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JP2007314742A - Adhesive composition, laminate of the same, and flexible printed wiring board - Google Patents

Adhesive composition, laminate of the same, and flexible printed wiring board Download PDF

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JP2007314742A
JP2007314742A JP2006174523A JP2006174523A JP2007314742A JP 2007314742 A JP2007314742 A JP 2007314742A JP 2006174523 A JP2006174523 A JP 2006174523A JP 2006174523 A JP2006174523 A JP 2006174523A JP 2007314742 A JP2007314742 A JP 2007314742A
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敬一 宇野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive that is for a flexible printed wiring board, gives flame retardancy to the wiring board containing practically neither halogen element nor heavy metal element while satisfying such characteristics as electric insulation property, soldering heat resistance and adhesivity generally required for an adhesive for a flexible printed wiring board, and improves flexibility at a temperature beyond ambient temperature. <P>SOLUTION: The adhesive composition comprises a resin (A), that has a glass transition temperature of 30°C or above, and has a hydroxy group and/or a carboxy group and/or an amino group, these are each reactive with an epoxy resin, and the sum total of a hydroxyl value, an acid value, and an amino value is 2-60 mg KOH/g, a phosphorus-containing epoxy resin (Bp) or/and a mixture (Bm) of a phosphorus compound, having reactivity with an epoxy resin, and an epoxy resin, and an epoxy resin curing agent (C), wherein, a phosphorus content against an organic component in the total solid material is 1-10 wt.%. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、フレキシブルプリント配線板用の金属張積層板やカバーレイフィルム用の接着剤に関し、特にフレキシブルプリント配線板に要求される電気絶縁性、接着性、半田耐熱性、室温以上の温度での屈曲性を満足すると共に、ハロゲンやアンチモンを含まずに難燃性を発現する、高性能且つ環境対応の接着剤組成物、さらに接着剤を含む積層体およびフレキシブルプリント配線板に関する。  The present invention relates to a metal-clad laminate for a flexible printed wiring board and an adhesive for a coverlay film, and in particular, electrical insulation, adhesiveness, solder heat resistance, and room temperature or higher required for the flexible printed wiring board. The present invention relates to a high-performance and environment-friendly adhesive composition that satisfies the flexibility and exhibits flame retardancy without containing halogen or antimony, and further relates to a laminate and an adhesive printed wiring board containing the adhesive.

フレキシブルプリント配線板はポリエステルフィルムやポリイミドフィルムと銅箔を接着剤で貼り合わせた銅張フィルムからエッチング法で回路を形成し、更に回路は接着剤でポリイミドフィルムなどを積層して保護される。この構成からわかるようにフレキシブルプリント配線板の性能は、接着剤層の性能に依存するところが大である。例えば接着剤に半田耐熱性を付与するために高耐熱性の熱硬化性樹脂を使用すると屈曲性や接着性が阻害される。そのために熱硬化性樹脂と零度以下のガラス転移点を有するゴム成分を併用することが一般に行われている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら近年、フレキシブルプリント配線板は、電子機器の発展とともに高性能化が要求されている。例えば半導体チップを直接フレキシブルプリント配線板に搭載するために、従来以上に高い耐熱性が要求され、あるいはハードディスクドライブから要求される屈曲性も室温環境のみならず、機器からの発熱や車載環境に耐えるように80℃以上における屈曲性が要求されるようになってきた。これらに対応して、ゴム成分を耐熱性樹脂で変性する試みがなされている(例えば、特許文献2参照。)。また安全上の観点から接着剤層に難燃性を付与するためにハロゲン化合物とアンチモン化合物が用いられているが、環境問題、健康上の問題からハロゲン不使用化/重金属不使用化が要求されている。そのためにリン化合物が種々検討されているが(例えば、特許文献3参照。)、リン化合物のブリードアウトの問題やリン化合物の加水分解生成物に起因するとされる銅マイグレーションが問題になっている。
特開2005−154512 特開2002−69270 特開2001−339132
A flexible printed wiring board is formed by forming a circuit from a copper-clad film obtained by bonding a polyester film or a polyimide film and a copper foil with an adhesive by an etching method, and the circuit is protected by laminating a polyimide film or the like with an adhesive. As can be seen from this configuration, the performance of the flexible printed wiring board largely depends on the performance of the adhesive layer. For example, if a high heat-resistant thermosetting resin is used to impart solder heat resistance to the adhesive, flexibility and adhesion are hindered. For this purpose, a thermosetting resin and a rubber component having a glass transition point of zero degrees or less are generally used in combination (for example, see Patent Document 1). However, in recent years, flexible printed wiring boards are required to have high performance with the development of electronic devices. For example, in order to directly mount a semiconductor chip on a flexible printed wiring board, higher heat resistance is required than before, or the flexibility required from a hard disk drive can withstand not only room temperature environment but also heat generation from equipment and in-vehicle environment. Thus, flexibility at 80 ° C. or higher has been required. Corresponding to these, attempts have been made to modify the rubber component with a heat-resistant resin (see, for example, Patent Document 2). In addition, halogen compounds and antimony compounds are used to impart flame retardancy to the adhesive layer from the viewpoint of safety. However, the use of halogen-free / heavy metals is required due to environmental and health issues. ing. For this reason, various phosphorus compounds have been studied (for example, see Patent Document 3). However, the problem of bleeding out of phosphorus compounds and copper migration caused by hydrolysis products of phosphorus compounds are problematic.
JP 2005-154512 A JP 2002-69270 A JP 2001-339132 A

フレキシブルプリント配線板の接着剤に要求されている電気絶縁性、半田耐熱性、接着性などの一般の要求特性は満足しながら、且つ上述の近年フレキシブルプリント配線板に要求されているハロゲン不使用、アンチモンなどの重金属不使用で難燃性を付与すること、室温以上の温度における屈曲性を改良することが本発明で解決しようとする課題である。  While satisfying general required characteristics such as electrical insulation, solder heat resistance, and adhesiveness required for the adhesive of the flexible printed wiring board, halogen-free used in the above-mentioned recent flexible printed wiring board, It is a problem to be solved by the present invention to impart flame retardancy without using a heavy metal such as antimony and to improve flexibility at a temperature of room temperature or higher.

