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JP2008007254A - Conveyance method and conveyance device for sheet-like substrate - Google Patents

Conveyance method and conveyance device for sheet-like substrate Download PDF

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JP2008007254A
JP2008007254A JP2006178208A JP2006178208A JP2008007254A JP 2008007254 A JP2008007254 A JP 2008007254A JP 2006178208 A JP2006178208 A JP 2006178208A JP 2006178208 A JP2006178208 A JP 2006178208A JP 2008007254 A JP2008007254 A JP 2008007254A
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sheet
main surface
silicon
substrate support
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JP2006178208A
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Inventor
Yuji Yamazaki
勇治 山崎
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and device for conveying a sheet-like substrate having a gripping part without dropping it and causing its positional deviation during conveyance. <P>SOLUTION: The method conveys the sheet-like substrate 1 having a first main face and a second main face, and also having the gripping part 1g connected with an end part of the sheet-like substrate 1 and protruding onto a second main face side. The method comprises steps of: loading and sucking the sheet-like substrate 1 so that the second main face comes into contact with a substrate supporting base 11 having thickness being larger than length of protrusion of the gripping part 1g from the second main face; and moving the substrate supporting base 11 sucking the sheet-like substrate 1. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、シート状基板の搬送方法および搬送装置に関する。より詳しくは、端部に掴み部を含むシート状基板の搬送方法および搬送装置に関する。   The present invention relates to a transport method and transport device for a sheet-like substrate. More specifically, the present invention relates to a transport method and transport device for a sheet-like substrate including a grip portion at an end portion.

現在、急速に普及が進んでいる太陽電池に用いられているウェハは、主に多結晶シリコンである。最近ではさらなる低コスト化およびシリコン原料節約を目的として、キャスト法に替わって、スライス工程を経ずに、溶融シリコンから直接シート状シリコン基板を得る有望な方法として、シリコンの融点以下に保持された基体(以下、基板成長用基体という)を、シリコンの融液に接触させ、シート状シリコン基板を得る方法が提案されている(たとえば、特許文献1を参照)。   Currently, the wafers used for solar cells that are rapidly spreading are mainly polycrystalline silicon. Recently, for the purpose of further cost reduction and silicon raw material saving, it has been kept below the melting point of silicon as a promising method for obtaining a sheet-like silicon substrate directly from molten silicon instead of the slicing process instead of the casting method. A method of obtaining a sheet-like silicon substrate by bringing a substrate (hereinafter referred to as a substrate growth substrate) into contact with a silicon melt has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1に開示されている通り、基板成長用基体上にシート状シリコン基板を製造する際、このシート状シリコン基板の端部に掴み部を形成することにより、シート状シリコン基板の基板成長用基体からの落下率を低減できることが知られている。また、特許文献1に開示されている通り、特に基板成長用基体を大型化する場合、基板成長用基体の周縁部に沿った溝を設けることで、シート状シリコン基板と、基板成長用基体の周縁部に成長したシリコン(以下、バリという)を分離することができ、剥離性を向上できることが知られている。   As disclosed in Patent Document 1, when a sheet-like silicon substrate is manufactured on a substrate growth substrate, a grip portion is formed at the end of the sheet-like silicon substrate, thereby growing the sheet-like silicon substrate. It is known that the fall rate from the substrate can be reduced. In addition, as disclosed in Patent Document 1, in particular, when the substrate growth base is enlarged, by providing a groove along the peripheral edge of the substrate growth base, the sheet-like silicon substrate and the substrate growth base It is known that silicon (hereinafter referred to as burrs) grown on the peripheral edge can be separated and the peelability can be improved.

また、たとえば特許文献2に開示されている通り、板状体を搬送する方法として、真空吸着式ベルトコンベアが知られている。かかる方法によれば、搬送対象となる板状体を吸着しながら搬送することにより、位置ずれ、落下などを抑制することができる。
国際公開2004/016836号パンフレット 特開2000−74640号公報
For example, as disclosed in Patent Document 2, a vacuum suction type belt conveyor is known as a method for conveying a plate-like body. According to this method, it is possible to suppress misalignment, dropping, and the like by conveying the plate-like body to be conveyed while adsorbing it.
International Publication No. 2004/016836 Pamphlet JP 2000-74640 A

基板成長用基体の浸漬表面に結晶成長させたシリコンシート状基板を、太陽電池などの商品に加工する場合など、シート状基板を基板成長用基体から剥離し、剥離したシート状基板を切断装置まで搬送し、切断装置にて商品として必要なサイズにシート状基板を切断する必要がある。   For example, when processing a silicon sheet substrate grown on the surface of the substrate growth substrate into a product such as a solar cell, the sheet substrate is peeled off from the substrate growth substrate, and the peeled sheet substrate is cut to the cutting device. It is necessary to transport and cut the sheet-like substrate into a size required as a product by a cutting device.

