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JP2007048352A - 光記録媒体及び光記録媒体の情報再生方法 - Google Patents

光記録媒体及び光記録媒体の情報再生方法 Download PDF

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JP2007048352A JP2005230094A JP2005230094A JP2007048352A JP 2007048352 A JP2007048352 A JP 2007048352A JP 2005230094 A JP2005230094 A JP 2005230094A JP 2005230094 A JP2005230094 A JP 2005230094A JP 2007048352 A JP2007048352 A JP 2007048352A
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福澤　成敏
Tatsuhiro Kobayashi
小林　龍弘
Junji Tominaga
富永　淳二
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中野　隆志
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島　隆之
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金　朱鎬
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Abstract

【課題】超解像光記録媒体における超解像再生の際に、再生用レーザ光の照射パワーを、記録マークの大きさに依存させることなく、超解像再生を行うことができる光記録媒体。
【解決手段】光記録媒体１０は、基板１２と、第１の誘電体層１４と、記録層１６と、第２の誘電体層１８と、超解像層２０と、第３の誘電体層２２とをこの順で設けてなり、前記超解像層２０は所定の照射パワーによる１〜３００秒間のＤＣ光照射時に、ボイドが発生する材料から構成されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、記録層に形成されている記録マークに再生光を照射することによって情報を再生することができる光記録媒体、特に、再生光学系における解像限界以下の小さな記録マークを再生することができる光記録媒体及び光記録媒体の情報再生方法に関する。
近年、例えば特許文献１に記載されるように、再生光学系における回折限界よりも小さい記録マーク列の再生が可能な超解像光記録媒体が提案されている。
この超解像光記録媒体では、再生光学系の解像限界を超えた微小記録マーク（超解像記録マーク）の再生が可能であるが、この原理は未だ明確ではない。
ＣＤ（コンパクトディスク）やＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）等の光記録媒体は、基板上に記録層と記録された情報を再生用レーザ光で読み出すための反射率制御及び記録層保護を行なうための誘電体層が、反射層とを含んで構成されている。
上記記録は、記録層における反射率の異なる２つの部分から構成され、一方が記録マーク、他方がブランクと称されているが、再生用レーザ光の波長をλ、対物レンズの開口数をＮＡとした場合に、前記記録マークは、レーザ光の走査方向の大きさで、解像限界のλ／４ＮＡよりも大きい場合に再生が可能である。
一般的に、光を用いた再生方法では、ある記録マーク列周期以下の周期の記録マーク列は読取りが不可能になる。この記録マーク列周期の長さを回折限界という。波長λ、開口数ＮＡと再生光学系では、回折限界はλ／ＮＡ／２で与えられ、一周期の中で記録マーク部とブランク部の長さが同一だとすると、記録マーク長はλ／ＮＡ／４で与えられる。この記録マーク長を解像限界という。
上記のような光記録媒体において、記録の高密度化を図るためには、波長λを短くするかＮＡを高くする必要があるが、いずれも限界がある。
これに対して、上記のような超解像光記録媒体が提案されているが、その１つとして、光記録媒体に、再生用レーザ光のスポットを小さくするための構造を付加する方法が提案されている。例えば、レーザ光照射に伴う温度上昇により液相化する材料や禁制帯幅が変化する半導体材料を用いることが検討されている。
