JP2006506629A - 検査体の接触のための装置及び方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、基板１４０を位置決めし、前記検査体３０１を接触せしめ、光学軸を備えた検査装置及び対応するデバイスによって検査を行う方法に関する。これにより、前記基板はホルダー１３０の上に置かれる。基板は光学軸に対して位置決めされる。また、接触ユニット１５０は光学軸に対して位置決めされ、これにより接触ユニットは基板の位置決め動作に関係なく位置決めされる。これにより、基板上の検査体の柔軟な接触が実現され得る。

Description

本発明は、広い領域を検査することに関し、特に粒子ビームを用いる検査が検査方法として使用される。特に、本発明は検査体への接触に関する。詳細には、本発明は、基板を位置決めして基板に接触するための方法、基板を検査するための方法、検査のために少なくとも１つの検査体を検査システムに接触せしめるための装置に関する。

画像電子管を使用しない表示要素への要求が増加するにつれ、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）など、要素を制御する液晶表示（ＬＣＤ）及び他の表示要素のための規格が増加する。これらの表示要素は、マトリックス状に配列された画素を含む。

また、他の分野において、ますます多くの要素が検査されなければならない。例えば、これはマイクロ電子工学、及び／又は、マイクロ機械工学によってなされ得る。これらの要素は、例えば、薄膜トランジスタ、チップの接続ネットワーク、トランジスタ、エミッタ・アレイの電子エミッタ、表示の画素のための電極、配列又は他の要素のマイクロ機械工学的なミラー(mirrors)であり、それらは複数の要素（１００．０００〜数１.０００.０００）として存在し、特にそれらが区分されているものである。これにより、各要素は電気的に制御可能である。

例えば、表示要素の良好な画像品質を得るために、数百万画素のいくつかのみが欠陥であることが許され得る。コスト効率のよい生産を保証するために、継続的にサイズが大きくなる表示要素にとって、インシュチュー(in situ)で検査する方法において、大きな容量を提供することは重要なことである。そのような検査は、例えば、出願書類ＥＰ５２３５９４に開示されている。この検査方法により、個々の画素は粒子ビームにより検査される。この粒子ビームは、供給線を介して適用される電荷を検出するため、及び／又は、画素電極上に電荷を荷電するための、いずれかのために用いられる。

そのような検査方法のために、接触ユニットが用いられる。それは他方、外部デバイスへの信号転送を可能とし、他方、電子ビームによる走査を可能とする。これにより、最先端技術によれば、異なる解決法が存在する。

ディスプレイが検査される場合、そのディスプレイに電気的接触をもたらす、ディスプレイの領域の周りにフレームを配置することは可能である。１枚の基板上に、一般には５〜６枚のディスプレイが配置されている。電子ビームシステムの限られた計測範囲に鑑みると、１つのディスプレイのみの各々のみが検査され得る。というのは、更なるディスプレイの検査のためには、接触ユニットが上げられ、基板が動かされ、接触ユニットを次のディスプレイにセットするからである。しかしながら、このような構成を用いると、粒子ビームの走査が届き得る表面全体のディスプレイのみしか検査され得ない。

更に、ガラス基板の全てのディスプレイに同時に接触する接触フレームがある。他のディスプレイが検査されるべきであるならば、そのような接触フレームは基板に対して動かされる。

そのような基板全体のための接触フレームの欠点は、ディスプレイのサイズが変化する場合、接触フレーム全体を交換する必要があることである。このため、そのシステムは処理枚数を変更する場合、一旦、大気に戻さなければならず、それは生産性を低くする。更に、必要に応じて適用するために、可変のディスプレイのタイプ及びディスプレイのサイズのために接触フレームを保存する必要がある。

本発明の目的は、この先端技術の問題を少なくとも部分的に解決するものである。特に、１つの装置により異なる面積の検査体を有する異なる検査体を、一回の検査の間に、検査することが可能となる。

これにより、本発明の中で検査体は、例えば、個々の回路、又はディスプレイ、一群のディスプレイ、他のマイクロ電子又はマイクロ機械的な要素の配列であり、それらは例えば、回路の領域間でのショート及び欠損素子接触が検査される。

上述のこの先端技術の問題は、クレーム１、６及び３６による発明性のある方法と同様に、クレーム１７、１９、２１、３５、４０及び４２による発明性のある装置によって、少なくとも部分的に解決される。
本発明のより好ましい実施例及び特定の特徴は、従属のクレームから明らかである。

一特徴によれば、本発明の目的は、光学軸を有する検査装置によって、検査中に接触ユニットを位置決めするための方法によって解決される。従って、いくつかの検査体を有する基板は、サンプル支持体、即ち、基板ホルダー上に位置決めされる。この基板は光学軸に対し動かされ、その結果、検査体の領域は検査装置の計測範囲になる。検査体に接触するための接触ユニットが位置決めされ、これにより、その検査ユニットの位置決めは、基板の位置決めに少なくとも部分的には関係しない。接触ユニットの位置決めは、その接触ユニットが検査体の１カ所で接触する配置、若しくは、いくつかの所で接触する配置となるのに好適なものである。

更に、本目的は、１つの検査装置により、いくつかの検査体を備えた基板を検査するための方法による、更なる本発明の特徴により解決される。基板はサンプル支持体上に置かれる。基板上の検査体の第１の検査体の接触配列は、接触ユニットに接触する。ホルダー及び基板は、第１の検査体の第１の領域が検査装置の検査範囲内で計測され得るように位置決めされる。これにより、第１の検査体の第１の領域が検査される。このホルダー及び基板は、その検査装置の検査範囲内において、検査体の少なくとも更なる領域を検査するために新しく位置決めされる。また、接触ユニットは、基板に対する位置が基本的には変わらないように位置決めされる。この検査体の少なくとも更なる領域が検査される。基板は、第２の検査体の領域を検査するために、再び新しく位置決めされる。接触ユニットは、第２の検査体の領域の検査のために基板に対して動かされる。

本発明の上述の特徴によって、接触ユニットを交換する必要なしに、異なる形の検査体の接触も可能となる。更に、検査装置の検査範囲を超えるようなサイズの検査体も、本検査装置によって検査することが可能である。この脈絡において、計測信号を発生するためのコンポーネントは検査装置として理解される。それらは、主要な粒子ビームを発生するソース、計測信号を取得するために用いられる、基板上のビームをガイドするためのビームシェーピング及びビーム偏光コンポーネント(beam shaping- and beam-deflection components) 、検出ユニット上に計測信号をガイド、及び／又は、イメージするためのコンポーネント、及び検出ユニットである。

現行技術に比べ、接触ユニットの交換は避けられるという事実とは別に、状況次第での交換はメンテナンス等のために利点がある。接触ユニットは典型的には交換可能なユニットである。

上述の特徴の範囲内において、接触ユニットの位置決めがその接触ユニットに割り当てられた駆動機構により行われるのであれば、特に好ましい。これにより、接触ユニットはある場所から次の場所へ迅速に、且つ、柔軟に運ばれ得る。これにより、基板全体の検査速度が速くなるとともに、検査システムのスループットが向上する。

更なる特徴によれば、発明性のある目的は、検査システムのために用いられる、接触のための装置によって解決される。このシステムは、位置決めユニットを備えたサンプルの支持体を含む。この位置決めユニットは、検査装置の光学軸に垂直な２つの方向において移動（変位)する範囲を有する。また、接触ユニットは、検査装置の光学軸に垂直な２つの方向において移動（変位)する範囲を有する。これにより、接触ユニットの少なくとも１つの移動（変位)の範囲がサンプル支持体の対応する移動（変位)の範囲より小さい。

本発明の一特徴によれば、接触のための装置が開示される。これは基板及び対応する移動（変位)ユニットのためのホルダーを含む。更に、移動（変位)可能な接触ユニットが存在し、それは少なくとも粒子ビームの検査器の光学軸に垂直な、少なくとも１つの方向において、その方向における前記ホルダーの面積よりも小さい面積を有する。