しかし、所定の形状を有する基板成長用基体を用いて作製された、高い歩留まりでシート状基板を製造することを可能とする掴み部を有するシート状基板は、商品として使用される主面部と主面部の端部に連結されている掴み部とにより立体的な形状を有するため、例えば特許文献2に開示されているような吸着方法で保持しながら搬送することができず、そのためシート状基板が、搬送中に、落下したり、位置ずれを起こしたりする問題があった。   However, a sheet-like substrate having a grip portion, which is manufactured using a substrate growth substrate having a predetermined shape and can produce a sheet-like substrate with a high yield, has a main surface portion used as a product and a main surface portion. Since it has a three-dimensional shape due to the grip portion connected to the end portion of the surface portion, for example, it cannot be transported while being held by an adsorption method as disclosed in Patent Document 2, so that the sheet-like substrate is There is a problem of dropping or misalignment during transportation.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、所定形状の基板成長用基体を用いて作製された掴み部を有するシート状基板を、搬送中に、落下および位置ずれを起こすことなく搬送する方法および装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and transports a sheet-like substrate having a grip portion manufactured using a substrate-growing substrate having a predetermined shape without dropping and misalignment during transportation. It is an object to provide a method and apparatus.

本発明にかかるシート状基板の搬送方法は、第1の主面と第2の主面を有するシート状基板の搬送方法であって、シート状基板は端部に連結されていて第2の主面側に突出している掴み部を有し、第2の主面からの掴み部の突出長さより大きい厚さを有する基板支持台に、第2の主面が接触するようにシート状基板を載置して吸着させるステップと、シート状基板が吸着された基板支持台を移動させるステップとを含む。かかる搬送方法により、立体的な掴み部を有するシート状基板であっても、搬送中に落下したり位置ずれを起こしたりすることなく所定の位置に搬送することが可能となる。   A sheet-like substrate conveyance method according to the present invention is a sheet-like substrate conveyance method having a first main surface and a second main surface, and the sheet-like substrate is connected to an end portion and is connected to the second main surface. The sheet-like substrate is mounted so that the second main surface comes into contact with a substrate support having a grip portion protruding to the surface side and having a thickness larger than the protruding length of the grip portion from the second main surface. Placing and adsorbing, and moving the substrate support on which the sheet-like substrate is adsorbed. With such a transport method, even a sheet-like substrate having a three-dimensional grip portion can be transported to a predetermined position without dropping or causing a positional shift during transport.

本発明にかかるシート状基板の搬送装置は、第1の主面と第2の主面を有するシート状基板の搬送装置であって、シート状基板は端部に連結されていて第2の主面側に突出している掴み部を有し、搬送装置は、第2の主面からの掴み部の突出長さより大きい厚さを有する基板支持台と、基板支持台にシート状基板を吸着させる基板吸着装置と、基板支持台を移動させる基板移動装置とを含む。かかる搬送装置により、立体的な掴み部を有するシート状基板であっても、搬送中に落下したり位置ずれを起こしたりすることなく所定の位置に搬送することが可能となる。   A sheet-like substrate conveyance device according to the present invention is a sheet-like substrate conveyance device having a first main surface and a second main surface, and the sheet-like substrate is connected to an end portion and has a second main surface. The substrate has a gripping portion protruding to the surface side, and the transport device has a substrate support base having a thickness larger than the protruding length of the grip portion from the second main surface, and a substrate for adsorbing the sheet-like substrate to the substrate support base It includes a suction device and a substrate moving device that moves the substrate support. With such a transport device, even a sheet-like substrate having a three-dimensional grip portion can be transported to a predetermined position without dropping or causing a positional shift during transport.

本発明にかかるシート状基板の搬送装置において、基板移動装置は基板支持台を移動させるコンベアベルトを含むことができる。コンベアベルトで基板支持台を移動させることにより、シート状基板を、搬送中に、落下したり位置ずれを起こしたりすることなく所定の位置に搬送することが容易になる。   In the sheet substrate transfer apparatus according to the present invention, the substrate transfer device may include a conveyor belt for moving the substrate support. By moving the substrate support with the conveyor belt, it becomes easy to transport the sheet-like substrate to a predetermined position without dropping or causing positional deviation during the transportation.

また、本発明にかかる基板移動装置は、基板支持台をシャトル運動させる駆動装置を有することができる。基板支持台をシャトル運動させることにより、シート状基板を、搬送中に落下したり位置ずれを起こしたりすることなく所定の位置に搬送することが容易になる。   In addition, the substrate moving apparatus according to the present invention can include a drive device that causes the substrate support to shuttle. By causing the substrate support to shuttle, it becomes easy to transport the sheet-like substrate to a predetermined position without dropping or causing a positional shift during transportation.

本発明によれば、掴み部を有するシート状基板を、搬送中に落下したり位置ずれを起こしたりすることなく所定の位置に搬送することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to transport a sheet-like substrate having a grip portion to a predetermined position without dropping or causing a position shift during transportation.

本発明による実施の形態について、シート状基板としてシート状シリコン基板を例として説明する。本発明の主眼は、立体的な掴み部を有するシート状基板を、落下および位置ずれを起こすことなく搬送することにある。したがって、本発明の対象となるシート状基板は、立体的な掴み部を有するシート状基板であれば足り、シート状シリコン基板に限定されず、シート状金属基板、シート状プラスチック基板なども含まれる。   An embodiment according to the present invention will be described by taking a sheet-like silicon substrate as an example of the sheet-like substrate. The main point of the present invention is to convey a sheet-like substrate having a three-dimensional grip portion without dropping and misalignment. Accordingly, the sheet-like substrate that is the subject of the present invention is not limited to a sheet-like silicon substrate, and may be a sheet-like metal substrate, a sheet-like plastic substrate, or the like, as long as it is a sheet-like substrate having a three-dimensional grip portion. .

