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JP2008195968A - 金属微粒子の製造方法 - Google Patents

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JP2008195968A JP2006057590A JP2006057590A JP2008195968A JP 2008195968 A JP2008195968 A JP 2008195968A JP 2006057590 A JP2006057590 A JP 2006057590A JP 2006057590 A JP2006057590 A JP 2006057590A JP 2008195968 A JP2008195968 A JP 2008195968A
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大祐 藤田
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Abstract

【課題】低コストであり、かつ形成される粒子の粒径を制御することが可能な金属微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属微粒子の製造方法は、少なくともテルピネオールを含む溶液に遷移金属塩を溶解させることにより遷移金属含有液を作製する工程と、該遷移金属含有液を基板上に湿式担持させる工程と、該基板をアニール処理に付す工程とを包含し、前記遷移金属含有液における遷移金属塩およびテルピネオールの濃度を調整することにより、形成される金属微粒子の粒子径を制御することを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、光触媒材料、センサー材料、磁性材料、構造材料等に適用され得る微小な径の金属微粒子の製造方法に関する。
金属材料等を微粒子化する技術については、古くから研究が行われており、例えば、レーザーアブレーション法や、スパッタリング法によるもの等が知られている。
レーザーアブレーション法は、不活性ガス雰囲気下で原料となる固体材料にレーザー光を照射し、同材料をプラズマ状に蒸発させた後に断続的に冷却することで、微粒子を得るものである(特許文献1)。
また、スパッタリング法は、真空容器内において、スパッタガスを用いて原料となる金属等のターゲット材をスパッタリングすることにより、ターゲット材を原子状、イオン状、またはクラスター状とし、これを基板上に衝突させることで微粒子を得るものである(特許文献2)。
特開2000−306319号公報 特開2000−10950号公報
上記の微粒子の製造方法では、例えば、エネルギー強度等の条件を変更することによって所望の粒径の微粒子を製造することができる。
しかしながら、上記の製造方法では、いずれも大掛かりな装置が必要であり、その結果として製造コストが高くなるという問題がある。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、低コストであり、かつ形成される粒子の粒径を制御することが可能な金属微粒子の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく、研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の金属微粒子の製造方法は、少なくともテルピネオールを含む溶液に遷移金属塩を溶解させることにより遷移金属含有液を作製する工程と、該遷移金属含有液を基板上に湿式担持させる工程と、該基板をアニール処理に付す工程とを包含し、前記遷移金属含有液における遷移金属塩およびテルピネオールの濃度を調整することにより、形成される金属微粒子の粒子径を制御することを特徴とするものである。
上記の遷移金属含有液の基板上への湿式担持は、スピンコート法やディッピング法を用いることにより行われる。
本発明により、粒子径が制御された金属微粒子が製造されるのは、上記の遷移金属塩含有液における遷移金属塩およびテルピネオールの各濃度を調整することによりなされるので、湿式担持に用いられる基板は、いかなるものを用いても問題がないが、アニール処理が可能なためには、例えば、シリコン、ガラス、金属、セラミックが好ましい。
基板のアニール処理する際の加熱温度は、200〜900℃であることが好ましい。
前記遷移金属含有液の溶媒は、エタノール、メタノール、ブタノール、イソプロピルアルコールおよびプロパノールからなる群から選択される少なくとも1種のアルコール類であることが好ましい。
前記遷移金属含有液におけるテルピネオールの濃度は、10〜40重量%であり、遷移金属塩は、前記遷移金属含有液における濃度が0.005〜0.2mol/lになるように添加されることが好ましい。
前記遷移金属塩は、硝酸鉄、塩化鉄および塩化チタンからなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。
