JP2008077726A - 光ディスク及び光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】 光反射膜に対する優れた接着力を有することにより、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を抑制できる光ディスク透過層用活性エネルギー線硬化型組成物、及び、該組成物を使用した耐久性、耐光性に優れた光ディスクを提供する。
【解決手段】
基板上に、少なくとも光反射層と、活性エネルギー線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、活性エネルギー線硬化型組成物として、カルボキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物と、エポキシ樹脂とを反応させて得られる特定のエポキシ（メタ）アクリレートを含有する活性エネルギー線硬化型組成物を使用することにより、金属反射膜に対し高い接着力を有する光透過層を実現でき、高温高湿試験後の反射率低下の少ない良好な特性を発現する。
【選択図】 なし

Description

本発明は、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通して３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有する半導体レーザー（以下ブルーレーザーと称す）により記録又は再生を行う光ディスク、および光ディスクの光透過層に適した活性エネルギー線硬化型組成物に関する。

近年、情報技術の発展により大容量の情報記録の伝達が可能になった。これに伴い、大容量となる映像、音楽、コンピューターデータ等を記録及び再生出来る高密度大容量の光ディスクが要求されている。

高密度記録媒体として伸長を見せているＤＶＤ（Digital Versatile Disc）は厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤにおいては高密度化を達成するため、ＣＤ（Compact Disc）に比べ短波長の６５０ｎｍのレーザーを用い、光学系も高開口数化している。

しかし、ＨＤＴＶ（high definition television）に対応した高画質の映像等を記録または再生する為には更なる高密度化が必要となる。ＤＶＤの次世代に位置する更なる高密度記録の方法及びその光ディスクの検討が行われており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザー及び高開口数の光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている（例えば、非特許文献１参照）。

この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層してなり、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。この光ディスクの光透過層には、生産性の観点から、紫外線硬化型組成物を使用することがもっぱら研究されている。

このような、ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクとして、円形基板上に情報記録層及び光反射層を形成し、更に紫外線硬化型樹脂を塗布し、硬化させて光透過層を積層した光ディスクが提案されている。該技術では、光透過層形成材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物が使用されている（特許文献１及び特許文献２参照）。しかしながら、カチオン重合性紫外線硬化型組成物は、紫外線照射により光反射層を腐食させやすいルイス酸を発生するため、光ディスクを長期間保存する場合の安定性が得られ難い欠点がある。光反射膜に用いる材料としては、４００ｎｍ前後で高い反射率が求められることから、銀又は銀を主成分とする合金が使用されている。銀又は銀を主成分とする合金は化学物質による腐食等の化学変化を起こしやすいため、光反射層を形成する材料として銀又は銀を主成分とする合金を用いた場合、これに接する光透過層用の材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物を用いることは好ましくない。

カチオン重合性紫外線硬化型組成物に換えて、ラジカル重合系のエポキシアクリレートを使用した光ディスク用樹脂組成物が開示されている（特許文献３参照）。当該組成物は、透湿性の低いアクリレートとして、エポキシアクリレート、特にビスフェノールＡ型のエポキシアクリレートなどの高比重液状オリゴマーを使用することにより、金属薄膜の腐食の少ない樹脂膜を提供するものである。しかし、ここで開示されている一般的なビスフェノールＡ型のエポキシアクリレートは、金属反射膜との接着力に乏しく、高温高湿環境下に長時間放置された後の金属反射膜の腐食の抑制効果や、光照射による光ディスクの反射率の低下の抑制効果が充分でなく、実用上の耐久性に問題があった。

また、ＤＶＤの貼り合わせ型の光ディスクに使用される紫外線硬化型組成物として、１分子中に１個の水酸基を含有する（メタ）アクリレートと二塩基酸無水物の反応物であるハーフエステル化合物と１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂との反応物と反応性希釈剤と光重合開始剤を含有する光ディスク貼り合わせ用紫外線硬化性接着剤組成物に関する技術が開示されている（特許文献４参照）。当該技術は、銀等からなる半透明反射膜を有する貼り合わせ型光ディスクにおいて、高い耐久性（信頼性）を有する接着剤組成物を提供することを目的としており、高温高湿環境下に放置した後も反射膜の外観変化が発生しないことが開示されている。しかし、当該組成物は、ＤＶＤ−９などの貼り合わせ型光ディスクの中間層としては、実用上の耐久性を確保できるものであったが、ブルーレーザー用の光ディスクの光透過層に用いる場合には、接着力が充分でなく、光反射膜の劣化が生じる問題があった。