(実施形態1)
本発明にかかるシート状基板の搬送装置の一実施形態は、図1および図3を参照して、第1の主面1aと第2の主面1bを有するシート状基板1の搬送装置であって、シート状基板1は、端部に連結されていて第2の主面側1bに突出している掴み部1gを有し、搬送装置は、第2の主面1bからの掴み部1gの突出長さLgより大きい厚さLを有する基板支持台11と、基板支持台11にシート状基板1を吸着させる基板吸着装置と、基板支持台11を移動させる基板移動装置とを含む。ここで、基板吸着装置には、基板支持台に設けられた吸着穴12、真空溝14および真空チューブ15が含まれる。また、基板移動装置には、基板支持台11を移動させるコンベアベルト13およびロール16が含まれる。
(Embodiment 1)
One embodiment of a sheet-like substrate conveyance device according to the present invention is a sheet-like substrate 1 conveyance device having a first main surface 1a and a second main surface 1b with reference to FIG. 1 and FIG. The sheet-like substrate 1 has a grip portion 1g connected to the end portion and projecting to the second main surface side 1b, and the conveying device projects the grip portion 1g from the second main surface 1b. It includes a substrate support 11 having a length L g is greater than the thickness L, a and the substrate adsorption device for adsorbing the sheet-like substrate 1 on the substrate support table 11, a substrate moving device moving the substrate support table 11. Here, the substrate suction device includes a suction hole 12, a vacuum groove 14 and a vacuum tube 15 provided on the substrate support. Further, the substrate moving device includes a conveyor belt 13 and a roll 16 that move the substrate support 11.

また、本実施形態の搬送装置においては、さらに、基板支持台11にシート状基板1を載置するための載置用吸着ユニット17と、移動後の基板支持台11からシート状基板を取り出すための取り出し用吸着ユニット18とが含まれる。   Further, in the transfer apparatus of the present embodiment, the placement suction unit 17 for placing the sheet-like substrate 1 on the substrate support 11 and the sheet-like substrate are taken out from the moved substrate support 11. And a take-out suction unit 18.

図3を参照して、本実施形態における搬送の対象となるシート状シリコン基板(シート状基板1)は、端部に連結されていて第2の主面側1bに突出している掴み部1gを有している。すなわち、シート状シリコン基板(シート状基板1)の端部が第2の主面1b側に屈曲されて突出した掴み部1gを形成している。ここで、掴み部1gの形状は特に限定されず、図3(a)に示すようにシート状シリコン基板(シート状基板1)の端部が折り曲げられた形状でもよく、図3(b)に示すようにシート状シリコン基板(シート状基板1)の端部が湾曲された形状でもよい。また、ここで、主面とは、太陽電池のセル面など一定の目的のために使用される面をいう。なお、かかるシート状基板を製造する方法および装置については後述する。   Referring to FIG. 3, a sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) to be conveyed in the present embodiment has a grip portion 1g connected to an end portion and projecting to the second main surface side 1b. Have. That is, the grip part 1g which the edge part of the sheet-like silicon substrate (sheet-like board | substrate 1) bent and protruded to the 2nd main surface 1b side is formed. Here, the shape of the grip portion 1g is not particularly limited, and may be a shape in which the end portion of the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is bent as shown in FIG. 3 (a). As shown, the end of the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) may be curved. Here, the main surface refers to a surface used for a certain purpose such as a cell surface of a solar battery. A method and apparatus for manufacturing such a sheet-like substrate will be described later.

基板移動装置について、コンベアベルト13は、基板支持台11の移動方向の前後に設けられた一対のロール16により保持され、ロール16の回転によって水平方向に走行する。   Regarding the substrate moving device, the conveyor belt 13 is held by a pair of rolls 16 provided before and after the moving direction of the substrate support 11, and travels in the horizontal direction by the rotation of the rolls 16.

吸着装置について、コンベアベルト13に固定されている基板支持台11に形成されている複数の吸着穴12は、シート状シリコン基板(シート状基板1)を吸着するために設けられている。シート状シリコン基板(シート状基板1)を吸着する必要がある範囲でコンベアベルト13の下部に設けられた真空溝14を通して吸着穴12に真空が提供される。この真空溝14は、真空チューブ15を通して真空ラインに接続されている。なお図1においては、真空ポンプもしくは真空エジェクタ、圧力計、エアフィルタなどは略してある。   In the suction device, a plurality of suction holes 12 formed in the substrate support 11 fixed to the conveyor belt 13 are provided for sucking the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1). Vacuum is provided to the suction holes 12 through the vacuum grooves 14 provided in the lower part of the conveyor belt 13 within a range where it is necessary to suck the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1). The vacuum groove 14 is connected to a vacuum line through a vacuum tube 15. In FIG. 1, a vacuum pump or a vacuum ejector, a pressure gauge, an air filter, etc. are omitted.

