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JP2007296425A - Pattern forming method, droplet ejecting apparatus and circuit module - Google Patents

Pattern forming method, droplet ejecting apparatus and circuit module Download PDF

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JP2007296425A
JP2007296425A JP2006124096A JP2006124096A JP2007296425A JP 2007296425 A JP2007296425 A JP 2007296425A JP 2006124096 A JP2006124096 A JP 2006124096A JP 2006124096 A JP2006124096 A JP 2006124096A JP 2007296425 A JP2007296425 A JP 2007296425A
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Japan
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droplet
substrate
along
laser
droplet discharge
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JP2006124096A
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Hirotsuna Miura
弘綱 三浦
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method by which the drying efficiency of droplets is improved to reduce the forming defect of a pattern comprising the droplets, a droplet ejecting apparatus and a circuit module. <P>SOLUTION: Laser beam Le emitted from a semiconductor laser LD is led to an irradiation position along the tangential direction of a pattern forming surface 4Sa by a reflection mirror 27 mounted on a carriage 20. A controlling means scans the droplets Fb landed on the pattern forming surface 4Sa along the scanning direction to make the laser beam Le incident on the end part of the droplets Fb positioned at an irradiation position Pe. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、パターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュールに関する。   The present invention relates to a pattern forming method, a droplet discharge device, and a circuit module.

近年、半導体素子などの電子部品を搭載する回路モジュールには、ガラスセラミックからなる低温焼成セラミックス多層基板(Low Temperature Co−fired Ceramics:LTCC多層基板)を有するものが知られている。LTCC多層基板は、積層したグリーンシートを900℃以下の低温で焼成できるため、内部配線に銀や金などの低融点金属を使用することができ、内部配線の低抵抗化を図ることができる。   2. Description of the Related Art In recent years, circuit modules on which electronic components such as semiconductor elements are mounted include those having a low temperature co-fired ceramic multilayer substrate (Low Temperature Co-fired Ceramics: LTCC multilayer substrate). Since the LTCC multilayer substrate can fire the laminated green sheets at a low temperature of 900 ° C. or lower, a low melting point metal such as silver or gold can be used for the internal wiring, and the resistance of the internal wiring can be reduced.

こうしたLTCC多層基板の製造工程では、金属ペーストや金属インクを利用し、積層する前の各グリーンシート上に配線パターンを描画する。この描画方法として、特許文献1は、金属インクを微小な液滴にして吐出する、いわゆるインクジェット法を提案している。インクジェット法は、微小な液滴を接合して配線パターンを描画するため、内部配線の設計変更(例えば、内部配線の高密度化や配線幅及び配線ピッチの狭小化)に対して迅速に対応することができる。
特開2005−57139号公報
In the manufacturing process of such an LTCC multilayer substrate, a metal paste or metal ink is used to draw a wiring pattern on each green sheet before lamination. As this drawing method, Patent Document 1 proposes a so-called ink jet method in which metal ink is discharged as fine droplets. The ink jet method draws a wiring pattern by joining minute droplets, and therefore can quickly respond to changes in internal wiring design (for example, high density of internal wiring or narrowing of wiring width and wiring pitch). be able to.
JP 2005-57139 A

ところで、グリーンシートに着弾した液滴は、グリーンシートの表面状態や液滴の表面張力に基づいて、サイズや形状などを経時的に変動する。サイズや形状の変動する液滴は、乾燥するタイミングに応じて、配線パターンのサイズを規定する。例えば、外径が30μmの金属インクからなる液滴は、親液性のグリーンシートに着弾して100ミリ秒を経過すると、外径を70μmに拡張し、200ミリ秒を経過すると、外径をさらに100μmにする。そのため、液滴の乾燥タイミングが、100ミリ秒後〜200ミリ秒後の範囲でばらつくと、対応する配線パターンの線幅が約70μm〜100μmの範囲でばらつく。   By the way, the droplet landed on the green sheet varies with time in size, shape, and the like based on the surface state of the green sheet and the surface tension of the droplet. The size of the wiring pattern is regulated according to the drying timing of the droplet whose size or shape varies. For example, a droplet made of metal ink having an outer diameter of 30 μm reaches the lyophilic green sheet and expands the outer diameter to 70 μm after 100 milliseconds, and after 200 milliseconds, the outer diameter decreases. Further, the thickness is set to 100 μm. Therefore, if the drying timing of the droplets varies within a range from 100 milliseconds to 200 milliseconds, the line width of the corresponding wiring pattern varies within a range of about 70 μm to 100 μm.

そこで、こうした液滴の乾燥方法には、パターンサイズのばらつきを抑制させるため、グリーンシートに着弾した液滴にレーザ光を照射するレーザ乾燥が提案されている。レーザ乾燥では、レーザ光の照射領域のみで液滴の乾燥処理を行う。そのため、着弾した液滴の乾燥タイミングを高い精度で制御させることができ、パターンサイズのばらつきを抑制させることができる。   Therefore, in order to suppress variation in pattern size, laser drying in which laser light is irradiated to the droplets that have landed on the green sheet has been proposed. In laser drying, droplets are dried only in the laser light irradiation region. For this reason, the drying timing of the landed droplets can be controlled with high accuracy, and variations in pattern size can be suppressed.

しかしながら、インクジェット法に使用する液滴吐出装置では、一般的に、液滴の着弾精度を確保するため、液滴吐出ヘッドと対象物との間の間隙を数百μmに狭くしている。そのため、着弾直後の液滴、すなわち液滴吐出ヘッドの直下に位置する液滴を乾燥する場合には、液滴吐出ヘッドと対象物との間の狭い間隙に、対象物の略接線方向に沿ったレーザ光を照射しなければならない。この結果、対象物に形成するレーザ光の光断面(ビームスポット)が拡大し、液滴を乾燥させるために必要なレーザ光の強度を確保できなくなる。そのため、液滴の乾燥不足を招いて、パターンの形成不良を来たす虞があった。   However, in a droplet discharge device used for the ink jet method, in general, the gap between the droplet discharge head and the object is narrowed to several hundred μm in order to ensure the droplet landing accuracy. For this reason, when drying a droplet immediately after landing, that is, a droplet located immediately below the droplet discharge head, it is along a substantially tangential direction of the target in a narrow gap between the droplet discharge head and the target. The laser beam must be irradiated. As a result, the optical cross section (beam spot) of the laser light formed on the object is enlarged, and the intensity of the laser light necessary for drying the droplets cannot be secured. For this reason, there is a risk of insufficient drying of the droplets, resulting in poor pattern formation.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュールを提供することである。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to improve the drying efficiency of droplets and reduce the formation failure of patterns composed of droplets, and droplet ejection. An apparatus and a circuit module are provided.

本発明のパターン形成方法は、パターン形成材料を液滴にして基板に吐出し、前記基板に着弾した前記液滴を乾燥して前記液滴からなるパターンを前記基板に形成するようにしたパターン形成方法において、前記基板に着弾した前記液滴の端部に前記基板の略接線方向に沿うレーザ光を照射し、前記液滴を乾燥するようにした。   According to the pattern forming method of the present invention, a pattern forming material is discharged as a droplet onto a substrate, and the droplet landed on the substrate is dried to form a pattern composed of the droplet on the substrate. In the method, the end of the droplet landed on the substrate is irradiated with laser light along a substantially tangential direction of the substrate to dry the droplet.

本発明のパターン形成方法によれば、基板に着弾した液滴の端部が、基板の略接線方向、すなわち液滴表面の法線方向に近いレーザ光を受ける。よって、液滴に入射するレーザ光が、液滴の頂部などから入射する場合に比べて、その液滴表面における反射量を減少させることができる。この結果、液滴に対するレーザ光の吸収効率を向上させることができ、液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させることができる。   According to the pattern forming method of the present invention, the end portion of the droplet that has landed on the substrate receives laser light that is close to the substantially tangential direction of the substrate, that is, the normal direction of the surface of the droplet. Therefore, the amount of reflection on the droplet surface can be reduced as compared with the case where the laser beam incident on the droplet enters from the top of the droplet. As a result, the absorption efficiency of the laser beam with respect to the droplet can be improved, the drying efficiency of the droplet can be improved, and the formation failure of the pattern made of the droplet can be reduced.

本発明のパターン形成方法は、パターン形成材料を液滴にして基板に吐出し、前記基板に着弾した前記液滴を乾燥して前記液滴からなるパターンを前記基板に形成するようにしたパターン形成方法において、前記基板に着弾した前記液滴が半球面状を呈するときに前記液滴の中心に向けてレーザ光を照射し、前記液滴を乾燥するようにした。   According to the pattern forming method of the present invention, a pattern forming material is discharged as a droplet onto a substrate, and the droplet landed on the substrate is dried to form a pattern composed of the droplet on the substrate. In the method, when the droplet landed on the substrate has a hemispherical shape, the droplet is dried by irradiating a laser beam toward the center of the droplet.

本発明のパターン形成方法によれば、略半球面状を呈する液滴が、その液滴表面の略法線方向に沿うレーザ光を受ける。よって、液滴に入射するレーザ光が、液滴表面における反射量を減少させることができる。この結果、液滴に対するレーザ光の吸収効率を向上させることができ、液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させることができる。   According to the pattern forming method of the present invention, a substantially hemispherical droplet receives a laser beam along a substantially normal direction of the droplet surface. Therefore, the amount of reflection of laser light incident on the droplet can be reduced on the droplet surface. As a result, the absorption efficiency of the laser beam with respect to the droplet can be improved, the drying efficiency of the droplet can be improved, and the formation failure of the pattern made of the droplet can be reduced.

また、このパターン形成方法において、前記基板の略接線方向に沿うレーザ光を前記液滴の中心に向けて照射して前記液滴を乾燥するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、液滴の領域上に各種部材(例えば、液滴を吐出する液滴吐出ヘッド)が位置する場合であっても、照射するレーザ光を、同部材に遮蔽されることなく液滴の領域に導くことができる。そして、レーザ光を液滴表面の略法線方向から照射する分だけ、液滴の乾燥効率を向上させることができる。よって、基板の適用範囲や液滴吐出装置の装置構成に関する自由度などを制約させることなく、パターンの形成不良を低減させることができる。
In this pattern forming method, the droplets may be dried by irradiating laser light along a substantially tangential direction of the substrate toward the center of the droplets.
According to this pattern forming method, even when various members (for example, a droplet discharge head that discharges droplets) are positioned on the droplet region, the irradiated laser beam is shielded by the same member. Can be guided to the region of the droplet without any problem. Further, the drying efficiency of the droplet can be improved by the amount of irradiation of the laser beam from the substantially normal direction of the droplet surface. Therefore, pattern formation defects can be reduced without restricting the degree of freedom regarding the application range of the substrate and the apparatus configuration of the droplet discharge device.

本発明の液滴吐出装置は、パターン形成材料を液滴にして基板に吐出する液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置において、前記基板の略接線方向に沿うレーザ光を前記基板に向けて照射するレーザ照射手段と、前記基板を一方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記レーザ照射手段とに対して相対的に走査する走査手段と、前記基板に着弾した前記液滴の端部が前記レーザ光の領域に位置するように前記走査手段を駆動制御する制御手段と、を備えた。   The droplet discharge device of the present invention is a droplet discharge device including a droplet discharge head that discharges a pattern forming material to a substrate, and directs laser light along a substantially tangential direction of the substrate toward the substrate. Laser irradiation means for irradiating; scanning means for scanning the substrate relative to the droplet discharge head and the laser irradiation means along one direction; and an end of the droplet landed on the substrate. Control means for driving and controlling the scanning means so as to be positioned in the laser light region.