上記の課題を解決するために、(1)水酸基又は/およびカルボキシル基又は/およびアミノ基を含み、水酸基価、酸価およびアミン価の総和が、2〜60mgKOH/gの範囲にある樹脂であって、そのガラス転移温度が30℃以上の樹脂(A)、リン原子を含有するエポキシ樹脂(Bp)又は/およびエポキシ樹脂に対する反応性を有するリン化合物とエポキシ樹脂との混合物(Bm)、およびエポキシ樹脂硬化剤(C)を含み、全固形物中の有機分に占めるリンの含有率が、1〜10重量%であることを特徴とする接着剤組成物、(2)接着剤組成物が硬化していることを特徴とする(1)の接着剤組成物、(3)(1)の接着剤組成物が合成樹脂フィルム又は合成樹脂板、又は金属箔又は金属板に積層されている状態であることを特徴とする接着剤組成物の積層体、(4)(2)の接着剤組成物の硬化物が合成樹脂フィルム又は合成樹脂板、又は金属箔又は金属板に積層されている状態であることを特徴とする硬化した接着剤組成物の積層体、(5)(4)の硬化した接着剤組成物の積層体構造を少なくとも一部分含むことを特徴とするフレキシブルプリント配線板を提供する。  In order to solve the above problems, (1) a resin containing a hydroxyl group or / and a carboxyl group or / and an amino group and having a total hydroxyl value, acid value and amine value in the range of 2 to 60 mgKOH / g. A resin (A) having a glass transition temperature of 30 ° C. or higher, an epoxy resin (Bp) containing a phosphorus atom, and / or a mixture of a phosphorus compound and an epoxy resin having reactivity to the epoxy resin (Bm), and an epoxy An adhesive composition containing the resin curing agent (C) and having a phosphorus content of 1 to 10% by weight in the total organic content of the solid, (2) the adhesive composition is cured In the state where the adhesive composition of (1), (3) and (1) are laminated on a synthetic resin film or a synthetic resin plate, or a metal foil or a metal plate, Specially (4) The cured product of the adhesive composition of (2) is in a state of being laminated on a synthetic resin film or a synthetic resin plate, or a metal foil or a metal plate. And a cured printed wiring board comprising at least a part of the laminated structure of the cured adhesive composition of (5) and (4).

更に本発明について説明する。本発明においては、水酸基又は/およびカルボキシル基又は/およびアミノ基を含み、水酸基価、酸価、およびアミン価の総和が、2〜60mgKOH/gの範囲にある樹脂であって、そのガラス転移温度が30℃以上の樹脂(A)を用いる。水酸基やカルボキシル基やアミノ基はエポキシ化合物と反応し、可撓性を担う樹脂部分と、主として耐熱性を担うエポキシ樹脂硬化物部分が化学結合によって一体化し全体が強固な樹脂層を形成する。それによって優れた熱的性質、力学的性質、化学的性質を発揮する。水酸基、カルボキシル基およびアミノ基の総和が2mgKOH/g樹脂未満であるとエポキシ化合物による樹脂の架橋の程度が低くなり、半田耐熱性が不足する。逆に60mgKOH/g樹脂を越えると接着剤組成物のポットライフやコーティング物のシェルフライフが低下する他、架橋の程度が高くなり、固くて脆い構造となり、接着性や屈曲性が悪くなる。  Further, the present invention will be described. In the present invention, the resin contains a hydroxyl group or / and a carboxyl group or / and an amino group, and has a total hydroxyl value, acid value, and amine value in the range of 2 to 60 mgKOH / g, and its glass transition temperature. Uses a resin (A) of 30 ° C. or higher. Hydroxyl groups, carboxyl groups, and amino groups react with the epoxy compound, and the resin part responsible for flexibility and the cured epoxy resin part mainly responsible for heat resistance are integrated by chemical bonding to form a strong resin layer as a whole. It exhibits excellent thermal, mechanical, and chemical properties. If the sum of the hydroxyl group, carboxyl group and amino group is less than 2 mg KOH / g resin, the degree of crosslinking of the resin by the epoxy compound is lowered, and the solder heat resistance is insufficient. On the other hand, if the resin exceeds 60 mgKOH / g resin, the pot life of the adhesive composition and the shelf life of the coating are decreased, the degree of crosslinking is increased, the structure is hard and brittle, and the adhesiveness and flexibility are deteriorated.

