JP2008047244A - Semiconductor memory device, semiconductor device, and method for writing data - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、半導体記憶装置、半導体装置、及びデータ書き込み方法に関する。例えば、フローティングゲートとコントロールゲートとを有するMOSトランジスタを含む半導体メモリに関する。 The present invention relates to a semiconductor memory device, a semiconductor device, and a data writing method. For example, the present invention relates to a semiconductor memory including a MOS transistor having a floating gate and a control gate.
従来から、電気的にデータの書き換えが可能な不揮発性半導体メモリとしてEEPROM(Electrically Erasable and Programmable ROM)が知られている。アプリケーションシステムにおいては、EEPROMはアプリケーションが動作するためのプログラムを格納する目的で使用されることがある。この場合、システム製造時にプログラムがEEPROMに書き込まれる。 Conventionally, an EEPROM (Electrically Erasable and Programmable ROM) is known as a nonvolatile semiconductor memory capable of electrically rewriting data. In an application system, the EEPROM may be used for the purpose of storing a program for operating the application. In this case, the program is written in the EEPROM at the time of system manufacture.
この際、書き込まれるデータ量は例えば128Mビット等、比較的大容量であるが、EEPROMにおいて一度の書き込みコマンドで書き込み可能なデータ量は例えば8ワード(=128ビット)程度である。従って、EEPROMに対して書き込みコマンドを繰り返し入力する必要がある(例えば特許文献1、2参照)。従って、データの書き込みに非常に時間がかかるという問題があった。
この発明は、書き込み速度を向上出来る半導体記憶装置、半導体装置、及びデータ書き込み方法を提供する。 The present invention provides a semiconductor memory device, a semiconductor device, and a data writing method capable of improving the writing speed.
この発明の一態様に係る半導体記憶装置は、外部メモリ装置に接続可能な半導体記憶装置であって、電荷蓄積層と、前記電荷蓄積層上に形成された制御ゲートとを備えた複数のメモリセルがマトリクス状に配置されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイ中において、同一行にある前記メモリセルの前記制御ゲートを共通接続するワード線と、前記外部メモリ装置を動作可能とさせるイネーブル信号を前記外部メモリ装置に出力する出力バッファと、 前記外部メモリ装置における読み出すべきデータのアドレスを、前記外部メモリ装置に出力するアドレスバッファと、前記イネーブル信号によって動作可能とされた前記外部メモリ装置から、前記アドレスバッファから出力された前記アドレスに保持される前記データを受信する入力バッファと、前記入力バッファで受信した前記データを保持し、同一の前記ワード線に接続された複数の前記メモリセルに対して一括して該データを書き込む書き込みデータバッファとを具備し、前記入力バッファは、前記書き込みデータバッファが前記メモリセルに対してデータを書き込む度に、前記メモリセルに一括して書き込まれるサイズの前記データを前記外部メモリから受信する。 A semiconductor memory device according to an aspect of the present invention is a semiconductor memory device that can be connected to an external memory device, and includes a plurality of memory cells including a charge storage layer and a control gate formed on the charge storage layer Are arranged in a matrix, a word line that commonly connects the control gates of the memory cells in the same row in the memory cell array, and an enable signal that enables the external memory device to operate. An output buffer for outputting to the memory device; an address buffer for outputting an address of data to be read in the external memory device; and the address buffer from the external memory device operable by the enable signal. Input to receive the data held at the address output from A buffer and a write data buffer that holds the data received by the input buffer and writes the data to a plurality of the memory cells connected to the same word line in a batch. Each time the write data buffer writes data to the memory cell, it receives from the external memory the data of a size to be written to the memory cell at once.
またこの発明の一態様に係る半導体装置は、同一のパッケージ内に第1、第2半導体チップを備えた半導体装置であって、第1イネーブル信号によって動作可能とされ、データ保持可能な第1半導体記憶装置を備える第1半導体チップと、第2イネーブル信号によって動作可能とされ、且つ電荷蓄積層と該電荷蓄積層上に形成された制御ゲートとを有するメモリセルを含む第2半導体記憶装置を備えた第2半導体チップと、前記第1、第2半導体チップを通信可能に接続するデータバスと、前記データバスに電気的に接続され、外部から前記第1イネーブル信号が入力可能とされた第1外部ピンと、前記データバスに電気的に接続され、外部から前記第2イネーブル信号が入力可能とされた第2外部ピンと、前記データバスに電気的に接続され、且つ前記第1、第2半導体チップに共通に用いられ、外部から前記データが入力可能とされた第3外部ピンと、前記第1、第2半導体チップに共通に用いられ、外部からアドレス信号が入力可能とされた第4外部ピンとを具備し、前記第1半導体記憶装置に前記データが書き込まれる際には、前記第1半導体チップは前記第1外部ピンに入力された前記第1イネーブル信号によって動作可能とされ、前記第3外部ピンに入力された前記データ、及び前記第4外部ピンに入力された前記アドレス信号に応じて動作し、前記第2半導体記憶装置は、前記第2半導体チップの発生した前記第1イネーブル信号によって前記第1半導体チップが動作可能とされ、且つ前記第2半導体チップの発生した前記アドレス信号が前記第1半導体チップに与えられることにより、前記第1半導体記憶装置に保持される前記データを前記メモリセルに書き込む。 A semiconductor device according to one aspect of the present invention is a semiconductor device including first and second semiconductor chips in the same package, and is operable by a first enable signal and can hold data. A first semiconductor chip including a storage device, and a second semiconductor storage device including a memory cell that is operable by a second enable signal and includes a charge storage layer and a control gate formed on the charge storage layer. A second semiconductor chip, a data bus that connects the first and second semiconductor chips so that they can communicate with each other, and a first bus that is electrically connected to the data bus and that can receive the first enable signal from the outside. An external pin and a second external pin electrically connected to the data bus and capable of inputting the second enable signal from the outside, and electrically connected to the data bus And a third external pin commonly used for the first and second semiconductor chips and capable of inputting the data from outside, and a common external address signal for the first and second semiconductor chips. A fourth external pin that can be input, and when the data is written to the first semiconductor memory device, the first semiconductor chip receives the first enable signal input to the first external pin. The second semiconductor memory device is operable in response to the data input to the third external pin and the address signal input to the fourth external pin. The first semiconductor chip is operable by the generated first enable signal, and the address signal generated by the second semiconductor chip is applied to the first semiconductor chip. By being, writing the data held in the first semiconductor memory device to the memory cell.
更にこの発明の一態様に係るデータ書き込み方法は、外部メモリ装置に接続可能とされ、電荷蓄積層と該電荷蓄積層上に形成された制御ゲートとを備えた複数のメモリセルを有する半導体記憶装置のデータ書き込み方法であって、前記外部メモリ装置に第1データサイズのデータが書き込まれるステップと、前記外部メモリ装置への前記書き込みが終了した後、前記半導体記憶装置が書き込み動作中を示す実行中フラグを発生するステップと、前記実行中フラグを発生した後、前記半導体記憶装置が前記外部メモリ装置を動作可能とするステップと、前記半導体記憶装置の備える電圧発生回路が、書き込み用の第1内部電圧を発生するステップと、前記半導体記憶装置が、前記外部メモリ装置から前記データを、前記第1データサイズより小さい第2データサイズ単位で読み出すステップと、前記第1内部電圧を用いて、前記メモリセルに前記データを前記第2データサイズ単位で書き込むステップと、前記データの全てにつき前記メモリセルへの前記データの書き込みが終了した後、前記電圧発生回路が、ベリファイ用の第2内部電圧を発生するステップと、前記半導体記憶装置が、前記外部メモリ装置から前記データを第2データサイズ単位で再び読み出すステップと、前記第2内部電圧及び前記外部メモリ装置から再び読み出した前記データを用いて、前記メモリセルに書き込んだ前記データにつきベリファイを行うステップと、前記データの全てにつき前記ベリファイが終了した後、前記実行中フラグの発生を停止するステップとを具備する。 Furthermore, the data writing method according to one aspect of the present invention is a semiconductor memory device having a plurality of memory cells that can be connected to an external memory device and includes a charge storage layer and a control gate formed on the charge storage layer. A method of writing data, wherein a step of writing data of a first data size to the external memory device, and after the writing to the external memory device is completed, the semiconductor memory device is performing a write operation A step of generating a flag; a step of allowing the semiconductor memory device to operate the external memory device after generating the in-execution flag; and a voltage generating circuit included in the semiconductor memory device includes a first internal for writing Generating a voltage; and wherein the semiconductor memory device reduces the data from the external memory device to be smaller than the first data size. Reading in units of second data size, writing the data in the memory cells in units of the second data size using the first internal voltage, and the data to the memory cells for all of the data After the writing of data is completed, the voltage generation circuit generates a second internal voltage for verification, and the semiconductor memory device reads the data from the external memory device again in units of a second data size. Verifying the data written to the memory cell using the second internal voltage and the data read again from the external memory device; and after executing the verify for all the data, Stopping generation of the middle flag.
本発明によれば、書き込み速度を向上出来る半導体記憶装置、半導体装置、及びデータ書き込み方法を提供出来る。 According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory device, a semiconductor device, and a data writing method capable of improving the writing speed.
以下、この発明の実施形態につき図面を参照して説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the description, common parts are denoted by common reference symbols throughout the drawings.
[第1の実施形態]
この発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置、半導体装置、及びデータ書き込み方法について説明する。図1は、本実施形態に係るメモリシステムのブロック図である。
[First Embodiment]
A semiconductor memory device, a semiconductor device, and a data writing method according to a first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a block diagram of a memory system according to this embodiment.
