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JP2008060318A - Table for sheet pasting machine, and wafer positioning method - Google Patents

Table for sheet pasting machine, and wafer positioning method Download PDF

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JP2008060318A
JP2008060318A JP2006235428A JP2006235428A JP2008060318A JP 2008060318 A JP2008060318 A JP 2008060318A JP 2006235428 A JP2006235428 A JP 2006235428A JP 2006235428 A JP2006235428 A JP 2006235428A JP 2008060318 A JP2008060318 A JP 2008060318A
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Japan
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wafer
taper portion
sheet
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inner table
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Withdrawn
Application number
JP2006235428A
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Miki Nakada
幹 中田
Hideaki Nonaka
英明 野中
Kenji Kobayashi
賢治 小林
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Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To paste a protective sheet well to a wafer and to facilitate assembling work of an apparatus. <P>SOLUTION: The table 11 is constituted of an inner table section 14 having a surface 14A for mounting a wafer W, an outer table section 15 having a surface 15A for mounting a protective sheet H projecting to the outside of the wafer W mounted on the wafer mounting surface 14A, and an elevating apparatus 19 provided to support the inner table section 14. The elevating apparatus 19 has an upper tapered portion 22 provided below the inner table section 14, and a lower tapered portion 23 arranged oppositely to the upper tapered portion 22. The elevating apparatus 19 elevates/lowers the inner table section 14 by moving the tapered portions 22 and 23 relatively such that the circuit surface W1 of the wafer W mounted on the wafer mounting surface 14A is positioned in flush with the sheet mounting surface 15A. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、シート貼付装置用テーブル及びウエハ位置決め方法に係り、更に詳しくは、半導体ウエハに保護シートをしっかりと貼付することができるシート貼付装置用テーブル及びウエハ位置決め方法に関する。   The present invention relates to a sheet sticking apparatus table and a wafer positioning method, and more particularly to a sheet sticking apparatus table and a wafer positioning method capable of firmly sticking a protective sheet to a semiconductor wafer.

従来より、半導体ウエハの製造工程において、半導体ウエハの回路面に保護シートを貼付することが行われており、かかる保護シートを貼付する装置として、例えば、特許文献1に示されるタイプのものが知られている。同装置は、半導体ウエハが載置される内側テーブル部と、この内側テーブル部を囲う位置に設けられた外側テーブル部と、送りねじ軸やモータにより内側テーブル部を昇降する駆動装置と、内側テーブル部上の半導体ウエハに保護シートを押圧して貼付する押圧ローラとを備えて構成されている。このような構成にあっては、半導体ウエハに保護シートを貼付する前に、駆動装置を介して内側テーブル部を昇降し、当該内側テーブル部に載置された半導体ウエハの回路面と、外側テーブル部の上面とが同一面上に位置するように調整を行う。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor wafer manufacturing process, a protective sheet is attached to a circuit surface of a semiconductor wafer. As an apparatus for attaching such a protective sheet, for example, the type shown in Patent Document 1 is known. It has been. The apparatus includes an inner table portion on which a semiconductor wafer is placed, an outer table portion provided at a position surrounding the inner table portion, a drive device that moves the inner table portion up and down by a feed screw shaft and a motor, and an inner table. And a pressing roller for pressing and attaching the protective sheet to the semiconductor wafer on the part. In such a configuration, before attaching the protective sheet to the semiconductor wafer, the inner table portion is raised and lowered via the driving device, and the circuit surface of the semiconductor wafer placed on the inner table portion and the outer table Adjustment is performed so that the upper surface of the portion is positioned on the same plane.

特開2004−47976号公報JP 2004-47976 A

前記特許文献1にあっては、半導体ウエハの回路面と外側テーブル部の上面とを同一面上に位置させるため、内側テーブル部を組み込むときに、内側テーブル部におけるウエハ載置面が外側テーブル部の上面と平行に設定することが必要となる。
ところが、特許文献1では、内側テーブル部が送りねじ軸とガイド部とにより散点的に支持されるので、装置組み立て段階において前記各面を平行にするため、送りねじ軸とガイド部とを少しずつ何度も調整する作業が不可欠となり、当該作業が煩雑で長時間化するという不都合がある。また、前記平行の精度も不安定になり、この結果、回路面において押圧ローラから付与される押圧力が部分的に強すぎてウエハに損傷が生じる原因となったり、前記押圧力が弱すぎて保護シートの貼付が不完全になる、という不都合がある。
しかも、特許文献1は、押圧ローラからの押圧力が送りねじ軸の延出方向すなわち上下方向に付与されるので、当該送りねじ軸とこれに螺合するナットとの間や、ガイド部に経時的にがたつきが生じ、前記平行の精度がより低下し易くなる。
ここで、仮に、ガイド部の本数を増やした場合、前記剛性が高められるものの、前述の調整作業がより一層複雑化するという別異の不都合がある。
In Patent Document 1, when the inner table portion is assembled, the wafer mounting surface of the inner table portion is the outer table portion so that the circuit surface of the semiconductor wafer and the upper surface of the outer table portion are positioned on the same surface. It is necessary to set it in parallel with the upper surface.
However, in Patent Document 1, since the inner table portion is supported in a scattered manner by the feed screw shaft and the guide portion, the feed screw shaft and the guide portion are slightly connected to make the surfaces parallel in the apparatus assembly stage. The adjustment work is indispensable, and the work is complicated and takes a long time. In addition, the parallel accuracy becomes unstable, and as a result, the pressing force applied from the pressing roller on the circuit surface is partly too strong, causing damage to the wafer, or the pressing force is too weak. There is an inconvenience that the protective sheet is not fully applied.
Moreover, in Patent Document 1, since the pressing force from the pressing roller is applied in the extending direction of the feed screw shaft, that is, in the vertical direction, the time passes between the feed screw shaft and the nut screwed to the feed screw shaft or in the guide portion. As a result, rattling occurs, and the parallel accuracy is more likely to decrease.
Here, if the number of the guide portions is increased, the rigidity is increased, but there is another inconvenience that the adjustment operation described above is further complicated.