また本発明ではガラス転移温度が30℃以上の樹脂を用いる。接着剤層のガラス転移温度は、樹脂(A)のエポキシ化合物による架橋の密度や架橋部の構造によって左右されることは勿論であるが、架橋密度や架橋部の構造が同じであっても樹脂(A)部分の特性が回路の屈曲性に反映されることがわかった。つまり、樹脂(A)のガラス転移温度以上では繰り返し屈曲によって形成される金属表面の微小なクラックの成長を阻止できるだけの接着剤層の硬さが不足し、回路の繰り返し屈曲性が悪くなるのである。室温以上の温度において高い屈曲性を付与するためには、樹脂(A)のガラス転移温度は30℃以上、好ましくは80℃以上、更に好ましくは100℃以上が必要であり、室温以下のガラス転移温度を有するゴム成分を含むことは好ましくない。  In the present invention, a resin having a glass transition temperature of 30 ° C. or higher is used. It goes without saying that the glass transition temperature of the adhesive layer depends on the density of crosslinking by the epoxy compound of the resin (A) and the structure of the crosslinked part, but even if the crosslinking density and the structure of the crosslinked part are the same, the resin It was found that the characteristics of the part (A) are reflected in the flexibility of the circuit. That is, when the temperature is higher than the glass transition temperature of the resin (A), the adhesive layer is not hard enough to prevent the growth of minute cracks on the metal surface formed by repeated bending, and the repeated flexibility of the circuit deteriorates. . In order to impart high flexibility at a temperature of room temperature or higher, the glass transition temperature of the resin (A) needs to be 30 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher. It is not preferable to include a rubber component having a temperature.

本発明に用いる樹脂(A)は水酸基又は/およびカルボキシル基又は/およびアミノ基を含有する、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ポリカーボネートウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂などを挙げることが出来、これらのうち水酸基価、酸価、アミン価の総和(水酸基価、酸価、アミン価の少なくとも1つ以外が0でもよい)が2〜60mgKOH/gで、且つガラス転移温度が30℃以上の樹脂である。中でもリン原子や窒素原子を含む樹脂が難燃性付与の観点から望ましく、リン含有ジオールを共重合したポリエステル樹脂やポリエステルウレタン樹脂、ポリカーボネートウレタン樹脂、あるいはポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂が好ましい。全固形物中の有機分に対する樹脂(A)成分の割合は5重量%〜95重量%である。5重量%未満では、接着性や屈曲性を満足出来ず、95重量%を越えると耐熱性が不足する。  Examples of the resin (A) used in the present invention include a polyester resin, a polycarbonate resin, a polyester urethane resin, a polycarbonate urethane resin, a polyamide resin, a polyamideimide resin, and a polyimide resin containing a hydroxyl group or / and a carboxyl group or / and an amino group. Of these, the total of hydroxyl value, acid value, and amine value (other than at least one of hydroxyl value, acid value, and amine value may be 0) is 2 to 60 mgKOH / g, and the glass transition temperature is 30 Resin having a temperature of ℃ or higher. Among them, a resin containing a phosphorus atom or a nitrogen atom is desirable from the viewpoint of imparting flame retardancy, and a polyester resin, a polyester urethane resin, a polycarbonate urethane resin, a polyamideimide resin, or a polyimide resin obtained by copolymerizing a phosphorus-containing diol is preferable. The ratio of the resin (A) component to the organic content in the total solid is 5% by weight to 95% by weight. If it is less than 5% by weight, the adhesiveness and flexibility cannot be satisfied, and if it exceeds 95% by weight, the heat resistance is insufficient.

本発明に用いられるリン原子を含むエポキシ樹脂(Bp)とは、通常のエポキシ樹脂に対する反応性を有するリン化合物をエポキシ樹脂と反応させて得られたリン原子が化学結合しているエポキシ樹脂である。具体的には、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドもしくはその誘導体とエポキシ樹脂との反応物、1,4−シクロオクチレンホスフィンオキサイドや1,5−シクロオクチレンホスフィンオキサイドとエポキシ樹脂との反応物、n−ブチル−ビス(3−ヒドロキシプロピル)ホスフィンオキサイドやトリス(3−ヒドロキシプロピル)ホスフィンオキサイドとエポキシ樹脂との反応物などを挙げることが出来る。またリン原子の結合したエポキシ樹脂を別途作製して、それを用いる代わりにエポキシ樹脂に対する反応性を有する上記の様なリン化合物とエポキシ樹脂の混合物(Bm)を直接用いても良い。全固形物中の有機分に対するエポキシ樹脂の割合は5〜80重量%である。5重量%未満では、半田耐熱性を満足出来ず、80重量%を越えると接着性、屈曲性が悪くなり不都合である。全固形物中の有機分に対する、リン原子の含有率は1〜10重量%であり、1重量%未満では充分な難燃性が発現せず、10重量%を超えると接着性などの特性を阻害し不都合である。全固形物中の有機分に占めるリン原子の含有率は、2〜5重量%が好ましい。エポキシ樹脂の使用量と全固形物中に占めるリン原子の含有率を調整するためにリン原子を含まぬエポキシ樹脂を併用することは何ら差し支えない。  The epoxy resin (Bp) containing phosphorus atoms used in the present invention is an epoxy resin in which phosphorus atoms obtained by reacting a phosphorus compound having reactivity with a normal epoxy resin with an epoxy resin are chemically bonded. . Specifically, a reaction product of 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide or a derivative thereof and an epoxy resin, 1,4-cyclooctylene phosphine oxide or 1,5-cyclohexane Examples include a reaction product of octylene phosphine oxide and an epoxy resin, a reaction product of n-butyl-bis (3-hydroxypropyl) phosphine oxide, tris (3-hydroxypropyl) phosphine oxide and an epoxy resin, and the like. Further, instead of separately preparing an epoxy resin having phosphorus atoms bonded thereto, a mixture (Bm) of the above phosphorus compound and epoxy resin having reactivity to the epoxy resin may be directly used. The ratio of the epoxy resin to the organic content in the total solid is 5 to 80% by weight. If it is less than 5% by weight, the solder heat resistance cannot be satisfied, and if it exceeds 80% by weight, the adhesiveness and the flexibility are deteriorated. The content of phosphorus atoms with respect to the organic content in the entire solid is 1 to 10% by weight. If the content is less than 1% by weight, sufficient flame retardancy is not exhibited. It is inconvenient and disturbing. As for the content rate of the phosphorus atom which occupies for the organic content in all the solid substances, 2 to 5 weight% is preferable. In order to adjust the amount of the epoxy resin used and the phosphorus atom content in the total solid, it is possible to use an epoxy resin containing no phosphorus atom in combination.