本発明の液滴吐出装置によれば、レーザ照射手段が、基板の略接線方向に沿うレーザ光を基板に着弾した液滴の端部に入射する。よって、基板に着弾した液滴の端部には、液滴表面の略法線方向に沿うレーザ光が入射する。この結果、液滴に入射するレーザ光が、液滴表面における反射量を減少させ、液滴に対するレーザ光の吸収効率を向上させることができる。そのため、液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させることができる。   According to the droplet discharge device of the present invention, the laser irradiation means is incident on the end portion of the droplet landed on the substrate with the laser beam along the substantially tangential direction of the substrate. Therefore, the laser beam along the substantially normal direction of the droplet surface is incident on the end of the droplet landed on the substrate. As a result, the laser beam incident on the droplet can reduce the reflection amount on the surface of the droplet and improve the absorption efficiency of the laser beam with respect to the droplet. Therefore, it is possible to improve the drying efficiency of the droplets and reduce the formation failure of the pattern composed of the droplets.

また、この液滴吐出装置は、前記走査手段が、前記基板を前記一方向と前記一方向の逆方向に沿って相対的に走査し、前記レーザ照射手段が、略前記一方向と前記一方向の略逆
方向に沿うレーザ光を前記基板に向けて照射し、前記制御手段が、前記基板に着弾した前記液滴を前記一方向に沿って前記レーザ照射手段に対して相対移動するときに、前記液滴の端部が略前記一方向に沿うレーザ光の領域に位置するように前記走査手段を駆動制御し、前記基板に着弾した前記液滴を前記一方向の逆方向に沿って前記レーザ照射手段に対して相対移動するときに、前記液滴の端部が前記一方向の略逆方向に沿うレーザ光の領域に位置するように前記走査手段を駆動制御するようにしてもよい。
In the droplet discharge device, the scanning unit relatively scans the substrate along the one direction and the opposite direction of the one direction, and the laser irradiation unit includes the one direction and the one direction. When the control means moves the droplet landed on the substrate relative to the laser irradiation means along the one direction, The scanning means is driven and controlled so that the end of the droplet is positioned in the laser light region substantially along the one direction, and the droplet landed on the substrate is moved along the opposite direction of the one direction to the laser. The scanning unit may be driven and controlled so that the end of the droplet is positioned in a laser light region along a direction substantially opposite to the one direction when moving relative to the irradiation unit.

この液滴吐出装置によれば、レーザ照射手段が、一方向と、該一方向の逆方向に相対的に走査される液滴の端部に対し、該液滴の略走査方向に沿うレーザ光を入射する。よって、液滴の走査方向と該液滴に対するレーザ光の入射方向を略同一方向にすることができる。この結果、液滴の乾燥効率を、より高い再現性の下で向上させることができ、液滴からなるパターンの形成不良を、より確実に低減させることができる。   According to this droplet discharge device, the laser irradiation means has a laser beam along the substantially scanning direction of the droplet with respect to the end portion of the droplet that is relatively scanned in one direction and the opposite direction of the one direction. Is incident. Therefore, the scanning direction of the droplet and the incident direction of the laser beam on the droplet can be made substantially the same direction. As a result, the drying efficiency of the droplets can be improved with higher reproducibility, and the formation failure of the pattern composed of droplets can be more reliably reduced.

また、この液滴吐出装置において、前記制御手段は、前記基板に着弾した液滴が半球面状を呈するときに、前記液滴の端部が前記レーザ光の領域に位置するように前記走査手段を駆動制御するようにしてもよい。   In the liquid droplet ejection apparatus, the control unit may be configured so that when the liquid droplets that have landed on the substrate have a hemispherical shape, the end of the liquid droplet is positioned in the laser light region. May be driven and controlled.

この液滴吐出装置によれば、基板の略接線方向に沿うレーザ光が、半球面状を呈する液滴の端部に入射する。よって、液滴の端部に対応する液滴表面には、その略法線方向からのレーザ光が入射する。この結果、液滴に照射したレーザ光が、液滴表面における反射量を、さらに減少させ、液滴に対するレーザ光の吸収効率を、より確実に向上させることができる。   According to this droplet discharge device, the laser beam along the substantially tangential direction of the substrate is incident on the end portion of the droplet having a hemispherical shape. Therefore, the laser beam from the substantially normal direction is incident on the droplet surface corresponding to the end of the droplet. As a result, the amount of reflection of the laser light applied to the droplet on the surface of the droplet can be further reduced, and the absorption efficiency of the laser light with respect to the droplet can be improved more reliably.

本発明の液滴吐出装置は、パターン形成材料を液滴にして基板に吐出する液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置において、前記基板に向けてレーザ光を照射するレーザ照射手段と、前記基板を一方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記レーザ照射手段とに対して相対的に走査する走査手段と、前記基板に着弾した前記液滴が半球面状を呈するときに、前記液滴の中心が前記レーザ光の照射位置に位置するように、前記走査手段を駆動制御する制御手段と、を備えた。   The droplet discharge device of the present invention is a droplet discharge device provided with a droplet discharge head for discharging a pattern forming material to a substrate as a droplet, and a laser irradiation means for irradiating a laser beam toward the substrate; A scanning unit that scans the substrate relative to the droplet discharge head and the laser irradiation unit along one direction; and the droplet that has landed on the substrate has a hemispherical shape. Control means for driving and controlling the scanning means so that the center of the laser beam is positioned at the irradiation position of the laser beam.

本発明の液滴吐出装置によれば、レーザ照射手段が、半球面状を呈する液滴に対して、その中心に向かうレーザ光を入射する。よって、半球面状を呈する液滴には、液滴表面の略法線方向に沿ってレーザ光が入射する。この結果、液滴に入射するレーザ光が、液滴表面における反射量を減少させることができ、液滴に対するレーザ光の吸収効率を向上させることができる。そのため、液滴の乾燥効率を向上させ、液滴からなるパターンの形成不良を低減させることができる。   According to the droplet discharge device of the present invention, the laser irradiation unit makes the laser beam directed toward the center of the droplet having a hemispherical shape incident. Therefore, laser light is incident on the droplet having a hemispherical shape along a substantially normal direction of the surface of the droplet. As a result, the amount of reflection of laser light incident on the droplet can be reduced on the surface of the droplet, and the absorption efficiency of the laser light with respect to the droplet can be improved. Therefore, it is possible to improve the drying efficiency of the droplets and reduce the formation failure of the pattern made of the droplets.

また、この液滴吐出装置において、前記レーザ照射手段は、前記基板の略接線方向に沿うレーザ光を照射してもよい。
この液滴吐出装置によれば、レーザ光が、基板の略接線方向に沿って照射される。そのため、着弾した液滴が液滴吐出ヘッドと対向する領域で半球面状を呈する場合であっても、レーザ光が液滴表面の略法線方向に沿って入射する。よって、着弾直後の液滴を乾燥させることができ、パターンの形状やサイズの自由度を拡大させることができる。
In this droplet discharge apparatus, the laser irradiation unit may irradiate a laser beam along a substantially tangential direction of the substrate.
According to this droplet discharge device, laser light is irradiated along a substantially tangential direction of the substrate. Therefore, even when the landed droplet has a hemispherical shape in a region facing the droplet discharge head, the laser light is incident along a substantially normal direction of the droplet surface. Therefore, the droplet immediately after landing can be dried, and the degree of freedom of the shape and size of the pattern can be increased.

また、この液滴吐出装置は、前記走査手段が、前記基板を前記一方向と前記一方向の逆方向に沿って相対的に走査し、前記レーザ照射手段が、略前記一方向と前記一方向の略逆方向に沿うレーザ光を前記基板に向けて照射し、前記制御手段が、前記基板に着弾した前記液滴を前記一方向に沿って前記レーザ照射手段に対して相対移動するときに、前記液滴の中心が略前記一方向に沿うレーザ光の照射位置に位置するように前記走査手段を駆動制御し、前記基板に着弾した前記液滴を前記一方向の逆方向に沿って前記レーザ照射手段に
対して相対移動するときに、前記液滴の中心が前記一方向の略逆方向に沿うレーザ光の照射位置に位置するように前記走査手段を駆動制御するようにしてもよい。
In the droplet discharge device, the scanning unit relatively scans the substrate along the one direction and the opposite direction of the one direction, and the laser irradiation unit includes the one direction and the one direction. When the control means moves the droplet landed on the substrate relative to the laser irradiation means along the one direction, The scanning unit is driven and controlled so that the center of the droplet is positioned at the irradiation position of the laser beam substantially along the one direction, and the droplet landed on the substrate is moved along the opposite direction of the one direction to the laser. The scanning unit may be driven and controlled so that the center of the droplet is positioned at a laser beam irradiation position along a direction substantially opposite to the one direction when moving relative to the irradiation unit.

この液滴吐出装置によれば、レーザ照射手段が、一方向と、該一方向の逆方向に相対的に走査される液滴の端部に対し、該液滴の略走査方向に沿うレーザ光を入射する。よって、液滴の走査方向と該液滴に対するレーザ光の入射方向を略同一方向にすることができる。この結果、液滴の乾燥効率を、より高い再現性の下で向上させることができ、液滴からなるパターンの形成不良を、より確実に低減させることができる。   According to this droplet discharge device, the laser irradiation means has a laser beam along the substantially scanning direction of the droplet with respect to the end portion of the droplet that is relatively scanned in one direction and the opposite direction of the one direction. Is incident. Therefore, the scanning direction of the droplet and the incident direction of the laser beam on the droplet can be made substantially the same direction. As a result, the drying efficiency of the droplets can be improved with higher reproducibility, and the formation failure of the pattern composed of droplets can be more reliably reduced.

また、この液滴吐出装置において、前記液滴吐出ヘッドを搭載するキャリッジを備え、前記レーザ照射手段は、前記キャリッジに搭載されて前記レーザ光を出射する半導体レーザと、前記キャリッジに搭載されて前記半導体レーザの出射したレーザ光を前記液滴に照射する照射光学系と、を備えてもよい。   The liquid droplet ejection apparatus further includes a carriage on which the liquid droplet ejection head is mounted, and the laser irradiation unit is mounted on the carriage and emits the laser light, and is mounted on the carriage and is mounted on the carriage. And an irradiation optical system for irradiating the droplet with laser light emitted from a semiconductor laser.

この液滴吐出装置によれば、キャリッジに搭載した液滴吐出ヘッドが、基板に向けて液滴を吐出し、同キャリッジに搭載した半導体レーザと照射光学系が、基板に着弾した液滴の領域に向けてレーザ光を照射する。よって、液滴の着弾位置に対して、レーザ光の相対位置を維持することができる。そのため、着弾した液滴の端部や半球面状を呈する液滴の中心を、より確実に、レーザ光の照射位置に位置させることができる。この結果、液滴表面の法線方向に沿うレーザ光を、より確実に、液滴の領域に照射させることができる。さらには、液滴吐出装置の小型化や軽量化を図ることができる。   According to this droplet discharge device, a droplet discharge head mounted on a carriage discharges a droplet toward a substrate, and a semiconductor laser mounted on the carriage and an irradiation optical system are droplet regions landed on the substrate. Irradiate with laser light. Therefore, the relative position of the laser beam can be maintained with respect to the landing position of the droplet. Therefore, the end of the landed droplet and the center of the droplet exhibiting a hemispherical shape can be positioned more reliably at the irradiation position of the laser beam. As a result, the laser beam along the normal direction of the droplet surface can be more reliably irradiated onto the region of the droplet. Furthermore, the droplet discharge device can be reduced in size and weight.