[発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、半導体ウエハに保護シートを精度良く貼付することができ、貼付装置の調整作業の簡略化を図ることができるシート貼付装置用テーブル及びウエハ位置決め方法を提供することにある。
[Object of invention]
The present invention has been devised by paying attention to such inconveniences, and an object of the present invention is to be able to attach a protective sheet to a semiconductor wafer with high accuracy and to simplify the adjustment work of the attaching device. Another object of the present invention is to provide a sheet sticking device table and a wafer positioning method.

前記目的を達成するため、本発明は、半導体ウエハの面に押圧ローラを介してシートを貼付するためのシート貼付装置用テーブルにおいて、
前記半導体ウエハが載置されるウエハ載置面を備えた内側テーブル部と、前記ウエハ載置面に載置されたウエハの外側にはみ出た前記保護シートが載置されるシート載置面を備えた外側テーブル部と、前記内側テーブル部を支持可能に設けられた昇降装置とを含み、
前記昇降装置は、内側テーブル部の下部に設けられた上テーパ部と、この上テーパ部の下側に対向配置された下テーパ部とを備え、これらテーパ部を相対移動させることにより前記内側テーブル部を昇降可能に設けられる、という構成を採っている。
In order to achieve the above object, the present invention provides a sheet pasting apparatus table for pasting a sheet onto a surface of a semiconductor wafer via a pressing roller.
An inner table portion having a wafer placement surface on which the semiconductor wafer is placed, and a sheet placement surface on which the protective sheet that protrudes outside the wafer placed on the wafer placement surface is placed. And an elevating device provided to support the inner table portion,
The lifting device includes an upper taper portion provided at a lower portion of the inner table portion, and a lower taper portion disposed to face the lower side of the upper taper portion, and the inner table is moved by relatively moving the taper portion. The part is provided so that it can be moved up and down.

本発明において、前記上テーパ部及び下テーパ部のうち、少なくとも一方のテーパ部は、他方のテーパ部に対向する略全領域がテーパ面からなる板状部材により形成されることが好ましい。   In the present invention, it is preferable that at least one of the upper taper portion and the lower taper portion is formed of a plate-like member having a substantially entire region facing the other taper portion having a tapered surface.

また、前記上テーパ部及び下テーパ部のうち、何れか一方のテーパ部は、その傾斜方向に延びる複数のレール部材を含み、何れか他方のテーパ部は、前記レール部材に沿って移動可能なスライダを備える、という構成が好ましくは採用される。   One of the upper taper portion and the lower taper portion includes a plurality of rail members extending in the inclination direction, and the other taper portion is movable along the rail member. A configuration including a slider is preferably employed.

更に、前記下テーパ部は、前記ウエハ載置面と略平行に位置する上面部を備えた支持プレート上に摺動可能に配置されるとよい。   Further, the lower taper portion may be slidably disposed on a support plate having an upper surface portion positioned substantially parallel to the wafer mounting surface.

また、本発明のウエハ位置決め方法は、半導体ウエハの面に押圧ローラを介してシートを貼付する前に、シート貼付装置用テーブルに半導体ウエハを位置決めする方法であって、
前記シート貼付装置用テーブルは、半導体ウエハが載置されるウエハ載置面を備えた内側テーブル部と、前記ウエハ載置面に載置されたウエハの外側にはみ出た前記保護シートが載置されるシート載置面を備えた外側テーブル部と、前記内側テーブル部を支持可能に設けられた昇降装置とを含み、
前記昇降装置は、内側テーブルの下部に設けられた上テーパ部と、この上テーパ部の下側に対向配置された下テーパ部とを備え、
前記下テーパ部を水平方向に移動させて上テーパ部を昇降移動させることにより、ウエハ載置面に載置された半導体ウエハの上面とシート載置面とを同一面上に位置させる、という方法を採っている。
The wafer positioning method of the present invention is a method of positioning a semiconductor wafer on a table for sheet sticking apparatus before sticking a sheet to the surface of the semiconductor wafer via a pressure roller,
The table for the sheet sticking apparatus is provided with an inner table portion having a wafer placement surface on which a semiconductor wafer is placed, and the protective sheet protruding outside the wafer placed on the wafer placement surface. An outer table portion provided with a sheet placement surface, and an elevating device provided to support the inner table portion,
The lifting device includes an upper taper portion provided at a lower portion of the inner table, and a lower taper portion arranged to face the lower side of the upper taper portion,
A method in which the upper surface of the semiconductor wafer placed on the wafer placement surface and the sheet placement surface are positioned on the same surface by moving the lower taper portion in the horizontal direction and moving the upper taper portion up and down. Is adopted.