本発明で使用出来るエポキシ樹脂はポリフェノール化合物、例えば、ビスフェノールAおよびそのアルキル置換体、ビスフェノールFおよびそのアルキル置換体、ビスフェノールSおよびそのアルキル置換体、各種ノボラック樹脂、フルオレン骨格を有するフェノール類などのグリシジルエーテル化物、その他に脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、などが挙げられる。  Epoxy resins that can be used in the present invention are polyphenol compounds such as glycidyl such as bisphenol A and its alkyl-substituted products, bisphenol F and its alkyl-substituted products, bisphenol S and its alkyl-substituted products, various novolak resins, and phenols having a fluorene skeleton. Examples include etherified products, alicyclic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester epoxy resins, glycidyl amine epoxy resins, and the like.

本発明に用いられるエポキシ樹脂硬化剤(C)として、酸無水物、フェノール類、アミン類、イソシアネート類、ブロックイソシアネート類などがあり、中でも本発明に用いる樹脂(A)と反応できる酸無水物系、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、アルキレングリコール無水トリメリット酸エステルなどが好ましい。またアミン類、例えば、ジアミノジフェニルメタンなどの芳香族アミン、エチレンジアミンなどの脂肪族アミン類、ジシアンジアミド、ジフェニルメタンジイソシアネートなど窒素原子を含む硬化剤も難燃性付与の観点から望ましい。またこれらの硬化剤を混合して使用することもできる。これらの硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基の当量数に対して通常0.1〜2、好ましくは0.2〜1.5である。  Examples of the epoxy resin curing agent (C) used in the present invention include acid anhydrides, phenols, amines, isocyanates, blocked isocyanates, etc. Among them, acid anhydride systems that can react with the resin (A) used in the present invention. For example, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, alkylene glycol trimellitic anhydride ester and the like are preferable. Further, from the viewpoint of imparting flame retardancy, amines, for example, aromatic amines such as diaminodiphenylmethane, aliphatic amines such as ethylenediamine, and curing agents containing nitrogen atoms such as dicyandiamide and diphenylmethane diisocyanate are also desirable. Moreover, these hardeners can also be mixed and used. The usage-amount of these hardening | curing agents is 0.1-2 normally with respect to the equivalent number of the epoxy group of an epoxy resin, Preferably it is 0.2-1.5.

また硬化触媒あるいは硬化促進剤として、置換イミダゾール類、例えば2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾールなど、3級アミン類、ホスフィン類、ルイス酸錯体などを併用することもできる。これらはエポキシ樹脂100重量部に対して通常0.01〜3重量部使用する。  Further, substituted imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, tertiary amines, phosphines, Lewis acid complexes, etc. are used in combination as curing catalysts or curing accelerators. You can also. These are usually used in an amount of 0.01 to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

本発明の接着剤組成物には、必要に応じて他の有機物、無機物、金属などを添加して使用することができる。例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、アルミン酸マグネシウム、アルミン酸カルシウムなどの無機難燃剤、シリカ、アルミナ、タルク、ガラスビーズなどの無機充填剤、ガラス繊維、シリカ繊維、アルミナ繊維、シリカアルミナ繊維などの無機補強繊維、アラミド繊維、ポリエステル繊維などの有機補強繊維、黒鉛、ケッチェンブラック、銀粉、銅粉、アルミニウム粉、炭素繊維、金属繊維などの導電剤、シランカップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤などのカップリング剤、リン系接着性改良剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、チキソトロピー付与剤、帯電防止剤、消泡剤、滑剤などを配合することができる。  In the adhesive composition of the present invention, other organic substances, inorganic substances, metals, and the like can be added and used as necessary. For example, inorganic flame retardant such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, magnesium aluminate, calcium aluminate, inorganic filler such as silica, alumina, talc, glass beads, glass fiber, silica fiber, alumina fiber, silica alumina fiber, etc. Inorganic reinforcing fiber, organic reinforcing fiber such as aramid fiber, polyester fiber, graphite, ketjen black, silver powder, copper powder, aluminum powder, carbon fiber, metal fiber and other conductive agents, silane coupling agent, titanium-based coupling agent Coupling agents such as aluminum-based coupling agents, phosphorus-based adhesion improvers, antioxidants, ultraviolet absorbers, thixotropic agents, antistatic agents, antifoaming agents, lubricants, and the like can be blended.