また、この液滴吐出装置において、前記パターン形成材料は、金属微粒子の分散した金属インクであって、前記基板は、低温焼成セラミック基板であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、レーザ光が、低温焼成セラミック基板上に着弾した金属インクの液滴の領域を照射し、液滴表面における反射量を減少させる。よって、金属インクの乾燥効率を向上させることができ、金属インクからなるパターン(例えば、低温焼成セラミック基板の配線パターンや素子パターン)の形成不良を低減させることができる。
In this droplet discharge device, the pattern forming material may be a metal ink in which metal fine particles are dispersed, and the substrate may be a low-temperature fired ceramic substrate.
According to this droplet discharge device, the laser light irradiates the region of the metal ink droplet landed on the low-temperature fired ceramic substrate, thereby reducing the reflection amount on the surface of the droplet. Therefore, it is possible to improve the drying efficiency of the metal ink, and it is possible to reduce defective formation of a pattern made of the metal ink (for example, a wiring pattern or an element pattern of a low-temperature fired ceramic substrate).

本発明の回路モジュールは、基板と、前記基板に形成された回路素子と、前記基板に形成されて前記回路素子に電気的に接続された金属配線と、を備えた回路モジュールにおいて、前記金属配線は、上記液滴吐出装置によって形成された。   The circuit module of the present invention is a circuit module comprising: a substrate; a circuit element formed on the substrate; and a metal wiring formed on the substrate and electrically connected to the circuit element. Was formed by the droplet discharge device.

本発明の回路モジュールによれば、金属配線の形成不良を低減させることができる。   According to the circuit module of the present invention, formation defects of metal wiring can be reduced.

以下、本発明を具体化した一実施形態を図1〜図7に従って説明する。まず、本発明の回路モジュール1について説明する。
図1において、回路モジュール1には、板状に形成されたLTCC多層基板2と、そのLTCC多層基板2の上側に、ワイヤーボンディング接続あるいはフリップチップ接続された複数の半導体チップ3と、が備えられている。
Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described with reference to FIGS. First, the circuit module 1 of the present invention will be described.
In FIG. 1, a circuit module 1 includes an LTCC multilayer substrate 2 formed in a plate shape, and a plurality of semiconductor chips 3 that are wire-bonded or flip-chip connected above the LTCC multilayer substrate 2. ing.

LTCC多層基板2には、シート状に形成された複数の低温焼成セラミック基板(以下単に、絶縁層4という。)が積層されている。各絶縁層4は、それぞれガラスセラミック系材料(例えば、ホウケイ酸アルカリ酸化物などのガラス成分とアルミナなどのセラミック成分の混合物)からなる焼結体であり、その厚みが数百μmで形成されている。   On the LTCC multilayer substrate 2, a plurality of low-temperature fired ceramic substrates (hereinafter simply referred to as insulating layers 4) formed in a sheet shape are laminated. Each insulating layer 4 is a sintered body made of a glass ceramic material (for example, a mixture of a glass component such as borosilicate alkali oxide and a ceramic component such as alumina), and has a thickness of several hundred μm. Yes.

各絶縁層4の層間には、抵抗素子や容量素子、コイル素子などの各種の回路素子5と、各回路素子5を電気的に接続する金属配線としての複数の内部配線6と、が形成されている。各回路素子5と各内部配線6は、それぞれ銀や銀合金などの金属微粒子の焼結体であ
って、本発明の液滴吐出装置10を利用して形成される。各絶縁層4の層内には、スタックビア構造やサーマルビア構造を呈するビア配線7が形成され、各回路素子5や各内部配線6を層間で電気的に接続する。各ビア配線7は、各回路素子5や各内部配線6と同じく、銀や銀合金などの金属微粉末の焼結体である。
Between each insulating layer 4, various circuit elements 5 such as a resistance element, a capacitive element, and a coil element, and a plurality of internal wirings 6 as metal wirings that electrically connect each circuit element 5 are formed. ing. Each circuit element 5 and each internal wiring 6 are sintered bodies of metal fine particles such as silver and silver alloy, and are formed by using the droplet discharge device 10 of the present invention. Via wirings 7 having a stacked via structure or a thermal via structure are formed in each insulating layer 4, and each circuit element 5 and each internal wiring 6 are electrically connected between the layers. Each via wiring 7 is a sintered body of fine metal powder such as silver or silver alloy, like each circuit element 5 and each internal wiring 6.

次に、上記LTCC多層基板2の製造方法について図2に従って説明する。
図2において、まず、絶縁層4を切出し可能にする基板としてのグリーンシート4Sにパンチ加工やレーザ加工を施し、ビアホール7Hを打抜き形成する。次いで、グリーンシート4Sに金属ペーストを用いたスクリーン印刷を複数回施し、ビアホール7Hの中に金属ペーストを充填し、金属ペーストからなるビアパターン7Fを形成する。次いで、金属ナノ微粒子を水系溶媒に分散させたパターン形成材料としての金属インクF(本実施形態では、水系銀インク)を用いて、グリーンシート4Sの上面(以下単に、パターン形成面4Saという。)にインクジェット印刷を施す。
Next, a manufacturing method of the LTCC multilayer substrate 2 will be described with reference to FIG.
In FIG. 2, first, via holes 7H are punched and formed on a green sheet 4S as a substrate that enables the insulating layer 4 to be cut out, by punching or laser processing. Next, screen printing using a metal paste is performed a plurality of times on the green sheet 4S, and the via hole 7H is filled with the metal paste to form a via pattern 7F made of the metal paste. Next, the upper surface of the green sheet 4S (hereinafter, simply referred to as the pattern formation surface 4Sa) using the metal ink F (in this embodiment, aqueous silver ink) as a pattern formation material in which metal nanoparticles are dispersed in an aqueous solvent. Inkjet printing is applied.

詳述すると、パターン形成面4Saであって、回路素子5及び内部配線6を形成するための領域(以下単に、パターン形成領域という。)に金属インクFの液滴Fbを吐出し、パターン形成領域に着弾した液滴Fbを乾燥する。そして、この吐出動作と、乾燥動作と、を繰り返し、パターン形成領域に対応する素子パターン5F及び配線パターン6Fを描画する。この際、パターン形成領域に着弾した液滴Fbの乾燥は、着弾した液滴Fbにレーザ光Leを入射することによって行う。   More specifically, the droplet Fb of the metal ink F is ejected onto the pattern formation surface 4Sa on the area for forming the circuit element 5 and the internal wiring 6 (hereinafter simply referred to as the pattern formation area). The droplets Fb landed on are dried. Then, the discharging operation and the drying operation are repeated, and the element pattern 5F and the wiring pattern 6F corresponding to the pattern formation region are drawn. At this time, the droplets Fb that have landed on the pattern formation region are dried by making the laser beam Le incident on the landed droplets Fb.

グリーンシート4Sに素子パターン5F、配線パターン6F及びビアパターン7Fを形成すると、複数のグリーンシート4Sを一括して積層し、LTCC多層基板2に対応する領域を積層体4Bとして切り出して焼成する。すなわち、グリーンシート4S、素子パターン5F、配線パターン6F及びビアパターン7Fを一括積層し、同時に焼成する。これによって、絶縁層4、回路素子5、内部配線6及びビア配線7を有したLTCC多層基板2を形成する。   When the element pattern 5F, the wiring pattern 6F, and the via pattern 7F are formed on the green sheet 4S, a plurality of green sheets 4S are stacked together, and a region corresponding to the LTCC multilayer substrate 2 is cut out as a stacked body 4B and fired. That is, the green sheet 4S, the element pattern 5F, the wiring pattern 6F, and the via pattern 7F are collectively laminated and fired simultaneously. Thus, the LTCC multilayer substrate 2 having the insulating layer 4, the circuit element 5, the internal wiring 6, and the via wiring 7 is formed.

次に、上記素子パターン5F及び配線パターン6Fを描画するための液滴吐出装置10について図3に従って説明する。図3は、液滴吐出装置10を示す全体斜視図である。
図3において、液滴吐出装置10は、直方体形状に形成された基台11を備えている。基台11の上面には、その長手方向(Y矢印方向)に沿って延びる一対の案内溝12が形成されている。案内溝12の上方には、案内溝12に沿ってY矢印方向及び反Y矢印方向に移動する走査手段としてのステージ13が備えられている。ステージ13の上面には、載置部14が形成され、上記パターン形成面4Saを上側にしたグリーンシート4Sを載置する。載置部14は、載置された状態のグリーンシート4Sをステージ13に対して位置決め固定し、グリーンシート4SをY矢印方向及び反Y矢印方向に搬送する。本実施形態では、図3において、Y矢印方向が走査方向として定義される。また、グリーンシート4Sの走査方向に沿う搬送速度が、走査速度Vyとして定義される。
Next, the droplet discharge device 10 for drawing the element pattern 5F and the wiring pattern 6F will be described with reference to FIG. FIG. 3 is an overall perspective view showing the droplet discharge device 10.
In FIG. 3, the droplet discharge device 10 includes a base 11 formed in a rectangular parallelepiped shape. A pair of guide grooves 12 extending along the longitudinal direction (Y arrow direction) is formed on the upper surface of the base 11. Above the guide groove 12, a stage 13 is provided as a scanning unit that moves along the guide groove 12 in the Y arrow direction and the counter-Y arrow direction. A placement portion 14 is formed on the upper surface of the stage 13, and the green sheet 4S with the pattern formation surface 4Sa on the upper side is placed. The placement unit 14 positions and fixes the placed green sheet 4S with respect to the stage 13, and conveys the green sheet 4S in the Y arrow direction and the anti-Y arrow direction. In the present embodiment, in FIG. 3, the Y arrow direction is defined as the scanning direction. Moreover, the conveyance speed along the scanning direction of the green sheet 4S is defined as the scanning speed Vy.

基台11には、その走査方向と直交するX矢印方向両側に、門型に形成されたガイド部材16が基台11を跨ぐように架設されている。ガイド部材16の上側には、X矢印方向に延びるインクタンク17が配設されている。インクタンク17は、金属インクFを貯留し、下方に配設される液滴吐出ヘッド(以下単に、吐出ヘッドという。)21に、それぞれ所定の圧力で金属インクFを供給する。   On the base 11, guide members 16 formed in a gate shape are installed on both sides in the X arrow direction orthogonal to the scanning direction so as to straddle the base 11. On the upper side of the guide member 16, an ink tank 17 extending in the direction of the arrow X is disposed. The ink tank 17 stores the metal ink F, and supplies the metal ink F to a droplet discharge head (hereinafter simply referred to as “discharge head”) 21 disposed below at a predetermined pressure.

ガイド部材16の反Y矢印方向側には、そのX矢印方向略全幅にわたって、X矢印方向に延びる上下一対のガイドレール18が形成されている。一対のガイドレール18には、キャリッジ20が取り付けられ、ガイドレール18に沿ってX矢印方向及び反X矢印方向に移動する。キャリッジ20の底面20aであって、その走査方向側には、吐出ヘッド2
1が搭載されている。図4は、吐出ヘッド21を下側(グリーンシート4S側)から見た斜視図であって、図5は、図4のA−A線断面図である。図6は、キャリッジ20の概略側面図である。
A pair of upper and lower guide rails 18 extending in the X arrow direction are formed on the side opposite to the Y arrow direction of the guide member 16 over substantially the entire width in the X arrow direction. A carriage 20 is attached to the pair of guide rails 18 and moves along the guide rails 18 in the X arrow direction and the counter X arrow direction. On the bottom surface 20a of the carriage 20 and on the scanning direction side, the ejection head 2 is disposed.
1 is installed. 4 is a perspective view of the ejection head 21 as viewed from the lower side (the green sheet 4S side), and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. FIG. 6 is a schematic side view of the carriage 20.