本発明の主要な特徴は、接触するための装置である。これは基板及び対応する移動（変位)ユニットのためのホルダーを含む。更に、移動（変位)可能な接触ユニットも存在し、これは粒子ビームテスターの光学軸に垂直な、少なくとも１つの方向において、この方向におけるホルダーの面積の最大半分を有する。

これにより、ホルダーは基板が置かれているローラ上の位置にある基板テーブルであり得る。このホルダーは基板保持ユニットである。即ち、この基板はローラ上に置かれるか、又は、このホルダーは基板を各々、保持する。

本発明の更なる特徴によれば、接触するための装置が開示されている。これは基板、及び、対応する移動（変位)ユニットのためのホルダーを含む。更に、粒子ビームの光学軸に垂直な、少なくとも１方向において、基板よりも小さいか、若しくは、この方向において基板の面積の最大半分の大きさを有する移動（変位)可能な接触ユニットも存在する。

本発明により改善し得る装置は、基板よりも大きいホルダーを有することもある。基板がホルダーよりも大きいような場合、接触ユニット及びホルダーとの間の上述したような相対的な大きさは、少なくとも検査されるべき基板との関係となる。これは、相対的大きさが基板に対する接触ユニットの関係になることを意味する。

これにより、粒子ビームテスターの光学軸に垂直な２つの方向において、接触ユニットがこの方向において前記ホルダーの面積の最大半分を有するのであれば、特に好ましい。

本発明は、次のようにも言い表せる。本発明の一特徴によれば、その目的は、検査システム内にある接触のための装置によって解決される。検査システムはホルダーを含み、それは検査装置の光学軸に対して移動（変位)可能である。また、接触ユニットを有し、それは前記光学軸に対して移動（変位)可能である。この接触ユニットは、基板の検査の間、基板に対しても移動（変位)可能である。

この点に関して、基板中の検査対象の検査の間、接触ユニットが少なくとも１０センチ、特に好ましくは少なくとも２５センチ、だけ移動（変位)可能であれば、より好ましい。

更なる特徴によれば、本発明性ある目的は検査システムによって解決される。この検査システムは、粒子ビーム・コラム(column)、検査チャンバ、及び、上述の特徴のうちの１つによる、基板の少なくとも１つの検査対象に接触するための装置を含む。

これにより、検査チャンバは真空化されれば好ましい。粒子ビーム・コラムが電子ビーム・コラムであれば、更に好ましい。これにより、特にエミッタ、偏向ユニット、及びビーム・シェーピング光(beam shaping optics)がコラム内に含まれる。

本発明によれば、粒子ビームは光子により形成され得る。即ち、基板上に検査対象の要素に対し光学検査が行われる。

更に、ガラス基板の移動（変位)のために必要なスペースを節約するために、検査装置の光学軸に対して、ガラス基板及び接触ユニットを動かさないで、ガラス基板を置いたままにすることは可能である。この場合、他方、検査装置の光学軸はガラス基板に対して動かされる。更に他方、接触ユニットはガラス基板に対して動かされ、接触ユニット及び検査装置の光学軸はそれぞれに対して動かされる。

また、本発明は上述した方法を行うに必要な特徴を有する装置に関する。更に、本発明は上述の装置の使用により特徴づけられる方法に関する。
本発明の実施例は、図面に記述され、以下により詳細に例示的に記載される。

本発明はさまざまな検査方法のために用いられ得る。簡単化のために、本発明は粒子ビームによりディスプレイを検査することにより、まず以下のように記述される。

使用される用語が図９に関連して説明される。図９はサンプル支持体１３０上のガラス基板１４０の平面図を示す。この基板上に、６個の表示要素３０１が形成されている。例として、このディスプレイは、均一な距離によりガラス基板上に配置されている。ガラス基板は、検査チャンバ（図１参照）内に設けられる。これはディスプレイの検査の間、電子ビーム・コラムが図９に示されるガラス基板の上に位置することを意味する。明確にするために、電子ビームの光学軸１０２は図９に示される。

ディスプレイの検査のために、電子ビームは偏光板によりガラス基板上をスキャンする。これにより、領域３０２は電子ビームにより検出される。この領域は検査領域３０２として示され、灰色により示される。そして、検査領域３０２は、粒子ビームにより最大限に、若しくは、合理的な方法により、検査され得る領域である。これは検査範囲３０２の外部のサンプルの領域において、この検査方法によって集められる計測結果はないことを示す。結果として、その検査範囲は検査されるべき基板とは独立となる。これは検査装置、即ち、電子ビーム検査デバイスの特性である。

図９は、検査装置の検査範囲３０２より大きいディスプレイ３０１を図示する。このディスプレイは、光学軸１０２に対してディスプレイを伴うガラス基板１４０を移動（変位)させることなく、検査装置により検査することはできない。このため、図９のディスプレイはいくつかの領域に分割されなければならず、それらは順次に検査される。これらの領域は、第１の領域３０３及び第２の領域３０４である。従って、第１のディスプレイ（左上）の検査の間、ガラス基板は検査装置の検査範囲３０２の範囲内で第１の領域３０３を位置づけするために動かされる。その後、ガラス基板は再び検査装置の検査範囲内において第２の領域３０４を位置づけするために、光学軸１０２に対して再び動かされる。光学軸１０２に対する移動（変位)は、検査範囲３０２における移動（変位)と類似のものである。

一般に、ディスプレイは、ディスプレイの機能を検査するために、検査方法のために電気的に接触していなければならない。従って、接触ユニット１５０はガラス基板の上に置かれる。この接触ユニットは、ディスプレイに対する電気的接触をもたらす。これにより、ディスプレイは検査のために必要な外部デバイスに電気的に接続され得る。

図７及び図８ａ〜図８ｃを参照して、本発明の基本を形成するアイデアが説明される。図７におけるアセンブリ７００は、ガラス基板１４０の平面図を示す。ガラス基板上には検査されるべきいくつかのディスプレイ７０８、若しくは、検査されるべきディスプレイ７０８のための回路がある。このアセンブリ７００は、検査のために検査システムに挿入される。この検査装置において、ディスプレイは電子ビームにより検査される。これにより、検査ビームは基板の一領域にかけて操作される。こうして、計測結果は検査装置の検査範囲７０４内において集められるのみである。

ガラス基板の全体は、移動（変位)することなく電子ビームにより検査されるには大きすぎる。ディスプレイの一領域を計測するために、検査の範囲内にある領域において、ディスプレイ７０８は接触し、７０２を介して接触ユニット７０６に接触される。これにより、外部からもたらされる他の検査信号と同様に、計測信号は検査下にあるディスプレイと計測電子装置との間で送信され得る。

第７図において、ディスプレイは、検査範囲７０４より小さいか、若しくは、同じ大きさを有する。第１に、ガラス基板は第１のディスプレイが検査装置の領域７０４内になるよう位置決めされ、それは電子ビームによって計測のために用いられ得る。アセンブリ７００のために、接触ユニット７０６はガラス基板上に置かれる。接触ユニットの接触ピンは、そのために設計された接触アセンブリ７０２に接触しており、それは各ディスプレイ７０８に接触するためにガラス基板上に設けられている。外部信号は、これらの接触子を経由してディスプレイに提供され得る。計測方法のために必要であるならば、ディスプレイの信号は、また、これらの接触子を介して計測され得る。

ガラス基板１４０上の全てのディスプレイを検査するために、まず、第１のディスプレイに接触する。その後、このディスプレイは電子ビーム検査方法により検査される。そして、接触ユニット７０６は持ち上げられ、ガラス基板１４０は移動（変位)される。これにより、更なるディスプレイが検査装置の検査範囲に位置決めされる。接触ユニット７０６は、このディスプレイを検査するために更なるディスプレイに接触する。このようにして、基板上の全てのディスプレイは検査される。しかしながら、この実施例により、その大きさが電子ビームにより検査され得る範囲内にあるディスプレイのみが検査され得る。

図８ａ〜図８ｃはそれぞれ、更なるアセンブリ８００、若しくは、８００ｂを図示する。ガラス基板１４０上の全てのディスプレイ８０８は、それぞれアセンブリ８００及び８００ｂのための接触ユニット８０６若しくは８０６ｂに接触する。ガラス基板がガラス基板１４０の異なる領域の検査の間に動かされるのであれば、ガラス基板に置かれた接触ユニットも動かされる。