日経エレクトロニクス（日経ＢＰ社）、１９９９年、８、９号、ｐ．４７〜５３ 特開平１１−１９１２４０号公報 特開２００２−９２９４８号公報 特開平１１−３０２３０９号公報 特開２００３−２０６４４９号公報

本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、光反射膜に対する優れた接着力を有することにより、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を抑制できる光ディスク透過層用活性エネルギー線硬化型組成物、及び、該組成物を使用した耐久性、耐光性に優れた光ディスクを提供することにある。

本発明者らは、硬化時に発生する歪みを緩和することができる分子構造を有するオリゴマーを検討し、カルボキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物と、エポキシ樹脂とを反応させて得られる特定のエポキシ（メタ）アクリレートを含有する活性エネルギー線硬化型組成物が、光ディスクの光透過層として使用した場合に金属反射膜に対し高い接着力を発現でき、高温高湿試験後の反射率低下の少ない良好な特性を発現することを見出し本発明に至った。

すなわち本発明は、基板上に、少なくとも光反射層と、活性エネルギー線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
前記活性エネルギー線硬化型組成物が、式（１）

（式中、Ｒ^１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１６のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子又はメチル基、Ｘは、構造中に酸素原子、硫黄原子又は芳香環を有していても良い炭素数２〜４０の有機基を表し、ｎは１〜１０の整数である。）で表される化合物と光重合開始剤とを含有する光ディスクを提供するものである。

また、本発明は、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクにおける光透過層に使用する活性エネルギー線硬化型組成物であって、
式（１）

（式中、Ｒ^１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１６のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子又はメチル基、Ｘは、構造中に酸素原子、硫黄原子又は芳香環を有していても良い炭素数２〜４０の有機基を表し、ｎは１〜１０の整数である。）で表される化合物を含有し、かつ、式（１）で表される化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化型組成物中のラジカル重合性化合物全量中の４０〜９０質量％である光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物を提供するものである。

本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物で使用するエポキシアクリレート樹脂は、該組成物の硬化膜の弾性率を低く抑えることができ、硬化時に生じた硬化膜内の歪みを緩和することができる。また、本発明で使用するエポキシアクリレート樹脂は、剛直な環状構造を有し、且つ耐熱性の高いエステル構造から構成されることから、銀又は銀合金反射膜の光ディスクにおいて、該組成物を光透過層として使用した場合に、優れた耐久性や耐光性を得ることができる。したがって、本発明の光ディスクは光透過層の膜厚の厚いブルーレーザー用光ディスクとして最適である。

［光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物］
本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物は、式（１）

（式中、Ｒ^１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１６のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子又はメチル基、Ｘは、構造中に酸素原子、硫黄原子又は芳香環を有していても良い炭素数２〜４０の有機基を表し、ｎは１〜１０の整数である。）で表される化合物を含有する。なお、本明細書中で反射膜とは、情報読み取り用のレーザー光を反射するための半透明反射膜又は該レーザー光を実質的に透過しない完全反射膜のことであり、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のことであり、アクリル酸又はメタクリル酸の誘導体についても同様である。

前記式（１）中、Ｒ^１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１６のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子又はメチル基、Ｘは、構造中に酸素原子、硫黄原子又は芳香環を有していても良い炭素数２〜４０の有機基を表し、ｎは１〜１０の整数である。中でも、下記式（２）で表される化合物であることがより好ましい。

（式中、Ｙは−ＳＯ_２−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−又は−Ｃ（ＣＨ_３）_２−を表し、Ｚは式（３）

（式中、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表し、ｎは１〜１０の整数である。）で表される基であり、ｍは０又は１以上の整数を表す。）

エポキシアクリレート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は９００〜８０００であることが好ましく、１２００〜３０００であることがより好ましい。また、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比率（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．３〜２．８であることが好ましく、１．４〜２．０であることがより好ましい。重量平均分子量（Ｍｗ）及び（Ｍｗ／Ｍｎ）が上記範囲であるとエポキシアクリレート樹脂の粘度が低く、活性エネルギー線硬化型組成物としてのエポキシアクリレート樹脂（オリゴマー）の濃度を高くできるため、不飽和二重結合濃度を下げる事が出来、その結果、硬化塗膜の硬化収縮による歪みが減少するため、好ましい。

本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物中には、式（１）で表されるエポキシアクリレートを、活性エネルギー線硬化型組成物中のラジカル重合性化合物全量中の４０〜９０質量％含有することが好ましく、４０〜８０質量％含有することが特に好ましい。また、活性エネルギー線硬化型組成物中には公知の光重合開始剤、及び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。

