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JP2007012874A - 基板加熱方法、基板加熱装置および熱風式リフロー装置 - Google Patents

基板加熱方法、基板加熱装置および熱風式リフロー装置 Download PDF

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竜也 袖岡
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Abstract

【課題】様々な電子部品が搭載されている基板を一括でリフロー半田付けできる効率的な熱風リフローを図り、かつ、リフロー半田付けに際しての無駄な電力消費を低減すること。
【解決手段】クリーム半田が付与され該クリーム半田上に電子部品等のデバイスが搭載されている基板にリフロー半田付けのための熱風を供給して加熱する基板加熱方法において、基板に第1の熱風を吹き付けて均一加熱する一方、第1の熱風の通風路外から基板の特定部に第1の熱風とは温度、風速の少なくともいずれか一方が異なる第2の熱風を吹き付けて局所加熱する。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板面上のランドにクリーム半田が付与され該クリーム半田上に電子部品が搭載されている基板にリフロー半田付けのための熱風を吹き付けて該基板を加熱する基板加熱方法、該基板加熱方法を実施する基板加熱装置、および該基板加熱装置を用いてクリーム半田を再溶融して搬送機構で搬送される基板上の電子部品を該基板上にリフロー半田付けする熱風式リフロー装置に関する。
上記熱風式リフロー装置は、基板上に塗布や印刷により設けたクリーム半田上に電子部品を搭載し該基板に熱風を吹き付けることによりクリーム半田を再溶融して電子部品を基板にリフロー半田付けするものである。
この熱風式リフロー装置は、一般に、複数の予備加熱室と、1つのリフロー半田付け室とを基板の搬送方向に沿って順に備えている。この熱風式リフロー装置において、予備加熱室によりクリーム半田を所定の昇温速度で所定時間かけて予備加熱してフラックスの活性化温度まで加熱し次いで徐々の昇温速度で所定時間かけてフラックス活性化温度からクリーム半田融点まで昇温させ、次いでリフロー半田付け室で所定の昇温速度で所定時間かけピーク温度が電子部品の耐熱温度以下で本加熱するという温度プロファイルでリフロー半田付けするようになっている。
このような熱風式リフロー装置においては室内にボックス構造とされた熱風吹き出しヘッドを備える。この熱風吹き出しヘッドは室内の入口から出口までを一定速度で搬入され搬出される基板全体に熱風を吹き付けて基板を均一に加熱する多数の熱風吹き出しノズルを備え、この熱風吹き出しノズルからの熱風で基板上のすべての電子部品を一様に均一加熱するようになっている。
しかしながら、基板上には同一温度の熱風が吹き付けられても他の電子部品よりも熱容量が大きくて昇温し難い電子部品が搭載されていることが多く、また、基板上における電子部品の配置位置によっても昇温し難い場合があったり、さらには、電子部品それぞれには耐熱温度や耐熱保証温度にも差異がある場合が多い。
このような電子部品が搭載されている基板においては同一温度の熱風を吹き付けて均一加熱して一括でリフロー半田付けすることができなくなる。そのため、従来技術には、基板の特定部に他の部品よりも熱容量が大きい部品(例えばQuad Flat Package 以下 QFP等のデバイス)が配置されているときには、その特定部に局所的に熱風を吹き付けて他の部分よりも多くの熱風エネルギを供給可能とした基板加熱方法、基板加熱装置、リフロー装置が提供されている。詳細は特許文献1等参照。
しかしながら、上記特許文献1等で示す従来技術では、熱風吹き出し口からの第1の熱風(均一加熱用の熱風)の通風路内に、基板の特定部に第2の熱風(局所加熱用の熱風)を供給するパイプを設置し、そのパイプに設けた熱風吹き出しノズルから第2の熱風を吹き出す構成になっている。
