複数の画素電極（不図示）とを備えている。

上記ＴＦＴは、絶縁基板上に設けられ、上記ゲート線の側方に突出した部分であるゲート電極と、そのゲート電極を覆うように設けられたゲート絶縁膜と、そのゲート絶縁膜上でゲート電極に対応する位置に島状に設けられた半導体層と、その半導体層上で互いに対峙するように設けられたソース電極及びドレイン電極とを備えている。ここで、上記ソース電極は、上記ソース線の側方に突出した部分である。そして、上記ドレイン電極は、画素電極に電気的に接続されている。

また、ＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板では、各画素電極及び各着色層２１ａによって画素がそれぞれ構成され、それらの画素がマトリクス状に配置されることによって表示領域Ｄが構成されている（図１及び図２参照）。

液晶層１５は、電気光学特性を有するネマチック液晶（液晶材料）などにより構成されている。

シール材１６は、例えば、ＵＶ硬化型や熱硬化及びＵＶ硬化併用型の樹脂により構成され、ＵＶ硬化型の樹脂を含んでいる。なお、シール材１６は、上記ＵＶ硬化型の樹脂を含むものだけでなく、可視光硬化型など他の光硬化型の樹脂を含むものであってもよい。

上記構成の液晶表示装置３０では、各画素において、ゲート線からゲート信号がゲート電極に送られて、ＴＦＴがオン状態になったときに、ソース線からソース信号がソース電極に送られて、半導体層及びドレイン電極を介して、画素電極に所定の電荷が書き込まれる。このとき、ＴＦＴ基板１０の各画素電極とカラーフィルター基板２０の共通電極との間において電位差が生じ、液晶層１５に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示装置３０では、液晶層１５に印加された電圧の大きさによって液晶層１５の配向状態を変えることにより、液晶層１５の光透過率を調整して画像が表示される。

次に、本実施形態の液晶表示装置３０を製造する方法について説明する。本実施形態の製造方法は、カラーフィルター基板作製工程、ＴＦＴ基板作製工程、貼り合わせ工程及び光硬化工程を備えている。

＜カラーフィルター基板作製工程＞
まず、ガラス基板などの絶縁基板の基板全体に、スパッタリング法により、例えば、厚さ１００ｎｍ程度でクロム薄膜を成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターン形成して、格子状のブラックマトリクス２１ｂ、及び開口部Ａを有する遮光層２１ｃを形成する。

続いて、ブラックマトリクス２１ｂの格子間のそれぞれに、例えば、１．０μｍ〜２．５μｍ程度の厚さで、赤、緑又は青の着色層２１ａをパターン形成して、カラーフィルター層２１を形成する。

さらに、カラーフィルター層２１上に、スパッタリング法により、例えば、厚さ１００ｎｍ程度でＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を成膜して、共通電極を形成する。

最後に、共通電極が形成された基板全体に、印刷法により、ポリイミド系樹脂の薄膜を成膜し、その後、ラビング法により、その表面に配向処理を行うことにより、配向膜を形成する。

以上のようにして、表面に配向膜が形成されたカラーフィルター基板２０を作製することができる。

＜ＴＦＴ基板作製工程＞
まず、ガラス基板などの絶縁基板の基板全体に、チタンなどからなる金属膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線及びゲート電極などを形成する。

続いて、ゲート線及びゲート電極が形成された基板全体に、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により窒化シリコン膜などを成膜し、ゲート絶縁膜を形成する。

さらに、ゲート絶縁膜が形成された基板全体に、ＣＶＤ法により真性アモルファスシリコン膜と、リンがドープされたｎ＋アモルファスシリコン膜とを連続して成膜し、その後、フォトリソグラフィによりゲート電極上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層及びｎ＋アモルファスシリコン層からなる半導体層を形成する。

そして、半導体層が形成された基板全体に、チタンなどからなる金属膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線、ソース電極及びドレイン電極を形成する。

続いて、ソース電極及びドレイン電極をマスクとして半導体層のｎ＋アモルファスシリコン層をエッチングすることにより、チャネル部をパターニングして、ＴＦＴを形成する。

さらに、ＴＦＴが形成された基板全体に、ＣＶＤ法を用いて窒化シリコン膜などを成膜し、その後、フォトリソグラフィによりドレイン電極上にコンタクトホールをパターニングして、保護絶縁膜を形成する。

