[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2007053378A - マイクロメカニック構成要素 - Google Patents

マイクロメカニック構成要素 Download PDF

Info

Publication number
JP2007053378A
JP2007053378A JP2006221609A JP2006221609A JP2007053378A JP 2007053378 A JP2007053378 A JP 2007053378A JP 2006221609 A JP2006221609 A JP 2006221609A JP 2006221609 A JP2006221609 A JP 2006221609A JP 2007053378 A JP2007053378 A JP 2007053378A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
micromechanical component
cap
micromechanical
component
material flow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006221609A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5068969B2 (ja
Inventor
Frank Reichenbach
ライヒェンバッハ フランク
Frieder Haag
フリーダー ハーク
Arnd Kaelberer
ケルベラー アルント
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Publication of JP2007053378A publication Critical patent/JP2007053378A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5068969B2 publication Critical patent/JP5068969B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81CPROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00015Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
    • B81C1/00261Processes for packaging MEMS devices
    • B81C1/00333Aspects relating to packaging of MEMS devices, not covered by groups B81C1/00269 - B81C1/00325
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the groups H01L21/18 - H01L21/326 or H10D48/04 - H10D48/07 e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/16Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Measuring Volume Flow (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

【課題】気泡をほとんど含むことなくパッケージ化されたマイクロメカニック構成要素を提供する。
【解決手段】マイクロメカニック構成要素110がマイクロメカニック構成部分130と別の構成部分、特にマイクロエレクトロニック回路160とを有しており、前記マイクロメカニック構成部分と前記別の構成部分とが前記保持体120に配置されており,前記保持体に前記マイクロメカニック構成部分と前記別の構成部分との間に少なくともひとつの前記通過開口500が配置されているマイクロメカニック構成要素。
【選択図】図5