図８ａは、ガラス基板１４０を図示する。接触ユニット８０６は、検査の実現のために全てのディスプレイ１０８に接触する。全てのディスプレイ８０８に信号を供給することができるようにするために、若しくは、全てのディスプレイからの信号を受信することができるようにするために、それぞれ接触ユニット８０６はボンド・ブリッジ(bond bridge)８１０を有する。

図８ｂ内のアセンブリ８００ｂは、アセンブリ８００に比較され得る。接触ユニット８０６ｂは、単にグリッドのようなボンド・ブリッジ８１０ｂを含む。

図８ｃは、再びアセンブリ８００を図示する。図８ａとは反対に、ここにおいてディスプレイ８０８ｂは異なる大きさを有する。

図８ａを図８ｃと比較することによりわかるように、ブリッジ８１０は検査されるべきディスプレイ８０８ｂの一部分をカバーしている。従って、合理的な検査は不可能である。このようにして、ディスプレイ８０８ｂの検査のために異なる形の接触ユニットを選択することが求められる。これを実現するために、検査装置は大気圧に戻され、接触ユニット８０６若しくは８０６ｂはそれぞれ動かされ、新しいディスプレイ８０８ｂに好適な接触ユニットがシステムに挿入され、システムは新しく真空化される。

生産の間、この大気圧化及び真空化は大きな欠点を含み得るので、本発明によりそのような問題が低減されることが望ましい。

以下において、本発明の実施例及びより好ましい特徴が、図１から図６を参照して説明される。

図１は、検査システム１００を図示する。この検査システムは、粒子ビームの手段によって、ガラス基板１４０、若しくは、他の基板上に設けられた、例えばディスプレイのような検査対象を検査する。この検査システムは、例えばコラム１０４などの検査装置をその一部として含む。コラム内には、量子ビームがエミッタ１０において生成される。

本発明に関して、量子ビームは、例えば、電子、若しくは、イオンビーム、若しくはレーザビームのような電荷された粒子（量子ビーム）のビームとして理解されるべきである。これは、粒子がイオン、若しくは、原子、電子、若しくは、他の粒子であるところの、粒子ビームと同様に、粒子状の量子、若しくは、フォトンであるレーザビームとして、量子ビームという言葉が理解されるべきであることを意味する。例として、以下においては電子ビームを指すものとする。

更に、図１は、穴１２、デフレクタ１４及びレンズ１６を図示する。これらは光学軸１０２に沿って電子ビームをイメージングするためのものである。移動（変位)ユニット１３２及び１３４は、検査チャンバ１０８に設けられる。サンプル支持体１３０は、移動（変位)ユニットとともにＸ方向及びＹ方向に移動（変位)され得る。図１において、これは相互に移動（変位)可能な２つの移動（変位)ユニットによって実現される。こうしてＸ方向における移動（変位)ユニットの移動（変位)に関しては、基板を備えたホルダーと同様、移動（変位)ユニット１３２がＸ方向に動かされる。それとは独立に、移動（変位)ユニット１３２はＹ方向におけるガラス基板１４０を備えたサンプル支持体１３４の移動（変位)のために制御される。これにより、基板を備えたサンプル支持体はＸ−Ｙ平面内で動かされ得る。

検査チャンバは、バキューム・フランジ１１２により真空化される。ホルダー若しくはサンプル支持体１３０はそれぞれ、移動（変位)ユニットにより動かされる。ガラス基板１４０は、計測の間、ホルダー上に載置される。更に、駆動機構１５２を備えた接触ユニット１５０は、検査チャンバ１０８内に設けられる。計測の間、基板上のディスプレイは、検査システムとディスプレイとの電気的接触を実現するために、接触ユニットと接触する。

駆動機構１５２は、検査装置の光学軸１０２に対して、及び、サンプル支持体１３０に対して、接触ユニットの独立の動きのために供する。接触ユニット１５０の信号の接続は、接触接続１５４により生じる。更に、図１内で制御及び動作ユニット１３５、１５３、１６０、１６２、及び１６４が図示され、それらは検査システム１００の使用に関連して、より詳細に説明される。

図１を参照して、検査システムの機能が以下に説明される。エミッタ１０により生成される電子ビームは、検査チャンバ１０８内のレンズ１６と同様に、ビームの位置決めのための、及び、走査のための孔１２、デフレクタ１４のような要素を介して案内される。更に、ビームは光学的要素により形成される。

検査方法のために、電子ビームは基板上のディスプレイの要素に向けられる。これにより、検査されるべき要素の全領域は領域の荷電がなされ得る。更に、放出された２次粒子を（図示しない）ディフェクターにより計測することも可能である。２次電子の計測によって、トポロジー(topologies)若しくは物質成分が他の検査方法によって検出され得ると同様に、ディスプレイ上の潜在的な配分を計測することができる。

コラム１０４の真空化は、バキューム・フランジ１０６によってなされ得る。異なるなる接続（図示しない）は、外部の制御デバイスとの接続のために供する。これらの制御デバイスは、ユーザインターフェースを伴ったコンピュータ、コントロールユニット、及び中央制御システムである。

移動（変位)ユニット（１３２＋１３４）は、検査チャンバ１０８内に設けられる。これは、例えば２つの線形変形ユニットにより形成される。これにより、Ｘ方向の移動（変位)は移動（変位)ユニット１３４によりなされ、Ｙ方向の移動（変位)は移動（変位)ユニット１３２によってなされる。これらの移動（変位)ユニットは、制御ユニット１３５に接続される。この制御ユニットは、Ｘ−Ｙ平面内でホルダー１３０（サンプル支持体）の位置決めを制御する。

基板１４０の保持のためのホルダー支持体１３０はサンプルの支持体であり、移動（変位)ユニット（１３２＋１３４）とともに電子ビームコラムの光学軸１０２に対して動く。

基板上のディスプレイの検査の間、ディスプレイは外部の信号、若しくは、信号が供給され、それらはディスプレイ内に生成され、計測されなければならず、また、評価ユニットに入力されなければならない。従って、ディスプレイは電気的に接続している。このため、接触ユニット１５０が用いられる。接触ユニットは、接触アセンブリ２００（図２参照）に電気的接触を接触ピンでもたらす。接触アセンブリ２００は、１つのディスプレイの接触のために供するか、若しくは、いくつかのディスプレイの接触のために供する。

図２は、接触アセンブリ２００の２つの例を示す。この接触アセンブリは、個々の接触パッド２１２を含む。これらは領域２１０上に配置される。接触パッド間の距離は、図２中に２２０及び２２２により示される。

この接触アセンブリ２００、若しくは、いくつかの接触アセンブリ２００は、基板上のディスプレイとともに設けられる。ディスプレイの制御ライン若しくは計測ラインは、接触アセンブリのパッド２１２とともにフィード・ラインを経由して接続される。パッドは、Ｘ方向２２０において標準化された距離を有し、方向２２２において標準化された距離を有する。これにより、自動化された接触が可能となる。実施例に示される２つの例は、接触パッドの数及び配置に関して異なる。表示要素を伴った接触ユニットの接触のために、接触ユニットの接触ピンは接触アセンブリ２００の接触パッド上に導かれる。これにより、標準化された接触アセンブリのための個々の接触ピンは、好ましくはそれぞれに関して固有の距離を有する。

接触ユニットの接触ピンは、接触アセンブリの接触パスの接触のために、それぞれに対して動かないようになっている。これは、それぞれに対して全ての接触ピンに適用され得る。ここで、接触ピンの少なくとも９０パーセント、好ましくは接触ピンの１００パーセントとして理解されるべきである。

例示の実施例とは独立に、異なるタイプのディスプレイと同等のアセンブリを接触領域２００が有するのであれば、本発明にとって効果的である。本発明によって、１つの接触ユニットを伴ったさまざまな異なるディスプレイを検査することができる。しかしながら、従って、パッド２１２の地理的な配置の採用の必要性を低減若しくは避けるために、接触アセンブリが標準化されることが好ましい。検査システムの柔軟性を制限することなく、接触ユニットの接触ピンはそれぞれに対して固定された地理的な配置を有する。