しかしながら、いずれの場合でも、光記録媒体に照射する再生用レーザ光のパワーによって光スポットの大きさが変化するため、記録マークの大きさ毎に超解像再生のための最適なレーザパワーを決定しなければならないという問題点があった。
特開２００３−６８７２号公報
この発明は、光記録媒体において、超解像再生のためのレーザ光の照射パワーが、記録マークの大きさに依存しないようにすることを解決課題とする。
本発明者は、鋭意研究の結果、記録層に接近して、所定の照射パワーでの、１〜３００秒間のＤＣ光照射時にボイドを発生する材料からなる超解像層を設けることによって再生用レーザ光の照射パワーが、記録マークの大きさに依存しないようにできることを見出した。
即ち、以下の本発明により上記課題を解決することができる。
（１）基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層は、所定の照射パワーでの、１〜３００秒間のＤＣ光照射によりボイドを発生する材料から構成されていることを特徴とする光記録媒体。
ここで、ＤＣ光とは，少なくとも該記録媒体に記録される信号列中の最も高い周波数列よりも，低い周波数での光強度の変調をおこなわずに一定の光強度で照射された光である。
（２）基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層は、１〜３００秒間のＤＣ光照射によりボイドを発生するような所定の照射パワーを有する材料から構成されていることを特徴とする光記録媒体。
（３）前記超解像層は、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの単一周波数の記録マークが形成されている記録層にＤＣ光を照射し、且つ、その照射パワーを、前記ボイドが発生する所定の照射パワーよりも小さいパワーから大きいパワーまで変化させたときの再生信号における搬送波対雑音比が、デシベル単位で少なくとも３倍となる材料から構成されていることを特徴とする（１）又は（２）に記載の光記録媒体。
（４）前記超解像層は、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの単一周波数の記録マークが形成されている記録層にＤＣ光を照射し、且つ、その照射パワーを変化させたときの再生信号における搬送波対雑音比が、デシベル単位で少なくとも３倍の違いが現われ照射パワーの間に、前記ボイドが発生する所定の照射パワーを有する材料から構成されていることを特徴とする（１）又は（２）に記載の光記録媒体。
（５）前記超解像層は、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｓｉのいずれかの化合物から構成されていることを特徴とする（１）乃至（４）のいずれかに記載の光記録媒体。
（６）前記材料に、Ａｇ、Ｉｎの少なくとも一方が含まれていることを特徴とする（５）光記録媒体。
（７）基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層が、所定の照射パワーでの、１〜３００秒間の再生光照射によりボイドを発生する材料から構成されていて、前記記録層には、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの記録マークが形成されている光記録媒体に対して、前記ボイドが発生する照射パワーよりも大きい照射パワーでの再生光照射によって、前記記録マークの情報を再生することを特徴とする光記録媒体の情報再生方法。
（８）基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層が、１〜３００秒間のＤＣ光照射によりボイドを発生するような所定の照射パワーを有する材料から構成されていて、前記記録層には、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの記録マークが形成されている光記録媒体に対して、前記ボイドが発生する照射パワーよりも大きい照射パワーでの再生光照射によって、前記記録マークの情報を再生することを特徴とする光記録媒体の情報再生方法。
（９）基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層が、１〜３００秒間のＤＣ光照射によりボイドを発生するような所定の照射パワーを有する材料から構成されていて、前記記録層には、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの記録マークが形成されている光記録媒体に対して、前記ボイドが発生する照射パワーのＤＣ光を再生パワーとすることを特徴とする光記録媒体の情報再生方法。