本発明によれば、上テーパ部と下テーパ部とを対向するように配置するとともに、上テーパ部に内側テーブル部を支持させることにより、ウエハ載置面とシート載置面とを平行に設定することができる。つまり、下テーパ部の上方に上テーパ部及び内側テーブル部を順に配置するだけで、前記各載置面を簡単且つ迅速に平行にすることができ、装置組み立て段階において作業の簡素化を図ることが可能となる。
しかも、上下のテーパ部によって内側テーブルを支持するので、面で押圧ローラからの押圧力を受け止めることができ、特許文献1に比べて剛性を高めることができ、経時的な精度低下を抑制することが可能となる。換言すれば、ウエハ載置面上のウエハの回路面とシート載置面とを同一面上に容易に位置決めすることができ、押圧ローラからウエハの回路面に付与される押圧力の均一化を通じて保護シートの貼付状態の安定化を達成することが可能となる。
更には、各テーパ部の相対移動により内側テーブル部を昇降させるので、相対移動量に対して昇降移動量を小さく設定することができる。従って、前記相対移動させるためのモータ等の駆動手段の小型化を図ったり、昇降移動量の最小値を小さく設定することが可能となり、より細かな位置決めを行う事ができる。
According to the present invention, the upper taper portion and the lower taper portion are arranged so as to face each other, and the inner table portion is supported by the upper taper portion, so that the wafer placement surface and the sheet placement surface are set in parallel. can do. That is, by simply arranging the upper taper portion and the inner table portion in order above the lower taper portion, the mounting surfaces can be made parallel easily and quickly, and the work can be simplified in the device assembly stage. Is possible.
Moreover, since the inner table is supported by the upper and lower taper portions, the pressing force from the pressing roller can be received by the surface, the rigidity can be increased compared to Patent Document 1, and the deterioration of accuracy over time can be suppressed. Is possible. In other words, the circuit surface of the wafer and the sheet mounting surface on the wafer mounting surface can be easily positioned on the same surface, and the pressing force applied from the pressing roller to the circuit surface of the wafer is made uniform. It becomes possible to achieve stabilization of the application state of the protective sheet.
Furthermore, since the inner table portion is moved up and down by the relative movement of the respective taper portions, the amount of movement up and down can be set smaller than the amount of relative movement. Accordingly, it is possible to reduce the size of the driving means such as the motor for the relative movement, and to set the minimum value of the up-and-down movement amount to be small, so that finer positioning can be performed.

また、板状部材のテーパ面によりテーパ部を形成した場合、押圧ローラからの押圧力に対する剛性をより良く高めることができ、ウエハ載置面の位置精度をより向上させることが可能となる。   Further, when the tapered portion is formed by the tapered surface of the plate-like member, the rigidity against the pressing force from the pressing roller can be further improved, and the positional accuracy of the wafer mounting surface can be further improved.

更に、レール部材とスライダとにより各テーパ部を相対移動させる場合、当該相対移動に要する駆動力を抑制でき、内側テーブル部をスムースに昇降させることが可能となる。   Further, when the taper portions are relatively moved by the rail member and the slider, the driving force required for the relative movement can be suppressed, and the inner table portion can be smoothly moved up and down.

また、支持プレートの上面部に下テーパ部を配置した場合、前記各載置面の平行をより簡単且つ精度良く設定することができる。   Moreover, when a lower taper part is arrange | positioned at the upper surface part of a support plate, the parallel of each said mounting surface can be set more easily and accurately.

以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1には、本実施形態に係るテーブルが適用された貼付装置の概略縦断面図が示されている。この図において、貼付装置10は、回路面W1を有する半導体ウエハW(以下「ウエハW」と称す)が載置されるテーブル11と、このテーブル11の上方に設けられた押圧ローラ12と、テーブル11との押圧ローラ12との間に保護シートHを繰り出す繰出装置(図示省略)とを備えて構成されている。
前記繰出装置は、保護シートHが巻回された原反から複数のローラ及び巻取手段を介してテーブル11上に保護シートHを通過させるとともに、テーブル11に対して保護シートHを離遠接近する方向(図1中上下方向)に移動可能に設けられている。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of a sticking device to which a table according to this embodiment is applied. In this figure, a sticking device 10 includes a table 11 on which a semiconductor wafer W (hereinafter referred to as “wafer W”) having a circuit surface W1 is placed, a pressure roller 12 provided above the table 11, and a table. 11 and a pressing roller 12 and a feeding device (not shown) for feeding out the protective sheet H.
The feeding device allows the protective sheet H to pass through the table 11 through the plurality of rollers and the winding means from the raw material around which the protective sheet H is wound, and the protective sheet H is moved away from the table 11 It is provided so as to be movable in the direction of movement (vertical direction in FIG. 1).

前記テーブル11は、図2にも示されるように、ウエハWが載置されるウエハ載置面14Aを上部に備えた内側テーブル部14と、平面視で内側テーブル部14を囲う位置に設けられた外側テーブル部15と、この外側テーブル部15をスペーサ16を介して下から支持する支持プレート18と、この支持プレート18に設けられて内側テーブル部14を下方から支持する昇降装置19と、支持プレート18に取り付けられたリフタ20とを備えて構成されている。   As shown in FIG. 2, the table 11 is provided at a position surrounding the inner table 14 with a wafer mounting surface 14 </ b> A on which the wafer W is mounted, and the inner table 14 in a plan view. An outer table portion 15, a support plate 18 that supports the outer table portion 15 from below via a spacer 16, a lifting device 19 that is provided on the support plate 18 and supports the inner table portion 14 from below, and a support A lifter 20 attached to the plate 18 is provided.

前記内側テーブル部14は、上面及び下面が平行となる一定の厚みを備えた板状に設けられるとともに、前記リフタ20の吸着管43を受容し、図示しない配管を介してエアを噴出するエア噴出手段としての穴14Bが形成されている。   The inner table portion 14 is provided in a plate shape having a constant thickness so that the upper surface and the lower surface are parallel to each other, and receives the suction pipe 43 of the lifter 20 and ejects air through a pipe (not shown). A hole 14B as a means is formed.