図4において、吐出ヘッド21は、X矢印方向に延びる直方体形状に形成されている。吐出ヘッド21の下側(グリーンシート4S側:図4の上側)には、ノズルプレート22が備えられている。ノズルプレート22は、X矢印方向に延びる板状に形成され、その下面(図4の上面)には、ノズル形成面22aが形成されている。ノズル形成面22aは、グリーンシート4Sのパターン形成面4Saと略平行に形成され、グリーンシート4Sが吐出ヘッド21の直下に位置するときに、ノズル形成面22aとパターン形成面4Saとの間の距離(プラテンギャップ)を所定の距離(本実施形態では、300μm)に保持する。そのノズル形成面22aには、ノズル形成面22aの法線方向に貫通形成された複数のノズルNがX矢印方向に沿って配列されている。   In FIG. 4, the discharge head 21 is formed in a rectangular parallelepiped shape extending in the X arrow direction. A nozzle plate 22 is provided on the lower side of the discharge head 21 (the green sheet 4S side: the upper side in FIG. 4). The nozzle plate 22 is formed in a plate shape extending in the direction of the arrow X, and a nozzle forming surface 22a is formed on the lower surface (the upper surface in FIG. 4). The nozzle formation surface 22a is formed substantially parallel to the pattern formation surface 4Sa of the green sheet 4S, and when the green sheet 4S is positioned directly below the ejection head 21, the distance between the nozzle formation surface 22a and the pattern formation surface 4Sa. (Platen gap) is kept at a predetermined distance (in this embodiment, 300 μm). In the nozzle forming surface 22a, a plurality of nozzles N penetrating in the normal direction of the nozzle forming surface 22a are arranged along the X arrow direction.

図5において、各ノズルNの上側には、それぞれインクタンク17に連通するキャビティ23が形成されている。キャビティ23は、インクタンク17からの金属インクFを対応するノズルNに供給する。各キャビティ23の上側には、上下方向に振動してキャビティ23内の容積を拡大及び縮小する振動板24が貼り付けられている。振動板24の上側には、ノズルNに対応する複数の圧電素子PZが配設されている。   In FIG. 5, cavities 23 communicating with the ink tanks 17 are formed above the nozzles N, respectively. The cavity 23 supplies the metal ink F from the ink tank 17 to the corresponding nozzle N. A vibration plate 24 is attached to the upper side of each cavity 23 to vibrate in the vertical direction and expand and contract the volume in the cavity 23. A plurality of piezoelectric elements PZ corresponding to the nozzles N are disposed on the upper side of the vibration plate 24.

各圧電素子PZは、それぞれ上下方向に収縮及び伸張して対応する振動板24の領域を上下方向に振動し、対応するノズルNから金属インクFを所定容量(本実施形態では、10pl)の液滴Fbにして吐出する。液滴Fbは、対応するノズルNの反Z矢印方向に飛行し、対向するパターン形成面4Sa上の位置に着弾する。本実施形態では、パターン形成面4Sa上の位置であって、各ノズルNの反Z矢印方向に対応する位置、すなわち液滴Fbの着弾する位置が、それぞれ着弾位置Pとして定義される。   Each piezoelectric element PZ contracts and expands in the vertical direction to vibrate the corresponding region of the diaphragm 24 in the vertical direction, and the metal ink F is supplied from the corresponding nozzle N to a predetermined volume (in this embodiment, 10 pl) of liquid. A droplet Fb is discharged. The droplet Fb flies in the direction opposite to the arrow Z of the corresponding nozzle N and lands on a position on the opposing pattern formation surface 4Sa. In the present embodiment, the position on the pattern forming surface 4Sa and corresponding to the anti-Z arrow direction of each nozzle N, that is, the position where the droplet Fb lands is defined as the landing position P.

着弾する液滴Fbは、パターン形成面4Saの面方向に沿う伸縮振動を繰り返した後に、Z矢印方向の厚みが10μm以上になる半球面状を呈し、やがて、パターン形成面4Saに沿って濡れ広がる。本実施形態では、着弾した液滴Fbが半球面状を呈するまでに要する時間を、照射待機時間Tとして定義する。また、この照射待機時間Tの間に液滴Fbの走査される距離が、照射待機距離WF(=走査速度Vy×照射待機時間T)として定義され、着弾位置Pから走査方向に照射待機距離WFだけ変位する位置が、照射位置Peとして定義される。   The landing droplet Fb repeats stretching vibration along the surface direction of the pattern formation surface 4Sa, and then exhibits a hemispherical shape with a thickness in the Z arrow direction of 10 μm or more, and eventually spreads wet along the pattern formation surface 4Sa. . In the present embodiment, the time required for the landed droplet Fb to have a hemispherical shape is defined as the irradiation standby time T. Further, the distance that the droplet Fb is scanned during the irradiation standby time T is defined as the irradiation standby distance WF (= scanning speed Vy × irradiation standby time T), and the irradiation standby distance WF in the scanning direction from the landing position P. A position that is displaced by a distance is defined as the irradiation position Pe.

すなわち、着弾位置Pに着弾する液滴Fbは、着弾時から照射待機時間Tだけ経過すると、その着弾位置Pから走査方向に照射待機距離WFだけ変位し、その中心を照射位置Peにした半球面状を呈する。なお、本実施形態では、超高速度カメラなどの着弾観測カメラを利用して着弾した液滴Fbの形状を観測し、その液滴形状の経時変化に基づいて照射待機時間T(例えば、500マイクロ秒)を規定する。   That is, the droplet Fb that lands on the landing position P is displaced by the irradiation standby distance WF in the scanning direction from the landing position P when the irradiation standby time T elapses from the time of landing, and a hemispherical surface whose center is the irradiation position Pe. Present. In the present embodiment, the shape of the landed droplet Fb is observed using a landing observation camera such as an ultra-high speed camera, and the irradiation waiting time T (for example, 500 micron) is determined based on the change over time of the droplet shape. Second).

図6において、キャリッジ20の底面20aであって、吐出ヘッド21の反走査方向(反Y矢印方向)には、キャリッジ20の内部にまでを貫通する出射孔Hが形成されている。出射孔Hは、そのX矢印方向の幅が吐出ヘッド21のX矢印方向の幅と略同じサイズで形成されている。その出射孔Hの上側には、レーザ照射手段を構成する半導体レーザLDが配設されている。   In FIG. 6, an emission hole H penetrating to the inside of the carriage 20 is formed on the bottom surface 20 a of the carriage 20 in the anti-scanning direction (anti-Y arrow direction) of the ejection head 21. The exit hole H is formed so that the width in the X arrow direction is substantially the same as the width of the ejection head 21 in the X arrow direction. On the upper side of the emission hole H, a semiconductor laser LD constituting laser irradiation means is disposed.

半導体レーザLDは、出射孔HのX矢印方向略全幅に広がる帯状のコリメートされた直線偏光のレーザ光Leを下方に向けて出射する。半導体レーザLDの出射するレーザ光Leの波長は、金属インクFの吸収波長の範囲(本実施形態では、808nm)に設定され
ている。
The semiconductor laser LD emits a strip-like collimated linearly polarized laser beam Le extending downward substantially in the X-arrow direction of the emission hole H downward. The wavelength of the laser beam Le emitted from the semiconductor laser LD is set in the range of the absorption wavelength of the metal ink F (in this embodiment, 808 nm).

出射孔Hの内部には、照射光学系を構成するシリンドリカルレンズ25が配設されている。シリンドリカルレンズ25は、Y矢印方向にのみ曲率を有するレンズであり、そのX矢印方向の幅が吐出ヘッド21のX矢印方向の幅と同じサイズで形成されている。シリンドリカルレンズ25は、半導体レーザLDからのレーザ光Leを受けるときに、レーザ光LeのY矢印方向(又は反Y矢印方向)の成分のみを収束して下方に出射する。なお、収束するレーザ光Leは、そのビームウエストの幅を10μm以下する。   Inside the exit hole H, a cylindrical lens 25 constituting an irradiation optical system is disposed. The cylindrical lens 25 is a lens having a curvature only in the Y arrow direction, and the width in the X arrow direction is the same size as the width of the ejection head 21 in the X arrow direction. When receiving the laser beam Le from the semiconductor laser LD, the cylindrical lens 25 converges only the component of the laser beam Le in the Y arrow direction (or anti-Y arrow direction) and emits it downward. The convergent laser beam Le has a beam waist width of 10 μm or less.

出射孔Hの下側には、キャリッジ20の下方に延びるミラーステージ26と、ミラーステージ26に回動可能に支持されて照射光学系を構成する反射ミラー27と、が配設されている。ミラーステージ26は、X矢印方向に沿う回動軸を中心にして反射ミラー27を回動可能に支持する。反射ミラー27は、シリンドリカルレンズ25側に反射面27mを有したガルバノミラーであって、そのX矢印方向の幅が吐出ヘッド21のX矢印方向の幅と同じサイズで形成されている。   Below the exit hole H, a mirror stage 26 extending below the carriage 20 and a reflection mirror 27 that is rotatably supported by the mirror stage 26 and constitutes an irradiation optical system are disposed. The mirror stage 26 supports the reflection mirror 27 so as to be rotatable about a rotation axis along the X arrow direction. The reflection mirror 27 is a galvanometer mirror having a reflection surface 27 m on the cylindrical lens 25 side, and the width in the X arrow direction is the same size as the width of the ejection head 21 in the X arrow direction.

反射ミラー27は、シリンドリカルレンズ25からのレーザ光Leを反射面27mで受け、レーザ光Leをパターン形成面4Saの略接線方向に沿って反射し、レーザ光Leと、パターン形成面4Saの法線と、のなす角度(照射角θe)を略90°(本実施形態では、88°)にする。また、反射ミラー27は、反射するレーザ光Leのビームウエストを吐出ヘッド21の下方に位置する照射位置Peに導く。照射位置Peに導かれるレーザ光Leは、着弾した液滴Fbが照射位置Peに位置するときに、液滴Fbの反走査方向側の端部から液滴Fbの内方に向かって入射する。   The reflection mirror 27 receives the laser beam Le from the cylindrical lens 25 by the reflection surface 27m, reflects the laser beam Le along the substantially tangential direction of the pattern formation surface 4Sa, and normal lines of the laser beam Le and the pattern formation surface 4Sa. And the angle (irradiation angle θe) is approximately 90 ° (88 ° in this embodiment). Further, the reflection mirror 27 guides the beam waist of the reflected laser beam Le to the irradiation position Pe located below the ejection head 21. The laser beam Le guided to the irradiation position Pe is incident inward from the end of the droplet Fb on the side opposite to the scanning direction when the landed droplet Fb is positioned at the irradiation position Pe.

なお、本発明における液滴Fbの端部とは、着弾した液滴Fbの表面(気液界面)の一領域であって、該液滴Fbの中心からパターン形成面4Saの面方向(反Y矢印方向)に最も離間する領域である。例えば、液滴Fbが半球面状を呈する場合には、液滴Fbの底部外周部が、液滴Fbの端部となる。また、液滴Fbが円盤状を呈する場合には、液滴Fbの側面が、液滴Fbの端部となる。   In the present invention, the end of the droplet Fb is a region of the surface (gas-liquid interface) of the landed droplet Fb, and the surface direction (anti-Y) of the pattern formation surface 4Sa from the center of the droplet Fb. This is the region that is the farthest away in the direction of the arrow. For example, when the droplet Fb has a hemispherical shape, the outer periphery of the bottom of the droplet Fb becomes the end of the droplet Fb. Further, when the droplet Fb has a disk shape, the side surface of the droplet Fb becomes the end of the droplet Fb.