本発明に使用できる公知の光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤等がある。

本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物中の他のラジカル重合性化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリレートとして、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキルエーテル（メタ）ポリアクリレート類、；ノルボルナンジメタノールジアクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート等の脂環構造を有するモノマー類、；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート等のイソシアヌレート構造を有するモノマー類、；ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等を挙げることができ、前記ラジカル重合性不飽和モノマーの１種もしくは２種以上を用いることができる。

また、オリゴマーとしては、例えば、ポリエーテル骨格のウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル骨格のウレタン（メタ）アクリレート、ポリカーボネート骨格のウレタン（メタ）アクリレートなどのポリウレタン（メタ）アクリレート或いは、ポリエステル骨格のポリオールに（メタ）アクリル酸をエステル化したポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル骨格のポリオールに（メタ）アクリル酸をエステル化したポリエーテル（メタ）アクリレート等の活性エネルギー線硬化性オリゴマーの１種もしくは２種以上を用いる事が出来る。

中でも、本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物としては、ポリカーボネート型のウレタンアクリレートが好ましい。ポリカーボネート型のウレタンアクリレートを使用すると、高温高湿環境下に長時間放置した場合における耐久性が向上し、信号の読み取りエラーの増加を抑えることができる。ポリカーボネート型のウレタンアクリレートは、光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物全体に対して、１０〜４０質量％使用するのが好ましい。

本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物は、式（１）の化合物に加えて、上記の（メタ）アクリレートを適宜使用することで、粘度や硬化膜の弾性率等の物性を適宜調整できる。本発明の活性エネルギー線硬化型組成物の粘度は、１０００〜３０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。粘度を当該範囲とすることで、光ディスクの光透過層を好適に作製できる。

本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物は、活性エネルギー線を照射した後の硬化膜の弾性率が、３０〜２５００ＭＰａ（２５℃）となるように調整することが好ましい。中でも３０〜１６００ＭＰａとなる組成であることがより好ましい。弾性率がこの範囲となる組成であると、硬化時の歪みが緩和され易く、高温高湿環境下に長時間曝されても接着力の低下が少なく光ディスクの機械的強度を高めることが容易である。

本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。

［光ディスク］
本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、前記光透過層が、上記の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物の硬化物からなるものである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物を使用することにより、高温高湿下でも接着力の低下が生じにくく、銀又は銀合金を反射膜として使用した場合であっても、優れた耐久性や耐光性を得ることができるため、良好に情報の記録・再生を行うことができる。

本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましい。光透過層の厚みは５０〜１５０μｍの範囲であり、７５〜１５０μｍであることが特に好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。

光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。

基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。

また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。

情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。

本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層とが積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。

また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよい。

本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。

光反射層上に塗布した光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。

紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１Ｊ／ｃｍ^２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．０５〜０．８Ｊ／ｃｍ^２であることがより好ましく、０．０５〜０．６Ｊ／ｃｍ^２であることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。

次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。

＜合成例１＞
還流冷却管、及び空気導入管、温度計を備えた攪拌機付き反応器に、アロニックスＭ−５３００（アクリル酸へε−カプロラクトン２モル付加した化合物 酸価１８７ＫＯＨｍｇ／ｇ東亜合成（株）製）を３００部、メトキノン０．２部、エピクロン８５０（大日本インキ化学工業（株）製ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量１８８ｇ／当量）を１８８部、トリフェニルホスフィン１部加えて、９５〜１００℃で５時間反応して化合物（Ａ）を得た。酸価０．８ＫＯＨｍｇ／ｇ、ＧＰＣ測定分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）８８９、重量平均分子量（Ｍｗ）１３５２、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．５２であった。

＜紫外線硬化型樹脂組成物の製造＞
下記表１に示した組成により配合した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、実施例１及び比較例１の各実施例及び比較例の活性エネルギー線硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行った。

＜弾性率の測定方法＞
活性エネルギー線硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が１００±１０μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で５００ｍＪ／ｃｍ^２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント（株）社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、２５℃における動的弾性率Ｅ’を弾性率とした。

＜粘度の測定方法＞
活性エネルギー線硬化型組成物について、２５℃における粘度をＢ型粘度計（（株）東京計器製、ＢＭ型）を用いて測定した。

＜接着力の測定方法＞
直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、該金属反射膜上に、表１の各活性エネルギー線硬化型組成物をスピンコーターで膜厚が硬化後に１００±１０μｍになるように塗布し、コールドミラー付きメタルハライドランプ１２０Ｗ／ｃｍを用いて照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２（アイグラフィックス社製光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を２回照射、硬化して接着力測定用サンプルを得た。各サンプルについてエスペック（株）製「ＰＲ−２ＰＫ」を使用して、８０℃８５％ＲＨ２４時間の高温高湿環境下での曝露（耐久試験）を行った。試験前後のサンプルについて、サンドペーパー＃１５００，＃２８０で塗膜を全体が薄く曇る程度に軽く研磨し、水、エタノールで研磨粉を拭き取り、住友スリーエム（株）製構造用接合テープＹ−４９２０を用い１０ｍｍ各のステンレス治具に取り付けた。テスター産業製プッシュプルゲージ（５００Ｎフルスケール）にて基板に取り付けた治具を引っ張り、その引っ張り強度を測定し、接着力とした。