前記外側テーブル部15は、内側テーブル部14を受容する開口が形成された板状に設けられている。外側テーブル部15の上面は、保護シートHを貼付するとき(図5参照)、前記ウエハ載置面14Aに載置されたウエハWの外側にはみ出た保護シートHが載置されるシート載置面15Aとされる。外側テーブル部15は、シート載置面15Aが前記支持プレート18の上面部18Aと精度良く平行となるように設置されている。   The outer table portion 15 is provided in a plate shape in which an opening for receiving the inner table portion 14 is formed. When the protective sheet H is pasted on the upper surface of the outer table portion 15 (see FIG. 5), the sheet placement on which the protective sheet H protruding outside the wafer W placed on the wafer placement surface 14A is placed. The surface is 15A. The outer table portion 15 is installed so that the sheet placement surface 15A is accurately parallel to the upper surface portion 18A of the support plate 18.

前記昇降装置19は、内側テーブル部14の下部に連結された上テーパ部22と、支持テーブル18の上面部18A上に設けられ、上テーパ部22の下側に対向配置された下テーパ部23と、上テーパ部22の両側(図2参照)に設けられたガイド手段24と、下テーパ部23を水平方向(図1中左右方向)に移動させる昇降装置用駆動手段25とを備えて構成されている。   The lifting device 19 includes an upper taper portion 22 connected to the lower portion of the inner table portion 14, and a lower taper portion 23 provided on the upper surface portion 18 </ b> A of the support table 18 and opposed to the lower side of the upper taper portion 22. And guide means 24 provided on both sides of the upper taper portion 22 (see FIG. 2), and lifting device drive means 25 for moving the lower taper portion 23 in the horizontal direction (left and right direction in FIG. 1). Has been.

前記上テーパ部22は、その下面の略全領域がテーパ面22Aとなる板状部材により形成され、このテーパ面22Aは、図1中右上がりに傾斜する方向に向けられている。上テーパ部22の面内には、後述する吸着管43が貫通する穴22Bが設けられている。   The upper taper portion 22 is formed by a plate-like member having a substantially entire area of the lower surface serving as a taper surface 22A, and the taper surface 22A is directed in a direction inclined upward to the right in FIG. In the surface of the upper taper portion 22, a hole 22 </ b> B through which an adsorption tube 43 described later passes is provided.

前記下テーパ部23は、その上面の略全領域がテーパ面23Aとなる板状部材により形成され、このテーパ面23Aに上テーパ部22のテーパ面22Aが面接触して載置されている。下テーパ部23のテーパ面23Aは、上テーパ部22のテーパ面22Aと同一の勾配(本実施形態では5%勾配)に設定されており、それらを相互に面接触させたときに、上テーパ部22の上面と下テーパ部23の下面とが平行となるようになっている。また、下テーパ部23は、前記支持プレート18の上面部18Aと摺動することにより水平方向に移動可能に設けられている。このとき、各テーパ面22A,23Aが、その面方向に沿って摺動することにより上テーパ部22及び下テーパ部23が相対移動可能となっている。下テーパ部23の面内には、前記穴22Bの下方位置に左右に延びる長穴23Bが設けられている。   The lower taper portion 23 is formed of a plate-like member having a substantially entire area of the upper surface thereof serving as a taper surface 23A, and the taper surface 22A of the upper taper portion 22 is placed in surface contact with the taper surface 23A. The taper surface 23A of the lower taper portion 23 is set to have the same gradient as the taper surface 22A of the upper taper portion 22 (5% gradient in this embodiment), and when they are brought into surface contact with each other, the upper taper The upper surface of the part 22 and the lower surface of the lower taper part 23 are parallel to each other. Further, the lower taper portion 23 is provided so as to be movable in the horizontal direction by sliding with the upper surface portion 18A of the support plate 18. At this time, the taper surfaces 22A and 23A slide along the surface direction, so that the upper taper portion 22 and the lower taper portion 23 are relatively movable. In the surface of the lower taper portion 23, a long hole 23 </ b> B that extends to the left and right is provided at a position below the hole 22 </ b> B.

前記ガイド手段24は、図2に示されるように、上テーパ部22の対向する2つの面に回転可能に連結された複数のローラ24Aと、これらローラ24Aの間に設けられるとともに、支持プレート18から立設するガイド板24Bとを備え、上テーパ部22の左右方向の移動を規制し、昇降移動を案内するようになっている。   As shown in FIG. 2, the guide means 24 is provided between a plurality of rollers 24 </ b> A rotatably connected to two opposing surfaces of the upper taper portion 22, and the support plate 18. And a guide plate 24B standing from the top, restricting the movement of the upper taper portion 22 in the left-right direction and guiding the up-and-down movement.

前記昇降装置用駆動手段25は、下テーパ部23に連結されて支持プレート18を貫通する連結部材27と、この連結部材27に装着されたナット部材28と、このナット部材28に螺合して水平方向に延びる送りねじ軸29と、支持プレート18の下面に取り付けられて送りねじ軸29を支持する左右一対の軸受31と、送りねじ軸29の一端側(図1中右端側)に設けられたプーリ32と、このプーリ32にベルト33を介して出力回転軸が接続されたモータ34と、送りねじ軸29の他端側(図1中左端側)に設けられ、送りねじ軸29の回転規制を行うブレーキ35とを備えて構成されている。昇降装置用駆動手段25は、モータ34の回転によって、ベルト33及びプーリ32を介して送りねじ軸29を回転し、ナット部材28と連結部材27を送りねじ軸29の延出方向すなわち水平方向に移動させるようになっている。   The elevating device driving means 25 is connected to the lower taper portion 23 and penetrates the support plate 18, a nut member 28 mounted on the connection member 27, and screwed into the nut member 28. A feed screw shaft 29 extending in the horizontal direction, a pair of left and right bearings 31 attached to the lower surface of the support plate 18 and supporting the feed screw shaft 29, and one end side (right end side in FIG. 1) of the feed screw shaft 29 are provided. A pulley 32, a motor 34 having an output rotation shaft connected to the pulley 32 via a belt 33, and the other end side (left end side in FIG. 1) of the feed screw shaft 29. And a brake 35 for regulating. The elevating device driving means 25 rotates the feed screw shaft 29 via the belt 33 and the pulley 32 by the rotation of the motor 34, and moves the nut member 28 and the connecting member 27 in the extending direction of the feed screw shaft 29, that is, in the horizontal direction. It is designed to move.

