JP2007317909A - シャッター付きブレスフィルター装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体ウエハ収納容器内の空気を、清浄化する半導体ウエハ収納容器に使用するシャッター付きブレスフィルター装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハ収納容器2の底板3に設置されたブレスフィルター部5は、上端開口部にフィルター14を備え、底壁11に通気開口12を設け、且つ前記通気開口12上に、該通気開口12よりは径大なマグネット付きシャッター4が上下動移動可能に設置されると共に、前記通気開口12内に磁性体吸引板25を設置して形成され、更に、パージ装置6に設置されるマグネット付きノズル部7は、通気空間26を備えた筐体27に、前記ブレスフィルター部5のマグネット付きシャッター4と極性を異にするシャッター開放用マグネット33を取付けて形成される。
【選択図】図5
【解決手段】半導体ウエハ収納容器2の底板3に設置されたブレスフィルター部5は、上端開口部にフィルター14を備え、底壁11に通気開口12を設け、且つ前記通気開口12上に、該通気開口12よりは径大なマグネット付きシャッター4が上下動移動可能に設置されると共に、前記通気開口12内に磁性体吸引板25を設置して形成され、更に、パージ装置6に設置されるマグネット付きノズル部7は、通気空間26を備えた筐体27に、前記ブレスフィルター部5のマグネット付きシャッター4と極性を異にするシャッター開放用マグネット33を取付けて形成される。
【選択図】図5
Description
本発明は、ミニ・エンバイロメント方式の半導体クリーンルームで使用される半導体ウエハ収納容器に取付けるシャッター付きブレスフィルター装置に関するものである。
半導体IC回路の微細化により、300mmウエハの製造ラインでは、製造環境も大幅な変革が進み、従来の製造ラインを設置するクリーンルームにおいては、全体のクリーン度を上げるボールルーム方式から、ウエハの周囲のみのクリーン度を上げるミニ・エンバイロメント方式に変わってきた。
前記ミニ・エンバイロメント方式クリーンルームでは、初期投資、ランニングコスト削減の目的からクリーンルーム全体のクリーン度を従来より低くして、ウエハの搬送は密閉型の半導体ウエハ収納容器に収納して行われている。前記密閉型の半導体ウエハ収納容器は、FOUPと称され、その仕様は世界標準となっている。
従来、半導体ウエハ収納容器を気温の違う環境間を搬送したとき、容器内部と外部との圧力差をなくし、前記半導体ウエハ収納容器の破壊を防ぐべく、該半導体ウエハ収納容器に送気することを目的として、半導体ウエハ収納容器に装着されるブレスフィルターとしては、後述する特許文献1に符号「59aおよび59b」として記載されたものが公知である。
そして、半導体が微細化するに従い、前記半導体ウエハ収納容器内部の水分、またはミカルガスに汚染された空気のパージをする必要があり、該半導体ウエハ収納容器内の前記水分をパージするための循環ドライエア、または前記汚染された空気をパージするためのN2ガスの供給が、ブレスフィルターを介して行われるようになってきた。
ブレスフィルターから、短時間で循環ドライエア、またはN2ガスを前記半導体ウエハ収納容器内に送気するために、ブレスフィルターの圧力損失を減らすべく、フィルターの構造を変えた低圧力損失ブレスフィルターについては、後述する特許文献2に記載されたものが公知である。
ブレスフィルターを半導体ウエハ収納容器に装着した先行技術につき、過去の特許文献を遡及検索したところ、本特許出願人の出願に係る特開2005−26674号および特開2006−35180号が公知である。
しかしながら、ブレスフィルターを介しての半導体ウエハ収納容器内部の水分、またはミカルガスに汚染された空気と、清浄循環ドライエア、または、該半導体ウエハ収納容器内部の汚染空気とN2ガスとの置換後、ブレスフィルターを介して、外気が半導体ウエハ収納容器内部へ侵入することを防ぐと共に、前記清浄循環ドライエア、またはN2ガスが外部へ拡散することを防ぐために、ブレスフィルターにシャッターを取付けるという技術については、過去の特許文献を遡及検索しても開示された事実はなく、また実用にも供されていない。