この液滴Fbの端部では、液滴表面の法線とパターン形成面4Saの接線とのなす角度が、他の液滴表面(例えば、液滴Fbの頂部表面)の法線とパターン形成面4Saの接線とのなす角度よりも小さくなる。そのため、この液滴Fbの端部では、液滴表面の法線とレーザ光Leとのなす角度(「入射角」)が、他の液滴表面における「入射角」よりも小さくなる。   At the end of the droplet Fb, the angle between the normal of the droplet surface and the tangent of the pattern formation surface 4Sa is the normal of the other droplet surface (for example, the top surface of the droplet Fb) and the pattern formation surface. It becomes smaller than the angle formed with the 4Sa tangent. Therefore, at the end of the droplet Fb, the angle (“incident angle”) between the normal of the droplet surface and the laser light Le is smaller than the “incident angle” on the other droplet surfaces.

しかも、本実施形態の液滴Fbは、その中心が照射位置Peに位置するときに、半球面形状を呈する。照射位置Peに導かれるレーザ光Leは、その半球面状の液滴表面から、該液滴Fbの中心に向かって入射する。そのため、液滴Fbに入射するレーザ光Leは、液滴Fbの中心が照射位置Peに位置するときに、その入射方向に関わらず、液滴表面の略法線方向に沿って入射し、その「入射角」を略0°にする。   Moreover, the droplet Fb of the present embodiment has a hemispherical shape when the center thereof is located at the irradiation position Pe. The laser beam Le guided to the irradiation position Pe enters from the hemispherical droplet surface toward the center of the droplet Fb. Therefore, when the center of the droplet Fb is located at the irradiation position Pe, the laser beam Le incident on the droplet Fb is incident along the substantially normal direction of the droplet surface regardless of the incident direction. The “incident angle” is set to approximately 0 °.

一方、液滴Fbに入射するレーザ光Leは、液滴Fbに透過しない分を反射光として反射する。レーザ光Leの反射率は、偏光状態がP偏光の場合(反射率Rp)と、S偏光の場合(反射率Rs)と、において、それぞれ以下の式で導かれる。ただし、空気の屈折率をN1とし、液滴Fbの屈折率をN2とし、前記「入射角」をθとする。   On the other hand, the laser beam Le incident on the droplet Fb is reflected as reflected light by the portion not transmitted to the droplet Fb. The reflectance of the laser beam Le is derived by the following formulas when the polarization state is P-polarized light (reflectance Rp) and when it is S-polarized light (reflectance Rs), respectively. However, the refractive index of air is N1, the refractive index of the droplet Fb is N2, and the “incident angle” is θ.

Figure 2007296425
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Figure 2007296425
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ただし、   However,

Figure 2007296425
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反射率Rp及び反射率Rsは、それぞれ「入射角」が小さくなるに連れて小さくなり、「入射角」が略0°になると、いずれも数%になる。そのため、液滴Fbの端部に向かって略接線方向に沿って入射するレーザ光Le、あるいは半球面状を呈する液滴Fbの中心に向かって入射するレーザ光Leは、「入射角」を略0°にするために、その殆どが液滴Fbに透過して吸収される。   The reflectance Rp and the reflectance Rs each decrease as the “incident angle” decreases, and when the “incident angle” becomes approximately 0 °, both become several percent. Therefore, the laser light Le incident along the substantially tangential direction toward the end of the droplet Fb or the laser beam Le incident toward the center of the hemispherical droplet Fb has an “incident angle” approximately. In order to obtain 0 °, most of the light is transmitted through the droplet Fb and absorbed.

この結果、レーザ光Leは、その吸収率を向上させることができ、対応する液滴Fbを確実に乾燥して乾燥不足のない層パターンFPを形成する。そして、この層パターンFPを順に積層させることによって、配線パターン6Fを形成することができ、その形成不良を低減させることができる。   As a result, the absorptance of the laser beam Le can be improved, and the corresponding droplet Fb is surely dried to form a layer pattern FP that is not insufficiently dried. Then, by laminating the layer patterns FP in order, the wiring pattern 6F can be formed, and the formation defects can be reduced.

次に、上記のように構成した液滴吐出装置10の電気的構成を図7に従って説明する。
図7において、制御手段としての制御装置40は、CPU、ROM、RAMなどを有し、格納された各種データ及び各種制御プログラムに従って、ステージ13及びキャリッジ20を移動させるとともに、半導体レーザLD及び各圧電素子PZを駆動制御する。
Next, the electrical configuration of the droplet discharge device 10 configured as described above will be described with reference to FIG.
In FIG. 7, a control device 40 as a control means includes a CPU, a ROM, a RAM, and the like, and moves the stage 13 and the carriage 20 in accordance with the stored various data and various control programs, as well as the semiconductor laser LD and the piezoelectric devices. The drive of the element PZ is controlled.

制御装置40には、起動スイッチ、停止スイッチなどの操作スイッチを有した入力装置41が接続されている。入力装置41は、描画平面(パターン形成面4Sa)に対するパターン形成領域(層パターンFP)の位置座標に関する情報を既定形式の描画情報Iaとして制御装置40に入力する。制御装置40は、入力装置41からの描画情報Iaを受け、ビットマップデータBMDを生成する。   An input device 41 having operation switches such as a start switch and a stop switch is connected to the control device 40. The input device 41 inputs information related to the position coordinates of the pattern formation region (layer pattern FP) with respect to the drawing plane (pattern formation surface 4Sa) to the control device 40 as drawing information Ia in a predetermined format. The control device 40 receives the drawing information Ia from the input device 41 and generates bitmap data BMD.

ビットマップデータBMDは、各ビットの値(0あるいは1)に応じて各圧電素子PZのオンあるいはオフを規定するデータである。ビットマップデータBMDは、吐出ヘッド21の通過する描画平面(パターン形成面4Sa)上の各位置に、それぞれ液滴Fbを吐出するか否かを規定するデータである。すなわち、ビットマップデータBMDは、パターン形成領域に規定される各目標位置に液滴Fbを吐出させるためのものである。   The bitmap data BMD is data that specifies whether each piezoelectric element PZ is turned on or off according to the value (0 or 1) of each bit. The bitmap data BMD is data that defines whether or not the droplets Fb are ejected to respective positions on the drawing plane (pattern formation surface 4Sa) through which the ejection head 21 passes. That is, the bitmap data BMD is for discharging the droplet Fb to each target position defined in the pattern formation region.

制御装置40には、X軸モータ駆動回路42が接続されて、X軸モータ駆動回路42に
対応する駆動制御信号を出力する。X軸モータ駆動回路42は、制御装置40からの駆動制御信号に応答し、キャリッジ20を移動させるためのX軸モータMXを正転又は逆転させる。X軸モータ駆動回路42には、X軸エンコーダXEが接続されて、X軸エンコーダXEからの検出信号が入力される。X軸モータ駆動回路42は、X軸エンコーダXEからの検出信号に基づいて、パターン形成面4Saに対するキャリッジ20(各着弾位置P)の移動方向及び移動量に関する信号を生成し、制御装置40に出力する。
An X-axis motor drive circuit 42 is connected to the control device 40 and outputs a drive control signal corresponding to the X-axis motor drive circuit 42. In response to the drive control signal from the control device 40, the X-axis motor drive circuit 42 rotates the X-axis motor MX for moving the carriage 20 forward or backward. An X-axis encoder XE is connected to the X-axis motor drive circuit 42, and a detection signal from the X-axis encoder XE is input. Based on the detection signal from the X-axis encoder XE, the X-axis motor drive circuit 42 generates a signal related to the moving direction and moving amount of the carriage 20 (each landing position P) with respect to the pattern forming surface 4Sa and outputs the signal to the control device 40. To do.

制御装置40には、Y軸モータ駆動回路43が接続されて、Y軸モータ駆動回路43に対応する駆動制御信号を出力する。Y軸モータ駆動回路43は、制御装置40からの駆動制御信号に応答し、ステージ13を移動させるためのY軸モータMYを正転又は逆転させる。すなわち、制御装置40は、Y軸モータ駆動回路43を介して、照射待機時間Tの間にステージ13(パターン形成面4Sa)を照射待機距離WFだけ走査し、着弾位置Pに着弾した液滴Fbの中心を照射位置Peまで走査する。   A Y-axis motor drive circuit 43 is connected to the control device 40 and outputs a drive control signal corresponding to the Y-axis motor drive circuit 43. In response to the drive control signal from the control device 40, the Y-axis motor drive circuit 43 rotates the Y-axis motor MY for moving the stage 13 forward or backward. That is, the control device 40 scans the stage 13 (pattern formation surface 4Sa) during the irradiation standby time T by the irradiation standby distance WF via the Y-axis motor drive circuit 43 and reaches the landing position P. Is scanned to the irradiation position Pe.

Y軸モータ駆動回路43には、Y軸エンコーダYEが接続されて、Y軸エンコーダYEからの検出信号が入力される。Y軸モータ駆動回路43は、Y軸エンコーダYEからの検出信号に基づいて、ステージ13(パターン形成面4Sa)の移動方向及び移動量に関する信号を生成し、制御装置40に出力する。制御装置40は、Y軸モータ駆動回路43からの信号に基づいて、パターン形成面4Saに対する着弾位置Pの相対位置を演算し、目標位置が対応する着弾位置Pに位置するたびに吐出タイミング信号LPを出力する。   A Y-axis encoder YE is connected to the Y-axis motor drive circuit 43, and a detection signal is input from the Y-axis encoder YE. The Y-axis motor drive circuit 43 generates a signal related to the moving direction and moving amount of the stage 13 (pattern forming surface 4Sa) based on the detection signal from the Y-axis encoder YE, and outputs the signal to the control device 40. The control device 40 calculates the relative position of the landing position P with respect to the pattern forming surface 4Sa based on the signal from the Y-axis motor drive circuit 43, and every time the target position is located at the corresponding landing position P, the discharge timing signal LP. Is output.

制御装置40には、半導体レーザ駆動回路44が接続されて、描画動作を開始するときに描画開始信号S1を出力し、描画動作を終了するときに描画終了信号S2を出力する。半導体レーザ駆動回路44は、制御装置40からの描画開始信号S1を入力して半導体レーザLDにレーザ光Leを出射させ、制御装置40からの描画終了信号S2を入力して半導体レーザLDにレーザ光Leの出射を停止させる。すなわち、制御装置40は、半導体レーザ駆動回路44を介して、描画動作の間に半導体レーザLDを駆動制御し、レーザ光Leの照射動作を行う。   The control device 40 is connected to the semiconductor laser drive circuit 44, and outputs a drawing start signal S1 when starting a drawing operation, and outputs a drawing end signal S2 when ending the drawing operation. The semiconductor laser drive circuit 44 inputs the drawing start signal S1 from the control device 40, emits the laser light Le to the semiconductor laser LD, and inputs the drawing end signal S2 from the control device 40, and inputs the laser light to the semiconductor laser LD. Le emission is stopped. In other words, the control device 40 drives and controls the semiconductor laser LD during the drawing operation via the semiconductor laser driving circuit 44, and performs the irradiation operation of the laser light Le.

制御装置40には、吐出ヘッド駆動回路45が接続されて、各圧電素子PZを駆動するための圧電素子駆動電圧COM1を前記吐出タイミング信号LPと同期させて出力する。また、制御装置40は、ビットマップデータBMDに基づいて、所定のクロック信号に同期した吐出制御信号SIを生成し、吐出制御信号SIを吐出ヘッド駆動回路45にシリアル転送する。吐出ヘッド駆動回路45は、制御装置40からの吐出制御信号SIを各圧電素子PZに対応させて順次シリアル/パラレル変換する。吐出ヘッド駆動回路45は、制御装置40からの吐出タイミング信号LPを受けるたびに、シリアル/パラレル変換した吐出制御信号SIをラッチし、選択される各圧電素子PZにそれぞれ圧電素子駆動電圧COM1を供給する。   A discharge head drive circuit 45 is connected to the control device 40, and a piezoelectric element drive voltage COM1 for driving each piezoelectric element PZ is output in synchronization with the discharge timing signal LP. Further, the control device 40 generates an ejection control signal SI synchronized with a predetermined clock signal based on the bitmap data BMD, and serially transfers the ejection control signal SI to the ejection head drive circuit 45. The ejection head drive circuit 45 sequentially converts the ejection control signal SI from the control device 40 into serial / parallel corresponding to each piezoelectric element PZ. Each time the ejection head drive circuit 45 receives the ejection timing signal LP from the control device 40, the ejection head drive circuit 45 latches the serial / parallel converted ejection control signal SI and supplies the piezoelectric element drive voltage COM1 to each selected piezoelectric element PZ. To do.