そのため、この従来技術では、第1の熱風が上記パイプで大きく遮蔽されてしまい、基板に対する第1の熱風による均一加熱の効率が大きく低下してくるという課題があるのみならず、気体を加熱して第1の熱風とするために用いた送風機やヒータ等の駆動源における消費電力エネルギの損失が極めて大きくなるという課題があった。
特開2001−320163号公報
したがって、本発明により解決すべき主たる課題は、様々な電子部品が搭載されている基板を一括でリフロー半田付けできる効率的な熱風リフローを図り、かつ、リフロー半田付けに際しての無駄な電力消費を低減することである。
本発明による基板加熱方法は、クリーム半田が付与され該クリーム半田上にデバイスが搭載されている基板にリフロー半田付けのための熱風を供給して加熱する基板加熱方法において、基板に第1の熱風を吹き付けて均一加熱する一方、第1の熱風の通風路外から基板の特定部に第1の熱風とは温度、風速の少なくともいずれか一方が異なる第2の熱風を吹き付けて局所加熱することを特徴とするものである。
本発明の基板加熱方法は、熱風リフローに限定されず、赤外線リフローにも適用することができる。
本発明において基板は片面実装に限定されず、両面実装にも適用することができる。
本発明によると、第1の熱風(均一加熱用熱風)とは温度、風速の少なくともいずれか一方が異なる第2の熱風(局所加熱用熱風)を均一加熱用熱風の通風路外から基板の特定部に吹き付けるようにしたから、均一加熱用熱風が局所加熱用熱風により阻害されることなく基板の均一加熱を行うことが可能となり、様々な電子部品が搭載されている基板を一括でリフロー半田付けできることで、均一加熱効率が大きく向上するとともに、気体を加熱して均一加熱用熱風とするために用いた消費電力エネルギを無駄にせずに済むことに加えて、均一加熱用熱風が基板の特定部に対する局所加熱に用いられずに済み、局所加熱用熱風による基板の特定部に対する加熱精度が向上する。
本発明によれば、基板上の温度ばらつきを低減することができ、基板の均一加熱の効率が低下することを抑制し、均一加熱に用いた送風機やヒータ等の駆動エネルギの損失を低減し、局所加熱の精度を向上することができる。
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施の形態に係るリフロー装置を説明する。
図1は、実施の形態の熱風リフロー装置の断面構成と電気的回路ブロック構成とを示す図、図2は図1のA−A線に沿う断面図、図3は熱風吹き出しプレートの斜視図、図4は熱風吹き出しプレートの平面図、図5は図4のB−B線断面図、図6は図4のC−C線断面図、図7はリフロー装置を制御する制御部の制御手順を示す図である。実施の形態のリフロー装置は、複数の予備加熱室と1つのリフロー室とを備えている。予備加熱室またはリフロー室の少なくともどこか一室に本発明が適用されていればよい。
これらの図を参照して、リフロー装置10は、基板搬送部12、加熱部14、均一加熱用熱風供給ヘッド16、熱風供給ダクト18、局所加熱用熱風供給ヘッド20、ダクト通路開閉部22、ダクト駆動部24、を備えている。実施の形態の基板加熱装置は、少なくとも、均一加熱用熱風供給ヘッド16、および熱風供給ダクト18を含む。
これらは装置外殻25内部に収納されている。
リフロー装置10はまた、操作制御部26および通電制御部28を備える。
基板搬送部12は、図1で左右一対で紙面垂直方向に延びるL形搬送レール12aを備えるとともに、両搬送レール12a間に基板30が載置され図1の紙面を垂直方向に図示略の駆動モータで一定速度で搬送されるようになっている。
基板30は、基板面上の複数のランド30aにクリーム半田30bが付与され該クリーム半田30b上に電子部品等のデバイス32がリフロー半田付け対象である部品として搭載されているものであり、プリント基板あるいはプリント配線基板とも称することができる。32aはデバイス32のリードである。
基板30には、形状や用途、また、熱容量や耐熱温度、耐熱保証温度等が各種に異なる電子部品等のデバイス32が搭載されている。これら電子部品等のデバイス32が搭載されている基板30は均一加熱されるべき加熱面や基板30の特定部として局所加熱されるべき加熱面を有する。
加熱部14は、基板搬送部12の下側に配置されて基板30を下側から熱風等により加熱している。この加熱部14は実施の形態の特徴ではないのでその加熱形態の詳細な説明は略する。