図示するようにメモリシステム1は、EEPROM2、RAM3、CPU4、レギュレータ回路5、電源回路6、入力装置7、入力インターフェース(I/F)コントローラ8、表示装置9、表示装置コントローラ10、データバス11、アドレスバス12を備えている。図中において、白抜き矢印はアドレス信号の流れを示し、黒塗り矢印はデータの流れを示し、破線矢印は制御信号の流れを示し、実線矢印は電源電圧の流れを示す。
As shown in the figure, the
EEPROM2は、例えばNOR型フラッシュメモリであり、システム1が動作するために必要なプログラム等を保持する。EEPROMの詳細な構成については後述する。
RAM3は、例えばSRAMやPSRAM(Pseudo SRAM)等である。DRAM等であっても良い。
CPU4は、EEPROM2に保持されたプログラムを用い、またRAM3をその作業領域として用いて、各種の演算処理を行う。またCPU4は、EEPROM2及びRAM3をセレクトすると共に、システム1内の各ブロックの動作を制御する。
The EEPROM 2 is, for example, a NOR flash memory, and holds programs and the like necessary for the
The
The
電源回路6は、例えば電池やバッテリ等であって、所定の電圧を発生する。
レギュレータ回路5は、電源回路6で発生された電圧を、システム1内の各ブロックが動作するために最適な電圧に変換する。
入力装置7は、例えばキーボード等であって、システム1を使用するユーザからの入力を受け付ける。
入力I/Fコントローラ8は、CPU4の制御に従って入力装置7の動作を制御する。そして、入力装置7から入力されたデータをCPU4へ転送する。
The power supply circuit 6 is a battery or a battery, for example, and generates a predetermined voltage.
The
The
The input I /
表示装置9は、例えば液晶パネル等であって、CPU2における演算結果等を表示する。
表示装置コントローラ10は、CPU4の制御に従って表示装置9の動作を制御する。そして、表示すべきデータを表示装置9へ出力する。
The
The
データバス11及びアドレスバス12は、EEPROM2、RAM3、CPU4、及び表示装置コントローラ10間を相互に接続する。そしてデータバス11及びアドレスバス12はそれぞれ、相互間でデータ及びアドレス信号を転送する。
The
上記構成において、CPU4がEEPROM2及びRAM3のホスト機器として機能し、CPU4の要求に従って、EEPROM2及びRAM3にデータが書き込まれ、またEEPROM2及びRAM3からデータが読み出される。またEEPROM2及びRAM3は、例えばそれぞれ異なるパッケージにパッケージングされた半導体装置であり、それぞれ外部との接続ピンを有している。すなわち各半導体装置は、データバス11に接続されデータの入出力用に用いられるデータピン、アドレスバス12に接続されアドレス信号の入出力用に用いられるアドレスピン、ライトイネーブル信号やアウトプットイネーブル信号等の制御信号が入力される制御ピン、及び制御信号のうちのチップセレクト用のチップイネーブル信号が入力されるチップセレクトピンを有している。なお、EEPROM2はRAM3のチップイネーブル信号を生成可能であり、RAM3のチップセレクトピンにはこのチップイネーブル信号が入力可能とされている。
In the above configuration, the
次に図2を用いてEEPROM2の構成について説明する。図2はEEPROM2のブロック図である。図示するようにEEPROM2は、メモリセルアレイ20、ロウデコーダ21、カラムデコーダ22、カラムセレクタ23、ソース線ドライバ24、書き込みデータバッファ25、センスアンプ26、データ入出力バッファ27、コマンドレジスタ28、出力バッファ29、入出力バッファ30、入力バッファ31、アドレスレジスタ32、アドレス入出力バッファ33、電圧発生回路34、ベリファイ回路35、及び制御回路36を備えている。
Next, the configuration of the
メモリセルアレイ20は、マトリクス状に配置された複数のNOR型フラッシュメモリセルを備えている。各メモリセルは、ビット線、ワード線、及びソース線に接続されている。ロウデコーダ21は、メモリセルアレイ20のロウ方向を選択する。すなわち、ワード線を選択する。カラムデコーダ22は、メモリセルアレイ20のカラム方向を選択する。カラムセレクタ23は、カラムデコーダ22の選択動作に基づいてビット線を選択し、ビット線を書き込みデータバッファ25またはセンスアンプ26に接続する。ソース線ドライバ24はソース線に電圧を与える。センスアンプ26は、ロウデコーダ21及びカラムデコーダ22によって選択されたメモリセルから読み出されたデータをセンスして増幅する。書き込みデータバッファ25は、メモリセルに対して書き込むべきデータを保持し、所定のメモリセル単位で、一括してデータをメモリセルに書き込む。
The
入力バッファ31は、CPU4からチップセレクトピンに入力されたチップイネーブル信号/CE1を受信する。そして、チップイネーブル信号/CE1をコマンドレジスタ28に入力する。チップイネーブル信号/CE1は、EEPROM2を動作可能とする信号である。
The
入出力バッファ30は、CPU4から制御ピンに入力されたライトイネーブル信号/WE及びアウトプットイネーブル信号/OEを受信して、コマンドレジスタ28に入力する。ライトイネーブル信号/WEは書き込み動作を許可する信号であり、アウトプットイネーブル信号/OEはデータの出力を許可する信号である。また入出力バッファ30は、ライトイネーブル信号/WE及びアウトプットイネーブル信号/OEをRAM3に出力する。
The input /
出力バッファ29は、RAM3に対してチップイネーブル信号/CE2を出力する。チップイネーブル信号/CE2は、RAM3の動作を許可する信号である。
The
データ入出力バッファ27は、RAM3等からデータピンに入力されたデータを受け取り、書き込みデータバッファに転送する。またセンスアンプ26で増幅されたデータを、データピンから外部へ出力する。
The data input /
コマンドレジスタ28は、入力バッファ31で受信したチップイネーブル信号/CE1、入出力バッファ30で受信したライトイネーブル信号/WE、アウトプットイネーブル信号/OEを保持する。また出力バッファ29に対してチップイネーブル信号/CE2の出力を命令し、入出力バッファ30に対してライトイネーブル信号/WE、アウトプットイネーブル信号/OEの出力を命令する。
The
アドレスレジスタ32は、カラムデコーダ22に対してカラムアドレスCAを出力し、ロウデコーダ21に対してロウアドレスRAを出力する。カラムデコーダ22及びロウデコーダ21はそれぞれ、カラムアドレスCA及びロウアドレスRAに基づいて、ビット線及びワード線の選択動作を行う。またアドレスレジスタ32はアドレスを生成して、生成したアドレスをアドレス入出力バッファ33へ出力する。アドレス入出力バッファ33は、アドレスレジスタ32で生成されたアドレスを、RAM3へ出力する。
The
電圧発生回路34は電圧を発生する。ベリファイ回路35は、書き込みデータバッファ内のデータと、センスアンプで増幅された読み出しデータとを用いてベリファイ動作を行う。制御回路36は、上記回路の動作を制御する。
The
次に図3を用いてメモリセルアレイ20及び書き込みデータバッファ25の構成について説明する。図3は、メモリセルアレイ及び書き込みデータバッファ25の構成を示す回路図である。
Next, the configuration of the
まずメモリセルアレイ20について説明する。図示するように、メモリセルアレイ20は((m+1)×(n+1))個(m、nは自然数)のメモリセルMCを備えている。メモリセルMCは、電荷蓄積層(例えばフローティングゲート)と制御ゲートとを含む積層ゲートを備えたMOSトランジスタである。そして、同一行にあるメモリセルMCの制御ゲートは、同一のワード線WL0〜WLmのいずれかに共通接続される。また同一列にあるメモリセルMCのドレインは、同一のビット線BL0〜BLnのいずれかに共通接続される。更にメモリセルMCのソースは、同一のソース線SLに共通接続される。なお以下では説明の便宜上、ワード線WL0〜WLmをワード線WL、ビット線BL0〜BLnをビット線BLと一括して呼ぶことがある。また、同一のワード線に接続された(n+1)個のメモリセルMCの集合を、以下「ページ」と呼ぶことにする。なお「ページ」とは、同一のワード線に接続された複数のメモリセルの集合でありさえすれば良いが、本実施形態では説明の簡単化のために(n+1)個のメモリセルの集合を「ページ」とし、1ページのデータサイズが128ビットである場合を用いて説明する。
First, the
書き込みデータバッファ25は、メモリセルに対して書き込むべきデータを、最大で1ページ分(128ビット)保持する。そして、複数のメモリセルMCに対して一括してデータを書き込む。この一括して書き込むデータ単位は例えば1ワード(例えば16ビット)である。すなわち、カラムセレクタ23によって選択された1ワード分のビット線に対して同時にデータを出力する。よって、1ページ分のデータを書き込むには1ワード分の書き込み動作を8回繰り返す必要がある。
The
次にメモリセルMCの断面構成について図4を用いて説明する。図4はメモリセルアレイ20の一部領域の断面図である。図示するように、p型半導体基板40の表面領域内にn型ウェル領域41が形成され、n型ウェル領域41の表面領域内にはp型ウェル領域42が形成されている。p型ウェル領域42上にはゲート絶縁膜43が形成され、ゲート絶縁膜43上に、メモリセルMCのゲート電極が形成されている。メモリセルMCのゲート電極は、ゲート絶縁膜43上に形成された多結晶シリコン層44、多結晶シリコン層44上にゲート間絶縁膜45を介在して形成された多結晶シリコン層46を有している。ゲート間絶縁膜43は、例えばシリコン酸化膜、またはシリコン酸化膜とシリコン窒化膜との積層構造であるON膜、NO膜、またはONO膜で形成される。多結晶シリコン層44はフローティングゲート(FG)として機能し、メモリセルMC毎に分離されている。他方、多結晶シリコン層46はビット線に直交する方向で隣接するもの同士で共通接続されており、コントロールゲート(ワード線WL)として機能する。隣接するゲート電極間に位置するp型ウェル領域42表面内には、n+型不純物拡散層47が形成されている。不純物拡散層47は隣接するトランジスタ同士で共用されており、ソース領域またはドレイン領域として機能する。そして、メモリセルMCのソース領域はソース線SLに接続され、ドレインはビット線BLに接続される。更にp型ウェル領域42の表面領域内にはp+型不純物拡散層48が形成され、n型ウェル領域41の表面領域内にはn+型不純物拡散層49が形成されている。p型ウェル領域42に対しては、不純物拡散層48を介してソース線SLと同じ電位が与えられ、n型ウェル領域41に対しては、不純物拡散層49を介してウェル電圧VNWが与えられる。