Description

本発明はマイクロメカニック構成要素に関する。
ドイツ国特許出願DE19537814A1号明細書にはセンサ−層システムの構造と表面マイクロメカニックにおけるセンサを気密にパッケージ化する方法が記述されている。この場合にはセンサ構造の製作は公知の技術的な方法に基づいている。パッケージ化はシリコンから成る個別のキャップウェーハで行なわれる。このシリコンから成るキャップウェーハは費用のかかる構造化プロセス、例えばKOHエッチングで構造化される。センサキャップはウェーハ平面にてガラス−ろうでセンサウェーハの上に取付けられる。このためにはキャップの十分な保持とシール性とを保証するためには幅の広いボンドフレームが各センサチップの縁に設けられている。
センサエレメントは公知技術に相応して保持体(英語ではリードフレーム)に取付られ、金線で接触され、公知の注型成形方法(英語ではトランスファモルディング)で封入される。封入する場合には注入材料、例えば溶融したプラスチックは注入部から封入しようとするエレメントを受容する中空型内へ流入する。封入する場合にはセンサの厚さと形とが問題になる。これは不均一な流れをもたらし、センサエレメントの上下で型室の不均等な充填と、センサ背後における注入材料の渦流とを発生させる。この結果、注入材料に不具合な気泡が閉成される。この現象は例えばV.Motta et alによりMicromachining and Microfabrication Process Technology VI,Proceedings of SPIE Bd.4174(2000)S.377−387に記載されている。
ドイツ国特許出願DE19537814号明細書 Micromachining and Microfabrication Process Technology VI,Proceedings of SPIE Bd.4174(2000)S.377−387
本発明の課題はセンサの背後での気泡の形成及び注入材料の渦流を回避することである。
本発明の課題は、少なくとも1つの優先方向からの材料流が、マイクロメカニック構成要素を一様にパッケージ化するために変向される構造を有するマイクロメカニック構成要素によって解決された。
マイクロメカニック構成要素の本発明の構成によっては、注入材料の流れが構成要素の周囲に、注型成形型の均等な充填が達成されるように変向される。これによって構成要素は有利な形式でほぼ気泡なしでパッケージ化される。
本発明の有利な構成によればマイクロメカニック構成要素がキャップを有するマイクロメカニック構成部分を有し、前記キャップの表面が少なくとも1つの優先方向からの材料流にとって流動的に好適であるように形成されている。有利には前記表面によって層流が好適化され、材料の渦流及びその結果としての材料流の気泡が回避される。
本発明の特に有利な構成では、キャップが材料流を変向する少なくとも1つの斜めに面取りされた縁を、特に材料流の源とは反対側に有している。この個所では気泡が特に頻繁に発生し、これは記述した処置によって有利な形式で阻止される。
本発明の別の有利な構成ではキャップが材料流を変向させるために刻み目で構造化された少なくとも1つの表面を有している。これによって材料流は公知の源から出発して有利な形式で、提供される流れ横断面又は毛細管力によって変向される。
同等の観点から、材料流を変向するために少なくとも1つの構造化された表面を備えた保持体をマイクロメカニック構成要素が有していることが有利である。
本発明の他の有利な構成では、マイクロメカニック構成要素は1つの保持体を有し、該保持体が材料流を変向させるために少なくとも1つの通過開口を有している。このようにして有利にはマイクロメカニック構成要素の近くの領域が材料流の一部で、材料流のほかの部分によって気泡が発生させられる前に充填され得るようになる。
本発明の別の有利な構成は従属請求項に開示してある。
図1には公知技術により封入されたマイクロメカニックセンサの構造が示されている。第1の側面図1Aにおいては内部にある構成要素110を有する注型成形ケーシング100が示されている。構成要素110は電子的構成部分及びマイクロメカニック構成部分が上に取付けられた保持体120を有している。この例では保持体120の上には、ボンド線170によって互いに電気的に接続されたマイクロエレクトロニック回路160とマイクロメカニック構成部分130とがある。マイクロメカニック構成部分130はマイクロメカニック機能エレメント140を有し、該マイクロメカニック機能エレメント140はその上に配置されキャップ150で覆われている。第2の側面図1Bにおいては注型成形ケーシング100と保持体120とマイクロメカニック機能エレメント140を有するマイクロメカニック構成部分130並びにその上に配置されたキャップ150が示されている。