均一加熱用熱風供給ヘッド16は、その内部にヒータ16aが配置されているとともにヒータ16aの上部に送風機16bが配置されている。送風機16bは均一加熱用熱風供給ヘッド16上面に載置固定したモータ16cのモータ軸16dに連結されて回転駆動されるようになっている。
均一加熱用熱風供給ヘッド16の下面は開口していて、この開口に熱風吹き出しプレート16eが装着されている。この熱風吹き出しプレート16eには、平面視矩形をなす複数の均一加熱用熱風吹き出しノズル(第1の熱風吹き出しノズル)16fがマトリクス状に分散形成されている。
モータ16cが通電されて回転駆動して送風機16bが回転し同時にヒータ16aが通電されて発熱すると、均一加熱用熱風供給ヘッド16内部の空気あるいは窒素ガス等の気体が加熱されてなる熱風が均一加熱用熱風吹き出しノズル16fから基板30に向けて吹き出される。
基板30に吹き出された熱風は熱風吹き出しヘッド16の外周面と装置外殻25内周面との間に形成される点線矢印で示す還流・循環通路から熱風吹き出しヘッド16の側面に設けた吸い込み口から吸い込まれて還流・循環するようになっている。
熱風吹き出しプレート16eには基板30の搬送方向を横切る方向に等間隔に複数の、実施の形態では2つの熱風供給ダクト収納溝16gが形成されている。
熱風供給ダクト18は、一端側が局所加熱用熱風供給ヘッド20に接続され他端側が熱風供給ダクト収納溝16gに収納されている。熱風供給ダクト18は、その一端側から内部に熱風供給ヘッド20からの局所加熱用熱風が導入圧送されるようになっている。熱風供給ダクト18の他端側は基板方向に折曲げられて局所加熱用熱風吹き出しノズル(第2の熱風吹き出しノズル)18aを形成している。
熱風供給ヘッド20からの局所加熱用熱風は局所加熱用熱風吹き出しノズル18aから吹き出される。この局所加熱用熱風は、熱容量が大きいデバイス32のリフロー半田付け用として、均一加熱用熱風とは温度もしくは風速の少なくともいずれか一方が異なる熱風である。
これら熱風供給ダクト18は、均一加熱用熱風の通風を阻害しないように均一加熱用熱風の通風路外に配置されているとともに、それら局所加熱用熱風吹き出しノズル18aからの局所加熱用熱風を基板30の特定部に吹き付けることができるようになっている。
局所加熱用熱風供給ヘッド20は、局所加熱用熱風を熱風供給ダクト18に供給するものであり、その内部にはヒータ20aと送風機20bとが配置されているとともに送風機20bはモータ20cで回転駆動される。
ダクト通路開閉部22は、熱風供給ダクト18からの局所加熱用熱風の吹き出しとその吹き出し停止とを制御するためのものであり、熱風供給ダクト18内部に配置された電磁開閉弁22aにより構成されている。この電磁開閉弁22aは通電制御部28を介する操作制御部26からの開閉信号に応答して開閉動作するようになっている。
ダクト駆動部24は、熱風供給ダクト18を熱風供給ダクト収納溝16g内に沿って移動させるためのものであり、熱風供給ダクト18は、複数段に伸縮可能に接続され、外周面にねじ溝18bが形成され、このねじ溝18bに送りねじ18cが外装され、この送りねじ18cを、操作制御部26からの制御信号により駆動されるモータ24aにより回転させることにより熱風供給ダクト18を移動させることができるようになっている。
以上の構成を備えた実施の形態のリフロー装置10においては、操作制御部26により通電制御部28を制御して、基板搬送部12のモータ、均一加熱用熱風供給ヘッド16のヒータ16aおよび送風機16b、局所加熱用熱風供給ヘッド20のヒータ20aおよび送風機20b、ダクト通路開閉部22の電磁開閉弁22a、ダクト駆動部24のモータ等24aを制御する。
操作制御部26は、マイクロコンピュータ26a、キーボード26b、表示部26c等を備えている。マイクロコンピュータは、CPU、フラッシュROM等の各種のROM、各種のRAMを備え、書き換え可能なROMに基板情報データベースを内蔵し、キーボード等の操作によりCPUに読み込み可能になっている。