Next, a cross-sectional configuration of the memory cell MC will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of a partial region of the
次に、上記構成のメモリシステム1において、EEPROM2へのデータ書き込み方法について説明する。本実施形態に係るメモリシステム1では、EEPROM2へデータを書き込む際、RAM3をデータバッファとして使用する。すなわち、まずRAM3へデータを一時的に書き込み、次にRAM3からEEPROM2へデータを書き込む。本書き込み動作について、まずEEPROM2、RAM3、及びCPU4の相互間の動作について図5を用いて説明し、次にEEPROM2内の動作について図6を用いて説明する。
Next, a method of writing data to the
図5はEEPROM2、RAM3、CPU4相互間の動作の流れを示すフローチャートである。図示するように、まずRAM3へのデータの書き込みが開始される(ステップS10)。RAM3へのデータの書き込みにあたって、CPU4はチップイネーブル信号/CE2をRAM3に対して出力してRAM3を動作可能状態とし、RAM3を初期化する(ステップS11)。次にCPU4はRAM3に対して、データの書き込みアドレスとしてRAM3のアドレス空間における先頭アドレスを入力する(ステップS12)。この際、チップイネーブル信号/CE1はネゲート(“H”レベル)されているため、EEPROM2は非動作状態であり、アドレス信号はアドレスバス12を介してRAM3へと入力される。そして、データバス11を介してデータがRAM3へ入力され、RAM3にデータが書き込まれる(ステップS13)。RAM3への書き込みは、通常、1アドレスあたり1ライトサイクルで終了するため、非常に高速である。RAM3への全データの書き込みが終了すると(ステップS14、YES)、これによりRAM3への書き込み動作は完了する(ステップS15)。
FIG. 5 is a flowchart showing the flow of operations among the
次にRAM3からEEPROM2へのデータの書き込み動作が開始される(ステップS16)。まずEEPROM2に対してデータの書き込みコマンドが入力される(ステップS17)。書き込みコマンドは、RAM3またはCPU4から与えられる。また、チップイネーブル信号/CE1がアサート(“L”レベルと)され、EEPROM2が動作状態となる。次にEEPROM2内において、書き込み先頭アドレスが設定される(ステップS18)。その後、チップイネーブル信号/CE2、及びEEPROM2におけるアドレス信号、ライトイネーブル信号/WE、アウトプットイネーブル信号/OEの外部からのドライブが禁止される(ステップS19)。つまりEEPROM2は、CPU4からのこれらの信号を以後受け付けない。
Next, a data write operation from the
そして、RAM3に保持されるデータがEEPROM2へと書き込まれる(ステップS20)。全てのデータにつき書き込みが終了したか否かは、EEPROM2の出力する実行中フラグによって判定出来る。従ってCPU4はEEPROM2の実行中フラグを読み出して(ステップS21)、全データの書き込みが終了していれば(ステップS22、YES)、EEPROM2への書き込み動作は完了する。完了すると、チップイネーブル信号/CE2及び、EEPROM2におけるアドレス信号、ライトイネーブル信号/WE、アウトプットイネーブル信号/OEの外部からのドライブが許可される(ステップS23)。
Then, the data held in the
次に、EEPROM2内部における動作について図6を用いて説明する。図6はEEPROM2内部における処理の流れを示すフローチャートであり、図6におけるステップS20の処理に対応する。EEPROM2におけるデータの書き込み動作は、おおまかには2つのステップを含む。すなわち、メモリセルMCへのデータの書き込みステップと、メモリセルMCへの書き込みが正常に行われたか否かを検証するステップである。以後、前者をプログラム(program)動作と呼び、後者をベリファイ(verify)動作と呼ぶ。
Next, the operation in the
まずEEPROM2は実行中フラグをCPU4に対して出力する(ステップS30)。実行中フラグとは、上記の通りEEPROM2への書き込み動作中であることを示すフラグである。次に制御回路36は、書き込みコマンドを受信したことに応答して、コマンドレジスタ28に対してチップイネーブル信号/CE2を出力するよう命令する。すると、コマンドレジスタ28は出力バッファ29からチップイネーブル信号/CE2を出力する(ステップS31)。これにより、RAM3が動作可能状態となる。すなわち、この時点においてメモリシステム1にふくまれるEEPROM2とRAM3の両方が動作可能状態となる。
First, the
そして、プログラム動作が開始される(ステップS32)。プログラム動作の開始にあたって、制御回路36はまずデータの書き込み先頭アドレスを設定する(ステップS33)。この情報が、制御回路36からアドレスレジスタ32に与えられる。そしてアドレスレジスタ32は、設定された書き込み先頭アドレスに従って、ロウアドレスRA及びカラムアドレスCAを生成する。次に、制御回路36の命令に従って電圧発生回路34は、プログラム用の内部電圧を発生する(ステップS34)。この内部電圧は、例えばロウデコーダ21や書き込みデータバッファ25等に与えられる。
Then, the program operation is started (step S32). In starting the program operation, the
また、EEPROM2はRAM3から1ワード分のデータを読み出す(ステップS35)。そして、読み出した1ワード分のデータが、メモリセルMCへプログラムされる(ステップS36)。このステップS35、S36の様子につき図7を用いて詳細に説明する。図7はEEPROM2のブロック図である。図示するようにステップS35においてアドレスレジスタ32が、制御回路36のアドレス発生命令に応答して内部アドレスADDintを発生する。内部アドレスADDintとは、RAM3から読み出すべきデータの、RAM3におけるアドレス信号である。RAM3からのデータの読み出しは1ワード単位で行われるので、1ワード分のデータをRAM3から読み出す度に、アドレスレジスタ32は内部アドレスADDintを更新する。最初にRAM3からデータを読み出す際の内部アドレスADDintは、RAM3のアドレス空間における先頭アドレスに相当する。この情報は、例えば予めCPU4からEEPROMに与えられおり、EEPROM2自身が把握している。アドレスレジスタ32で発生されたアドレスは、アドレス入出力バッファ33からRAM3へ与えられる。更に入出力バッファ30は、制御回路36及びコマンドレジスタ28のアウトプットイネーブル信号出力命令に従って、アウトプットイネーブル信号/OEをRAM3に対して出力する。この処理は予めステップS31において行っていても良い。するとRAM3は、チップイネーブル信号/CE2及びアウトプットイネーブル信号/OEがアサート(assert)され、アドレス信号が入力されるため、当該アドレス信号に対応する領域に保持する1ワード分のデータを、EEPROM2に出力する。
The
EEPROM2は、RAM3から出力された1ワード分のデータを、データ入出力バッファ27で受信し、書き込みデータバッファ25へ転送する。すると書き込みデータバッファ25は、カラムデコーダ22によって選択されたビット線と、ロウデコーダ21によって選択されたワード線とに接続された1ワード分のメモリセルに対して、転送されたデータをプログラムする(ステップS36)。
The
そして、全アドレスにつきプログラムが終了していなければ(ステップS37、NO)、アドレスレジスタ32は制御回路36の命令に従って、内部アドレスADDintを1ワード分進める(ステップS38)。すなわちアドレスレジスタ32は、メモリセルMCへの書き込み済みの1ワード分のデータの次の1ワード分のデータに相当する内部アドレスADDintを発生する。つまり内部アドレスADDintが次のデータに対応するように更新される。そして、更新された内部アドレスADDintを用いてステップS35〜S36が繰り返される。
If the program has not been completed for all addresses (step S37, NO), the address register 32 advances the internal address ADDint by one word according to the instruction of the control circuit 36 (step S38). That is, the
全アドレスにつきプログラムが終了すると(ステップS37、YES)、以上によりプログラム動作は完了する(ステップS39)。次にベリファイ動作が開始される(ステップS40)。 When the program is completed for all addresses (step S37, YES), the program operation is completed as described above (step S39). Next, a verify operation is started (step S40).
