JP2007171735A

JP2007171735A - 広帯域反射防止膜

Info

Publication number: JP2007171735A
Application number: JP2005371539A
Authority: JP
Inventors: Koji Yamaguchi; 晃司山口
Original assignee: Epson Toyocom Corp
Current assignee: Miyazaki Epson Corp
Priority date: 2005-12-26
Filing date: 2005-12-26
Publication date: 2007-07-05
Also published as: CN1991410A; KR20070068286A; US20070146868A1

Abstract

【課題】反射防止膜の広帯域化を図るとともに、光学素子を量産した際に反射防止膜の透
過率特性のバラツキを低減した広帯域反射防止膜を提供することを目的とする。
【解決手段】広帯域反射防止膜６は、基板７に７層からなる薄膜を積層した構造である。
薄膜を構成する薄膜材料としては、基板７に対して付着性の強いことが知られているＭｇ
Ｆ₂を第一の薄膜８の材料として成膜する。更に、以降、広帯域反射防止膜６は、第一の
薄膜８の表面から順に、第二の薄膜９の材料として、Ｈ₄（ＬａとＴｉＯ₂の混合物である
）を成膜しており、第三の薄膜１０の材料として、ＭｇＦ₂を成膜しており、第四の薄膜
１１の材料として、Ｈ₄を成膜しており、第五の薄膜１２の材料として、ＭｇＦ₂を成膜し
ており、第六の薄膜１３の材料として、Ｈ₄を成膜しており、第七の薄膜１４の材料とし
て、ＭｇＦ₂を成膜している。
【選択図】図１

Description

本発明は広帯域反射防止膜に関し、特に光学素子の入出射面に成膜されて、入射した光
線の反射光量を低減する反射防止膜において、その透過率特性を広帯域化するとともに、
透過率特性のバラツキを低減することを可能にした広帯域反射防止膜に関する。

レンズ、プリズム、或いは、波長板など、光学関連機器を構成する光学素子の入出射面
には、入射する光線の光量減衰を防止するため、入出射面で光線が反射することを低減さ
せる反射防止膜が成膜されている（特許文献１、２、３）。
図７は、従来の反射防止膜の構成例を示す図である。図７に示した従来の反射防止膜１
は、光学素子となる基板２に３層からなる薄膜を積層した構成で、可視光帯域において所
望の性能を有するよう設計されたものである。反射防止膜１は、基板２の表面から順に、
第一の薄膜３、第二の薄膜４、及び、第三の薄膜５を積層した構成を有している。第一の
薄膜３は中間屈折率物質であるＡｌ₂Ｏ₃から成り、第二の薄膜４は高屈折率物質であるメ
ルク社製Ｈ₄（ＬａとＴｉＯ₂の混合物である）から成り、第三の薄膜５は低屈折率物質で
あるＭｇＦ₂から成る。
なお、上記高屈折率物質とは、基板２より屈折率が大きい物質を示し、低屈折率物質と
は、基板２より屈折率が小さい物質を示し、中間屈折率物質とは、高屈折率物質と低屈折
率物質の中間の屈折率である物質を示す。

次に、従来の反射防止膜の具体的な透過率特性のデータについて説明する。
図８は、従来の反射防止膜の透過率特性を示すグラフ図であり、グラフの透過率特性は
裏面反射を含んだ数値を示す。グラフに示す曲線の細線は、シミュレーションにより求め
た反射防止膜の透過率特性の設計値を示し、太線は実際に製造している従来の光学素子の
反射防止膜の透過率特性の実測値を示している。グラフから分るように、夫々の透過率特
性は、おおよそ、入射光線の波長４５０ｎｍから６５０ｎｍの範囲で、シミュレーション
により求めた透過率特性の数値、及び、実測して求めた透過率特性の数値ともに必要な性
能である透過率９４．５％以上を確保している。
特開２０００−１９９８０２公報特開２００１−２３５６０２公報特開２００２−３１１２０９公報