図7を参照して操作制御部26によるリフロー半田付けの制御手順を説明すると、操作制御部26は、リフロー半田付けされる基板30の形式をキーボード等により入力する。操作制御部26は入力された基板形式に基づいて基板情報データベース内の基板情報を読み込む。
基板情報は、基板サイズ、搭載するデバイス32の位置、数量、材質、形状等の熱容量を決定するための情報である。操作制御部26は、読み込んだ基板情報に従い基板加熱位置、加熱条件(熱風温度、熱風の風速、加熱時間等)を設定する。
操作制御部26はこの設定後、ダクト駆動部24のモータ24aを制御して熱風供給ダクト18を移動させて局所加熱用熱風吹き出しノズル18aの位置を補正する。
操作制御部26は、局所加熱用熱風吹き出しノズル18aの位置補正が完了すると、基板30を搬入し、その搬入が完了すると、基板搬送部12のモータを駆動するとともに、均一加熱用熱風供給ヘッド16と局所加熱用熱風供給ヘッド20それぞれのモータ16c,20c、ヒータ16a,20aを駆動して均一加熱用熱風吹き出しノズル16fと局所加熱用熱風吹き出しノズル18aそれぞれから熱風を基板30に供給して均一加熱と局所加熱とを開始する。
この加熱開始後から設定時間が経過して加熱が完了すると、それらの駆動を停止して基板搬送部12のモータを駆動して基板30を搬出する。局所加熱においてはこの場合、ダクト通路開閉部22の電磁開閉弁22aを制御することにより局所加熱用熱風を吹き出す局所加熱用熱風吹き出しノズル18aを選択し、また、局所加熱用熱風吹き出しノズル18aからの熱風の吹き出しの開始と停止とを制御する。また、ダクト駆動部24を制御して熱風供給ダクト18を移動制御して局所加熱用熱風吹き出しノズル18aの位置を制御する。また、局所ノズルの先端において、ノズルを回転することにより、噴出する位置を調整するように構成してもよい。
以上の構成および動作を行う実施の形態のリフロー装置10においては、局所加熱用熱風を局所加熱用熱風吹き出しノズル18aから吹き出すことにより基板30の特定部を局所的に加熱して基板に熱容量が大きい等のデバイス32をリフロー半田付けすることができる。
この場合、局所加熱用熱風は、均一加熱用熱風の通風路外から基板30の特定部を吹き付けるから、均一加熱用熱風が局所加熱用熱風により阻害されることがなく基板30の均一加熱を行うことが可能となり、均一加熱効率が大きく向上するとともに、気体を加熱して均一加熱用熱風となしかつ送風等のために用いた電力エネルギを無駄に消費せずに済む。
なお、図8で示すように、ダクト長さを順次に短くした複数の熱風供給ダクト18を重ね配置し、各熱風供給ダクト18のダクト端部を基板方向に折り曲げ該ダクト端部開口を局所加熱用熱風吹き出しノズル18aとすることができる。こうした場合、熱風供給ダクト18の設置スペースを節約することができ、また、局所加熱用熱風吹き出しノズル18a同士の衝突を防止することができる。
また、図9で示すように、均一加熱用熱風を供給するための複数の均一加熱用熱風供給ダクト34を所定間隔で並置し、局所加熱用熱風を供給する複数の局所加熱用熱風供給ダクト36をこれら均一加熱用熱風供給ダクト34と交差するよう所定間隔で並置し、均一加熱用熱風供給ダクト34に局所加熱用熱風供給ダクト36と交差しない部分に均一加熱用熱風吹き出しノズル34aを設け、局所加熱用熱風供給ダクト36には局所加熱用熱風吹き出しノズル36aを設けた構成とすることができる。
この構成によっても、局所加熱用熱風供給ダクト36は均一加熱用熱風の通風路外に配置されているので、均一加熱用熱風は局所加熱用熱風供給ダクト36に阻害されることなく基板を均一加熱することができる。
なお36aの開閉に関しては、局所熱風を吹き込むダクト入口で開閉することが出来る。
局所加熱用ノズルの個々の吹き出し口の制御をする場合は、局所加熱用ダクト内に複数のノズルを配置して、個別に吹き出すことができる。
なお上記実施例では熱風リフローについて説明したが、赤外線パネルヒータ等を用いて、赤外線パネルヒータ等の隙間から局所加熱用熱風を吹きつけるように構成してもよい。