ベリファイ動作の開始にあたって、制御回路36はまずベリファイすべきデータが保持されるベリファイアドレスを設定する(ステップS41)。最初に設定されるベリファイアドレスとしては、書き込み先頭アドレスが設定される。この情報が、制御回路36からアドレスレジスタ32に与えられる。そしてアドレスレジスタ32は、設定されたベリファイアドレスに従って、ロウアドレスRA及びカラムアドレスCAを生成する。次に、制御回路36の命令に従って電圧発生回路34は、ベリファイ用の内部電圧を発生する(ステップS42)。この内部電圧は、例えばロウデコーダ21や書き込みデータバッファ25等に与えられる。
At the start of the verify operation, the
また、EEPROM2はRAM3から1ワード分のベリファイデータを読み出す(ステップS43)。そして、読み出した1ワード分のベリファイデータを用いて、既に書き込んだ1ワード分のデータについてベリファイが行われる(ステップS44)。このステップS43、S44につき詳細に説明する。ステップS43においてアドレスレジスタ32が、制御回路36のアドレス発生命令に応答して内部アドレスADDintを発生する。最初にRAM3からデータを読み出す際の内部アドレスADDintは、RAM3のアドレス空間における先頭アドレスに相当する。アドレスレジスタ32で発生されたアドレスは、アドレス入出力バッファ33からRAM3へ与えられる。これにより、RAM3は当該内部アドレスADDintに対応する領域に保持する1ワード分のデータを、EEPROM2に出力する。この処理はプログラム時のステップS35と同様である。
The
EEPROM2は、RAM3から出力された1ワード分のデータを、データ入出力バッファ27で受信し、書き込みデータバッファ25へ転送する。また、カラムデコーダ22によって選択されたビット線と、ロウデコーダ21によって選択されたワード線とに接続された1ワード分のメモリセルから、1ワード分の書き込み済みデータが読み出され、センスアンプでセンス・増幅される。そしてベリファイ回路35が、増幅された読み出しデータについて、書き込みデータバッファ25へ転送されたデータを用いてベリファイを行う。すなわち、メモリセルMCから読み出されたデータが、RAM3から読み出された本来の正しいデータと一致するか否かを検証する。
The
ベリファイの結果、データが正しく書き込まれていなければ(ステップS45、NO)、電圧発生回路34はステップS34と同様にプログラム用の内部電圧を発生する(ステップS46)。引き続き、ステップS35と同様に当該アドレスに対応する1ワード分のデータがRAM3から読み出され(ステップS47)、プログラムされる(ステップS48)。なお、ステップS43においてベリファイデータが読み出されているので、このデータをメモリセルMCに書き込んでも良い。この場合にはステップS47を省略出来る。
If the data is not correctly written as a result of the verification (step S45, NO), the
ステップS45においてデータが正しく書き込まれており(ステップS45、YES)、全アドレスにつきベリファイが終了していなければ(ステップS49、NO)、アドレスレジスタ32は制御回路36の命令に従って、内部アドレスADDintを1ワード分進める(ステップS50)。すなわちアドレスレジスタ32は、ベリファイ済みの1ワード分のデータの次の1ワード分のデータに相当する内部アドレスADDintを発生する。そして、更新された内部アドレスADDintを用いてステップS43〜S48が繰り返される。
If the data has been correctly written in step S45 (step S45, YES) and verification has not been completed for all addresses (step S49, NO), the
全アドレスにつきベリファイが終了すると(ステップS49、YES)、以上によりベリファイ動作は完了する(ステップS51)。そして制御回路36は内部電源34を初期化してスタンバイ(stand-by)状態として、実行中フラグの出力を停止する。
以上によってEEPROM2における書き込み動作が終了する。
When verify is completed for all addresses (step S49, YES), the verify operation is completed as described above (step S51). Then, the
Thus, the writing operation in the
上記のように、この発明のメモリシステムであると、下記(1)の効果が得られる。
(1)データの書き込みを高速化出来る(その1)。
本実施形態に係るメモリシステムであると、EEPROM2へのデータの書き込みの際に、RAM3をバッファメモリとして使用している。すなわち、書き込みデータをまず一時的にRAM3に書き込む。その後、EEPROM2がRAM3のデータを読み出して、該データをメモリセルに書き込む。従って、EEPROM2の書き込みデータバッファのサイズを大きくすることなく、EEPROM2へのデータの書き込み速度を向上出来る。
As described above, the memory system according to the present invention has the following effect (1).
(1) Data writing can be speeded up (part 1).
In the memory system according to the present embodiment, the
本効果について、以下、RAM3をバッファメモリとして使用しない場合と比較しつつ説明する。図8は、RAM3をバッファメモリとして使用しない場合における、EEPROM2への書き込み動作のフローチャートである。
This effect will be described below in comparison with a case where the
図示するように、まず書き込みコマンドがEEPROM2に入力されると(ステップS80)、電圧発生回路がプログラム用の内部電圧を発生する(ステップS81)。次に、書き込みデータバッファの書き込みデータが更新される(ステップS82)。書き込みデータバッファは、例えば1ページ分のデータを保持可能であり、1回の書き込みコマンドによって1ページ分のデータをメモリセルに自動的に書き込むことが出来る。そこでステップS82では、1ページ分のデータのうち、書き込むべき1ワード分のデータが選択される。そして、ステップS82で選択された1ワード分のデータにつきプログラムを行う(ステップS83)。次に、1ページ分のデータのプログラムが完了していなければ(ステップS84、NO)、アドレスを書き込みデータバッファにおける次の1ワード分のデータに相当するように更新して(ステップS85)、ステップS82、S83の処理を行う。 As shown in the drawing, first, when a write command is input to the EEPROM 2 (step S80), the voltage generation circuit generates an internal voltage for programming (step S81). Next, the write data in the write data buffer is updated (step S82). The write data buffer can hold, for example, one page of data, and can automatically write one page of data into the memory cell by one write command. In step S82, data for one word to be written is selected from the data for one page. Then, a program is performed for the data for one word selected in step S82 (step S83). Next, if the programming of the data for one page is not completed (step S84, NO), the address is updated to correspond to the data for the next one word in the write data buffer (step S85). The processes of S82 and S83 are performed.
1ページ分のデータのプログラムが終了すると(ステップS84、YES)、次にベリファイ動作を行う。すなわち、電圧発生回路がベリファイ用の内部電圧を発生する(ステップS86)。次に、書き込みデータバッファのベリファイデータが更新される(ステップS87)。すなわち、1ページ分のデータのうち、ベリファイすべき1ワード分のデータが選択される。そして、メモリセルMCから1ワード分のデータが読み出され、該読み出しデータにつきベリファイが行われる(ステップS88)。次に、1ページ分のデータのベリファイが完了していなければ(ステップS89、NO)、アドレスを書き込みデータバッファにおける次の1ワード分のデータに相当するように更新して(ステップS90)、ステップS87、S88の処理を行う。 When the programming of the data for one page is completed (step S84, YES), the verify operation is performed next. That is, the voltage generation circuit generates an internal voltage for verification (step S86). Next, the verify data in the write data buffer is updated (step S87). That is, data for one word to be verified is selected from the data for one page. Then, one word of data is read from the memory cell MC, and the read data is verified (step S88). Next, if verification of data for one page is not completed (step S89, NO), the address is updated so as to correspond to data for the next one word in the write data buffer (step S90). The processes of S87 and S88 are performed.
1ページ分のデータのベリファイが終了すると(ステップS89、YES)、フラグ判定が行われる。全ページにつきプログラム及びベリファイが終了していれば(ステップS92、YES)、実行中フラグの出力は停止されているので書き込み動作は完了する。終了していなければ(ステップS92、NO)、ステップS80に戻り、一連の処理を繰り返す。 When the verification of the data for one page is completed (step S89, YES), flag determination is performed. If the program and verify have been completed for all pages (step S92, YES), the output of the execution flag is stopped and the write operation is completed. If not completed (step S92, NO), the process returns to step S80, and a series of processing is repeated.
上記の処理を図9にタイミングチャートとして示す。図9は、書き込み動作におけるチップイネーブル信号/CE1、/CE2、ライトイネーブル信号/WE、アウトプットイネーブル信号/OE、及びメモリシステムにおける動作内容を示すタイミングチャートである。なお、1ページサイズ(書き込みデータバッファのサイズ)が128ビット、メモリセルに一括して書き込まれるデータのサイズが1ワード(16ビット)、書き込むべき全データサイズが128Mビットである場合を例に説明する。 The above processing is shown as a timing chart in FIG. FIG. 9 is a timing chart showing chip enable signals / CE1, / CE2, write enable signal / WE, output enable signal / OE, and operation contents in the memory system in the write operation. An example in which one page size (the size of the write data buffer) is 128 bits, the size of data to be collectively written in the memory cells is one word (16 bits), and the total data size to be written is 128 Mbits will be described as an example. To do.
図示するように、チップイネーブル信号/CE2は常時ネゲート(“H”レベルと)されている。時刻t10で書き込みコマンドが入力されると、次の時刻t11でプログラム用の内部電圧が発生され、時刻t12、t13でそれぞれデータの更新(ステップS82)と1ワードプログラム(ステップS83)が行われる。このデータ更新と1ワードプログラムは(1ページサイズ:128ビット/1ワードサイズ:16ビット)=8回繰り返される。 As shown in the figure, the chip enable signal / CE2 is always negated ("H" level). When a write command is input at time t10, an internal voltage for programming is generated at the next time t11, and data update (step S82) and 1-word program (step S83) are performed at times t12 and t13, respectively. This data update and 1-word program are repeated (1 page size: 128 bits / 1 word size: 16 bits) = 8 times.
8回のプログラムが終了すると、時刻t14においてベリファイ用の内部電圧が発生され、時刻t15、t16においてそれぞれデータ更新(ステップS87)と1ワードベリファイ(ステップS88)が行われる。このデータ更新と1ワードベリファイも同じく8回繰り返される。 When eight programs are completed, an internal voltage for verification is generated at time t14, and data update (step S87) and 1-word verification (step S88) are performed at times t15 and t16, respectively. This data update and 1-word verify are also repeated eight times.