前記リフタ20は、支持プレート18の下面にブラケット37を介して支持されたリフタ用駆動手段38と、前記ブラケット37の鉛直面部37Aに設けられたレール部材39と、このレール部材39に沿って上下に移動するスライダ40と、スライダ40に連結された吸着管ベース42と、この吸着管ベース42から上方に延びる吸着管43と、支持手段としての吸着パッド43Aとを備えて構成され、吸着管43は図示しないホース等を介して減圧ポンプに接続されている。   The lifter 20 includes a lifter driving means 38 supported on the lower surface of the support plate 18 via a bracket 37, a rail member 39 provided on the vertical surface portion 37 </ b> A of the bracket 37, and a vertical movement along the rail member 39. And a suction pipe base 42 connected to the slider 40, a suction pipe 43 extending upward from the suction pipe base 42, and a suction pad 43A as a support means. Is connected to a vacuum pump via a hose (not shown).

前記リフタ用駆動手段38は、軸部材38Bを上下に進退させるモータ38Aにより構成され、このモータ38Aは、軸部材38Bの上昇限と下降限との間の任意の位置で軸部材38Bを移動規制可能に設けられている。また、リフタ用駆動手段38は、軸部材38Bが上下動する速度を調整可能に設けられ、これにより、昇降速度を次第に速くしたり、遅くしたりすることができる。軸部材38Bの上端は、前記吸着管ベース42に連結されており、前記吸着パッド43Aを昇降させるようになっている。   The lifter drive means 38 is constituted by a motor 38A that moves the shaft member 38B up and down, and this motor 38A restricts the movement of the shaft member 38B at an arbitrary position between the ascending limit and the descending limit of the shaft member 38B. It is provided as possible. Further, the lifter drive means 38 is provided so that the speed at which the shaft member 38B moves up and down can be adjusted, whereby the lifting speed can be gradually increased or decreased. The upper end of the shaft member 38B is connected to the suction pipe base 42 so as to raise and lower the suction pad 43A.

前記押圧ローラ12は二軸移動装置45に支持され、上下方向と水平方向に移動可能に設けられている。従って、押圧ローラ12は、保護シートHを下方に押圧する力を付与しつつ当該保護シートH上を転動して貼付を行えるようになっている。   The pressing roller 12 is supported by a biaxial moving device 45 and is provided so as to be movable in the vertical direction and the horizontal direction. Therefore, the pressing roller 12 can roll on the protective sheet H while applying a force for pressing the protective sheet H downward.

なお、前述した、繰出装置(図示省略)、モータ34、ブレーキ35、モータ38A、減圧ポンプ(図示省略)及び二軸移動装置45等は、図示しない制御手段を介して全体的に制御される。   Note that the feeding device (not shown), the motor 34, the brake 35, the motor 38A, the pressure reducing pump (not shown), the biaxial moving device 45, and the like described above are entirely controlled through control means (not shown).

次に、本実施形態における貼付装置10の全体的な動作について説明する。   Next, the overall operation of the sticking device 10 in the present embodiment will be described.

先ず、図3に示されるように、リフタ用駆動手段38のモータ38Aを作動させて、吸着パッド43Aをウエハ載置面14Aから突出させた状態に維持する。この状態で、二点鎖線で示すアーム46によりウエハWを吸着パッド43A上に搬送して載置した後、ウエハWの下面を吸着パッド43Aにより吸着する。その後、前記アーム46をテーブル11上から退避した後、吸着パッド43Aを下降し、内側テーブル部14上にウエハWを載置する。載置されたウエハWは、吸着パッド43Aと内側テーブル部14上面に形成された図示しない吸着穴を介して吸着保持される。   First, as shown in FIG. 3, the motor 38A of the lifter driving means 38 is operated to keep the suction pad 43A protruding from the wafer mounting surface 14A. In this state, after the wafer W is transported and placed on the suction pad 43A by the arm 46 indicated by a two-dot chain line, the lower surface of the wafer W is sucked by the suction pad 43A. Thereafter, the arm 46 is retracted from the table 11, the suction pad 43 </ b> A is lowered, and the wafer W is placed on the inner table portion 14. The mounted wafer W is sucked and held through suction pads 43A and suction holes (not shown) formed on the upper surface of the inner table portion 14.