前記世界標準の半導体ウエハ収納容器は、水分、またはケミカルガスに対するシール性が完全ではなくて、通常のクリーンルームに長時間放置すると、クリーンルーム内の水分、またはケミカルガスが、前記半導体ウエハ収納容器の内部に侵入し、ウエハ表面に付着して、歩留まり低下を引き起こすという課題があった。
また、加工工程によっては、有機物の膜が形成されたウエハが、前記半導体ウエハ収納容器に収納され、該有機物から発生するケミカルガスが、該半導体ウエハ収納容器の内壁に付着し、次の工程で加工されたウエハ表面に、内壁に付着した前記ケミカルガスが再付着し、歩留まり低下を引き起こすという課題があった。
前記歩留まり低下を防ぐために、ブレスフィルターを介して、前記半導体ウエハ収納容器内部の水分と循環ドライエアとの置換、および内部のケミカルガス汚染された空気とN2ガスとの置換が行われている。そして、最近では、前記特許文献1・2に記載されたように、これら内部の水分と循環ドライエアとの置換、および内部のケミカルガス汚染された空気とN2ガスとの置換を短時間に行うために、ブレスフィルターの面積を大きくし、圧力損失を小さくすることも試みられている。
しかしながら、前記特許文献1・2に記載されたように、面積を大きくして圧力損失を小さくしたブレスフィルターを装着した半導体ウエハ収納容器では、ブレスフィルターを介して、該半導体ウエハ収納容器内に供給した循環ドライエア、またはN2ガスが、短時間で前記半導体ウエハ収納容器外部へ拡散してしまうという課題があった。
本発明は、前記課題を解決すべくなされたもので、前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置を配設しないときは、マグネット付きシャッターが磁性体吸引板に吸引されて通気開口を閉鎖することにより、半導体ウエハ収納容器のブレスフィルター部が閉鎖されて、該半導体ウエハ収納容器内部を密閉する一方、前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置を配設すると、該パージ装置に設けられたシャッター開放用マグネットと、該シャッター開放用マグネットと極性を異にする、前記ブレスフィルター部を構成するマグネット付きシャッター間に反発力が発生し、該反発力によりマグネット付きシャッターが上動して、前記通気開口を開放し、清浄循環ドライエア、またはN2ガスを前記半導体ウエハ収納容器内部へ供給し、該半導体ウエハ収納容器内部の水分、またはケミカルガスに汚染された空気と、前記供給された清浄循環ドライエア、またはN2ガスとを置換し、前記水分、または汚染された空気の排気を可能としたシャッター付きブレスフィルター装置を提供しようとするものである。
本発明は、半導体ウエハ収納容器の底板に設置された少なくとも2個のブレスフィルター部と、前記半導体ウエハ収納容器内の水分、またはケミカルガスに汚染された空気を、清浄循環ドライエア、またはN2ガスと置換してパージするパージ装置の前記ブレスフィルター部に対応する位置に、それぞれ設置されたマグネット付きノズル部とにより構成され、
前記ブレスフィルター部は、上端開口部にフィルターを備え、底壁に通気開口を設け、且つ前記通気開口上に、該通気開口よりは径大なマグネット付きシャッターが上下動移動可能に設置されると共に、前記通気開口内に磁性体吸引板を設置して形成され、
前記マグネット付きノズル部は、通気空間を備えた筐体が、前記ブレスフィルター部の下面に密着固定可能に形成されると共に、前記筐体に、前記ブレスフィルター部のマグネット付きシャッターと極性を異にするシャッター開放用マグネットを取付けて形成され、
前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置が配設されていないときは、マグネット付きシャッターが磁性体吸引板により吸引されて下動して、該マグネット付きシャッターが前記通気開口を閉鎖する一方、前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置が配設されたときは、前記マグネット付きシャッターとシャッター開放用マグネット間に反発力が発生し、該反発力がマグネット付きシャッターと磁性体吸引板の吸引力より勝る状態になったとき、前記マグネット付きシャッターを上動させて、前記通気開口を開放するという手段を採用することにより、上記課題を解決した。