しかしながら、従来の反射防止膜は、可視光帯域において使用する光学素子などに成膜
した際に、可視光帯域近辺の紫外線帯域や赤外線帯域の透過率の低下が、光学素子の光学
特性に少なからず悪影響を与え、例えば、カメラなどの光学機器にこのような光学素子を
使用すると、色合いに微妙な変化が生じるなどの問題が発生していた。
前述した図８に示す如く、従来の反射防止膜の透過率特性によると、波長４００ｎｍに
おいて透過率は、設計値、実測値ともに９４．５％を割り込んでおり、一方、波長７００
ｎｍにおいて透過率は、実測値が９４．５％を割り込んでいる。
また、従来の反射防止膜を成膜した光学素子は、量産した際に光学素子の透過光量のバ
ラツキが発生しており、光学関連機器の光学特性が、個々の光学素子により変化するとい
う問題が生じていた。従来の反射防止膜を成膜した光学素子について、量産した際の光学
特性のデータを調査したところ、可視光帯域において最高透過率と最低透過率との差が平
均的に０．６６％程度発生していた。

図９は、従来の反射防止膜の透過率特性のバラツキを示す図である。図９（ａ）に示し
たグラフの透過率特性は、量産した際の光学素子の実測値であり、透過率特性のバラツキ
の大きな９個の光学素子を抜粋し、その透過率特性を重ねて表示している。また、透過率
特性は、裏面反射を含んだ数値である。
図９（ｂ）に示した表は、抜粋した９個の光学素子の透過率特性のバラツキの具体的数
値を示すものである。具体的数値は、波長帯域４２０ｎｍから６８０ｎｍの範囲において
、透過率最大値から透過率最小値を差し引いた透過率帯域偏差を示す。表に示すように、
透過率帯域偏差の平均値は、０．６６％程度であった。
本発明は、上述したような問題を解決するためになされたものであって、反射防止膜の
更なる広帯域化を図るとともに、光学素子を量産した際に反射防止膜の透過率特性のバラ
ツキを低減した広帯域反射防止膜を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明における広帯域反射防止膜は、以下の構成をとる。
本発明に係る広帯域反射防止膜は、光学素子の入射面、又は出射面の少なくとも一方に
成膜され、入射、又は出射した光線の反射光量を低減する広帯域反射防止膜であって、７
層の薄膜を積層した構成を備えていることを特徴とする。
また本発明に係る広帯域反射防止膜は、前記光学素子の表面に、低屈折率材料を用いた
薄膜と、高屈折率材料を用いた薄膜とを交互に積層した７層の積層膜であることを特徴と
する。
これによれば、広帯域反射防止膜は、低屈折率材料を用いた薄膜と高屈折率材料を用い
た薄膜とを交互に７層積層したことにより、反射防止膜を広帯域化するとともに、反射防
止膜の透過率特性のバラツキを低減することができる。そこで、この広帯域反射防止膜は
、例えば、カメラなどの光学機器を構成する光学素子に成膜すると、微小な色合い変化の
改善を図ることができる。更に、広帯域反射防止膜は、可視光帯域近辺の紫外線帯域や赤
外線帯域の透過率の低下を低減したことから、フレア対策の効果が得られるとともに、反
射防止膜からの多重反射による反射ゴーストの発生を防止することが可能となる。
また、広帯域反射防止膜は、透過率特性のバラツキを低減したことから、この広帯域反
射防止膜を成膜した光学素子を光学関連機器に使用した際に、光学関連機器の光学特性が
安定し、光学関連機器の性能を向上させることができる。

また本発明に係る広帯域反射防止膜は、前記光学素子の表面上に、ＭｇＦ₂を材料とし
た膜厚が約３７．７ｎｍである第一の薄膜と、Ｈ₄（ＬａとＴｉＯ₂の混合物である）を材
料とした膜厚が約６．５ｎｍである第二の薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約１２２
．５ｎｍである第三の薄膜と、Ｈ₄を材料とした膜厚が約１３．０ｎｍである第四の薄膜
と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約３７．７ｎｍである第五の薄膜と、Ｈ₄を材料とした膜
厚が約１３０．０ｎｍである第六の薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約８４．８ｎｍ
である第七の薄膜と、を順次積層した構成を備えていることを特徴とする。
また本発明に係る広帯域反射防止膜は、光学素子の表面上に、ＭｇＦ₂を材料とした膜
厚が約３７．７ｎｍである第一の薄膜と、ＯＨ₅（ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の混合物である）を
材料とした膜厚が約６．３ｎｍである第二の薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約１２
２．５ｎｍである第三の薄膜と、ＯＨ₅を材料とした膜厚が約１２．６ｎｍである第四の
薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約３７．７ｎｍである第五の薄膜と、ＯＨ₅を材料と
した膜厚が約１２５．６ｎｍである第六の薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約８４．
８ｎｍである第七の薄膜と、を順次積層した構成を備えていることを特徴とする。