接触アセンブリへの接触ユニット１５０（図１参照）の接触のために、接触ユニットはディスプレイ若しくは基板のそれぞれに上から運ばれる。接触パッド２１２に対して接触ユニットの調整を容易にするために、接触ユニット及び基板が、接触移動（変位)の範囲によってだけＸ方向及びＹ方向に移動（変位)可能であることが効果的である。これにより、各方向において、接触移動（変位)の範囲はそれぞれ、接触パッド２２０若しくは２２２の距離の大きさを有する。

図１において、信号の伝送は、接触ユニット１５０を介して、接触接続１５０により基板１４０上のディスプレイにまで起こる。信号は、制御ユニット１６２により利用可能とされる。そのようなユニットによって必要であれば、ディスプレイの信号が計測され得、それは接触ユニットに送られる。

電子ビームにより検査を可能とするために、検査チャンバ１０８内において真空をもたらすことも可能である。バキューム・フランジ１１２は、そのために供する。検査チャンバの真空化は、最大１×１０^−２ｍｂａｒの圧力まで検査の間行われ、好ましくは１×１０^−４ｍｂａｒの圧力にまで下げられる。更に、他のフランジ（図示せず）が存在し、それは制御ユニット、制御コンピュータ１６４、外部の通信手段及び／又はそのようなものへの接続を可能とする。

以下において、検査システム１００による検査方法が電子ビームの方法により記述されるが、本発明はそれに制限されるものではない。可能な検査方法は、例えば、入力リードを介してディスプレイの画素の電極を電気的にチャージすることである。時間軸上の電位及びそのばらつきは、粒子ビームにより計測され得る。これにより、寄生要素（parasitic elements）、及び振幅を決定するためと同様に、ショートした回路若しくは欠損した接触などの欠陥を検出することも可能である。

他の方法において、画素の電荷は粒子ビームによりチャージされ、その結果の電位はまた粒子ビームにより計測される。開始の条件及び境界線上の条件は、入力リードの制御により調整される。

更なる方法において、画素の電極は粒子ビームによりチャージされ、入力リードにおいて、その結果の電流が計測される。
以下において、本発明の原理が図３ａ及び図３ｂに関して例示的に説明される。

図３ａ及び図３ｂ内のアセンブリ３００は、その平面図においてガラス基板１４０を図示し、そのガラス基板はサンプル支持体１３０上に位置する。ディスプレイ３０１若しくはディスプレイ３０１の回路、本装置内で検査されるべき、はガラス基板上に設けられる。図３ａ及び図３ｂは同じアセンブリを示し、これによりガラス基板は示されたガイド３５０に対して動かされる。

更に、図３ａ及び図３ｂは、接触ユニット１５０を図示する。接触ユニットはフレームの形を有する。このフレームは検査されるべきディスプレイの領域をカバーするのに十分でないサイズを有する。電子ビームにより検査され得る検査の範囲３０２は、図３中にグレーにより示される。検査範囲は、検査装置により検出され得る領域である。検査範囲の外側は、電子ビームによって計測が行われることはできない。検査範囲内で、電子ビームは走査ユニットにより電子ビームを偏光させることにより計測を行う。これにより電子ビームは、走査ユニットによりＸ方向及びＹ方向に走査方向が偏光され、その結果、検査範囲３０２は電子ビームにより連続的に記録され得る。また、１方向にのみ電子ビームを偏光させることが可能であり、基板の移動（変位)により別の方向において検査範囲を拡大することも可能である。

検査されるべきディスプレイ３０１は、検査装置の検査範囲３０２より大きい。こうして、検査素子のいくつかの領域はそれぞれ別個に検査されなければならない。このため、ディスプレイは第１の領域３０３及び第２の領域３０４に区切られる。図３に示される実施例において、領域３０３及び３０４はディスプレイの半分に対応する。更に、検査範囲の大きさは、ディスプレイ３０１の第１の領域３０３及び第２の領域３０４の大きさにほぼ等しい。この一致は偶然なもので、本発明には関係しない。

本発明の方法の間、接触ユニット１５０とともにガラス基板は動かされる。これらの移動（変位)は、図３に関して記述される方法内において行われるものであるが、矢印により示されている。図３内において、Ｘ軸の負の方向に基板１４２を伴ったサンプル支持体１３０の移動（変位)は、矢印３１２によって示される。Ｘ方向の負の方向での接触ユニットの類似の移動（変位)は、矢印３１０によって示される。更なる移動（変位)（図３ｂから図３ｃへの移動（変位)）は、３１４により示される。

ディスプレイの検査のために、接触ユニット３５０を伴った接触アセンブリが必要である。図３内において、接触ユニットはフレームの形を有している。より効果的には、このフレームは、ディスプレイ３０１の領域をカバーしないような十分な大きさのものである。

この検査方法の間、まずディスプレイの第１の領域３０３は、それは検査範囲３０２内に位置するのであるが、検査される。これは、図３ａに示されるとおり、ガラス基板１４０及び接触ユニット１５０の光学軸１０２に対する相対的な配置に対応する。光学軸１０２及び検査範囲３０２は（本方法のステップの如何なるものにおいても）、それぞれに対して変動しない。この検査範囲３０２は、光学軸１０２からの電子ビームの偏光による結果である。これにより、検査範囲３０２のサイズは、例えば、光学軸１０２からの電子ビームの最大偏光値によって制限される。

ディスプレイの領域３０３の検査の後、基板はＸの負の方向において距離３１２だけ動かされる。これにより、ディスプレイ３０１の第２の領域３０４は、検査装置の検査範囲３０２において位置決めされる。こうして、ディスプレイの第２の領域３０４は検査され得る。接触ユニットによる接触は、ディスプレイ３０１の第２の領域３０４の検査のためにも必要である。従って、接触ユニットも移動（変位)される。これによりＸの負の方向における移動（変位)は、基板の移動（変位)３１２と同等のものである。これにより、接触ユニット１５０は基板に沿って動かされ（移動（変位)３１２）、その結果、接触がその時間の間、存在する。

ガラス基板１４０及び接触ユニット１５０の移動（変位)の後、図３ｂに示される状態となる。第１のディスプレイの第２の領域３０４が検査される。基板１４０上の全てのディスプレイ３０１を検査するために、基板１４０は再び光学軸３０１に対して（及び、それにより検査範囲３０２に対して）動かされなければならない。この基板の移動（変位)は、矢印３１４により示される。この後、図３ｃに示される状態となる。

図３ｂから図３ｃへの遷移は、更なるディスプレイの検査のためのステップを明確にする。まず、接触ユニット１５０が持ち上げられる。基板が接触ユニット（矢印３１４参照）に対して動かされる。これにより、接触ユニットは更なるディスプレイの上に位置決めされる。この後、接触ユニットは更なるディスプレイに接触する。検査範囲３０２若しくは電子ビームの光学軸に対する基板の移動（変位)はそれぞれに図３内にあり、ガイド３５０により付加的に説明される。
図３ｂにおいて、検査されるべき第２のディスプレイのための検査方法が適用され、それは図３ａに説明された方法と類似するように行われる。まず、第２のディスプレイ３０１の第１の領域３０３が、電子ビーム検査装置の検査範囲３０２内に位置決めされる。１つ、若しくは、いくつかの検査方法が、接触ユニット１５０によるディスプレイへの接触により、第２のディスプレイ３０１が第１の領域３０３の適用範囲になり得る。この後、移動３１０及び３１２（図３ａから図３ｂ）に類似するように、接触ユニット１５０とともにガラス基板１４０が第２のディスプレイのために動かされる。これら２つの移動（変位)は、図３ｄに示されるような状態となる。これにより、第２のディスプレイの第２の領域３０４もまた、接触ユニット１５０を用いて検査され得る。