次に、昇降装置19を介して内側テーブル部14を昇降させ、ウエハ載置面14A上のウエハWの回路面W1とシート載置面15Aとが同一面に位置するように位置決め調整する(図4参照)。具体的には、モータ34を作動して送りねじ軸29を回転し、ナット部材28及び連結部材27を介して下テーパ部23を支持プレート18の上面部18A上で水平方向に摺動させる。この際、上テーパ部22も、下テーパ部23と同一方向に移動しようとするものの、前記ガイド部24により水平方向の移動が規制されるので、各テーパ面22A,23Aが擦れるように相対移動して上テーパ部22及び内側テーブル部14が昇降する。このとき、リフタ用駆動手段38を介して、内側テーブル部14の昇降と同様に吸着パッド43Aも昇降するように制御される。そして、回路面W1とシート載置面15Aとが同一面に位置したときに、各モータ34,38Aを停止し、ブレーキ35を作動させることで、図4に示される状態となる。
なお、ウエハ載置面14A上にウエハWを載置する前に、内側テーブル部14の高さ調整を行ってもよく、この場合、ウエハ載置面14Aの高さ位置が、シート載置面15AよりウエハWの厚み分低くなるように内側テーブル部14が予め位置決めされる。
Next, the inner table unit 14 is moved up and down via the lifting device 19 and the positioning is adjusted so that the circuit surface W1 of the wafer W on the wafer mounting surface 14A and the sheet mounting surface 15A are located on the same surface (FIG. 4). Specifically, the motor 34 is operated to rotate the feed screw shaft 29, and the lower taper portion 23 is slid horizontally on the upper surface portion 18 </ b> A of the support plate 18 through the nut member 28 and the connecting member 27. At this time, although the upper taper portion 22 also tries to move in the same direction as the lower taper portion 23, the movement in the horizontal direction is restricted by the guide portion 24, so that the taper surfaces 22 </ b> A and 23 </ b> A move relatively. Then, the upper taper portion 22 and the inner table portion 14 are moved up and down. At this time, the suction pad 43 </ b> A is also controlled to be lifted and lowered via the lifter driving means 38 in the same manner as the lifting and lowering of the inner table portion 14. Then, when the circuit surface W1 and the sheet placement surface 15A are located on the same surface, the motors 34 and 38A are stopped and the brake 35 is operated, whereby the state shown in FIG. 4 is obtained.
Note that the height of the inner table portion 14 may be adjusted before the wafer W is placed on the wafer placement surface 14A. In this case, the height position of the wafer placement surface 14A is the sheet placement surface. The inner table unit 14 is positioned in advance so as to be lower than the thickness of the wafer W by 15A.

次いで、図5に示されるように、テーブル11上に位置する保護シートHを、ウエハWの回路面W1及びシート載置面15A上に載せた後、二軸移動装置45を介して保護シートH上で押圧ローラ12を転動し、保護シートHを回路面W1に押圧して貼付する。その後、押圧ローラ12を初期位置に退避し、図示しないカット手段を用いて保護シートHをウエハWの外周に沿って切り抜いた後、余分な保護シートHも退避させる。   Next, as shown in FIG. 5, after the protective sheet H positioned on the table 11 is placed on the circuit surface W <b> 1 of the wafer W and the sheet placement surface 15 </ b> A, the protective sheet H is interposed via the biaxial moving device 45. The pressure roller 12 is rolled up, and the protective sheet H is pressed against the circuit surface W1 and pasted. Thereafter, the pressing roller 12 is retracted to the initial position, and after the protective sheet H is cut out along the outer periphery of the wafer W using a cutting means (not shown), the excessive protective sheet H is also retracted.

そして、保護シートHの貼付を終えたウエハWは、図6に示されるように、前述のアーム46により搬送可能とすべく、リフタ用駆動手段38によってウエハ載置面14Aから浮上される。このとき、内側テーブル部14による吸着を停止し、ウエハWの下面とウエハ載置面14Aとの間に若干の隙間が生じるように吸着管43をゆっくりと上昇する。これは、ウエハWとウエハ載置面14Aとの間の吸着が解除されても、完全に真空領域がなくなるとは限らないので、ウエハWの中央領域からゆっくりと浮上させることによってウエハWに加わるストレスを緩和するためである。更に、エア噴出手段としての穴14Bからエアを噴出するように構成すれば、前記真空領域の残存によるウエハWに加わるストレスを効果的に緩和することができる。また、静電気によってウエハWがウエハ載置面14Aに貼り付いている場合も、ウエハWを浮上させるときにウエハWはストレスを受けるため、前記穴14Bから噴出するエアに静電気を除去するイオンを含ませることもできる。
その後、リフタ用駆動手段38によって前記隙間を生じさせるまでの速度より高速で吸着管43を上昇し、図3に示される位置まで達したときに上昇移動を停止し、その高さ位置を維持する。この状態で、吸着パッド43Aによる吸着を解除した後、アーム46を介してウエハWを所定位置に搬出し、次のウエハWが前述と同様に吸着パッド43A上に載置される。
Then, as shown in FIG. 6, the wafer W on which the protective sheet H is pasted is lifted from the wafer placement surface 14 </ b> A by the lifter driving means 38 so that the wafer W can be transported by the arm 46. At this time, the suction by the inner table portion 14 is stopped, and the suction pipe 43 is slowly raised so that a slight gap is formed between the lower surface of the wafer W and the wafer mounting surface 14A. This is because even if the suction between the wafer W and the wafer mounting surface 14 </ b> A is released, the vacuum region does not necessarily disappear completely, so the wafer W is added to the wafer W by slowly rising from the central region of the wafer W. This is to relieve stress. Furthermore, if the air is ejected from the hole 14B as the air ejection means, the stress applied to the wafer W due to the remaining vacuum region can be effectively reduced. Even when the wafer W is stuck to the wafer mounting surface 14A due to static electricity, the wafer W is stressed when the wafer W is lifted, so that the air ejected from the hole 14B contains ions for removing static electricity. It can also be made.
Thereafter, the suction pipe 43 is raised at a speed higher than the speed until the gap is generated by the lifter driving means 38, and when the position reaches the position shown in FIG. 3, the ascent movement is stopped and the height position is maintained. . In this state, after the suction by the suction pad 43A is released, the wafer W is unloaded to a predetermined position via the arm 46, and the next wafer W is placed on the suction pad 43A as described above.