8回のベリファイが終了すると、時刻t17においてフラグ判定が行われる。以上の時刻t10からt18までの処理が、全ページについて繰り返される。すなわち、1度のコマンド入力によって(16ビット×8回)=128ビットの書き込みが行われるから、全データサイズが128Mビットであるとすると、上記処理を106回繰り返す。従って、全データを書き込むためには、書き込みコマンド入力を106回、電圧発生をプログラム及びベリファイそれぞれについて106回、フラグ判定を106回行う必要がある。特に電圧発生に必要な時間は3〜4μsと比較的長く、上記方法では書き込みに長時間を要する。
When eight verifications are completed, flag determination is performed at time t17. The above processing from time t10 to t18 is repeated for all pages. That is, since the one-time command inputs (16 bits × 8 times) = 128-bit write is performed, all the data size when as the 128M bits, the above process is repeated 10 6 times. Therefore, in order to write all data, it is necessary to perform
これは、1度のコマンド入力で書き込み可能なデータサイズが、書き込みデータバッファ25に保持可能なデータサイズに制限されるからである。つまり、書き込みデータバッファ25の保持可能なデータサイズが大きければ、それだけ書き込みコマンド入力、電圧発生、及びフラグ判定回数を減らすことが出来る。しかし、書き込みデータバッファ25の保持可能なデータサイズを大きくすると、書き込みデータバッファ25のサイズも大きくなり、バッファ25のチップ内に占める割合が増大し、チップサイズが大きくなり、ひいてはコストが上昇するという問題がある。
This is because the data size writable by one command input is limited to the data size that can be held in the
これに比較して本実施形態に係る方法について説明する。図10は本実施形態に係るEEPROM2への書き込み動作のフローチャートであり、図6を簡略化して示したものである。
Compared to this, the method according to the present embodiment will be described. FIG. 10 is a flowchart of the write operation to the
図示するように、まず書き込みコマンドがEEPROM2に入力されると(ステップS60)、電圧発生回路34がプログラム用の内部電圧を発生する(ステップS61)。次に、RAM3から1ワード分の書き込みデータが書き込みデータバッファ25に読み出される(ステップS62)。そして、ステップS62で読み出された1ワード分のデータにつきプログラムを行う(ステップS63)。次に、全アドレス、すなわち全データのプログラムが完了していなければ(ステップS64、NO)、アドレスをRAM3における次の1ワード分のデータに相当するように更新して(ステップS65)、ステップS62、S63の処理を行う。
As shown in the drawing, when a write command is first input to the EEPROM 2 (step S60), the
全データのプログラムが終了すると(ステップS64、YES)、次にベリファイ動作を行う。すなわち、電圧発生回路34がベリファイ用の内部電圧を発生する(ステップS66)。次に、RAM3から書き込みデータバッファに1ワード分のベリファイデータを読み出す(ステップS67)。そして、メモリセルMCから1ワード分のデータが読み出され、該読み出しデータにつきベリファイが行われる(ステップS68)。全データのベリファイが完了していなければ(ステップS69、NO)、アドレスをRAM3における次の1ワード分のデータに相当するように更新して(ステップS70)、ステップS67、S68の処理を行う。全データのベリファイが終了すると(ステップS69、YES)、フラグ判定が行われて、書き込み動作は完了する。
When the programming of all data is completed (step S64, YES), the verify operation is performed next. That is, the
上記の処理を図11にタイミングチャートとして示す。図11は、本実施形態に係る書き込み動作におけるチップイネーブル信号/CE1、/CE2、ライトイネーブル信号/WE、アウトプットイネーブル信号/OE、及びメモリシステム1における動作内容を示すタイミングチャートである。なお、図9と同様に1ページサイズが128ビット、メモリセルに一括して書き込まれるデータのサイズが1ワード(16ビット)、書き込むべき全データサイズが128Mビットである場合を例に説明する。
The above processing is shown as a timing chart in FIG. FIG. 11 is a timing chart showing chip enable signals / CE1, / CE2, write enable signal / WE, output enable signal / OE, and operation contents in the
なお、各制御信号をイネーブルにするタイミングは例えば次のようである。チップイネーブル信号/CE1、/CE2は、それぞれのチップアクセス時にイネーブル(“L”レベル)とされる。すなわちチップイネーブル信号/CE1は、コマンド入力時及びフラグ判定時に“L”レベルとされる。チップイネーブル信号/CE2は、RAM3からのデータ読み出し時に“L”レベルとされる。アウトプットイネーブル信号/OEは、データやフラグの読み出し時に“L”レベルとされる。またライトイネーブル信号WEは、コマンド入力時にのみ“L”レベルとされる。 The timing for enabling each control signal is, for example, as follows. Chip enable signals / CE1 and / CE2 are enabled ("L" level) at the time of each chip access. That is, the chip enable signal / CE1 is set to the “L” level at the time of command input and flag determination. The chip enable signal / CE2 is set to the “L” level when data is read from the RAM3. The output enable signal / OE is set to the “L” level when reading data or flags. The write enable signal WE is set to the “L” level only when a command is input.
図示するように、時刻t0で書き込みコマンドが入力されると、チップイネーブル信号/CE1、/CE2がアサートされて、EEPROM2及びRAM3が動作可能状態とされる。次の時刻t1でプログラム用の内部電圧が発生され、時刻t2、t3でそれぞれRAM3からのデータの読み出し(ステップS62)と1ワードプログラム(ステップS63)が行われる。データの読み出し時には、アウトプットイネーブル信号/OE及びチップイネーブル信号/CE2がアサートされる。このデータ読み出しと1ワードプログラムは(全データサイズ:128Mビット/1ワードサイズ:16ビット)=8×106回繰り返される。
As shown in the drawing, when a write command is input at time t0, chip enable signals / CE1 and / CE2 are asserted, and the
(8×106)回のプログラムが終了すると、時刻t4においてベリファイ用の内部電圧が発生され、時刻t5、t6においてそれぞれRAM3からのデータの読み出し(ステップS67)と1ワードベリファイ(ステップS68)が行われる。データの読み出し時には、やはりアウトプットイネーブル信号/OE及びチップイネーブル信号/CE2がアサートされる。このデータ読み出し更新と1ワードベリファイも同じく(8×106)回繰り返される。 When (8 × 10 6 ) programs are completed, an internal voltage for verification is generated at time t4, and data reading from RAM 3 (step S67) and 1-word verification (step S68) are performed at times t5 and t6, respectively. Done. When reading data, the output enable signal / OE and the chip enable signal / CE2 are asserted. This data read update and 1 word verify are also repeated (8 × 10 6 ) times.
(8×106)回のベリファイが終了すると、時刻t7においてチップイネーブル信号/CE1及びアウトプットイネーブル信号/OEがアサートされて、フラグ判定が行われ、書き込み動作は終了する。本実施形態に係る方法であると、1度のコマンド入力によって全データ(128Mビット)についてのプログラム及びベリファイが行われる。従って、全データを書き込むためには、コマンド入力を1回、電圧発生をプログラム及びベリファイそれぞれについて1回、フラグ判定を1回行えば良い。 When the (8 × 10 6 ) verifications are completed, the chip enable signal / CE1 and the output enable signal / OE are asserted at time t7, flag determination is performed, and the write operation ends. In the method according to the present embodiment, programming and verification are performed for all data (128 Mbits) by a single command input. Therefore, in order to write all the data, it is only necessary to perform command input once, voltage generation once for each of program and verify, and flag determination once.