載置用吸着ユニット17は、基板支持台11にシート状シリコン基板(シート状基板1)を載置するためのものであり、取り出し用吸着ユニット18は所望の位置まで搬送したシート状シリコン基板(シート状基板1)を、たとえばレーザー切断装置治具などの所定の位置に取り出すためのものである。載置用吸着ユニット17および取り出し用吸着ユニット18は、それぞれ必要な位置にシート状シリコン基板を移載できるよう多軸ロボットなどの移動装置に接続されている。   The mounting suction unit 17 is for mounting a sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) on the substrate support base 11, and the taking-out suction unit 18 is a sheet-like silicon substrate transported to a desired position ( For example, the sheet-like substrate 1) is taken out to a predetermined position such as a laser cutting device jig. The placement suction unit 17 and the removal suction unit 18 are connected to a moving device such as a multi-axis robot so that the sheet-like silicon substrate can be transferred to a required position.

図1に示した本実施形態の搬送装置を用いるシート状シリコン基板(シート状基板1)の搬送方法は、図3に示すような第2の主面1bからの掴み部1gの突出長さLgより大きい厚さLを有する基板支持台11に、第2の主面1bが接触するようにシート状シリコン基板シート状シリコン基板(シート状基板1)を配置して吸着させるステップ(以下、基板吸着ステップいう)と、基板支持台11に(シート状基板1)を吸着させて基板支持台11を移動させるステップ(以下、基板移動ステップという)とを含む。 The sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is conveyed using the conveying apparatus of the present embodiment shown in FIG. 1 by the protruding length L of the grip portion 1g from the second main surface 1b as shown in FIG. A step of arranging and adsorbing a sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) such that the second main surface 1b contacts the substrate support 11 having a thickness L larger than g (hereinafter referred to as substrate) And a step of moving the substrate support 11 by adsorbing the (sheet-like substrate 1) to the substrate support 11 (hereinafter referred to as a substrate moving step).

基板吸着ステップにおいては、以下のことが行なわれる。基板支持体11がシート状シリコン基板(シート状基板1)の載置を受け入れる位置(以下、載置位置という)にあるとき、シート状シリコン基板(シート状基板1)が載置用吸着ユニット17によって基板支持台11上に載置される。真空溝14はこの載置位置にまで設けられており、シート状シリコン基板は、基板支持台11に載置されると同時に、真空溝14と連結された基板支持台11の吸着穴12によって吸着される。   In the substrate adsorption step, the following is performed. When the substrate support 11 is in a position (hereinafter referred to as a placement position) for receiving the placement of the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1), the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is placed on the placement adsorption unit 17. Is placed on the substrate support 11. The vacuum groove 14 is provided up to this mounting position, and the sheet-like silicon substrate is placed on the substrate support 11 and is sucked by the suction holes 12 of the substrate support 11 connected to the vacuum groove 14. Is done.

ここで、基板支持台11はシート状シリコン基板(シート状基板1)の第2の主面1bからの掴み部の突出長さLgより大きい厚さLを有しており、シート状シリコン基板(シート状基板1)の突出部が基板支持台11上に載らないような間隔をあけてコンベアベルト13に設置されている。このようにして、基板支持台11に、第2の主面1bが基板支持台11に接触するようにシート状シリコン基板(シート状基板1)を載置して、容易に吸着させることができる。 Here, the substrate support 11 has a thickness L larger than the protruding length L g of the grip portion from the second main surface 1b of the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1). The protruding portions of the (sheet-like substrate 1) are installed on the conveyor belt 13 with an interval so as not to be placed on the substrate support base 11. In this way, the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) can be placed on the substrate support 11 so that the second main surface 1b contacts the substrate support 11 and can be easily adsorbed. .

次にロール16を1ピッチ分回転させることにより、基板支持台11を1ピッチ分移動させる。新たに載置位置に至った基板支持台11に、上述の方法によって新たなシート状シリコン基板(シート状基板1)を載置して吸着させる。   Next, the substrate support 11 is moved by one pitch by rotating the roll 16 by one pitch. A new sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is placed and adsorbed on the substrate support 11 that has newly reached the placement position by the method described above.

基板移動ステップにおいては、シート状シリコン基板(シート状基板1)が吸着された基板支持台11を、ロール16の回転により所望の取り出し位置にまで移動させる。   In the substrate moving step, the substrate support 11 on which the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is adsorbed is moved to a desired take-out position by the rotation of the roll 16.

こうして、搬送されたシート状シリコン基板(シート状基板1)は、取り出し用吸着ユニット18により基板支持台11から取り出しされる。真空溝14は、この取り出し位置に基板支持台11があるときに、基板支持台11の吸着穴12の一部が吸着できるように設置されている。このように真空溝14を設けることで、シート状シリコン基板(シート状基板1)は、取り出し位置まで位置ずれを起こさずに搬送されると同時に、取り出し位置では吸着力が弱められているために、取り出し用吸着ユニット18により容易に基板支持台11から取り除かれる。   Thus, the conveyed sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is taken out from the substrate support 11 by the pick-up suction unit 18. The vacuum groove 14 is installed so that a part of the suction hole 12 of the substrate support 11 can be sucked when the substrate support 11 is in this take-out position. By providing the vacuum groove 14 in this manner, the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is transported to the take-out position without causing a positional shift, and at the same time, the suction force is weakened at the take-out position. Then, it is easily removed from the substrate support 11 by the take-out suction unit 18.