従って、このような実施形態によれば、支持プレート18に下テーパ部23、上テーパ部22及び内側テーブル部14を順に載せることにより、ウエハ載置面14Aとシート載置面15Aとを簡単且つ短時間で平行に設定することが可能となる。これにより、貼付装置の組み立て段階における調整作業の簡略化を図ることができる他、前記平行の精度を向上することが可能となる。しかも、下テーパ部23、上テーパ部22及び内側テーブル部14において、上下に隣接する部材と面接触するので、上下方向の押圧力に対する剛性を高め、これらの経時的変形等を抑制することができる。これにより、前記平行精度がより良く維持されて回路面W1とシート載置面15Aとが同一面に精度良く位置可能となり、押圧ローラ12による押圧力の均一化を通じて保護シートHの貼付の安定化に資することができる。
更に、テーパ面22A,23Bの勾配を5%に設定したので、例えば、送りねじ軸29を介してナット部材28を1mm水平移動させると、内側テーブル部14は0.05mm昇降移動することとなる。つまり、特許文献1のように、送りねじ軸を上下方向に向けた場合に比べ、送りねじ軸の回転数に対する移動量を小さく設定することができ、モータ34等の動力を小さくして小型化を図ることができるうえ、同じ分解能を有するモータを使用した場合であっても、より細かな位置決め、つまり20倍の精度で位置決めを行う事が可能となる。
Therefore, according to such an embodiment, by placing the lower taper portion 23, the upper taper portion 22 and the inner table portion 14 on the support plate 18 in this order, the wafer placement surface 14A and the sheet placement surface 15A can be easily and It becomes possible to set parallel in a short time. As a result, the adjustment work in the assembly stage of the sticking device can be simplified, and the parallel accuracy can be improved. Moreover, since the lower taper portion 23, the upper taper portion 22 and the inner table portion 14 are in surface contact with the vertically adjacent members, it is possible to increase the rigidity against the pressing force in the vertical direction and to suppress the deformation with time. it can. Thereby, the parallel accuracy is better maintained, and the circuit surface W1 and the sheet placement surface 15A can be accurately positioned on the same surface, and the sticking of the protective sheet H is stabilized through the uniform pressing force by the pressing roller 12. Can help.
Furthermore, since the gradient of the tapered surfaces 22A and 23B is set to 5%, for example, when the nut member 28 is horizontally moved by 1 mm via the feed screw shaft 29, the inner table portion 14 is moved up and down by 0.05 mm. . That is, as in Patent Document 1, the amount of movement of the feed screw shaft with respect to the rotational speed can be set smaller than in the case where the feed screw shaft is directed in the vertical direction, and the power of the motor 34 and the like is reduced to reduce the size. In addition, even when a motor having the same resolution is used, finer positioning, that is, positioning with 20 times accuracy can be performed.

本発明を実施するための最良の構成、方法などは、以上の記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施の形態に関して特に図示し、且つ、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上に述べた実施の形態に対し、形状、数量、その他の詳細な構成において、当業者が様々な変形を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状などの限定の一部若しくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
Although the best configuration, method and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, the present invention is not limited to this.
That is, the present invention has been illustrated and described with particular reference to particular embodiments, but is not limited to the technical idea and scope of the present invention. On the other hand, those skilled in the art can make various modifications in shape, quantity, and other detailed configurations.
Therefore, the description limited to the shape disclosed above is an example for easy understanding of the present invention, and does not limit the present invention. The description by the name of the member which remove | excluded one part or all part is included in this invention.

例えば、前記各テーパ部22,23移動させるための構成は、種々の設計変更が可能であり、図7及び図8に示される構成が例示できる。図7では、支持テーブル18の上面部18Aに複数本のレール部材50を設けるとともに、下テーパ部23の下面にレール部材50毎に複数のスライダ51を設け、これらレール部材50及びスライダ51を介して下テーブル部23を水平移動するようになっている。
また、図8では、前記レール部材50及びスライダ51に加え、上テーパ部22がテーパ面22Aの傾斜方向に延びる複数のレール部材53を含み、下テーパ部23がレール部材53毎に複数設けられ、当該レール部材53に沿って移動可能なスライダ54を備えた構成となっている。
このような構成によれば、内側テーブル部14を昇降させる際の各テーパ部22,23の移動をよりスムースに行うことが可能となる。
For example, the configuration for moving each of the tapered portions 22 and 23 can be variously modified, and the configurations shown in FIGS. 7 and 8 can be exemplified. In FIG. 7, a plurality of rail members 50 are provided on the upper surface portion 18 </ b> A of the support table 18, and a plurality of sliders 51 are provided on the lower surface of the lower taper portion 23 for each rail member 50, and the rail members 50 and the sliders 51 are interposed therebetween. The lower table 23 is moved horizontally.
8, in addition to the rail member 50 and the slider 51, the upper tapered portion 22 includes a plurality of rail members 53 extending in the inclination direction of the tapered surface 22A, and a plurality of lower tapered portions 23 are provided for each rail member 53. The slider 54 is movable along the rail member 53.
According to such a configuration, the taper portions 22 and 23 can be moved more smoothly when the inner table portion 14 is raised and lowered.

実施形態に係るテーブルが適用された貼付装置の概略縦断面図。The schematic longitudinal cross-sectional view of the sticking apparatus with which the table which concerns on embodiment was applied. 図1の平面図。The top view of FIG. ウエハ載置面からウエハを上昇させた状態の図1と同様の断面図。Sectional drawing similar to FIG. 1 of the state which raised the wafer from the wafer mounting surface. ウエハの回路面とシート載置面を同一面に設定した状態の図1と同様の断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view similar to FIG. 1 in a state where the circuit surface of the wafer and the sheet placement surface are set on the same surface. ウエハの回路面に保護シートを貼付した直後の図1と同様の断面図。Sectional drawing similar to FIG. 1 immediately after sticking a protective sheet on the circuit surface of a wafer. 保護シート貼付後に、ウエハ載置面からウエハを若干上昇させた状態の図1と同様の断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view similar to FIG. 1 in a state where the wafer is slightly raised from the wafer placement surface after the protective sheet is attached. 変形例に係る図1と同様の断面図。Sectional drawing similar to FIG. 1 which concerns on a modification. 他の変形例に係る図1と同様の断面図。Sectional drawing similar to FIG. 1 which concerns on another modification.