以下、図示した実施形態に基づいて本発明を詳細に説明する。
本発明においては、反射防止膜を広帯域化する手段として、光学素子の表面に積層する
反射防止膜を構成する薄膜の層数を増やすとともに、最適な薄膜の材料を選択し、最適な
薄膜の膜厚を設定することとした。反射防止膜は、積層する薄膜の層数を増やすことによ
り透過率特性が広帯域化されるとともに、透過率特性のバラツキが低減されるという特性
を有している。また、反射防止膜は、あまり層数が増えると量産効率が悪く光学素子のコ
スト高を招くので、反射防止膜の透過率特性と積層する薄膜の層数とのバランスをとるこ
とが必要である。本発明においては、設計値を用いたシミュレーションや試作による検討
の結果、反射防止膜の最適な薄膜の層数を７層とした。そこで、反射防止膜は、７層の薄
膜を用いて広帯域化を図るとともに、量産した際に反射防止膜の透過光量のバラツキを低
減したことが特徴である。

図１は、本発明に係る広帯域反射防止膜の第一の実施形態を示す構成図である。図１に
示す如く、第一の実施形態における広帯域反射防止膜６は、７層からなる薄膜を積層した
構成で、可視光帯域を超えて可視光帯域近辺の紫外線帯域、及び、赤外線帯域に渡って所
望の性能を維持するよう設計されたものである。そこで、広帯域反射防止膜６は、光学素
子となる基板７の入出射面の表面に、基板７の表面上に、第一の薄膜８と、第二の薄膜９
と、第三の薄膜１０と、第四の薄膜１１と、第五の薄膜１２と、第六の薄膜１３と、及び
、第七の薄膜１４と、を順次積層した構成を有している。
また、広帯域反射防止膜６を構成する第一の薄膜８の薄膜材料としては、基板７に対し
て付着性が強い（特にガラス基板は相性が良い）ＭｇＦ₂を成膜している。更に、以降、
広帯域反射防止膜６は、第二の薄膜９から第七の薄膜１４に渡って、第一の薄膜８の表面
から順に、高屈折率材料を用いた薄膜と、低屈折率材料を用いた薄膜とを交互に６層積層
して成膜している。

第一の実施形態においては、薄膜の高屈折率材料として屈折率が２．００程度であるＨ
₄（ＬａとＴｉＯ₂の混合物である）を使用し、薄膜の低屈折率材料として屈折率が１．３
８程度であるＭｇＦ₂を使用した。そこで、第二の薄膜９の材料は、Ｈ₄とし、第三の薄膜
１０の材料は、ＭｇＦ₂とし、第四の薄膜１１の材料は、Ｈ₄とし、第五の薄膜１２の材料
は、ＭｇＦ₂とし、第六の薄膜１３の材料は、Ｈ₄とし、第七の薄膜１４の材料は、ＭｇＦ
₂としている。

次に、広帯域反射防止膜６を構成する７層の薄膜について、それぞれの最適な膜厚を求
める計算式を示し、具体的な膜厚の数値について説明する。
先ず、各層の物理膜厚をｄ_m（ｍ＝１、２、３、４、５、６、７として、薄膜の層位置
を示す）、ｎを薄膜材料の屈折率、λを可視光の中心波長（５２０ｎｍ）とすると、
ｄ_m＝λ／４×ｎ・・・・・（１）
が成立する。
次に、各層の膜厚を、所望の光学特性が得られるように、前記物理膜厚に所定の係数を
掛け合わせて以下の通り設定した。
第一の薄膜８の膜厚＝０．４×ｄ₁
第二の薄膜９の膜厚＝０．１×ｄ₂
第三の薄膜１０の膜厚＝１．３×ｄ₃
第四の薄膜１１の膜厚＝０．２×ｄ₄
第五の薄膜１２の膜厚＝０．４×ｄ₅
第六の薄膜１３の膜厚＝２．０×ｄ₆
第七の薄膜１４の膜厚＝０．９×ｄ₇