次に、液滴吐出装置10を使用して素子パターン5Fと配線パターン6Fを描画する方法について説明する。
まず、図3に示すように、パターン形成面4Saが上側になるようにグリーンシート4Sをステージ13に載置する。このとき、ステージ13は、グリーンシート4Sをキャリッジ20の反走査方向に配置する。
Next, a method for drawing the element pattern 5F and the wiring pattern 6F using the droplet discharge device 10 will be described.
First, as shown in FIG. 3, the green sheet 4S is placed on the stage 13 so that the pattern formation surface 4Sa is on the upper side. At this time, the stage 13 arranges the green sheet 4S in the anti-scanning direction of the carriage 20.

この状態から、描画情報Iaが入力装置41から制御装置40に入力され、制御装置40が描画情報Iaに基づいたビットマップデータBMDを生成して格納する。次いで、グリーンシート4Sが走査されるときに、各目標位置が対応する着弾位置Pを通過するように、制御装置40が、X軸モータ駆動回路42を介してキャリッジ20(吐出ヘッド31)を所定の位置に配置移動する。キャリッジ20が配置移動すると、制御装置40が、Y
軸モータ駆動回路43を介してグリーンシート4Sの走査を開始する。
From this state, the drawing information Ia is input from the input device 41 to the control device 40, and the control device 40 generates and stores bitmap data BMD based on the drawing information Ia. Next, when the green sheet 4S is scanned, the control device 40 causes the carriage 20 (discharge head 31) to pass through the X-axis motor drive circuit 42 so that each target position passes the corresponding landing position P. Move to the position of. When the carriage 20 is arranged and moved, the control device 40 moves the Y
The scanning of the green sheet 4S is started via the shaft motor drive circuit 43.

グリーンシート4Sの走査を開始すると、制御装置40が、描画開始信号S1を半導体レーザ駆動回路44に出力し、半導体レーザLDからレーザ光Leを出射する。半導体レーザLDの出射するレーザ光Leは、反射ミラー27によって、グリーンシート4Sの略接線方向に反射され、パターン形成面4Saの照射位置Peに導かれる。   When scanning of the green sheet 4S is started, the control device 40 outputs a drawing start signal S1 to the semiconductor laser drive circuit 44, and emits laser light Le from the semiconductor laser LD. The laser beam Le emitted from the semiconductor laser LD is reflected by the reflecting mirror 27 in the substantially tangential direction of the green sheet 4S and guided to the irradiation position Pe on the pattern forming surface 4Sa.

また、グリーンシート4Sの走査を開始すると、制御装置40が、ビットマップデータBMDに基づいて生成した吐出制御信号SIを吐出ヘッド駆動回路45に出力する。
また、グリーンシート4Sの走査を開始すると、着弾位置Pが対応する目標位置に位置するたびに、制御装置40が、吐出タイミング信号LPを吐出ヘッド駆動回路45に出力する。すなわち、制御装置40が、吐出制御信号SIに基づいて液滴Fbを吐出するためのノズルNを選択し、選択したノズルNに対応する着弾位置Pが目標位置に位置するたびに、同目標位置に向けて液滴Fbを吐出する。吐出された液滴Fbは、パターン形成面4Sa上の対応する目標位置に着弾する。
When the scanning of the green sheet 4S is started, the control device 40 outputs an ejection control signal SI generated based on the bitmap data BMD to the ejection head drive circuit 45.
When the scanning of the green sheet 4S is started, the control device 40 outputs the ejection timing signal LP to the ejection head driving circuit 45 every time the landing position P is located at the corresponding target position. That is, every time the control device 40 selects the nozzle N for discharging the droplet Fb based on the discharge control signal SI and the landing position P corresponding to the selected nozzle N is located at the target position, the target position A droplet Fb is discharged toward the surface. The ejected droplets Fb land on corresponding target positions on the pattern formation surface 4Sa.

目標位置に着弾する液滴Fbは、制御装置40によるグリーンシート4Sの走査によって、着弾時から照射待機時間Tだけ経過すると、走査方向に照射待機距離WFだけ移動し、対応する照射位置Peに到達する。照射位置Peに到達する液滴Fbは、照射位置Peを中心にした半球面形状を呈する。そして、照射位置Peに到達する液滴Fbには、その反走査方向の端部から照射位置Peに向けてレーザ光Leが入射する。   The droplet Fb that reaches the target position moves by the irradiation standby distance WF in the scanning direction and reaches the corresponding irradiation position Pe after the irradiation standby time T has elapsed from the time of landing by scanning the green sheet 4S by the control device 40. To do. The droplet Fb that reaches the irradiation position Pe has a hemispherical shape centered on the irradiation position Pe. Then, the laser beam Le enters the droplet Fb reaching the irradiation position Pe from the end in the anti-scanning direction toward the irradiation position Pe.

液滴Fbに入射するレーザ光Leは、「入射角」が略0°であるため、その殆どが液滴Fbに透過して吸収される。この結果、液滴Fbに入射するレーザ光Leは、その吸収率を向上させることができ、対応する液滴Fbを確実に乾燥して乾燥不足のない層パターンFPを形成する。以後同様に、この層パターンFPを順に積層させることによって、配線パターン6Fを形成することができ、その形成不良を低減させることができる。   Since the “incident angle” of the laser beam Le incident on the droplet Fb is approximately 0 °, most of the laser beam Le is transmitted through the droplet Fb and absorbed. As a result, the absorption rate of the laser beam Le incident on the droplet Fb can be improved, and the corresponding droplet Fb is reliably dried to form a layer pattern FP that is not insufficiently dried. Thereafter, similarly, the layer pattern FP is sequentially laminated, whereby the wiring pattern 6F can be formed, and the formation defects can be reduced.

次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
(1)上記実施形態によれば、キャリッジ20に搭載された反射ミラー27が、半導体レーザLDの出射したレーザ光Leをパターン形成面4Saの略接線方向に沿って照射位置Peに導く。そして、制御装置40が、パターン形成面4Saに着弾した液滴Fbを走査方向に沿って走査し、照射位置Peに位置する液滴Fbの端部にレーザ光Leを入射する。
Next, effects of the present embodiment configured as described above will be described below.
(1) According to the above embodiment, the reflection mirror 27 mounted on the carriage 20 guides the laser light Le emitted from the semiconductor laser LD to the irradiation position Pe along the substantially tangential direction of the pattern forming surface 4Sa. Then, the control device 40 scans the droplet Fb landed on the pattern formation surface 4Sa along the scanning direction, and makes the laser beam Le enter the end of the droplet Fb located at the irradiation position Pe.

よって、液滴Fbに入射するレーザ光Leの入射方向と、対応する液滴表面の法線方向と、のなす角度(「入射角」)を小さくすることができる。この結果、液滴Fbに入射するレーザ光Leが、液滴表面における反射量を減少させ、液滴に対するレーザ光の吸収効率を向上させることができる。そのため、液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させることができる。   Therefore, the angle (“incident angle”) formed by the incident direction of the laser light Le incident on the droplet Fb and the normal direction of the corresponding droplet surface can be reduced. As a result, the laser beam Le incident on the droplet Fb can reduce the amount of reflection on the droplet surface and improve the absorption efficiency of the laser beam with respect to the droplet. Therefore, it is possible to improve the drying efficiency of the droplets and reduce the formation failure of the pattern composed of the droplets.

(2)上記実施形態によれば、制御装置40が、パターン形成面4Saに着弾した液滴Fbを走査方向に沿って走査し、液滴Fbが半球面状を呈するときに、液滴Fbの端部にレーザ光Leを入射する。   (2) According to the above embodiment, when the control device 40 scans the droplet Fb that has landed on the pattern formation surface 4Sa along the scanning direction, and the droplet Fb has a hemispherical shape, The laser beam Le is incident on the end.

よって、液滴Fbに入射するレーザ光Leの入射方向と、対応する液滴表面の法線方向と、のなす角度が、さらに小さくすることができる。この結果、液滴の乾燥効率を、さらに向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を、より低減させることができる。   Therefore, the angle formed by the incident direction of the laser beam Le incident on the droplet Fb and the normal direction of the corresponding droplet surface can be further reduced. As a result, the drying efficiency of the droplets can be further improved, and the formation failure of the pattern composed of droplets can be further reduced.

(3)上記実施形態によれば、キャリッジ20に搭載された反射ミラー27が、半導体
レーザLDの出射したレーザ光Leをパターン形成面4Saの照射位置Peに導く。そして、制御装置40が、パターン形成面4Saに着弾した液滴Fbを走査方向に沿って走査し、液滴Fbが半球面状を呈するタイミングで、同液滴Fbの中心を照射位置Peにする。
(3) According to the above embodiment, the reflection mirror 27 mounted on the carriage 20 guides the laser beam Le emitted from the semiconductor laser LD to the irradiation position Pe on the pattern forming surface 4Sa. Then, the control device 40 scans the droplet Fb landed on the pattern formation surface 4Sa along the scanning direction, and at the timing when the droplet Fb has a hemispherical shape, the center of the droplet Fb is set to the irradiation position Pe. .

よって、液滴Fbに入射するレーザ光Leの入射方向と、対応する液滴表面の法線方向と、のなす角度(「入射角」)を略0°にすることができる。この結果、液滴Fbに入射するレーザ光Leが、液滴表面における反射量を減少させ、液滴に対するレーザ光の吸収効率を向上させることができる。そのため、液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させることができる。   Therefore, the angle (“incident angle”) formed by the incident direction of the laser light Le incident on the droplet Fb and the normal direction of the corresponding droplet surface can be set to approximately 0 °. As a result, the laser beam Le incident on the droplet Fb can reduce the amount of reflection on the droplet surface and improve the absorption efficiency of the laser beam with respect to the droplet. Therefore, it is possible to improve the drying efficiency of the droplets and reduce the formation failure of the pattern composed of the droplets.

(4)上記実施形態によれば、反射ミラー27が、半導体レーザLDの出射したレーザ光Leをパターン形成面4Saの略接線方向に沿って反射する。よって、照射位置Peが吐出ヘッド21の直下に位置する場合であっても、レーザ光Leを照射位置Peまで導くことができる。この結果、着弾直後の液滴Fbを乾燥させることができ、各種パターンの形状やサイズの自由度を拡大させることができる。   (4) According to the above-described embodiment, the reflection mirror 27 reflects the laser light Le emitted from the semiconductor laser LD along the substantially tangential direction of the pattern formation surface 4Sa. Therefore, even when the irradiation position Pe is located immediately below the ejection head 21, the laser beam Le can be guided to the irradiation position Pe. As a result, the droplet Fb immediately after landing can be dried, and the degree of freedom in the shape and size of various patterns can be increased.