本実施形態においては、基板支持台11としてコンベアベルト13上に固定した箱型の基板支持台11を用いたが、基板支持台11をコンベアベルト13と一体化させることも可能である。たとえば、コンベアベルト13に一定間隔でシート状シリコン基板(シート状基板1)の第2の主面1bからの掴み部の突起長さLgよりも深い溝を形成し、コンベアベルト13に吸着穴(図示せず)を形成して、基板支持台11としてのコンベアベルト13に直接シート状シリコン基板(シート状基板1)を載置して吸着させた後、基板支持台11としてのコンベアベルトを移動させることも可能である。 In this embodiment, the box-shaped substrate support 11 fixed on the conveyor belt 13 is used as the substrate support 11, but the substrate support 11 can be integrated with the conveyor belt 13. For example, a groove deeper than the protrusion length L g of the grip portion from the second main surface 1b of the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is formed in the conveyor belt 13 at regular intervals, and suction holes are formed in the conveyor belt 13. (Not shown) is formed, and a sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is directly placed on and adsorbed on a conveyor belt 13 as a substrate support base 11, and then a conveyor belt as a substrate support base 11 is attached. It is also possible to move it.

ここで、基板支持台11のシート状シリコン基板(シート状基板1)と接する部分には、耐熱性の高い素材を用いることが好ましい。これは基板成長用基体をシリコン融液に浸漬させて形成された直後のシート状シリコン基板が比較的高温であるため、シリコン融液浸漬直後のシート状シリコン基板(シート状基板1)を搬送する場合、耐熱性の低い材質であれば変形等の恐れがあるためである。さらに基板支持台11のシート状シリコン基板(シート状基板1)と接する部分はしなやかな素材を用いることが好ましい。しなやかな材質を用いることにより、搬送時にシート状シリコン基板に与える衝撃をやわらげるのみならず、シート状シリコン基板に微小な凹凸があっても、変形により微小な凹凸を吸収し、吸着を容易に行うことができるからである。耐熱性としなやかさを兼ね備える素材として、たとえば、フッ素ゴム、シリコンゴムなどが好適に挙げられる。   Here, it is preferable to use a material having high heat resistance for the portion of the substrate support 11 that contacts the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1). This is because the sheet-like silicon substrate immediately after being formed by immersing the substrate growth base in the silicon melt is at a relatively high temperature, so the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) immediately after the silicon melt immersion is transported. In this case, if the material has low heat resistance, there is a risk of deformation or the like. Furthermore, it is preferable to use a flexible material for the portion of the substrate support 11 that contacts the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1). By using a supple material, not only the impact on the sheet-like silicon substrate during transportation is softened, but even if the sheet-like silicon substrate has minute irregularities, the minute irregularities are absorbed by deformation, and adsorption is facilitated. Because it can. As a material having both heat resistance and flexibility, for example, fluorine rubber, silicon rubber and the like can be preferably cited.

(実施形態2)
本発明にかかるシート状基板の搬送装置の他の実施形態は、図2および図3を参照して、第1の主面1aと第2の主面1bを有するシート状基板1の搬送装置であって、シート状基板1は、端部に連結されていて第2の主面側1bに突出している掴み部1gを有し、搬送装置は、第2の主面1bからの掴み部1gの突出長さLgより大きい厚さLを有する基板支持台11と、基板支持台11にシート状基板1を吸着させる基板吸着装置と、基板支持台11を移動させる基板移動装置とを含む。ここで、基板吸着装置には、基板支持台11に設けられた吸着穴12、真空チューブ25および真空制御ユニット29が含まれる。また、基板移動装置には、ボールねじ23、ガイドレール24およびモータ26が含まれる。
(Embodiment 2)
Another embodiment of the sheet-like substrate conveying apparatus according to the present invention is a sheet-like substrate 1 conveying apparatus having a first main surface 1a and a second main surface 1b, with reference to FIGS. The sheet-like substrate 1 has a grip portion 1g connected to the end portion and protruding to the second main surface side 1b, and the transport device includes a grip portion 1g from the second main surface 1b. includes a substrate support 11 having a protruding length L g is greater than the thickness L, a and the substrate adsorption device for adsorbing the sheet-like substrate 1 on the substrate support table 11, a substrate moving device moving the substrate support table 11. Here, the substrate suction apparatus includes a suction hole 12, a vacuum tube 25, and a vacuum control unit 29 provided in the substrate support 11. The substrate moving device includes a ball screw 23, a guide rail 24, and a motor 26.

また、本実施形態の搬送装置においては、さらに、基板支持台11にシート状基板1を載置するための載置用吸着ユニット17と、移動後の基板支持台11からシート状基板を取り出しするための取り出し用吸着ユニット18とが含まれる。かかる載置用吸着ユニット17および取り出し用吸着ユニット18は、実施形態1におけるものと同様である。   Further, in the transport apparatus of this embodiment, the sheet-like substrate is taken out from the placement suction unit 17 for placing the sheet-like substrate 1 on the substrate support 11 and the moved substrate support 11. And a suction unit 18 for taking out. The placement suction unit 17 and the removal suction unit 18 are the same as those in the first embodiment.