本発明においては、超解像記録マークが形成された光記録媒体の再生に際して、再生光の照射パワーを、記録マークの大きさに依存させることなく、超解像再生をすることができる。
最良の形態の光記録媒体は、基板上に、第１の誘電体層、記録層、第２の誘電体層、超解像層をこの順で形成してなり、超解像層は、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｔｅを含む材料から構成され、且つ、この材料は、所定の照射パワーでの、１〜３００秒間の再生波長のＤＣ光照射によってボイドを発生するように、あるいは１〜３００秒間の、再生波長のＤＣ光照射によってボイドを発生するような所定の照射パワーを有するように構成されている。
ここで言う「１〜３００秒間」とは、もちろん臨界性を有するものではなく、媒体の構成組成によって適する照射時間が異なることを考慮し、短い場合は照射後すぐに、長い場合は長時間の照射によってボイドが発生するという状況を、種々確認した結果から導かれた、ボイドが発生すると思われる十分な照射時間を表すものである。
また、「所定の照射パワー」とは、前記照射時間の間においても、全ての照射パワーでボイドが発生するわけではないことから、種々照射パワーを適用して確認する場合においてボイドが発生することが確認できる照射パワーを「所定の照射パワー」とするものである。
ここで、ボイドとは、一定の時間、所定の照射パワーで再生光を照射することにより超解像層内に発生する構造である。具体的には、ボイドを含む超解像層を、例えば透過型電子顕微鏡で断面を測定したときに、白いコントラストで与えられる構造であり、透過型電子顕微鏡に付属のエネルギー分散型Ｘ線分光（Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ−ｒａｙ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＥＤＳ）装置等の分析により実質的に元素の強度を持たない構造である。また，ボイドは、例えば光学顕微鏡の透過像で観察されたときも、白いコントラストで与えられる。さらに、ボイドは、光ディスク評価装置では、記録部・未記録部を問わず、所定の照射パワーでの再生光照射によりオシロスコープ上に観察されるスパイク状のノイズで確認でき、一旦発生すると、所定照射パワー未満のパワーの再生光照射では消滅せず、所定照射パワーより高いパワーでの再生光照射で消滅するという特徴を有する。本願では，以上の３通りのいずれか１つの状態を満たす場合，ボイドが生成したものとする。
図１に示されるように、本発明の実施例１に係る光記録媒体１０は、基板１２上に第１の誘電体層１４、記録層１６、第２の誘電体層１８、超解像層２０、第３の誘電体層２２をこの順で積層した構成とされている。
前記基板１２は、例えばポリカーボネートから形成されている。又、前記第１の誘電体層１４、第２の誘電体層１８、及び、第３の誘電体層２２は、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＺｎＳ、ＺｎＯ等の、半導体や金属の酸化物、硫化物等から構成されている。
又、前記記録層１６は、ＰｔＯｘ等の、白金と酸化に熱分解した結果、その部分の光学定数が変化する材料から構成されているが、ＰｔＯｘに限定されるものでなく、記録用レーザ光の照射によって、光学定数が変化し、且つ、前記超解像層２０にボイド（詳細後述）が生成する照射パワーよりも高い照射パワーの再生用レーザ光の照射において、記録層１６に形成された記録マークが消失しない材料であればよい。
前記超解像層２０は、所定の照射パワーでの再生光の、１〜３００秒間の照射によりボイドが生成する材料からなり、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅのいずれかの単体、あるいは、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｓｉのいずれかの化合物、たとえば、前記いずれかの単体を一方に含むＳｂ−Ｚｎ又はＴｅ−Ｇｅ、Ｓｂ−Ｔｅ、Ｓｂ−Ｂｉ、Ｂｉ−Ｔｅ、Ｓｂ−Ｂｉ−Ｔｅのいずれかの化合物、のうち一つの材料から構成されている。
前記所定の照射パワー及び再生光の照射時間は、材料毎に実際に照射して、ボイドの発生を確認して決定する。ボイドの発生は、後述の、透過型電子顕微鏡による観測、光学顕微鏡による観測、ＥＤＳ分析あるいは光ディスク評価装置とオシロスコープにより確認するが、透過型電子顕微鏡による場合は、他の場合と比較して解像度が高いので、より短い時間の再生光照射によってもボイドを確認できる。