本発明の接着剤組成物は、樹脂(A)、リン原子を含有するエポキシ樹脂(Bp)又は/およびエポキシ樹脂に対する反応性を有するリン化合物とエポキシ樹脂との混合物(Bm)、エポキシ樹脂硬化剤(C)、他の添加剤を溶剤に溶解又は均一に分散させた接着剤溶液又は/および分散液として使用する。溶媒としてはメチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングライコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶剤、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、エチルセロソルブなどのアルコール系溶剤、ジメチルホルムアマイド、ジメチルアセトアマイド、N−メチル−2−ピロリドンなどの非プロトン性極性溶剤およびこれらの2種以上の混合溶媒が使用できる。接着剤溶液又は分散液(ワニス)の固形分濃度は通常5重量%〜90重量%である。所望する乾燥後の接着剤層の厚さやコーティング適性、乾燥設備、生産性などを勘案して適宜選択できる。  The adhesive composition of the present invention includes a resin (A), an epoxy resin (Bp) containing a phosphorus atom, and / or a mixture of a phosphorus compound having reactivity with an epoxy resin and an epoxy resin (Bm), an epoxy resin curing agent. (C) It is used as an adhesive solution or / and a dispersion in which other additives are dissolved or uniformly dispersed in a solvent. Solvents include ketone solvents such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and ethylene glycol dimethyl ether, alcohol solvents such as ethyl alcohol, isopropyl alcohol and ethyl cellosolve, Aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and a mixed solvent of two or more of these can be used. The solid content concentration of the adhesive solution or dispersion (varnish) is usually 5% by weight to 90% by weight. It can be appropriately selected in consideration of the desired thickness of the adhesive layer after drying, coating suitability, drying equipment, productivity, and the like.

接着剤溶液又は分散液(ワニス)を合成樹脂フィルム、金属箔などにコーティングし、溶剤を乾燥させ、その上に他のフィルム、金属箔、紙などを貼り合わせて使用できる。コーティングは既存のコーターを適用できるが、特にコンマコーター、リーバースロールコーターが好ましい。乾燥はコーターの乾燥ゾーンで行い、通常40〜180℃で1分〜30分加熱し溶剤を除去し、接着剤層を形成する。乾燥後の接着剤層の厚さは、通常5〜50μmである。この段階では熱可塑性を保持しており(B−ステージ)、引き続き他の基材と重ね、ロールラミネーター又は平板ヒートプレス機により貼り合わせることができる。貼り合わせる両方の基材にコーティングすることもできる。プレス条件は通常、50〜200℃、0.1〜5MPaで、10秒〜30分である。さらに50〜150℃で1時間〜24時間加熱し、後硬化を行うこともできる。  An adhesive solution or dispersion (varnish) can be coated on a synthetic resin film, metal foil, etc., the solvent can be dried, and another film, metal foil, paper, etc. can be bonded to it. As the coating, an existing coater can be applied, but a comma coater and a reverse roll coater are particularly preferable. Drying is performed in the drying zone of the coater, and the solvent is usually removed by heating at 40 to 180 ° C. for 1 to 30 minutes to form an adhesive layer. The thickness of the adhesive layer after drying is usually 5 to 50 μm. At this stage, the thermoplasticity is maintained (B-stage), and it can be continuously laminated with another substrate and bonded by a roll laminator or a flat plate heat press. It is also possible to coat both substrates to be bonded. The pressing conditions are usually 50 to 200 ° C. and 0.1 to 5 MPa, and 10 seconds to 30 minutes. Further, post-curing can be performed by heating at 50 to 150 ° C. for 1 to 24 hours.

本発明の接着剤組成物は、フレキシブルプリント配線板用基板、カバーレイフィルム、ボンディングシート、導電ペーストのバインダーなどのフレキシブルプリント配線板関連材料用の接着剤として適する。フレキシブルプリント配線板用基板は電気絶縁性フィルム/接着剤層/金属箔の3層積層体が基本構造であり、接着剤層の厚さは通常5〜30μmである。カバーレイフィルムは電気絶縁性フィルム/接着剤層/離型性フィルム(又は離型紙)の3層積層体である。接着剤層の厚さは通常20〜90μmであるが、回路の厚さにより適宜選択する。ドライフィルムタイプのカバーレイに適用する場合は、離型性フィルム/接着剤層/離型性フィルム(又は離型紙)の3層積層体であり、接着剤層が絶縁性フィルムの機能も兼ねるため、接着剤層の厚さは若干厚めで通常30〜100μmであるが回路の厚さにより適宜選択する。ボンディングシートは通常、離型性フィルム/接着剤層/離型性フィルム(又は離型紙)の3層積層体であり、接着剤層の厚さは、通常20〜50μmである。また、金属箔/接着剤層/離型性フィルム(又は離型紙)の3層積層体はビルドアップ多層配線板用の材料として、金属箔/接着剤層の2層積層体は2層プリント配線基板としても適用できる。  The adhesive composition of the present invention is suitable as an adhesive for flexible printed wiring board-related materials such as flexible printed wiring board substrates, coverlay films, bonding sheets, and binders for conductive pastes. The substrate for a flexible printed wiring board has a basic structure of a three-layer laminate of an electrically insulating film / adhesive layer / metal foil, and the thickness of the adhesive layer is usually 5 to 30 μm. The coverlay film is a three-layer laminate of an electrical insulating film / adhesive layer / release film (or release paper). The thickness of the adhesive layer is usually 20 to 90 μm, but is appropriately selected depending on the thickness of the circuit. When applied to a dry film type coverlay, it is a three-layer laminate of a release film / adhesive layer / release film (or release paper), and the adhesive layer also functions as an insulating film. The thickness of the adhesive layer is slightly thick and is usually 30 to 100 μm, but is appropriately selected depending on the thickness of the circuit. The bonding sheet is usually a three-layer laminate of release film / adhesive layer / release film (or release paper), and the thickness of the adhesive layer is usually 20 to 50 μm. In addition, a three-layer laminate of metal foil / adhesive layer / releasing film (or release paper) is used as a material for build-up multilayer wiring boards, and a two-layer laminate of metal foil / adhesive layer is a two-layer printed wiring. It can also be applied as a substrate.