前記ブレスフィルター部は、上端開口部にフィルターを備え、底壁に通気開口を設け、且つ前記通気開口上に、該通気開口よりは径大なマグネット付きシャッターが上下動移動可能に設置されると共に、前記通気開口内に磁性体吸引板を設置して形成され、
前記マグネット付きノズル部は、通気空間を備えた筐体が、前記ブレスフィルター部の下面に密着固定可能に形成されると共に、前記筐体に、前記ブレスフィルター部のマグネット付きシャッターと極性を異にするシャッター開放用マグネットを取付けて形成され、
前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置が配設されていないときは、マグネット付きシャッターが磁性体吸引板により吸引されて下動して、該マグネット付きシャッターが前記通気開口を閉鎖する一方、前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置が配設されたときは、前記マグネット付きシャッターとシャッター開放用マグネット間に反発力が発生し、該反発力がマグネット付きシャッターと磁性体吸引板の吸引力より勝る状態になったとき、前記マグネット付きシャッターを上動させて、前記通気開口を開放するという手段を採用することにより、上記課題を解決した。
通常、マグネット付きシャッターを設けたブレスフィルター部を備えた半導体ウエハ収納容器の下面に、シャッター開放用マグネットを設けたマグネット付きノズル部を備えたパージ装置を配設しないときは、マグネット付きシャッターは磁性体吸引板に吸引されて通気開口を閉鎖することにより、半導体ウエハ収納容器のブレスフィルター部が閉鎖されて、該半導体ウエハ収納容器内部を密閉する。そして、前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置を配設すると、シャッター開放用マグネットとマグネット付きシャッターの極性の違いにより両マグネット間に反発力が発生して、該マグネット付きシャッターを上動させ、前記通気開口を開放して清浄循環ドライエア、またはN2ガスを供給し、該半導体ウエハ収納容器内部の水分、またはケミカルガスに汚染された空気と、前記供給された清浄循環ドライエア、またはN2ガスとを置換し、前記水分、または汚染された空気の排気を可能とすると共に、前記半導体ウエハ収納容器内部の水分、またはケミカルガスに汚染された空気と、清浄循環ドライエア、またはN2ガスとの置換後の半導体ウエハ収納容器内部に、前記プレフィルター部を介して外気が侵入することもなく、更に、前記半導体ウエハ収納容器内部に供給された清浄循環ドライエア、またはN2ガスが、該半導体ウエハ収納容器外へ拡散することもない。
本発明シャッター付きブレスフィルター装置の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。本発明シャッター付きブレスフィルター装置1は、半導体ウエハ収納容器2の底板3に設置され、マグネット付きシャッター4を備えたブレスフィルター部5と、前記半導体ウエハ収納容器2内の水分、またはケミカルガスに汚染された空気をパージするパージ装置6に設置され、前記マグネット付きシャッター4を開閉するマグネット付きノズル部7とにより構成されており、前記半導体ウエハ収納容器2の下面に前記パージ装置6を配設すると、前記ブレスフィルター部5のマグネット付きシャッター4が開放され、そして、該半導体ウエハ収納容器2から該パージ装置6を取外すと、該ブレスフィルター部5のマグネット付きシャッター4が閉鎖するよう形成されている。
なお、前記マグネット付きシャッター4は、特に限定する必要はないが、好ましくは、図3・図6に示すように、リング状のマグネット51の下面に、該リング状のマグネット51、および通気開口12より径大なドーナツ板状のシャッター52を一体に連結固定したものを使用することが推奨される。