なお、他の材料であっても、再生用レーザ光の波長に対して不透明であって、且つ熱伝導率が低い材料であればよい。
更に、超解像層２０の材料として、上記の材料に、Ａｇ、Ｉｎの少なくとも一方が含まれているものであってもよい。
実際には、前記基板１２上に形成した第１、第２、第３の誘電体層１４、１８、２２を、それぞれ、（ＺｎＳ）85（ＳｉＯ2）15の材料であって、その厚みをそれぞれ１４０ｎｍ、４０ｎｍ及び１００ｎｍとし、更に、記録層１６を厚み４ｎｍのＰｔＯｘとし、超解像層２０を、厚み６０ｎｍのＡｇ6Ｉｎ4.4Ｓｂ61Ｔｅ28.6として、光記録媒体１０を構成した。
この光記録媒体１０に対して、レーザ波長が６３５ｎｍ、開口数ＮＡが０．６０の再生光学系からなる光ディスク評価装置（パルスティック工業株式会社製、ＤＤＵ−１０００）を用いて、線速６ｍ／ｓにおいて、４．０ｍＷの照射パワーで再生用レーザ光を６０秒間照射した後、その断面を透過型電子顕微鏡で観測した。
観測された透過型電子顕微鏡像は図２に示されるようになり、前記超解像層２０には、白いコントラストで与えられるボイド２４、即ち、ＥＤＳ分析にて実質的に元素の強度を持たない部分が形成されていることを確認した。更に、図３に示されるように、光学顕微鏡による光記録媒体の透過光像においても、白いコントラストで与えられるボイド２４を観測することができた。
図３において、列状の長円形（輝点）部分はマーカー２５であり、ボイド２４は、２本のマーカー２５の間にあるランダムな小さい白い部分（輝点）である。
更に又、図４に示されるように、前記光ディスク評価装置で使用するオシロスコープにおいて観測された反射光強度を示す線図においても、符号Ａで示される帯状部分の幅が反射光強度を示し、符号Ｂで示される領域で、ボイド２４によるスパイク状のノイズが発生し，反射光強度が低下している部分が観察された。
前記ボイド２４は、再生用レーザ光の照射パワーを所定の照射パワーで所定の時間照射させたトラック内でランダムに発生が観測された。又、照射パワーを大きい状態から所定の照射パワーまで小さくして一定時間維持したときもボイドが発生した。なお、最初から所定照射パワーよりも高い照射パワーで再生用レーザ光を照射した場合は、ボイドの発生を確認することができなかった。又、一旦発生したボイドも、照射パワーが、所定の照射パワーよりも大きい再生用レーザ光で一定時間照射した場合は消失した。
次に、前記光記録媒体１０に、再生光学系における解像限界以下の大きさの２００ｎｍの記録マークを形成して、これを、図５に示されるように、再生用レーザ光の照射パワーを再生した。
その結果、照射パワーが３．７ｍＷでは、搬送波対雑音比が８ｄＢであったのに対して、照射パワーが４．６ｍＷにおいて、搬送波対雑音比は４５ｄＢであった。
実施例１の光記録媒体１０においては、再生信号における搬送波対雑音比がある領域の照射パワーの前後で少なくとも３倍の変化を観測することができたので、これをボイド発生が可能な照射パワーと考えることができる。具体的には、４．０ｍＷであり、実施例１の光記録媒体１０は、照射パワー４．０ｍＷ、６０秒間の照射でボイドが生成した。又、４．６ｍＷの照射パワーの再生光照射によって、実施例１に係る光記録媒体１０では、超解像再生が可能であった。本願では、実用的な信号強度の観点から、搬送波対雑音比が３０ｄＢ以上のときに超解像再生が可能であるとする。
前記２００ｎｍの記録マークを形成した光記録媒体１０に、線速６ｍ／ｓで、４．０ｍＷの照射パワーで再生用レーザ光を１秒間照射した後、その断面を透過型電子顕微鏡で観測した結果を図６に示す。この図からも超解像層内にボイドが形成されていることが分かる。即ち、ボイドの形成は媒体内の記録マークの形成の有無に関わらず生じる。
次に、本発明の実施例２について説明する。
この実施例２は、前記実施例１の場合と同様の構成の光記録媒体であって、第１〜第３の誘電体層、および記録層の材料は同一であり、超解像層の厚みが、実施例１では６０ｎｍであったのに対して、実施例２では１５ｎｍとし，組成をＳｂ２Ｔｅとした点において相違する。
この実施例２の光記録媒体に、再生光学系における解像限界よりも小さい２００ｎｍ及び１００ｎｍの記録マークを形成し、再生時において再生用レーザ光の照射パワーを変化させ各段階での照射時間をボイドの発生がオシロスコープ上で充分に観察できる６０秒間としたところ、照射パワーが３．４ｍＷのときボイドが発生した。又、２００ｎｍ及び１００ｎｍのどちらの記録マークの場合でも、２．８〜３．４ｍＷに搬送波対雑音比の立ち上がりが観測され、照射パワーが３．４ｍＷよりも高いときにボイドを生じることなく安定に超解像再生が可能であった。図７に、２００ｎｍの記録マークの場合の観測結果を示す。