表１に示すように、合成例において合成したエポキシアクリレート（Ａ）を使用した本発明の光透過層用活性エネルギー線硬化性組成物を用いることにより、実施例１のように弾性率が低くなり、柔軟性が高く銀合金反射膜に対し接着力の高い硬化膜を得ることができる。一方、比較例１は、弾性率が高く柔軟性がなく銀合金反射膜に対し接着力の低い硬化膜をとなる。

＜光ディスクの耐久性及び反射率の評価、光反射膜の表面観察＞
上記と同様にして得られた光ディスクサンプルについて、エスペック（株）製「ＰＲ−２ＰＫ」を使用して、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での曝露（耐久試験）を行った。試験前後のサンプルについて、光透過層の側から、分光光度計「ＵＶ−３１００」（島津製作所（株）製）で４０５ｎｍにおける正反射率を測定した。
試験前後の反射率の変化が１．５％以内であった場合には○、１．５％を越えた場合には×とした。
また、暴露試験後のサンプルについて、目視により光反射膜表面の状態を観察した。光反射膜に変化が見られないものを○、光反射膜に変色やピンホールが見られるものを×とした。

表１中の化合物は以下の通り。
Ｖ−５５３０:ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のグリシジル基に直接アクリル酸が付加した構造のエポキシアクリレート ; 大日本インキ化学工業（株）
ＤＰＧＤＡ:ジプロピレングリコールジアクリレート ; 美源商事（株）製 Ｍ−２２２
ＰＥＡ:フェノキシエチルアクリレート ; 共栄社化学（株）製 ＰＯ−Ａ
ＰＭ−２: エチレンオキシド変性リン酸ジメタクリレート ;日本化薬（株）製
Ｉｒｇ． １８４:イルガキュア１８４ ;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製

表１に示すように、実施例１のサンプルは比較例１のサンプルと比較して反射率の変化が小さく、高温高湿環境下での耐久試験において良好な結果を示した。また、比較例１のサンプルでは、耐久試験後に酸化による白化が見られたが、実施例１のサンプルにおいては反射膜に変化が見られなかった。

Claims (6)

1. 基板上に、少なくとも光反射層と、活性エネルギー線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
   前記活性エネルギー線硬化型組成物が、式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１６のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子又はメチル基、Ｘは、構造中に酸素原子、硫黄原子又は芳香環を有していても良い炭素数２〜４０の有機基を表し、ｎは１〜１０の整数である。）で表される化合物と光重合開始剤とを含有することを特徴とする光ディスク。
2. 前記式（１）で表される化合物が、式（２）
   

   

   （式中、Ｙは−ＳＯ_２−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−又は−Ｃ（ＣＨ_３）_２−を表し、Ｚは式（３）
   

   

   （式中、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表し、ｎは１〜１０の整数である。）
   で表される基であり、ｍは０又は１以上の整数を表す。）で表される化合物である請求項１記載の光ディスク。
3. 前記光反射層が、銀又は銀を主成分とする合金からなる請求項１又は２のいずれかに記載の光ディスク。
4. 前記光反射層と前記光透過層との間に、情報記録層を有する請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク。
5. 基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクにおける光透過層に使用する活性エネルギー線硬化型組成物であって、
   式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１６のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子又はメチル基、Ｘは、構造中に酸素原子、硫黄原子又は芳香環を有していても良い炭素数２〜４０の有機基を表し、ｎは１〜１０の整数である。）で表される化合物を含有し、かつ、式（１）で表される化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化型組成物中のラジカル重合性化合物全量中の４０〜９０質量％であることを特徴とする光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物。
6. 前記式（１）で表される化合物が式（２）
   

   

   （式中、Ｙは−ＳＯ_２−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−又は−Ｃ（ＣＨ_３）_２−を表し、Ｚは式（３）
   

   

   （式中、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表し、ｎは１〜１０の整数である。）
   で表される基であり、ｍは０又は１以上の整数を表す。）で表される化合物である請求項５に記載の光透過層用活性エネルギー線硬化型組成物。