以上のように、本実施形態に係るメモリシステムであると、書き込み時に必要な書き込みコマンド入力、電圧発生、フラグ判定の回数を大幅に削減出来る。従って、書き込み速度を向上出来る。このように1回の書き込みコマンド入力、電圧発生、及びフラグ判定で全データの書き込みを実現するために、本実施形態では、RAM3をEEPROM2のバッファメモリとして用いている。これにより、全データを連続して書き込むことが出来、書き込みコマンド入力回数、電圧発生回数、及びフラグ判定回数を1回ですませることが出来る。また、EEPROM2がチップイネーブル信号/CE2及びアウトプットイネーブル信号/OEを発生している。これにより、EEPROM2とRAM3とを同時に動作可能となり、RAM3をバッファメモリとして使用することが出来る。
As described above, the memory system according to the present embodiment can greatly reduce the number of write command inputs, voltage generation, and flag determination necessary for writing. Therefore, the writing speed can be improved. In this embodiment, the
また、RAM3をバッファメモリとして使用することで、書き込みデータバッファ25の保持可能なデータサイズを大きくする必要がない。すなわち、書き込みデータバッファ25のサイズを変更することなく、上記効果が得られる。
Further, by using the
なお、図6のフローチャートにおいては、ステップS45でベリファイNGと判定された場合にはステップS46の処理を行っているが、例えばステップS34に戻っても良い。この場合、ベリファイOKと判定されたメモリセルをレジスタに記憶しておき、これらのセルについてのステップS36、S44は、ロウデコーダ21を非動作状態とすることにより省略しても良い。
In the flowchart of FIG. 6, when it is determined as verify NG in step S45, the process of step S46 is performed. However, for example, the process may return to step S34. In this case, memory cells determined as verify OK may be stored in a register, and steps S36 and S44 for these cells may be omitted by putting the
[第2の実施形態]
次に、この発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置、半導体装置、及びデータ書き込み方法について説明する。本実施形態は、上記第1の実施形態の書き込みデータバッファ25に2段バッファを用いたものである。メモリシステム1の構成は、上記第1の実施形態で説明した図1の構成と同様であるので説明は省略する。図12は、本実施形態に係るEEPROM2のブロック図である。
[Second Embodiment]
Next, a semiconductor memory device, a semiconductor device, and a data writing method according to a second embodiment of the present invention are described. In the present embodiment, a two-stage buffer is used as the
図示するようにEEPROM2は、上記第1の実施形態において図2を用いて説明した構成において、書き込みデータバッファ25を、第1書き込みデータバッファ37及び第2書き込みデータバッファ38に置き換えた構成を有している。その他の構成は図2と同様である。第1書き込みデータバッファ37は、データ入出力バッファ27からデータを受信して保持する。第2書き込みデータバッファ38は、第1書き込みデータバッファ37からデータを受信し、受信したデータをメモリセルアレイ20に1ワード単位で書き込む。
As shown in the figure, the
次に、上記構成のメモリシステム1において、EEPROM2へのデータ書き込み方法について説明する。EEPROM2、RAM3、及びCPU4の相互間の動作については、第1の実施形態で説明した図5と同様であるので、図13を用いてEEPROM2内の動作について説明する。図13はEEPROM2の処理の流れを示すフローチャートである。
Next, a method of writing data to the
図示するように、ステップS36までは第1の実施形態と同様である。但し、ステップS35においてRAM3から読み出された1ワード分の書き込みデータは、第1書き込みデータバッファ37に転送された後、直ぐに第2書き込みデータバッファ38へ転送される。次にステップS36において1ワード分の書き込みデータのプログラムが行われる。この際、プログラムと同時にEEPROM2は、次の1ワード分の書き込みデータをRAM3から読み出す(ステップS100)。この様子を図14に示す。図14はEEPROM2の一部構成を示すブロック図である。なお、ステップS36、S37においてメモリセルMCにプログラムされるデータを第1データと呼び、RAM3から読み出される次の1ワード分の書き込みデータを第2データと呼ぶことにする。
As shown in the drawing, the steps up to step S36 are the same as those in the first embodiment. However, the write data for one word read from the
図示するように、第2書き込みデータバッファ38に保持されるデータをメモリセルMCにプログラムしている間、第1書き込みデータバッファ37は空である。従って第1データのプログラムをしている期間に、アドレス入出力バッファ33が次の1ワードに対応する内部アドレスADDintを発生して、第2データを第1書き込みデータバッファ37に読み出す。つまり第1データのプログラムとRAMからの第2データの読み出しとを並行して行う。
As shown, the first
そして、全アドレスにつきプログラムが終了していない(ステップS37、NO)間は、書き込みアドレスを1ワード分進めて(ステップS38)、ステップS36に戻る。 When the program is not completed for all addresses (step S37, NO), the write address is advanced by one word (step S38), and the process returns to step S36.
ベリファイ動作も同様である。図13に示すように、ステップS44までは第1の実施形態と同様である。但し、ステップS43においてRAM3から読み出された1ワード分のベリファイデータは、第1書き込みデータバッファ37に転送された後、直ぐに第2書き込みデータバッファ38へ転送される。次にステップS44において1ワード分のデータのベリファイが行われる。この際、ベリファイと同時にEEPROM2は次の1ワード分のベリファイデータをRAM3から読み出す(ステップS101)。つまり、第1データ(ベリファイデータ)を用いたベリファイと、RAMからの第2データ(ベリファイデータ)の読み出しとを並行して行う。そして、全アドレスにつきベリファイが終了していない(ステップS49、NO)間は、ベリファイアドレスを1ワード分進めて(ステップS50)、ステップS44に戻る。その他の動作は第1の実施形態と同様である。
The verify operation is the same. As shown in FIG. 13, the processes up to step S44 are the same as in the first embodiment. However, the verify data for one word read from the
以上のように、本実施形態に係るメモリシステムであると、上記第1の実施形態で説明した(1)の効果に加えて、下記(2)の効果が併せて得られる。
(2)データの書き込みを高速化出来る(その2)。
本実施形態に係るEEPROMは、直列に接続された2つの書き込みデータバッファ37、38を有している。従って、プログラムの際、及びベリファイの際のデータ読みだしに必要な時間を大幅に短縮出来、データの書き込み速度を飛躍的に向上させることが出来る。本効果について図15を用いて説明する。図15は、本実施形態に係る書き込み動作におけるチップイネーブル信号/CE1、/CE2、ライトイネーブル信号/WE、アウトプットイネーブル信号/OE、及びメモリシステム1における動作内容を示すタイミングチャートである。なお、第1の実施形態で説明した図11と同様に1ページサイズが128ビット、メモリセルに一括して書き込まれるデータのサイズが1ワード(16ビット)、書き込むべき全データサイズが128Mビットである場合を例に説明する。
As described above, in the memory system according to the present embodiment, the following effect (2) can be obtained in addition to the effect (1) described in the first embodiment.
(2) Data writing can be speeded up (part 2).
The EEPROM according to the present embodiment has two
図示するように、時刻t3までは第1の実施形態と同様の流れによりプログラム動作が行われる。時刻t3において、時刻t2でRAM3から読み出された1ワード分のデータがメモリセルMCにプログラムされる。この際、同時に次の1ワード分のデータがRAM3からEEPROM2に読み出される。1ワードプログラムに必要な時間は通常、1μs程度であるが、この期間は1ワード分のデータを読み出すのに十分な長さである。従って、時刻t3で開始したプログラムが終了する時刻t4には、既に次の書き込みデータが読み出されているので、時刻t4では、時刻t3〜t4で読み出した書き込みデータのプログラムを行う。上記処理を全データについて繰り返す(8×106回/128Mビット)。
As shown in the figure, until the time t3, the program operation is performed according to the same flow as in the first embodiment. At time t3, data for one word read from the
ベリファイ動作時も同様である。時刻t7において、時刻t6でRAM3から読み出された1ワード分のデータを用いてベリファイが行われる。この際、同時に次の1ワード分のデータがRAM3からEEPROM2に読み出される。1ワードベリファイに必要な時間は通常、0.5μs程度であるが、この期間も1ワード分のデータを読み出すのに十分な長さである。従って、時刻t7で開始したベリファイが終了する時刻t8には、既に次のベリファイデータが読み出されているので、時刻t8では、時刻t7〜t8で読み出したベリファイデータを用いたベリファイを行う。上記処理を全データについて繰り返す(8×106回/128Mビット)。
The same applies to the verify operation. At time t7, verification is performed using the data for one word read from the
以上のように、RAM3から読み出すべきデータのうち、メモリセルに書き込むべき最初の1ワード分のデータ、及びベリファイすべき最初の1ワード分のデータ以外のデータは、プログラム中またはベリファイ中にRAM3から読み出される。従って、これらのデータを読み出すために必要な時間は、EEPROM2の外部から見た場合、ゼロである。言い換えれば、上記第1の実施形態で説明した方法に比べて、プログラム時におけるRAM3からのデータの読み出し時間、及びベリファイ時におけるRAM3からのデータの読み出し時間を、それぞれ1/(8×106)にすることが出来る。そのため、データの書き込み速度を向上出来る。従って、書き込みデータバッファのサイズを、RAM3と同一サイズにした場合と同じ速度で、EEPROM2へのデータの書き込みを行うことが出来る。
As described above, of the data to be read from the
[第3の実施形態]
次に、この発明の第3の実施形態に係る半導体記憶装置、半導体装置、及びデータ書き込み方法について説明する。本実施形態は、上記第1、第2の実施形態において、EEPROM2とRAM3とを一つのパッケージに纏めたマルチチップパッケージ(Multi-chip package)に関するものである。その他の構成は上記第1、第2の実施形態と同様であるので説明は省略する。図16は、本実施形態に係るメモリシステム1の備える半導体装置50のブロック図である。
[Third Embodiment]
Next explained is a semiconductor memory device, semiconductor device and data writing method according to the third embodiment of the invention. The present embodiment relates to a multi-chip package in which the
図示するように半導体装置50は、EEPROMを備えた半導体チップ51、及びRAMを備えた半導体チップ52、データバス53、アドレスバス54、制御用バス55、電源ピン56、57、チップセレクトピン58、59、コントロールピン60、アドレスピン61、及びデータピン62を備えている。これらは同一の半導体パッケージ内にパッケージングされている。
As shown, the
半導体チップ51及び半導体チップ52の構成は、上記第1、第2の実施形態で説明したEEPROM2及びRAM3と同様である。データバス53、アドレスバス54、及び制御用バス55は、半導体チップ51及び半導体チップ52間を相互に接続する。そしてデータバス53、アドレスバス54、及び制御用バス55はそれぞれ、相互間でデータ、アドレス信号、及び制御信号を転送する。
The configurations of the
電源ピン56、57は、それぞれ外部から電圧を印加され、印加された電圧をそれぞれ半導体チップ51、52に与える。チップセレクトピン58、59はそれぞれ外部からイネーブル信号/CE1、/CE2が与えられ、これらをそれぞれ半導体チップ51、52に与える。コントロールピン60、アドレスピン61、及びデータピン62は、半導体チップ51、52に共通に使用される。外部からコントロールピン60に与えられた制御信号(/WE、/OE等)は、制御用バス55を介して半導体チップ51または52に与えられる。外部からアドレスピン61に与えられたアドレス信号は、アドレスバスを介して半導体チップ51または52に与えられる。データピン62に与えられたデータは、データバス53を介して半導体チップ51または52に与えられる。コントロールピン60、アドレスピン61、及びデータピン62に与えられた各信号は、イネーブル信号/CE1、/CE2によって動作可能とされている半導体チップ51または52に与えられる。
The power supply pins 56 and 57 are respectively applied with a voltage from the outside, and apply the applied voltage to the semiconductor chips 51 and 52, respectively. The chip
なお、第1、第2の実施形態で説明したとおり、半導体チップ51は、半導体チップ52に対してイネーブル信号/CE2及びライトイネーブル信号/WEを出力可能とされている。
As described in the first and second embodiments, the
図17は、半導体装置50の断面図である。図示するように半導体装置50は、上記半導体チップ51、52を含む3つの半導体チップを3次元的に実装したBGA(Ball Grid Array)である。図示するように半導体装置50は、実装基板70、銅配線71、半導体チップ51、52、72、ボンディングワイヤ73、スペーサ74、ハンダバンプ75、及び封止樹脂76を備えている。
FIG. 17 is a cross-sectional view of the
実装基板70の表面上には、ダイアタッチ材77により半導体チップ51がボンディングパッド面を上にして接着される。半導体チップ51上には、ダイアタッチ材78によりスペーサ74が接着される。スペーサ74は半導体チップ51よりも小さく、半導体チップ51のボンディングパッドはスペーサ74によって被覆されないようにされる。スペーサ74上には、ダイアタッチ材79により半導体チップ52がボンディングパッド面を上にして接着される。更に半導体チップ52上には、ダイアタッチ材90によって半導体チップ72がボンディングパッド面を上にして接着される。半導体チップ72は半導体チップ52よりも小さく、半導体チップ52のボンディングパッドは半導体チップ72によって被覆されないようにされる。
On the surface of the mounting
実装基板70の表面上には、半導体チップ51、52、72毎に設けられた銅配線71が設けられ、半導体チップ51、52、72のボンディングパッドと銅配線71とがボンディングワイヤ73によって接続されている。そして実装基板70の表面上には、半導体チップ51、52、72、銅配線71、及びボンディングワイヤ73を被覆するように封止樹脂76が設けられている。
A
実装基板70の裏面には、複数のハンダバンプ75が設けられている。ハンダバンプ75は外部とのコネクタとして機能するものである。実装基板70内部には多層の金属配線層が設けられており、該配線層を介してハンダバンプ75と銅配線71とが接続される。そしてハンダバンプ75のいずれかが、図16で説明した各ピン56〜62に相当する。
A plurality of solder bumps 75 are provided on the back surface of the mounting
以上のように、EEPROMがRAMを制御可能であれば、EEPROMとRAMとを同一パッケージ内に設けても良い。 As described above, as long as the EEPROM can control the RAM, the EEPROM and the RAM may be provided in the same package.