又、実施例２に係る光記録媒体に対して、実施例１の場合と同一の光ディスク評価装置を用い、線速４ｍ／ｓにおいて、図４に示されると同様の反射光強度変化観測をしたところ、照射パワーが３．４ｍＷの領域でオシロスコープ上にスパイク状のノイズが確認された。
なお、上記実施例において、超解像層２０は、記録層１６に対して光入射側に配置されているが、本発明はこれに限定されるものでなく、実施例１、２において記録層１６と超解像層２０とを入れ替えて構成してもよい。
図８に示されるように、本発明の実施例３に係る光記録媒体３０は、１．１ｍｍの基板３２上に反射層３４、第３の誘電体層３６、超解像層３８、第２の誘電体層４０、記録層４２、第１の誘電体層４４をこの順で積層し、その後、紫外線硬化型樹脂をスピンコーティングで塗布し紫外線により硬化し、０．１ｍｍの厚みの光透過層４６を設けた構成とされている。
この実施例３では、反射層３４として厚み４０ｎｍのＡｇ−１．０ｍｏｌ％Ｐｄ−１．０ｍｏｌ％Ｃｕ合金を用い、超解像層３８は、厚み１５ｎｍのＳｂ−Ｔｅ合金Ｓｂ７５Ｔｅ２５を用いている他は、実施例１と同様の材料を用いている。また、各誘電体層の厚みは、第３の誘電体層３６は２０ｎｍ、第２の誘電体層４０は２０ｎｍ、第１の誘電体層４４は１００ｎｍとした。
この光記録媒体３０を、レーザ波長が４０５ｎｍ、開口数ＮＡが０．８５の再生光学系からなる光ディスク評価装置（パルスティック工業株式会社製、ＤＤＵ−１０００）を用いて、照射パワーを変えて、再生用レーザ光を、ボイドの発生をオシロスコープ上で充分に観察できる６０秒間照射したところ、２．０ｍＷでボイドが発生した。
前記光記録媒体３０に、解像限界（本再生光学系では１１９ｎｍ）よりも小さい７５ｎｍの記録マークを形成し、線速４．９ｍ／ｓにおいて、再生時において再生用レーザ光の照射パワーを前記照射パワー２．０ｍＷを中心として段階的に変化させて搬送波対雑音比を測定した結果を図９に示す。図９から明らかなように、２．０ｍＷが所定の照射パワーであり、この所定の照射パワーよりも高い２．４ｍＷの再生パワーの照射により４５ｄＢ以上の搬送波対雑音比が得られている。
なお、最初から２．０ｍＷよりも高い照射パワーである２．４ｍＷの再生用レーザ光を照射した場合は、ボイドの発生を確認することができなかった。又、図１０（Ａ），図１０（Ｂ）に示すように、照射パワーが２．０ｍＷにて一旦発生したボイドも（スパイク状のノイズの発生によってそれと確認できる）、それより大きい再生パワー（２．４ｍＷ）で照射した場合は、スパイク状のノイズが消失した。
〔比較例１〕
次に、ボイドが発生しない光記録媒体（比較例）について説明する。
この比較例は、前記実施例３の場合と同様の構成の光記録媒体であって、第１〜第３の誘電体層、記録層及び反射層の材料と膜厚は同一であり、超解像層の材料を、実施例３では厚み１０ｎｍのＳｂ７５Ｔｅ２５であったのに対して、比較例１では厚み１０ｎｍのＳｎとした点においてのみ相違する。
この光記録媒体を、レーザ波長が４０５ｎｍ、開口数ＮＡが０．８５の再生光学系からなる光ディスク評価装置（パルスティック工業株式会社製、ＤＤＵ−１０００）を用いて、該光記録媒体に対して、超解像限界（本再生光学系では１１９ｎｍ）よりも小さい７５ｎｍの記録マークを記録し、線速４．９ｍ／ｓにおいて、再生時において再生用レーザ光の照射パワーを変化させて搬送波対雑音比を測定した結果を図１１に示す。図１１から明らかなように、照射パワーが０．９〜１．０ｍＷの領域で立ち上がりが見られるが、この領域よりも高い１．４ｍＷのパワーでの再生光照射では２７ｄＢの搬送波対雑音比しか得られていない。即ち超解像再生ができないことになる。
又、この比較例の光記録媒体に、一定の時間、前記０．９ｍＷ照射パワーで照射し、オシロスコープで測定しても、ボイド２４に起因するスパイク状のノイズの発生は観察されなかった。即ち、ボイドは発生していなかった。
本発明の実施例１に係る光記録媒体の要部を模式的に拡大して示す断面図 同実施例１に係る光記録媒体にボイドが生成した状態を示す透過型電子顕微鏡による断面像 同光記録媒体の光学顕微鏡による透過光像 同ボイドが生成した光記録媒体を、光ディスク評価装置により観察した反射光強度変化を示す線図 同実施例１の光記録媒体における再生用レーザ光の照射パワーとその再生用レーザ光による再生信号における搬送波対雑音比との関係を示す線図 超解像記録マークを形成した実施例１の光記録媒体に再生用レーザ光を照射した後の透過型電子顕微鏡による断面像 同実施例２の光記録媒体における、図５と同様の再生用レーザ光の照射パワーと搬送波対雑音比の関係を示す線図 本発明の実施例３に係る光記録媒体の要部を模式的に拡大して示す断面図 同実施例３の光記録媒体における再生用レーザ光の照射パワーとその再生用レーザ光による再生信号における搬送波対雑音比との関係を示す線図 同光ディスク評価装置において、再生光の照射パワーを変えた場合の、観察した反射光強度変化を示す線図 比較例における、再生用レーザ光の照射パワーと搬送波対雑音比の関係を示す図９と同様の線図