前記ブレスフィルター部5とマグネット付きノズル部7は、用途に応じて少なくとも2個ずつ使用する。すなわち、後述するが、前記半導体ウエハ収納容器2への清浄循環ドライエア、またはN2ガスの供給用のブレスフィルター部5aと、供給用のマグネット付きノズル部7aとして使用すると共に、該半導体ウエハ収納容器2内部に供給された清浄循環ドライエア、またはN2ガスと、半導体ウエハ収納容器2内部の水分、またはケミカルガスに汚染された空気とを置換した後の水分、またはケミカルガスに汚染された空気の排気用のブレスフィルター部5bと、排気用のマグネットノズル7bとして使用される。
図1においては、本発明シャッター付きブレスフィルター装置1を構成するブレスフィルター部5が、半導体ウエハ収納容器2の底板3に2個設置されている例が図示されているが、1個または3個以上設置されていてもよい。
本発明シャッター付きブレスフィルター装置を構成するブレスフィルター部5は、図3に示すように、半導体ウエハ収納容器2の底板3に設置され、大径の通気空間8を備えた円筒体9と、該円筒体9の外周面に密嵌固定する周壁10、および底壁11に小径の通気開口12を備えた断面凹状をしたシャッターケース13とを一体に連結固定して形成されている。
前記円筒体9の通気空間8の上方開口部には、フィルター14が、該フィルター14を下面に固着したリング状の固定枠板15によって圧着固定されると共に、該円筒体9の上方側の外周壁面には、半導体ウエハ収納容器2の底板3に穿設された取付用孔16の内周壁面部に密に挿着固定するためのOリング17を装入する凹溝18が周設され、且つ該凹溝18内にOリング17を装入して、前記Oリング17の外周面部を、前記取付用孔16の内周壁面部に密に圧着して、前記円筒体9を前記底板3に密着して固定することができる。
前記シャッターケース13は、底壁11の中央に小径の通気開口12が穿設されると共に、該通気開口12より径大な断面逆凹状をしたシャッターホルダー19が、前記底壁11上に該通気開口12を囲繞するようにして固定されている。
そして、前記シャッターホルダー19の外周壁面20には、複数個の流通開口21がそれぞれ開口されると共に、天板22の中央下面に、該シャッターホルダー19より小径のリング状のマグネット51とドーナツ板状のシャッター52とを一体に連結して形成されたマグネット付きシャッター4を貫挿すると共に、該マグネット付きシャッター4を上下動させるガイドとなるガイド軸23が垂設固定され、前記外周壁面20、天板22およびマグネット付きシャッター4とで送気空間24が形成され、更に、前記ガイド軸23の下面には該ガイド軸23より径大な磁性体吸引板25が固定されている。
前記ガイド軸23は、前記通気開口12の下端部近くまで延設されると共に、該通気開口12内に位置するガイド軸23に、前記通気開口12の上端縁から間隔を有して前記磁性体吸引板25が固定されている。
また、前記マグネット付きシャッター4を構成するシャッター52は、前記通気開口12より径大に形成され、ブレスフィルター部5の下面に該マグネット付きシャッター4を開放するマグネット付きノズル部7が配設されない場合、すなわち、パージ装置6を使用しない場合、前記マグネット付きシャッター4は磁性体吸引板25によって下方へ吸引されて降下して、前記シャッター52の下面が底壁11に圧着し、前記通気開口12を閉鎖する。
一方、マグネット付きシャッター4を開放するマグネット付きノズル部7は、図4に示すように、通気空間26を備えた筒状の筐体27の上端開口内周面が、前記シャッターケース13の底壁11の下面に設けられた段部28の外周面に密嵌固定できる径に形成されたノズル29を備え、更に、前記筐体27内に、複数個の開口部30を備えた取付板31が横設されると共に、該取付板31の中央にマグネットホルダー32が立設され、且つ該マグネットホルダー32に前記マグネット付きシャッター4と極性を異にするリング状のシャッター開放用マグネット33を固定して形成されている。
すなわち、マグネットホルダー32は、前記リング状のシャッター開放用マグネット33のリング部34を貫挿固定する固定軸35が突設されると共に、該固定軸35の上端に前記シャッター開放用マグネット33が離脱するのを防止するストッパー36が固定されている。なお、前記ストッパー36は、シャッター開放用マグネット33より小径に形成され、該シャッター開放用マグネット33の上端面が、該ストッパー36の外周縁部よりやや露出するように形成されている。
なお、前記マグネット付きノズル部7を構成するノズル29は、前記ブレスフィルター部5との連結時にシール性が保たれるように、弾性を有する材料により形成することが好ましい。
