JP2008033610A - Xyステージ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 X軸方向またはY軸方向に配置され、その軸方向に位置制御される下軸スライダを有する下軸モータと、前記下軸スライダ上にY軸方向またはX軸方向に取り付けられ、その軸方向に位置制御される上軸スライダを有する上軸モータと、上位装置からの指令に基づいて前記下軸スライダ及び前記上軸スライダを位置制御する下軸ドライバ及び上軸ドライバと、よりなるXYステージにおいて、
前記下軸スライダの軸方向位置に対応して、軸方向真直線からの直交方向のズレ量を予め測定して保持した上軸位置補正手段を備え、
前記上軸ドライバは、前記下軸ドライバから取得する前記下軸スライダの位置情報に基づき、前記上軸位置補正手段より前記ズレ量を読み出して前記上軸スライダの位置を補正する。
【選択図】 図1
Description
(1)X軸方向またはY軸方向に配置され、その軸方向に位置制御される下軸スライダを有する下軸モータと、前記下軸スライダ上にY軸方向またはX軸方向に取り付けられ、その軸方向に位置制御される上軸スライダを有する上軸モータと、上位装置からの指令に基づいて前記下軸スライダ及び前記上軸スライダを位置制御する下軸ドライバ及び上軸ドライバと、よりなるXYステージにおいて、
前記下軸スライダの軸方向位置に対応して、軸方向真直線からの直交方向のズレ量を予め測定して保持した上軸位置補正手段を備え、
前記上軸ドライバは、前記下軸ドライバから取得する前記下軸スライダの位置情報に基づき、前記上軸位置補正手段より前記ズレ量を読み出して前記上軸スライダの位置を補正することを特徴とするXYステージ。
前記上軸ドライバは、前記上軸位置補正手段及び前記上軸絶対位置補正手段より読み出される上軸方向のズレ量及び下軸方向のズレ量により、前記上軸スライダの絶対位置を補正することを特徴とする(1)に記載のXYステージ。
前記上軸ドライバ及び前記下軸ドライバは、取得した相手軸の座標情報に基づいて前記上軸位置補正手段及び前記上軸絶対位置補正手段より読み出される上軸方向のズレ量及び下軸方向のズレ量により、前記上軸スライダ及び前記下軸スライダの位置を補正することを特徴とする(2)に記載のXYステージ。
前記上軸モータは、前記一対のリニアモータのスライダ間をブリッジ結合して配置されていることを特徴とする(1)乃至(4)のいずれかに記載のXYステージ。
(1)下軸スライダの軸方向位置に対応して、軸方向真直線からのズレ量を予め測定して保持した上軸位置補正手段を備えることにより、上軸ドライバは、下軸ドライバから取得する下軸スライダの位置情報に基づいて、上軸位置補正手段よりズレ量を読み出して上軸スライダの位置を高精度に補正することができる。
10 下軸リニアモータ
11 下軸スライダ
12 下軸スケール
13 下軸位置センサー
20 上軸リニアモータ
21,22,23 上軸第1,第2,第3スライダ
24 上軸スケール
30 下軸ドライバ
41,42,43 上軸第1,第2,第3ドライバ
50 上位装置
101,102,103 上軸位置補正手段
200 下軸真値測定手段
W1,W2,W3 ワーク
N1,N2,N3 ノズル
L1,L2,L3 実描画線
Claims (7)
- X軸方向またはY軸方向に配置され、その軸方向に位置制御される下軸スライダを有する下軸モータと、前記下軸スライダ上にY軸方向またはX軸方向に取り付けられ、その軸方向に位置制御される上軸スライダを有する上軸モータと、上位装置からの指令に基づいて前記下軸スライダ及び前記上軸スライダを位置制御する下軸ドライバ及び上軸ドライバと、よりなるXYステージにおいて、
前記下軸スライダの軸方向位置に対応して、軸方向真直線からの直交方向のズレ量を予め測定して保持した上軸位置補正手段を備え、
前記上軸ドライバは、前記下軸ドライバから取得する前記下軸スライダの位置情報に基づき、前記上軸位置補正手段より前記ズレ量を読み出して前記上軸スライダの位置を補正することを特徴とするXYステージ。 - 前記上軸スライダの軸方向位置に対応して、軸方向真直線からの直交方向のズレ量を予め測定して保持した上軸絶対位置補正手段を備え、
前記上軸ドライバは、前記上軸位置補正手段及び前記上軸絶対位置補正手段より読み出される上軸方向のズレ量及び下軸方向のズレ量により、前記上軸スライダの絶対位置を補正することを特徴とする請求項1に記載のXYステージ。 - 前記上軸ドライバは前記下軸ドライバより下軸スライダの座標情報を取得し、前記下軸ドライバは前記上軸ドライバより上軸スライダの座標情報を取得し、
前記上軸ドライバ及び前記下軸ドライバは、取得した相手軸の座標情報に基づいて前記上軸位置補正手段及び前記上軸絶対位置補正手段より読み出される上軸方向のズレ量及び下軸方向のズレ量により、前記上軸スライダ及び前記下軸スライダの位置を補正することを特徴とする請求項2に記載のXYステージ。 - 前記下軸スライダまたは前記上軸スライダの軸方向位置に対応した軸方向真直線からの直交方向のズレ量は、レーザ干渉計によりステージ固有のズレ量が測定されて前記上軸位置補正手段または前記上軸絶対位置補正手段に保持されることを特徴とする請求項2または3に記載のXYステージ。
- 前記下軸モータは、夫々の軸方向に位置制御されるスライダを有する平行配置された一対のリニアモータで構成され、
前記上軸モータは、前記一対のリニアモータのスライダ間をブリッジ結合して配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のXYステージ。 - 前記上軸位置補正手段または前記上軸絶対位置補正手段は、前記上軸ドライバまたは前記下軸ドライバ内に実装されていることを特徴とする請求項2乃至5のいずれかに記載のXYステージ。