そこで、各薄膜の膜厚は、前記（１）式を用いて下記のような計算により求めることが
できる。なお、薄膜の低屈折材料であるＭｇＦ₂の屈折率は、１．３８とし、薄膜の高屈
折材料であるＨ₄の屈折率は、２．００とする。
第一の薄膜８の膜厚＝
０．４×ｄ₁＝０．４×λ／４×ｎ＝０．４×５２０／４×１．３８≒３７．７（ｎｍ）
第二の薄膜９の膜厚＝
０．１×ｄ₂＝０．１×λ／４×ｎ＝０．１×５２０／４×２．００＝６．５（ｎｍ）
第三の薄膜１０の膜厚＝
１．３×ｄ₃＝１．３×λ／４×ｎ＝１．３×５２０／４×１．３８≒１２２．５（ｎｍ
）
第四の薄膜１１の膜厚＝
０．２×ｄ₄＝０．２×λ／４×ｎ＝０．２×５２０／４×２．００＝１３．０（ｎｍ）
第五の薄膜１２の膜厚＝
０．４×ｄ₅＝０．４×λ／４×ｎ＝０．４×５２０／４×１．３８≒３７．７（ｎｍ）
第六の薄膜１３の膜厚＝
２．０×ｄ₆＝２．０×λ／４×ｎ＝２．０×５２０／４×２．００＝１３０．０（ｎｍ
）
第七の薄膜１４の膜厚＝
０．９×ｄ₇＝０．９×λ／４×ｎ＝０．９×５２０／４×１．３８≒８４．８（ｎｍ）
以上、説明した広帯域反射防止膜６の薄膜構成について、その薄膜の層数、各薄膜の材
料、及び、各薄膜の膜厚をまとめて表に示す。図２は、第一の実施形態における広帯域反
射防止膜の構成を示す表図である。図２に示した表の如く、広帯域反射防止膜６は、所定
の材料の薄膜を、所定の膜厚にて７層成膜して構成する。

次に、本発明に係る第二の実施形態について説明する。第二の実施形態は、第一の実施
形態と同様な薄膜構成において、高屈折率材料としてキャノンオプトロン社製ＯＨ₅（Ｚ
ｒＯ₂とＴｉＯ₂の混合物である）を使用したことが特徴である。
図３は、本発明に係る広帯域反射防止膜の第二の実施形態を示す構成図である。図３に
示す如く、第二の実施形態における広帯域反射防止膜１５は、７層からなる薄膜を積層し
た構成で、可視光帯域を超えて可視光帯域近辺の紫外線帯域、及び、赤外線帯域に渡って
所望の性能を維持するよう設計されたものである。そこで、広帯域反射防止膜１５は、光
学素子となる基板１６の入出射面の表面に、基板１６の表面から順に、第一の薄膜１７と
、第二の薄膜１８と、第三の薄膜１９と、第四の薄膜２０と、第五の薄膜２１と、第六の
薄膜２２と、及び、第七の薄膜２３とを積層している。

また、広帯域反射防止膜１５を構成する薄膜は、第一の薄膜１７の薄膜材料として、基
板１６に対して付着性の強いことが知られている（特にガラス基板は相性が良い）ＭｇＦ
₂を成膜している。更に、以降、広帯域反射防止膜１５は、第二の薄膜１８から第七の薄
膜２３に渡って、第一の薄膜１７の表面から順に、高屈折率材料を用いた薄膜と、低屈折
率材料を用いた薄膜とを交互に６層積層して成膜している。
第二の実施形態においては、薄膜の高屈折率材料として屈折率が２．０７程度であるＯ
Ｈ₅を使用し、薄膜の低屈折率材料として屈折率が１．３８程度であるＭｇＦ₂を使用した
。そこで、第二の薄膜１８の材料は、ＯＨ₅とし、第三の薄膜１９の材料は、ＭｇＦ₂とし
、第四の薄膜２０の材料は、ＯＨ₅とし、第五の薄膜２１の材料は、ＭｇＦ₂とし、第六の
薄膜２２の材料は、ＯＨ₅とし、第七の薄膜２３の材料は、ＭｇＦ₂としている。

次に、広帯域反射防止膜１５を構成する７層の薄膜について、それぞれの膜厚を求める
計算式を示し、具体的な膜厚の数値について説明する。
先ず、第一の実施形態と同様に、各層の物理膜厚をｄ_m（ｍ＝１、２、３、４、５、６
、７として、薄膜の層位置を示す）、ｎを薄膜材料の屈折率、λを可視光の中心波長（５
２０ｎｍ）とすると、
ｄ_m＝λ／４×ｎ・・・・・（２）
が成立する。
次に、各層の膜厚を、所望の光学特性が得られるように、前記物理膜厚に所定の係数を
掛け合わせて以下の通り設定した。
第一の薄膜１７の膜厚＝０．４×ｄ₁
第二の薄膜１８の膜厚＝０．１×ｄ₂
第三の薄膜１９の膜厚＝１．３×ｄ₃
第四の薄膜２０の膜厚＝０．２×ｄ₄
第五の薄膜２１の膜厚＝０．４×ｄ₅
第六の薄膜２２の膜厚＝２．０×ｄ₆
第七の薄膜２３の膜厚＝０．９×ｄ₇