(5)上記実施形態によれば、キャリッジ20が、吐出ヘッド21、半導体レーザLD、シリンドリカルレンズ25及び反射ミラー27を搭載する。よって、着弾した液滴Fbに対するレーザ光Leの相対位置を維持させることができる。この結果、レーザ光Leを、より高い再現性の下で、液滴Fbの端部に入射することができる。また、レーザ光Leを、より高い再現性の下で、半球面状を呈する液滴Fbの中心に導くことができる。この結果、素子パターン5F及び配線パターン6Fの乾燥状態を安定させることができ、回路素子5と内部配線6の形成不良を、さらに低減させることができる。   (5) According to the above embodiment, the carriage 20 mounts the ejection head 21, the semiconductor laser LD, the cylindrical lens 25, and the reflection mirror 27. Therefore, the relative position of the laser beam Le with respect to the landed droplet Fb can be maintained. As a result, the laser beam Le can be incident on the end of the droplet Fb with higher reproducibility. Further, the laser beam Le can be guided to the center of the droplet Fb having a hemispherical shape with higher reproducibility. As a result, the dry state of the element pattern 5F and the wiring pattern 6F can be stabilized, and the formation defects of the circuit element 5 and the internal wiring 6 can be further reduced.

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、レーザ光Leを、液滴Fbの端部から該液滴Fbの中心に向けて入射させる構成にした。これに限らず、例えば、レーザ光Leを、液滴Fbの端部から該液滴Fbの中心以外の内方に向けて入射させる構成であってもよい。つまり、パターン形成面4Saの略接線方向に沿うレーザ光Leを、液滴Fbの端部に入射させる構成であればよい。
In addition, you may change the said embodiment as follows.
In the above embodiment, the laser light Le is configured to enter from the end of the droplet Fb toward the center of the droplet Fb. For example, the laser beam Le may be incident from the end of the droplet Fb toward the inside other than the center of the droplet Fb. That is, the laser beam Le along the substantially tangential direction of the pattern forming surface 4Sa may be configured to enter the end portion of the droplet Fb.

・上記実施形態では、パターン形成面4Saの略接線方向に沿うレーザ光Leを、液滴Fbの端部に入射する構成した。これに限らず、半球面形状を呈する液滴Fbの中心に向けてレーザ光Leが入射する構成であれば、その入射方向と入射位置が、それぞれパターン形成面4Saの略接線方向と液滴Fbの中心に限定されるものではない。   In the above embodiment, the laser beam Le along the substantially tangential direction of the pattern forming surface 4Sa is configured to enter the end of the droplet Fb. However, the present invention is not limited to this, and if the laser light Le is incident toward the center of the droplet Fb having a hemispherical shape, the incident direction and the incident position are substantially the tangential direction of the pattern forming surface 4Sa and the droplet Fb, respectively. It is not limited to the center.

・上記実施形態では、レーザ照射手段を液滴吐出ヘッドのY矢印方向に配設し、レーザ光Leを略Y矢印方向に沿ってのみ照射する構成にした。これに限らず、例えば、吐出ヘッド21を対称中心にした一対のレーザ照射手段(半導体レーザLD、シリンドリカルレンズ25及び反射ミラー27)を、それぞれキャリッジ20のY矢印方向側と反Y矢印方向側に搭載する構成にしてもよい。そして、略Y矢印方向に沿うレーザ光Leと、略反Y矢印方向に沿うレーザ光Leとを、それぞれ異なる液滴Fbに向けて照射する構成にしてもよい。   In the above embodiment, the laser irradiation means is disposed in the Y arrow direction of the droplet discharge head, and the laser beam Le is irradiated only along the substantially Y arrow direction. For example, a pair of laser irradiation means (semiconductor laser LD, cylindrical lens 25, and reflection mirror 27) centered on the ejection head 21 are arranged on the Y arrow direction side and the anti-Y arrow direction side of the carriage 20, for example. You may make it the structure to mount. And you may make it the structure which irradiates the laser beam Le which follows a substantially Y arrow direction, and the laser beam Le which follows a substantially anti-Y arrow direction toward each different droplet Fb.

なお、この際、制御装置40は、着弾した液滴FbをY矢印方向に沿って走査するときに、該液滴Fb(の中心位置)に向けて、略Y矢印方向に沿うレーザ光Leを選択照射する構成が好ましい。また、制御装置40は、着弾した液滴Fbを反Y矢印方向に沿って走査するときに、該液滴Fb(の中心位置)に向けて、略反Y矢印方向に沿うレーザ光Leを選択照射する構成が好ましい。   At this time, when the controller 40 scans the landed droplet Fb along the Y arrow direction, the control device 40 emits the laser beam Le along the Y arrow direction toward the droplet Fb (the center position). A configuration for selective irradiation is preferable. In addition, when the controller 40 scans the landed droplet Fb along the anti-Y arrow direction, the control device 40 selects the laser light Le along the substantially anti-Y arrow direction toward the droplet Fb (center position). The structure to irradiate is preferable.

これによれば、着弾した液滴Fb(基板)を、Y矢印方向及び反Y矢印方向の双方に相対的に走査させることができる。しかも、各液滴Fbの端部に、それぞれ液滴Fbの略走査方向と略同一方向のレーザ光Leを入射させることができる。この結果、液滴Fbの乾燥効率を、より高い再現性の下で向上させることができ、液滴からなるパターンの形成不良を、より確実に低減させることができる。   According to this, the landed droplet Fb (substrate) can be relatively scanned in both the Y arrow direction and the counter Y arrow direction. In addition, the laser beam Le in the substantially same direction as the scanning direction of the droplet Fb can be incident on the end of each droplet Fb. As a result, the drying efficiency of the droplets Fb can be improved with higher reproducibility, and the formation failure of the pattern composed of droplets can be more reliably reduced.

・上記実施形態では、各液滴Fbを、共通するレーザ光Leによって乾燥する構成にした。これに限らず、例えば半導体レーザLDの出射したレーザ光Leを各ノズルNに対応させて分割し、分割した各レーザ光Leを、それぞれ対応する液滴Fbのみ照射する構成にしてもよい。   In the above embodiment, each droplet Fb is configured to be dried by the common laser beam Le. For example, the laser beam Le emitted from the semiconductor laser LD may be divided so as to correspond to each nozzle N, and each divided laser beam Le may be irradiated only with the corresponding droplet Fb.

・あるいは、半導体レーザLDをノズルNの数量分だけ配設し、各半導体レーザLDからのレーザ光Leを、それぞれ対応する液滴Fbの領域に照射する構成にしてもよい。この際、制御装置40、半導体レーザ駆動回路44及び吐出ヘッド駆動回路45を、以下のように構成するのが好ましい。   Alternatively, a configuration may be adopted in which the semiconductor lasers LD are arranged in the number corresponding to the number of the nozzles N, and the laser light Le from each semiconductor laser LD is irradiated to the corresponding droplet Fb region. At this time, the control device 40, the semiconductor laser drive circuit 44, and the ejection head drive circuit 45 are preferably configured as follows.

すなわち、図8に示すように、制御装置40は、各半導体レーザLDを駆動するための半導体レーザ駆動電圧COM2を前記吐出タイミング信号LPと同期させて半導体レーザ駆動回路44に出力する。吐出ヘッド駆動回路45は、半導体レーザ駆動回路44に設けられた遅延回路44aに、ラッチした吐出制御信号SIを順次出力する。半導体レーザ駆動回路44は、吐出ヘッド駆動回路45からの吐出制御信号SIを遅延回路44aで受け、吐出制御信号SIに基づいて吐出した液滴Fbが照射位置Peに到達するまで待機する。そして、同液滴Fbが照射位置Peに到達するタイミングで、吐出制御信号SIに基づいて選択される各半導体レーザLDに、それぞれ半導体レーザ駆動電圧COM2を供給する。これによれば、着弾した液滴Fbにのみレーザ光Leを照射するため、レーザ光Leの利用効率を向上させることができる。   That is, as shown in FIG. 8, the control device 40 outputs the semiconductor laser drive voltage COM2 for driving each semiconductor laser LD to the semiconductor laser drive circuit 44 in synchronization with the ejection timing signal LP. The ejection head drive circuit 45 sequentially outputs the latched ejection control signal SI to a delay circuit 44 a provided in the semiconductor laser drive circuit 44. The semiconductor laser driving circuit 44 receives the ejection control signal SI from the ejection head driving circuit 45 by the delay circuit 44a and waits until the droplet Fb ejected based on the ejection control signal SI reaches the irradiation position Pe. Then, at the timing when the droplet Fb reaches the irradiation position Pe, the semiconductor laser drive voltage COM2 is supplied to each semiconductor laser LD selected based on the ejection control signal SI. According to this, since the laser beam Le is irradiated only on the landed droplet Fb, the utilization efficiency of the laser beam Le can be improved.

・上記実施形態では、レーザ光Leによって、液滴Fbを乾燥させる構成にした。これに限らず、レーザ光Leによって、液滴Fbを、乾燥及び焼成させる構成にしてもよい。これによれば、局所的に照射するレーザ光Leによって、素子パターン5Fと配線パターン6Fの焼成不良を低減させることができる。   In the above embodiment, the droplet Fb is dried by the laser beam Le. However, the configuration is not limited thereto, and the droplet Fb may be dried and fired by the laser beam Le. According to this, the firing failure of the element pattern 5F and the wiring pattern 6F can be reduced by the laser light Le irradiated locally.

・上記実施形態では、描画情報Iaに基づいてビットマップデータBMDを生成する構成にした。これに限らず、予め外部装置で生成したビットマップデータBMDを入力装置41から制御装置40に入力する構成にしてもよい。   In the above embodiment, the bitmap data BMD is generated based on the drawing information Ia. However, the present invention is not limited to this, and the bitmap data BMD previously generated by the external device may be input from the input device 41 to the control device 40.

・上記実施形態では、半導体レーザLDからのレーザ光Leがガルバノミラーを介して液滴Fbの領域を照射する構成にした。これに限らず、半導体レーザLDからのレーザ光Leがプリズムミラーを介して液滴Fbの領域を照射する構成であってもよく、あるいは、シリンドリカルレンズ25の出射したレーザ光Leが直接液滴Fbを照射する構成であってもよい。   In the above embodiment, the laser beam Le from the semiconductor laser LD is configured to irradiate the region of the droplet Fb via the galvanomirror. Not limited to this, the laser beam Le from the semiconductor laser LD may irradiate the region of the droplet Fb via the prism mirror, or the laser beam Le emitted from the cylindrical lens 25 may be directly applied to the droplet Fb. The structure which irradiates may be sufficient.

・上記実施形態では、液滴吐出ヘッドを、圧電素子駆動方式の液滴吐出ヘッド21に具体化した。これに限らず、液滴吐出ヘッドを、抵抗加熱方式や静電駆動方式の吐出ヘッドに具体化してもよい。   In the above embodiment, the droplet discharge head is embodied as the piezoelectric element drive type droplet discharge head 21. However, the present invention is not limited to this, and the droplet discharge head may be embodied as a resistance heating type or electrostatic drive type discharge head.

・上記実施形態では、全ての回路素子5及び内部配線6をインクジェット法で形成する構成にした。これに限らず、比較的に微細な回路素子5あるいは内部配線6のみを、上記するインクジェット法によって形成する構成であってもよい。   In the above embodiment, all the circuit elements 5 and the internal wiring 6 are formed by the ink jet method. However, the present invention is not limited to this, and only a relatively fine circuit element 5 or internal wiring 6 may be formed by the ink jet method described above.

・上記実施形態では、パターン形成材料を、金属インクに具体化した。これに限らず、例えば、パターン形成材料を、絶縁膜材料や有機材料の分散した液状体に具体化してもよい。つまり、パターン形成材料は、レーザ光を受けて乾燥し、固相のパターンを形成する材料であればよい。   In the above embodiment, the pattern forming material is embodied in metal ink. For example, the pattern forming material may be embodied as a liquid material in which an insulating film material or an organic material is dispersed. That is, the pattern forming material may be any material that is dried by receiving laser light and forms a solid phase pattern.