符号の説明
１０、３０…光記録媒体
１２、３２…基板
１４、４４…第１の誘電体層
１６、４２…記録層
１８、４０…第２の誘電体層
２０、３８…超解像層
２２、３６…第３の誘電体層
３４…反射膜
４６…光透過層
２４…ボイド

Claims (9)

  1. 基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層は、所定の照射パワーでの、１〜３００秒間のＤＣ光照射によりボイドを発生する材料から構成されていることを特徴とする光記録媒体。
  2. 基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層は、１〜３００秒間のＤＣ光照射によりボイドを発生するような所定の照射パワーを有する材料から構成されていることを特徴とする光記録媒体。
  3. 請求項１又は２において、
    前記超解像層は、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの単一周波数の記録マークが形成されている記録層にＤＣ光を照射し、且つ、その照射パワーを、前記ボイドが発生する所定の照射パワーよりも小さいパワーから大きいパワーまで変化させたときの再生信号における搬送波対雑音比が、デシベル単位で少なくとも３倍となる材料から構成されていることを特徴とする光記録媒体。
  4. 請求項１又は２において、
    前記超解像層は、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの単一周波数の記録マークが形成されている記録層にＤＣ光を照射し、且つ、その照射パワーを変化させたときの再生信号における搬送波対雑音比が、デシベル単位で少なくとも３倍の違いが現われ照射パワーの間に、前記ボイドが発生する所定の照射パワーを有する材料から構成されていることを特徴とする光記録媒体。
  5. 請求項１乃至４のいずれかにおいて、
    前記超解像層は、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｓｉのいずれかの化合物から構成されていることを特徴とする光記録媒体。
  6. 請求項５において、
    前記材料に、Ａｇ、Ｉｎの少なくとも一方が含まれていることを特徴とする光記録媒体。
  7. 基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層が、所定の照射パワーでの、１〜３００秒間の再生光照射によりボイドを発生する材料から構成されていて、前記記録層には、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの記録マークが形成されている光記録媒体に対して、前記ボイドが発生する照射パワーよりも大きい照射パワーでの再生光照射によって、前記記録マークの情報を再生することを特徴とする光記録媒体の情報再生方法。
  8. 基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層が、１〜３００秒間のＤＣ光照射によりボイドを発生するような所定の照射パワーを有する材料から構成されていて、前記記録層には、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの記録マークが形成されている光記録媒体に対して、前記ボイドが発生する照射パワーよりも大きい照射パワーでの再生光照射によって、前記記録マークの情報を再生することを特徴とする光記録媒体の情報再生方法。
  9. 基板と、この基板上に形成された、少なくとも記録層及び超解像層と、を有してなり、前記超解像層が、１〜３００秒間のＤＣ光照射によりボイドを発生するような所定の照射パワーを有する材料から構成されていて、前記記録層には、再生に供する再生光学系における解像限界以下の大きさの記録マークが形成されている光記録媒体に対して、前記ボイドが発生する照射パワーのＤＣ光を再生パワーとすることを特徴とする光記録媒体の情報再生方法。
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