図2には図AからFで概略的に公知技術にてマイクロメカニックセンサをパッケージ化する場合の注型成形材料の充填状態が示されている。図2Aには概略的に注入点210を有する注型成形型200が示されている。注入点210からは材料流、つまり注入材料220が型内へ流入する。注型成形型200内には構成要素110が配置されている。図2Bには注入材料220での注型成形型200の充填が示されている。注型成形型200における構成要素110の配置と形状付与とに関連して種々異なる領域における注入は異なる速度で行なわれる。図示の実施例では充填は比較的にゆっくりと前進する上側の注入材料フロント224とこれに対し比較的に速く前進する下側の注入材料フロント226とを生ぜしめる。図2Cには注入材料の充填に際して、キャップ150の背後の注入材料220の渦流によって第1の気泡230が形成されることが示されている。図2Dと2Eとには注入材料フロント224と226とがさらに前進した状態が示されている。下側の注入材料フロント226の速度の方が高いことによってこの材料フロント226はマイクロエレクトロニック回路160を巡って前進し、上側で上側の注入材料フロント224と合体する。この場合には図2Fに示すように、マイクロエレクトロニック回路160の上側には第2の気泡240が発生する。
図3にはキャップの縁が斜めに面取りされた本発明によるセンサが示されている。本発明によれば、構成要素110の流動状態を、少なくとも1つの優先方向からの材料流れに対し好適化することが提案されている。これによって渦流を減少させ、ひいては構成要素110の近くにおける第1の気泡230の形成が回避される。ここに示された斜めに面取りされたキャップを有する実施例は注入点210の方向からの材料流に対して流動抵抗を低下させ、流過する有効面を増大する。流れの剥離、ひいてはキャップ300の、注入点210とは反対側における渦流は縁の斜めの面取りによって回避されるか又は少なくとも減少させられる。
図4は、構造化されたキャップ表面を有する本発明のセンサが示されている。この第2実施例においては、キャップの流動抵抗の低減又はキャップ表面の構造化による毛細管力の活用が行なわれる。図4Aと図4Bとにおいては構造化されたキャップ400を有する構成要素110が示されている。キャップ400は、上側に細溝又は刻み目を有し、該細溝又は刻み目はほぼ注入点210から発する材料流の方向に延びている。構造したキャップ400を有する図示の実施例は、注入点210の方向からの材料流に対し流動抵抗を減じかつこの材料流のための有効な流過面を増大させる。毛細管力を活用しかつ横断面を変化させることによって材料流、例えば注型成形材料220はキャップ表面の刻み目、細溝又は通路で変向される。これはマイクロメカニック構成要素110の他の表面の上でも、例えば保持体120の上でも可能である。
図5には保持体120に通過開口500を有する本発明のセンサが示されている。図5Aは図2Cに相応している。図5Bには、図5Aに比較して保持体120に通過開口500を有するマイクロメカニック構成要素110の本発明の実施例が示されている。通過開口500は有利にはマイクロメカニック構成部材130の、注入点210とは反対側、ひいては材料流の源とは反対側に配置されている。下方領域にて迅速に前進する材料流は通過開口500を通過し、別の注入材料流510を形成する。かつて、すなわち公知技術にて第1の気泡230が発生した領域は、上側の注入材料フロント224の前進速度が低いためにすでに注入材料220で充填されている。したがってここでは気泡はもはや形成されない。注入材料フロント224と226と510は適当な個所で合流する。この個所は気泡が回避されるように選択されるか又は少なくとも、マイクロメカニック構成部分130から十分な距離をおいて位置し、気泡がマイクロメカニック構成要素110に作用を及ぼさないように選択される。さらに注入材料フロント224と226と510が合流する適当な個所は、注型成形型のこの個所に、例えば離型ピンによって排気可能性が与えられるように選択されることもできる。最後に保持体120の面を小さくすることで材料流が流過する横断面は最大化される。
さらに図示の実施例以外にも多くの別の実施例が考えられる。
公知技術により封入されたマイクロメカニックセンサの構造を示した図。 公知技術においてマイクロメカニックセンサをパッケージ化する場合の注入材料の充填状態を示した図。 キャップが斜めに面取りされた縁を有する本発明によるセンサを示した図。 構造化されたキャップ表面を有する本発明によるセンサを示した図。 保持体における通過開口を有する本発明によるセンサを示した図。
符号の説明
100 注型成形ケーシング
110 マイクロメカニック構成要素
120 保持体
130 マイクロメカニック構成部分
140 マイクロメカニック機能エレメント
150 キャップ
160 回路
170 ボンド線
200 注型成形型
210 注入点
220 注入材料
224 注入材料フロント
226 注入材料フロント
230 気泡
240 気泡
300 キャップ
400 キャップ
500 通過開口
510 注入材料フロント