図5は、清浄循環ドライエア、またはN2ガスの供給用のブレスフィルター部5a、および前記清浄循環ドライエア、またはN2ガスに置換された水分、またはケミカルガスに汚染された空気の排気用のブレスフィルター部5bを装着した半導体ウエハ収納容器2の下面に、パージ装置6を配設した状態を示す縦断面図である。すなわち、パージ装置6は、中空部を有する箱型ケーシング37の中央に区画壁38を備え、該区画壁38により区画された一方側を循環ドライエア、またはN2ガスの供給室39とすると共に、他方側を前記置換された水分、またはケミカルガスを含んだ汚染空気の排気室40とし、更に、前記供給室39側の外側壁に循環ドライエア、またはN2ガスの供給口41を開口すると共に、前記排気室40側の外側壁に、前記置換された水分、またはケミカルガスを含んだ汚染空気の排気口42をそれぞれ開口して備えている。なお、図中、2aは、半導体ウエハ収納容器2内に収納されたウエハである。
また、前記パージ装置6は、前記供給室39側のケーシング37の覆板43に、循環ドライエア、またはN2ガス44を、半導体ウエハ収納容器2内へ供給するための供給用開口部45を開口すると共に、該供給用開口部45の外周縁上に供給用のマグネット付きノズル部7aを突設して備えている。
また更に、前記パージ装置6は、前記排気室40側のケーシング37の覆板43に、半導体ウエハ収納容器2からの水分、またはケミカルガスを含んだ汚染空気46を排気するための排気用開口部47を開口すると共に、該排気用開口部47の外周縁上に排気用のマグネット付きノズル部7bを突設して備えている。
前記供給用のマグネット付きノズル部7aおよび排気用のマグネット付きノズル部7bは、半導体ウエハ収納容器2の底板3に設置された供給用のブレスフィルター部5aおよび排気用のブレスフィルター部5bに対応した位置にそれぞれ突設される。
前記構成より成るブレスフィルター部5を、それぞれ供給用のブレスフィルター部5aおよび排気用のブレスフィルター部5bとして装着した半導体ウエハ収納容器2の下面に、図5・6に示すように、前記パージ装置6を配設して、前記各ブレスフィルター部5a・5bを供給用のマグネット付きノズル部7aと排気用のマグネット付きノズル部7b上にそれぞれ位置させると、前記供給用のマグネット付きノズル部7aおよび排気用のマグネット付きノズル部7bを構成する各ノズル29の各上端内周面部が、供給用のブレスフィルター部5aおよび排気用のブレスフィルター部5bを構成する各シャッターケース13の底壁11の下面の段部28の外周面部に密嵌固定して連結される。
そして、前記供給用のブレスフィルター部5aおよび排気用のブレスフィルター部5bを構成する各シャッターケース13の底壁11の下面の段部28の外周面部に密嵌固定して連結されると、前記マグネットノズル部7a・7bを構成するシャッター開放用マグネット33が、前記ブレスフィルター部5a・5bを構成するマグネット付きシャッター4と極性を異にしているため、前記各シャッター開放用マグネット33とマグネット付きシャッター4間に反発力が発生し、その反発力が該マグネット付きシャッター4と磁性体吸引板25の吸引力より勝る状態になったときに、前記マグネット付きシャッター4がガイド軸23に沿って上動して、各通気開口12を開放する。
一方、図示していない循環ドライエア、またはN2ガス供給装置から、供給口41を介して、前記パージ装置6の供給室39内へ供給された循環ドライエア、またはN2ガス44は、該循環ドライエア、またはN2ガス供給装置から送風圧力により、マグネット付きノズル部7aの開口部30から通気空間26を通って、供給用のブレスフィルター部5aの通気開口12を経て、各流通開口21から通気空間8を通り、前記フィルター14により塵を除去されて、清浄循環ドライエア、またはN2ガス48となって半導体ウエハ収納容器2内部に流入して、該半導体ウエハ収納容器2内部の水分、またはケミカルガスを含んだ汚染空気と、前記清浄循環ドライエア、またはN2ガス48とを置換して、前記半導体ウエハ収納容器2内部の清浄度を保持する。