また、本実施形態における搬送の対象となるシート状シリコン基板(シート状基板1)は、実施形態1におけるシート状シリコン基板と同様である。   Further, the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) to be conveyed in the present embodiment is the same as the sheet-like silicon substrate in the first embodiment.

基板移動装置について、基板支持台11に連結されているボールねじ23をモータ26により正回転または逆回転させることにより、基板支持台11をシャトル運動させることができる。   With respect to the substrate moving device, the substrate support 11 can be shuttled by rotating the ball screw 23 connected to the substrate support 11 forward or backward by the motor 26.

吸着装置について、基板支持台11に形成されている複数の吸着穴12は、シート状シリコン基板(シート状基板1)を吸着するために設けられている。この吸着穴12は真空チューブ15および真空制御ユニット29を介して真空ラインに接続されている。なお、図2では真空ポンプもしくは真空エジェクタ、圧力計、エアフィルタなどは略してある。   In the suction device, a plurality of suction holes 12 formed in the substrate support 11 are provided for sucking a sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1). The suction hole 12 is connected to a vacuum line via a vacuum tube 15 and a vacuum control unit 29. In FIG. 2, a vacuum pump or a vacuum ejector, a pressure gauge, an air filter, etc. are omitted.

図2に示した本実施形態の搬送装置を用いるシート状シリコン基板(シート状基板1)の搬送方法は、図3に示すような第2の主面1bからの掴み部1gの突出長さLgより大きい厚さLを有する基板支持台11に、第2の主面1bが接触するようにシート状シリコン基板シート状シリコン基板(シート状基板1)を配置して吸着させるステップ(基板吸着ステップ)と、基板支持台11に(シート状基板1)を吸着させて基板支持台11を移動させるステップ(基板移動ステップ)とを含む。 The sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is conveyed using the conveying device of the present embodiment shown in FIG. A step of placing and adsorbing the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) so that the second main surface 1b contacts the substrate support 11 having a thickness L larger than g (substrate adsorption step) And a step of moving the substrate support 11 by adsorbing the (sheet-like substrate 1) to the substrate support 11 (substrate moving step).

基板吸着ステップにおいては、以下のことが行なわれる。基板支持体11がシート状シリコン基板(シート状基板1)の載置を受け入れる位置(載置位置)にあるとき、シート状シリコン基板(シート状基板1)が載置用吸着ユニット17によって基板支持台11上に載置される。シート状シリコン基板(シート状基板1)が基板支持台11上に載置されると、真空制御ユニット29を作動させることにより真空チューブ15と連結された基板支持台11の吸着穴12によって吸着される。   In the substrate adsorption step, the following is performed. When the substrate support 11 is at a position (placement position) for receiving the placement of the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1), the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is supported by the placement adsorption unit 17 on the substrate. Placed on the table 11. When the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is placed on the substrate support 11, it is adsorbed by the suction holes 12 of the substrate support 11 connected to the vacuum tube 15 by operating the vacuum control unit 29. The

ここで、基板支持台11はシート状シリコン基板(シート状基板1)の第2の主面1bからの掴み部の突出長さLgより大きい厚さLを有している。このようにして、基板支持台11に、第2の主面1bが基板支持台11に接触するようにシート状シリコン基板(シート状基板1)を載置して、容易に吸着させることができる。 Here, the substrate support 11 has a gripping projection length L g is greater than the thickness of the portion L from the second principal surface 1b of the sheet-shaped silicon substrate (sheet-like substrate 1). In this way, the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) can be placed on the substrate support 11 so that the second main surface 1b contacts the substrate support 11 and can be easily adsorbed. .

基板移動ステップにおいては、モータ26を作動させボールねじ23を正回転させることにより、基板支持台11を所望の取り出し位置にまで移動させる。   In the substrate moving step, the substrate 26 is moved to a desired removal position by operating the motor 26 and rotating the ball screw 23 forward.

その後、真空制御ユニット29により吸着穴12の真空状態を開放し、シート状シリコン基板(シート状基板1)は、基板支持台11への吸着が解除されると同時に、取り出し吸着ユニット18により基板支持台11から取り出される。このように吸着穴12の真空状態を制御することで、シート状シリコン基板(シート状基板1)は、取り出し位置まで位置ずれを起こさずに搬送されると同時に、取り出し位置では基板支持台11への吸着が解除されるために、取り出し吸着ユニット18により容易に基板支持台11から取り除かれる。   Thereafter, the vacuum state of the suction hole 12 is released by the vacuum control unit 29, and the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is released from the suction to the substrate support base 11, and at the same time, the take-out suction unit 18 supports the substrate. It is taken out from the table 11. By controlling the vacuum state of the suction holes 12 in this way, the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is transported to the take-out position without causing a positional shift, and at the same time, is taken to the substrate support 11 at the take-out position. Is removed from the substrate support 11 by the take-out adsorption unit 18.