・上記実施形態では、パターンを、素子パターン5F及び配線パターン6Fに具体化した。これに限らず、パターンを、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、平面状の電子放出素子を備えた電界効果型表示装置(FEDやSEDなど)などに備えられる各種金属配線に具体化してもよい。あるいは、パターンを、複数の線パターンやドットパターンからなる識別コードに具体化してもよい。つまり、パターンは、乾燥した液滴によって形成される固相のパターンであればよい。   In the above embodiment, the pattern is embodied as the element pattern 5F and the wiring pattern 6F. However, the present invention is not limited to this, and the pattern may be embodied in various metal wirings provided in a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a field effect display device (FED, SED, etc.) provided with a planar electron-emitting device. Good. Alternatively, the pattern may be embodied as an identification code composed of a plurality of line patterns or dot patterns. That is, the pattern may be a solid phase pattern formed by dry droplets.

本発明の回路モジュールを示す斜視図。The perspective view which shows the circuit module of this invention. 同じく、回路モジュールの製造方法を説明する説明図。Similarly, explanatory drawing explaining the manufacturing method of a circuit module. 同じく、液滴吐出装置を示す斜視図。Similarly, a perspective view showing a droplet discharge device. 同じく、液滴吐出ヘッドを示す斜視図。Similarly, a perspective view showing a droplet discharge head. 同じく、液滴吐出ヘッドを説明する説明図。Similarly, an explanatory view explaining a droplet discharge head. 同じく、半導体レーザを説明する説明図。Similarly, an explanatory view for explaining a semiconductor laser. 同じく、液滴吐出装置の電気的構成を説明する電気ブロック回路図。Similarly, the electric block circuit diagram explaining the electrical constitution of a droplet discharge device. 変更例の液滴吐出装置の電気的構成を説明する電気ブロック回路図。The electric block circuit diagram explaining the electric constitution of the droplet discharge apparatus of the example of a change.

符号の説明Explanation of symbols

1…回路モジュール、4S…基板としてのグリーンシート、5…回路素子、5F…パターンを構成する素子パターン、6…金属配線としての内部配線、6F…パターンを構成する配線パターン、10…液滴吐出装置、13…走査手段としてのステージ、20…キャリッジ、21…液滴吐出ヘッド、40…制御手段としての制御装置、F…パターン形成材料としての金属インク、Fb…液滴、Le…レーザ光、LD…レーザ照射手段を構成する半導体レーザ、Pe…照射位置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Circuit module, 4S ... Green sheet as a board | substrate, 5 ... Circuit element, 5F ... Element pattern which comprises pattern, 6 ... Internal wiring as metal wiring, 6F ... Wiring pattern which comprises pattern, 10 ... Droplet discharge Device: 13 ... Stage as scanning means, 20 ... Carriage, 21 ... Droplet ejection head, 40 ... Control device as control means, F ... Metal ink as pattern forming material, Fb ... Droplet, Le ... Laser light, LD: a semiconductor laser constituting laser irradiation means, Pe: irradiation position.

Claims (12)

パターン形成材料を液滴にして基板に吐出し、前記基板に着弾した前記液滴を乾燥して前記液滴からなるパターンを前記基板に形成するようにしたパターン形成方法において、
前記基板に着弾した前記液滴の端部に前記基板の略接線方向に沿うレーザ光を照射し、前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
In a pattern forming method in which a pattern forming material is discharged onto a substrate as droplets, and the droplets landed on the substrate are dried to form a pattern of the droplets on the substrate.
A pattern forming method comprising: irradiating an end portion of the droplet landed on the substrate with laser light along a substantially tangential direction of the substrate to dry the droplet.
パターン形成材料を液滴にして基板に吐出し、前記基板に着弾した前記液滴を乾燥して前記液滴からなるパターンを前記基板に形成するようにしたパターン形成方法において、
前記基板に着弾した前記液滴が半球面状を呈するときに前記液滴の中心に向けてレーザ光を照射し、前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
In a pattern forming method in which a pattern forming material is discharged onto a substrate as droplets, and the droplets landed on the substrate are dried to form a pattern of the droplets on the substrate.
A pattern forming method comprising: irradiating a laser beam toward the center of a droplet when the droplet landed on the substrate has a hemispherical shape to dry the droplet.
請求項2に記載のパターン形成方法において、
前記基板の略接線方向に沿うレーザ光を前記液滴の中心に向けて照射して前記液滴を乾燥するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
In the pattern formation method of Claim 2,
A pattern forming method, wherein the droplet is dried by irradiating a laser beam along a substantially tangential direction of the substrate toward a center of the droplet.
パターン形成材料を液滴にして基板に吐出する液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置において、
前記基板の略接線方向に沿うレーザ光を前記基板に向けて照射するレーザ照射手段と、
前記基板を一方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記レーザ照射手段とに対して相対的に走査する走査手段と、
前記基板に着弾した前記液滴の端部が前記レーザ光の領域に位置するように前記走査手段を駆動制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
In a droplet discharge apparatus equipped with a droplet discharge head for discharging a pattern forming material to a substrate as a droplet,
Laser irradiation means for irradiating the substrate with laser light along a substantially tangential direction of the substrate;
Scanning means for scanning the substrate relative to the droplet discharge head and the laser irradiation means along one direction;
Control means for driving and controlling the scanning means so that the end of the droplet landed on the substrate is positioned in the region of the laser beam;
A droplet discharge apparatus comprising:
請求項4に記載の液滴吐出装置において、
前記走査手段は、前記基板を前記一方向と前記一方向の逆方向に沿って相対的に走査し、
前記レーザ照射手段は、略前記一方向と前記一方向の略逆方向に沿うレーザ光を前記基板に向けて照射し、
前記制御手段は、前記基板に着弾した前記液滴を前記一方向に沿って前記レーザ照射手段に対して相対移動するときに、前記液滴の端部が略前記一方向に沿うレーザ光の領域に位置するように前記走査手段を駆動制御し、前記基板に着弾した前記液滴を前記一方向の逆方向に沿って前記レーザ照射手段に対して相対移動するときに、前記液滴の端部が前記一方向の略逆方向に沿うレーザ光の領域に位置するように前記走査手段を駆動制御することを特徴とする液滴吐出装置。
The droplet discharge device according to claim 4,
The scanning means relatively scans the substrate along the direction opposite to the one direction;
The laser irradiation means irradiates the substrate with laser light along substantially the one direction and substantially opposite to the one direction,
When the control means moves the droplet landed on the substrate relative to the laser irradiation means along the one direction, the end of the droplet is a region of the laser light substantially along the one direction. When the liquid droplets landed on the substrate are moved relative to the laser irradiation unit along the opposite direction of the one direction. The droplet discharge apparatus characterized in that the scanning means is driven and controlled so that is positioned in a laser light region along a direction substantially opposite to the one direction.
請求項4又は5に記載の液滴吐出装置において、
前記制御手段は、前記基板に着弾した液滴が半球面状を呈するときに、前記液滴の端部が前記レーザ光の領域に位置するように前記走査手段を駆動制御することを特徴とする液滴吐出装置。
In the droplet discharge device according to claim 4 or 5,
The control means drives and controls the scanning means so that an end portion of the droplet is positioned in the region of the laser beam when the droplet landed on the substrate has a hemispherical shape. Droplet discharge device.
パターン形成材料を液滴にして基板に吐出する液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置において、
前記基板に向けてレーザ光を照射するレーザ照射手段と、
前記基板を一方向に沿って前記液滴吐出ヘッドと前記レーザ照射手段とに対して相対的に走査する走査手段と、
前記基板に着弾した液滴が半球面状を呈するときに、前記液滴の中心が前記レーザ光の照射位置に位置するように、前記走査手段を駆動制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
In a droplet discharge apparatus equipped with a droplet discharge head for discharging a pattern forming material to a substrate as a droplet,
Laser irradiation means for irradiating a laser beam toward the substrate;
Scanning means for scanning the substrate relative to the droplet discharge head and the laser irradiation means along one direction;
Control means for driving and controlling the scanning means so that the center of the droplet is positioned at the irradiation position of the laser beam when the droplet landed on the substrate has a hemispherical shape;
A droplet discharge apparatus comprising:
請求項7に記載の液滴吐出装置において、
前記レーザ照射手段は、前記基板の略接線方向に沿うレーザ光を照射することを特徴とする液滴吐出装置。
In the droplet discharge device according to claim 7,
The liquid droplet ejection apparatus, wherein the laser irradiation unit irradiates a laser beam along a substantially tangential direction of the substrate.
請求項7又は8に記載の液滴吐出装置において、
前記走査手段は、前記基板を前記一方向と前記一方向の逆方向に沿って相対的に走査し、
前記レーザ照射手段は、略前記一方向と前記一方向の略逆方向に沿うレーザ光を前記基板に向けて照射し、
前記制御手段は、前記基板に着弾した前記液滴を前記一方向に沿って前記レーザ照射手段に対して相対移動するときに、前記液滴の中心が略前記一方向に沿うレーザ光の照射位置に位置するように前記走査手段を駆動制御し、前記基板に着弾した前記液滴を前記一方向の逆方向に沿って前記レーザ照射手段に対して相対移動するときに、前記液滴の中心が前記一方向の略逆方向に沿うレーザ光の照射位置に位置するように前記走査手段を駆動制御することを特徴とする液滴吐出装置。
In the droplet discharge device according to claim 7 or 8,
The scanning means relatively scans the substrate along the direction opposite to the one direction;
The laser irradiation means irradiates the substrate with laser light along substantially the one direction and substantially opposite to the one direction,
When the control means moves the droplet landed on the substrate relative to the laser irradiation means along the one direction, the position of the laser light irradiation center of the droplet substantially along the one direction. The scanning means is driven and controlled so that the liquid droplets landed on the substrate move relative to the laser irradiation means along the direction opposite to the one direction. A liquid droplet ejection apparatus, wherein the scanning unit is driven and controlled so as to be positioned at a laser beam irradiation position along a direction substantially opposite to the one direction.
請求項4〜9のいずれか1つに記載の液滴吐出装置において、
前記液滴吐出ヘッドを搭載するキャリッジを備え、
前記レーザ照射手段は、
前記キャリッジに搭載されて前記レーザ光を出射する半導体レーザと、
前記キャリッジに搭載されて前記半導体レーザの出射したレーザ光を前記液滴に照射する照射光学系と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
In the droplet discharge device according to any one of claims 4 to 9,
A carriage on which the droplet discharge head is mounted;
The laser irradiation means includes
A semiconductor laser mounted on the carriage and emitting the laser beam;
An irradiation optical system for irradiating the droplets with laser light emitted from the semiconductor laser mounted on the carriage;
A droplet discharge apparatus comprising:
請求項4〜10のいずれか1つに記載の液滴吐出装置において、
前記パターン形成材料は、金属微粒子の分散した金属インクであって、
前記基板は、低温焼成セラミック基板であることを特徴とする液滴吐出装置。
In the droplet discharge device according to any one of claims 4 to 10,
The pattern forming material is a metal ink in which metal fine particles are dispersed,
The droplet discharge device, wherein the substrate is a low-temperature fired ceramic substrate.
基板と、前記基板に形成された回路素子と、前記基板に形成されて前記回路素子に電気的に接続された金属配線と、を備えた回路モジュールにおいて、
前記金属配線は、請求項4〜11のいずれか1つに記載の液滴吐出装置によって形成されたことを特徴とする回路モジュール。
In a circuit module comprising a substrate, a circuit element formed on the substrate, and a metal wiring formed on the substrate and electrically connected to the circuit element,
The circuit module, wherein the metal wiring is formed by the droplet discharge device according to any one of claims 4 to 11.
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