符号の説明Explanation of symbols

10 貼付装置
11 テーブル
12 押圧ローラ
14 内側テーブル部
14A ウエハ載置面
15 外側テーブル部
15A シート載置面
18 支持プレート
19 昇降装置
22 上テーパ部
22A テーパ面
23 下テーパ部
23A テーパ面
H 保護シート
W ウエハ
W1 回路面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Sticking apparatus 11 Table 12 Press roller 14 Inner table part 14A Wafer mounting surface 15 Outer table part 15A Sheet mounting surface 18 Support plate 19 Lifting device 22 Upper taper part 22A Taper surface 23 Lower taper part 23A Taper surface H Protective sheet W Wafer W1 circuit surface

Claims (5)

半導体ウエハの面に押圧ローラを介してシートを貼付するためのシート貼付装置用テーブルにおいて、
前記半導体ウエハが載置されるウエハ載置面を備えた内側テーブル部と、前記ウエハ載置面に載置されたウエハの外側にはみ出た前記保護シートが載置されるシート載置面を備えた外側テーブル部と、前記内側テーブル部を支持可能に設けられた昇降装置とを含み、
前記昇降装置は、内側テーブル部の下部に設けられた上テーパ部と、この上テーパ部の下側に対向配置された下テーパ部とを備え、これらテーパ部を相対移動させることにより前記内側テーブル部を昇降可能に設けられていることを特徴とするシート貼付装置用テーブル。
In a table for a sheet sticking device for sticking a sheet to a surface of a semiconductor wafer via a pressure roller,
An inner table portion having a wafer placement surface on which the semiconductor wafer is placed, and a sheet placement surface on which the protective sheet that protrudes outside the wafer placed on the wafer placement surface is placed. And an elevating device provided to support the inner table portion,
The lifting device includes an upper taper portion provided at a lower portion of the inner table portion, and a lower taper portion disposed to face the lower side of the upper taper portion, and the inner table is moved by relatively moving the taper portion. A table for a sheet sticking apparatus, wherein the part is provided so as to be movable up and down.
前記上テーパ部及び下テーパ部のうち、少なくとも一方のテーパ部は、他方のテーパ部に対向する略全領域がテーパ面からなる板状部材により形成されていることを特徴とする請求項1記載のシート貼付装置用テーブル。   2. The taper portion of at least one of the upper taper portion and the lower taper portion is formed by a plate-like member having a substantially entire region opposed to the other taper portion. Table for sheet pasting device. 前記上テーパ部及び下テーパ部のうち、何れか一方のテーパ部は、その傾斜方向に延びる複数のレール部材を含み、何れか他方のテーパ部は、前記レール部材に沿って移動可能なスライダを備えていることを特徴とする請求項1又は2記載のシート貼付装置用テーブル。   One of the upper taper portion and the lower taper portion includes a plurality of rail members extending in the inclined direction, and the other taper portion is a slider that is movable along the rail member. The table for a sheet sticking apparatus according to claim 1, wherein the table is provided. 前記下テーパ部は、前記ウエハ載置面と略平行に位置する上面部を備えた支持プレート上に摺動可能に配置されていることを特徴とする請求項1,2又は3記載のシート貼付装置用テーブル。   4. The sheet sticking according to claim 1, wherein the lower taper portion is slidably disposed on a support plate having an upper surface portion positioned substantially parallel to the wafer placement surface. Device table. 半導体ウエハの面に押圧ローラを介してシートを貼付する前に、シート貼付装置用テーブルに半導体ウエハを位置決めする方法であって、
前記シート貼付装置用テーブルは、半導体ウエハが載置されるウエハ載置面を備えた内側テーブル部と、前記ウエハ載置面に載置されたウエハの外側にはみ出た前記保護シートが載置されるシート載置面を備えた外側テーブル部と、前記内側テーブル部を支持可能に設けられた昇降装置とを含み、
前記昇降装置は、内側テーブルの下部に設けられた上テーパ部と、この上テーパ部の下側に対向配置された下テーパ部とを備え、
前記下テーパ部を水平方向に移動させて上テーパ部を昇降移動させることにより、ウエハ載置面に載置された半導体ウエハの上面とシート載置面とを同一面上に位置させることを特徴とするウエハ位置決め方法。
A method for positioning a semiconductor wafer on a table for a sheet sticking device before sticking a sheet to a surface of a semiconductor wafer via a pressure roller,
The table for the sheet sticking apparatus is provided with an inner table portion having a wafer placement surface on which a semiconductor wafer is placed, and the protective sheet protruding outside the wafer placed on the wafer placement surface. An outer table portion provided with a sheet placement surface, and an elevating device provided to support the inner table portion,
The lifting device includes an upper taper portion provided at a lower portion of the inner table, and a lower taper portion arranged to face the lower side of the upper taper portion,
By moving the lower taper portion in the horizontal direction and moving the upper taper portion up and down, the upper surface of the semiconductor wafer placed on the wafer placement surface and the sheet placement surface are positioned on the same plane. Wafer positioning method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015153885A (en) * 2014-02-13 2015-08-24 東京応化工業株式会社 sticking method

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