上記のように、この発明の第1乃至第3の実施形態に係るメモリシステムであると、EEPROM2はRAM3を動作状態とするためのイネーブル信号/CE2、/OEを出力可能とされ、またRAM3に対するアドレス信号を出力可能とされている。これにより、EEPROM2の外部に設けられたRAM3をバッファメモリとして用いて、EEPROM2へデータを書き込んでいる。従って、EEPROM2の備える書き込みデータバッファのサイズを大きくすることなく、EEPROM2への書き込み速度を向上出来る。
As described above, in the memory system according to the first to third embodiments of the present invention, the
なお、RAM3から読み出したデータをEEPROM2がどの領域に書き込むかは、EEPROM2自身が決定出来る。この様子を図18に示す。図18はEEPROM2のメモリ空間を示す概念図である。例えばEEPROM2が128MビットでRAMが32Mビットであったと仮定する。すると、例えばEEPROM2のメモリ空間を各々32Mビットの第1乃至第4領域に分割したとすると、RAM3の保持する32Mビットのデータを、第1乃至第4領域のいずれに書き込むかは、EEPROM2が決定出来る。勿論、CPU4から命令があっても良い。
Note that the
また、上記実施形態ではEEPROM2としてNOR型フラッシュメモリの場合を例に説明したが、NAND型フラッシュメモリであっても良い。図19はNAND型フラッシュメモリの備えるメモリセルアレイの回路図である。
In the above embodiment, the case where a NOR flash memory is used as the
図示するようにメモリセルアレイは、複数のNANDセルを有している。図19では1行のNANDセルのみを示しているが複数あっても良い。NANDセルの各々は、32個のメモリセルトランジスタMT0〜MT31と、選択トランジスタST1、ST2とを含んでいる。以下では、説明の簡潔化のために、メモリセルトランジスタMT0〜MT31を単にメモリセルトランジスタMTと呼ぶことがある。メモリセルトランジスタMTは、半導体基板上にゲート絶縁膜を介在して形成されたフローティングゲートと、フローティングゲート上にゲート間絶縁膜を介在して形成されたコントロールゲートとを有する積層ゲート構造を備えている。なお、メモリセルトランジスタMTの個数は32個に限られず、8個や16個であってもよく、その数は限定されるものではない。メモリセルトランジスタMTは、隣接するもの同士でソース、ドレインを共有している。そして、選択トランジスタST1、ST2間に、その電流経路が直列接続されるようにして配置されている。直列接続されたメモリセルトランジスタMTの一端側のドレイン領域は選択トランジスタST1のソース領域に接続され、他端側のソース領域は選択トランジスタST2のドレイン領域に接続されている。 As shown in the figure, the memory cell array has a plurality of NAND cells. Although FIG. 19 shows only one row of NAND cells, a plurality of NAND cells may be provided. Each of the NAND cells includes 32 memory cell transistors MT0 to MT31 and select transistors ST1 and ST2. Hereinafter, for simplification of description, the memory cell transistors MT0 to MT31 may be simply referred to as memory cell transistors MT. Memory cell transistor MT has a stacked gate structure having a floating gate formed on a semiconductor substrate with a gate insulating film interposed therebetween, and a control gate formed on the floating gate with an inter-gate insulating film interposed therebetween. Yes. The number of memory cell transistors MT is not limited to 32, but may be 8 or 16, and the number is not limited. Adjacent ones of the memory cell transistors MT share a source and a drain. And it arrange | positions so that the current path may be connected in series between selection transistor ST1, ST2. The drain region on one end side of the memory cell transistors MT connected in series is connected to the source region of the select transistor ST1, and the source region on the other end side is connected to the drain region of the select transistor ST2.
同一行にあるメモリセルトランジスタMTのコントロールゲートはワード線WL0〜WL31のいずれかに共通接続され、同一行にあるメモリセルの選択トランジスタST1、ST2のゲートは、それぞれセレクトゲート線SGD、SGSに共通接続されている。また、メモリセルアレイにおいて同一列にある選択トランジスタST1のドレインはビット線BL0〜BLn(nは自然数)のいずれかに共通接続される。選択トランジスタST2のソースはソース線SLに共通接続される。なお、選択トランジスタST1、ST2は必ずしも両方必要ではなく、NANDセルを選択出来るのであればいずれか一方のみが設けられていても良い。 The control gates of the memory cell transistors MT in the same row are commonly connected to any one of the word lines WL0 to WL31, and the gates of the selection transistors ST1 and ST2 of the memory cells in the same row are common to the select gate lines SGD and SGS, respectively. It is connected. Further, the drains of the select transistors ST1 in the same column in the memory cell array are commonly connected to any one of bit lines BL0 to BLn (n is a natural number). The sources of the selection transistors ST2 are commonly connected to the source line SL. Note that both the selection transistors ST1 and ST2 are not necessarily required, and only one of them may be provided as long as a NAND cell can be selected.
上記のようなNAND型フラッシュメモリであっても、上記実施形態は適用出来る。また、フラッシュメモリに限らず、書き込みデータバッファを用いて複数のメモリセルに対して同時にデータを書き込む半導体メモリ全般に適用可能である。また、同時に書き込まれるデータサイズは1ワード単位に限らず、複数のデータでありさえすれば十分である。 The above embodiment can be applied to the NAND flash memory as described above. Further, the present invention is not limited to a flash memory, and can be applied to all semiconductor memories in which data is simultaneously written in a plurality of memory cells using a write data buffer. In addition, the data size written simultaneously is not limited to one word unit, and it is sufficient if there is a plurality of data.
また上記実施形態は、アプリケーションシステムにおけるプログラム保持の目的で使用される半導体メモリに適用することで、顕著な効果が得られる。アプリケーションシステムでは、製品の出荷時にROMライタを用いてプログラムをEEPROMに書き込む。この場合、大容量のプログラムデータが一括してEEPROMに書き込まれる。従ってこのような場合、ROMライタをホスト機器として用いて、上記第1、第2の実施形態の方法を適用することが望ましい。 In addition, the above-described embodiment can achieve a remarkable effect when applied to a semiconductor memory used for the purpose of holding a program in an application system. In the application system, a program is written in the EEPROM using a ROM writer at the time of shipment of the product. In this case, a large amount of program data is written to the EEPROM in a lump. Therefore, in such a case, it is desirable to apply the methods of the first and second embodiments using a ROM writer as a host device.
更に上記実施形態では、書き込みデータバッファのサイズが1ページ分である場合について説明した。しかし、書き込みデータバッファのサイズは、メモリセルに同時に書き込み可能なデータサイズ(上記実施形態では1ワード)分だけあれば十分である。しかし、半導体チップの使い方によってはEEPROM2をRAM3と共に使用できない場合を考慮すると、書き込みデータバッファのサイズは1ワード分よりも大きいことが望ましい。
Further, in the above embodiment, the case where the size of the write data buffer is one page has been described. However, it is sufficient that the size of the write data buffer is equivalent to the data size (one word in the above embodiment) that can be simultaneously written in the memory cell. However, considering the case where the
なお、本願発明は上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。更に、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出されうる。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出されうる。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Furthermore, the above embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements. For example, even if some constituent requirements are deleted from all the constituent requirements shown in the embodiment, the problem described in the column of the problem to be solved by the invention can be solved, and the effect described in the column of the effect of the invention Can be extracted as an invention.