そして、保護絶縁膜上の基板全体に、ＩＴＯ膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極を形成する。

最後に、画素電極が形成された基板全体に、ポリイミド樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。

以上のようにして、表面に配向膜が形成されたＴＦＴ基板１０を作製することができる。

＜貼り合わせ工程＞
まず、カラーフィルター基板作製工程で作製されたカラーフィルター基板２０に対し、ディスペンサー式の塗布装置を用いて、遮光層２１ｃの開口部Ａに沿って、シール材１６を枠状に描画する。ここで、シール材１６には、例えば、カーボンブラックなどの黒色顔料からなる着色材１６ａが５重量％含まれている。また、着色材１６ａは、上記黒色顔料の代わりに、アニリンブラックなどの黒色染料、液晶層１５の厚さを規定するための黒色の球状体や柱状体などからなるスペーサーであってもよい。さらに、シール材１６における着色材１６ａの含有量は、０．１重量％〜１０重量％であれば、シール材１６の遮光性及びシール特性が良好になる。なお、シール材１６における着色材１６ａの含有量が０．１重量％未満の場合には、シール材１６の遮光性が不足して、例えば、バックライトからの光が遮光層２１ｃの開口部Ａから漏れることなどによる表示品位の低下が懸念される。また、シール材１６における着色材１６ａの含有量が１０重量％を超えた場合には、シール材１６のシール特性が不足して、ＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０の接合強度の低下、及び液晶層１５を構成する液晶材料の漏れなどが懸念される。

続いて、シール材１６が描画されたカラーフィルター基板２０に対し、シール材２１の内側に液晶材料１５を滴下供給する（図３参照）。

最後に、液晶材料１５が滴下供給されたカラーフィルター基板２０と、上記ＴＦＴ基板作製工程で作製されたＴＦＴ基板１０とを貼り合わて、貼合体２５を作製する（図４参照）。

＜光硬化工程＞
上記貼り合わせ工程で作製された貼合体２５に対し、図４に示すように、カラーフィルター基板２０側から遮光層２１ｃの開口部Ａを介して、例えば、１０Ｊ／ｃｍ^２（１００ｍＷ／ｃｍ^２×１００秒）で、ＵＶ光１を照射することにより、シール材１６を硬化させて、液晶パネルを作製する。その後、作製された液晶パネルの表面及び裏面に偏光板をそれぞれ貼り付け、さらに、ドライバなどを実装する。

以上のようにして、本実施形態の液晶表示装置３０を製造することができる。

以上説明したように、本実施形態の液晶表示装置３０及びその製造方法によれば、カラーフィルター基板作製工程において、遮光層２１ｃに開口部Ａが形成されるので、光硬化工程において、ＵＶ硬化型のシール材１６には、遮光層２１ｃの開口部Ａを介してＵＶ光１が到達することになる。そのため、光硬化工程において、シール材１６のＵＶ硬化が十分になって、シール材１６の未硬化を抑制することができるので、シール材１６の未硬化部分が液晶層１５を構成する液晶材料に接触することによる表示品位の低下を抑制することができる。また、シール材１６が遮光性の着色材１６ａを含んでいるので、シール材１６が遮光性を有することになる。そのため、遮光層２１ｃの開口部Ａには、遮光性のシール材１６が配置されるので、例えば、バックライトからの光が遮光層２１ｃの開口部Ａから漏れることによる表示品位の低下を抑制することができる。したがって、液晶表示装置において、シール材１６の未硬化を抑制することができると共に、表示品位の低下を抑制することができる。

また、上記実施形態では、枠状に設けられたシール材１６のＵＶ硬化について説明したが、本発明は、液晶注入口を有するシール材の内側に液晶材料を注入した後に、その液晶注入口にＵＶ硬化樹脂を塗布してＵＶ硬化する際にも適用することができる。

さらに、上記実施形態では、枠状のシール材１６を介してＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０を貼り合わせると同時に、シール材１６の内側に液晶材料１５が封止される滴下注入法について説明したが、本発明は、真空注入法について適用することができる。