上記の電気絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリアリーレンエステルフィルム、ポリアラミドフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムなどが挙げられる。フィルムの厚さは通常12.5μm〜100μmであるが、補強板として用いられる場合はさらに厚手のものも使用される。さらに補強板としてエポキシ樹脂板、フェノール樹脂板、メラミン樹脂板なども使用される。上記の金属箔としては、電解銅箔、圧延銅箔、アルミニウム箔、ステンレス鋼箔などが挙げられる。金属箔の厚さは通常9μm〜70μmであるが、補強板として使用される場合はさらに厚手のものが使用される。離型性フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリメチルペンテン系フィルムやポリエステルフィルムにシリコーン系又は/およびフッ素系の離型剤を塗布したものなどが挙げられる。離型紙としてはポリエチレンコート紙、ポリエチレンコート紙にさらにシリコーン系又は/およびフッ素系離型剤をコートしたものなどを挙げることができる。  Examples of the electrical insulating film include a polyimide film, a polyester film, a polyarylene ester film, a polyaramid film, and a polyphenylene sulfide film. The thickness of the film is usually 12.5 μm to 100 μm, but a thicker one is also used when used as a reinforcing plate. Further, an epoxy resin plate, a phenol resin plate, a melamine resin plate or the like is also used as a reinforcing plate. Examples of the metal foil include electrolytic copper foil, rolled copper foil, aluminum foil, and stainless steel foil. The thickness of the metal foil is usually 9 μm to 70 μm, but a thicker one is used when used as a reinforcing plate. Examples of the releasable film include a polyethylene film, a polypropylene film, a polymethylpentene film or a polyester film coated with a silicone-based and / or fluorine-based release agent. Examples of the release paper include polyethylene-coated paper, polyethylene-coated paper and a silicone-based and / or fluorine-based release agent.

本発明の効果は、フレキシブルプリント配線板材料用接着剤に要求される基本特性(電気絶縁性、接着性、半田耐熱性など)を満たしながら、さらに、ハロゲンや重金属類などの環境に悪影響を与える物質を含まず、かつリン化合物の染み出しや分解物による銅マイグレーションを抑制して難燃性を発現すること、および室温以上の温度における屈曲性を改良することを実現した点に示される。  The effects of the present invention satisfy the basic characteristics (electrical insulation, adhesiveness, solder heat resistance, etc.) required for the adhesive for flexible printed wiring board materials, and further adversely affect the environment such as halogens and heavy metals. This is because it contains no substances and suppresses copper migration due to phosphorus compound exudation and decomposition products to exhibit flame retardancy and to improve flexibility at a temperature above room temperature.

以下に実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。実施例を記載する前に評価方法について記す。
(1)樹脂の水酸基価、酸価、アミン価 酸価は所定量の樹脂をクロロホルムに溶解し、水酸化カリウムのエタノール溶液で滴定。水酸基価は所定量の樹脂をクロロホルムに溶解し、所定量の無水酢酸を添加して、水酸基を酢酸エステルに変換後、残存する酸を水酸化カリウムのエタノール溶液で滴定する。無水酢酸の酸当量−残存酸当量より計算で求める。アミン価は所定量の樹脂をクロロホルムに溶解し、塩酸のエタノール溶液で滴定し、当量KOHに換算する。
(2)樹脂のガラス転移温度 示差走査熱量計(DSC)を用い、20℃/分で測定。
(3)評価用試料の作製 接着剤組成物の溶液又は/および分散液を調整する。但し実施例1〜3においては、溶媒としてメチルエチルケトン/トルエン/ジメチルホルムアマイド=40/40/20(重量比)を用い、固形分濃度46重量%に、比較例1〜2においては、溶媒としてメチルエチルケトン/トルエン=80/20(重量比)を用い、固形分濃度46重量%に調整して使用する。本溶液又は/および分散液を35μmの電解銅箔(古河サーキットフォイル(株)製 F2−WS箔の処理面に塗工し、150℃で5分間熱風乾燥後、25μmのポリイミドフィルム(東レデュポン(株)製 カプトン100H)をロールラミネーションする。さらに160℃、3MPaで30分間、熱プレス後、120℃で12時間、硬化を行い、銅張フィルムを作製する。なお接着剤層の厚さは15μmである。
(4)半田耐熱性 25mm×25mmサイズの銅張フィルムを40℃、90%RHで24時間、調湿後、直ちに260℃の噴流半田浴に20秒間浮かべ、膨れ、剥がれなどを観察し、膨れ、剥がれなどがないとき、OK(良)とする。他はNG(不良)とする。
(5)接着強度 1cm幅の試料を、5cm/分で銅箔を引っ張り、180度剥離する。
(6)耐折強度 1cm幅の試料を用い、MIT試験機(JIS P8115)を用い、屈曲半径 0.8mm、荷重 5N、50℃で、クラックが発生するまでの回数を記録する。
(7)難燃性 5mm幅の全面エッチングした試料を垂直に保ち、下部からタバコ用ライターの炎で着火後、ライターの炎を離し、延焼程度を観察する。5秒以内で消火する場合をOK(良)とし、他はNG(不良)とする。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. An evaluation method will be described before describing examples.
(1) Resin hydroxyl value, acid value, amine value The acid value was determined by dissolving a predetermined amount of resin in chloroform and titrating with an ethanol solution of potassium hydroxide. The hydroxyl value is obtained by dissolving a predetermined amount of resin in chloroform, adding a predetermined amount of acetic anhydride to convert the hydroxyl group into acetate ester, and titrating the remaining acid with an ethanol solution of potassium hydroxide. Calculated from the acid equivalent of acetic anhydride-residual acid equivalent. The amine value is obtained by dissolving a predetermined amount of resin in chloroform, titrating with hydrochloric acid in ethanol, and converting to equivalent KOH.
(2) Glass transition temperature of resin Measured at 20 ° C./min using a differential scanning calorimeter (DSC).
(3) Preparation of sample for evaluation The solution or / and dispersion liquid of an adhesive composition are adjusted. However, in Examples 1 to 3, methyl ethyl ketone / toluene / dimethylformamide = 40/40/20 (weight ratio) was used as the solvent, and the solid content concentration was 46% by weight. In Comparative Examples 1 and 2, methyl ethyl ketone was used as the solvent. / Toluene = 80/20 (weight ratio) is used by adjusting the solid content concentration to 46% by weight. This solution or / and dispersion was applied to a treated surface of 35 μm electrolytic copper foil (F2-WS foil manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.), dried with hot air at 150 ° C. for 5 minutes, and then 25 μm polyimide film (Toray DuPont ( Co., Ltd. Kapton 100H) is roll-laminated and further cured at 160 ° C. and 3 MPa for 30 minutes, after hot pressing, and then cured at 120 ° C. for 12 hours to produce a copper-clad film.The thickness of the adhesive layer is 15 μm. It is.
(4) Solder heat resistance A 25 mm x 25 mm size copper-clad film is conditioned at 40 ° C and 90% RH for 24 hours, then immediately floated in a 260 ° C jet solder bath for 20 seconds, swelled, peeled off, etc. When there is no peeling, it is determined as OK. The others are NG (defective).
(5) Adhesive strength A sample with a width of 1 cm is pulled at a rate of 5 cm / min, and peeled 180 degrees.
(6) Folding strength Using a sample with a width of 1 cm, using a MIT testing machine (JIS P8115), record the number of times until a crack occurs at a bending radius of 0.8 mm, a load of 5 N, and 50 ° C.
(7) Flame retardancy Keep the 5mm wide etched sample vertically, ignite with a cigarette lighter flame from the bottom, release the lighter flame, and observe the extent of fire spread. If the fire is extinguished within 5 seconds, OK (good), otherwise NG (bad).

ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)製バイロン226、官能基数総和21mgKOH/g、ガラス転移温度65℃)60g、エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製jER154)40g、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド 35g、テトラヒドロ無水フタル酸 6g、触媒としてトリフェニルホスフィン 0.02g、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.7gを含む接着剤溶液を用い、前記の方法で銅張フィルムを作製した。評価結果を表1に記す。  60 g of polyester resin (Byron 226 manufactured by Toyobo Co., Ltd., total number of functional groups 21 mg KOH / g, glass transition temperature 65 ° C.), 40 g of epoxy resin (jER154 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 9,10-dihydro-9-oxa -10-phosphaphenanthrene-10-oxide 35g, tetrahydrophthalic anhydride 6g, triphenylphosphine 0.02g as a catalyst, and an adhesive solution containing 2-ethyl-4-methylimidazole 0.7g A copper clad film was prepared. The evaluation results are shown in Table 1.

ポリエステルウレタン樹脂(東洋紡績(株)バイロンUR−8200、官能基数総和6mgKOH/g、ガラス転移温度 73℃)固形分として50g、エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)jER154)33g、n−ブチル−ビス(3−ヒドロキシプロピル)ホスフィンオキサイド 35g、テトラヒドロ無水フタル酸 10g、トリフェニルホスフィン 0.02g、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.7gを含む接着剤溶液を用い、前記の方法で銅張フィルムを作製した。評価結果を表1に記す。  Polyester urethane resin (Toyobo Co., Ltd. Byron UR-8200, total number of functional groups 6 mgKOH / g, glass transition temperature 73 ° C.) 50 g as solids, epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. jER154) 33 g, n-butyl-bis Using an adhesive solution containing 35 g of (3-hydroxypropyl) phosphine oxide, 10 g of tetrahydrophthalic anhydride, 0.02 g of triphenylphosphine, and 0.7 g of 2-ethyl-4-methylimidazole, the copper-clad film was formed by the above method. Produced. The evaluation results are shown in Table 1.