上述のとおり、第１の領域３０３から第２の領域３０４へのディスプレイ３０１の検査のための切り替えを行うために、ガラス基板は、接触ユニットが同じ方向に同じ量だけ基本的に動くと同様に、ガラス基板もＸ方向の負の方向（３１２参照）に動かされる。

平行な移動（変位)を実現するために、いくつかの可能性がある。他方、接触ユニット１５０は、基板１４０に沿って運ばれ得る。ここにおいて運ばれるということは、ディスプレイ３０１の接触アセンブリに接触ユニットを接触している間、機械的接触が形成され、その結果、基板の動き３１２の間、接触ユニットが基板により運ばれる。

他方、接触ユニット１５０がその駆動機構１５２（図１参照）を有することを可能とする。これにより、接触ユニットは基板から独立して自動的に位置決めされ得る。このように、接触ユニット１５０は基板の動きに従うことが可能である。

これにより、基板１４０及び接触は同期して動かされ、これにより同期ユニット１６０が用いられる。基板及び接触ユニットの移動（変位)は、電気的接触を切断することなく実現され得る。接触ユニット自身の駆動機構によって、接触ユニットを持ち上げ、基板から外された接触ユニットを動かすことも可能である。この場合において、それは新しく置かれることとなる。

図３ａ及び図３ｂに関して記載された実施例は、一般に次の発明性ある特徴があるとして説明され得る。

上述の発明性ある方法及び発明性ある接触ユニットは、例示的にディスプレイのために説明されていた。本方法は、他の検査体の検査のためにも用いられ得る。検査体は、例えばディスプレイのような、本発明内において理解され得るべきであり、ガイドの領域間でのショートもしくは断線に関して検査されるような個々の回路と同様に、ディスプレイ、一群のディスプレイ、他のマイクロエレクトロニクス、若しくはマイクロメカニックな要素の配列であってもよい。

本発明により、異なる大きさを有する検査体の検査が同じ接触ユニットにより可能となる。これにより、接触ユニットは検査装置の光学軸及び検査されるべき検査体に対して位置決めされ得る。検査体３０１は、図３ａ、図３ｂの実施例に関して、ディスプレイ３０１として説明されてきた。しかしながら、検査体はまた、比較可能な方法によって検査される、一群のディスプレイ及び他のデバイスであってもよい。

本発明は、検査体の限られた領域のみが、検査体を伴った基板の動き無しに、検査され得るような検査方法に特に効果がある。例えば、図３の例内において、検査されるべき検査体（ディスプレイ３０１）の領域が検査範囲３０２より大きいことを意味する。

今日、２０センチ×２０センチ以上の領域が粒子ビームによりディスプレイの検査により検査され得る。今日、フラットパネルディスプレイは既に１７インチ、１９インチ、若しくはそれ以上の大きさのサイズを有する。生産の間、いくつかのフラットパネルディスプレイは、１つのガラス基板上に形成される。１方向、若しくは、２方向におけるガラス基板の大きさは、およそ１５００ｍｍ若しくはそれ以上であり得る。

これによれば、本発明性ある方法若しくは検査システムは、好ましくは５０ｍｍ×５０ｍｍ以上の検査範囲のために用いられ、特に好ましくは２００ｍｍ×２００ｍｍ以上の検査範囲のために用いられる。これは特定の実施例とは別に、言えることである。

更に、特定の実施例とは別に、本発明による検査システム及び方法は、少なくとも２００ｍｍの１方向若しくは両方向において大きさを有する、特に好ましくは少なくとも４００ｍｍの大きさを有する検査体を検査するのに好ましい。

更に、本発明は少なくとも７００ｍｍの１方向若しくは両方向において大きさを有する基板、特に好ましくは少なくとも１２００ｍｍの基板、のための検査方法及び装置に適用されると一般的には好ましい。

基板の移動（変位)及び接触ユニットの移動（変位)は、少なくとも５０ｍｍ、特に好ましくは少なくとも３００ｍｍ、であることが好ましい。特に基板の移動（変位)の範囲が接触ユニットの移動（変位)の範囲より大きく、それが少なくとも７００ｍｍであることが好ましい。これは、本発明を明確に説明するために例示的に述べられた全ての実施例に適用される。

特定の実施例とは別に、接触ユニット１５０は独自の駆動機構１５２（図１参照）を有することが望ましい。これにより、接触ユニットは基板から独立して自動的に位置決めされ得る。この場合において、接触ユニット１５０は基板の動きを追従することが可能となる。

この追従は、基板及び接触ユニットの動きを同期させることによって実現され得る。基板及び接触ユニットの移動（変位)は、電気的接触を断とすることなく行われる。接触ユニットの駆動機構により、接触ユニットを持ち上げ、基板から外された接触ユニットを動かすことも可能である。

図７を参照して説明される原理に対比して、本発明は検査体３０１が計測され得ることという利点を有する。それは、検査方法によって予め定められた検査の範囲３０２より大きいものである。これは接触ユニットの移動（変位)可能性により成し遂げられる。
図８ａから図８ｃに関して説明される原理に比べての効果が、図４に関して以下に説明される。

図４は、ガラス基板１４０を備えた基板支持体１３４を図示する。ディスプレイ４０１は、上述の方法により検査される。ディスプレイ４０１はまた、検査装置の検査範囲３０２内に置かれるには大きすぎる。したがって、ディスプレイ４０１は、領域３０３ａ及び３０４ａ内に区分けされなければならない。それらは、それぞれ独立に検査される。従って、ディスプレイ４０１の第１の領域３０３ａ及び第２の領域３０４ａは、図４中に印が付けられる。例示的に、これらの領域はディスプレイの半分に対応する。

図４の接触ユニット１５０は、図３中の接触ユニット１５０と同じサイズを有する。ディスプレイ３０１と比べたとき、ディスプレイ４０１は異なる大きさであるため、接触ユニットは図４中のディスプレイ４０１の部分をカバーする。図８に示されるような接触ユニット８０６は、異なる面積には適用され得ない。従って、図８ａから図８ｃによる接触ユニットでは、異なるタイプの検査体に対し、異なるタイプの接触ユニット８０６（図８参照）を用いることが必要である。

しかしながら、本発明性ある接触ユニット１５０は、基板の異なる場所に置かれ得る。従って、本発明においては、そのとき検査されていないディスプレイのカバーリングによって検査手順が邪魔されることはない（図４中、上部真ん中のディスプレイ）。

また、ディスプレイのタイプ４０１は、検査の範囲３０２より大きいサイズを有している。このように、図３に関して説明されたステップと同様に、接触ユニット１５０はディスプレイ４０１の接触が第１の領域３０３ａ及び第２の領域３０４ａの検査の間可能となるように、基板１４０とともに動かされる。

図４に見られるように、接触ユニット１５０は計測されるべきディスプレイに対して、ディスプレイ４０１の４つの全ての場所に直接接触をするわけではない。本発明にとっては、接触ユニット１５０及びディスプレイとの間の接触がそれによってなされ得るであろうところの接触アセンブリ２００、若しくはいくつかの接触アセンブリ２００が配置され、その接触はディスプレイが異なる面積であっても生じる。図４において、全ての接触アセンブリ２００は各ディスプレイ４０１の上側に配置されている。従って、この場合において、接触ユニット１５０の接触はディスプレイの面積には拘わらず生じる。

図８に関して示された基本原理とは反対に、異なるタイプのディスプレイが接触ユニット１５０を交換、若しくは、交代することなしに、本発明により検査され得る。

図５に示される実施例においても、同様のことが言える。以前の図面に類似して、図４に記述される実施例は、ガラス基板１４０を伴った基板支持体１３０を図示する。第５図中の接触ユニットは、第１の部分１５０ａ及び第２の部分１５０ｂを含む。図５中の接触ユニット１５０の実施例は、図３中の接触ユニットと同じ発明性ある特性を有する。それは、図５中の接触ユニットもまた検査装置の光学軸に対して位置決めされ、ガラス基板の位置決めとは独立に位置決めされることを意味する。

更に、図５中の接触ユニット１５０は、接触ユニット１５０のサイズを変化させることができるようにすることによって、付加的な改善された柔軟性をもたらす。図５中の接触ユニット１５０のサイズの変形例は、矢印５０４で示される２つの部分１５０ａ及び１５０ｂの移動（変位)によって実現される。