本発明の金属微粒子の製造方法は、少なくともテルピネオールを含む溶液に遷移金属塩を溶解させることにより遷移金属含有液を作製し、この作製の際に所望の粒径の金属微粒子が形成されるように遷移金属塩およびテルピネオールの濃度を調整し、そして、このようにして作製された遷移金属含有液を基板上に湿式担持させ、続いて、この基板をアニール処理するものであるので、大掛かりな装置を必要とせず、低コストで粒径が制御された金属微粒子を製造することができる。
以下、本発明の金属微粒子の製造方法を実施例に基づいて具体的に説明する。
(実施例1)
下記1)〜5)の工程を順次実施することにより、金属微粒子を製造した。
1)48×48mmのシリコン基板を超純水で洗浄し、十分乾燥させた。
2)α−テルピネオール含有エタノール溶液(α−テルピネオール:20重量%)に、添加重量を変更して硝酸鉄を溶解させることにより、0.01mol/l、0.05mol/lおよび0.1mol/lの3種の濃度の硝酸鉄溶液を調製した。
3)工程1)後の基板に、工程2)により調製した3種の硝酸鉄溶液をそれぞれ滴下し、基板を1800rpmで回転させることによりスピンコート処理を行った。
4)内径50mmの石英反応管に、工程3)後の基板を置いた。
5)石英反応管に、ヘリウムガスを200ml/分の流速で流し、反応管内を700℃まで昇温させ、10分間のアニール処理を行った。
(実施例2)
下記1)〜5)の各工程を順次実施することにより、金属微粒子を製造した。
1)48×48mmのシリコン基板を超純水で洗浄し、十分乾燥させた。
2)α−テルピネオールの濃度が異なる3種のα−テルピネオール含有エタノール溶液(α−テルピネオール濃度:20、30および40重量%)を調製した。このようにして調製されたα−テルピネオール含有エタノール溶液およびエタノールに対して、0.01mol/lの濃度になるように硝酸鉄を溶解させることにより、α−テルピネオール濃度がそれぞれ異なる4種の硝酸鉄溶液を調製した。
3)工程1)後の基板に、工程2)により調製した4種の硝酸鉄溶液をそれぞれ滴下し、基板を1800rpmで回転させることによりスピンコート処理を行った。
4)内径50mmの石英反応管に、工程3)後の基板を置いた。
5)石英反応管に、ヘリウムガスを200ml/分の流速で流し、反応管内を700℃まで昇温させ、10分間のアニール処理を行った。
上記の実施例1および2により得られた、微粒子状の鉄が堆積した各シリコン基板に対して、走査型プローブ顕微鏡(SPM)観察を行った結果を図1および2に示す。
図1および2から明らかなように、実施例1および実施例2の各シリコン基板上に金属微粒子が形成され、かつ、金属塩(硝酸鉄)およびテルピネオールの濃度の相違によって、金属微粒子の粒径が相違していることが分かる。
図3には、α−テルピネオール含有エタノール溶液の濃度を40重量%とした0.01mol/lの硝酸鉄溶液を用いてシリコン基板上に鉄微粒子を形成した場合の走査電子顕微鏡(FE−SEM)による観察結果を示している。これにより、粒径が3nm以下の金属微粒子が得られることが確認された。
通常の金属微粒子は、一般的には、500℃の高温でアニール処理を行うと、金属微粒子が半溶融状態になり凝集あるいは結晶化して微粒子形状が失われる(図2のテルピネオール0%の写真参照)が、本発明の方法では、700℃の高温でアニール処理を行っても安定して存在することが確認された。これは、テルピネオールが存在することにより、金属が酸化反応することによるものと推測される。したがって、本発明の方法により、500℃以上の高温環境下で金属微粒子を製造することが可能となった。
実施例1により製造された基板上の鉄粒子の走査型プローブ顕微鏡(SPM)写真である。 実施例2により製造された基板上の鉄粒子の走査型プローブ顕微鏡(SPM)写真である。 本発明の方法により製造された金属微粒子の走査電子顕微鏡(FE−SEM)である。

Claims (4)

  1. 少なくともテルピネオールを含む溶液に遷移金属塩を溶解させることにより遷移金属含有液を作製する工程と、
    該遷移金属含有液を基板上に湿式担持させる工程と、
    該基板をアニール処理に付す工程と
    を包含し、
    前記遷移金属含有液における遷移金属塩およびテルピネオールの濃度を調整することにより、形成される金属微粒子の粒子径を制御することを特徴とする金属微粒子の製造方法。
  2. 前記遷移金属含有液の溶媒は、エタノール、メタノール、ブタノール、イソプロピルアルコールおよびプロパノールからなる群から選択される少なくとも1種のアルコール類である、請求項1に記載の金属微粒子の製造方法。
  3. 前記遷移金属含有液におけるテルピネオールの濃度は、10〜40重量%であり、遷移金属塩は、前記遷移金属含有液における濃度が0.005〜0.2mol/lになるように添加される、請求項1または2に記載の金属微粒子の製造方法。
  4. 前記遷移金属塩は、硝酸鉄、塩化鉄および塩化チタンからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1〜3のいずれか1つに記載の金属微粒子の製造方法。

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