- 前記上軸位置補正手段または前記上軸絶対位置補正手段は、前記上位装置内に実装されていることを特徴とする請求項2乃至5のいずれかに記載のXYステージ。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006205860A JP2008033610A (ja) | 2006-07-28 | 2006-07-28 | Xyステージ |
KR1020070037498A KR100811669B1 (ko) | 2006-07-28 | 2007-04-17 | Xy 스테이지 |
TW096127542A TW200807862A (en) | 2006-07-28 | 2007-07-27 | XY stage |
CNA2007101383260A CN101114806A (zh) | 2006-07-28 | 2007-07-27 | Xy平台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006205860A JP2008033610A (ja) | 2006-07-28 | 2006-07-28 | Xyステージ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008033610A true JP2008033610A (ja) | 2008-02-14 |
Family
ID=39022976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006205860A Pending JP2008033610A (ja) | 2006-07-28 | 2006-07-28 | Xyステージ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008033610A (ja) |
KR (1) | KR100811669B1 (ja) |
CN (1) | CN101114806A (ja) |
TW (1) | TW200807862A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2868778T3 (es) | 2016-04-22 | 2021-10-21 | Siemens Ag | Accionamiento lineal y procedimiento para el funcionamiento de un accionamiento lineal |
KR102497342B1 (ko) * | 2021-03-17 | 2023-02-07 | 하이윈 마이크로시스템 코포레이션 | 동적 변위 오차 보상 시스템 |
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Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003162308A (ja) | 2001-11-28 | 2003-06-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 作業装置の位置決め方法および装置 |
JP2004087798A (ja) | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP4408682B2 (ja) * | 2003-10-31 | 2010-02-03 | 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ | 電子部品装着装置 |
KR100802596B1 (ko) * | 2006-05-11 | 2008-02-13 | (주)와이티에스 | 아이디위치 검사기능을 갖는 레이저마킹 시스템 및 그검사방법 |
-
2006
- 2006-07-28 JP JP2006205860A patent/JP2008033610A/ja active Pending
-
2007
- 2007-04-17 KR KR1020070037498A patent/KR100811669B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-07-27 TW TW096127542A patent/TW200807862A/zh unknown
- 2007-07-27 CN CNA2007101383260A patent/CN101114806A/zh active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080011041A (ko) | 2008-01-31 |
TW200807862A (en) | 2008-02-01 |
KR100811669B1 (ko) | 2008-03-11 |
CN101114806A (zh) | 2008-01-30 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090115 |
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A977 | Report on retrieval |
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|
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|
A521 | Written amendment |
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|
A02 | Decision of refusal |
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