更に、図５は第１のディスプレイタイプ３０１ａ及び第２のディスプレイタイプ３０１ｂを図示する。この２つのディスプレイのタイプは、それらの面積により異なる。矢印５０２は、ディスプレイ３０１ａ及び３０１ｂ間のサイズの差を表す。上述のとおり、矢印５０４は接触ユニット１５０のサイズの変形例を示す。サイズの変形例は、２つのディスプレイのタイプ３０１ａ及び３０１ｂのサイズにおける差に適用され得る。図５内において、第１のディスプレイのタイプ３０１ａの代わりに他のディスプレイのタイプ３０１ｂが検査されると、接触ユニットは変形されたディスプレイの大きさ、若しくは、ディスプレイの形に適用され得る。サイズ５０２の変形例は、接触ユニットの部分１５０ａ及び１５０ｂの移動（変位)によって保証され得る。

このより好ましい特徴によって、より大きい柔軟性さえ実現され得る。そのような実施例のために、それぞれに対して２つの部分１５０ａ及び１５０ｂのための付加的な位置決めユニットが設けられる。また、接触ユニット１５０の部分１５０ａ及び１５０ｂの両者に対して、分離した位置決めユニットが設けられ得る。接触ユニット１５０の２つの部分の移動（変位)による接触ユニットの面積の変形とは別に、ここでは異なるタイプのディスプレイが、同等、若しくは、代わりとなりうる、接触アセンブリ２００を有することが好ましい。（図２及び図４の説明参照）

本発明に関して記述された実施例では、枠形状のフレームにより構成されるか、又は四角フレームの部分により構成される接触ユニットに言及している。これは、４つの側面からディスプレイの接触を行う利点、効果があるので、本発明にとって好ましい。

本発明はそれに限定されるものではない。発明性あるアイデアはまた、いくつかの棒形状の、又は、他の接触ユニットにより実現され得る。例えば、図４の接触アセンブリ２００のために、ディスプレイの上方側、若しくは、別の側での接触があるようにすればよい。ディスプレイの更なる側面の接触のために、コーナーの形をした接触ユニットとしてもとい。

図５に関して述べたように、いくつかの分離した接触ユニットが存在する場合、接触ユニットの部分を位置決めするためのいくつかの駆動機構が存在するのが好ましい。この付加的な駆動機構は、検査装置の光学軸に対して個々の部分を位置決めするために用いられるか、又は、それぞれに対して位置決めするために用いられ得る。

図６は、本発明の更なる実施例を図示する。再び、ガラス基板１４０を備えた基板支持体１３０がある。ディスプレイ３０１若しくはディスプレイのために必要とされる回路は、ガラス基板上に配置されている。検査装置により予め定められた検査範囲３０２は、図６中、灰色で示されている。更に、図６は接触ユニット１５０を図示する。接触ユニット１５０は、６個のディスプレイをカバーしている。このように、図６において、このディスプレイから成る検査体が検査され得る。従って、検査体は、検査体の検査が図３のような２つの領域の検査により行われ得ないほど大きい（ここでは検査体はディスプレイに等しい）。図６において、１２の領域が検査体の全体の検査のために関係する検査結果の全てを得るために検査される。

従って、第１の検査体は、１２の領域Ｉ〜ＸＩＩに区切られる。これらの領域のそれぞれは、検査装置の検査範囲３０２と同じ大きさを有する。検査範囲３０２及び領域Ｉ〜ＸＩＩの大きさが一致しているが、これは例示的なものであって、本発明のアイデアを限定するものではない。

更に、本検査方法を説明する際、各移動（変位)を表すのに、次のような面積及び移動（変位)の範囲が図６に示されている。基板支持体の面積はＸ方向において６０２により、Ｙ方向において６０４により示される。矢印６１０は、Ｘ方向における基板の移動（変位)範囲を示している。矢印６１４は、Ｙ方向における基板１４０の移動（変位)範囲を示している。矢印６１２により示される移動（変位)は、移動（変位)６１０及び６１４の合成である。更に、基板支持体１３０に対する接触ユニット１５０の移動（変位)は、矢印６０６により示される。検査体の個々の領域は、ローマ数字により番号付けされている。

図６において、接触ユニットはいくつかのディスプレイ３０１をカバーする。検査体は、この場合はそれぞれ、領域Ｉ〜ＸＩＩの６つのディスプレイから例示的に成っている。検査体内の６個のディスプレイは電気的にそれぞれに接続されている。これにより、信号は接触ユニットを介して全てのディスプレイに送られ得るし、全てのディスプレイから受信され得る。

電子ビーム計測システムの検査範囲３０２は、検査体の小さな部分にわたってのみ延伸する。この基板は、基板ホルダー１３０上にある。基板ホルダーは、Ｘ方向に６０２及びＹ方向に６０４の大きさを有する。基板上の全てのディスプレイの計測を行うことができるようにするために、基板ホルダー１３０は矢印６１０に示される、Ｘ方向における移動（変位)の範囲を有する。これにより、十分な移動（変位)の範囲が、領域ＶＩを検査装置の検査範囲３０２に動かすために、与えられる。矢印６１４によるＹ方向における移動（変位)の範囲は、領域ＩＸＸの計測を可能とする。検査範囲３０２からの最も離れた距離を図６中のディスプレイの領域ＸＸＩＶは、移動（変位)６１２により検査され得る。

本検査方法は、図３ａ及び図３ｄに関して記述された原理に基づくと同様に、この例に基づくものである。まず、検査体の領域Ｉが検査される。その後、接触ユニット１５０とともにガラス基板１４０は、例えば、Ｘ方向に動かされる。この移動（変位)の総量は、領域ＩＩが検査され得るようなものである。これにより、領域ＩＩが検査される。この後、接触ユニット１５０とガラス基板１４０の同期した移動（変位)が再び行われる。この手順は、全ての領域ＩＩからＸＩＩが検査されるまで繰り返される。

そして、接触ユニット及び基板が、次の検査体を接触ユニット１５０に接触することができるようにするために（６０６参照）、それぞれに対して動かされる（領域ＸＩＩＩ〜ＸＸＩＶ）。この検査体の領域内が全て検査される。これにより、接触ユニット１５０は、検査範囲３０２のそれぞれの領域の移動（変位)の間、ほぼ平行に動かされる。

以前の実施例は、例示的に荷電粒子のビームによる検査方法について言及した。これらの検査方法はとても敏感なものであるので、ビームのソース、ビームのシェーピング、ビームのデフレクション及び信号の検出するところの検査装置を動かさないほうが好ましい。これにより、例えば、運動による不整合等が少なくなる。

更なる本検査方法が、図１０に説明される。これは、整合性の感度がより少ないものである。従って、検査装置の光学軸もまた、以下の例において動かされ得る。図１０は、ビームを形成する光学９１１を備えたランプ９１０の形状のビームソースを図示する。平行な光ビームは、ビーム分割器９１２を介して基板１４０の表面の方向に案内される。例えば、ディスプレイの形をした検査体は、基板上に配置される。ビームは、計測ヘッド９１４内で偏光される。更に、検査されるべきディスプレイに容量的に結合する計測ヘッド９１４内にモジュレータがある。このモジュレータは、ディスプレイの個々の画素に結合する容量次第で、その局所の伝送特性を変える。光学軸１０２に沿って伝搬する光のビームは、その変化する伝送特性により影響される。この画素に対応する光ビームの局所のばらつきが、計測ヘッド９１４のところで偏光される光ビームをビーム分割器に通過させ、光学システム９１７を備えた検出カメラ９１６上に画像化させることにより計測される。