本実施形態の搬送装置によるシート状シリコン基板(シート状基板1)の搬送は、第2の主面1b側に突出した掴み部を有するシート状シリコン基板を、その第2の主面1bを基板支持台11に接触し吸着させて、基板支持台11をシャトル運動させることにより行なうものである。したがって、基板支持台11は、上記の吸着およびシャトル運動が可能なものである限り、図2の示す形状に限定されない。また、基板支持台11をシャトル運動させる駆動装置は、図2に示すようなモータ26およびボールねじ23に限定されず、たとえば、エアシンシリンダなどであってもよい。   In the conveyance of the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) by the conveyance device of the present embodiment, a sheet-like silicon substrate having a grip portion protruding toward the second main surface 1b is used, and the second main surface 1b is used as the substrate. This is performed by making the substrate support table 11 perform a shuttle motion by contacting and adsorbing the support table 11. Therefore, the substrate support 11 is not limited to the shape shown in FIG. 2 as long as the above-described adsorption and shuttle motion are possible. Further, the driving device that causes the substrate support 11 to perform the shuttle motion is not limited to the motor 26 and the ball screw 23 as shown in FIG. 2, and may be an air thin cylinder, for example.

<シート状基板の製造方法>
実施形態1および2において搬送の対象となるシート状基板の製造方法を、シート状シリコン基板を例として説明する。まず、図4を参照して、シート状シリコン基板(シート状基板1)を成長させるための基板成長用基体41について説明する。かかる基板成長用基体41には、シート状シリコン基板に掴み部1gを形成させるための突起部41gが設けられている。かかる突起部41gを取り囲むようにシート状シリコン基板の掴み部1gが形成され、シート状シリコン基板の製造の際、シート状シリコン基板(シート状基板1)が、基板成長用基体41から剥がれ落ちることを防止し、回収率を向上させることが可能となる。なお、基板成長用基体41に設けられた溝部41dにより、シート状シリコン基板(シート状基板1)からのバリ1nの分離が容易になっている。
<Method for producing sheet-like substrate>
In the first and second embodiments, a method for manufacturing a sheet-like substrate to be conveyed will be described using a sheet-like silicon substrate as an example. First, a substrate growth base 41 for growing a sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) will be described with reference to FIG. The substrate growth base 41 is provided with a protrusion 41g for forming a grip portion 1g on a sheet-like silicon substrate. A gripping portion 1g of the sheet-like silicon substrate is formed so as to surround the protruding portion 41g, and the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is peeled off from the substrate growth base 41 when the sheet-like silicon substrate is manufactured. Can be prevented and the recovery rate can be improved. The groove 41d provided in the substrate growth base 41 facilitates separation of the burrs 1n from the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1).

次に、図5を参照して、シート状基板の製造装置および製造方法について説明する。図5に示すシート状シリコン基板の製造装置は、坩堝昇降台54の上に断熱材53および坩堝台52を介して坩堝51が載せられており、坩堝51の中のシリコン融液50は坩堝51の周囲に配設されたヒータ55によって融点以上に保持されている。かかる断熱材53は、融液温度を均一に保持するためと、坩堝底からの抜熱を抑制するために用いられている。さらに本装置は基体固定脚56に固定された基板成長用基体41の表面がシリコン融液50に浸漬するように設計されている。また前記断熱材53には、坩堝昇降機構を有する坩堝昇降台54が設けられている。これは、基板成長用基体41の表面上でシート状シリコン基板(シート状基板1)が成長するため、常に基板成長用基体41が、シリコン融液50の融液面から同じ深さで浸漬できるように上下動させるためである。   Next, with reference to FIG. 5, the manufacturing apparatus and manufacturing method of a sheet-like board | substrate are demonstrated. In the sheet-shaped silicon substrate manufacturing apparatus shown in FIG. 5, a crucible 51 is placed on a crucible lifting / lowering base 54 via a heat insulating material 53 and a crucible base 52. Is maintained above the melting point by a heater 55 disposed around the periphery of the heater. The heat insulating material 53 is used to keep the melt temperature uniform and to suppress heat removal from the crucible bottom. Further, this apparatus is designed such that the surface of the substrate growth base 41 fixed to the base fixing leg 56 is immersed in the silicon melt 50. The heat insulating material 53 is provided with a crucible lifting / lowering base 54 having a crucible lifting / lowering mechanism. This is because the sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) grows on the surface of the substrate growth base 41, so that the substrate growth base 41 can always be immersed at the same depth from the melt surface of the silicon melt 50. It is for moving up and down.