そこで、各薄膜の膜厚は、前記（２）式を用いて下記のような計算により求めることが
できる。なお、薄膜の低屈折材料であるＭｇＦ₂の屈折率は、１．３８とし、薄膜の高屈
折材料であるＯＨ₅の屈折率は、２．０７とする。
第一の薄膜８の膜厚＝
０．４×ｄ₁＝０．４×λ／４×ｎ＝０．４×５２０／４×１．３８≒３７．７（ｎｍ）
第二の薄膜９の膜厚＝
０．１×ｄ₂＝０．１×λ／４×ｎ＝０．１×５２０／４×２．０７≒６．３（ｎｍ）
第三の薄膜１０の膜厚＝
１．３×ｄ₃＝１．３×λ／４×ｎ＝１．３×５２０／４×１．３８≒１２２．５（ｎｍ
）
第四の薄膜１１の膜厚＝
０．２×ｄ₄＝０．２×λ／４×ｎ＝０．２×５２０／４×２．０７≒１２．６（ｎｍ）
第五の薄膜１２の膜厚＝
０．４×ｄ₅＝０．４×λ／４×ｎ＝０．４×５２０／４×１．３８≒３７．７（ｎｍ）
第六の薄膜１３の膜厚＝
２．０×ｄ₆＝２．０×λ／４×ｎ＝２．０×５２０／４×２．０７≒１２５．６（ｎｍ
）
第七の薄膜１４の膜厚＝
０．９×ｄ₇＝０．９×λ／４×ｎ＝０．９×５２０／４×１．３８≒８４．８（ｎｍ）
以上、説明した広帯域反射防止膜１５の薄膜構成について、その薄膜の層数、各薄膜の
材料、及び、各薄膜の膜厚をまとめて表に示す。図４は、第二の実施形態における広帯域
反射防止膜の構成を示す表図である。図４に示した表の如く、広帯域反射防止膜１５は、
所定の材料の薄膜を、所定の膜厚にて７層成膜して構成する。

次に、本実施形態による広帯域反射防止膜の具体的な透過率特性のデータについて説明
する。以下に示す透過率特性のグラフ、表は、代表例として前述した第一の実施形態にお
ける広帯域反射防止膜の特性について記載したものである。なお、第二の実施形態におい
て説明した広帯域反射防止膜の透過率特性についても、同等の性能を有している。
図５は、広帯域反射防止膜の透過率特性を示すグラフ図である。図５に示したグラフの
透過率特性は、裏面反射を含んだ数値であり、低屈折率材料は、ＭｇＦ₂を使用し、高屈
折率材料は、Ｈ₄を使用している。また、このグラフに示す曲線の細線は、シミュレーシ
ョンにより求めた広帯域反射防止膜の透過率特性の設計値を示し、太線は実際に製造した
光学素子の広帯域反射防止膜の透過率特性の実測値を示している。グラフから分るように
、可視光帯域を満たす入射光線の波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で、シミュレーシ
ョンにより求めた透過率特性の数値、及び、実測して求めた透過率特性の数値は、ともに
必要な性能である透過率９４．５％以上を確保している。従って、本広帯域反射防止膜は
、従来の反射防止膜と比べて透過率特性が広帯域化されるとともに、可視光帯域近辺の紫
外線帯域や赤外線帯域において、透過率の低下を低減することができる。
なお、シミュレーションにより求めた数値と実測して求めた数値の透過率の差は、シミ
ュレーションにより求めた数値が蒸着物質分散値を含んでいないことによる差である。