本発明の更なる特徴は、図１０に関して記述された本検査方法により、光学軸１０２は比較的に構成を複雑にすることなく、基板に対して動かされ得ることにある。この特徴は、図１１ａ乃至図１１ｄに従う実施例を考慮しながら、以下に記述される。これにより、ディスプレイの接触及び検査のための類似の発明性ある方法が考えられる。以前に記述された実施例では、基板１４０を備えたホルダー１３０が動かされた。他の構成部分に比べ、ホルダーは大きな表面を有しているので、ホルダーを動かすためにシステム全体は大きなフロアスペースを設けることが必要であった。よって、検査装置の光学軸による計測範囲３０２が基板に対してホルダーの代わりに動かされるのであれば、よりスペースを節約することができる。例えば、電子ビーム計測装置のようなより感度のよい計測装置に限って可能である。このため、本発明のこの特徴は、図１０に類似して光光学計測システムを備えた実施例に関して記述される。

図１１ａ内において、ガラス基板１４０を備えたサンプル支持体１３０が図示されている。このサンプル支持体は、検査の間、ほぼ固定されている。図１１ａにおいて、その配置が示され、まず、ディスプレイの第１の領域３０３が検査される。従って、とりわけ検査装置若しくはその光学軸１０２はそれぞれ、グレーで示されている検査範囲３０２が少なくとも検査されるべき第１のディスプレイの第１の領域３０３をカバーするように位置決めされる。光の光学方法では、検査範囲の全体は、例えば、準平行光子ビームにより検査され得る。これにより、検査されるべきディスプレイの真上にある計測装置は、容量結合を介してディスプレイの画素特性に反応する光学モジュレータを含む。この光学モジュレータは、平行光子ビームのための伝送特性を変化させる。カメラ上の光子ビームの画像は、評価され得る計測結果となり得る。

更に、検査範囲３０２を伴う計測装置の位置決めに付加して、接触ユニット１５０も位置決めされる。この接触ユニットは、検査されるべきディスプレイの画素と検査装置の計測ヘッド９１４の光学モジュレータとの間の容量結合のために供する。（図１０参照）例えば、このディスプレイは、接触ユニットの接触により信号が供給される。これにより、検査されるべき第１のディスプレイ３０１の第１の領域の検査が行われ得る。

検査されるべき第１のディスプレイ３０１の第２の領域３０４の検査は、図１１ｂに図示されるようなコンポーネントの相対的位置決めにより行われる。従って、検査装置の光学軸及び検査の範囲３０２は、図１１ａ中の矢印９０２により示されるように動かされる。

検査されるべき第１のディスプレイの第２の領域３０４の検査の後（図１１ｂ参照）、接触ユニット１５０は矢印９０４により示されるように動かされる。更に、検査装置の光学軸は矢印９０６のように動かされる。これにより、それぞれに対するコンポーネントの位置決めは、図１１ｃに示されるように成し遂げられる。図１１ｃによれば、検査されるべき更なるディスプレイの第１の領域３０３は、検査装置の検査範囲内に位置決めされる。この領域の検査の後、検査装置の光学軸は矢印９０２ａにより動かされる。全てのディスプレイ３０１は本実施例内において同様のものであるので、移動（変位)９０２ａの大きさ及び方向は移動（変位)９０２と対応する（図１１ａ参照）。

検査装置、そして検査範囲３０２の移動（変位)９０２の後、それぞれに対するコンポーネントの位置決めは、図１１ｄに示される。これにより、検査されるべき更なるディスプレイの第２の領域３０４は、検査装置の検査範囲３０２（灰色で示された）内にある。更なるディスプレイの第２の領域が、こうして検査され得る。

全てのディスプレイ若しくは全てのディスプレイの全ての領域はそれぞれ、ホルダー１３０若しくはガラス基板１４０に対する接触ユニット及び検査装置の光学軸の更なる移動（変位)により検査され得る。

発明に関して記述された実施例によれば、大きな柔軟性が加えられ、接触ユニットの交換を不必要にする。更に、接触ユニットは検査体及び粒子ビーム装置の光学軸のそれぞれに対する移動（変位)に追従できるため、簡単な構成により実現される接触ユニットにより、ますます大きくなるディスプレイへの接触が可能となる。

本発明による検査システムの概略側面図を示す。 本発明による、より好ましい検査対象上の接触アセンブリの２つの実施例の概略図を示す。 〜 ホルダー上のいくつかの検査対象を伴った基板の概略平面図及び本発明による接触ユニットの使用法を示す。 本発明の使用法及びその効果の概略図を示す。 本発明による一実施例の概略平面図を示す。 本発明による更なる実施例の概略平面図を示す。 本発明に基づく一実施例の概略側面図を示す。 〜 本発明に基づく更なる実施例の変形例の概略図を示す。 用いられた条件の説明の一例の概略図を示す。 更なる検査システムの概略側面図を示す。 〜 ホルダー上のいくつかの検査対象を伴う基板の概略平面図、及び本発明の更なる特徴による接触ユニットの使用法を示す。

Claims (52)