かかるシート状シリコン基板の製造装置を用いて、基板成長基体41上でシート状シリコン基板(シート状基板1)を成長させる際に、たとえば図4(b)に示す基板成長基体41を、その第1の主面41aが下向きに、その突起部41gが進行方向の前面になるようにして、図5中の矢印の方向に、左側から右側へ移動させる。このとき、基板成長基体41の第1の主面41aおよび突起部41gが、シリコン融液50に接触するように移動させることにより、基板成長基体41に、掴み部1gを有するシート状シリコン基板(シート状基板1)が成長する。   When a sheet-like silicon substrate (sheet-like substrate 1) is grown on the substrate growth base 41 using such a sheet-like silicon substrate manufacturing apparatus, for example, the substrate growth base 41 shown in FIG. 1 is moved from the left side to the right side in the direction of the arrow in FIG. 5 so that the first main surface 41a faces downward and the protrusion 41g becomes the front surface in the traveling direction. At this time, the first main surface 41a and the protrusion 41g of the substrate growth base 41 are moved so as to contact the silicon melt 50, whereby the substrate growth base 41 has a sheet-like silicon substrate (having a grip portion 1g). A sheet-like substrate 1) grows.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した説明でなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内のすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

シート状基板の搬送装置の一実施形態を示す概略図である。It is the schematic which shows one Embodiment of the conveying apparatus of a sheet-like board | substrate. シート状基板の搬送装置の他の実施形態をを示す概略図である。It is the schematic which shows other embodiment of the conveying apparatus of a sheet-like board | substrate. 基板支持台上に載置されたシート状基板を示す概略断面図である。ここで、(a)はシート状基板の一実施形態を示し、(b)はシート状基板の他の実施形態を示す。It is a schematic sectional drawing which shows the sheet-like board | substrate mounted on the board | substrate support stand. Here, (a) shows one embodiment of the sheet-like substrate, and (b) shows another embodiment of the sheet-like substrate. (a)は基板成長基体およびシート状基板を示す概略図である。(b)は(a)の線分IVB−IVBにおける概略断面図である。(A) is the schematic which shows a substrate growth base | substrate and a sheet-like board | substrate. (B) is a schematic sectional drawing in line segment IVB-IVB of (a). シート状シリコン基板の製造装置の一実施形態を示す概略図である。It is the schematic which shows one Embodiment of the manufacturing apparatus of a sheet-like silicon substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1 シート状基板、1a,41a 第1の主面、1b 第2の主面、1g 掴み部、1n バリ、11 基板支持台、12 吸着穴、13 ベルトコンベア、14 真空溝、15 真空チューブ、16 ロール、17 載置用吸着ユニット、18 取り出し用吸着ユニット、23 ボールねじ、24 ガイドレール、26 モータ、29 真空制御ユニット、41 基板成長用基体、41d 溝部、41g 突起部、50 シリコン融液、51 坩堝、52 坩堝台、53 断熱材、54 坩堝昇降台、55 ヒータ、56 基体固定脚。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sheet-like board | substrate, 1a, 41a 1st main surface, 1b 2nd main surface, 1g Grab part, 1n burr | flash, 11 Substrate support stand, 12 Adsorption hole, 13 Belt conveyor, 14 Vacuum groove, 15 Vacuum tube, 16 Roll, 17 Placement suction unit, 18 Takeout suction unit, 23 Ball screw, 24 Guide rail, 26 Motor, 29 Vacuum control unit, 41 Substrate growth base, 41d Groove, 41g Protrusion, 50 Silicon melt, 51 Crucible, 52 crucible base, 53 heat insulating material, 54 crucible lifting base, 55 heater, 56 base fixing leg.

Claims (4)

第1の主面と第2の主面を有するシート状基板の搬送方法であって、
前記シート状基板は、端部に連結されていて前記第2の主面側に突出している掴み部を有し、
前記第2の主面からの前記掴み部の突出長さより大きい厚さを有する基板支持台に、前記第2の主面が接触するように前記シート状基板を載置して吸着させるステップと、
前記シート状基板が吸着された前記基板支持台を移動させるステップとを含むシート状基板の搬送方法。
A method for conveying a sheet-like substrate having a first main surface and a second main surface,
The sheet-like substrate has a grip portion connected to an end portion and protruding toward the second main surface side,
Placing and adsorbing the sheet-like substrate so that the second main surface comes into contact with a substrate support having a thickness larger than the protruding length of the grip portion from the second main surface;
Moving the substrate support on which the sheet-like substrate has been adsorbed.
第1の主面と第2の主面を有するシート状基板の搬送装置であって、
前記シート状基板は、端部に連結されていて前記第2の主面側に突出している掴み部を有し、
前記搬送装置は、前記第2の主面からの前記掴み部の突出長さより大きい厚さを有する基板支持台と、前記基板支持台に前記シート状基板を吸着させる基板吸着装置と、前記基板支持台を移動させる基板移動装置とを含むシート状基板の搬送装置。
A sheet substrate transport apparatus having a first main surface and a second main surface,
The sheet-like substrate has a grip portion connected to an end portion and protruding toward the second main surface side,
The transport device includes a substrate support base having a thickness larger than a protruding length of the grip portion from the second main surface, a substrate suction device for attracting the sheet-like substrate to the substrate support base, and the substrate support A sheet-like substrate transfer device including a substrate moving device for moving a table.
前記基板移動装置は、前記基板支持台を移動させるコンベアベルトを含む請求項2に記載のシート状基板の搬送装置。   The sheet substrate transport device according to claim 2, wherein the substrate moving device includes a conveyor belt that moves the substrate support. 前記基板移動装置は、前記基板支持台をシャトル運動させる駆動装置を有する請求項2に記載のシート状基板の搬送装置。   The sheet-like substrate transfer device according to claim 2, wherein the substrate moving device includes a driving device that shuttles the substrate support.
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