Claims (9)

  1. 少なくとも1つの優先方向からの材料流がマイクロメカニック構成要素(110)を一様に封入するために変向される構造を有していることを特徴とする、マイクロメカニック構成要素。
  2. キャップ(300,400)を備えたマイクロメカニック構成部分(130)を有し、前記キャップ(300,400)の表面が、前記少なくとも1つの優先方向からの材料流にとって流動的に好適に形成されている、請求項1記載のマイクロメカニック構成要素。
  3. 前記キャップ(300)が材料流を変向するために、少なくとも1つの斜めに面取りされた縁部を特に材料流の源とは反対側に有している、請求項2記載のマイクロメカニック構成要素。
  4. 前記キャップ(400)が材料流を変向させるための刻み目で構造化された表面を備えている、請求項2記載のマイクロメカニック構成要素。
  5. マイクロメカニック構成要素(110)が保持体(120)を有し、該保持体(120)が材料流を変向させるために少なくとも1つの構造化された表面を有している、請求項1記載のマイクロメカニック構成要素。
  6. マイクロメカニック構成要素(110)が保持体(120)を有し、該保持体(120)が材料流を変向させるために少なくとも1つの通過開口(500)を有している、請求項1記載のマイクロメカニック構成要素。
  7. (イ)マイクロメカニック構成要素(110)がマイクロメカニック構成部分(130)と別の構成部分、特にマイクロエレクトロニック回路(160)とを有しており、
    (ロ)前記マイクロメカニック構成部分(130)と前記別の構成部分とが前記保持体(120)に配置されており、
    (ハ)前記保持体(120)に前記マイクロメカニック構成部分(130)と前記別の構成部分との間に少なくとも1つの前記通過開口(500)が配置されている、
    請求項6記載のマイクロメカニック構成要素。
  8. 材料流の源及び優先方向を規定する流入点(220)を有する、請求項1から7までのいずれか1項記載のマイクロメカニック構成要素。
  9. (イ)保持体(120)が及び/又は
    (ロ)該保持体(120)に固定された、キャップ(300,400)を有するマイクロメカニック構成部分(130)と、
    (ハ)注入点(220)と、
    を有する注型成形でパッケージ化されたマイクロメカニック構成要素において、
    (ニ)前記キャップ(300)が少なくとも1つの斜めに面取りされた縁部を、特に前記注入点(220)とは反対側に有しかつ/又は
    (ホ)前記キャップ(400)が刻み目で構造された表面を有しかつ/又は
    (ヘ)前記保持体(120)に別の構成部分が固定されておりかつ前記保持体(120)が通過開口を有し、該通過開口が前記マイクロメカニック構成部分(130)と前記別の構成部分との間に配置されている、
    ことを特徴とする、注型成形でパッケージ化されたマイクロメカニック構成要素。
JP2006221609A 2005-08-17 2006-08-15 マイクロメカニック構成要素 Expired - Fee Related JP5068969B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005038755.1A DE102005038755B4 (de) 2005-08-17 2005-08-17 Mikromechanisches Bauelement
DE102005038755.1 2005-08-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007053378A true JP2007053378A (ja) 2007-03-01
JP5068969B2 JP5068969B2 (ja) 2012-11-07

Family

ID=37697246

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006221609A Expired - Fee Related JP5068969B2 (ja) 2005-08-17 2006-08-15 マイクロメカニック構成要素

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7495328B2 (ja)
JP (1) JP5068969B2 (ja)
DE (1) DE102005038755B4 (ja)
FR (1) FR2890387B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009226571A (ja) * 2008-02-28 2009-10-08 Nippon Kayaku Co Ltd マイクロデバイス及びその製造方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008043517B4 (de) * 2008-11-06 2022-03-03 Robert Bosch Gmbh Sensormodul und Verfahren zur Herstellung eines Sensormoduls