1. （a）少なくとも１つの検査体を有する基板をホルダー上に置き、
   （b）位置決め動作により、検査装置の光学軸に対して前記基板を位置決めし、
   （c）前記光学軸に対し接触ユニットを位置決めし、これにより前記接触ユニットが前記基板の位置決め動作とは独立に位置決めされ、
   （d）前記接触ユニットと前記検査体の少なくとも１つの接触アセンブリとを接触させる
   ステップを含む基板を位置決めし、検査体を接触させるための方法。
2. 前記接触ユニットが前記検査体の少なくとも１つの前記接触アセンブリに接触している間、少なくとも２つの前記接触ユニットの接触ピンが、少なくとも１つの前記接触アセンブリの接触パッドに接触しており、接触のために、前記接触ユニットの前記接触ピンは相互にそれぞれに対して動かないことを特徴とする請求項１の方法。
3. 前記接触ユニットは独自の駆動機構を備えて位置決めされることを特徴とする前出の請求項のいずれかに記載のいずれかの方法。
4. 位置決めのステップ（ｂ、ｃの各々のステップ）は、光学軸に垂直方向に、少なくとも５センチ、好ましくは少なくとも２０センチ動くことを含む特徴とする前出の請求項のいずれかに記載の方法。
5. 前記ステップ（ｂ）〜（ｄ）は基板の検査の間、数回、好ましくは各検査体の検査の間は繰り返される前出のクレームのいずれかに記載の方法。
6. 基板をホルダー上に置き、
   第１の検査体を接触ユニットに接触させ、
   前記第１の検査体の第１の領域が検査装置の第１の検査範囲内になるように、前記基板を位置決めし、
   前記検査体の前記第１の領域を検査し、
   前記第１の検査体の少なくとも一つの更なる領域が前記検査装置の前記検査範囲内になるように、前記基板を動かし、
   前記接触ユニットの位置が基本的に前記第１の検査体に対して変わらないように、前記接触ユニットを動かし、
   前記検査体の更なる領域を検査し、更なる検査体の接触が行われるように、前記接触ユニット及び前記基板を相互に対して動かす
   ステップを含む、１つの検査装置により、いくつかの検査体を備えた基板を検査するための方法。
7. 前記接触ユニットは追従により移動（変位)されることを特徴とされる請求項６の方法。
8. 前記接触ユニットは運ばれることにより動かされることを特徴とする請求項６の方法。
9. 前記接触ユニットは前記基板に対する接触を保ちつつ動かされる請求項６乃至８の方法。
10. 前記検査範囲は１つの方向において粒子ビームのビーム偏光によりスキャンされる請求項６乃至９のうちのいずれかの方法。
11. 前記検査範囲は１方向において粒子ビームのビーム偏光によりスキャンされ、他の方向において基板の動きにより走査される請求項６乃至９のいずれかの方法。
12. 前記接触ユニットは前記基板に対する接触がないようにして、動かされる請求項６乃至１１のいずれかの方法。
13. 前記接触ユニットは異なる形の検査体に適用される請求項６乃至１２のいずれかの方法。
14. 前記検査は粒子ビームによる前記検査範囲の走査、及び、前記第２の領域の電子の計測により行われる請求項６乃至１３のいずれかの方法。
15. 前記検査は粒子ビームによる前記検査範囲の走査、及び、前記接触ユニットを介して検出される信号の計測によって行われる請求項６ないし１４の方法。
16. 前記検査の前に、１×１０^−３ｍｂａｒより小さい真空度が形成される請求項６ないし１５の方法。
17. 基板のためのホルダー（１３０）と、
    Ｘ方向におけるホルダー移動（変位)範囲及びＹ方向におけるホルダー移動（変位)範囲を備えた前記ホルダーのための移動（変位)ユニット（１３２、１３４）と、
    少なくとも１つの検査体の接触のための接触ユニット（１５０）であって、この接触ユニットはＸ方向及びＹ方向に移動（変位)可能であり、前記Ｘ方向における移動（変位)範囲及びＹ方向における移動（変位)範囲はそれぞれの前記ホルダーの移動（変位)範囲より小さい接触ユニットと
    を含む、基板（１４０）上の少なくとも１つの検査体（３０１）の検査のために接触をするための装置。
18. Ｘ方向及びＹ方向の前記接触ユニット移動（変位)範囲は、前記接触ユニットの対応する配列の移動（変位)範囲（２２０、２２２）より大きい請求項１７の装置。
19. 少なくとも１つの検査体を備えた基板のためのホルダー（１３０）と、
    前記ホルダーのための移動（変位)ユニットと、
    少なくとも１つの検査体の接触のための接触ユニット（１５０）であって、この接触ユニットは移動（変位)可能であり、前記光学軸に垂直な１方向において前記ホルダーの長さの半分の長さを最大、有する接触ユニットと
    備え、前記基板上に少なくとも１つの検査体（３０１）の検査のために接触し、前記検査のために、光学軸（１０２）を備えた検査装置が用いられる装置。
20. 前記接触ユニットは基本的に前記光学軸に垂直な２つの方向においてホルダーの大きさの半分の大きさを最大限有する請求項１９の装置。
21. 光学軸（１０２）に関し移動（変位)可能な基板のためのホルダー（１３０）と、
    前記基板の検査の間、前記光学軸及び前記ホルダーに対して、変位可能な接触ユニット（１５０）と
    を備え、基板（１４０）を備えた少なくとも１つの検査体の検査のために接触し、前記検査のために、光学軸（１０２）を備えた検査装置が用いられる装置。
22. 前記接触ユニットは、少なくとも５センチ、好ましくは少なくとも２０センチ、移動（変位)可能である請求項１７乃至２１のいずれかの装置。
23. 前記接触ユニットは、検査されるべき検査体の検査されるべき領域が前記接触ユニットにより覆われないような大きさを有する請求項１７乃至２０のいずれかの装置。
24. 前記接触ユニットは、検査の間、前記検査範囲（３０２）より大きいサイズを有する請求項１７乃至２３のいずれかの装置。
25. 前記接触ユニットは、前記光学軸に対しての移動（変位)のために駆動機構（１５２）を備えた移動（変位)ユニットに接続される請求項１７乃至２４のいずれかの装置。
26. 同期ユニット（１６０）が存在し、前記接触ユニット及び前記ホルダーの前記移動（変位)ユニットと同期をとる請求項１７乃至２５のいずれかの装置。
27. 前記接触ユニットは接触のための接触ピンを有する請求項１７乃至２６のいずれかの装置。
28. 前記接触ユニット（１５０）に接触するための前記接触ピンは、１枚の基板の検査の間、相互に動かない請求項２７の装置。
29. 前記接触ユニット（１５０）に接触するための前記接触ピンは、相互に動かない請求項２７の装置。
30. 前記接触ユニット（１５０）は異なる大きさの検査体に対し調整可能である請求項１７乃至２９のいずれかの装置。
31. 前記検査体は接触アセンブリ（２００）を備えた少なくとも１つのディスプレイ（３０１）である請求項１７乃至３０のいずれかの装置。
32. 前記装置は真空において用いられるようになっている請求項１７乃至３１のいずれかの装置。
33. 前記接触ユニットは外部の制御ユニット（１６２）及び／又は計測ユニット（１６２）に接続されている請求項１７乃至３２のいずれかの装置。
34. 前記接触ユニットは前記基板の検査の間、移動（変位)可能である請求項１７乃至３２のいずれかの装置。
35. 真空状態にし得る検査チャンバ（１０８）と、
    光学軸（１０２）を備えた粒子ビームコラム（１０４）と、
    請求項１７乃至３４のいずれかの装置と
    を含む検査システム。
36. ホルダーに基板を置き、
    接触ユニットに第１の検査体を接触させ、
    前記第１の検査体の前記第１の領域が検査装置の検査範囲内になるように、相互に前記基板及び前記光学軸を位置決めし、
    前記検査体の前記第１の領域を検査し、
    前記第１の検査体の少なくとも一つの更なる領域が前記検査装置の前記検査範囲内になるように、前記基板及び前記光学軸をそれぞれ相互に移動（変位)させ、
    前記検査体の前記更なる領域を検査し、
    更なる検査体が接触するように、相互に前記接触ユニット及び前記基板を移動（変位)させる
    ステップを含む、検査のために光学軸を有する検査装置が用いられ、いくつかの検査体を持った基板を検査するための方法。
37. 前記検査装置の前記光学軸は前記基板に対して位置決めされ、前記接触ユニットは前記基板に対して移動（変位)する請求項３６の方法。
38. 前記検査範囲は光の光学システムにより検出される請求項３６乃至３７のいずれかの方法。
39. 前記接触ユニットは前記検査体の異なる形に適用される請求項３６乃至３８のいずれかの方法。
40. 少なくとも１つの検査体を備えた基板のためのホルダー（１３０）と、
    前記光学軸（１０２）の動かすための変位ユニットと、
    少なくとも１つの検査体の接触のための接触ユニットと（５０）であって、前記光学軸に対して変位可能であり、前記ホルダーに対して独立であり、光学軸に垂直な１方向において前記ホルダーの大きさの半分の大きさを基本的に最大限有する接触ユニットと
    を備え、検査のために光学軸を備えた検査装置が用いられ、前記基板上の少なくとも１つの検査体（３０１）の検査のための接触を行う装置。
41. 前記接触ユニットは光学軸に垂直な２つの方向において、前記ホルダーの大きさの半分の大きさを基本的に最大限有する請求項４０の装置。
42. 基板のためのホルダー（１３０）に対して移動（変位)可能である光学軸（１０２）と、
    前記光学軸及び前記ホルダーに関して、前記基板の検査の間、移動（変位)可能である接触ユニット（１５０）と、
    を備え、検査のために光学軸を備えた検査装置（１０２）が用いられ、前記基板（１４０）上の少なくとも１つの検査体の検査のために接触する装置。
43. 前記接触ユニットは少なくとも５０mm、好ましくは少なくとも２００mm、移動（変位)可能である請求項４０乃至４２のいずれかの装置。
44. 前記接触ユニットは前記検査体の検査されるべき領域が前記接触ユニットにカバーされないような大きさを有する請求項４０乃至４３のいずれかの装置。
45. 前記接触ユニットは、検査の間、前記検査範囲（３０２）より大きい大きさを有する請求項４０乃至４４のいずれかの装置。
46. 前記接触ユニットは前記光学軸に対する移動（変位)のための駆動機構（１５２）を備えた移動（変位)ユニットに接続される請求項４０乃至４５のいずれかの装置。
47. 同期ユニット（１６０）が存在し、前記接触ユニットの前記移動（変位)ユニット及び更なる移動（変位)ユニットとの同期を行う請求項４０乃至４６のいずれかの装置。
48. 前記更なる移動（変位)ユニットは前記光学軸のための移動（変位)ユニットである請求項４７の装置。
49. 前記接触ユニットは接触のための接触ピンを有する請求項４０乃至４８のいずれかの装置。
50. 前記接触ユニット（１５０）は異なるサイズの検査体に適用可能である請求項４０乃至４９のいずれかの装置。
51. 前記検査体は１つの接触子（２００）を備えた少なくとも１つのディスプレイ（３０１）である請求項４０乃至５０のいずれかの装置。
52. 前記接触ユニットは外部の制御ユニット（１６２）及び／又は計測ユニット（１６２）に接続される請求項４０乃至５１のいずれかの装置。

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