1…メモリシステム、2…EEPROM、3…RAM、4…CPU、5…レギュレータ回路、6…電源回路、7…入力装置、8…入力I/Fコントローラ、9…表示装置、10…表示装置コントローラ、11、53…データバス、12、54…アドレスバス、20…メモリセルアレイ、21…ロウデコーダ、22…カラムデコーダ、23…カラムセレクタ、24…ソース線ドライバ、25、37、38…書き込みデータバッファ、26…センスアンプ、27…データ入出力バッファ、28…コマンドレジスタ、29…出力バッファ、30…入出力バッファ、31…入力バッファ、32…アドレスレジスタ、33…アドレス入出力バッファ、34…電圧発生回路、35…ベリファイ回路、36…制御回路、50…マルチチップパッケージ、51、52…半導体チップ、55…制御用バス、56、57…電源ピン、58、59…チップセレクトピン、60…コントロールピン、61…アドレスピン、62…データピン、70…実装基板、71…銅配線、73…ボンディングワイヤ、74…スペーサ、75…ハンダバンプ、76…封止樹脂、77〜80…ダイアタッチ材
DESCRIPTION OF
Claims (5)
電荷蓄積層と、前記電荷蓄積層上に形成された制御ゲートとを備えた複数のメモリセルがマトリクス状に配置されたメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイ中において、同一行にある前記メモリセルの前記制御ゲートを共通接続するワード線と、
前記外部メモリ装置を動作可能とさせるイネーブル信号を前記外部メモリ装置に出力する出力バッファと、
前記外部メモリ装置における読み出すべきデータのアドレスを、前記外部メモリ装置に出力するアドレスバッファと、
前記イネーブル信号によって動作可能とされた前記外部メモリ装置から、前記アドレスバッファから出力された前記アドレスに保持される前記データを受信する入力バッファと、
前記入力バッファで受信した前記データを保持し、同一の前記ワード線に接続された複数の前記メモリセルに対して一括して該データを書き込む書き込みデータバッファと
を具備し、前記入力バッファは、前記書き込みデータバッファが前記メモリセルに対してデータを書き込む度に、前記メモリセルに一括して書き込まれるサイズの前記データを前記外部メモリから受信する
ことを特徴とする半導体記憶装置。 A semiconductor memory device connectable to an external memory device,
A memory cell array in which a plurality of memory cells each including a charge storage layer and a control gate formed on the charge storage layer are arranged in a matrix;
A word line commonly connecting the control gates of the memory cells in the same row in the memory cell array;
An output buffer that outputs to the external memory device an enable signal that enables the external memory device;
An address buffer for outputting an address of data to be read in the external memory device to the external memory device;
An input buffer for receiving the data held at the address output from the address buffer from the external memory device enabled by the enable signal;
A write data buffer that holds the data received by the input buffer and writes the data to a plurality of the memory cells connected to the same word line in a lump. Each time a write data buffer writes data to the memory cell, the semiconductor memory device receives the data of a size to be written to the memory cell at a time from the external memory.
前記第1バッファ回路に保持される前記データを受信し、該データを前記メモリセルに書き込む第2バッファ回路と
を備え、前記第2バッファ回路に保持される前記データが前記メモリセルに書き込まれている期間に、前記アドレスバッファは、前記外部メモリ装置において次に前記メモリセルに書き込むべき前記データが保持されるアドレスを前記外部メモリ装置に出力し、前記入力バッファは、前記次に書き込むべき前記データを受信して、該データを前記第1バッファ回路に保持させる
ことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。 The write data buffer includes a first buffer circuit that temporarily holds the data received by the input buffer;
A second buffer circuit that receives the data held in the first buffer circuit and writes the data to the memory cell, and the data held in the second buffer circuit is written to the memory cell. The address buffer outputs an address at which the data to be written next to the memory cell in the external memory device is held to the external memory device, and the input buffer outputs the data to be written next. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first buffer circuit holds the data.
第1イネーブル信号によって動作可能とされ、データ保持可能な第1半導体記憶装置を備える第1半導体チップと、
第2イネーブル信号によって動作可能とされ、且つ電荷蓄積層と該電荷蓄積層上に形成された制御ゲートとを有するメモリセルを含む第2半導体記憶装置を備えた第2半導体チップと、
前記第1、第2半導体チップを通信可能に接続するデータバスと、
前記データバスに電気的に接続され、外部から前記第1イネーブル信号が入力可能とされた第1外部ピンと、
前記データバスに電気的に接続され、外部から前記第2イネーブル信号が入力可能とされた第2外部ピンと、
前記データバスに電気的に接続され、且つ前記第1、第2半導体チップに共通に用いられ、外部から前記データが入力可能とされた第3外部ピンと、
前記第1、第2半導体チップに共通に用いられ、外部からアドレス信号が入力可能とされた第4外部ピンと
を具備し、前記第1半導体記憶装置に前記データが書き込まれる際には、前記第1半導体チップは前記第1外部ピンに入力された前記第1イネーブル信号によって動作可能とされ、前記第3外部ピンに入力された前記データ、及び前記第4外部ピンに入力された前記アドレス信号に応じて動作し、
前記第2半導体記憶装置は、前記第2半導体チップの発生した前記第1イネーブル信号によって前記第1半導体チップが動作可能とされ、且つ前記第2半導体チップの発生した前記アドレス信号が前記第1半導体チップに与えられることにより、前記第1半導体記憶装置に保持される前記データを前記メモリセルに書き込む
ことを特徴とする半導体装置。 A semiconductor device comprising first and second semiconductor chips in the same package,
A first semiconductor chip comprising a first semiconductor memory device operable by a first enable signal and capable of holding data;
A second semiconductor chip comprising a second semiconductor memory device operable by a second enable signal and including a memory cell having a charge storage layer and a control gate formed on the charge storage layer;
A data bus for communicatively connecting the first and second semiconductor chips;
A first external pin electrically connected to the data bus and capable of receiving the first enable signal from outside;
A second external pin electrically connected to the data bus and capable of receiving the second enable signal from outside;
A third external pin electrically connected to the data bus and used in common for the first and second semiconductor chips and capable of inputting the data from the outside;
A fourth external pin commonly used for the first and second semiconductor chips and capable of inputting an address signal from the outside, and when the data is written to the first semiconductor memory device, One semiconductor chip is enabled by the first enable signal input to the first external pin, and receives the data input to the third external pin and the address signal input to the fourth external pin. Works according to
In the second semiconductor memory device, the first semiconductor chip is operable by the first enable signal generated by the second semiconductor chip, and the address signal generated by the second semiconductor chip is received by the first semiconductor chip. A semiconductor device, wherein the data held in the first semiconductor memory device is written to the memory cell by being applied to a chip.
前記外部メモリ装置に第1データサイズのデータが書き込まれるステップと、
前記外部メモリ装置への前記書き込みが終了した後、前記半導体記憶装置が書き込み動作中を示す実行中フラグを発生するステップと、
前記実行中フラグを発生した後、前記半導体記憶装置が前記外部メモリ装置を動作可能とするステップと、
前記半導体記憶装置の備える電圧発生回路が、書き込み用の第1内部電圧を発生するステップと、
前記半導体記憶装置が、前記外部メモリ装置から前記データを、前記第1データサイズより小さい第2データサイズ単位で読み出すステップと、
前記第1内部電圧を用いて、前記メモリセルに前記データを前記第2データサイズ単位で書き込むステップと、
前記データの全てにつき前記メモリセルへの前記データの書き込みが終了した後、前記電圧発生回路が、ベリファイ用の第2内部電圧を発生するステップと、
前記半導体記憶装置が、前記外部メモリ装置から前記データを第2データサイズ単位で再び読み出すステップと、
前記第2内部電圧及び前記外部メモリ装置から再び読み出した前記データを用いて、前記メモリセルに書き込んだ前記データにつきベリファイを行うステップと、
前記データの全てにつき前記ベリファイが終了した後、前記実行中フラグの発生を停止するステップと
を具備することを特徴とするデータ書き込み方法。 A method of writing data in a semiconductor memory device that can be connected to an external memory device and has a plurality of memory cells each having a charge storage layer and a control gate formed on the charge storage layer,
Writing data of a first data size in the external memory device;
Generating a running flag indicating that the semiconductor memory device is performing a write operation after the writing to the external memory device is completed;
Enabling the semiconductor memory device to operate the external memory device after generating the running flag;
A voltage generating circuit included in the semiconductor memory device generates a first internal voltage for writing;
The semiconductor memory device reading the data from the external memory device in a second data size unit smaller than the first data size;
Writing the data in the memory cell in the second data size unit using the first internal voltage;
After the writing of the data to the memory cell for all of the data is completed, the voltage generation circuit generates a second internal voltage for verification;
The semiconductor memory device reads the data from the external memory device again in a second data size unit;
Verifying the data written to the memory cell using the second internal voltage and the data read again from the external memory device;
And a step of stopping generation of the in-execution flag after the verification is completed for all of the data.
前記第1バッファ回路に保持される前記データが前記メモリセルに書き込まれ、
前記データが前記メモリセルに書き込まれている間に、次に書き込むべき前記データが前記外部メモリ装置から読み出されて前記第2バッファ回路に格納された後、前記第1バッファ回路に転送される
ことを特徴とする請求項4記載のデータ書き込み方法。 The semiconductor memory device includes first and second buffer circuits capable of holding the data having a data size of at least the second data size,
The data held in the first buffer circuit is written into the memory cell;
While the data is being written to the memory cell, the data to be written next is read from the external memory device, stored in the second buffer circuit, and then transferred to the first buffer circuit. 5. The data writing method according to claim 4, wherein:
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