また、上記実施形態では、ＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０をそれぞれ単独で作製する方法を例示したが、本発明は、小型の液晶パネルであっても、シール材１６を確実に硬化できるので、例えば、一対のマザーガラスにＴＦＴ基板１０及びカラーフィルター基板２０を多面取りでそれぞれ多数作製されるモバイル用途の液晶表示装置及びその製造方法について有効である。

さらに、上記実施形態では、アクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置を例示して説明したが、本発明は、パッシブマトリクス駆動方式の液晶表示装置、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置、プラズマ表示装置などにも適用することができる。

以上説明したように、本発明は、光硬化型のシール材の未硬化を抑制することができるので、一対の基板をシール材を介して貼り合わて製造される表示装置について有用である。

本発明の実施形態に係る液晶表示装置３０を示す平面図である。 液晶表示装置３０を構成するカラーフィルター基板２０を示す平面図である。 図２中のIII−III線に沿ったカラーフィルター基板２０を示す断面図である。 図３に対応する光硬化工程における貼合体２５を示す断面図である。

符号の説明

Ａ 開口部
１ ＵＶ光
１０ ＴＦＴ基板（第２基板）
１５ 液晶層（液晶材料）
１６ シール材
１６ａ 着色材
２０ カラーフィルター基板（第１基板）
２１ カラーフィルター層
２１ｃ 遮光層
２５ 貼合体
３０ 液晶表示装置

Claims (12)

1. 互いに対向して配置された第１基板及び第２基板と、
   上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層と、
   上記第１基板及び第２基板の間に設けられ、上記液晶層を封止するための光硬化型の樹脂を含むシール材と、
   上記第１基板に上記シール材に重畳するように設けられた遮光層とを備えた液晶表示装置であって、
   上記遮光層は、上記シール材に上記第１基板側からの光を到達させるように開口した開口部を有し、
   上記シール材は、遮光性の着色材を含んでいることを特徴とする液晶表示装置。
2. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
   上記着色材は、黒色の顔料であることを特徴とする液晶表示装置。
3. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
   上記着色材は、黒色の染料であることを特徴とする液晶表示装置。
4. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
   上記着色材は、黒色の球状体又は柱状体であることを特徴とする液晶表示装置。
5. 請求項４に記載された液晶表示装置において、
   上記着色材は、上記液晶層の厚さを規定するように構成されていることを特徴とする液晶表示装置。
6. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
   上記シール材は、紫外線硬化型の樹脂を含んでいることを特徴とする液晶表示装置。
7. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
   上記シール材は、上記液晶層を囲むように枠状に設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
8. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
   上記第１基板は、カラーフィルター層が設けられたカラーフィルター基板であることを特徴とする液晶表示装置。
9. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
   上記シール材における着色材の含有量は、０．１重量％〜１０重量％であることを特徴とする液晶表示装置。
10. カラーフィルター層及び該カラーフィルター層の周囲に遮光層を有する第１基板を作製する第１基板作製工程と、
    上記第１基板に対向して配置される第２基板を作製する第２基板作製工程と、
    上記第１基板作製工程で作製された第１基板、及び上記第２基板作製工程で作製された第２基板を、上記遮光層に重畳するように枠状に設けられた光硬化型の樹脂を含むシール材を介して貼り合わせることにより、貼合体を作製する貼り合わせ工程と、
    上記貼り合わせ工程で作製された貼合体におけるシール材に光を照射して該シール材を硬化させる光硬化工程とを備える液晶表示装置の製造方法であって、
    上記シール材は、遮光性の着色材を含んでおり、
    上記第１基板作製工程では、上記遮光層に上記貼り合わせ工程で作製される貼合体において上記シール材に光を到達させるための開口部を形成し、
    上記光硬化工程では、上記貼り合わせ工程で作製された貼合体に対して上記第１基板側から光を照射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
11. 請求項１０に記載された液晶表示装置の製造方法において、
    上記貼り合わせ工程では、上記シール材の内側に液晶材料を供給することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
12. 請求項１０に記載された液晶表示装置の製造方法において、
    上記第１基板作製工程及び第２基板作製工程では、上記第１基板及び第２基板をそれぞれ多面取りで作製することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

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