本発明の実施の形態に係るリフロー装置の断面構成と電気的回路ブロック構成とを示す図である。 図2は図1のA−A線に沿う断面図である。 図3は熱風吹き出しプレートの斜視図である。 図4は熱風吹き出しプレートの平面図である。 図5は図4のB−B線断面図である。 図6は図4のC−C線断面図である。 図7はリフロー装置を制御する制御部の制御手順を示す図である。 本発明の他の実施の形態に係るリフロー装置の要部を概略的に示す図である。 本発明のさらに他の実施の形態に係るリフロー装置の要部のみを概略的に示す図である。
符号の説明
10 リフロー装置
12 基板搬送部
14 加熱部
16 均一加熱用熱風供給ヘッド
16g 均一加熱用熱風吹き出しノズル(第1の熱風吹き出しノズル)
18 熱風供給ダクト
18a 局所加熱用熱風吹き出しノズル(第2の熱風吹き出しノズル)
20 局所加熱用熱風供給ヘッド
22 ダクト通路開閉部
24 ダクト駆動部
30 基板

Claims (8)

  1. クリーム半田が付与され該クリーム半田上にデバイスが搭載されている基板にリフロー半田付けのための熱風を供給して加熱する基板加熱方法において、
    基板に第1の熱風を吹き付けて均一加熱する一方、
    第1の熱風の通風路外から基板の特定部に第1の熱風とは温度、風速の少なくともいずれか一方が異なる第2の熱風を吹き付けて局所加熱する、ことを特徴とする基板加熱方法。
  2. クリーム半田が付与され該クリーム半田上にデバイスが搭載されている基板にリフロー半田付けのための熱風を供給して加熱する基板加熱装置において、
    基板に第1の熱風を吹き付けて均一加熱する第1の熱風吹き出しノズルと、
    第1の熱風の通風路外から基板の特定部に第1の熱風とは温度、風速の少なくともいずれか一方が異なる第2の熱風を吹き付けて局所加熱する第2の熱風吹き出しノズルと、
    を備えたことを特徴とする基板加熱装置。
  3. クリーム半田が付与され該クリーム半田上にデバイスが搭載されている基板にリフロー半田付けのための熱風を供給して加熱する基板加熱装置において、
    基板に第1の熱風を吹き付けて均一加熱する第1の熱風吹き出しノズルを備えた熱風吹き出しヘッドと、
    第1の熱風の通風路外に配置された第2の熱風供給ダクトとを備え、
    第2の熱風供給ダクトに第1の熱風とは温度、風速の少なくともいずれか一方が異なる第2の熱風を基板の特定部に吹き付けて局所加熱する第2の熱風吹き出しノズルを設けた、
    ことを特徴とする基板加熱装置。
  4. クリーム半田が付与され該クリーム半田上にデバイスが搭載されている基板にリフロー半田付けのための熱風を供給して加熱する基板加熱装置において、
    複数の第1の熱風供給ダクトを所定間隔で配置し、
    これら第1の熱風供給ダクトと交差させて複数の第2の熱風供給ダクトを所定間隔で配置し、
    第1の熱風供給ダクトにおける第2の熱風供給ダクトと交差しない部分に第1の熱風を吹き出して基板を均一加熱する第1の熱風吹き出しノズルを設け、
    第2の熱風供給ダクトには第1の熱風とは温度、風速の少なくともいずれか一方が異なる第2の熱風を吹き出して基板の特定部を局所加熱する第2の熱風吹き出しノズルを設けた、ことを特徴とする基板加熱装置。
  5. 第2の熱風供給ダクトをダクト長さを順次に短くして重ね配置するとともに各第2の熱風供給ダクトのダクト端部を基板方向に折り曲げ該ダクト端部開口を第2の熱風吹き出しノズルとした、ことを特徴とする請求項3または4に記載の基板加熱装置。
  6. 第2の熱風吹き出しノズルからの第2の熱風の供給および供給停止の制御を可能とした、ことを特徴とする請求項2ないし5のいずれかに記載の基板加熱装置。
  7. 第2の熱風供給ダクトをダクト長さ方向に任意の位置に移動可能とした、ことを特徴とする請求項3ないし6のいずれかに記載の基板加熱装置。
  8. 基板を搬送する基板搬送部と、搬送される基板に相対向した位置に配置されて該基板にリフロー半田付けのための熱風を供給して基板を加熱する基板加熱装置とを備えた熱風式リフロー装置において、予備加熱室もしくはリフロー加熱室の少なくとも1室に、前記基板加熱装置が、請求項1ないし7のうちのいずれか1項に記載の基板加熱装置である、ことを特徴とする熱風式リフロー装置。
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