温度計、攪拌機、還流式冷却管および蒸留管を具備した反応容器に、ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)バイロン885)100g、トルエン70gを仕込み溶解後、トルエン20gを蒸留させ、トルエン/水の共沸により反応系を脱水した。60℃まで冷却後、メチルエチルケトン50gおよび含リンポリオール(旭電化工業(株)製FC−450)15gを加えた。この溶液にヘキサメチレンジイソシアネート8g、反応触媒としてジブチル錫ジラウレート0.4gを加え、80℃で3時間反応させた後、トルエン93.5gおよびメチルエチルケトン93.5gを加え、固形分濃度を30重量%に調整し、含リンポリエステルウレタン樹脂の溶液を作製した。本含リンポリエステルウレタン樹脂(官能基数総和40mgKOH/g、ガラス転移温度60℃)固形分として60g、エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)jER154)50g、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド 30g、テトラヒドロ無水フタル酸 6g、トリフェニルホスフィン0.02g、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.7gを含む接着剤溶液を用い、前記の方法で銅張フィルムを作製した。評価結果を表1に記す。  A reaction vessel equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser and distillation tube was charged with 100 g of a polyester resin (Toyobo Co., Ltd. Byron 885) and 70 g of toluene, dissolved, and then 20 g of toluene was distilled off. The reaction system was dehydrated by boiling. After cooling to 60 ° C., 50 g of methyl ethyl ketone and 15 g of a phosphorus-containing polyol (FC-450 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) were added. To this solution was added 8 g of hexamethylene diisocyanate and 0.4 g of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst. After reacting at 80 ° C. for 3 hours, 93.5 g of toluene and 93.5 g of methyl ethyl ketone were added to make the solid content concentration 30% by weight. A solution of phosphorus-containing polyester urethane resin was prepared. This phosphorus-containing polyester urethane resin (total number of functional groups: 40 mgKOH / g, glass transition temperature: 60 ° C.) 60 g as a solid content, epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. jER154) 50 g, 9,10-dihydro-9-oxa-10- Using an adhesive solution containing 30 g of phosphaphenanthrene-10-oxide, 6 g of tetrahydrophthalic anhydride, 0.02 g of triphenylphosphine, and 0.7 g of 2-ethyl-4-methylimidazole, a copper-clad film is produced by the above method. did. The evaluation results are shown in Table 1.

比較例1Comparative Example 1

ポリエステルウレタン樹脂(東洋紡績(株)バイロンUR−3500、官能基数総和45mgKOH/g、ガラス転移温度10℃)固形分として50g、エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)jER154)25g、エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)jER871)25g、テトラヒドロ無水フタル酸 6g、触媒として、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.7gを含む接着剤溶液を用い、前記の方法で銅張フィルムを作製した。評価結果を表1に記す。  Polyester urethane resin (Toyobo Co., Ltd. Byron UR-3500, total number of functional groups 45 mg KOH / g, glass transition temperature 10 ° C.) 50 g as solid content, epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. jER154) 25 g, epoxy resin (Japan Epoxy) Resin Co., Ltd. jER871) 25 g, tetrahydrophthalic anhydride 6 g, and an adhesive solution containing 0.7 g of 2-ethyl-4-methylimidazole as a catalyst was used to prepare a copper-clad film by the above method. The evaluation results are shown in Table 1.

比較例2Comparative Example 2

ニトリルブタジエンゴム(NBR)(日本ゼオン(株)ニポール1072J、官能基数総和39mgKOH/g、ガラス転移温度 −35℃)40g、エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)jER154)30g、エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)jER871)30g、テトラヒドロ無水フタル酸 6g、触媒として2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.7gを含む接着剤溶液を用い、前記の方法で銅張フィルムを作製した。評価結果を表1に記す。

Figure 2007314742
Nitrile Butadiene Rubber (NBR) (Nippon Zeon Co., Ltd. Nipol 1072J, total functional group 39 mg KOH / g, glass transition temperature -35 ° C.) 40 g, epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. jER154) 30 g, epoxy resin (Japan Epoxy Resin) A copper-clad film was prepared by the above-mentioned method using an adhesive solution containing 30 g of jER871), 6 g of tetrahydrophthalic anhydride, and 0.7 g of 2-ethyl-4-methylimidazole as a catalyst. The evaluation results are shown in Table 1.
Figure 2007314742

Claims (5)

水酸基又は/およびカルボキシル基又は/およびアミノ基を含み、水酸基価、酸価およびアミン価の総和が、2〜60mgKOH/gの範囲にある樹脂であって、そのガラス転移温度が30℃以上の樹脂(A)、リン原子を含有するエポキシ樹脂(Bp)又は/およびエポキシ樹脂に対する反応性を有するリン化合物とエポキシ樹脂との混合物(Bm)、およびエポキシ樹脂硬化剤(C)を含み、全固形物中の有機分に占めるリンの含有率が、1〜10重量%であることを特徴とする接着剤組成物。  Resin containing a hydroxyl group or / and a carboxyl group or / and an amino group and having a total hydroxyl value, acid value, and amine value in the range of 2 to 60 mgKOH / g and having a glass transition temperature of 30 ° C. or higher (A), an epoxy resin (Bp) containing a phosphorus atom, and / or a mixture of a phosphorus compound having reactivity with an epoxy resin and an epoxy resin (Bm), and an epoxy resin curing agent (C), all solids An adhesive composition, wherein the content of phosphorus in the organic content is 1 to 10% by weight. 接着剤組成物が硬化していることを特徴とする請求項1記載の接着剤組成物。  The adhesive composition according to claim 1, wherein the adhesive composition is cured. 接着剤組成物が合成樹脂フィルム又は合成樹脂板、又は金属箔又は金属板に積層されている状態であることを特徴とする請求項1記載の接着剤組成物の積層体。  The laminate of an adhesive composition according to claim 1, wherein the adhesive composition is in a state of being laminated on a synthetic resin film or a synthetic resin plate, or a metal foil or a metal plate. 接着剤組成物の硬化物が合成樹脂フィルム又は合成樹脂板、又は金属箔又は金属板に積層されている状態であることを特徴とする請求項2記載の硬化している接着剤組成物の積層体。  The cured adhesive composition according to claim 2, wherein the cured adhesive composition is in a state of being laminated on a synthetic resin film or a synthetic resin plate, or a metal foil or a metal plate. body. 請求項4記載の積層体構造を少なくとも一部分含むことを特徴とするフレキシブルプリント配線板。  A flexible printed wiring board comprising at least a part of the laminate structure according to claim 4.
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