図６は、広帯域反射防止膜の透過率特性のバラツキを示す図である。図６（ａ）に示し
たグラフの透過率特性は、裏面反射を含んだ数値であり、低屈折率材料は、ＭｇＦ₂を使
用し、高屈折率材料は、Ｈ₄を使用している。また、この透過率特性は、実際に製造した
光学素子の実測値であり、透過率特性のバラツキの大きな９個の光学素子を抜粋し、その
透過率特性を重ねて表示している。
図６（ｂ）に示した表は、抜粋した９個の光学素子の透過率特性のバラツキの具体的数
値を示すものである。具体的数値は、波長帯域４２０ｎｍから６８０ｎｍの範囲において
、透過率最大値から透過率最小値を差し引いた透過率帯域偏差を示す。表に示すように、
透過率帯域偏差の平均値は、０．３１％程度であった。従って、従来の光学素子は、透過
率最大値から透過率最小値を差し引いた透過率帯域偏差の平均値が、０．６６％程度であ
ったことから、本発明による広帯域反射防止膜を成膜した光学素子は、大幅に透過率特性
のバラツキが低減された。

以上説明したように、本発明による広帯域反射防止膜を成膜した光学素子は、可視光帯
域での透過率特性の波長依存性とバラツキを低減させたことから、この光学素子を光学関
連機器に使用した際に、光学関連機器の性能向上を図る上で大きな効果を発揮する。

本発明に係る広帯域反射防止膜の第一の実施形態を示す構成図である。第一の実施形態における広帯域反射防止膜の構成を示す表図である。本発明に係る広帯域反射防止膜の第二の実施形態を示す構成図である。第二の実施形態における広帯域反射防止膜の構成を示す表図である。広帯域反射防止膜の透過率特性を示すグラフ図である。広帯域反射防止膜の透過率特性のバラツキを示す図である。従来の反射防止膜の構成例を示す図である。従来の反射防止膜の透過率特性を示すグラフ図である。従来の反射防止膜の透過率特性のバラツキを示す図である。

符号の説明

１・・反射防止膜、２・・基板、３・・第一の薄膜、４・・第二の薄膜、５・・第三の
薄膜、６・・広帯域反射防止膜、７・・基板、８・・第一の薄膜、９・・第二の薄膜、
１０・・第三の薄膜、１１・・第四の薄膜、１２・・第五の薄膜、１３・・第六の薄膜、
１４・・第七の薄膜、１５・・広帯域反射防止膜、１６・・基板、１７・・第一の薄膜、
１８・・第二の薄膜、１９・・第三の薄膜、２０・・第四の薄膜、２１・・第五の薄膜、
２２・・第六の薄膜、２３・・第七の薄膜

Claims

光学素子の入射面、又は出射面の少なくとも一方に成膜され、入射、又は出射した光線
の反射光量を低減する広帯域反射防止膜であって、
７層の薄膜を積層した構成を備えていることを特徴とする広帯域反射防止膜。
前記広帯域反射防止膜は、前記光学素子の表面に、低屈折率材料を用いた薄膜と、高屈
折率材料を用いた薄膜とを交互に積層した７層の積層膜であることを特徴とする請求項１
に記載の広帯域反射防止膜。
前記広帯域反射防止膜は、前記光学素子の表面上に、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約３
７．７ｎｍである第一の薄膜と、Ｈ₄（ＬａとＴｉＯ₂の混合物である）を材料とした膜厚
が約６．５ｎｍである第二の薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約１２２．５ｎｍであ
る第三の薄膜と、Ｈ₄を材料とした膜厚が約１３．０ｎｍである第四の薄膜と、ＭｇＦ₂を
材料とした膜厚が約３７．７ｎｍである第五の薄膜と、Ｈ₄を材料とした膜厚が約１３０
．０ｎｍである第六の薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約８４．８ｎｍである第七の
薄膜と、を順次積層した構成を備えていることを特徴とする請求項１または請求項２に記
載の広帯域反射防止膜。
前記広帯域反射防止膜は、光学素子の表面上に、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約３７．
７ｎｍである第一の薄膜と、ＯＨ₅（ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の混合物である）を材料とした膜
厚が約６．３ｎｍである第二の薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約１２２．５ｎｍで
ある第三の薄膜と、ＯＨ₅を材料とした膜厚が約１２．６ｎｍである第四の薄膜と、Ｍｇ
Ｆ₂を材料とした膜厚が約３７．７ｎｍである第五の薄膜と、ＯＨ₅を材料とした膜厚が約
１２５．６ｎｍである第六の薄膜と、ＭｇＦ₂を材料とした膜厚が約８４．８ｎｍである
第七の薄膜と、を順次積層した構成を備えていることを特徴とする請求項１または請求項
２に記載の広帯域反射防止膜。