前記半導体ウエハ収納容器2内において清浄循環ドライエア、またはN2ガス48と置換された水分、またはケミカルガスを含んだ汚染空気46は、排気用のブレスフィルター部5bのフィルター14を通して、通気空間8から各流通開口21を経て通気空間12を通って、排気用のマグネット付きノズル部7bの通気空間27および開口部30を経て、パージ装置6の排気室40へ流入し、然る後、排気口42より外部へ排気される。
前記半導体ウエハ収納容器2内部において、清浄循環ドライエア、またはN2ガス48と、水分、またはケミカルガスを含んだ汚染空気46の置換後、該半導体ウエハ収納容器2から前記パージ装置6を取外すと、今迄シャッター開放用マグネット33との反発力により、上方に位置していたブレスフィルター部5a・5bの各マグネット付きシャッター4は、前記反発状態が解除されて、磁性体吸引板25によって下方へ吸引されて降下し、各通気空間12を閉鎖し、前記半導体ウエハ収納容器2内の密閉度が維持される。
1 シャッター付きブレスフィルター装置
2 半導体ウエハ収納容器
3 底板
4 マグネット付きシャッター
5 ブレスフィルター部
6 パージ装置
7 マグネット付きノズル部
8 通気空間
11 底壁
12 通気開口
14 フィルター
25 磁性体吸引板
26 通気空間
27 筐体
33 シャッター開放用マグネット
2 半導体ウエハ収納容器
3 底板
4 マグネット付きシャッター
5 ブレスフィルター部
6 パージ装置
7 マグネット付きノズル部
8 通気空間
11 底壁
12 通気開口
14 フィルター
25 磁性体吸引板
26 通気空間
27 筐体
33 シャッター開放用マグネット
Claims (1)
- 半導体ウエハ収納容器の底板に設置された少なくとも2個のブレスフィルター部と、前記半導体ウエハ収納容器内の水分、またはケミカルガスに汚染された空気を、清浄循環ドライエア、またはN2ガスと置換してパージするパージ装置の前記ブレスフィルター部に対応する位置に、それぞれ設置されたマグネット付きノズル部とにより構成され、
前記ブレスフィルター部は、上端開口部にフィルターを備え、底壁に通気開口を設け、且つ前記通気開口上に、該通気開口よりは径大なマグネット付きシャッターが上下動移動可能に設置されると共に、前記通気開口内に磁性体吸引板を設置して形成され、
前記マグネット付きノズル部は、通気空間を備えた筐体が、前記ブレスフィルター部の下面に密着固定可能に形成されると共に、前記筐体に、前記ブレスフィルター部のマグネット付きシャッターと極性を異にするシャッター開放用マグネットを取付けて形成され、
前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置が配設されていないときは、マグネット付きシャッターが磁性体吸引板により吸引されて下動して、該マグネット付きシャッターが前記通気開口を閉鎖する一方、前記半導体ウエハ収納容器の下面にパージ装置が配設されたときは、前記マグネット付きシャッターとシャッター開放用マグネット間に反発力が発生し、該反発力がマグネット付きシャッターと磁性体吸引板の吸引力より勝る状態になったとき、前記マグネット付きシャッターを上動させて、前記通気開口を開放するようにしたことを特徴とするシャッター付きブレスフィルター装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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JP2007317909A true JP2007317909A (ja) | 2007-12-06 |
Family
ID=38851503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006146376A Pending JP2007317909A (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | シャッター付きブレスフィルター装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2007317909A (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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