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09307026A (ja) * 1996-05-13 1997-11-28 Niles Parts Co Ltd 電子モジュール構造
JPH10107170A (ja) * 1996-09-27 1998-04-24 Tdk Corp 樹脂モールド型電子部品とその製造方法
JPH10170380A (ja) * 1996-12-10 1998-06-26 Denso Corp 半導体センサ装置
JP2004193372A (ja) * 2002-12-11 2004-07-08 Tdk Corp 表面実装部品用ケース、表面実装電子部品および表面実装電子部品の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2582013B2 (ja) * 1991-02-08 1997-02-19 株式会社東芝 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP2701712B2 (ja) * 1993-11-11 1998-01-21 日本電気株式会社 半導体装置
DE19537814B4 (de) * 1995-10-11 2009-11-19 Robert Bosch Gmbh Sensor und Verfahren zur Herstellung eines Sensors
DE69739065D1 (de) * 1996-02-26 2008-12-11 Texas Instruments Inc Verbindungen in integrierten Schaltungen
DE69637809D1 (de) * 1996-11-28 2009-02-26 Mitsubishi Electric Corp Halbleiteranordnung
JPH10223819A (ja) * 1997-02-13 1998-08-21 Nec Kyushu Ltd 半導体装置
JPH11121488A (ja) * 1997-10-15 1999-04-30 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法及び樹脂封止装置
DE19749243C1 (de) * 1997-11-07 1998-11-19 Richard Herbst Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Verbundkörpern aus einer Kunststoffmasse
IT1319406B1 (it) * 2000-04-28 2003-10-10 St Microelectronics Srl Involucro protettivo per il contenimento di un circuito integrato susemiconduttore.
TW503538B (en) * 2000-12-30 2002-09-21 Siliconware Precision Industries Co Ltd BGA semiconductor package piece with vertically integrated passive elements
DE10327694A1 (de) * 2003-06-20 2005-01-05 Robert Bosch Gmbh Optische Sensoranordnung und entsprechendes Herstellungsverfahren
DE112005000270D2 (de) * 2004-03-26 2006-10-12 Conti Temic Microelectronic Fahrzeugsensor zur Erfassung von Körperschall

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09307026A (ja) * 1996-05-13 1997-11-28 Niles Parts Co Ltd 電子モジュール構造
JPH10107170A (ja) * 1996-09-27 1998-04-24 Tdk Corp 樹脂モールド型電子部品とその製造方法
JPH10170380A (ja) * 1996-12-10 1998-06-26 Denso Corp 半導体センサ装置
JP2004193372A (ja) * 2002-12-11 2004-07-08 Tdk Corp 表面実装部品用ケース、表面実装電子部品および表面実装電子部品の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009226571A (ja) * 2008-02-28 2009-10-08 Nippon Kayaku Co Ltd マイクロデバイス及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
FR2890387B1 (fr) 2009-08-07
JP5068969B2 (ja) 2012-11-07
US20070040230A1 (en) 2007-02-22
DE102005038755A1 (de) 2007-02-22
FR2890387A1 (fr) 2007-03-09
US7495328B2 (en) 2009-02-24
DE102005038755B4 (de) 2016-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2526787B2 (ja) 半導体装置用リ―ドフレ―ム
US6949405B2 (en) Method for producing channels and cavities in semiconductor housings, and an electronic component having such channels and cavities
CN102659069B (zh) 具有至少一个mems组件的部件及其制造方法
JPH0697354A (ja) 開口部のあるフラッグを有する半導体装置
JP2787907B2 (ja) 半導体装置用樹脂封止金型
JP5068969B2 (ja) マイクロメカニック構成要素
JP5281797B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH10340976A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2008112924A (ja) 半導体装置の製造方法
JP5233288B2 (ja) 半導体装置の製造方法及び基板
CN110349918A (zh) 半导体封装结构及其制造方法
CN111348614B (zh) 微机械装置和用于制造微机械装置的方法
EP1187201A1 (en) Multiple-chip module
JP2008060193A (ja) リードフレームおよびそれを用いた半導体装置の製造方法
JPH04133440A (ja) 樹脂封止金型
JP3184128B2 (ja) 半導体装置の樹脂封止方法及び樹脂封止装置
KR960009081A (ko) 수지 밀봉형 반도체 장치의 제조 장치 및 제조 방법
JP2005109164A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH05129353A (ja) 半導体製造装置
JPS60126841A (ja) 樹脂封止用金型
KR20000012769U (ko) 반도체 패키지 몰딩용 금형
JP2004023017A (ja) 中空パッケージ及びラインセンサ
JPH0461362A (ja) 樹脂封止半導体およびその成形方法
JP2022523808A (ja) ダイアップ・ファンアウトパッケージングのためのガラスキャリアおよびその製造方法
JPH0338864A (ja) 集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090814

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100419

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110323

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110623

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120328

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120628

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120718

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120816

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150824

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5068969

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees